KR101954850B1 - Plasma generating system and plasma generating method - Google Patents

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Abstract

활성종의 생성량을 늘림과 동시에 유전체막에 결로나 수분 부착이 잘 발생하지 않도록 한다. 대향면의 적어도 한쪽에 유전체막을 설치한 한쌍의 전극을 가지고, 그들 전극간에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것으로서, 상기 유전체막의 표면에 코팅막이 설치되어 있다.Thereby increasing the amount of active species generated and preventing moisture and moisture from adhering to the dielectric film. A coating film is provided on a surface of the dielectric film, having a pair of electrodes provided with a dielectric film on at least one side of the opposing face, and applying a predetermined voltage between the electrodes to perform plasma discharge.

Description

플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 발생 방법{PLASMA GENERATING SYSTEM AND PLASMA GENERATING METHOD}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a plasma generating apparatus and a plasma generating method,

본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 발생 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma generating apparatus and a plasma generating method.

최근 아토피, 천식, 알레르기 증상 보유자의 증대나 신종 인플루엔자의 폭발적인 유행 등으로 나타나는 감염성의 리스크 증대 등에 의해 살균이나 탈취 등 생활환경의 공기질 제어 요구가 높아지고 있다. 또 생활이 풍족해짐에 따라 보관 식품의 양 증대나 먹다 남은 식품의 보관 기회가 증가하고 있어 냉장고로 대표되는 보관 기기내의 환경 제어도 중요성이 높아지고 있다.Recently, there has been an increasing demand for control of air quality in living environments such as sterilization and deodorization due to an increase in risk of infectious diseases such as an increase in atopy, asthma, allergic symptoms, or an explosive epidemic of a new influenza virus. As the life becomes more abundant, the chances of increasing the amount of stored food and storing the leftover food are increasing, and the environmental control in the storage device represented by the refrigerator is also becoming more important.

생활환경의 공기질 제어를 목적으로 하는 종래 기술은, 필터로 대표되는 물리적 제어가 일반적이다. 물리적 제어는, 공기중에 부유하는 비교적 큰 먼지나 티끌, 필터 구멍의 크기에 따라서는 세균이나 바이러스 등도 포획할 수 있다. 또 활성탄과 같이 무수한 흡착 사이트가 있는 경우에는 악취의 악취 분자도 포획 가능하다. 그러나 포획하기 위해서는 제어 대상의 공간내 공기를 모조리 필터에 통과시킬 필요가 있어 장치가 대형화되어 필터 교환 등의 유지 비용도 많아진다는 난점이 있는 데다가 부착물에 대해서는 효과가 없다. 그래서 부착물에 대해 살균이나 탈취를 가능하게 하는 수단으로서, 화학적 활성종을 살균이나 탈취하고자 하는 공간에 방출하는 것을 들 수 있다. 약품의 살포나 방향제, 소취제의 방출시에는 사전에 활성종을 준비해야 하므로 정기적인 보충이 불가결하다. 그에 대해 대기중에 플라즈마를 발생시키고 거기에서 생성되는 화학적 활성종을 이용하여 살균이나 탈취를 시도하는 수단이 최근 증가하고 있다.In the prior art aiming at air quality control in the living environment, physical control represented by a filter is generally used. Physical control can also capture bacteria and viruses, depending on the size of relatively large dust and dirt floating in the air, and the size of the filter hole. If there are innumerable adsorption sites such as activated carbon, odorous odor molecules can be captured. However, in order to trap the air, it is necessary to pass the air in the space of the control object to all the filters, and there is a problem that the size of the device becomes large and the maintenance cost such as the filter exchange increases. Thus, as means for enabling sterilization or deodorization of the deposit, it is possible to release the chemically active species into a space to be sterilized or deodorized. Regular replenishment is essential as it requires preparation of active species before spraying of medicines, perfume and deodorant. In recent years, a means for generating a plasma in the atmosphere and attempting sterilization or deodorization using the chemically active species generated there has been increasing in recent years.

대기중에 플라즈마를 방전에 의해 발생시키고 거기에서 생성된 이온이나 래디컬(이하, 활성종)에 의해 살균이나 탈취를 하는 기술은 다음 2가지 형식으로 분류할 수 있다.Techniques for generating plasma by discharging in the atmosphere and sterilizing or deodorizing by ions or radicals (hereinafter, active species) generated therefrom can be classified into the following two types.

(1)대기중에 부유하는 균이나 바이러스(이하, 부유균), 또는 악취 물질(이하, 악취)을 장치내의 제한된 용적내에서 활성종과 반응시키는, 이른바 수동형 플라즈마 발생 장치(예를 들면, 특허문헌 1)(1) a so-called passive plasma generating apparatus in which bacteria or virus floating in the atmosphere (hereinafter referred to as "floating bacteria") or a malodorous substance (hereinafter referred to as a malodor) are reacted with active species within a limited volume of the apparatus One)

(2)플라즈마 발생부에서 생성된 활성종을 (1)보다 용적이 큰 폐쇄 공간(예를 들면, 거실, 화장실, 승용차의 차내 등)에 방출하여 대기중의 활성종과 부유균이나 악취와의 충돌에 의해 반응시키는, 이른바 능동형 플라즈마 발생 장치(예를 들면, 특허문헌 2)(2) The active species generated in the plasma generating unit are released into a closed space (for example, in a car of a living room, a toilet, or a passenger car) having a volume larger than (1) A so-called active plasma generating apparatus (for example, Patent Document 2)

(1)의 수동형 플라즈마 발생 장치의 이점은, 소용적내에서 플라즈마를 발생시켜 고농도의 활성종이 생성되기 때문에 높은 살균 효과 및 탈취 효과가 기대된다. 반면 결점으로서는, 부유균이나 악취를 장치내에 도입할 필요가 있기 때문에 장치가 대형화되고 또 플라즈마 발생에 따른 부생성물로서 오존이 발생하기 쉽고, 오존을 장치 밖으로 누설시키지 않기 위해 흡착 또는 분해하는 필터를 별도로 설치할 필요가 있다.An advantage of the passive plasma generating apparatus of the first embodiment is that a high concentration of active species is generated by generating a plasma in a small area, so that a high sterilizing effect and a deodorizing effect are expected. On the other hand, as a drawback, since it is necessary to introduce airborne bacteria or odor into the apparatus, it is necessary to introduce a filter which adsorbs or decomposes in order to make the apparatus larger and to easily generate ozone as a by- It needs to be installed.

다음으로, (2)의 능동형 플라즈마 발생 장치의 이점은, 장치를 비교적 작게 할 수 있으며 부유균의 살균이나 공기중의 악취 분해 뿐만 아니라 의류나 생활 용품의 표면에 부착된 균(이하, 부착균)의 살균이나 표면에 흡착된 악취의 분해도 기대할 수 있는 점이다. 반면 결점으로서는, 활성종이 장치의 부피에 비해 지나치게 큰 폐쇄 공간내에 확산되어 농도가 낮아지기 때문에 수명이 긴 활성종에만 살균이나 탈취 효과를 기대할 수 밖에 없다는 점이다. 그 결과 악취 농도가 높은 공간(활성종 농도에 대해 1만배 정도 높은 농도)에서는 탈취 효과를 거의 기대할 수 없게 된다.Next, the advantage of the active plasma generating apparatus of (2) is that the apparatus can be made relatively small, and the bacteria adhering to the surface of clothes or household goods (hereinafter referred to as adherent bacteria) as well as sterilization of airborne bacteria, And decomposition of odor adsorbed on the surface can be expected. On the other hand, the disadvantage is that since the concentration is lowered in the closed space which is excessively larger than the volume of the active paper apparatus, the sterilizing or deodorizing effect can be expected only in the active species having a long lifetime. As a result, the deodorizing effect can hardly be expected in a space having a high odor concentration (a concentration about 10,000 times higher than the concentration of active species).

이상으로, 수동형 플라즈마 발생 장치에서는 해당 장치에 유입되는 공기류에 포함되는 부유균이나 악취에 대해서만 효과가 한정되고, 능동형 플라즈마 발생 장치에서는 농도가 낮은 부유균, 부착균, 악취에 대한 효과 외에는 기대할 수 없다. 즉, 종래 기술을 이용하여 실현할 수 있는 것은, 「부유균의 살균과 탈취」 혹은 「농도가 낮은 부유균, 부착균의 살균 및 부착 악취의 탈취」 중 어느 하나로 한정되게 된다.Thus, in the passive type plasma generating apparatus, the effect is limited only to the airborne bacteria and odor contained in the airflow flowing into the apparatus, and in the active plasma generating apparatus, the effect on the floating airborne bacteria, none. That is, what can be realized by using the conventional technique is limited to any one of "disinfection and deodorization of floating bacteria" or "deodorization of airborne microorganisms, adherent bacteria, and attached odors".

또 플라즈마 발생부를 구성하는 전극에서는, 전극의 플라즈마 발생 부위에 예를 들면 다공질의 유전체막을 사용하는 경우가 많고, 따라서 고습도하에서는 유전체막 자체의 흡습 작용 때문에 전기적 특성이 변화되어 플라즈마의 발생을 저해시킨다. 특히 냉장고와 같이 저온이면서 습도가 크게 변화되는 환경에서는 전극의 유전체막 자체가 결로되기 쉬워 플라즈마의 발생이 멈추고 살균, 탈취 성능이 저하된다. 따라서 냉장고 내부가 고습도 상태가 계속되면 살균 성능을 유지하기 어렵다.Further, in the electrode constituting the plasma generating section, for example, a porous dielectric film is often used at the plasma generation site of the electrode. Therefore, under high humidity, the electrical characteristics are changed due to the moisture absorption function of the dielectric film itself, thereby inhibiting the generation of plasma. Particularly, in an environment where the humidity is largely changed at a low temperature like a refrigerator, the dielectric film itself of the electrode tends to become dewy, so plasma generation stops, and sterilization and deodorization performance are lowered. Therefore, it is difficult to maintain the sterilizing performance if the inside of the refrigerator continues to be in a high humidity condition.

선행기술문헌Prior art literature

특허문헌 1 일본특개2002-224211호 공보Patent Document 1: JP-A-2002-224211

특허문헌 2 일본특개2003-79714호 공보Patent Document 2: JP-A-2003-79714

그래서 본 발명은, 부착균의 살균과 탈취 모두를 동시에 실현하는 기술이며, 플라즈마를 발생시켜 활성종에 의해 탈취하는 수동형 기능과, 그 활성종을 장치 바깥으로 방출하여 부착균을 살균하는 능동형 기능 2가지를 동시에 겸비시키기 위해 활성종의 생성량을 늘림과 동시에 유전체막에 결로나 수분 부착이 발생하지 않도록 하는 것을 주된 소기 과제로 하는 것이다.Therefore, the present invention is a technique for realizing both sterilization and deodorization of adherent bacteria at the same time, and is a passive function for generating plasma and deodorizing by active species, and an active function 2 for sterilizing adherent bacteria by discharging the active species out of the device It is a principal task to increase the amount of active species generated and to prevent condensation or moisture from adhering to the dielectric film.

또한, 본 발명은 유전체막의 건조 성능을 향상시킴으로써 플라즈마의 발생을 안정화시킴으로써 활성종의 생성량을 안정화시키는 것을 과제로 하는 것이다.Another object of the present invention is to stabilize the generation of plasma by improving the drying performance of the dielectric film, thereby stabilizing the amount of active species produced.

본 발명에 관한 일실시예로서 플라즈마 발생 장치는, 대향면의 적어도 한쪽에 유전체막을 설치한 한쌍의 전극을 가지고, 그들 전극간에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것으로서, 상기 유전체막의 표면에 코팅막이 설치되어 있다.In one embodiment of the present invention, a plasma generating apparatus has a pair of electrodes provided with a dielectric film on at least one side of an opposing surface, and a predetermined voltage is applied between the electrodes to perform plasma discharge. A coating film is provided on the surface of the dielectric film .

이러한 것이라면, 유전체막의 표면에 코팅막을 마련하였기 때문에 유전체막에 결로 및 수분 부착이 잘 발생하지 않아, 예를 들면 냉장고내의 고습도하에서도 살균 성능을 저하시키는 것을 방지하여 살균 성능을 장기간 발휘시킬 수 있다. 또 각 전극이 대응하는 부분에 각각 유체 유통 구멍을 설치하여 이들이 관통하도록 구성함으로써, 대응하는 각 유체 관통 구멍에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많게 할 수 있고, 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부로 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. 아울러 본 명세서에서 말하는 대응 부분이란, 전극의 면판 방향에서 보아 양쪽의 전극에 형성된 각 유체 유통 구멍이 실질적으로 같은 위치에 있는 것을 말하며, 직교 좌표계에서 z축 방향에서 xy평면형의 한쌍의 전극을 보았을 때 양쪽 전극에서 대략 동일한(x,y) 좌표 위치인 것을 말한다.If this is the case, since a coating film is provided on the surface of the dielectric film, condensation and moisture adherence do not occur in the dielectric film. For example, sterilization performance can be prevented from lowering even under high humidity in the refrigerator. In addition, by providing the fluid flow holes in the corresponding portions of the respective electrodes so as to allow them to pass through, the amount of plasma generated in each corresponding fluid through hole can be increased as much as possible and the contact area of the plasma and the fluid Can be greatly increased. As a result, the amount of active species such as ions and radicals can be increased, so that the active species can be deodorized and the active species can be released to the outside of the apparatus to sterilize airborne and adherent bacteria. The corresponding portions in the present specification mean that the respective fluid flow holes formed in both electrodes viewed from the face plate direction of the electrode are substantially at the same position. When a pair of electrodes of xy plane type in the z-axis direction in the orthogonal coordinate system are viewed (X, y) coordinate position on both electrodes.

