KR20120103415A - Plasma generating system and plasma generating method - Google Patents
Plasma generating system and plasma generating method Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120103415A KR20120103415A KR1020110109432A KR20110109432A KR20120103415A KR 20120103415 A KR20120103415 A KR 20120103415A KR 1020110109432 A KR1020110109432 A KR 1020110109432A KR 20110109432 A KR20110109432 A KR 20110109432A KR 20120103415 A KR20120103415 A KR 20120103415A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electrodes
- plasma
- plasma generating
- pair
- dielectric film
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32532—Electrodes
- H01J37/32559—Protection means, e.g. coatings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
- A61L2/14—Plasma, i.e. ionised gases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32458—Vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32458—Vessel
- H01J37/32522—Temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32532—Electrodes
- H01J37/32541—Shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32532—Electrodes
- H01J37/3255—Material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32532—Electrodes
- H01J37/32568—Relative arrangement or disposition of electrodes; moving means
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
- H05H1/4645—Radiofrequency discharges
- H05H1/4652—Radiofrequency discharges using inductive coupling means, e.g. coils
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Abstract
Description
본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 발생 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma generating apparatus and a plasma generating method.
최근 아토피, 천식, 알레르기 증상 보유자의 증대나 신종 인플루엔자의 폭발적인 유행 등으로 나타나는 감염성의 리스크 증대 등에 의해 살균이나 탈취 등 생활환경의 공기질 제어 요구가 높아지고 있다. 또 생활이 풍족해짐에 따라 보관 식품의 양 증대나 먹다 남은 식품의 보관 기회가 증가하고 있어 냉장고로 대표되는 보관 기기내의 환경 제어도 중요성이 높아지고 있다.Recently, the demand for controlling air quality in living environments such as sterilization and deodorization is increasing due to an increase in the risk of infectious diseases caused by an increase in atopy, asthma, allergic symptoms holders, and the explosive epidemic of swine flu. In addition, as life becomes more abundant, the amount of stored food is increased and the storage of leftover food is increasing, and environmental control in the storage equipment represented by the refrigerator is also increasing in importance.
생활환경의 공기질 제어를 목적으로 하는 종래 기술은, 필터로 대표되는 물리적 제어가 일반적이다. 물리적 제어는, 공기중에 부유하는 비교적 큰 먼지나 티끌, 필터 구멍의 크기에 따라서는 세균이나 바이러스 등도 포획할 수 있다. 또 활성탄과 같이 무수한 흡착 사이트가 있는 경우에는 악취의 악취 분자도 포획 가능하다. 그러나 포획하기 위해서는 제어 대상의 공간내 공기를 모조리 필터에 통과시킬 필요가 있어 장치가 대형화되어 필터 교환 등의 유지 비용도 많아진다는 난점이 있는 데다가 부착물에 대해서는 효과가 없다. 그래서 부착물에 대해 살균이나 탈취를 가능하게 하는 수단으로서, 화학적 활성종을 살균이나 탈취하고자 하는 공간에 방출하는 것을 들 수 있다. 약품의 살포나 방향제, 소취제의 방출시에는 사전에 활성종을 준비해야 하므로 정기적인 보충이 불가결하다. 그에 대해 대기중에 플라즈마를 발생시키고 거기에서 생성되는 화학적 활성종을 이용하여 살균이나 탈취를 시도하는 수단이 최근 증가하고 있다.In the prior art for controlling the air quality of the living environment, physical control represented by a filter is common. Physical control can also capture bacteria, viruses, and the like depending on the size of relatively large dust, dust, and filter pores suspended in the air. In addition, when there are a myriad of adsorption sites such as activated carbon, malodorous molecules of odor can be captured. However, in order to capture, it is necessary to pass the air in the space to be controlled through all the filters, and the apparatus has a large size, and the maintenance cost such as filter replacement also increases, and there is no effect on deposits. Thus, as means for enabling sterilization or deodorization of the deposit, it is possible to release chemically active species into the space to be sterilized or deodorized. When spraying drugs, releasing fragrances and deodorants, active species must be prepared in advance, so regular supplementation is indispensable. In recent years, means for generating plasma in the atmosphere and attempting to sterilize or deodorize using chemically active species generated therein has been increasing.
대기중에 플라즈마를 방전에 의해 발생시키고 거기에서 생성된 이온이나 래디컬(이하, 활성종)에 의해 살균이나 탈취를 하는 기술은 다음 2가지 형식으로 분류할 수 있다.Techniques for generating plasma in the atmosphere by discharge and sterilizing or deodorizing by ions or radicals (hereinafter, active species) generated therein can be classified into two types.
(1)대기중에 부유하는 균이나 바이러스(이하, 부유균), 또는 악취 물질(이하, 악취)을 장치내의 제한된 용적내에서 활성종과 반응시키는, 이른바 수동형 플라즈마 발생 장치(예를 들면, 특허문헌 1)(1) A so-called passive plasma generator (e.g., a patent document) which reacts a bacterium, virus (hereinafter, suspended bacteria) or malodorous substance (hereinafter, malodorous) suspended in the atmosphere with active species in a limited volume in the apparatus. One)
(2)플라즈마 발생부에서 생성된 활성종을 (1)보다 용적이 큰 폐쇄 공간(예를 들면, 거실, 화장실, 승용차의 차내 등)에 방출하여 대기중의 활성종과 부유균이나 악취와의 충돌에 의해 반응시키는, 이른바 능동형 플라즈마 발생 장치(예를 들면, 특허문헌 2)(2) The active species generated in the plasma generating unit is released into a closed space (e.g., living room, toilet, car, etc.) having a larger volume than (1). A so-called active plasma generator (e.g., patent document 2) which reacts by a collision
(1)의 수동형 플라즈마 발생 장치의 이점은, 소용적내에서 플라즈마를 발생시켜 고농도의 활성종이 생성되기 때문에 높은 살균 효과 및 탈취 효과가 기대된다. 반면 결점으로서는, 부유균이나 악취를 장치내에 도입할 필요가 있기 때문에 장치가 대형화되고 또 플라즈마 발생에 따른 부생성물로서 오존이 발생하기 쉽고, 오존을 장치 밖으로 누설시키지 않기 위해 흡착 또는 분해하는 필터를 별도로 설치할 필요가 있다.The advantage of the passive plasma generating apparatus of (1) is that high sterilization effect and deodorization effect are expected because plasma is generated in a small volume to generate high concentration of active species. On the other hand, as a drawback, airborne bacteria and odors need to be introduced into the apparatus, so that the apparatus becomes large and ozone is likely to be generated as a by-product of plasma generation, and a filter which adsorbs or decomposes in order not to leak ozone out of the apparatus is separately provided. Need to install
다음으로, (2)의 능동형 플라즈마 발생 장치의 이점은, 장치를 비교적 작게 할 수 있으며 부유균의 살균이나 공기중의 악취 분해 뿐만 아니라 의류나 생활 용품의 표면에 부착된 균(이하, 부착균)의 살균이나 표면에 흡착된 악취의 분해도 기대할 수 있는 점이다. 반면 결점으로서는, 활성종이 장치의 부피에 비해 지나치게 큰 폐쇄 공간내에 확산되어 농도가 낮아지기 때문에 수명이 긴 활성종에만 살균이나 탈취 효과를 기대할 수 밖에 없다는 점이다. 그 결과 악취 농도가 높은 공간(활성종 농도에 대해 1만배 정도 높은 농도)에서는 탈취 효과를 거의 기대할 수 없게 된다.Next, the advantage of the active plasma generating apparatus of (2) is that the apparatus can be made relatively small, and bacteria attached to the surface of clothing or household goods as well as sterilization of suspended bacteria and decomposition of odors in the air (hereinafter, adhered bacteria) It can also be expected to sterilize and disintegrate odors adsorbed on the surface. On the other hand, as a drawback, since the active species diffuses in an enclosed space that is too large relative to the volume of the device and the concentration is lowered, only the active species having a long life can be expected to be sterilized or deodorized. As a result, the deodorizing effect can hardly be expected in a space with a high odor concentration (a concentration about 10,000 times higher than the active species concentration).
이상으로, 수동형 플라즈마 발생 장치에서는 해당 장치에 유입되는 공기류에 포함되는 부유균이나 악취에 대해서만 효과가 한정되고, 능동형 플라즈마 발생 장치에서는 농도가 낮은 부유균, 부착균, 악취에 대한 효과 외에는 기대할 수 없다. 즉, 종래 기술을 이용하여 실현할 수 있는 것은, 「부유균의 살균과 탈취」 혹은 「농도가 낮은 부유균, 부착균의 살균 및 부착 악취의 탈취」 중 어느 하나로 한정되게 된다.As described above, in the passive plasma generator, the effect is limited only on the airborne bacteria and odor contained in the air flow flowing into the apparatus, and in the active plasma generator, the effect is expected except for the low concentration of airborne bacteria, adherent bacteria, and odor. none. That is, what can be realized using the prior art is limited to any one of "sterilization and deodorization of floating bacteria" or "sterile bacteria of low concentration, sterilization of adherent bacteria and deodorization of adherent odors".
또 플라즈마 발생부를 구성하는 전극에서는, 전극의 플라즈마 발생 부위에 예를 들면 다공질의 유전체막을 사용하는 경우가 많고, 따라서 고습도하에서는 유전체막 자체의 흡습 작용 때문에 전기적 특성이 변화되어 플라즈마의 발생을 저해시킨다. 특히 냉장고와 같이 저온이면서 습도가 크게 변화되는 환경에서는 전극의 유전체막 자체가 결로되기 쉬워 플라즈마의 발생이 멈추고 살균, 탈취 성능이 저하된다. 따라서 냉장고 내부가 고습도 상태가 계속되면 살균 성능을 유지하기 어렵다.In the electrode constituting the plasma generating unit, for example, a porous dielectric film is often used for the plasma generating part of the electrode. Therefore, under high humidity, electrical properties change due to the hygroscopic action of the dielectric film itself, thereby inhibiting plasma generation. Particularly, in a low temperature environment such as a refrigerator, where the humidity is greatly changed, the dielectric film itself of the electrode tends to be condensed, and the generation of plasma stops and the sterilization and deodorization performance is reduced. Therefore, it is difficult to maintain sterilization performance when the humidity inside the refrigerator continues.
선행기술문헌Prior art literature
특허문헌 1 일본특개2002-224211호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-224211
특허문헌 2 일본특개2003-79714호 공보
그래서 본 발명은, 부착균의 살균과 탈취 모두를 동시에 실현하는 기술이며, 플라즈마를 발생시켜 활성종에 의해 탈취하는 수동형 기능과, 그 활성종을 장치 바깥으로 방출하여 부착균을 살균하는 능동형 기능 2가지를 동시에 겸비시키기 위해 활성종의 생성량을 늘림과 동시에 유전체막에 결로나 수분 부착이 발생하지 않도록 하는 것을 주된 소기 과제로 하는 것이다.Therefore, the present invention is a technique for realizing both sterilization and deodorization of adherent bacteria at the same time, a passive function of generating plasma and deodorizing by active species, and an active function of releasing the active species outside the device to sterilize adherent bacteria. In order to combine the branches at the same time, the main aim is to increase the amount of active species produced and to prevent condensation or moisture adhesion on the dielectric film.
또한, 본 발명은 유전체막의 건조 성능을 향상시킴으로써 플라즈마의 발생을 안정화시킴으로써 활성종의 생성량을 안정화시키는 것을 과제로 하는 것이다.The present invention also aims to stabilize the generation of active species by stabilizing the generation of plasma by improving the drying performance of the dielectric film.