상기 유전체막이 용사법에 의해 성막된 것인 경우, 그 성막된 유전체막은 다공질 또는 미세한 요철 구조를 갖기 때문에 습도 영향을 받기 쉬워 본 발명과 같이 코팅막을 마련하는 것의 효과가 더욱 현저해진다.In the case where the dielectric film is formed by the spraying method, since the formed dielectric film has a porous or fine concavo-convex structure, it is easily affected by humidity, so that the effect of providing a coating film as in the present invention becomes more remarkable.

플라즈마 발생 부위에서의 결로 및 수분 부착을 한층 더 방지하기 위해서는, 상기 코팅막이 발수성인 것이 바람직하다.In order to further prevent condensation and water adhesion at the plasma generation site, it is preferable that the coating film is water repellent.

상기 코팅막의 두께가 0.01㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하다. 여기에서 코팅막을 100㎛ 이상으로 하면 유전체막 자신의 물성이 손상되고 또 유전체막의 표면에 형성된 요철이 매몰되어 플라즈마 발생 효과가 저하된다.The thickness of the coating film is preferably 0.01 m or more and 100 m or less. If the thickness of the coating film is 100 mu m or more, the physical properties of the dielectric film itself are impaired, and the irregularities formed on the surface of the dielectric film are buried, thereby deteriorating the plasma generating effect.

상기 한쌍의 전극 사이에 500㎛이하의 두께를 가진 스페이서를 갖는 것이 바람직하다. 이렇게 하면 전극간의 거리를 크게 할 수 있어 탈취 반응장을 크게 할 수 있기 때문에 악취의 탈취 효율을 향상시킬 수 있다. 또 스페이서에 의해 전극간의 거리를 크게 하였기 때문에 수분 부착이 일어나더라도 미세한 물방울이라 전극 사이에서 외부로 쉽게 빼낼 수 있다. 여기에서 스페이서의 형성 방법으로서는, 증착법, CVD법(Chemical Vapor Deposition), 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 박막 형성 방법 혹은 도금법, 용사법, 스프레이 코팅, 스핀 코팅법, 도포법 등을 생각할 수 있다.And a spacer having a thickness of 500 mu m or less is preferably provided between the pair of electrodes. By doing so, the distance between the electrodes can be increased, and the deodorization reaction field can be increased, so that the deodorization efficiency of the odor can be improved. In addition, since the distance between the electrodes is increased by the spacers, even if water adhesion occurs, fine droplets can easily be taken out from the electrodes to the outside. Here, examples of the method for forming the spacer include a thin film forming method such as a vapor deposition method, a CVD (Chemical Vapor Deposition), a sputtering method, and an ion plating method, or a plating method, a spraying method, a spray coating method, a spin coating method and a coating method.

스페이서에서의 결로 및 수분 부착을 방지하기 위해서는 상기 스페이서의 표면에 코팅막이 설치되어 있는 것이 바람직하다.In order to prevent condensation and moisture adhesion in the spacer, it is preferable that a coating film is provided on the surface of the spacer.

유체가 효율적으로 유체 유통 구멍을 통과하도록 하여 활성종의 발생을 촉진시킴과 동시에 탈취 효과를 증대시키기 위해서는 상기 유체 유통 구멍을 향해 강제적으로 바람을 보내는 송풍 기구를 갖는 것이 바람직하다.It is preferable to have a blowing mechanism for forcibly blowing the fluid toward the fluid flow hole in order to facilitate the generation of the active species by allowing the fluid to pass efficiently through the fluid flow hole and to increase the deodorizing effect.

여기에서 상기 송풍 기구에 의해 상기 유체 유통 구멍을 통과시키는 바람의 유속을 0.1m/s 이상 30m/s이하의 범위내로 하는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the flow velocity of the wind passing through the fluid flow hole by the blowing mechanism is within a range of 0.1 m / s to 30 m / s.

유체 관통 구멍을 통과한 유체에 포함되는 활성종의 수를 가급적 증대시킴과 동시에 발생하는 오존의 농도를 억제하기 위해서는 상기 각 전극에 인가하는 전압을 펄스 형상으로 하고, 그 피크치를 100V이상 5000V이하의 범위내로 하고, 또한 펄스폭을 0.1μ초 이상 300μ초 이하의 범위내로 하는 것이 바람직하다.In order to increase the number of active species contained in the fluid passing through the fluid through hole as much as possible and to suppress the concentration of ozone generated, the voltage to be applied to each electrode is set to a pulse shape and its peak value is set to 100V or more and 5000V or less And the pulse width is preferably within a range of 0.1 占 퐏 ec to 300 占 퐏 ec.

그리고, 본 발명에 따른 다른 실시예로서 플라즈마 발생 장치는, 대향면의 적어도 한쪽에 유전체막을 설치한 한쌍의 전극을 가지고, 그들 전극간에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것으로서, 상기 전극 또는 상기 유전체막에 발열체가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a plasma generating apparatus comprising a pair of electrodes provided with a dielectric film on at least one side of an opposing surface, and a predetermined voltage is applied between the electrodes to perform plasma discharge, Is provided with a heating element.

이러한 것이라면, 전극 또는 유전체막에 발열체를 설치하였기 때문에 전극 또는 유전체막에 결로 및 수분 부착이 잘 발생하지 않고 또 전극 또는 유전체막에 결로 또는 부착된 수분을 제거할 수 있다. 예를 들면 냉장고내의 고습도하에서도 살균 성능을 저하시키는 것을 방지하여 살균 성능을 장기간 발휘시킬 수 있다. 만에 하나 유전체막의 표면에 결로가 생겨 플라즈마 발생이 저해되더라도 발열체를 발열시킴으로써 유전체막을 건조시킬 수 있어 플라즈마 발생을 재개할 수 있다. 또한 전극 또는 유전체막에 발열체를 설치함으로써 그것들을 직접 가열하기 때문에 전극 또는 유전체막의 가열 시간을 단축할 수 있을 뿐만 아니라 복사나 간접적인 가열보다 에너지를 절약할 수 있다. 그 뿐 아니라 발열체에 의해 전극 또는 유전체막을 가열하기 때문에 악취 성분의 탈취 반응의 반응열을 공급할 수 있어 탈취 반응을 촉진할 수 있다. 또 각 전극이 대응하는 부분에 각각 유체 유통 구멍을 설치하여 이들이 관통하도록 구성함으로써 대응하는 각 유체 관통 구멍에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많게 할 수 있어 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부로 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. If this is the case, since a heating element is provided in the electrode or the dielectric film, condensation and moisture adherence do not occur in the electrode or the dielectric film, and moisture condensed or attached to the electrode or the dielectric film can be removed. It is possible to prevent the sterilizing performance from being lowered even under high humidity in the refrigerator, for example, and to exhibit the sterilizing performance for a long time. Even if condensation occurs on the surface of the dielectric film and the plasma generation is inhibited, the dielectric film can be dried by heating the heating element, so that plasma generation can be resumed. In addition, by providing a heating element in an electrode or a dielectric film, the heating time of the electrode or the dielectric film can be shortened because energy is directly heated, and energy can be saved more than radiation or indirect heating. In addition, since the electrode or the dielectric film is heated by the heating element, it is possible to supply the reaction heat of the deodorization reaction of the odor component, thereby promoting the deodorization reaction. In addition, by providing the fluid flow holes in the corresponding portions of the respective electrodes so as to penetrate them, the amount of plasma generated in each corresponding fluid through hole can be increased as much as possible, and the contact area between the plasma and the fluid is made as large as possible . As a result, the amount of active species such as ions and radicals can be increased, so that the active species can be deodorized and the active species can be released to the outside of the apparatus to sterilize airborne and adherent bacteria.

여기에서 플라즈마 전극부에 발열체를 설치하는 구체적인 실시형태로서는, 상기 전극의 내부에 발열체를 설치하는 것, 상기 전극과 상기 유전체막 사이에 발열체를 설치하는 것, 상기 유전체막의 내부에 발열체를 설치하는 것, 상기 유전체막의 표면 일부에 발열체를 설치하는 것을 들 수 있다.As a specific embodiment in which a heating element is provided in the plasma electrode portion, a heating element is provided inside the electrode, a heating element is provided between the electrode and the dielectric film, a heating element is provided inside the dielectric film And providing a heating element on a part of the surface of the dielectric film.

또 본 발명에 관한 플라즈마 발생 장치는, 대향면의 적어도 한쪽에 유전체막을 설치한 한쌍의 전극을 가지고, 그들 전극간에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것으로서, 상기 한쌍의 전극을 지지하는 케이싱을 가지고, 해당 케이싱에 상기 전극 또는 상기 유전체막을 가열하는 발열체가 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.A plasma generating apparatus according to the present invention has a pair of electrodes provided with a dielectric film on at least one side of an opposing surface and a predetermined voltage is applied between the electrodes to perform plasma discharge and has a casing for supporting the pair of electrodes, And a heating element for heating the electrode or the dielectric film is provided in the casing.

이러한 것이라면, 케이싱에 발열체를 설치하여 상기 전극 및 유전체막을 가열함으로써 유전체막에 결로 및 수분 부착이 잘 발생하지 않게 되고 또 유전체막에 결로 또는 부착된 수분을 제거할 수 있다.If this is the case, by providing a heating element in the casing and heating the electrode and the dielectric film, condensation and adhesion of moisture to the dielectric film are prevented from occurring, and condensation or moisture adhering to the dielectric film can be removed.

외부에 설치되는 부재나 유전체막의 내열 온도로부터 상기 발열체의 발열 온도가 150℃이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the heating temperature of the heating element is 150 DEG C or less from the heat resistance temperature of the member or the dielectric film provided outside.

플라즈마 발생 부위에서의 결로 및 수분 부착을 방지함과 동시에 결로 또는 수분을 쉽게 증발시켜 살균 성능 및 탈취 성능의 저하를 방지하기 위해서는 상기 유전체막의 표면상에 코팅막이 설치되어 있는 것이 바람직하다. 이 때 상기 코팅막이 발수성(소수성)인 것이 특히 바람직하다. 아울러 소수성 코팅막을 사용함으로써 해당 막에 소수성을 가진 악취 성분을 쉽게 흡착할 수 있어 탈취 효율을 향상시킬 수 있다.It is preferable that a coating film is provided on the surface of the dielectric film in order to prevent condensation and adhesion of water at the plasma generation site and to easily evaporate condensation or moisture to prevent deterioration of sterilizing performance and deodorization performance. At this time, it is particularly preferable that the coating film is water repellent (hydrophobic). In addition, by using the hydrophobic coating film, it is possible to easily adsorb the malodorous component having hydrophobicity to the membrane, thereby improving the deodorization efficiency.

상기 코팅막의 두께가 0.01㎛이상 100㎛이하인 것이 바람직하다. 여기에서 코팅막을 100㎛이상으로 하면 유전체막 자체의 물성이 손상되고 또 유전체막의 표면에 형성된 요철이 매몰되어 플라즈마 발생 효과가 저하된다.The thickness of the coating film is preferably 0.01 m or more and 100 m or less. If the thickness of the coating film is 100 mu m or more, the physical properties of the dielectric film itself are impaired, the irregularities formed on the surface of the dielectric film are buried, and the plasma generating effect is lowered.

상기 한쌍의 전극 사이에 500㎛이하의 두께를 가진 스페이서를 갖는 것이 바람직하다. 이렇게 하면 전극간의 거리를 크게 할 수 있어 탈취 반응장을 크게 할 수 있기 때문에 악취의 탈취 효율을 향상시킬 수 있다. 또 스페이서에 의해 전극간의 거리를 크게 하였기 때문에 수분 부착이 일어나더라도 미세한 물방울이라 전극 사이에서 외부로 쉽게 빼낼 수 있다. 여기에서 스페이서의 형성 방법으로서는, 증착법, CVD법(Chemical Vapor Deposition), 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 박막 형성 방법 혹은 도금법, 용사법, 스프레이 코팅, 스핀 코팅법, 도포법 등을 생각할 수 있다.And a spacer having a thickness of 500 mu m or less is preferably provided between the pair of electrodes. By doing so, the distance between the electrodes can be increased, and the deodorization reaction field can be increased, so that the deodorization efficiency of the odor can be improved. In addition, since the distance between the electrodes is increased by the spacers, even if water adhesion occurs, fine droplets can easily be taken out from the electrodes to the outside. Here, examples of the method for forming the spacer include a thin film forming method such as a vapor deposition method, a CVD (Chemical Vapor Deposition), a sputtering method, and an ion plating method, or a plating method, a spraying method, a spray coating method, a spin coating method and a coating method.

유체가 효율적으로 유체 유통 구멍을 통과하도록 하여 활성종의 발생을 촉진시킴과 동시에 탈취 효과를 증대시키기 위해서는 상기 유체 유통 구멍을 향해 강제적으로 바람을 보내는 송풍 기구를 갖는 것이 바람직하다. 또 강제적으로 바람을 보냄으로써 결로 또는 부착된 수분의 증발을 촉진할 수도 있다.It is preferable to have a blowing mechanism for forcibly blowing the fluid toward the fluid flow hole in order to facilitate the generation of the active species by allowing the fluid to pass efficiently through the fluid flow hole and to increase the deodorizing effect. It may also promote the evaporation of condensation or adhering moisture by forcing the wind.

유체 관통 구멍을 통과한 유체에 포함되는 활성종의 수를 가급적 증대시킴과 동시에 발생하는 오존의 농도를 억제하기 위해서는 상기 각 전극에 인가하는 전압을 펄스 형상으로 하고, 그 피크치를 100V이상 5000V이하의 범위내로 하고, 또한 펄스폭을 0.1μ초 이상 300μ초 이하의 범위내로 하는 것이 바람직하다.In order to increase the number of active species contained in the fluid passing through the fluid through hole as much as possible and to suppress the concentration of ozone generated, the voltage to be applied to each electrode is set to a pulse shape and its peak value is set to 100V or more and 5000V or less And the pulse width is preferably within a range of 0.1 占 퐏 ec to 300 占 퐏 ec.

또한, 본 발명에 따른 또 다른 실시예로서 플라즈마 발생장치는, 대향면의 적어도 한쪽에 유전체막을 설치한 한쌍의 전극을 가지고, 그들 전극간에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것으로서, 각 전극이 대응하는 부분에 각각 유체 유통 구멍을 설치하여 이들이 관통하도록 구성함과 동시에, 상기 한쌍의 전극을 지지하는 케이스를 구비하고, 상기 케이스가 상기 한쌍의 전극에 의해 형성되는 측변 개구의 적어도 일부를 개방하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a plasma generating apparatus comprising a pair of electrodes provided with a dielectric film on at least one side of an opposing surface, and a predetermined voltage is applied between the electrodes to perform plasma discharge, And a case for supporting the pair of electrodes, characterized in that the case opens at least a part of a side opening formed by the pair of electrodes .

이러한 것이라면, 케이스가 한쌍의 전극에 의해 형성되는 측변 개구의 적어도 일부를 개방하였기 때문에 한쌍의 전극내에 생기는 결로수를 쉽게 증발시킬 수 있어 한쌍의 전극내에 결로수가 축적되는 것을 방지할 수 있다. 이로써 유전체막의 건조 성능을 향상시킬 수 있고 플라즈마의 발생을 안정화시켜 활성종의 생성량을 안정화시킬 수 있다.In this case, since the case opens at least a part of the side openings formed by the pair of electrodes, the condensation water generated in the pair of electrodes can be easily evaporated, and condensation water can be prevented from accumulating in the pair of electrodes. This can improve the drying performance of the dielectric film and stabilize the generation of plasma to stabilize the amount of active species produced.

아울러 한쌍의 전극의 측변 개구 전체를 케이스로 덮음으로써 측변 개구를 막은 경우, 한쌍의 전극내에서 생기는 결로수 중 유체 연통 구멍 근방의 유전체막은 건조시킬 수 있었으나, 한쌍의 전극의 주변부 등 다른 부분은 개방되어 있지 않기 때문에 건조 성능이 현저하게 나쁘다. 본 발명은, 전극의 측변 개구를 개방시킴으로써 유체 유통 구멍 근방의 유전체막뿐만 아니라 다른 부분의 유전체막을 건조할 수 있다.When the side openings are closed by covering the entire side openings of the pair of electrodes with the case, the dielectric film in the vicinity of the fluid communication holes in the condensed water generated in the pair of electrodes can be dried. However, The drying performance is remarkably poor. By opening the side openings of the electrode, the dielectric film in the vicinity of the fluid flow hole as well as the dielectric film in the other part can be dried.

또, 각 전극이 대응하는 부분에 각각 유체 유통 구멍을 설치하여 이들이 관통하도록 구성함으로써, 대응하는 각 유체 관통 구멍에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많게 할 수 있고, 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부로 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. In addition, by providing the fluid flow holes in the portions corresponding to the respective electrodes so as to pass through them, the amount of plasma generated in each corresponding fluid through hole can be increased as much as possible, and the contact area between the plasma and the fluid It can be as large as possible. As a result, the amount of active species such as ions and radicals can be increased, so that the active species can be deodorized and the active species can be released to the outside of the apparatus to sterilize airborne and adherent bacteria.

개방된 측변 개구에 기체가 통과하기 쉽도록 개방된 측변 개구에서 수분이 쉽게 빠지도록 하기 위해서는, 상기 케이스가 상기 개방된 측변 개구에 대향하는 벽체를 가지고, 상기 측변 개구와 상기 벽체 사이에 기체 유로를 형성하는 것인 것이 바람직하다. 또 측변 개구에 대향하여 벽체를 설치함으로써 측변 개구 근방의 플라즈마에 의해 생긴 불꽃이 외부로 전파되는 것을 방지할 수도 있다.It is preferable that the case has a wall opposed to the open side opening so that the gas flow path is formed between the side open side and the wall so as to allow moisture to easily fall through the open side side opening, Or the like. Further, by providing a wall facing the side opening, it is possible to prevent the flame generated by the plasma in the vicinity of the side opening from being propagated to the outside.

상기 기체 유로를 간단한 구성으로 구성하기 위해서는, 상기 케이스의 측벽부에 상기 측변 개구와 연통하는 관통 구멍이 형성되어 있고, 해당 관통 구멍에 의해 상기 기체 유로가 형성되어 있는 것이 바람직하다.In order to construct the gas flow path with a simple structure, it is preferable that a through-hole communicating with the side-face opening is formed in a side wall portion of the case, and the gas flow path is formed by the through-

상기 한쌍의 전극의 전단 또는 후단에 송풍 기구를 설치하여 상기 개방된 측변 개구로 바람을 보내는 것인 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 개방된 측변 개구로 효율적으로 바람을 보낼 수 있어 측변 개구로부터 수분이 쉽게 빠져 유전체막의 건조 성능을 더욱 향상시킬 수 있다. 또 이 송풍 기구에 의해 유체가 효율적으로 유체 유통 구멍을 통과하게 되어 활성종의 발생을 촉진시킴과 동시에 탈취 효과를 증대시킬 수도 있다. 예를 들면 냉장고 등 전자제품 등의 경우, 습도 센서나 온도 센서 등의 센서와 연동시키면 최소한의 에너지로 효율적으로 송풍 기구를 가동시킬 수 있게 된다. 또 결로 상태는 인가 전압의 저하에 의해 검지 가능하기 때문에 송풍량을 조절하는 것도 유효하다.It is preferable that a blowing mechanism is provided at a front end or a rear end of the pair of electrodes and the wind is sent to the opened side openings. By doing so, it is possible to efficiently send the air through the open side opening, thereby allowing moisture to easily escape from the side opening and further improve the drying performance of the dielectric film. Moreover, the fluid can efficiently flow through the fluid flow hole by the blowing mechanism, thereby promoting the generation of active species and increasing the deodorizing effect. For example, in the case of an electronic product such as a refrigerator, if it is interlocked with a sensor such as a humidity sensor or a temperature sensor, the blower can be operated efficiently with a minimum energy. In addition, since the condensation state can be detected by the decrease of the applied voltage, it is also effective to adjust the blowing amount.

여기에서 상기 송풍 기구에 의해 상기 유체 유통 구멍을 통과시키는 바람의 유속을 0.1m/s이상 30m/s이하의 범위내로 하는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the flow velocity of the wind passing through the fluid flow hole by the blowing mechanism is within a range of 0.1 m / s to 30 m / s.

유전체막이 용사법에 의해 형성된 것인 경우, 그 표면에는 미세한 요철이 형성되고 이들이 대향함으로써 건조 성능이 현저하게 저하되는데, 본 발명과 같이 측변 개구를 개방시킴으로써 이 건조 성능의 저하를 방지할 수 있다.In the case where the dielectric film is formed by the spraying method, fine irregularities are formed on the surface thereof, and the drying performance is remarkably lowered by opposing them. However, by lowering the side openings as in the present invention, deterioration of the drying performance can be prevented.

플라즈마 발생 부위에서의 결로 및 수분 부착을 방지함과 동시에 결로 또는 수분을 쉽게 증발시켜 살균 성능 및 탈취 성능의 저하를 방지하기 위해서는, 상기 유전체막의 표면상에 코팅막이 설치되어 있는 것이 바람직하다. 이 때 상기 코팅막이 발수성(소수성)인 것이 특히 바람직하다. 아울러 소수성 코팅막을 사용함으로써 해당 막에 소수성을 가진 악취 성분을 쉽게 흡착할 수 있어 탈취 효율을 향상시킬 수 있다.It is preferable that a coating film is provided on the surface of the dielectric film in order to prevent condensation and moisture adhesion at the plasma generation site and to easily evaporate condensation or moisture to prevent the sterilization performance and the deodorization performance from deteriorating. At this time, it is particularly preferable that the coating film is water repellent (hydrophobic). In addition, by using the hydrophobic coating film, it is possible to easily adsorb the malodorous component having hydrophobicity to the membrane, thereby improving the deodorization efficiency.

상기 코팅막의 두께가 0.01㎛이상 100㎛이하인 것이 바람직하다. 여기에서 코팅막을 100㎛이상으로 하면 유전체막 자체의 물성이 손상되고 또 유전체막의 표면에 형성된 요철이 매몰되어 플라즈마 발생 효과가 저하된다.The thickness of the coating film is preferably 0.01 m or more and 100 m or less. If the thickness of the coating film is 100 mu m or more, the physical properties of the dielectric film itself are impaired, the irregularities formed on the surface of the dielectric film are buried, and the plasma generating effect is lowered.

상기 한쌍의 전극 사이에 500㎛이하의 두께를 가진 스페이서를 갖는 것이 바람직하다. 이렇게 하면 전극간의 거리를 크게 할 수 있어 탈취 반응장을 크게 할 수 있기 때문에 악취의 탈취 효율을 향상시킬 수 있다. 또 스페이서에 의해 전극간의 거리를 크게 하였기 때문에 수분 부착이 일어나더라도 미세한 물방울이라 전극 사이에서 외부로 쉽게 빼낼 수 있다. 여기에서 스페이서의 형성 방법으로서는, 증착법, CVD법(Chemical Vapor Deposition), 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 박막 형성 방법 혹은 도금법, 용사법, 스프레이 코팅, 스핀 코팅법, 도포법 등을 생각할 수 있다.And a spacer having a thickness of 500 mu m or less is preferably provided between the pair of electrodes. By doing so, the distance between the electrodes can be increased, and the deodorization reaction field can be increased, so that the deodorization efficiency of the odor can be improved. In addition, since the distance between the electrodes is increased by the spacers, even if water adhesion occurs, fine droplets can easily be taken out from the electrodes to the outside. Here, examples of the method for forming the spacer include a thin film forming method such as a vapor deposition method, a CVD (Chemical Vapor Deposition), a sputtering method, and an ion plating method, or a plating method, a spraying method, a spray coating method, a spin coating method and a coating method.

유체 관통 구멍을 통과한 유체에 포함되는 활성종의 수를 가급적 증대시킴과 동시에 발생하는 오존의 농도를 억제하기 위해서는 상기 각 전극에 인가하는 전압을 펄스 형상으로 하고, 그 피크치를 100V이상 5000V이하의 범위내로 하고, 또한 펄스폭을 0.1μ초 이상 300μ초 이하의 범위내로 하는 것이 바람직하다.In order to increase the number of active species contained in the fluid passing through the fluid through hole as much as possible and to suppress the concentration of ozone generated, the voltage to be applied to each electrode is set to a pulse shape and its peak value is set to 100V or more and 5000V or less And the pulse width is preferably within a range of 0.1 占 퐏 ec to 300 占 퐏 ec.

또 본 발명에 관한 플라즈마 발생 방법은, 대향면의 적어도 한쪽에 유전체막을 설치한 한쌍의 전극을 사용하여 그들 전극간에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전함으로써 상기 유전체막의 표면에 코팅막을 설치한 것을 특징으로 한다.A plasma generating method according to the present invention is characterized in that a pair of electrodes provided with a dielectric film on at least one of opposite surfaces is used and a coating film is provided on the surface of the dielectric film by applying a predetermined voltage between the electrodes and performing plasma discharge .

본 발명에 의하면, 활성종의 생성량을 늘림으로써 부착균의 살균과 탈취 모두를 동시에 실현함과 동시에 유전체막에 결로나 수분 부착이 잘 발생하지 않도록 하여 장기간에 걸쳐 살균 성능의 저하를 방지할 수 있다.According to the present invention, by increasing the amount of active species produced, it is possible to realize both sterilization and deodorization of adherent bacteria at the same time, and prevent condensation and water adhesion from occurring in the dielectric film and prevent deterioration of sterilization performance over a long period of time .

그리고, 본 발명에 의하면, 활성종의 생성량을 늘림으로써 부착균의 살균과 탈취 모두를 동시에 실현함과 동시에 유전체막에 결로 또는 부착된 수분을 제거함으로써 장기간에 걸쳐 살균 성능의 저하를 방지할 수 있다.According to the present invention, both the sterilization and deodorization of the adherent bacteria can be realized simultaneously by increasing the amount of active species produced, and at the same time, condensation or moisture adhering to the dielectric film can be removed, thereby preventing the deterioration of the sterilizing performance over a long period of time .

또한, 본 발명에 의하면, 활성종의 생성량을 늘림으로써 부착균의 살균과 탈취 모두를 동시에 실현함과 동시에 유전체막의 건조 성능을 향상시킴으로써 플라즈마의 발생을 안정화시켜 활성종의 생성량을 안정화시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, both the sterilizing and deodorization of the adherent bacteria can be realized simultaneously by increasing the amount of active species produced, and the generation of plasma can be stabilized by stabilizing the generation of active species by improving the drying performance of the dielectric film.