본 발명에 관한 일실시예로서 플라즈마 발생 장치는, 대향면의 적어도 한쪽에 유전체막을 설치한 한쌍의 전극을 가지고, 그들 전극간에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것으로서, 상기 유전체막의 표면에 코팅막이 설치되어 있다.In one embodiment of the present invention, a plasma generating apparatus includes a pair of electrodes provided with a dielectric film on at least one of the opposing surfaces, and discharges plasma by applying a predetermined voltage between the electrodes, wherein a coating film is provided on the surface of the dielectric film. It is.
이러한 것이라면, 유전체막의 표면에 코팅막을 마련하였기 때문에 유전체막에 결로 및 수분 부착이 잘 발생하지 않아, 예를 들면 냉장고내의 고습도하에서도 살균 성능을 저하시키는 것을 방지하여 살균 성능을 장기간 발휘시킬 수 있다. 또 각 전극이 대응하는 부분에 각각 유체 유통 구멍을 설치하여 이들이 관통하도록 구성함으로써, 대응하는 각 유체 관통 구멍에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많게 할 수 있고, 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부로 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. 아울러 본 명세서에서 말하는 대응 부분이란, 전극의 면판 방향에서 보아 양쪽의 전극에 형성된 각 유체 유통 구멍이 실질적으로 같은 위치에 있는 것을 말하며, 직교 좌표계에서 z축 방향에서 xy평면형의 한쌍의 전극을 보았을 때 양쪽 전극에서 대략 동일한(x,y) 좌표 위치인 것을 말한다.In such a case, since a coating film is provided on the surface of the dielectric film, condensation and moisture adhesion are less likely to occur on the dielectric film, so that the sterilization performance can be exhibited for a long time by preventing degradation of the sterilization performance even under high humidity in a refrigerator. In addition, by providing a fluid flow hole in each of the electrodes to correspond to the electrodes, the amount of plasma generated in each corresponding fluid through hole can be increased as much as possible, and the contact area between the plasma and the fluid is as much as possible. I can make it big. As a result, the production amount of the active species called ions and radicals can be increased to sufficiently deodorize the active species and release the active species to the outside of the apparatus to sterilize floating bacteria and adherent bacteria. In addition, the correspondence part used in this specification means that each fluid flow hole formed in both electrodes as seen from the face plate direction of an electrode is located in substantially the same position, and when a pair of electrodes of an xy-plane type are seen in the z-axis direction in a rectangular coordinate system, It is said to be approximately the same (x, y) coordinate position at both electrodes.
상기 유전체막이 용사법에 의해 성막된 것인 경우, 그 성막된 유전체막은 다공질 또는 미세한 요철 구조를 갖기 때문에 습도 영향을 받기 쉬워 본 발명과 같이 코팅막을 마련하는 것의 효과가 더욱 현저해진다.When the dielectric film is formed by the thermal spraying method, the deposited dielectric film has a porous or fine concavo-convex structure, and therefore is susceptible to humidity. Thus, the effect of providing a coating film becomes more remarkable.
플라즈마 발생 부위에서의 결로 및 수분 부착을 한층 더 방지하기 위해서는, 상기 코팅막이 발수성인 것이 바람직하다.In order to further prevent condensation and moisture adhesion at the plasma generating site, the coating film is preferably water repellent.
상기 코팅막의 두께가 0.01㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하다. 여기에서 코팅막을 100㎛ 이상으로 하면 유전체막 자신의 물성이 손상되고 또 유전체막의 표면에 형성된 요철이 매몰되어 플라즈마 발생 효과가 저하된다.It is preferable that the thickness of the said coating film is 0.01 micrometer or more and 100 micrometers or less. If the coating film is 100 μm or more, the physical properties of the dielectric film itself are impaired, and the unevenness formed on the surface of the dielectric film is buried, and the effect of plasma generation is lowered.
상기 한쌍의 전극 사이에 500㎛이하의 두께를 가진 스페이서를 갖는 것이 바람직하다. 이렇게 하면 전극간의 거리를 크게 할 수 있어 탈취 반응장을 크게 할 수 있기 때문에 악취의 탈취 효율을 향상시킬 수 있다. 또 스페이서에 의해 전극간의 거리를 크게 하였기 때문에 수분 부착이 일어나더라도 미세한 물방울이라 전극 사이에서 외부로 쉽게 빼낼 수 있다. 여기에서 스페이서의 형성 방법으로서는, 증착법, CVD법(Chemical Vapor Deposition), 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 박막 형성 방법 혹은 도금법, 용사법, 스프레이 코팅, 스핀 코팅법, 도포법 등을 생각할 수 있다.It is preferable to have a spacer having a thickness of 500 mu m or less between the pair of electrodes. This makes it possible to increase the distance between the electrodes and to increase the deodorization reaction field, thereby improving the odor deodorization efficiency. In addition, since the distance between the electrodes is increased by the spacer, even if moisture adheres, fine water droplets can be easily taken out between the electrodes. As the method for forming the spacer, thin film formation methods such as vapor deposition, chemical vapor deposition, sputtering and ion plating, or plating, thermal spraying, spray coating, spin coating, coating, and the like can be considered.
스페이서에서의 결로 및 수분 부착을 방지하기 위해서는 상기 스페이서의 표면에 코팅막이 설치되어 있는 것이 바람직하다.In order to prevent condensation and moisture adhesion on the spacer, it is preferable that a coating film is provided on the surface of the spacer.
유체가 효율적으로 유체 유통 구멍을 통과하도록 하여 활성종의 발생을 촉진시킴과 동시에 탈취 효과를 증대시키기 위해서는 상기 유체 유통 구멍을 향해 강제적으로 바람을 보내는 송풍 기구를 갖는 것이 바람직하다.It is desirable to have a blowing mechanism forcibly sending the fluid to the fluid distribution holes in order to allow the fluid to efficiently pass through the fluid distribution holes to promote the generation of active species and to increase the deodorizing effect.
여기에서 상기 송풍 기구에 의해 상기 유체 유통 구멍을 통과시키는 바람의 유속을 0.1m/s 이상 30m/s이하의 범위내로 하는 것이 바람직하다.Here, it is preferable to make the flow velocity of the wind which passes the said fluid flow hole by the said blowing mechanism into the range of 0.1 m / s or more and 30 m / s or less.
유체 관통 구멍을 통과한 유체에 포함되는 활성종의 수를 가급적 증대시킴과 동시에 발생하는 오존의 농도를 억제하기 위해서는 상기 각 전극에 인가하는 전압을 펄스 형상으로 하고, 그 피크치를 100V이상 5000V이하의 범위내로 하고, 또한 펄스폭을 0.1μ초 이상 300μ초 이하의 범위내로 하는 것이 바람직하다.In order to increase the number of active species contained in the fluid passing through the fluid through-hole as much as possible, and to suppress the concentration of ozone generated, the voltage applied to each electrode has a pulse shape, and the peak value is 100 V or more and 5000 V or less. It is preferable to make it into a range and to make a pulse width into the range of 0.1 microsecond or more and 300 microseconds or less.
그리고, 본 발명에 따른 다른 실시예로서 플라즈마 발생 장치는, 대향면의 적어도 한쪽에 유전체막을 설치한 한쌍의 전극을 가지고, 그들 전극간에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것으로서, 상기 전극 또는 상기 유전체막에 발열체가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.In another embodiment according to the present invention, a plasma generating apparatus includes a pair of electrodes provided with a dielectric film on at least one of the opposing surfaces, and plasma discharged by applying a predetermined voltage between the electrodes. The heating element is characterized in that the installation.
이러한 것이라면, 전극 또는 유전체막에 발열체를 설치하였기 때문에 전극 또는 유전체막에 결로 및 수분 부착이 잘 발생하지 않고 또 전극 또는 유전체막에 결로 또는 부착된 수분을 제거할 수 있다. 예를 들면 냉장고내의 고습도하에서도 살균 성능을 저하시키는 것을 방지하여 살균 성능을 장기간 발휘시킬 수 있다. 만에 하나 유전체막의 표면에 결로가 생겨 플라즈마 발생이 저해되더라도 발열체를 발열시킴으로써 유전체막을 건조시킬 수 있어 플라즈마 발생을 재개할 수 있다. 또한 전극 또는 유전체막에 발열체를 설치함으로써 그것들을 직접 가열하기 때문에 전극 또는 유전체막의 가열 시간을 단축할 수 있을 뿐만 아니라 복사나 간접적인 가열보다 에너지를 절약할 수 있다. 그 뿐 아니라 발열체에 의해 전극 또는 유전체막을 가열하기 때문에 악취 성분의 탈취 반응의 반응열을 공급할 수 있어 탈취 반응을 촉진할 수 있다. 또 각 전극이 대응하는 부분에 각각 유체 유통 구멍을 설치하여 이들이 관통하도록 구성함으로써 대응하는 각 유체 관통 구멍에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많게 할 수 있어 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부로 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. In such a case, since the heating element is provided on the electrode or the dielectric film, condensation and moisture adhesion are less likely to occur on the electrode or the dielectric film, and the water condensation or adhered to the electrode or the dielectric film can be removed. For example, the sterilization performance can be exhibited for a long time by preventing the sterilization performance from being lowered even under high humidity in the refrigerator. Even if condensation occurs on the surface of the dielectric film and the plasma generation is inhibited, the dielectric film can be dried by heating the heating element, so that the plasma generation can be resumed. In addition, since heating elements are directly heated by providing heating elements in the electrodes or dielectric films, not only can the heating time of the electrodes or dielectric films be shortened, but also energy can be saved than radiation or indirect heating. In addition, since the electrode or the dielectric film is heated by the heating element, the reaction heat of the deodorizing reaction of the malodorous component can be supplied, and the deodorizing reaction can be promoted. In addition, by providing a fluid flow hole in each of the electrodes corresponding to each other, the fluid flow holes are formed so that the amount of plasma generated in each corresponding fluid through hole can be increased as much as possible, so that the contact area between the plasma and the fluid can be made as large as possible. Can be. As a result, the production amount of the active species called ions and radicals can be increased to sufficiently deodorize the active species and release the active species to the outside of the apparatus to sterilize floating bacteria and adherent bacteria.
여기에서 플라즈마 전극부에 발열체를 설치하는 구체적인 실시형태로서는, 상기 전극의 내부에 발열체를 설치하는 것, 상기 전극과 상기 유전체막 사이에 발열체를 설치하는 것, 상기 유전체막의 내부에 발열체를 설치하는 것, 상기 유전체막의 표면 일부에 발열체를 설치하는 것을 들 수 있다.Here, as a specific embodiment for providing a heating element in the plasma electrode portion, providing a heating element inside the electrode, providing a heating element between the electrode and the dielectric film, and providing a heating element inside the dielectric film. And providing a heating element on a part of the surface of the dielectric film.
또 본 발명에 관한 플라즈마 발생 장치는, 대향면의 적어도 한쪽에 유전체막을 설치한 한쌍의 전극을 가지고, 그들 전극간에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것으로서, 상기 한쌍의 전극을 지지하는 케이싱을 가지고, 해당 케이싱에 상기 전극 또는 상기 유전체막을 가열하는 발열체가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.Moreover, the plasma generating apparatus which concerns on this invention has a pair of electrode which provided the dielectric film in at least one of the opposing surfaces, and discharges plasma by applying a predetermined voltage between these electrodes, and has a casing which supports the said pair of electrodes, A heating element for heating the electrode or the dielectric film is provided in the casing.
이러한 것이라면, 케이싱에 발열체를 설치하여 상기 전극 및 유전체막을 가열함으로써 유전체막에 결로 및 수분 부착이 잘 발생하지 않게 되고 또 유전체막에 결로 또는 부착된 수분을 제거할 수 있다.If this is the case, a heating element is provided in the casing to heat the electrode and the dielectric film so that condensation and moisture adhesion are less likely to occur on the dielectric film, and the moisture condensation or adhered to the dielectric film can be removed.
외부에 설치되는 부재나 유전체막의 내열 온도로부터 상기 발열체의 발열 온도가 150℃이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the heat generation temperature of the said heat generating body is 150 degrees C or less from the heat resistance temperature of the member or dielectric film installed externally.
플라즈마 발생 부위에서의 결로 및 수분 부착을 방지함과 동시에 결로 또는 수분을 쉽게 증발시켜 살균 성능 및 탈취 성능의 저하를 방지하기 위해서는 상기 유전체막의 표면상에 코팅막이 설치되어 있는 것이 바람직하다. 이 때 상기 코팅막이 발수성(소수성)인 것이 특히 바람직하다. 아울러 소수성 코팅막을 사용함으로써 해당 막에 소수성을 가진 악취 성분을 쉽게 흡착할 수 있어 탈취 효율을 향상시킬 수 있다.In order to prevent condensation and moisture adhesion at the plasma generation site and to easily evaporate condensation or moisture to prevent degradation of sterilization performance and deodorization performance, a coating film is preferably provided on the surface of the dielectric film. At this time, it is particularly preferable that the coating film is water repellent (hydrophobic). In addition, by using a hydrophobic coating film can be easily adsorbed odor component having a hydrophobic to the film can improve the deodorization efficiency.
상기 코팅막의 두께가 0.01㎛이상 100㎛이하인 것이 바람직하다. 여기에서 코팅막을 100㎛이상으로 하면 유전체막 자체의 물성이 손상되고 또 유전체막의 표면에 형성된 요철이 매몰되어 플라즈마 발생 효과가 저하된다.It is preferable that the thickness of the said coating film is 0.01 micrometer or more and 100 micrometers or less. In this case, when the coating film is 100 μm or more, the physical properties of the dielectric film itself are impaired, and the unevenness formed on the surface of the dielectric film is buried, and the effect of plasma generation is lowered.
상기 한쌍의 전극 사이에 500㎛이하의 두께를 가진 스페이서를 갖는 것이 바람직하다. 이렇게 하면 전극간의 거리를 크게 할 수 있어 탈취 반응장을 크게 할 수 있기 때문에 악취의 탈취 효율을 향상시킬 수 있다. 또 스페이서에 의해 전극간의 거리를 크게 하였기 때문에 수분 부착이 일어나더라도 미세한 물방울이라 전극 사이에서 외부로 쉽게 빼낼 수 있다. 여기에서 스페이서의 형성 방법으로서는, 증착법, CVD법(Chemical Vapor Deposition), 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 박막 형성 방법 혹은 도금법, 용사법, 스프레이 코팅, 스핀 코팅법, 도포법 등을 생각할 수 있다.It is preferable to have a spacer having a thickness of 500 mu m or less between the pair of electrodes. This makes it possible to increase the distance between the electrodes and to increase the deodorization reaction field, thereby improving the odor deodorization efficiency. In addition, since the distance between the electrodes is increased by the spacer, even if moisture adheres, fine water droplets can be easily taken out between the electrodes. As the method for forming the spacer, thin film formation methods such as vapor deposition, chemical vapor deposition, sputtering and ion plating, or plating, thermal spraying, spray coating, spin coating, coating, and the like can be considered.
유체가 효율적으로 유체 유통 구멍을 통과하도록 하여 활성종의 발생을 촉진시킴과 동시에 탈취 효과를 증대시키기 위해서는 상기 유체 유통 구멍을 향해 강제적으로 바람을 보내는 송풍 기구를 갖는 것이 바람직하다. 또 강제적으로 바람을 보냄으로써 결로 또는 부착된 수분의 증발을 촉진할 수도 있다.It is desirable to have a blowing mechanism forcibly sending the fluid to the fluid distribution holes in order to allow the fluid to efficiently pass through the fluid distribution holes to promote the generation of active species and to increase the deodorizing effect. It is also possible to promote the evaporation of condensation or adhered moisture by forcibly sending wind.
유체 관통 구멍을 통과한 유체에 포함되는 활성종의 수를 가급적 증대시킴과 동시에 발생하는 오존의 농도를 억제하기 위해서는 상기 각 전극에 인가하는 전압을 펄스 형상으로 하고, 그 피크치를 100V이상 5000V이하의 범위내로 하고, 또한 펄스폭을 0.1μ초 이상 300μ초 이하의 범위내로 하는 것이 바람직하다.In order to increase the number of active species contained in the fluid passing through the fluid through-hole as much as possible, and to suppress the concentration of ozone generated, the voltage applied to each electrode has a pulse shape, and the peak value is 100 V or more and 5000 V or less. It is preferable to make it into a range and to make a pulse width into the range of 0.1 microsecond or more and 300 microseconds or less.
또한, 본 발명에 따른 또 다른 실시예로서 플라즈마 발생장치는, 대향면의 적어도 한쪽에 유전체막을 설치한 한쌍의 전극을 가지고, 그들 전극간에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것으로서, 각 전극이 대응하는 부분에 각각 유체 유통 구멍을 설치하여 이들이 관통하도록 구성함과 동시에, 상기 한쌍의 전극을 지지하는 케이스를 구비하고, 상기 케이스가 상기 한쌍의 전극에 의해 형성되는 측변 개구의 적어도 일부를 개방하는 것을 특징으로 한다.Further, as another embodiment according to the present invention, the plasma generating apparatus has a pair of electrodes in which a dielectric film is provided on at least one of the opposing surfaces, and a plasma is discharged by applying a predetermined voltage between the electrodes. And a case for supporting the pair of electrodes, wherein the case opens the at least a part of the side openings formed by the pair of electrodes, and is configured to penetrate the fluid distribution holes in the portions to penetrate them. It is done.
이러한 것이라면, 케이스가 한쌍의 전극에 의해 형성되는 측변 개구의 적어도 일부를 개방하였기 때문에 한쌍의 전극내에 생기는 결로수를 쉽게 증발시킬 수 있어 한쌍의 전극내에 결로수가 축적되는 것을 방지할 수 있다. 이로써 유전체막의 건조 성능을 향상시킬 수 있고 플라즈마의 발생을 안정화시켜 활성종의 생성량을 안정화시킬 수 있다.In this case, since the case opens at least a part of the side openings formed by the pair of electrodes, the condensation water generated in the pair of electrodes can be easily evaporated to prevent the accumulation of condensation water in the pair of electrodes. As a result, the drying performance of the dielectric film can be improved, and the generation of active species can be stabilized by stabilizing the generation of plasma.
아울러 한쌍의 전극의 측변 개구 전체를 케이스로 덮음으로써 측변 개구를 막은 경우, 한쌍의 전극내에서 생기는 결로수 중 유체 연통 구멍 근방의 유전체막은 건조시킬 수 있었으나, 한쌍의 전극의 주변부 등 다른 부분은 개방되어 있지 않기 때문에 건조 성능이 현저하게 나쁘다. 본 발명은, 전극의 측변 개구를 개방시킴으로써 유체 유통 구멍 근방의 유전체막뿐만 아니라 다른 부분의 유전체막을 건조할 수 있다.In addition, when the side opening was closed by covering the entire side opening of the pair of electrodes, the dielectric film near the fluid communication hole among the condensation water generated in the pair of electrodes could be dried, but other parts such as the periphery of the pair of electrodes were opened. As it is not done, drying performance is remarkably bad. The present invention can dry not only the dielectric film in the vicinity of the fluid flow hole but also the dielectric film in other parts by opening the side opening of the electrode.
또, 각 전극이 대응하는 부분에 각각 유체 유통 구멍을 설치하여 이들이 관통하도록 구성함으로써, 대응하는 각 유체 관통 구멍에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많게 할 수 있고, 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부로 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. Also, by providing a fluid flow hole in each of the electrodes corresponding to each of them, the fluid flow holes are formed so that the amount of plasma generated in each of the corresponding fluid through holes can be increased as much as possible, and the contact area between the plasma and the fluid can be increased. As large as possible. As a result, the production amount of the active species called ions and radicals can be increased to sufficiently deodorize the active species and release the active species to the outside of the apparatus to sterilize floating bacteria and adherent bacteria.
개방된 측변 개구에 기체가 통과하기 쉽도록 개방된 측변 개구에서 수분이 쉽게 빠지도록 하기 위해서는, 상기 케이스가 상기 개방된 측변 개구에 대향하는 벽체를 가지고, 상기 측변 개구와 상기 벽체 사이에 기체 유로를 형성하는 것인 것이 바람직하다. 또 측변 개구에 대향하여 벽체를 설치함으로써 측변 개구 근방의 플라즈마에 의해 생긴 불꽃이 외부로 전파되는 것을 방지할 수도 있다.In order to allow water to easily escape from the open side opening so that gas is easily passed through the open side opening, the case has a wall facing the open side opening, and a gas flow path is provided between the side opening and the wall. It is preferable to form. Moreover, by providing a wall opposite the side opening, the flame generated by the plasma near the side opening can be prevented from propagating to the outside.
상기 기체 유로를 간단한 구성으로 구성하기 위해서는, 상기 케이스의 측벽부에 상기 측변 개구와 연통하는 관통 구멍이 형성되어 있고, 해당 관통 구멍에 의해 상기 기체 유로가 형성되어 있는 것이 바람직하다.In order to configure the gas flow passage in a simple configuration, it is preferable that a through hole communicating with the side opening is formed in the side wall portion of the case, and the gas flow passage is formed by the through hole.
상기 한쌍의 전극의 전단 또는 후단에 송풍 기구를 설치하여 상기 개방된 측변 개구로 바람을 보내는 것인 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 개방된 측변 개구로 효율적으로 바람을 보낼 수 있어 측변 개구로부터 수분이 쉽게 빠져 유전체막의 건조 성능을 더욱 향상시킬 수 있다. 또 이 송풍 기구에 의해 유체가 효율적으로 유체 유통 구멍을 통과하게 되어 활성종의 발생을 촉진시킴과 동시에 탈취 효과를 증대시킬 수도 있다. 예를 들면 냉장고 등 전자제품 등의 경우, 습도 센서나 온도 센서 등의 센서와 연동시키면 최소한의 에너지로 효율적으로 송풍 기구를 가동시킬 수 있게 된다. 또 결로 상태는 인가 전압의 저하에 의해 검지 가능하기 때문에 송풍량을 조절하는 것도 유효하다.It is preferable to install a blowing mechanism at the front end or the rear end of the pair of electrodes to send air to the open side opening. In this way, it is possible to efficiently blow air to the open side openings, so that moisture can easily escape from the side openings, thereby further improving the drying performance of the dielectric film. In addition, the blowing mechanism allows the fluid to efficiently pass through the fluid distribution hole, thereby promoting the generation of active species and increasing the deodorizing effect. For example, in the case of electronic products, such as a refrigerator, when it connects with sensors, such as a humidity sensor and a temperature sensor, a ventilation mechanism can be operated efficiently with minimum energy. In addition, since the dew condensation state can be detected by a decrease in the applied voltage, it is also effective to adjust the air blowing amount.