도 1은 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 일실시형태를 도시한 사시도이다.
도 2는 플라즈마 발생 장치의 작용을 도시한 모식도이다.
도 3은 전극부를 도시한 평면도이다.
도 4는 전극부 및 방폭 기구를 도시한 단면도이다.
도 5는 전극부의 대향면의 구성을 도시한 확대 단면도이다.
도 6은 유체 유통 구멍 및 관통 구멍을 모식적으로 도시한 부분 확대 평면도 및 단면도이다.
도 7은 이온수 밀도와 오존 농도와의 펄스폭 의존성을 도시한 도면이다.
도 8은 종래품 및 본 발명의 결로 싸이클과 이온수 밀도와의 관계를 도시한 도면이다.
도 9는 전극간 거리의 대소에 의한 탈취 효과의 차이를 도시한 개념도이다.
도 10은 탈취 성능에서의 스페이서 두께의 의존성을 도시한 도면이다.
도 11은 냉장고내의 온도 습도 변화의 일례이다.
도 12는 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 다른 실시형태를 도시한 사시도이다.
도 13은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 전극부 및 방폭 기구를 도시한 단면도이다.
도 14는 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 전극부의 대향면의 구성을 도시한 확대 단면도이다.
도 15는 발열체 형성 패턴의 일례를 도시한 평면도이다.
도 16은 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 또 다른 실시형태를 도시한 사시도이다.
도 17은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 전극부 및 방폭 기구를 도시한 단면도이다.
도 18은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 플라즈마 전극부의 평면도이다.
도 19은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 케이스의 구성을 주로 도시한 확대 단면도이다.
도 20은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 변형 실시형태의 전극부의 구성을 모식적으로 도시한 단면도이다.
도 21은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 변형 실시형태의 전극부의 구성을 모식적으로 도시한 단면도이다.
도 22는 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 변형 실시형태의 전극부의 구성을 모식적으로 도시한 사시도이다.
도 23은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 변형 실시형태의 도전체 패턴을 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 24는 본 발명의 플라즈마 발생장치의 다른 실시형태의 변형 실시형태의 전압 인가 패턴을 도시한 도면이다.
도 25는 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 변형 실시형태에서의 케이스의 구성을 주로 도시한 확대 단면도이다.
도 26은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 변형 실시형태에서의 케이스의 구성을 주로 도시한 확대 단면도이다.
도 27은 본 발명의 플라즈마 발생장치의 또 다른 실시형태의 변형 실시형태에서의 플라즈마 전극부의 평면도이다.
1 is a perspective view showing an embodiment of a plasma generating apparatus of the present invention.
2 is a schematic diagram showing the operation of the plasma generating apparatus.
3 is a plan view showing the electrode unit.
4 is a cross-sectional view showing an electrode portion and an explosion-proof mechanism.
5 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of the opposing surface of the electrode portion.
6 is a partially enlarged plan view and a cross-sectional view schematically showing the fluid flow hole and the through hole.
7 is a graph showing the dependence of the ion water density and the ozone concentration on the pulse width.
8 is a diagram showing the relationship between condensation cycles and ionized water density of the conventional product and the present invention.
Fig. 9 is a conceptual diagram showing the difference in deodorizing effect due to the magnitude of the distance between electrodes.
10 is a view showing the dependency of the spacer thickness on the deodorizing performance.
11 is an example of change in temperature and humidity in the refrigerator.
12 is a perspective view showing another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
13 is a cross-sectional view showing an electrode unit and an explosion-proofing mechanism of another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
Fig. 14 is an enlarged cross-sectional view showing the configuration of the opposing surface of the electrode portion of another embodiment of the plasma generating device of the present invention. Fig.
15 is a plan view showing an example of a heating element formation pattern.
16 is a perspective view showing still another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
17 is a cross-sectional view showing an electrode portion and an explosion-proofing mechanism of still another embodiment of the plasma generating device of the present invention.
18 is a plan view of a plasma electrode portion according to still another embodiment of the plasma generating device of the present invention.
19 is an enlarged cross-sectional view mainly showing the configuration of a case of another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
20 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an electrode portion of a modified embodiment of another embodiment of the plasma generating device of the present invention.
21 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of an electrode portion of a modified embodiment of another embodiment of the plasma generating device of the present invention.
Fig. 22 is a perspective view schematically showing a configuration of an electrode portion of a modified embodiment of another embodiment of the plasma generating device of the present invention. Fig.
23 is a plan view schematically showing a conductor pattern of a modified embodiment of another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
24 is a view showing a voltage application pattern of a modified embodiment of another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
25 is an enlarged cross-sectional view mainly showing a configuration of a case in a modified embodiment of another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
26 is an enlarged cross-sectional view mainly showing a configuration of a case in a modified embodiment of another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.
27 is a plan view of a plasma electrode portion in a modified embodiment of another embodiment of the plasma generating device of the present invention.

이하, 본 발명의 일실시형태에 대해서 도면을 참조하여 설명하기로 한다.DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

<일실시형태><Embodiment>

본 발명의 일실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)는, 예를 들면 냉장고, 세탁기, 의류 건조기, 청소기, 에어컨 또는 공기 청정기 등 가정 전자제품에 사용되는 것으로서, 해당 가정 전자제품의 내부 또는 외부 공기의 탈취나 그들 제품 내부 또는 외부의 부유균 또는 부착균을 살균하는 것이다.The plasma generating apparatus 100 according to an embodiment of the present invention is used in household electric appliances such as a refrigerator, a washing machine, a clothes dryer, a vacuum cleaner, an air conditioner or an air purifier, And sterilizing airborne bacteria or adherent bacteria inside or outside the products.

구체적으로 이것은, 도 1 및 도 2에 도시한 것처럼 마이크로 갭 플라즈마(Micro Gap Plasma)에 의해 이온이나 래디컬 등의 활성종을 생성시키는 플라즈마 전극부(2)와, 해당 플라즈마 전극부(2)의 외부에 설치되어 해당 플라즈마 전극부(2)에 강제적으로 바람(공기류)을 보내는 송풍 기구(3)와, 상기 플라즈마 전극부(2)의 외부에 설치되어 플라즈마 전극부(2)에서 생기는 불꽃이 외부에 전파되지 않도록 하는 방폭 기구(4) 및 전극부에 고전압을 인가하기 위한 전원(5)을 구비하고 있다.Specifically, this is accomplished by forming a plasma electrode part 2 for generating active species such as ions and radicals by micro gap plasma as shown in FIGS. 1 and 2, (3) installed on the plasma electrode part (2) for forcibly sending wind (air flow) to the plasma electrode part (2) And an electric power source 5 for applying a high voltage to the electrode portion.

이하, 각 부(2)∼(5)에 대해서 각 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, each of the units (2) to (5) will be described with reference to the respective drawings.

플라즈마 전극부(2)는, 도 2∼도 6에 도시한 것처럼 대향면에 유전체막(21a),(22a)을 설치한 한쌍의 전극(21),(22)을 가지고, 그들 전극(21),(22) 사이에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것이다. 각 전극(21),(22)은, 특히 도 3에 도시한 것처럼 평면시(平面視)에(전극(21),(22)의 면판 방향에서 보았을 때) 대략 직사각형을 이루는 것으로서, 예를 들면 SUS403이라는 스테인레스강으로 형성되어 있다. 아울러 전극부(2)의 전극(21),(22)의 테두리부에는 전원(5)으로부터의 전압이 인가되는 인가 단자(2T)가 형성되어 있다(도 3 참조).The plasma electrode portion 2 has a pair of electrodes 21 and 22 provided with dielectric films 21a and 22a on the opposing surfaces as shown in Figs. And 22 is applied with a predetermined voltage to perform plasma discharge. Each of the electrodes 21 and 22 has a substantially rectangular shape when viewed in a plan view (as viewed in a planar direction of the electrodes 21 and 22) as shown in FIG. 3, SUS403 stainless steel. An application terminal 2T to which a voltage from the power source 5 is applied is formed at the edges of the electrodes 21 and 22 of the electrode unit 2 (see FIG. 3).

여기에서 전원(5)에 의한 플라즈마 전극부(2)로의 전압 인가 방법은, 각 전극(21),(22)에 인가하는 전압을 펄스 형상으로 하고 그 피크치를 100V이상 5000V이하의 범위내로 하고, 또한 펄스폭을 0.1μ초 이상 또한 300μ초 이하의 범위내로 하였다. 도 7에 도시한 것처럼 펄스폭이 300μ초 이하에서 이온수 밀도가 측정되고 또한 오존 농도가 낮아져 펄스폭이 작아짐에 따라 이온수는 증가하고 오존 농도는 감소한다. 이로써 오존 발생량을 억제하여 플라즈마에서 생성된 활성종을 종래 기술에 자주 나타나는 필터 등으로 빠짐 없이 효율적으로 방출할 수 있고, 그 결과 부착균의 살균을 단시간에 실현할 수 있게 된다.The method of applying the voltage to the plasma electrode portion 2 by the power source 5 is such that the voltage to be applied to each of the electrodes 21 and 22 is a pulse shape and its peak value is within a range of 100 V to 5000 V, And the pulse width was set within a range of 0.1 초 to 300 초 sec. As shown in FIG. 7, the ion water density is measured when the pulse width is 300 μseconds or less, and the ion water increases and the ozone concentration decreases as the ozone concentration decreases and the pulse width decreases. As a result, the amount of generated ozone can be suppressed, and the active species generated in the plasma can be efficiently discharged to a filter or the like frequently appearing in the prior art. As a result, sterilization of the attached bacteria can be realized in a short time.

또 도 5에 도시한 것처럼, 전극(21),(22)의 대향면에는, 예를 들면 티탄산바륨 등의 유전체가 도포되어 유전체막(21a),(22a)이 형성되어 있다. 이 유전체막(21a),(22a)의 표면 거칠기(본 실시형태에서는 산출 평균 거칠기Ra)는 0.1㎛이상 100㎛이하이다. 기타 표면 거칠기로서는, 최대 높이Ry, 10점 평균 거칠기Rz를 사용하여 규정해도 좋다. 아울러 상기 유전체막(21a),(22a)의 표면 거칠기는 용사법에 의해 제어하는 것을 생각할 수 있다. 또 전극에 도포하는 유전체로서는, 산화알루미늄, 산화티타늄, 산화마그네슘, 티탄산스트론튬, 산화실리콘, 인산은, 티탄산지르콘산납, 실리콘카바이드, 산화인듐, 산화카드듐, 산화비스무트, 산화아연, 산화철, 카본나노튜브 등을 사용해도 좋다.5, dielectric films 21a and 22a are formed by applying a dielectric material such as barium titanate to the opposing surfaces of the electrodes 21 and 22, for example. The surface roughness (calculated average roughness Ra in this embodiment) of the dielectric films 21a and 22a is 0.1 占 퐉 or more and 100 占 퐉 or less. As the other surface roughness, the maximum height Ry and the 10-point average roughness Rz may be used. It is also conceivable that the surface roughness of the dielectric films 21a and 22a is controlled by a thermal spraying method. Examples of the dielectric substance to be applied to the electrode include aluminum oxide, titanium oxide, magnesium oxide, strontium titanate, silicon oxide, phosphoric acid silver, lead zirconate titanate, silicon carbide, indium oxide, cadmium oxide, bismuth oxide, A tube or the like may be used.

또한 도 3, 도 4 및 도 6에 도시한 것처럼, 각 전극(21),(22)의 대응하는 부분에 각각 유체 유통 구멍(21b),(22b)을 설치하여 이들이 연통하여 관통하도록 구성함과 동시에 전극(21),(22)의 면판 방향에서 보았을 때(평면시에), 대응하는 각 유체 관통 구멍(21b),(22b) 윤곽의 적어도 일부가 서로 다른 위치가 되도록 구성되어 있다. 즉, 한쪽 전극(21)에 형성된 유체 유통 구멍(21b)의 평면시 형상과, 다른 쪽 전극(22)에 형성된 유체 유통 구멍(22b)의 평면시 형상이 서로 다르도록 구성되어 있다.In addition, as shown in Figs. 3, 4, and 6, the fluid communication holes 21b and 22b are provided in the corresponding portions of the electrodes 21 and 22, respectively, At the same time, at least a part of the contours of the corresponding fluid through holes 21b, 22b are arranged at different positions when viewed from the face plate direction of the electrodes 21, 22 (in a plan view). That is, the shape of the fluid flow hole 21b formed in the one electrode 21 is different from the shape of the fluid flow hole 22b formed in the other electrode 22 in the plan view.

구체적으로는, 각 전극(21),(22)의 대응하는 부분에 각각 형성된 유체 유통 구멍(21b),(22b)은 평면시에 대략 원형상을 이루는 것으로서(도 3, 도 6 참조), 한쪽 전극(21)에 형성된 유체 유통 구멍(21b)의 개구 사이즈(개구 직경)가 다른 쪽 전극(22)에 형성된 유체 유통 구멍(22b)의 개구 사이즈(개구 직경)보다 작게(예를 들면 개구 직경이 10㎛이상 작게) 형성되어 있다.More specifically, the fluid flow holes 21b and 22b formed in the corresponding portions of the electrodes 21 and 22 are substantially circular in plan view (see FIGS. 3 and 6) The opening size (opening diameter) of the fluid communication hole 21b formed in the electrode 21 is smaller than the opening size (opening diameter) of the fluid communication hole 22b formed in the other electrode 22 10 mu m or smaller).

또 마찬가지로 도 3, 도 6에 도시한 것처럼, 한쪽 전극(21)에 형성된 유체 유통 구멍(21b)과 다른 쪽 전극(22)에 형성된 유체 유통 구멍(22b)은 동심원형으로 형성되어 있다. 아울러 본 실시형태에서는 한쪽 전극(21)에 형성된 복수개의 유체 유통 구멍(21b)은 전부 동일 형상을 이루고, 다른 쪽 전극(22)에 형성된 복수개의 유체 유통 구멍(22b)도 전부 동일 형상을 이루고, 한쪽 전극(21)에 형성된 유체 유통 구멍(21b) 전부가 다른 쪽 전극(22)에 형성된 유체 유통 구멍(22b)보다 작게 형성되어 있다. 본 실시예에서는 대략 원형상으로서 효과를 나타내었으나, 개구부는 원형뿐 아니라 어떠한 형태여도 좋고, 평면시에 대응하는 각 유체 관통 구멍 윤곽의 적어도 일부가 서로 다른 위치가 되도록 구성되어 있으면 된다.Likewise, as shown in Figs. 3 and 6, the fluid flow holes 21b formed in the one electrode 21 and the fluid flow holes 22b formed in the other electrode 22 are concentrically formed. In the present embodiment, the plurality of fluid communication holes 21b formed in the one electrode 21 have the same shape and the plurality of fluid communication holes 22b formed in the other electrode 22 have the same shape, All the fluid flow holes 21b formed in the one electrode 21 are formed to be smaller than the fluid flow holes 22b formed in the other electrode 22. [ In this embodiment, the effect is shown as a substantially circular shape. However, the opening may have any shape as well as a circular shape, and at least a part of the outline of each fluid through-hole corresponding to the flat state may be configured to be at a different position.