여기에서 상기 송풍 기구에 의해 상기 유체 유통 구멍을 통과시키는 바람의 유속을 0.1m/s이상 30m/s이하의 범위내로 하는 것이 바람직하다.Here, it is preferable to make the flow velocity of the wind which passes the said fluid flow hole by the said blowing mechanism into the range of 0.1 m / s or more and 30 m / s or less.
유전체막이 용사법에 의해 형성된 것인 경우, 그 표면에는 미세한 요철이 형성되고 이들이 대향함으로써 건조 성능이 현저하게 저하되는데, 본 발명과 같이 측변 개구를 개방시킴으로써 이 건조 성능의 저하를 방지할 수 있다.When the dielectric film is formed by the thermal spraying method, fine irregularities are formed on the surface thereof and the drying performance is remarkably lowered by opposing them. However, by lowering the side openings as in the present invention, the decrease in the drying performance can be prevented.
플라즈마 발생 부위에서의 결로 및 수분 부착을 방지함과 동시에 결로 또는 수분을 쉽게 증발시켜 살균 성능 및 탈취 성능의 저하를 방지하기 위해서는, 상기 유전체막의 표면상에 코팅막이 설치되어 있는 것이 바람직하다. 이 때 상기 코팅막이 발수성(소수성)인 것이 특히 바람직하다. 아울러 소수성 코팅막을 사용함으로써 해당 막에 소수성을 가진 악취 성분을 쉽게 흡착할 수 있어 탈취 효율을 향상시킬 수 있다.In order to prevent condensation and moisture adhesion at the plasma generating site and to easily evaporate condensation or moisture to prevent deterioration of sterilization performance and deodorization performance, a coating film is preferably provided on the surface of the dielectric film. At this time, it is particularly preferable that the coating film is water repellent (hydrophobic). In addition, by using a hydrophobic coating film can be easily adsorbed odor component having a hydrophobic to the film can improve the deodorization efficiency.
상기 코팅막의 두께가 0.01㎛이상 100㎛이하인 것이 바람직하다. 여기에서 코팅막을 100㎛이상으로 하면 유전체막 자체의 물성이 손상되고 또 유전체막의 표면에 형성된 요철이 매몰되어 플라즈마 발생 효과가 저하된다.It is preferable that the thickness of the said coating film is 0.01 micrometer or more and 100 micrometers or less. In this case, when the coating film is 100 μm or more, the physical properties of the dielectric film itself are impaired, and the unevenness formed on the surface of the dielectric film is buried, and the effect of plasma generation is lowered.
상기 한쌍의 전극 사이에 500㎛이하의 두께를 가진 스페이서를 갖는 것이 바람직하다. 이렇게 하면 전극간의 거리를 크게 할 수 있어 탈취 반응장을 크게 할 수 있기 때문에 악취의 탈취 효율을 향상시킬 수 있다. 또 스페이서에 의해 전극간의 거리를 크게 하였기 때문에 수분 부착이 일어나더라도 미세한 물방울이라 전극 사이에서 외부로 쉽게 빼낼 수 있다. 여기에서 스페이서의 형성 방법으로서는, 증착법, CVD법(Chemical Vapor Deposition), 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 박막 형성 방법 혹은 도금법, 용사법, 스프레이 코팅, 스핀 코팅법, 도포법 등을 생각할 수 있다.It is preferable to have a spacer having a thickness of 500 mu m or less between the pair of electrodes. This makes it possible to increase the distance between the electrodes and to increase the deodorization reaction field, thereby improving the odor deodorization efficiency. In addition, since the distance between the electrodes is increased by the spacer, even if moisture adheres, fine water droplets can be easily taken out between the electrodes. As the method for forming the spacer, thin film formation methods such as vapor deposition, chemical vapor deposition, sputtering and ion plating, or plating, thermal spraying, spray coating, spin coating, coating, and the like can be considered.
유체 관통 구멍을 통과한 유체에 포함되는 활성종의 수를 가급적 증대시킴과 동시에 발생하는 오존의 농도를 억제하기 위해서는 상기 각 전극에 인가하는 전압을 펄스 형상으로 하고, 그 피크치를 100V이상 5000V이하의 범위내로 하고, 또한 펄스폭을 0.1μ초 이상 300μ초 이하의 범위내로 하는 것이 바람직하다.In order to increase the number of active species contained in the fluid passing through the fluid through-hole as much as possible, and to suppress the concentration of ozone generated, the voltage applied to each electrode has a pulse shape, and the peak value is 100 V or more and 5000 V or less. It is preferable to make it into a range and to make a pulse width into the range of 0.1 microsecond or more and 300 microseconds or less.
또 본 발명에 관한 플라즈마 발생 방법은, 대향면의 적어도 한쪽에 유전체막을 설치한 한쌍의 전극을 사용하여 그들 전극간에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전함으로써 상기 유전체막의 표면에 코팅막을 설치한 것을 특징으로 한다.The plasma generating method according to the present invention is characterized in that a coating film is provided on the surface of the dielectric film by using a pair of electrodes provided with a dielectric film on at least one of the opposing surfaces by applying a predetermined voltage between the electrodes and performing plasma discharge. .
본 발명에 의하면, 활성종의 생성량을 늘림으로써 부착균의 살균과 탈취 모두를 동시에 실현함과 동시에 유전체막에 결로나 수분 부착이 잘 발생하지 않도록 하여 장기간에 걸쳐 살균 성능의 저하를 방지할 수 있다.According to the present invention, by increasing the amount of active species produced, both sterilization and deodorization of adherent bacteria can be simultaneously realized, and condensation or moisture adhesion can be prevented from occurring on the dielectric film to prevent degradation of sterilization performance for a long time. .
그리고, 본 발명에 의하면, 활성종의 생성량을 늘림으로써 부착균의 살균과 탈취 모두를 동시에 실현함과 동시에 유전체막에 결로 또는 부착된 수분을 제거함으로써 장기간에 걸쳐 살균 성능의 저하를 방지할 수 있다.In addition, according to the present invention, both the sterilization and deodorization of adherent bacteria can be simultaneously realized by increasing the amount of active species produced, and the deterioration of sterilization performance can be prevented over a long period of time by removing condensation or moisture adhering to the dielectric film. .
또한, 본 발명에 의하면, 활성종의 생성량을 늘림으로써 부착균의 살균과 탈취 모두를 동시에 실현함과 동시에 유전체막의 건조 성능을 향상시킴으로써 플라즈마의 발생을 안정화시켜 활성종의 생성량을 안정화시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, by increasing the amount of active species produced, both the sterilization and deodorization of adherent bacteria can be simultaneously realized, and the drying performance of the dielectric film can be improved to stabilize the generation of plasma to stabilize the amount of active species generated.
도 1은 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 일실시형태를 도시한 사시도이다.
도 2는 플라즈마 발생 장치의 작용을 도시한 모식도이다.
도 3은 전극부를 도시한 평면도이다.
도 4는 전극부 및 방폭 기구를 도시한 단면도이다.
도 5는 전극부의 대향면의 구성을 도시한 확대 단면도이다.
도 6은 유체 유통 구멍 및 관통 구멍을 모식적으로 도시한 부분 확대 평면도 및 단면도이다.
도 7은 이온수 밀도와 오존 농도와의 펄스폭 의존성을 도시한 도면이다.
도 8은 종래품 및 본 발명의 결로 싸이클과 이온수 밀도와의 관계를 도시한 도면이다.
도 9는 전극간 거리의 대소에 의한 탈취 효과의 차이를 도시한 개념도이다.
도 10은 탈취 성능에서의 스페이서 두께의 의존성을 도시한 도면이다.
도 11은 냉장고내의 온도 습도 변화의 일례이다.
도 12는 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 다른 실시형태를 도시한 사시도이다.
도 13은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 전극부 및 방폭 기구를 도시한 단면도이다.
도 14는 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 전극부의 대향면의 구성을 도시한 확대 단면도이다.
도 15는 발열체 형성 패턴의 일례를 도시한 평면도이다.
도 16은 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 또 다른 실시형태를 도시한 사시도이다.
도 17은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 전극부 및 방폭 기구를 도시한 단면도이다.
도 18은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 플라즈마 전극부의 평면도이다.
도 19은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 케이스의 구성을 주로 도시한 확대 단면도이다.
도 20은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 변형 실시형태의 전극부의 구성을 모식적으로 도시한 단면도이다.
도 21은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 변형 실시형태의 전극부의 구성을 모식적으로 도시한 단면도이다.
도 22는 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 변형 실시형태의 전극부의 구성을 모식적으로 도시한 사시도이다.
도 23은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 변형 실시형태의 도전체 패턴을 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 24는 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 변형 실시형태의 전압 인가 패턴을 도시한 도면이다.
도 25는 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 변형 실시형태에서의 케이스의 구성을 주로 도시한 확대 단면도이다.
도 26은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 변형 실시형태에서의 케이스의 구성을 주로 도시한 확대 단면도이다.
도 27은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 변형 실시형태에서의 플라즈마 전극부의 평면도이다.1 is a perspective view showing an embodiment of a plasma generating apparatus of the present invention.
2 is a schematic diagram showing the operation of the plasma generating device.
3 is a plan view illustrating the electrode unit.
4 is a cross-sectional view showing the electrode portion and the explosion-proof mechanism.
5 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of the opposing surface of the electrode portion.
6 is a partially enlarged plan view and a cross-sectional view schematically showing the fluid flow hole and the through hole.
Fig. 7 is a diagram showing the pulse width dependency between ionized water density and ozone concentration.
8 is a view showing a relationship between the condensation cycle and the ionized water density of the prior art and the present invention.
9 is a conceptual diagram showing the difference of the deodorizing effect by the magnitude of the distance between electrodes.
10 shows the dependence of the spacer thickness on the deodorizing performance.
11 is an example of the temperature humidity change in the refrigerator.
12 is a perspective view showing another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
It is sectional drawing which shows the electrode part and explosion-proof mechanism of other embodiment of the plasma generating apparatus of this invention.
14 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of an opposing surface of an electrode portion of another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
15 is a plan view illustrating an example of a heating element formation pattern.
16 is a perspective view showing yet another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
It is sectional drawing which shows the electrode part and explosion-proof mechanism of another embodiment of the plasma generating apparatus of this invention.
18 is a plan view of a plasma electrode unit according to still another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
19 is an enlarged cross-sectional view mainly showing the configuration of a case of still another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
It is sectional drawing which shows typically the structure of the electrode part of the modified embodiment of the other embodiment of the plasma generating apparatus of this invention.
It is sectional drawing which shows typically the structure of the electrode part of the modified embodiment of the other embodiment of the plasma generating apparatus of this invention.
It is a perspective view which shows typically the structure of the electrode part of the modified embodiment of the other embodiment of the plasma generating apparatus of this invention.
It is a top view which shows typically the conductor pattern of the modified embodiment of the other embodiment of the plasma generating apparatus of this invention.
It is a figure which shows the voltage application pattern of the modified embodiment of other embodiment of the plasma generating apparatus of this invention.
25 is an enlarged cross-sectional view mainly showing the configuration of a case in a modified embodiment of still another embodiment of the plasma generating device of the present invention.
Fig. 26 is an enlarged cross-sectional view mainly showing the configuration of a case in a modified embodiment of still another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
27 is a plan view of a plasma electrode unit in a modified embodiment of still another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
이하, 본 발명의 일실시형태에 대해서 도면을 참조하여 설명하기로 한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one Embodiment of this invention is described with reference to drawings.
<일실시형태><One Embodiment>
본 발명의 일실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)는, 예를 들면 냉장고, 세탁기, 의류 건조기, 청소기, 에어컨 또는 공기 청정기 등 가정 전자제품에 사용되는 것으로서, 해당 가정 전자제품의 내부 또는 외부 공기의 탈취나 그들 제품 내부 또는 외부의 부유균 또는 부착균을 살균하는 것이다.
구체적으로 이것은, 도 1 및 도 2에 도시한 것처럼 마이크로 갭 플라즈마(Micro Gap Plasma)에 의해 이온이나 래디컬 등의 활성종을 생성시키는 플라즈마 전극부(2)와, 해당 플라즈마 전극부(2)의 외부에 설치되어 해당 플라즈마 전극부(2)에 강제적으로 바람(공기류)을 보내는 송풍 기구(3)와, 상기 플라즈마 전극부(2)의 외부에 설치되어 플라즈마 전극부(2)에서 생기는 불꽃이 외부에 전파되지 않도록 하는 방폭 기구(4) 및 전극부에 고전압을 인가하기 위한 전원(5)을 구비하고 있다.Specifically, as illustrated in FIGS. 1 and 2, the
이하, 각 부(2)?(5)에 대해서 각 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, each part (2)-(5) is demonstrated with reference to each figure.
플라즈마 전극부(2)는, 도 2?도 6에 도시한 것처럼 대향면에 유전체막(21a),(22a)을 설치한 한쌍의 전극(21),(22)을 가지고, 그들 전극(21),(22) 사이에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것이다. 각 전극(21),(22)은, 특히 도 3에 도시한 것처럼 평면시(平面視)에(전극(21),(22)의 면판 방향에서 보았을 때) 대략 직사각형을 이루는 것으로서, 예를 들면 SUS403이라는 스테인레스강으로 형성되어 있다. 아울러 전극부(2)의 전극(21),(22)의 테두리부에는 전원(5)으로부터의 전압이 인가되는 인가 단자(2T)가 형성되어 있다(도 3 참조).The
여기에서 전원(5)에 의한 플라즈마 전극부(2)로의 전압 인가 방법은, 각 전극(21),(22)에 인가하는 전압을 펄스 형상으로 하고 그 피크치를 100V이상 5000V이하의 범위내로 하고, 또한 펄스폭을 0.1μ초 이상 또한 300μ초 이하의 범위내로 하였다. 도 7에 도시한 것처럼 펄스폭이 300μ초 이하에서 이온수 밀도가 측정되고 또한 오존 농도가 낮아져 펄스폭이 작아짐에 따라 이온수는 증가하고 오존 농도는 감소한다. 이로써 오존 발생량을 억제하여 플라즈마에서 생성된 활성종을 종래 기술에 자주 나타나는 필터 등으로 빠짐 없이 효율적으로 방출할 수 있고, 그 결과 부착균의 살균을 단시간에 실현할 수 있게 된다.Here, in the voltage application method to the
또 도 5에 도시한 것처럼, 전극(21),(22)의 대향면에는, 예를 들면 티탄산바륨 등의 유전체가 도포되어 유전체막(21a),(22a)이 형성되어 있다. 이 유전체막(21a),(22a)의 표면 거칠기(본 실시형태에서는 산출 평균 거칠기Ra)는 0.1㎛이상 100㎛이하이다. 기타 표면 거칠기로서는, 최대 높이Ry, 10점 평균 거칠기Rz를 사용하여 규정해도 좋다. 아울러 상기 유전체막(21a),(22a)의 표면 거칠기는 용사법에 의해 제어하는 것을 생각할 수 있다. 또 전극에 도포하는 유전체로서는, 산화알루미늄, 산화티타늄, 산화마그네슘, 티탄산스트론튬, 산화실리콘, 인산은, 티탄산지르콘산납, 실리콘카바이드, 산화인듐, 산화카드듐, 산화비스무트, 산화아연, 산화철, 카본나노튜브 등을 사용해도 좋다.As shown in Fig. 5, on the opposing surfaces of the
또한 도 3, 도 4 및 도 6에 도시한 것처럼, 각 전극(21),(22)의 대응하는 부분에 각각 유체 유통 구멍(21b),(22b)을 설치하여 이들이 연통하여 관통하도록 구성함과 동시에 전극(21),(22)의 면판 방향에서 보았을 때(평면시에), 대응하는 각 유체 관통 구멍(21b),(22b) 윤곽의 적어도 일부가 서로 다른 위치가 되도록 구성되어 있다. 즉, 한쪽 전극(21)에 형성된 유체 유통 구멍(21b)의 평면시 형상과, 다른 쪽 전극(22)에 형성된 유체 유통 구멍(22b)의 평면시 형상이 서로 다르도록 구성되어 있다.In addition, as shown in Figs. 3, 4 and 6, the fluid flow holes 21b and 22b are provided in corresponding portions of the
구체적으로는, 각 전극(21),(22)의 대응하는 부분에 각각 형성된 유체 유통 구멍(21b),(22b)은 평면시에 대략 원형상을 이루는 것으로서(도 3, 도 6 참조), 한쪽 전극(21)에 형성된 유체 유통 구멍(21b)의 개구 사이즈(개구 직경)가 다른 쪽 전극(22)에 형성된 유체 유통 구멍(22b)의 개구 사이즈(개구 직경)보다 작게(예를 들면 개구 직경이 10㎛이상 작게) 형성되어 있다.Specifically, the fluid flow holes 21b and 22b respectively formed in the corresponding portions of the
또 마찬가지로 도 3, 도 6에 도시한 것처럼, 한쪽 전극(21)에 형성된 유체 유통 구멍(21b)과 다른 쪽 전극(22)에 형성된 유체 유통 구멍(22b)은 동심원형으로 형성되어 있다. 아울러 본 실시형태에서는 한쪽 전극(21)에 형성된 복수개의 유체 유통 구멍(21b)은 전부 동일 형상을 이루고, 다른 쪽 전극(22)에 형성된 복수개의 유체 유통 구멍(22b)도 전부 동일 형상을 이루고, 한쪽 전극(21)에 형성된 유체 유통 구멍(21b) 전부가 다른 쪽 전극(22)에 형성된 유체 유통 구멍(22b)보다 작게 형성되어 있다. 본 실시예에서는 대략 원형상으로서 효과를 나타내었으나, 개구부는 원형뿐 아니라 어떠한 형태여도 좋고, 평면시에 대응하는 각 유체 관통 구멍 윤곽의 적어도 일부가 서로 다른 위치가 되도록 구성되어 있으면 된다.Similarly, as shown in Figs. 3 and 6, the
또한 각 전극(21),(22)에 형성된 유체 유통 구멍(21b),(22b)의 개구 총면적이 해당 각 전극(21),(22)의 총면적에 대해 2%이상 90%이하의 범위내이다. 구체적으로는, 다른 쪽 전극(22)에 형성된 유체 유통 구멍(22b)의 개구 총면적을 전극(22)의 총면적에 대해 2%이상 90%이하의 범위내로 하였다. 아울러 한쪽 전극(21)에 형성된 유체 유통 구멍(21b)의 개구 총면적을 2%이상 90%이하의 범위내로 해도 좋다.In addition, the total opening area of the fluid flow holes 21b and 22b formed in each of the
그리고 본 실시형태의 플라즈마 전극부(2)는, 도 3 및 도 6에 도시한 것처럼 유체 유통 구멍(21b),(22b)과는 별도로 한쪽 전극(21)에 관통 구멍(21c)을 마련하고 이 관통 구멍(21c)이 다른 쪽 전극(22)에 의해 그 대향면쪽 개구가 막히도록 구성되어 있다. 아울러 상기 각 전극(21),(22)에 형성된 유체 유통 구멍(21b),(22b)으로 이루어진 것을 이하, 완전 개구부라고 하는 경우가 있는데, 이것과의 비교에서 관통 구멍(21c)에 의해 형성되는 것은 반개구부라고 한다.And the
관통 구멍(21c)의 개구 사이즈를 유체 유통 구멍(21b)의 개구 사이즈보다 10㎛이상 작게 형성하였다. 관통 구멍(21c)은 규칙적으로 설치된 유체 유통 구멍(21b)의 일부를 치환하여 형성되어 있으며, 관통 구멍(21c)은 유체 유통 구멍(21b) 주위에 설치되어 있다(도 3 참조).The opening size of the through
송풍 기구(3)는 상기 플라즈마 전극부(2)의 다른 쪽 전극(22)쪽에 배치되어 있으며, 플라즈마 전극부(2)에 형성된 유체 유통 구멍(21b),(22b)(완전 개구부)을 향해 강제로 바람을 보내는 송풍 팬을 가진 것이다. 구체적으로 이 송풍 기구(3)는 유체 유통 구멍(21b),(22b)을 통과시키는 바람의 유속을 0.1m/s이상 30m/s이하의 범위내로 하였다.The
방폭 기구(4)는, 도 4에 도시한 것처럼 한쌍의 전극(21),(22)의 바깥쪽에 배치된 보호 커버(41)를 가지고, 가연성 가스가 유체 유통 구멍(21b),(22b)에 유입되어 플라즈마에 의해 생긴 불꽃이 보호 커버(41)를 넘어 외부로 전파되지 않도록 구성된 것이다. 구체적으로 방폭 기구(4)는 그 보호 커버(41)가 한쌍의 전극(21),(22)의 바깥쪽에 배치된 금속 메쉬(411)를 가지고, 해당 금속 메쉬(411)의 선직경이 1.5mm이하의 범위내이고 또한 금속 메쉬(411)의 개구율이 30%이상이다.The explosion-
그런데 본 실시형태에서는, 도 5에 도시한 것처럼 각 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a)의 표면에 1층의 코팅막(23)이 설치되어 있다. By the way, in this embodiment, as shown in FIG. 5, the
코팅막(23)은 발수성이 있는 것으로서, 유리, 불소수지, 실리콘, 다이아몬드 라이크 카본(DLC), 불소 함유DLC, SiO2, ZrO2, TiO2, SrO2, MgO 중 어느 하나 또는 그 조합이다. 또 코팅막(23)은 유전체막(21a),(22a)의 상면에 거의 균일하게 성막하기 위해 증착법, CVD법(Chemical Vapor Deposition), 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 박막 형성 방법 혹은 도금법, 용사법, 스프레이 코팅, 스핀 코팅법, 도포법 등으로 형성된다.The
여기에서 코팅막(23)을 형성한 플라즈마 발생 장치(100)(본 발명)와 코팅막(23)을 형성하지 않은 플라즈마 발생 장치(종래품)에서의 결로 싸이클과 이온수 밀도와의 관계를, 도 8에 도시한다. 이 도 8로부터 알 수 있듯이 종래품에서는 결로 싸이클 2회째부터 서서히 이온수 밀도가 저하되는데, 본 발명에서는 결로 싸이클과 상관 없이 이온수 밀도가 저하되지 않는다는 것을 알 수 있다.Here, the relationship between the dew condensation cycle and the ion water density in the plasma generating apparatus 100 (the present invention) in which the
또 본 실시형태의 전극(21),(22)은 절연체 재료로 이루어진 스페이서(24)에 의해 전극(21),(22) 사이에 소정 거리의 틈이 형성되어 있다. 스페이서(24)는, 도 3에 도시한 것처럼 전극(21),(22)의 주연부 여러 곳에 설치되어 있다. 아울러 스페이서의 위치는 도 3에 한정되지 않으며, 예를 들면 주연부 전체에 걸쳐 설치해도 좋고, 전극의 중앙부 등 유체 유통 구멍(21b),(22b) 및 관통 구멍(21c)을 막지 않는 임의의 위치에 설치해도 좋다. 이 스페이서(24)의 두께로서는 500㎛이하로 하는 것이 바람직하다. 500㎛보다 크게 하면 플라즈마를 발생시키기 위한 전압이 커져 오존이 쉽게 발생하기 때문이다. 또 스페이서(24)는 불소수지, 에폭시, 폴리이미드, 알루미나, 유리 중 어느 하나 또는 그 조합이다. 본 실시형태의 스페이서(24)는 상기 유전체막(21a),(22a)과 마찬가지로 용사법에 의해 형성된다. 보다 구체적으로는, 각 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a)상에 스페이서(24)가 되는 부재를 예를 들면 250㎛이하로 형성하고 그들을 중합시킴으로써 500㎛이하의 스페이서(24)가 되도록 하였다. 기타 한쪽 전극(21)(또는 전극(22))의 유전체막(21a)(유전체막(22a))에 스페이서(24)를 형성해도 좋다.In the
본 실시형태의 코팅막(23)은, 유전체막(21a),(22a)을 용사법에 의해 성막하고, 해당 유전체막(21a),(22a)상에 스페이서(24)가 되는 부재를 용사법에 의해 형성한 후에 성막된다. 이로써 스페이서(24)도 코팅막(23)에 의해 덮히게 되어 스페이서(24)에 생기는 결로 및 수분 부착을 방지할 수 있다. 아울러 유전체막(21a),(22a)을 성막하여 코팅막(23)을 성막한 후에 스페이서(24)를 형성해도 좋다.The