또한 각 전극(21),(22)에 형성된 유체 유통 구멍(21b),(22b)의 개구 총면적이 해당 각 전극(21),(22)의 총면적에 대해 2%이상 90%이하의 범위내이다. 구체적으로는, 다른 쪽 전극(22)에 형성된 유체 유통 구멍(22b)의 개구 총면적을 전극(22)의 총면적에 대해 2%이상 90%이하의 범위내로 하였다. 아울러 한쪽 전극(21)에 형성된 유체 유통 구멍(21b)의 개구 총면적을 2%이상 90%이하의 범위내로 해도 좋다.The total area of openings of the fluid flow holes 21b and 22b formed in each of the electrodes 21 and 22 is in the range of 2% to 90% of the total area of the respective electrodes 21 and 22 . Specifically, the total area of the openings of the fluid flow holes 22b formed in the other electrode 22 is set within a range of 2% or more and 90% or less with respect to the total area of the electrodes 22. The total area of the opening of the fluid communication hole 21b formed in the one electrode 21 may be within a range of 2% or more and 90% or less.

그리고 본 실시형태의 플라즈마 전극부(2)는, 도 3 및 도 6에 도시한 것처럼 유체 유통 구멍(21b),(22b)과는 별도로 한쪽 전극(21)에 관통 구멍(21c)을 마련하고 이 관통 구멍(21c)이 다른 쪽 전극(22)에 의해 그 대향면쪽 개구가 막히도록 구성되어 있다. 아울러 상기 각 전극(21),(22)에 형성된 유체 유통 구멍(21b),(22b)으로 이루어진 것을 이하, 완전 개구부라고 하는 경우가 있는데, 이것과의 비교에서 관통 구멍(21c)에 의해 형성되는 것은 반개구부라고 한다.The plasma electrode portion 2 of this embodiment is provided with a through hole 21c in one electrode 21 separately from the fluid flow holes 21b and 22b as shown in Figs. 3 and 6, And the through hole 21c is closed by the other electrode 22 so that the opposed-side opening is blocked. In addition, there is a case in which the fluid communication holes 21b and 22b formed in the respective electrodes 21 and 22 are hereinafter referred to as complete openings. In comparison with this, the through holes 21c It is called semi-openings.

관통 구멍(21c)의 개구 사이즈를 유체 유통 구멍(21b)의 개구 사이즈보다 10㎛이상 작게 형성하였다. 관통 구멍(21c)은 규칙적으로 설치된 유체 유통 구멍(21b)의 일부를 치환하여 형성되어 있으며, 관통 구멍(21c)은 유체 유통 구멍(21b) 주위에 설치되어 있다(도 3 참조).The opening size of the through hole 21c was formed to be smaller than the opening size of the fluid flow hole 21b by 10 mu m or more. The through hole 21c is formed by replacing a part of the regularly arranged fluid communication hole 21b and the through hole 21c is provided around the fluid communication hole 21b (see FIG. 3).

송풍 기구(3)는 상기 플라즈마 전극부(2)의 다른 쪽 전극(22)쪽에 배치되어 있으며, 플라즈마 전극부(2)에 형성된 유체 유통 구멍(21b),(22b)(완전 개구부)을 향해 강제로 바람을 보내는 송풍 팬을 가진 것이다. 구체적으로 이 송풍 기구(3)는 유체 유통 구멍(21b),(22b)을 통과시키는 바람의 유속을 0.1m/s이상 30m/s이하의 범위내로 하였다.The blowing mechanism 3 is disposed on the other electrode 22 side of the plasma electrode part 2 and is forced toward the fluid flow holes 21b and 22b (full opening part) formed in the plasma electrode part 2. [ With a blowing fan to send the wind. Specifically, the blowing mechanism 3 has a flow velocity of the air passing through the fluid communication holes 21b, 22b within a range of 0.1 m / s to 30 m / s.

방폭 기구(4)는, 도 4에 도시한 것처럼 한쌍의 전극(21),(22)의 바깥쪽에 배치된 보호 커버(41)를 가지고, 가연성 가스가 유체 유통 구멍(21b),(22b)에 유입되어 플라즈마에 의해 생긴 불꽃이 보호 커버(41)를 넘어 외부로 전파되지 않도록 구성된 것이다. 구체적으로 방폭 기구(4)는 그 보호 커버(41)가 한쌍의 전극(21),(22)의 바깥쪽에 배치된 금속 메쉬(411)를 가지고, 해당 금속 메쉬(411)의 선직경이 1.5mm이하의 범위내이고 또한 금속 메쉬(411)의 개구율이 30%이상이다.The explosion-proof mechanism 4 has a protective cover 41 disposed on the outside of the pair of electrodes 21 and 22 as shown in Fig. 4, and a flammable gas is supplied to the fluid flow holes 21b and 22b And the flame generated by the plasma is prevented from propagating to the outside beyond the protective cover 41. Specifically, the explosion-proof mechanism 4 has a protective cover 41 having a metal mesh 411 disposed outside the pair of electrodes 21 and 22, and the wire diameter of the metal mesh 411 is 1.5 mm And the opening ratio of the metal mesh 411 is 30% or more.

그런데 본 실시형태에서는, 도 5에 도시한 것처럼 각 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a)의 표면에 1층의 코팅막(23)이 설치되어 있다. However, in this embodiment, as shown in Fig. 5, a single-layer coating film 23 is provided on the surfaces of the dielectric films 21a and 22a of the electrodes 21 and 22, respectively.

코팅막(23)은 발수성이 있는 것으로서, 유리, 불소수지, 실리콘, 다이아몬드 라이크 카본(DLC), 불소 함유DLC, SiO2, ZrO2, TiO2, SrO2, MgO 중 어느 하나 또는 그 조합이다. 또 코팅막(23)은 유전체막(21a),(22a)의 상면에 거의 균일하게 성막하기 위해 증착법, CVD법(Chemical Vapor Deposition), 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 박막 형성 방법 혹은 도금법, 용사법, 스프레이 코팅, 스핀 코팅법, 도포법 등으로 형성된다.Coating film (23), is any of a glass, a fluorine resin, a silicone-containing diamond-like carbon (DLC), fluorinated DLC, SiO 2, ZrO 2, TiO 2, SrO 2, MgO, or a combination thereof as with a water repellent. The coating film 23 may be formed by a thin film forming method such as a vapor deposition method, a CVD method (Chemical Vapor Deposition), a sputtering method, or an ion plating method, or a plating method, a thermal spraying method, Spray coating, spin coating, coating or the like.

여기에서 코팅막(23)을 형성한 플라즈마 발생 장치(100)(본 발명)와 코팅막(23)을 형성하지 않은 플라즈마 발생 장치(종래품)에서의 결로 싸이클과 이온수 밀도와의 관계를, 도 8에 도시한다. 이 도 8로부터 알 수 있듯이 종래품에서는 결로 싸이클 2회째부터 서서히 이온수 밀도가 저하되는데, 본 발명에서는 결로 싸이클과 상관 없이 이온수 밀도가 저하되지 않는다는 것을 알 수 있다.8 shows the relationship between the dew condensation cycle and the ionized water density in the plasma generating apparatus 100 (in the present invention) in which the coating film 23 is formed and in the plasma generating apparatus (conventional apparatus) in which the coating film 23 is not formed Respectively. As can be seen from FIG. 8, in the conventional product, the ion water density gradually decreases from the second cycle of the condensation cycle. In the present invention, however, the ion water density is not lowered regardless of the dew condensation cycle.

또 본 실시형태의 전극(21),(22)은 절연체 재료로 이루어진 스페이서(24)에 의해 전극(21),(22) 사이에 소정 거리의 틈이 형성되어 있다. 스페이서(24)는, 도 3에 도시한 것처럼 전극(21),(22)의 주연부 여러 곳에 설치되어 있다. 아울러 스페이서의 위치는 도 3에 한정되지 않으며, 예를 들면 주연부 전체에 걸쳐 설치해도 좋고, 전극의 중앙부 등 유체 유통 구멍(21b),(22b) 및 관통 구멍(21c)을 막지 않는 임의의 위치에 설치해도 좋다. 이 스페이서(24)의 두께로서는 500㎛이하로 하는 것이 바람직하다. 500㎛보다 크게 하면 플라즈마를 발생시키기 위한 전압이 커져 오존이 쉽게 발생하기 때문이다. 또 스페이서(24)는 불소수지, 에폭시, 폴리이미드, 알루미나, 유리 중 어느 하나 또는 그 조합이다. 본 실시형태의 스페이서(24)는 상기 유전체막(21a),(22a)과 마찬가지로 용사법에 의해 형성된다. 보다 구체적으로는, 각 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a)상에 스페이서(24)가 되는 부재를 예를 들면 250㎛이하로 형성하고 그들을 중합시킴으로써 500㎛이하의 스페이서(24)가 되도록 하였다. 기타 한쪽 전극(21)(또는 전극(22))의 유전체막(21a)(유전체막(22a))에 스페이서(24)를 형성해도 좋다.The electrodes 21 and 22 of the present embodiment are formed with a gap of a predetermined distance between the electrodes 21 and 22 by the spacer 24 made of an insulator material. The spacers 24 are provided at various places on the periphery of the electrodes 21 and 22 as shown in Fig. The position of the spacer is not limited to that shown in Fig. 3, and may be provided over the entire circumference, for example, and may be set at any position that does not block the fluid flow holes 21b, 22b and the through holes 21c, It may be installed. The thickness of the spacer 24 is preferably 500 mu m or less. If it is larger than 500 mu m, the voltage for generating plasma becomes large, and ozone easily occurs. The spacer 24 may be any one of fluororesin, epoxy, polyimide, alumina, and glass, or a combination thereof. The spacer 24 of the present embodiment is formed by the spraying method in the same manner as the dielectric films 21a and 22a. More specifically, by forming the members to be spacers 24 on the dielectric films 21a, 22a of the respective electrodes 21, 22 to, for example, 250 mu m or less and polymerizing them, Thereby forming the spacer 24. The spacer 24 may be formed on the dielectric film 21a (dielectric film 22a) of the other electrode 21 (or the electrode 22).

본 실시형태의 코팅막(23)은, 유전체막(21a),(22a)을 용사법에 의해 성막하고, 해당 유전체막(21a),(22a)상에 스페이서(24)가 되는 부재를 용사법에 의해 형성한 후에 성막된다. 이로써 스페이서(24)도 코팅막(23)에 의해 덮히게 되어 스페이서(24)에 생기는 결로 및 수분 부착을 방지할 수 있다. 아울러 유전체막(21a),(22a)을 성막하여 코팅막(23)을 성막한 후에 스페이서(24)를 형성해도 좋다.The coating film 23 of the present embodiment is formed by forming the dielectric films 21a and 22a by the thermal spraying method and forming a member to be the spacer 24 on the dielectric films 21a and 22a by the spraying method The film is formed. As a result, the spacer 24 is also covered by the coating film 23, so that condensation and moisture adhesion to the spacer 24 can be prevented. The spacers 24 may be formed after the dielectric films 21a and 22a are formed and the coating film 23 is formed.

이와 같이 스페이서(24)를 마련함으로써 전극간 거리를 스페이서(24)의 두께만큼 크게 할 수 있어 도 9에 도시한 바와 같이 탈취반응장이 커져 공기와 플라즈마와의 접촉 부피가 커짐에 따라 탈취 효율이 향상된다. 여기에서 탈취 성능과 스페이서(24)의 두께 의존성에 대해서 도 10에 도시한다. 스페이서(24)를 마련하지 않은 경우의 탈취 효율이 20%인 데 반해 두께10㎛의 스페이서(24)를 마련한 경우의 탈취 효율은 30%, 20㎛에서는 32%, 50㎛에서는 최대 35%로서 탈취 효율이 향상되었다. 또 100㎛의 탈취 효율은 30%이고, 10㎛부터 100㎛까지는 탈취율의 향상이 현저하다. 또 스페이서(24)의 두께가 100㎛보다 커지면서 탈취 효율도 나빠지지만 500㎛까지는 20%이상이다. 반면 스페이서(24)의 두께가 500㎛를 초과하면 스페이서(24)를 마련하지 않은 경우보다 탈취 효율이 나빠져 바람직하지 않다.By providing the spacers 24 as described above, the distance between the electrodes can be increased by the thickness of the spacer 24, and as shown in FIG. 9, the deodorization reaction field becomes larger and the contact volume between the air and the plasma becomes larger. do. Here, the deodorization performance and the thickness dependency of the spacer 24 are shown in Fig. The deodorization efficiency in the case where the spacer 24 having no spacer 24 is 20%, the deodorization efficiency when the spacer 24 having a thickness of 10 μm is provided is 30%, 32% Efficiency was improved. Further, the deodorization efficiency of 100 탆 is 30%, and the improvement of the deodorization rate is remarkable from 10 탆 to 100 탆. Further, the thickness of the spacer 24 is larger than 100 mu m and the deodorization efficiency is worse, but it is 20% or more to 500 mu m. On the other hand, if the thickness of the spacer 24 exceeds 500 탆, the deodorization efficiency becomes worse than when the spacer 24 is not provided.

이와 같이 구성한 플라즈마 발생 장치(100)는 냉장고의 수납공간 안에서 바람직하게 사용할 수 있다. 냉장고의 수납공간 안은, 도 11에 도시한 바와 같이 제상(除霜) 운전시에 고습도 상태가 되어 전극(21),(22)간에 결로가 쉽게 생기거나 또는 수분이 쉽게 부착된다. 이에 반해 본 실시형태의 플라즈마 발생 장치(100)는, 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a) 표면에 발수성 코팅막(23)을 마련하였기 때문에 결로나 수분 부착이 잘 생기지 않는다. 또 스페이서(24)에 의해 전극(21),(22)간의 거리를 크게 하였기 때문에 가령 결로가 생긴다고 해도 그 결로수가 전극(21),(22)간의 외부로 쉽게 빠져나간다.The plasma generating apparatus 100 constructed as described above can be preferably used in a storage space of a refrigerator. The inside of the storage space of the refrigerator becomes a high humidity state at the time of defrosting operation as shown in Fig. 11, so that condensation easily occurs between the electrodes 21 and 22, or moisture easily adheres. On the other hand, in the plasma generating apparatus 100 of the present embodiment, since the water repellent coating film 23 is provided on the surfaces of the dielectric films 21a and 22a of the electrodes 21 and 22, Do not. Further, since the distance between the electrodes 21 and 22 is increased by the spacer 24, even if condensation occurs, the condensed water easily escapes to the outside between the electrodes 21 and 22.

<일실시형태의 효과>&Lt; Effects of one embodiment >

이와 같이 구성한 본 발명에 따른 일실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)에 의하면, 대응하는 각 유체 관통 구멍(21b),(22b)에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많게 할 수 있어 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부로 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. 또 유전체막(21a),(22a)의 표면에 발수성 코팅막(23)을 마련하였기 때문에 유전체막(21a),(22a)에 결로 및 수분 부착이 잘 일어나지 않아 예를 들면 냉장고내의 고습도하에서도 살균 성능을 저하시키는 것을 방지하여 살균 성능을 장기간 발휘시킬 수 있다.According to the plasma generating apparatus 100 according to the embodiment of the present invention configured as described above, the amount of plasma generated in the corresponding fluid through holes 21b, 22b can be increased as much as possible, It is possible to increase the contact area with the liquid. As a result, the amount of active species such as ions and radicals can be increased, so that the active species can be deodorized and the active species can be released to the outside of the apparatus to sterilize airborne and adherent bacteria. Also, since the water repellent coating film 23 is provided on the surfaces of the dielectric films 21a and 22a, condensation and moisture adherence do not occur well in the dielectric films 21a and 22a and, for example, even in the high humidity of the refrigerator, The sterilizing performance can be exerted for a long time.

<다른 실시형태><Other Embodiments>

도 12는 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 다른 실시형태를 도시한 사시도이며, 도 13은 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 다른 실시형태의 전극부 및 방폭기구를 도시한 단면도이다. FIG. 12 is a perspective view showing another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention, and FIG. 13 is a cross-sectional view showing an electrode section and an explosion proofing mechanism of another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.

본 발명의 다른 실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)는, 대부분의 구성이 상기 일실시형태와 동일하거나 유사한 구성을 가지지만, 도 14에 도시한 것처럼 전극(21),(22)의 내부에 발열체(6)가 매설됨과 동시에 각 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a)의 표면에 1층의 코팅막(23)이 설치되어 있다. The plasma generating apparatus 100 according to another embodiment of the present invention has the most or substantially the same configuration as that of the above embodiment, but as shown in Fig. 14, the electrodes 21 and 22 A coating film 23 of one layer is provided on the surfaces of the dielectric films 21a and 22a of the respective electrodes 21 and 22 while the heating element 6 is buried.

여기서 상기 일실시형태와 동일한 구성인 플라즈마 전극부(2), 송풍 기구(3), 방폭 기구(4), 전원(5) 및 코팅막(23)에 대해서는 중복설명은 생략하기로 한다.The description of the plasma electrode unit 2, the blowing mechanism 3, the explosion-proof mechanism 4, the power source 5 and the coating film 23, which are the same as those of the above embodiment, will not be repeated.

발열체(6)는, 도 14 및 도 15에 도시한 것처럼 저항 가열에 의해 전극(21),(22) 및 유전체막(21a),(22a)을 가열하는 것으로서, 전극(21)에서 유체 유통 구멍(21b) 및 관통 구멍(21c)을 제외한 부분에 형성된 오목부(21m)안에 배치되고, 전극(22)에서 유체 유통 구멍(22b)을 제외한 부분에 형성된 오목부(22m)에 배치되어 있다. 또 발열체(6)는, 그것들 오목부(21m),(22m)안에 절연체(7)에 의해 전극(21),(22)과 전기 절연된 상태에서 수용된다. 구체적으로 발열체(6)는, 예를 들면 Ni-Cr계 발열체, 이규화몰리브덴 발열체, 탄화규소 발열체, 흑연 발열체 등의 발열 저항체, 배리스터 소자, 적외선LED 중 어느 하나 또는 그 조합으로 이루어진다. 이 발열체(6)에는 전원(5) 등 외부의 전원에서 전력 공급됨으로써 발열한다. 또 발열체(6)의 발열 온도는 150℃이하로 하였다.The heating element 6 heats the electrodes 21 and 22 and the dielectric films 21a and 22a by resistance heating as shown in Figs. 14 and 15, Is disposed in the concave portion 21m formed in the portion excluding the through hole 21c and the through hole 21c and is disposed in the concave portion 22m formed in the portion of the electrode 22 other than the fluid communication hole 22b. The heat generating elements 6 are accommodated in the recessed portions 21m and 22m in a state of being electrically insulated from the electrodes 21 and 22 by the insulator 7 therein. Specifically, the heat generating element 6 is formed of any one or combination of a heat generating resistor, a varistor element, and an infrared LED, such as a Ni-Cr heat generating element, a molybdenum diatomic heat generating element, a silicon carbide heating element and a graphite heating element. The heat generating element 6 generates heat by being supplied with power from an external power source such as the power source 5. The exothermic temperature of the heat generating element 6 was set to 150 DEG C or lower.

이와 같이 구성한 플라즈마 발생 장치(100)는 냉장고의 수납공간 안에서 바람직하게 사용할 수 있다. 냉장고의 수납공간 안은, 도 11에 도시한 바와 같이 제상(除霜) 운전시에 고습도 상태가 되어 전극(21),(22)간에 결로가 쉽게 생기거나 또는 수분이 쉽게 부착된다. 이에 반해 본 실시형태의 플라즈마 발생 장치(100)는, 전극(21),(22)에 발열체(6)를 설치함으로써 전극(21),(22) 및 유전체막(21a),(22a)을 가열하기 때문에 결로 및 수분 부착을 쉽게 일으키지 않고 또 결로 및 수분 부착이 발생하더라도 그것들을 건조시킬 수 있다. 또 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a)의 표면에 발수성 코팅막(23)을 설치하고 스페이서(24)에 의해 전극(21),(22)간의 거리를 크게 함으로써 건조를 한층 더 촉진시킬 수 있어 살균 성능 및 탈취 성능의 저하를 줄일 수 있다. 발열체(6)의 온도는 냉장고내의 온도, 습도를 검지함으로써 최적의 온도 설정으로 사용할 수도 있다. 혹은 냉장고내의 컴프레서나 제상 히터 등의 동작과 연동하여 발열체(6)의 온도를 조정하거나, 혹은 발열체(6)의 온·오프를 제어하는 것도 유효하다. 또 발열체(6)의 동작은 플라즈마 발생 장치(100)의 동작 상태를 검지하여 제어할 수도 있다. 예를 들면 전극(21),(22)간의 인가 전압을 검지하여 인가 전압이 감소 경향이 있는 경우, 즉 플라즈마의 발생이 약해진 상태일 때 발열체(6)의 온도를 상승시킬 수도 있다.The plasma generating apparatus 100 constructed as described above can be preferably used in a storage space of a refrigerator. The inside of the storage space of the refrigerator becomes a high humidity state at the time of defrosting operation as shown in Fig. 11, so that condensation easily occurs between the electrodes 21 and 22, or moisture easily adheres. On the other hand, in the plasma generating apparatus 100 of the present embodiment, the electrodes 21 and 22 and the dielectric films 21a and 22a are heated by providing the heating elements 6 on the electrodes 21 and 22, It is possible to dry them even if condensation and moisture adherence do not easily occur and condensation and water adhesion are generated. The water repellent coating film 23 is provided on the surfaces of the dielectric films 21a and 22a of the electrodes 21 and 22 and the distance between the electrodes 21 and 22 is increased by the spacer 24 It is possible to further promote the sterilization performance and the deodorization performance. The temperature of the heat generating element 6 can be used as an optimum temperature setting by detecting the temperature and humidity in the refrigerator. It is also effective to control the temperature of the heating element 6 or to control the on / off of the heating element 6 in conjunction with the operation of the compressor or the defrost heater in the refrigerator. The operation of the heating element 6 can also be controlled by detecting the operation state of the plasma generating apparatus 100. [ The temperature of the heating element 6 may be raised when the voltage applied between the electrodes 21 and 22 is detected and the applied voltage tends to decrease, that is, when the generation of plasma is weak.

<다른 실시형태의 효과><Effects of Other Embodiments>

이와 같이 구성한 본 발명에 따른 다른 실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)에 의하면, 대응하는 각 유체 관통 구멍(21b),(22b)에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많이 할 수 있어 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부에 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. 또 전극(21),(22)에 발열체(6)를 설치함으로써 유전체막(21a),(22a)에 결로 및 수분 부착이 잘 발생하지 않게 되고 또 유전체막(21a),(22a)에 결로 또는 부착된 수분을 제거할 수 있다. 예를 들면 냉장고내의 고습도하에서도 살균 성능을 저하시키는 것을 방지하여 살균 성능을 장기간 발휘시킬 수 있다. 만에 하나 유전체막(21a),(22a)의 표면에 결로가 생겨 플라즈마 발생이 저해되어도 발열체(6)를 발열시킴으로써 유전체막(21a),(22a)을 건조시킬 수 있어 플라즈마 발생을 재개할 수 있다. 또한 전극(21),(22)에 발열체(6)를 설치함으로써 그것들을 직접 가열하기 때문에 유전체막(21a),(22a)의 가열 시간을 단축할 수 있을 뿐만 아니라 그 가열 에너지를 절약할 수 있다.According to the plasma generating apparatus 100 according to another embodiment of the present invention constructed as described above, the amount of plasma generated in each of the corresponding fluid through holes 21b, 22b can be increased as much as possible, It is possible to increase the contact area with the liquid. As a result, the amount of active species such as ions and radicals can be increased, so that the active species can be deodorized, and the active species can be released to the outside of the apparatus to sterilize airborne and adherent bacteria. Also, by providing the heating elements 6 on the electrodes 21 and 22, condensation and moisture adherence to the dielectric films 21a and 22a are not easily generated, and condensation or deformation on the dielectric films 21a and 22a The attached moisture can be removed. It is possible to prevent the sterilizing performance from being lowered even under high humidity in the refrigerator, for example, and to exhibit the sterilizing performance for a long time. It is possible to dry the dielectric films 21a and 22a by causing the heating element 6 to generate heat even if condensation occurs on the surfaces of the dielectric films 21a and 22a to prevent generation of plasma, have. Since the heating elements 6 are provided in the electrodes 21 and 22 to directly heat them, the heating time of the dielectric films 21a and 22a can be shortened and the heating energy can be saved .

또 본 발명에 따른 다른 실시형태에 의하면, 억지로 결로 상태를 만들어 탈취 효율을 증가시킬 수도 있다. 즉, 최초로 결로된 수분에 악취 성분(예를 들면 트리메틸아민 등 물에 녹기 쉬운 악취)을 흡수시킴과 동시에 응집시키고, 다음으로 전극(21),(22)을 가열하여 고전압으로 플라즈마를 발생시킴으로써 고효율로 악취 성분을 분해할 수 있다.Further, according to another embodiment of the present invention, the deodorization efficiency can be increased by creating a dew condensation state. In other words, the first moisture is absorbed and coagulated with malodorous components (for example, odor easily soluble in water such as trimethylamine), and then the electrodes 21 and 22 are heated to generate plasma at a high voltage, Can decompose odorous components.

<또 다른 실시형태><Another Embodiment>

도 16은 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 또 다른 실시형태를 도시한 사시도이며, 도 17은 본 발명의 플라즈마 발생 장치의 또 다른 실시형태의 전극부 및 방폭기구를 도시한 단면도이다. FIG. 16 is a perspective view showing still another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention, and FIG. 17 is a sectional view showing an electrode section and an explosion proofing mechanism of still another embodiment of the plasma generating apparatus of the present invention.

본 발명의 또 다른 실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)는, 대부분의 구성이 상기 일실시형태와 동일하거나 유사한 구성을 가지지만, 한쌍의 전극(21),(22)을 지지하는 케이스(25)가 도 18에 도시한 것처럼 대략 직사각형 테두리 형상을 이루는 것으로서, 그 길이 방향에 따른 측벽에서 한쌍의 전극(21),(22)에 의해 형성되는 측변 개구(2M)의 일부를 개방하도록 구성되어 있다. 아울러 도 18 및 도 19에는 방폭 기구(4)는 도시되어 있지 않다. The plasma generating apparatus 100 according to still another embodiment of the present invention has the same or similar structure as the above embodiment in most of the configurations, but the case 25 (see FIG. 1) supporting the pair of electrodes 21, Is formed in a substantially rectangular frame shape as shown in Fig. 18, and is configured to open a part of a side opening 2M formed by a pair of electrodes 21 and 22 on side walls along the longitudinal direction thereof . 18 and 19, the explosion-proof mechanism 4 is not shown.