이와 같이 스페이서(24)를 마련함으로써 전극간 거리를 스페이서(24)의 두께만큼 크게 할 수 있어 도 9에 도시한 바와 같이 탈취반응장이 커져 공기와 플라즈마와의 접촉 부피가 커짐에 따라 탈취 효율이 향상된다. 여기에서 탈취 성능과 스페이서(24)의 두께 의존성에 대해서 도 10에 도시한다. 스페이서(24)를 마련하지 않은 경우의 탈취 효율이 20%인 데 반해 두께10㎛의 스페이서(24)를 마련한 경우의 탈취 효율은 30%, 20㎛에서는 32%, 50㎛에서는 최대 35%로서 탈취 효율이 향상되었다. 또 100㎛의 탈취 효율은 30%이고, 10㎛부터 100㎛까지는 탈취율의 향상이 현저하다. 또 스페이서(24)의 두께가 100㎛보다 커지면서 탈취 효율도 나빠지지만 500㎛까지는 20%이상이다. 반면 스페이서(24)의 두께가 500㎛를 초과하면 스페이서(24)를 마련하지 않은 경우보다 탈취 효율이 나빠져 바람직하지 않다.By providing the
이와 같이 구성한 플라즈마 발생 장치(100)는 냉장고의 수납공간 안에서 바람직하게 사용할 수 있다. 냉장고의 수납공간 안은, 도 11에 도시한 바와 같이 제상(除霜) 운전시에 고습도 상태가 되어 전극(21),(22)간에 결로가 쉽게 생기거나 또는 수분이 쉽게 부착된다. 이에 반해 본 실시형태의 플라즈마 발생 장치(100)는, 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a) 표면에 발수성 코팅막(23)을 마련하였기 때문에 결로나 수분 부착이 잘 생기지 않는다. 또 스페이서(24)에 의해 전극(21),(22)간의 거리를 크게 하였기 때문에 가령 결로가 생긴다고 해도 그 결로수가 전극(21),(22)간의 외부로 쉽게 빠져나간다.The
<일실시형태의 효과><Effect of one embodiment>
이와 같이 구성한 본 발명에 따른 일실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)에 의하면, 대응하는 각 유체 관통 구멍(21b),(22b)에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많게 할 수 있어 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부로 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. 또 유전체막(21a),(22a)의 표면에 발수성 코팅막(23)을 마련하였기 때문에 유전체막(21a),(22a)에 결로 및 수분 부착이 잘 일어나지 않아 예를 들면 냉장고내의 고습도하에서도 살균 성능을 저하시키는 것을 방지하여 살균 성능을 장기간 발휘시킬 수 있다.According to the
<다른 실시형태><Other Embodiments>
도 12는 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 다른 실시형태를 도시한 사시도이며, 도 13은 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 다른 실시형태의 전극부 및 방폭기구를 도시한 단면도이다. 12 is a perspective view showing another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention, and FIG. 13 is a cross-sectional view showing the electrode portion and the explosion-proof mechanism of another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
본 발명의 다른 실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)는, 대부분의 구성이 상기 일실시형태와 동일하거나 유사한 구성을 가지지만, 도 14에 도시한 것처럼 전극(21),(22)의 내부에 발열체(6)가 매설됨과 동시에 각 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a)의 표면에 1층의 코팅막(23)이 설치되어 있다. In the
여기서 상기 일실시형태와 동일한 구성인 플라즈마 전극부(2), 송풍 기구(3), 방폭 기구(4), 전원(5) 및 코팅막(23)에 대해서는 중복설명은 생략하기로 한다.Here, the overlapping description of the
발열체(6)는, 도 14 및 도 15에 도시한 것처럼 저항 가열에 의해 전극(21),(22) 및 유전체막(21a),(22a)을 가열하는 것으로서, 전극(21)에서 유체 유통 구멍(21b) 및 관통 구멍(21c)을 제외한 부분에 형성된 오목부(21m)안에 배치되고, 전극(22)에서 유체 유통 구멍(22b)을 제외한 부분에 형성된 오목부(22m)에 배치되어 있다. 또 발열체(6)는, 그것들 오목부(21m),(22m)안에 절연체(7)에 의해 전극(21),(22)과 전기 절연된 상태에서 수용된다. 구체적으로 발열체(6)는, 예를 들면 Ni-Cr계 발열체, 이규화몰리브덴 발열체, 탄화규소 발열체, 흑연 발열체 등의 발열 저항체, 배리스터 소자, 적외선LED 중 어느 하나 또는 그 조합으로 이루어진다. 이 발열체(6)에는 전원(5) 등 외부의 전원에서 전력 공급됨으로써 발열한다. 또 발열체(6)의 발열 온도는 150℃이하로 하였다.The
이와 같이 구성한 플라즈마 발생 장치(100)는 냉장고의 수납공간 안에서 바람직하게 사용할 수 있다. 냉장고의 수납공간 안은, 도 11에 도시한 바와 같이 제상(除霜) 운전시에 고습도 상태가 되어 전극(21),(22)간에 결로가 쉽게 생기거나 또는 수분이 쉽게 부착된다. 이에 반해 본 실시형태의 플라즈마 발생 장치(100)는, 전극(21),(22)에 발열체(6)를 설치함으로써 전극(21),(22) 및 유전체막(21a),(22a)을 가열하기 때문에 결로 및 수분 부착을 쉽게 일으키지 않고 또 결로 및 수분 부착이 발생하더라도 그것들을 건조시킬 수 있다. 또 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a)의 표면에 발수성 코팅막(23)을 설치하고 스페이서(24)에 의해 전극(21),(22)간의 거리를 크게 함으로써 건조를 한층 더 촉진시킬 수 있어 살균 성능 및 탈취 성능의 저하를 줄일 수 있다. 발열체(6)의 온도는 냉장고내의 온도, 습도를 검지함으로써 최적의 온도 설정으로 사용할 수도 있다. 혹은 냉장고내의 컴프레서나 제상 히터 등의 동작과 연동하여 발열체(6)의 온도를 조정하거나, 혹은 발열체(6)의 온?오프를 제어하는 것도 유효하다. 또 발열체(6)의 동작은 플라즈마 발생 장치(100)의 동작 상태를 검지하여 제어할 수도 있다. 예를 들면 전극(21),(22)간의 인가 전압을 검지하여 인가 전압이 감소 경향이 있는 경우, 즉 플라즈마의 발생이 약해진 상태일 때 발열체(6)의 온도를 상승시킬 수도 있다.The
<다른 실시형태의 효과><Effects of Other Embodiments>
이와 같이 구성한 본 발명에 따른 다른 실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)에 의하면, 대응하는 각 유체 관통 구멍(21b),(22b)에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많이 할 수 있어 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부에 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. 또 전극(21),(22)에 발열체(6)를 설치함으로써 유전체막(21a),(22a)에 결로 및 수분 부착이 잘 발생하지 않게 되고 또 유전체막(21a),(22a)에 결로 또는 부착된 수분을 제거할 수 있다. 예를 들면 냉장고내의 고습도하에서도 살균 성능을 저하시키는 것을 방지하여 살균 성능을 장기간 발휘시킬 수 있다. 만에 하나 유전체막(21a),(22a)의 표면에 결로가 생겨 플라즈마 발생이 저해되어도 발열체(6)를 발열시킴으로써 유전체막(21a),(22a)을 건조시킬 수 있어 플라즈마 발생을 재개할 수 있다. 또한 전극(21),(22)에 발열체(6)를 설치함으로써 그것들을 직접 가열하기 때문에 유전체막(21a),(22a)의 가열 시간을 단축할 수 있을 뿐만 아니라 그 가열 에너지를 절약할 수 있다.According to the
또 본 발명에 따른 다른 실시형태에 의하면, 억지로 결로 상태를 만들어 탈취 효율을 증가시킬 수도 있다. 즉, 최초로 결로된 수분에 악취 성분(예를 들면 트리메틸아민 등 물에 녹기 쉬운 악취)을 흡수시킴과 동시에 응집시키고, 다음으로 전극(21),(22)을 가열하여 고전압으로 플라즈마를 발생시킴으로써 고효율로 악취 성분을 분해할 수 있다.Moreover, according to another embodiment which concerns on this invention, it can also forcibly create a condensation state and can increase the deodorization efficiency. That is, the first condensation absorbs odor components (eg, odors soluble in water such as trimethylamine) in the condensed water, and coagulates them. Then, the
<또 다른 실시형태><Another Embodiment>
도 16은 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 또 다른 실시형태를 도시한 사시도이며, 도 17은 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 또 다른 실시형태의 전극부 및 방폭기구를 도시한 단면도이다. FIG. 16 is a perspective view showing still another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention, and FIG. 17 is a cross-sectional view showing the electrode portion and the explosion-proof mechanism of another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
본 발명의 또 다른 실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)는, 대부분의 구성이 상기 일실시형태와 동일하거나 유사한 구성을 가지지만, 한쌍의 전극(21),(22)을 지지하는 케이스(25)가 도 18에 도시한 것처럼 대략 직사각형 테두리 형상을 이루는 것으로서, 그 길이 방향에 따른 측벽에서 한쌍의 전극(21),(22)에 의해 형성되는 측변 개구(2M)의 일부를 개방하도록 구성되어 있다. 아울러 도 18 및 도 19에는 방폭 기구(4)는 도시되어 있지 않다. In the
여기서 상기 일실시형태와 동일한 구성인 플라즈마 전극부(2), 송풍 기구(3), 방폭 기구(4), 전원(5) 및 코팅막(23)에 대해서는 중복설명은 생략하기로 한다.Here, the overlapping description of the
방폭기구(4)의 구성 중 하나인 보호 커버(41)는 케이스(25)의 상면 및 하면에 착탈 가능하게 설치될 수 있다.The
또 케이스(25)는, 도 18 및 도 19에 도시한 바와 같이 개구된 측변 개구(2M)에 대향하도록 벽체(251)을 가지고 있고, 이 벽체(251)에 의해 측변 개구(2M)와의 사이에 상하로 출입구를 가진 기체 유로(25x)가 형성된다.Moreover, the
구체적으로는, 케이스(25)의 길이 방향에 따른 좌우 한쌍의 측벽에 상면에서 하면으로 관통하는 관통 구멍(25h)이 형성되어 있고, 이 관통 구멍(25h)에 의해 기체 유로(25x)가 구성된다. 또 이 관통 구멍(25h)의 측벽에 의해 측변 개구(2M)에 대향하는 벽체(251)가 구성된다. 관통 구멍(25h)은, 도 18에 도시한 것처럼 길이 방향을 따라 연장되는 직선형의 장공(長孔)으로서, 본 실시형태에서는 각 측벽에 2개의 관통 구멍(25h)이 길이 방향을 따라 형성되어 있다. 그리고 이 관통 구멍(25h)에 의해 구성되는 기체 유로(25x)에는 상기 송풍 기구(3)에 의해 생기는 바람(기체류)이 흘러 들어간다. 이로써 개방된 측변 개구(2M)에 바람이 흘러 한쌍의 전극(21),(22) 사이에 생긴 결로수의 증발을 촉진시킬 수 있다. 아울러 관통 구멍(25h)의 형상 및 수는 상기에 한정되지 않으며 적절히 변경 가능하다.Specifically, a through
이와 같이 구성한 플라즈마 발생 장치(100)는 냉장고의 수납공간 안에서 바람직하게 사용할 수 있다. 냉장고의 수납공간 안은, 도 11에 도시한 바와 같이 제상(除霜) 운전시에 고습도 상태가 되어 전극(21),(22)간에 결로가 쉽게 생기거나 또는 수분이 쉽게 부착된다. 이에 반해 본 실시형태의 플라즈마 발생 장치(100)는, 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a) 표면에 발수성 코팅막(23)을 설치하였기 때문에 결로나 수분 부착이 잘 발생하지 않는다. 또 한쌍의 전극(21),(22)의 좌우 한쌍의 측변에서 측변 개구(2M)를 개방하였기 때문에 결로가 발생해도 그 결로수를 증발시킬 수 있고, 스페이서(24)에 의해 전극(21),(22)간의 거리를 크게 하였기 때문에 그 결로수가 전극(21),(22)간의 외부로 쉽게 빠진다.The