여기서 상기 일실시형태와 동일한 구성인 플라즈마 전극부(2), 송풍 기구(3), 방폭 기구(4), 전원(5) 및 코팅막(23)에 대해서는 중복설명은 생략하기로 한다.The description of the plasma electrode unit 2, the blowing mechanism 3, the explosion-proof mechanism 4, the power source 5 and the coating film 23, which are the same as those of the above embodiment, will not be repeated.

방폭기구(4)의 구성 중 하나인 보호 커버(41)는 케이스(25)의 상면 및 하면에 착탈 가능하게 설치될 수 있다.The protection cover 41, which is one of the components of the explosion-proof mechanism 4, can be detachably installed on the upper and lower surfaces of the case 25. [

또 케이스(25)는, 도 18 및 도 19에 도시한 바와 같이 개구된 측변 개구(2M)에 대향하도록 벽체(251)을 가지고 있고, 이 벽체(251)에 의해 측변 개구(2M)와의 사이에 상하로 출입구를 가진 기체 유로(25x)가 형성된다.18 and 19, the case 25 has a wall 251 opposed to the opened side opening 2M, and the wall 251 is provided between the side wall opening 2M and the side wall opening 2M. A gas flow path 25x having upper and lower exit ports is formed.

구체적으로는, 케이스(25)의 길이 방향에 따른 좌우 한쌍의 측벽에 상면에서 하면으로 관통하는 관통 구멍(25h)이 형성되어 있고, 이 관통 구멍(25h)에 의해 기체 유로(25x)가 구성된다. 또 이 관통 구멍(25h)의 측벽에 의해 측변 개구(2M)에 대향하는 벽체(251)가 구성된다. 관통 구멍(25h)은, 도 18에 도시한 것처럼 길이 방향을 따라 연장되는 직선형의 장공(長孔)으로서, 본 실시형태에서는 각 측벽에 2개의 관통 구멍(25h)이 길이 방향을 따라 형성되어 있다. 그리고 이 관통 구멍(25h)에 의해 구성되는 기체 유로(25x)에는 상기 송풍 기구(3)에 의해 생기는 바람(기체류)이 흘러 들어간다. 이로써 개방된 측변 개구(2M)에 바람이 흘러 한쌍의 전극(21),(22) 사이에 생긴 결로수의 증발을 촉진시킬 수 있다. 아울러 관통 구멍(25h)의 형상 및 수는 상기에 한정되지 않으며 적절히 변경 가능하다.Specifically, through holes 25h penetrating from the upper surface to the lower surface are formed in a pair of right and left side walls along the longitudinal direction of the case 25, and the gas passage 25x is constituted by the through holes 25h . The side wall of the through hole 25h constitutes a wall 251 opposed to the side opening 2M. The through hole 25h is a linear long hole extending along the longitudinal direction as shown in Fig. 18, and in this embodiment, two through holes 25h are formed along the longitudinal direction on each side wall . A wind (gas flow) generated by the blowing mechanism 3 flows into the gas flow path 25x formed by the through hole 25h. As a result, the flow of wind through the open side opening 2M can promote the evaporation of the condensation water generated between the pair of electrodes 21, 22. In addition, the shape and the number of the through holes 25h are not limited to those described above, and can be appropriately changed.

이와 같이 구성한 플라즈마 발생 장치(100)는 냉장고의 수납공간 안에서 바람직하게 사용할 수 있다. 냉장고의 수납공간 안은, 도 11에 도시한 바와 같이 제상(除霜) 운전시에 고습도 상태가 되어 전극(21),(22)간에 결로가 쉽게 생기거나 또는 수분이 쉽게 부착된다. 이에 반해 본 실시형태의 플라즈마 발생 장치(100)는, 전극(21),(22)의 유전체막(21a),(22a) 표면에 발수성 코팅막(23)을 설치하였기 때문에 결로나 수분 부착이 잘 발생하지 않는다. 또 한쌍의 전극(21),(22)의 좌우 한쌍의 측변에서 측변 개구(2M)를 개방하였기 때문에 결로가 발생해도 그 결로수를 증발시킬 수 있고, 스페이서(24)에 의해 전극(21),(22)간의 거리를 크게 하였기 때문에 그 결로수가 전극(21),(22)간의 외부로 쉽게 빠진다.The plasma generating apparatus 100 constructed as described above can be preferably used in a storage space of a refrigerator. The inside of the storage space of the refrigerator becomes a high humidity state at the time of defrosting operation as shown in Fig. 11, so that condensation easily occurs between the electrodes 21 and 22, or moisture easily adheres. On the contrary, in the plasma generating apparatus 100 of the present embodiment, since the water repellent coating film 23 is provided on the surfaces of the dielectric films 21a and 22a of the electrodes 21 and 22, I never do that. Since the side openings 2M are opened at the pair of left and right side edges of the pair of electrodes 21 and 22, the condensed water can be evaporated even if condensation occurs, and the electrodes 21, Since the distance between the electrodes 21 and 22 is increased, the number of dew drops easily falls outside the electrodes 21 and 22.

다음으로 이와 같이 구성한 본 실시형태의 플라즈마 발생 장치의 건조 성능을 확인하기 위해 냉장고내에 플라즈마 발생 장치를 부착하여 이온수를 측정하였다. 실험예로서, 측변 개구를 개방하지 않고 코팅막 및 스페이서를 마련하지 않은 플라즈마 발생 장치(No.1)와, 상술한 관통 구멍에 의해 측변 개구를 개방하고 코팅막 및 스페이서를 마련하지 않은 플라즈마 발생 장치(No.2)와, 측변 개구를 개방하지 않고 코팅막 및 스페이서를 마련한 플라즈마 발생 장치(No.3)와, 상술한 관통 구멍에 의해 측변 개구를 개방하고 코팅막 및 스페이서를 마련한 플라즈마 발생 장치(No.4)를 준비하였다. 이들 No.1∼No.4의 이온수 측정 결과를 이하의 표 1에 나타낸다.Next, in order to confirm the drying performance of the plasma generating apparatus of the present embodiment constructed as described above, a plasma generator was attached to the refrigerator to measure ionized water. (No.1) in which a coating film and a spacer were not provided without opening the side openings and a plasma generator (No.1) in which side openings were opened by the above-mentioned through holes and a coating film and a spacer were not provided. A plasma generating apparatus No. 3 in which a side opening is opened by the above-mentioned through hole and a coating film and a spacer are provided, Were prepared. Table 1 below shows the results of measurement of the ionic water numbers Nos. 1 to 4.

Figure 112011083625336-pat00001
Figure 112011083625336-pat00001

상기 표 1의 실험 결과로부터, 한쌍의 전극의 측변 개구를 개방하지 않는 경우에는 코팅막 및 스페이서를 마련한 경우라 해도 냉장고안에서의 가동 일수가 증가함에 따라 이온수의 저하가 현저해진다는 것을 알 수 있었다(실험예No.1, No.3). 이에 반해 실험예No.2와 같이, 측변 개구를 개방시킴으로써 결로에 의해 초기 이온수의 저하를 최소화할 수 있게 된다는 것을 알 수 있다. 또한 실험예No.4와 같이, 측변 개구를 개방시킨 것에 코팅막 및 스페이서를 조합하면 더욱 효과적이 되어 냉장고와 같은 습도 변동이 크고 한쌍의 전극간에 결로가 생기기 쉬운 환경이라 해도 안정적으로 사용할 수 있게 된다는 것을 알 수 있다.From the results of the experiment in Table 1, it was found that when the side openings of the pair of electrodes are not opened, the decrease of the ionized water becomes remarkable as the number of days of operation in the refrigerator increases even if a coating film and a spacer are provided Yes No.1, No.3). On the other hand, as in Experimental Example No. 2, it can be seen that the decrease of the initial ionized water can be minimized by condensation by opening the side openings. Further, as in Experimental Example No. 4, it is more effective to combine the coating film and the spacer with the open side face opening, so that even in an environment where humidity fluctuation such as a refrigerator is large and condensation easily occurs between a pair of electrodes, Able to know.

<또 다른 실시형태의 효과>&Lt; Effect of another embodiment >

이와 같이 구성한 본 발명에 따른 또 다른 실시형태에 관한 플라즈마 발생 장치(100)에 의하면, 대응하는 각 유체 관통 구멍(21b),(22b)에서 발생하는 플라즈마의 양을 가급적 많게 할 수 있고, 이 플라즈마와 유체와의 접촉 면적을 가급적 크게 할 수 있다. 이로써 이온 및 래디컬이라는 활성종의 생성량을 증가시킬 수 있어 해당 활성종에 의해 탈취하는 기능과, 그 활성종을 장치 외부에 방출하여 부유균 및 부착균을 살균하는 기능을 충분히 발휘할 수 있게 된다. 또 케이스(25)가 한쌍의 전극(21),(22)에 의해 형성되는 측변 개구(2M)의 적어도 일부를 개방하였기 때문에 한쌍의 전극(21),(22)안에 생기는 결로수를 쉽게 증발시킬 수 있어 한쌍의 전극(21),(22)안에 결로수가 축적되는 것을 방지할 수 있다. 이로써 유전체막(21a),(22a)의 건조 성능을 향상시킬 수 있어 플라즈마의 발생을 안정화시켜 활성종의 생성량을 안정화시킬 수 있다.According to the plasma generating apparatus 100 according to another embodiment of the present invention constructed as described above, the amount of plasma generated in the corresponding fluid through holes 21b, 22b can be increased as much as possible, The contact area between the fluid and the fluid can be increased as much as possible. As a result, the amount of active species such as ions and radicals can be increased, so that the active species can be deodorized, and the active species can be released to the outside of the apparatus to sterilize airborne and adherent bacteria. Since the case 25 opens at least a part of the side opening 2M formed by the pair of electrodes 21 and 22, the condensation water generated in the pair of electrodes 21 and 22 can be easily evaporated It is possible to prevent the condensation water from accumulating in the pair of electrodes 21 and 22. As a result, the drying performance of the dielectric films 21a and 22a can be improved, and the generation of plasma can be stabilized to stabilize the amount of active species produced.

<기타 변형 실시형태><Other Modified Embodiments>

아울러 본 발명은 상기 실시형태들로 한정되지는 않는다.The present invention is not limited to the above embodiments.

예를 들면 상기 일실시형태에서는 코팅막을 각 전극의 유전체막에 마련하였으나, 어느 한쪽의 유전체막에 마련한 경우에도 효과를 나타낸다.For example, in the above embodiment, a coating film is provided on the dielectric film of each electrode, but the effect is obtained even when it is provided on one of the dielectric films.

그리고, 상기 다른 실시형태에서는 또 발열체를 설치하는 부위로서는, 상기 실시형태와 같이 전극의 내부에 한정되지 않으며, 예를 들면 도 20에 도시한 것처럼, 유전체막(21a),(22a)의 표면에 설치되는 스페이서(24)를 발열체에 의해 구성해도 좋다. 이 경우, 스페이서(24)의 구성 및 발열체의 구성을 공통으로 할 수 있기 때문에 전극 구성을 간단화함과 동시에 전극(21),(22)의 가열과 함께 해당 가열에 의한 수분의 증발을 촉진시킬 수 있다.In addition, in the above-described other embodiments, the portion where the heat generating element is provided is not limited to the inside of the electrode as in the above embodiment. For example, as shown in Fig. 20, the surface of the dielectric films 21a and 22a The spacer 24 to be installed may be constituted by a heating element. In this case, since the structure of the spacer 24 and the structure of the heating element can be made common, the electrode structure is simplified and the evaporation of moisture by the heating can be promoted together with the heating of the electrodes 21 and 22 have.

또한 도 21에 도시한 것처럼, 전극(21),(22)을 구성하는 스테인레스 강판상에 절연체막(25)을 형성하고, 이 절연체막(25)위에 발열체(6)을 형성하고, 이 발열체(6)위에 유전체막(21a),(22a)을 형성해도 좋다. 즉, 전극(21),(22) 및 유전체막(21a),(22a) 사이에 발열체(6)를 설치해도 좋다. 이렇게 되면 전극(21),(22)안에 발열체(6)를 설치하기 위한 전극 가공이 불필요하다.21, an insulator film 25 is formed on a stainless steel plate constituting the electrodes 21 and 22, a heat generating element 6 is formed on the insulator film 25, 6, the dielectric films 21a, 22a may be formed. That is, the heating element 6 may be provided between the electrodes 21 and 22 and the dielectric films 21a and 22a. In this case, it is not necessary to process the electrode for installing the heating element 6 in the electrodes 21 and 22. [

또 유전체막(21a),(22a)의 표면 일부에 플라즈마 발생량을 충분히 확보할 수 있을 정도로 발열체를 설치하도록 해도 좋다.Further, a heating element may be provided on a part of the surface of the dielectric films 21a and 22a to such an extent that sufficient plasma generation can be ensured.

덧붙여 도 22에 도시한 것처럼, 플라즈마 전극부(2)의 한쌍의 전극(21),(22)을 지지하는 케이싱(상기 실시형태에서는 보호 커버(41))의 표면 또는 내부에 발열체(6)를 설치하여 전극(21),(22) 및 유전체막(21a),(22a)을 가열하도록 해도 좋다. 이렇게 되면, 전극(21),(22) 또는 유전체막(21a),(22a)에 발열체(6)를 설치하는 구성보다 장치 구성을 간단하게 함과 동시에 그 제조도 간단하게 할 수 있다.22, a heating element 6 is provided on the surface or inside of the casing (the protective cover 41 in the above embodiment) for supporting the pair of electrodes 21, 22 of the plasma electrode portion 2 And the electrodes 21 and 22 and the dielectric films 21a and 22a may be heated. This makes it possible to simplify the apparatus configuration and simplify the manufacturing process as compared with a configuration in which the heating elements 6 are provided in the electrodes 21, 22 or the dielectric films 21a, 22a.

추가하여 도 23에 도시한 것처럼, 전극 표면 또는 내부에 도체막 패턴(P)를 만들어 해당 도체막 패턴(P)에 고주파 전압을 인가함으로써 전극(21),(22)을 유도 가열함으로써 유전체막(21a),(22a)를 가열하도록 해도 좋다.23, a conductor film pattern P is formed on the surface or inside of the electrode to induce heating of the electrodes 21 and 22 by applying a high frequency voltage to the conductor film pattern P, 21a, and 22a may be heated.

더 추가하여 도 24에 도시한 것처럼, 가열 운전시에, 통상 운전시에 한쌍의 전극(21),(22)에 인가하는 펄스 전압보다 큰 펄스 전압을 한쌍의 전극(21),(22)에 인가함으로써 플라즈마를 발생시켜 가열하도록 해도 좋다. 아울러 이 경우 오존의 발생량이 증가되기 때문에 발생한 오존을 분해하는 촉매를 설치하는 등의 방도가 필요하다.24, a pulse voltage larger than the pulse voltage applied to the pair of electrodes 21 and 22 during normal operation is applied to the pair of electrodes 21 and 22 during the heating operation The plasma may be generated and heated. In this case, since the amount of generated ozone increases, it is necessary to provide a catalyst for decomposing ozone generated.

또한, 상기 또 다른 실시형태의 케이스(25)에는, 상하로 출입구를 가진 기체 유로(25x) 외에, 도 25에 도시한 것처럼 측변 개구(2M)에 대향하는 벽체(251)에 관통 구멍(251a)을 만들어 기체 유로를 형성해도 좋다. 이렇게 하면 불꽃의 전파를 막으면서도 측변 개구(2M)에 의해 많은 바람을 보낼 수 있다.The case 25 of the other embodiment is provided with a through hole 251a in the wall 251 opposed to the side opening 2M as shown in Fig. 25 in addition to the gas flow path 25x having the vertically- To form a gas flow path. This will prevent the spread of the flame, but it can send a lot of wind by the side opening (2M).

또 상기 또 다른 실시형태의 케이스(25)에는 상하로 출입구를 가진 기체 유로(25x)를 형성하였는데, 도 26에 도시한 것처럼, 케이스(25)의 측벽에서 측변 개구(2M)에 대응하여 측방으로 개구된 기체 유로(25y)를 형성해도 좋다. 이로써 또한 측변 개구(2M)에 바람을 보낼 수 있어 유전체막(21a),(22a)의 건조 성능을 향상시킬 수 있다.26, a gas passage 25x having upper and lower door openings is formed in the case 25 of the above-described another embodiment. However, as shown in Fig. 26, in the side wall of the case 25, The opened gas flow path 25y may be formed. As a result, it is possible to send wind to the side openings 2M, thereby improving the drying performance of the dielectric films 21a and 22a.

또 도 27에 도시한 것처럼, 상기 케이스(25)가 한쌍의 전극(21),(22)의 선단부 및 후단부를 지지하고, 전극(21),(22)의 좌우측 단부를 지지하지 않도록 구성해도 좋다. 이렇게 하면 좌우측변의 측변 개구(2M) 거의 전체를 개방할 수 있어 유전체막(21a),(22a)의 건조 성능을 한층 더 향상시킬 수 있다. 그밖에 케이스(25)를, 한쌍의 전극(21),(22)의 네모퉁이부를 지지하도록 하여 좌우측변 및 전후측변의 측변 개구(2M) 거의 전체를 개방시켜도 좋다.27, the case 25 may be configured so as to support the distal end portions and the rear end portions of the pair of electrodes 21 and 22 and not support the left and right end portions of the electrodes 21 and 22 . In this way, almost all the side openings 2M on the left and right sides can be opened, and the drying performance of the dielectric films 21a, 22a can be further improved. In addition, the case 25 may be supported at four corners of the pair of electrodes 21 and 22 so that the left and right sides and the side openings 2M near the front and rear sides may be opened as a whole.

또한 상기 케이스 또는 한쌍의 전극 내부에 발열체를 설치해도 좋다. 이로써 측변 개구를 개방하여 결로수의 증발을 촉진시키는 효과에 추가하여, 발열체의 가열 효과에 의해 결로수의 증발을 더욱 촉진시킬 수 있어 유전체막을 보다 단시간에 건조시킬 수 있다. 특히 냉장고 등 전자제품 등의 경우 습도 센서나 온도 센서 등의 센서와 연동시키면 최소한의 에너지로 효율적으로 발열체를 가동시킬 수 있게 된다.Further, a heating element may be provided inside the case or the pair of electrodes. Thus, in addition to the effect of accelerating the evaporation of condensation water by opening the side openings, evaporation of the condensation water can be promoted further by the heating effect of the heating element, and the dielectric film can be dried in a shorter time. Especially, in case of electronic appliances such as refrigerator, it is possible to efficiently operate the heating element with minimum energy by interlocking with a sensor such as a humidity sensor or a temperature sensor.

또 상기 실시형태들에서는 전극(21)의 복수의 유체 유통 구멍(21b)이 동일 형상을 이루고, 또 전극(22)의 복수의 유체 유통 구멍(22b)이 동일 형상을 이루는 것이었으나, 각각 다른 형상을 이루는 것이어도 좋다.In the above-described embodiments, the plurality of fluid flow holes 21b of the electrode 21 have the same shape and the plurality of fluid flow holes 22b of the electrode 22 have the same shape. However, .

또 상기 실시형태들에서는 전극(21)의 모든 유체 유통 구멍(21b)이 전극(22)의 복수의 유체 유통 구멍(22b)보다 작게 또는 크게 형성되어 있는데, 전극(21)의 일부 유체 유통 구멍(21b)가 전극(22)의 유체 유통 구멍(22b)보다 작게 형성되어 있고, 기타 유체 유통 구멍(21b)가 전극(22)의 유체 유통 구멍(22b)보다 크게 형성되어 있어도 좋다.All of the fluid flow holes 21b of the electrode 21 are formed to be smaller or larger than the fluid flow holes 22b of the electrode 22. In this case, 21b may be smaller than the fluid flow hole 22b of the electrode 22 and the other fluid flow holes 21b may be formed to be larger than the fluid flow hole 22b of the electrode 22. [

또한 상기 실시형태들에서는 한쪽 전극(21) 또는 다른 쪽 전극(22) 중 어느 하나에 관통 구멍이 형성되어 있는데 둘 다에 관통 구멍(반개구부)를 형성하도록 해도 좋다.In the above-described embodiments, the through holes are formed in either the one electrode 21 or the other electrode 22, but both may be provided with through holes (half openings).

아울러 상기 실시형태들에서는 유체 유통 구멍은 동일 단면 형상을 이루는 것이었으나, 기타 각 전극에 형성되는 유체 유통 구멍에 테이퍼면을 가진 것, 절구형 또는 밥공기형, 즉 한쪽 개구에서 다른 쪽 개구로 가면서 축소 또는 확대되는 것이어도 좋다.In addition, in the above-described embodiments, the fluid flow holes have the same cross-sectional shape, but the fluid flow holes formed in the respective other electrodes may have a tapered surface, a cut-out or rice pneumatic type, It may be reduced or enlarged.

추가하여 유체 유통 구멍은 원형 외에 타원형, 직사각형, 직선형 슬릿형, 동심원형 슬릿형, 파형 슬릿형, 초승달형, 빗등형, 벌집형 또는 별형이어도 좋다.In addition, the fluid flow hole may have an elliptical shape, a rectangular shape, a straight slit shape, a concentric circular slit shape, a wave slit shape, a crescent shape, a bezel shape, a honeycomb shape, or a star shape.

기타 본 발명은 상기 실시형태에 한정되지 않으며 그 취지를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형이 가능하다는 것은 말할 것도 없다.It is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications are possible without departing from the spirit of the present invention.

100…플라즈마 발생 장치
2…플라즈마 전극부
21…한쪽 전극
22…다른 쪽 전극
21a,22a…유전체막
21b,22b…유체 유통 구멍
23…코팅막
24…스페이서
25…케이스
3…송풍 기구
6…발열체
100 ... Plasma generator
2… The plasma electrode section
21 ... One electrode
22 ... The other electrode
21a, 22a ... Dielectric film
21b, 22b ... Fluid flow hole
23 ... Coating film
24 ... Spacer
25 ... case
3 ... Blowing mechanism
6 ... Heating element

Claims (57)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 서로 마주 보는 표면들을 가지는 한쌍의 전극;
상기 한쌍의 전극 사이에 배치되며, 제1, 제2 표면을 가지며, 상기 제1 표면이 상기 서로 마주보는 전극의 표면 중 적어도 하나에 배치된 유전체막;
상기 유전체막의 상기 제2 표면을 가열하도록 구성된 발열체;를 포함하며,
상기 전극에 소정의 전압을 인가하여 플라즈마를 방전하는 플라즈마 발생 장치.
A pair of electrodes having opposing surfaces;
A dielectric film disposed between the pair of electrodes, the dielectric film having first and second surfaces, wherein the first surface is disposed on at least one of the surfaces of the electrodes facing each other;
And a heating element configured to heat the second surface of the dielectric film,
And a predetermined voltage is applied to the electrode to discharge the plasma.
제20항에 있어서, 상기 전극의 내부에 상기 발열체가 설치되어 있는 플라즈마 발생 장치.21. The plasma generator according to claim 20, wherein the heating element is provided inside the electrode. 제20항에 있어서, 상기 전극과 상기 유전체막 사이에 상기 발열체가 설치되어 있는 플라즈마 발생 장치.The plasma generating apparatus according to claim 20, wherein the heating element is provided between the electrode and the dielectric film. 제20항에 있어서, 상기 유전체막의 내부에 상기 발열체가 설치되어 있는 플라즈마 발생 장치.21. The plasma generator according to claim 20, wherein the heating element is provided inside the dielectric film. 제20항에 있어서, 상기 유전체막의 표면 일부에 상기 발열체가 설치되어 있는 플라즈마 발생 장치.The plasma generation device according to claim 20, wherein the heating element is provided on a part of the surface of the dielectric film. 제20항에 있어서, 상기 한쌍의 전극을 지지하는 케이싱을 가지고 상기 케이싱에 상기 발열체가 설치되어 있는 플라즈마 발생 장치.21. The plasma generating apparatus according to claim 20, wherein the casing has a casing for supporting the pair of electrodes and the heating element is provided in the casing. 제20항 또는 제25항에 있어서, 상기 발열체의 발열 온도가 150℃이하인 플라즈마 발생 장치.26. The plasma generator according to claim 20 or 25, wherein the heating temperature of the heating element is 150 DEG C or lower. 제20항 또는 제25항에 있어서, 상기 유전체막의 표면상에 코팅막이 설치되어 있는 플라즈마 발생 장치.The plasma generator according to claim 20 or 25, wherein a coating film is provided on a surface of the dielectric film. 제27항에 있어서, 상기 코팅막이 발수성을 가진 플라즈마 발생 장치.28. The plasma generator according to claim 27, wherein the coating film is water repellent. 제27항에 있어서, 상기 코팅막의 두께가 0.01㎛이상 100㎛이하인 플라즈마 발생 장치.28. The plasma generator according to claim 27, wherein the thickness of the coating film is 0.01 m or more and 100 m or less. 제20항 또는 제25항에 있어서, 상기 한쌍의 전극 사이에 500㎛이하의 두께를 가진 스페이서를 가진 플라즈마 발생 장치.26. The plasma generator according to claim 20 or 25, wherein the spacer has a thickness of 500 mu m or less between the pair of electrodes. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 서로 마주 보는 표면들을 가지는 한쌍의 전극과, 상기 한쌍의 전극 사이에 배치되며 제1, 제2 표면을 가지며 상기 제1 표면이 상기 서로 마주보는 전극의 표면 중 적어도 하나에 배치된 유전체막과 상기 유전체막의 상기 제2 표면을 가열하도록 구성된 발열체를 포함하는, 플라즈마 발생 장치의 상기 전극에 소정 전압이 인가되어 플라즈마 방전하는 것으로서, 상기 발열체에 의해 상기 유전체막의 상기 제2 표면을 가열하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 방법.A dielectric film disposed between the pair of electrodes and having first and second surfaces and disposed on at least one of the surfaces of the first and second surfaces facing each other; Characterized in that the second surface of the dielectric film is heated by the heating element by applying a predetermined voltage to the electrode of the plasma generating apparatus and performing plasma discharge, the heating element being configured to heat the second surface of the film. Generation method. 제52항에 있어서, 상기 한 쌍의 전극을 지지하는 케이싱에 상기 발열체를 설치하며, 상기 발열체에 의해 상기 유전체막의 상기 제2 표면을 가열하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 방법.The plasma generating method according to claim 52, wherein the heating element is provided in a casing for supporting the pair of electrodes, and the second surface of the dielectric film is heated by the heating element. 제20항에 있어서,
상기 발열체를 상기 전극으로부터 전기적으로 절연시키도록 구성된 절연체;를 더 포함하는, 플라즈마 발생 장치.
21. The method of claim 20,
And an insulator configured to electrically insulate the heating element from the electrode.
제20항에 있어서,
상기 발열체는 상기 유전체막에 접촉하도록 배치된, 플라즈마 발생 장치.
21. The method of claim 20,
Wherein the heating element is arranged to contact the dielectric film.
삭제delete 삭제delete
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