다음으로 이와 같이 구성한 본 실시형태의 플라즈마 발생 장치의 건조 성능을 확인하기 위해 냉장고내에 플라즈마 발생 장치를 부착하여 이온수를 측정하였다. 실험예로서, 측변 개구를 개방하지 않고 코팅막 및 스페이서를 마련하지 않은 플라즈마 발생 장치(No.1)와, 상술한 관통 구멍에 의해 측변 개구를 개방하고 코팅막 및 스페이서를 마련하지 않은 플라즈마 발생 장치(No.2)와, 측변 개구를 개방하지 않고 코팅막 및 스페이서를 마련한 플라즈마 발생 장치(No.3)와, 상술한 관통 구멍에 의해 측변 개구를 개방하고 코팅막 및 스페이서를 마련한 플라즈마 발생 장치(No.4)를 준비하였다. 이들 No.1?No.4의 이온수 측정 결과를 이하의 표 1에 나타낸다.Next, in order to confirm the drying performance of the plasma generator of this embodiment comprised in this way, the plasma generator was attached to the refrigerator and the ionized water was measured. As an experimental example, the plasma generating apparatus (No. 1) without opening the side openings and providing the coating film and the spacer, and the plasma generating device (No. .2), the plasma generating apparatus (No. 3) which provided the coating film and a spacer without opening a side opening, and the plasma generating apparatus (No. 4) which opened the side opening and provided the coating film and a spacer by the through-hole mentioned above. Was prepared. The ion number measurement results of these Nos. 1 to 4 are shown in Table 1 below.
상기 표 1의 실험 결과로부터, 한쌍의 전극의 측변 개구를 개방하지 않는 경우에는 코팅막 및 스페이서를 마련한 경우라 해도 냉장고안에서의 가동 일수가 증가함에 따라 이온수의 저하가 현저해진다는 것을 알 수 있었다(실험예No.1, No.3). 이에 반해 실험예No.2와 같이, 측변 개구를 개방시킴으로써 결로에 의해 초기 이온수의 저하를 최소화할 수 있게 된다는 것을 알 수 있다. 또한 실험예No.4와 같이, 측변 개구를 개방시킨 것에 코팅막 및 스페이서를 조합하면 더욱 효과적이 되어 냉장고와 같은 습도 변동이 크고 한쌍의 전극간에 결로가 생기기 쉬운 환경이라 해도 안정적으로 사용할 수 있게 된다는 것을 알 수 있다.From the results of the experiment in Table 1, it was found that when the side openings of the pair of electrodes were not opened, even when the coating film and the spacer were provided, the decrease in the ionized water became remarkable as the number of operating days in the refrigerator increased. Example No.1, No.3). On the other hand, as in Experimental Example No. 2, it can be seen that the opening of the side opening can minimize the decrease in the initial ionized water due to condensation. In addition, as in Experiment No. 4, it is more effective to combine the coating film and the spacer to open the side opening, so that it can be used stably even in an environment in which humidity fluctuation such as a refrigerator is large and condensation easily occurs between a pair of electrodes. Able to know.
<또 다른 실시형태의 효과><Effect of Another Embodiment>
이와 같이 구성한 본 발명에 따른 또 다른 실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)에 의하면, 대응하는 각 유체 관통 구멍(21b),(22b)에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많게 할 수 있고, 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부에 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. 또 케이스(25)가 한쌍의 전극(21),(22)에 의해 형성되는 측변 개구(2M)의 적어도 일부를 개방하였기 때문에 한쌍의 전극(21),(22)안에 생기는 결로수를 쉽게 증발시킬 수 있어 한쌍의 전극(21),(22)안에 결로수가 축적되는 것을 방지할 수 있다. 이로써 유전체막(21a),(22a)의 건조 성능을 향상시킬 수 있어 플라즈마의 발생을 안정화시켜 활성종의 생성량을 안정화시킬 수 있다.According to the
<기타 변형 실시형태><Other Modified Embodiments>
아울러 본 발명은 상기 실시형태들로 한정되지는 않는다.In addition, the present invention is not limited to the above embodiments.
예를 들면 상기 일실시형태에서는 코팅막을 각 전극의 유전체막에 마련하였으나, 어느 한쪽의 유전체막에 마련한 경우에도 효과를 나타낸다.For example, in the above-described embodiment, the coating film is provided on the dielectric film of each electrode, but the effect is also obtained when provided on either dielectric film.
그리고, 상기 다른 실시형태에서는 또 발열체를 설치하는 부위로서는, 상기 실시형태와 같이 전극의 내부에 한정되지 않으며, 예를 들면 도 20에 도시한 것처럼, 유전체막(21a),(22a)의 표면에 설치되는 스페이서(24)를 발열체에 의해 구성해도 좋다. 이 경우, 스페이서(24)의 구성 및 발열체의 구성을 공통으로 할 수 있기 때문에 전극 구성을 간단화함과 동시에 전극(21),(22)의 가열과 함께 해당 가열에 의한 수분의 증발을 촉진시킬 수 있다.In addition, in the said other embodiment, as a site | part which provides a heat generating body, it is not limited to the inside of an electrode like the said embodiment, For example, as shown in FIG. 20, on the surfaces of the
또한 도 21에 도시한 것처럼, 전극(21),(22)을 구성하는 스테인레스 강판상에 절연체막(25)을 형성하고, 이 절연체막(25)위에 발열체(6)을 형성하고, 이 발열체(6)위에 유전체막(21a),(22a)을 형성해도 좋다. 즉, 전극(21),(22) 및 유전체막(21a),(22a) 사이에 발열체(6)를 설치해도 좋다. 이렇게 되면 전극(21),(22)안에 발열체(6)를 설치하기 위한 전극 가공이 불필요하다.In addition, as shown in FIG. 21, an
또 유전체막(21a),(22a)의 표면 일부에 플라즈마 발생량을 충분히 확보할 수 있을 정도로 발열체를 설치하도록 해도 좋다.In addition, the heat generating element may be provided on a part of the surface of the
덧붙여 도 22에 도시한 것처럼, 플라즈마 전극부(2)의 한쌍의 전극(21),(22)을 지지하는 케이싱(상기 실시형태에서는 보호 커버(41))의 표면 또는 내부에 발열체(6)를 설치하여 전극(21),(22) 및 유전체막(21a),(22a)을 가열하도록 해도 좋다. 이렇게 되면, 전극(21),(22) 또는 유전체막(21a),(22a)에 발열체(6)를 설치하는 구성보다 장치 구성을 간단하게 함과 동시에 그 제조도 간단하게 할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 22, the
추가하여 도 23에 도시한 것처럼, 전극 표면 또는 내부에 도체막 패턴(P)를 만들어 해당 도체막 패턴(P)에 고주파 전압을 인가함으로써 전극(21),(22)을 유도 가열함으로써 유전체막(21a),(22a)를 가열하도록 해도 좋다.In addition, as shown in FIG. 23, the conductive film pattern P is formed on or inside the electrode to apply a high frequency voltage to the conductive film pattern P, thereby inducing and heating the
더 추가하여 도 24에 도시한 것처럼, 가열 운전시에, 통상 운전시에 한쌍의 전극(21),(22)에 인가하는 펄스 전압보다 큰 펄스 전압을 한쌍의 전극(21),(22)에 인가함으로써 플라즈마를 발생시켜 가열하도록 해도 좋다. 아울러 이 경우 오존의 발생량이 증가되기 때문에 발생한 오존을 분해하는 촉매를 설치하는 등의 방도가 필요하다.In addition, as shown in FIG. 24, in the heating operation, a pulse voltage larger than the pulse voltage applied to the pair of
또한, 상기 또 다른 실시형태의 케이스(25)에는, 상하로 출입구를 가진 기체 유로(25x) 외에, 도 25에 도시한 것처럼 측변 개구(2M)에 대향하는 벽체(251)에 관통 구멍(251a)을 만들어 기체 유로를 형성해도 좋다. 이렇게 하면 불꽃의 전파를 막으면서도 측변 개구(2M)에 의해 많은 바람을 보낼 수 있다.Moreover, in the
또 상기 또 다른 실시형태의 케이스(25)에는 상하로 출입구를 가진 기체 유로(25x)를 형성하였는데, 도 26에 도시한 것처럼, 케이스(25)의 측벽에서 측변 개구(2M)에 대응하여 측방으로 개구된 기체 유로(25y)를 형성해도 좋다. 이로써 또한 측변 개구(2M)에 바람을 보낼 수 있어 유전체막(21a),(22a)의 건조 성능을 향상시킬 수 있다.In the
또 도 27에 도시한 것처럼, 상기 케이스(25)가 한쌍의 전극(21),(22)의 선단부 및 후단부를 지지하고, 전극(21),(22)의 좌우측 단부를 지지하지 않도록 구성해도 좋다. 이렇게 하면 좌우측변의 측변 개구(2M) 거의 전체를 개방할 수 있어 유전체막(21a),(22a)의 건조 성능을 한층 더 향상시킬 수 있다. 그밖에 케이스(25)를, 한쌍의 전극(21),(22)의 네모퉁이부를 지지하도록 하여 좌우측변 및 전후측변의 측변 개구(2M) 거의 전체를 개방시켜도 좋다.In addition, as shown in FIG. 27, the
또한 상기 케이스 또는 한쌍의 전극 내부에 발열체를 설치해도 좋다. 이로써 측변 개구를 개방하여 결로수의 증발을 촉진시키는 효과에 추가하여, 발열체의 가열 효과에 의해 결로수의 증발을 더욱 촉진시킬 수 있어 유전체막을 보다 단시간에 건조시킬 수 있다. 특히 냉장고 등 전자제품 등의 경우 습도 센서나 온도 센서 등의 센서와 연동시키면 최소한의 에너지로 효율적으로 발열체를 가동시킬 수 있게 된다.In addition, a heating element may be provided inside the case or the pair of electrodes. As a result, in addition to the effect of opening the side opening to promote evaporation of the condensation water, the evaporation of the condensation water can be further promoted by the heating effect of the heating element, and the dielectric film can be dried in a shorter time. Particularly, in the case of electronic products such as refrigerators, interlocking with a sensor such as a humidity sensor or a temperature sensor enables the heating element to be efficiently operated with minimum energy.
또 상기 실시형태들에서는 전극(21)의 복수의 유체 유통 구멍(21b)이 동일 형상을 이루고, 또 전극(22)의 복수의 유체 유통 구멍(22b)이 동일 형상을 이루는 것이었으나, 각각 다른 형상을 이루는 것이어도 좋다.In the above embodiments, the plurality of fluid flow holes 21b of the
또 상기 실시형태들에서는 전극(21)의 모든 유체 유통 구멍(21b)이 전극(22)의 복수의 유체 유통 구멍(22b)보다 작게 또는 크게 형성되어 있는데, 전극(21)의 일부 유체 유통 구멍(21b)가 전극(22)의 유체 유통 구멍(22b)보다 작게 형성되어 있고, 기타 유체 유통 구멍(21b)가 전극(22)의 유체 유통 구멍(22b)보다 크게 형성되어 있어도 좋다.In the above embodiments, all the fluid flow holes 21b of the
또한 상기 실시형태들에서는 한쪽 전극(21) 또는 다른 쪽 전극(22) 중 어느 하나에 관통 구멍이 형성되어 있는데 둘 다에 관통 구멍(반개구부)를 형성하도록 해도 좋다.In the above embodiments, a through hole is formed in either one of the
아울러 상기 실시형태들에서는 유체 유통 구멍은 동일 단면 형상을 이루는 것이었으나, 기타 각 전극에 형성되는 유체 유통 구멍에 테이퍼면을 가진 것, 절구형 또는 밥공기형, 즉 한쪽 개구에서 다른 쪽 개구로 가면서 축소 또는 확대되는 것이어도 좋다.In addition, in the above embodiments, the fluid flow holes have the same cross-sectional shape, but the fluid flow holes formed in the respective electrodes have tapered surfaces, mortar or rice ball, that is, from one opening to the other opening. It may be reduced or enlarged.
추가하여 유체 유통 구멍은 원형 외에 타원형, 직사각형, 직선형 슬릿형, 동심원형 슬릿형, 파형 슬릿형, 초승달형, 빗등형, 벌집형 또는 별형이어도 좋다.In addition, the fluid flow holes may be oval, rectangular, straight slit, concentric slit, corrugated slit, crescent, comb, honeycomb, or star in addition to circular.
기타 본 발명은 상기 실시형태에 한정되지 않으며 그 취지를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형이 가능하다는 것은 말할 것도 없다.Others The present invention is not limited to the above embodiments, and needless to say that various modifications can be made without departing from the spirit thereof.
100…플라즈마 발생 장치
2…플라즈마 전극부
21…한쪽 전극
22…다른 쪽 전극
21a,22a…유전체막
21b,22b…유체 유통 구멍
23…코팅막
24…스페이서
25…케이스
3…송풍 기구
6…발열체100... Plasma generator
2… Plasma electrode
21 ... One electrode
22... The other electrode
21a, 22a... Dielectric film
21b, 22b... Fluid distribution hole
23 ... Coating film
24 ... Spacer
25... case
3 ... Blower
6 ... Heating element
Claims (57)
상기 케이스가, 상기 한쌍의 전극에 의해 형성되는 측변 개구의 적어도 일부를 개방하는 플라즈마 발생 장치.The case according to any one of claims 1 to 7, wherein each of the electrodes is provided with a case for supporting the pair of electrodes while providing a fluid flow hole in each of the corresponding portions to penetrate them.
And the case opens at least a part of side openings formed by the pair of electrodes.
상기 케이스가, 상기 한쌍의 전극에 의해 형성되는 측변 개구의 적어도 일부를 개방하는 플라즈마 발생 장치.A pair of electrodes having a dielectric film provided on at least one of the opposing surfaces, and a plasma discharged by applying a predetermined voltage between the electrodes; A case for supporting the pair of electrodes,
And the case opens at least a part of side openings formed by the pair of electrodes.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/371,997 US9220162B2 (en) | 2011-03-09 | 2012-02-13 | Plasma generating apparatus and plasma generating method |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011052234A JP2012190623A (en) | 2011-03-09 | 2011-03-09 | Plasma generating device and plasma generating method |
JPJP-P-2011-052233 | 2011-03-09 | ||
JP2011052233A JP2012187225A (en) | 2011-03-09 | 2011-03-09 | Plasma generating apparatus and plasma generating method |
JPJP-P-2011-052234 | 2011-03-09 | ||
JP2011093103A JP2012226949A (en) | 2011-04-19 | 2011-04-19 | Plasma generation device and plasma generation method |
JPJP-P-2011-093103 | 2011-04-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120103415A true KR20120103415A (en) | 2012-09-19 |
KR101954850B1 KR101954850B1 (en) | 2019-03-06 |
Family
ID=47111522
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110109432A KR101954850B1 (en) | 2011-03-09 | 2011-10-25 | Plasma generating system and plasma generating method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101954850B1 (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150030225A (en) * | 2015-02-13 | 2015-03-19 | 한국기계연구원 | Active species generator comprising flexible materials layer |
WO2018124676A1 (en) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 한국기초과학지원연구원 | Plasma device used in humid environment |
WO2019066113A1 (en) * | 2017-09-29 | 2019-04-04 | 한국기계연구원 | Flexible active species generator and use thereof |
KR20190083116A (en) * | 2018-01-03 | 2019-07-11 | 강경두 | Sterilizer using plasma and plasma generator |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11884426B2 (en) * | 2020-07-08 | 2024-01-30 | Hamilton Sundstrand Corporation | Compression apparatus and methods of making and using the same |
EP4265278A1 (en) * | 2022-04-21 | 2023-10-25 | Elbiotech Sp. z o.o. | Device for sterilization and disinfection of items |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002220674A (en) * | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Kobe Steel Ltd | Plasma cvd apparatus |
JP2005272957A (en) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Konica Minolta Holdings Inc | Surface treatment method and base material surface-treated by the surface treatment method |
JP2009078266A (en) * | 2007-09-09 | 2009-04-16 | Kazuo Shimizu | Fluid cleaning method and apparatus using plasma |
JP2009081134A (en) * | 2007-09-09 | 2009-04-16 | Kazuo Shimizu | Plasma electrode |
WO2009081911A1 (en) * | 2007-12-25 | 2009-07-02 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Ion discharge device |
WO2009091065A1 (en) * | 2008-01-18 | 2009-07-23 | Kyocera Corporation | Plasma generator, and discharge device and reaction device using the plasma generator |
-
2011
- 2011-10-25 KR KR1020110109432A patent/KR101954850B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002220674A (en) * | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Kobe Steel Ltd | Plasma cvd apparatus |
JP2005272957A (en) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Konica Minolta Holdings Inc | Surface treatment method and base material surface-treated by the surface treatment method |
JP2009078266A (en) * | 2007-09-09 | 2009-04-16 | Kazuo Shimizu | Fluid cleaning method and apparatus using plasma |
JP2009081134A (en) * | 2007-09-09 | 2009-04-16 | Kazuo Shimizu | Plasma electrode |
WO2009081911A1 (en) * | 2007-12-25 | 2009-07-02 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Ion discharge device |
WO2009091065A1 (en) * | 2008-01-18 | 2009-07-23 | Kyocera Corporation | Plasma generator, and discharge device and reaction device using the plasma generator |
US20100320916A1 (en) * | 2008-01-18 | 2010-12-23 | Kyocera Corporation | Plasma Generator and Discharge Device and Reactor Using Plasma Generator |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150030225A (en) * | 2015-02-13 | 2015-03-19 | 한국기계연구원 | Active species generator comprising flexible materials layer |
WO2018124676A1 (en) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 한국기초과학지원연구원 | Plasma device used in humid environment |
WO2019066113A1 (en) * | 2017-09-29 | 2019-04-04 | 한국기계연구원 | Flexible active species generator and use thereof |
US11540380B2 (en) | 2017-09-29 | 2022-12-27 | Korea Institute Of Materials Science | Flexible active species generator and use thereof |
KR20190083116A (en) * | 2018-01-03 | 2019-07-11 | 강경두 | Sterilizer using plasma and plasma generator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101954850B1 (en) | 2019-03-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101860719B1 (en) | Plasma generation method and apparatus | |
KR20120103415A (en) | Plasma generating system and plasma generating method | |
US20120229029A1 (en) | Plasma generating apparatus and plasma generating method | |
JP3438054B2 (en) | Ion generator | |
KR101892967B1 (en) | Sanitization device using electrical discharge | |
JP5714955B2 (en) | Air conditioner | |
KR20120065224A (en) | Deodorization and sterilization apparatus and method | |
KR20170068232A (en) | Plasma electrode device, method of manufacturing the same and air conditioner | |
JP2013170792A (en) | Air conditioner with humidifying function, and method of operating the same | |
JP4070546B2 (en) | ION GENERATOR AND ION GENERATOR HAVING THE SAME | |
JPWO2013051730A1 (en) | Plasma generator | |
KR20130118903A (en) | Plasma generator, and plasma generating method | |
JP2004105517A (en) | Ion generating element, method for producing the same, ion generator, and electric appliance with the generator | |
KR100535705B1 (en) | Humidification apparatus having plasma discharger with three dimensional cell structure and method thereof | |
WO2013077396A1 (en) | Plasma generating device | |
JP2013174391A (en) | Air conditioner and operation method of air conditioner | |
JP2012226949A (en) | Plasma generation device and plasma generation method | |
JP2012190623A (en) | Plasma generating device and plasma generating method | |
JP2005038616A (en) | Ion generating device, and electric apparatus equipped with the same | |
JP2014120312A (en) | Plasma generator | |
JP2004164900A (en) | Ion generating element, and ion generating device equipped with the same | |
JP2012187225A (en) | Plasma generating apparatus and plasma generating method | |
JP3847105B2 (en) | Electrical equipment with an ion generator | |
JP4721804B2 (en) | Ion generator and electrical apparatus equipped with the same | |
KR100600757B1 (en) | Surface discharge type air cleaning device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |