KR20120073108A - Optical instrument - Google Patents

Optical instrument Download PDF

Info

Publication number
KR20120073108A
KR20120073108A KR1020110137968A KR20110137968A KR20120073108A KR 20120073108 A KR20120073108 A KR 20120073108A KR 1020110137968 A KR1020110137968 A KR 1020110137968A KR 20110137968 A KR20110137968 A KR 20110137968A KR 20120073108 A KR20120073108 A KR 20120073108A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
measurement
optical system
correction member
optical
Prior art date
Application number
KR1020110137968A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101814823B1 (en
Inventor
잇세이 요코야마
기미히코 아리모토
Original Assignee
가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼 filed Critical 가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼
Publication of KR20120073108A publication Critical patent/KR20120073108A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101814823B1 publication Critical patent/KR101814823B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/0297Constructional arrangements for removing other types of optical noise or for performing calibration
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/10Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
    • G01J1/12Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void using wholly visual means
    • G01J1/122Visual exposure meters for determining the exposure time in photographical recording or reproducing
    • G01J1/124Visual exposure meters for determining the exposure time in photographical recording or reproducing based on the comparison of the intensity of measured light with a comparison source or comparison illuminated surface
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/10Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
    • G01J1/16Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void using electric radiation detectors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/27Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
    • G01N21/274Calibration, base line adjustment, drift correction
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/10Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
    • G01J1/16Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void using electric radiation detectors
    • G01J2001/161Ratio method, i.e. Im/Ir
    • G01J2001/1615Computing a difference/sum ratio, i.e. (Im - Ir) / (Im + Ir)

Abstract

PURPOSE: An optical analyzing device is provided to reduce measurement errors and to prevent an increase of operation costs caused by exchanging a reference correction member. CONSTITUTION: An optical analyzing device(100) comprises a light collecting optical system(3), a detecting optical system(4), a measurement cell(5), a reference correcting member(6), and a conveying tool(7). The light collecting optical system collects lights emitted from a light source(2). The detecting optical system is on an optical path of the lights collected by the light collecting optical system, thereby detecting the lights. The measurement cell is movable on between the light collecting optical system, a measurement position, and a withdraw position. The reference correcting member is movable on between the light collecting optical system, the measurement position, and the withdraw position. A focal position of lights penetrated at a reference position is roughly the same with a focal position of lights penetrated the measurement cell so that the reference correcting member is constituted. The conveying tool conveys the measurement cell to the measurement position and the reference correcting member to the reference position.

Description

광학 분석 장치{OPTICAL INSTRUMENT}Optical analysis device {OPTICAL INSTRUMENT}

본 발명은, 분광 분석 장치 등의 광학 분석 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical analysis device such as a spectroscopic analysis device.

종래의 분광 분석 장치로서는, 특허문헌 1에 나타내는 바와 같이, 광원과, 이 광원에서의 빛을 집광하는 집광렌즈와, 다채널 검출기를 가지고 상기 광원에서 빛을 분광 분석하는 분광 분석부와, 집광렌즈 및 분광 분석부 사이에 배치되는 측정 셀을 구비한 것이 있다.As a conventional spectroscopic analyzer, as shown in Patent Literature 1, a light source, a condenser for condensing light from the light source, a spectroscopic analyzer for spectroscopically analyzing light from the light source with a multi-channel detector, and a condenser lens And a measurement cell arranged between the spectroscopic analyzer.

이 분광 분석 장치의 농도 측정에는 흡수 분광법을 이용하고 있다. 이 흡수 분광법으로는, 일반적으로, 교정에 의해 미리 산출한 검량선Mi에 흡광도 스펙트럼 Abs(λi)를 곱하는 것으로 농도 c를 산출한다(하기의 식 참조).Absorption spectroscopy is used for the concentration measurement of this spectroscopic analyzer. Generally with this absorption spectroscopy, concentration c is computed by multiplying the absorbance spectrum Abs ((lambda) i) by the calibration curve M i previously calculated by calibration (refer the following formula).

Figure pat00001
Figure pat00001

여기서 흡광도 스펙트럼 Abs(λi)는, 측정 셀에의 입사광의 강도 Io (λi)와 측정 셀로부터의 투과광의 강도 Is(λi)로 다음 식으로 표시된다.The absorbance spectrum Abs (λi) is expressed by the following formula in terms of the intensity Io (λi) of the incident light into the measurement cell and the intensity Is (λi) of the transmitted light from the measurement cell.

Figure pat00002
Figure pat00002

여기서, 입사광의 강도 Io (λi)를 직접 측정하는 것은 어렵고, 종래의 분광 분석 장치에서는, 집광렌즈 및 분광 분석부 사이에서 측정 셀을 제거한 상태(레퍼런스 광측정)에서, 분광 분석부가 측정하는 빛의 강도, 즉 레퍼런스 광의 강도 Ir(λi)를 대용하고 있다.Here, it is difficult to directly measure the intensity Io (λi) of the incident light, and in the conventional spectroscopic analyzer, the light measured by the spectroscopic analyzer is measured in a state where a measurement cell is removed between the condenser lens and the spectroscopic analyzer (reference photometry). The intensity, that is, the intensity Ir (λi) of the reference light is substituted.

Figure pat00003
Figure pat00003

그런데, 광로상에 측정 셀이 있는 경우와 측정 셀이 없는 경우는 굴절률에 차이가 있어서, 도 6(A) 및 (B)에 도시하는 바와 같이, 분광 분석부에 입사하는 빛의 광속, 구체적으로는 초점 위치가 변해 버린다. 그 결과, 분광 분석부에 의해 얻을 수 있는 레퍼런스 광의 광량에 오차가 생기고, 흡광도 스펙트럼 Abs(λi)가 변해서 산출 농도에 오차가 나오게 된다는 문제가 있다.By the way, when there is a measurement cell on the optical path and there is no measurement cell, there is a difference in refractive index, and as shown in Figs. 6A and 6B, the luminous flux of light incident on the spectroscopic analysis part, specifically, The focus position changes. As a result, an error occurs in the amount of light of the reference light obtained by the spectroscopic analyzer, and the absorbance spectrum Abs (λi) changes, resulting in an error in the calculated concentration.

그래서, 특허문헌 1의 분광 분석 장치에서는, 측정 셀의 유무에 따른 초점 위치의 변화를 보정하기 위해서, 레퍼런스 광 측정에 있어서, 상기 집광렌즈 및 분광 분석부 사이에 굴절률 보정 부재를 배치하고 있다(도 6(C) 참조). 이 굴절률 보정 부재는, 석영 등의 광학유리를 이용하여 구성되어 있다.Therefore, in the spectroscopic analyzer of Patent Literature 1, in order to correct a change in the focus position with or without a measuring cell, a refractive index correction member is disposed between the condenser lens and the spectroscopic analyzer in reference light measurement (Fig. 6 (C)). This refractive index correction member is comprised using optical glass, such as quartz.

그런데, 예를 들면 상기의 분광 분석 장치로 불산을 포함한 약액의 농도 측정을 실시하는 경우, 측정 셀에의 약액의 도입 및 도출은, 불산에 대해 내부식성을 가진 불소 수지 배관이 이용되고 있다.By the way, when the density | concentration measurement of the chemical liquid containing hydrofluoric acid is performed, for example with the said spectroscopic analyzer, the introduction and derivation of the chemical liquid to a measuring cell use the fluororesin piping which has corrosion resistance with hydrofluoric acid.

그러나, 불소 수지 배관을 흐르는 약액 중의 불산의 일부가, 배관의 관벽을 투과해서 불화수소 가스로서 외부에 방출해 버린다. 또한, 약액을 저장하고 있는 약액 탱크로부터도 불화수소 가스가 방출해 버린다. 그렇다면, 굴절률 보정 부재가 배치되는 분위기하에 부식성 가스인 불화수소 가스가 존재하게 되고, 광학유리로 이루어지는 굴절률 보정 부재의 표면이 부식되어 백탁한다고 하는 문제가 있다. 이에 의해 레퍼런스 광 측정으로 얻을 수 있는 레퍼런스 광량이 저하해 버리고, 흡광도가 변화해서 산출 농도에 오차가 생겨 버린다는 문제가 있다.However, part of the hydrofluoric acid in the chemical liquid flowing through the fluorine resin pipe passes through the pipe wall of the pipe and is released to the outside as hydrogen fluoride gas. In addition, hydrogen fluoride gas is also released from the chemical liquid tank storing the chemical liquid. Then, there exists a problem that hydrogen fluoride gas which is a corrosive gas exists in the atmosphere in which a refractive index correction member is arrange | positioned, and the surface of the refractive index correction member which consists of optical glass corrodes and becomes cloudy. Thereby, there exists a problem that the amount of reference light which can be obtained by reference light measurement falls, and an absorbance changes and an error arises in a calculated density.

또한, 굴절률 보정 부재가 부식해서 백탁했을 경우, 상기 부재를 교환할 필요가 있고, 그 교환 시기를 관리할 필요가 있다는 문제가 있다. 게다가 별도로 새로운 굴절률 교환 부재를 준비할 필요가 있거나, 그 교환 작업이 번잡하고 작업공수가 걸린다거나 하기 때문에, 운전비용의 증대를 초래한다는 문제가 있다.Moreover, when the refractive index correction member is corroded and cloudy, there is a problem that it is necessary to replace the member and to manage the replacement time. In addition, there is a problem that it is necessary to prepare a new refractive index exchanging member separately, or that the replacement work is complicated and labor takes, resulting in an increase in operating cost.

특허문헌 1 : 일본 공개특허 2002-82050호 공보Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-82050

따라서 본 발명은, 초점 위치 보정용의 레퍼런스 보정 부재에 주는 부식성 가스의 영향을 저감하는 것으로, 광학 분석 장치의 측정 오차를 저감하는 동시에, 레퍼런스 보정 부재의 교환에 따른 여러 가지의 문제점을 해결하는 것, 그 주된 소기 과제로 하는 것이다.Accordingly, the present invention is to reduce the influence of the corrosive gas on the reference correction member for focus position correction, to reduce the measurement error of the optical analysis device, and to solve various problems caused by replacement of the reference correction member, It is the main sought task.

즉 본 발명에 관한 광학 분석 장치는, 광원에서 나오는 빛을 집광하는 집광 광학계와, 상기 집광 광학계에 의해 집광된 빛의 광로상에 설치되고, 그 빛을 검출하는 검출 광학계와, 상기 집광 광학계 및 상기 검출 광학계 사이에서의 광로상에 위치하는 측정 위치, 및 이 측정 위치로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동 가능한 측정 셀과, 상기 집광 광학계 및 상기 검출 광학계 사이에서의 광로상에 위치하는 레퍼런스 위치, 및 이 레퍼런스 위치로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동 가능하고, 상기 레퍼런스 위치에서 통과한 빛의 초점 위치가 상기 측정 위치에 있는 측정 셀을 통과한 빛의 초점 위치와 대략 동일하게 되도록 구성된 레퍼런스 보정 부재와, 상기 측정 셀 및 상기 레퍼런스 보정 부재를 이동시켜서, 선택적으로 상기 측정 셀을 상기 측정 위치 또는 상기 레퍼런스 보정 부재를 상기 레퍼런스 위치로 하는 이동 기구를 구비하고, 상기 레퍼런스 보정 부재의 적어도 상기 레퍼런스 위치에서 광로와 교차하는 외면 부분이, 부식성 가스에 대해서 내부식성을 가진 내부식성 재료로 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.That is, the optical analysis device which concerns on this invention is provided on the condensing optical system which condenses the light emitted from the light source, the optical system of the light condensed by the condensing optical system, and the detection optical system which detects the light, the said condensing optical system, and the said A measurement cell movable between a measurement position positioned on the optical path between the detection optical systems, and a retracted position evacuated from the measurement position, a reference position positioned on the optical path between the condensing optical system and the detection optical system, and A reference correction member movable between the retracted positions retracted from the reference position and configured such that the focal position of the light passing at the reference position is approximately equal to the focal position of the light passing through the measurement cell at the measurement position; Move the measurement cell and the reference correction member to selectively measure the measurement cell. A position mechanism or a movement mechanism for making the reference correction member the reference position, wherein an outer surface portion intersecting the optical path at least at the reference position of the reference correction member is formed of a corrosion resistant material having corrosion resistance against corrosive gas; It is characterized by being.

이러한 것이면, 레퍼런스 광 측정에 있어서 레퍼런스 보정 부재가 광로상에 설치될 수 있기 때문에, 측정 셀의 유무에 의한 초점 위치의 변화를 보정하고, 측정 결과의 오차를 저감 할 수 있다. 특히, 레퍼런스 위치에서 광로와 교차하는 외면 부분이, 내부식성 재료로 형성되어 있기 때문에, 레퍼런스 광 측정에 있어서 레퍼런스 보정 부재가 부식성 가스로부터 받는 영향을 저감할 수 있다. 이에 의해, 부식성 가스의 존재에 상관없이, 레퍼런스 광 측정의 오차를 저감 할 수 있고, 상기 레퍼런스 광 측정의 결과를 이용한 광학 분석 장치의 측정 결과의 오차를 저감할 수 있다. 또한, 레퍼런스 광 측정에 있어서의 레퍼런스 보정 부재의 부식을 무시할 수 있으므로, 레퍼런스 보정 부재의 교환을 반드시 실시할 필요는 없고, 레퍼런스 보정 부재의 교환에 따른 종래의 여러 가지의 문제점을 해결할 수 있다. 게다가 측정 셀 및 레퍼런스 보정 부재를 집광 광학계 및 검출 광학계에 대해서 진퇴 이동시키는 것으로, 집광 광학계 및 검출 광학계를 공통화하고 있으므로, 복수의 광로를 설치하는 경우에 비해, 광원의 위치가 어긋나거나 집광렌즈의 흐림이 미치는 영향을 줄일 수 있다. 게다가, 집광 광학계를 1개만 준비하면 되고, 광원으로부터의 빛을 검출 광학계로 유도하는 구조가 비교적 단순하고, 싼 비용으로 제작할 수 있다.In this case, since the reference correction member can be provided on the optical path in the reference light measurement, the change in the focus position with or without the measurement cell can be corrected, and the error of the measurement result can be reduced. In particular, since the outer surface portion intersecting the optical path at the reference position is formed of a corrosion resistant material, the influence of the reference correction member from the corrosive gas in the reference light measurement can be reduced. Thereby, regardless of the presence of corrosive gas, the error of the reference light measurement can be reduced, and the error of the measurement result of the optical analysis device using the result of the reference light measurement can be reduced. In addition, since the corrosion of the reference correction member in the reference light measurement can be ignored, it is not necessary to replace the reference correction member, and various conventional problems caused by the replacement of the reference correction member can be solved. In addition, by moving the measuring cell and the reference correction member forward and backward with respect to the condensing optical system and the detecting optical system, the condensing optical system and the detecting optical system are common, so that the position of the light source is shifted or the blur of the condenser lens is compared with the case where a plurality of optical paths are provided. This can reduce the impact. Moreover, only one condensing optical system needs to be prepared, and the structure which guides the light from a light source to a detection optical system is comparatively simple, and can be manufactured at low cost.

레퍼런스 보정 부재 전체를 내부식성 재료로 형성하면, 내부식성 재료의 종류(예를 들면 사파이어)에 따라 아주 고가가 되어 버릴 우려가 있다. 이러한 경우에는, 상기 레퍼런스 보정 부재가, 광학유리와 상기 광학유리의 광입사면 및 광사출면 각각에 대향해서 설치된 상기 내부식성 재료로 이루어지는 내부식성 판재와 상기 광학유리 및 상기 내부식성 판재의 사이를 봉하여 막는 시일부재를 갖는 것이 바람직하다.When the entirety of the reference correction member is formed of a corrosion resistant material, there is a possibility that it becomes very expensive depending on the type of corrosion resistant material (for example, sapphire). In this case, the reference correction member seals between the optical glass and the corrosion resistant plate made of the corrosion resistant plate made of the corrosion resistant material provided to face each of the light incident surface and the light exit surface of the optical glass. It is preferable to have a sealing member for the purpose of blocking.

레퍼런스 보정 부재의 구성부품의 부품 점수를 가급적으로 줄이면서도 부식성 가스에 대해 내부식성을 갖게 하기 위해서는, 상기 레퍼런스 보정 부재가, 광학유리를 적어도 광입사면 및 광사출면에 내부식성 재료를 코팅하는 것으로 구성되어 있는 것이 바람직하다.In order to reduce the component score of the components of the reference correction member as much as possible and to provide corrosion resistance to corrosive gas, the reference correction member is configured to coat the corrosion resistant material on at least the light incident surface and the light exit surface of the optical glass. It is preferable that it is done.

레퍼런스 보정 부재의 구성부품의 종류를 줄이는 동시에, 여러 가지의 측정 셀의 초점 위치에 대응 가능하게 하기 위해서는, 상기 레퍼런스 보정 부재가, 복수 매의 내부식성 재료로 이루어지는 내부식성 판재를 스페이서를 통하여 겹쳐맞추는 것으로 구성되어 있는 것이 바람직하다.In order to reduce the types of components of the reference compensating member and to be able to cope with the focal positions of various measurement cells, the reference compensating member is formed by overlapping a corrosion resistant plate made of a plurality of corrosion resistant materials through a spacer. It is preferable that it is comprised.

이와 같이 구성한 본 발명에 의하면, 레퍼런스 보정 부재에 주는 부식성 가스의 영향을 저감하는 것에 의해서, 광학 분석 장치의 측정 오차를 저감하는 동시에, 레퍼런스 보정 부재의 교환에 따른 운전비용 증대를 방지할 수 있다.According to the present invention configured as described above, by reducing the influence of the corrosive gas on the reference correcting member, it is possible to reduce the measurement error of the optical analysis device and to prevent the increase in operating cost due to the replacement of the reference correcting member.

도 1은 본 실시형태의 분광 분석 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 전체 개략도.
도 2는 상기 실시형태의 측정 셀 및 레퍼런스 보정 부재를 나타내는 사시도.
도 3은 상기 실시형태의 측정 셀 및 레퍼런스 보정 부재를 나타내는 단면도.
도 4는 상기 실시형태의 측정 셀 및 레퍼런스 보정 부재의 초점 위치를 나타내는 모식도.
도 5는 레퍼런스 보정 부재의 변형예를 나타내는 모식도.
도 6은 종래의 굴절률 보정 부재의 유무에 의한 집광렌즈의 초점 위치를 나타내는 모식도.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The overall schematic which shows the structure of the spectroscopic analyzer of this embodiment schematically.
2 is a perspective view showing a measurement cell and a reference correction member of the embodiment;
3 is a cross-sectional view showing a measurement cell and a reference correction member of the embodiment;
4 is a schematic diagram showing a focal position of the measurement cell and the reference correction member of the embodiment.
5 is a schematic diagram illustrating a modification of the reference correction member.
6 is a schematic diagram showing a focal position of a condenser lens with or without a conventional refractive index correction member.

이하에, 본 발명에 관한 광학 분석 장치의 일례로서 분광 분석 장치에 적용했을 경우의 하나의 실시 형태에 대해 도면을 참조해서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, one Embodiment at the time of applying to a spectroscopic analyzer as an example of the optical analyzer which concerns on this invention is described with reference to drawings.

본 실시형태에 관한 분광 분석 장치(100)는, 예를 들면 반도체 제조 장치에 설치된 불산 등의 약액을 공급하는 약액 배관에 개재해서 설치되고, 그 불산 등의 약액(시료액)의 농도 등을 흡광도 측정법을 이용하여 측정하는 것이다. 한편, 이렇게 해서 얻은 농도를 이용하여, 약액의 농도 등이 제어된다.The spectroscopic analysis apparatus 100 which concerns on this embodiment is installed through the chemical liquid piping which supplies chemical liquids, such as hydrofluoric acid, etc. which were installed in the semiconductor manufacturing apparatus, for example, and absorbs the density | concentration of chemical liquids (sample liquid), such as hydrofluoric acid, etc. It is measured using a measuring method. On the other hand, the concentration of the chemical liquid and the like are controlled using the concentration thus obtained.

구체적으로, 이것은 도 1에 도시하는 바와 같이, 광원(2)과 이 광원(2)에서 나오는 빛을 집광하는 집광 광학계(3)와, 이 집광 광학계(3)에 의해 집광된 빛의 광로 L상에 설치되어, 그 빛을 검출하는 검출 광학계(4)와, 집광 광학계(3) 및 검출 광학계(4) 사이에서 광로 L상에 이동 가능한 측정 셀(5)과, 마찬가지로 집광 광학계(3) 및 검출 광학계(4) 사이에서 광로 L상에 이동 가능한 레퍼런스 보정 부재(6)와, 측정 셀(5) 및 레퍼런스 보정 부재(6)를 이동시키는 이동 기구(7)를 구비하고 있다. 한편, 이 분광 분석 장치(100)에는, 장치 전체를 제어하거나 후술한 다채널 검출기(45)로부터의 출력에 기초하여 농도계산 등을 실시하는 연산 제어부로서의 컴퓨터(도시하지 않음)가 설치되어 있다.Specifically, as shown in FIG. 1, this is a light converging optical system 3 for condensing light emitted from the light source 2 and the light source 2, and an optical path L image of light condensed by the condensing optical system 3. The collecting optical system 3 and the detection optical system 4 which detect the light, and the measuring cell 5 which is movable on the optical path L between the condensing optical system 3 and the detecting optical system 4. The reference correction member 6 which can move on the optical path L between the optical systems 4, and the movement mechanism 7 which moves the measuring cell 5 and the reference correction member 6 are provided. On the other hand, the spectroscopic analyzer 100 is provided with a computer (not shown) as an arithmetic control unit that controls the entire apparatus or performs concentration calculation or the like based on the output from the multichannel detector 45 described later.

광원(2)은, 예를 들면 할로겐 램프 등으로 이루어지는 연속 스펙트럼 광원이다.The light source 2 is a continuous spectrum light source which consists of a halogen lamp etc., for example.

집광 광학계(3)는, 상기 광원(2)의 광사출 방향에 설치되고, 상기 광원(2)으로부터 사출된 빛을 집광시키는 것이며, 본 실시형태에서는 집광렌즈를 이용하여 구성되어 있다.The condensing optical system 3 is provided in the light emitting direction of the light source 2 to condense the light emitted from the light source 2, and is configured using a condenser lens in this embodiment.

검출 광학계(4)는, 집광 광학계(3)에 의해 집광된 빛을 각 파장으로 분광하여, 그들 각 파장 성분마다 검출하는 것이다. 구체적으로 검출 광학계(4)는, 상기 집광 광학계(3)의 빛의 초점 위치 근방에 설치된 입사 슬릿(41)과, 상기 입사 슬릿 (41)으로부터 입사한 빛을 평행 광속으로 하는 오목면경으로 이루어지는 콜리메이트 렌즈(42)와, 이 콜리메이트 렌즈(42)로부터의 평행 광속을 받아 파장마다 분광하는 회절격자(43)와, 상기 회절격자(43)에 의해 분광된 각 파장의 빛을 집광하는 오목면경으로 이루어지는 카메라 렌즈(44)와, 상기 카메라 렌즈(44)에 의해 집광된 각 파장의 빛을 검출하는 다채널 검출기(45)를 구비하고 있다. 이 다채널 검출기 (45)에 의해 얻어진 광강도 신호에 기초하여 흡광도 스펙트럼 Abs(λi)를 얻을 수 있다.The detection optical system 4 spectra the light collected by the condensing optical system 3 at each wavelength, and detects each of those wavelength components. Specifically, the detection optical system 4 is a collie composed of an incident slit 41 provided in the vicinity of a focal position of the light of the condensing optical system 3 and a concave mirror that makes light incident from the incident slit 41 a parallel beam. A mate lens 42, a diffraction grating 43 for receiving the parallel light flux from the collimating lens 42 and spectroscopy for each wavelength, and a concave mirror for condensing light of each wavelength spectroscopically diffracted by the diffraction grating 43 And a multi-channel detector 45 for detecting light of each wavelength condensed by the camera lens 44. The absorbance spectrum Abs (λi) can be obtained based on the light intensity signal obtained by the multichannel detector 45.

측정 셀(5)은, 플로셀 타입이며, 도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 내부에 약액을 수용하는 수용 공간(5S)이 형성되는 셀 본체(51)와, 상기 셀 본체(51)에 설치되어 상기 수용 공간(5S)에 약액을 도입하기 위한 액도입부(52)와, 상기 수용 공간(5S)으로부터 약액을 도출하기 위한 액도출부(53)를 구비하고 있다. 한편, 액도입부(52) 및 액도출부(53)에는, 불소 수지 배관(H)이 접속되어 있다.The measurement cell 5 is a flow cell type, and as shown in FIGS. 2 and 3, a cell body 51 having an accommodating space 5S for accommodating a chemical liquid therein, and the cell body 51. And a liquid introduction portion 52 for introducing the chemical liquid into the storage space 5S, and a liquid extraction portion 53 for extracting the chemical liquid from the storage space 5S. On the other hand, the fluorine resin piping H is connected to the liquid introduction part 52 and the liquid extraction part 53.

셀 본체(51)는, 특히 도 3에 도시하는 바와 같이, 수용 오목부(511a)가 형성된 본체부(511)와, 상기 수용 오목부(511a) 내에 수용되는 한 쌍의 투광부재(512)와, 이 한 쌍의 투광부재(512)의 사이에 개재하는 스페이서(513)와, 상기 한 쌍의 투광부재(512) 및 스페이서(513)를 수용 오목부(511a) 내에 고정하기 위한 고정 부재(514)를 구비하고 있다. 이와 같이 구성된 셀 본체(51)에 있어서, 한 쌍의 투광부재(512) 및 스페이서(513) 등에 의해 수용 공간(5S)이 형성된다. 또한 수용 공간(5S)은 O링 등의 시일부재에 의해 액밀성(液密性)이 확보되어 있다.In particular, as shown in FIG. 3, the cell main body 51 includes a main body portion 511 having a receiving recess 511a, a pair of light transmitting members 512 accommodated in the receiving recess 511a, and A spacer 513 interposed between the pair of light transmitting members 512 and a fixing member 514 for fixing the pair of light transmitting members 512 and the spacer 513 in the receiving recess 511a. ). In the cell main body 51 configured as described above, the accommodation space 5S is formed by the pair of light transmitting members 512, the spacer 513, and the like. In the storage space 5S, liquid tightness is ensured by a sealing member such as an O-ring.

한 쌍의 투광부재(512)는, 불산 등의 약액에 대해서 내부식성을 가지는 내부식성 재료로 형성되어 있다. 본 실시형태의 투광부재(512)는, 불산에 대해 내부식성을 가지는 동시에 자외 영역에 대해 고투광율을 나타내는 사파이어를 이용하여 형성된 사파이어 판재이다. 그리고, 측정 셀(5)이 후술의 측정 위치 P에 있는 경우에, 이 투광부재(512)가 상기 집광 광학계(3)에 의해 집광된 빛의 광로 L과 교차한다. 한편, 자외 영역에서의 분광 분석 이외의 용도에 있어서는, 불소수지 등의 내부식성 재료를 이용할 수도 있다.The pair of light transmitting members 512 are formed of a corrosion resistant material having corrosion resistance against chemical liquids such as hydrofluoric acid. The translucent member 512 of this embodiment is a sapphire plate material formed using sapphire which has corrosion resistance with hydrofluoric acid and shows high light transmittance with respect to an ultraviolet region. And when the measuring cell 5 is in the measurement position P mentioned later, this light transmitting member 512 intersects with the optical path L of the light condensed by the said condensing optical system 3. On the other hand, in applications other than spectroscopic analysis in the ultraviolet region, corrosion-resistant materials such as fluororesin may be used.

이와 같이 구성된 측정 셀(5)은, 후술하는 이동 기구(7)에 의해, 상기 집광 광학계(3) 및 상기 검출 광학계(4) 사이에서의 광로 L상에 위치하는 측정 위치 P, 및 이 측정 위치 P로부터 퇴피한 퇴피 위치 Q 사이에서 이동 가능하다(도 4 참조).The measuring cell 5 comprised in this way is measured position P located on the optical path L between the said condensing optical system 3 and the detection optical system 4 by the moving mechanism 7 mentioned later, and this measuring position. It is movable between the evacuation positions Q retracted from P (see FIG. 4).

레퍼런스 보정 부재(6)는, 레퍼런스 광 측정에 있어서, 집광 광학계(3)에 의해 집광된 빛의 초점 위치의 변화를 보정하는 것이다. 이 레퍼런스 보정 부재(6)는, 도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 상기 측정 셀(5)로 일체로 설치되어 있고, 상기 셀 본체(51)의 본체부(511)에 설치된 제2의 수용 오목부(511b)에 수용되어 있다. 그리고 이 레퍼런스 보정 부재(6)는, 후술의 레퍼런스 위치 R에서 통과한 빛의 초점 위치가 상기 측정 위치 P에 있는 측정 셀(5)을 통과한 빛의 초점 위치와 대략 동일하게 되도록 구성되어 있다. 한편, 레퍼런스 보정 부재(6)의 자세한 것은 후술한다.In the reference light measurement, the reference correction member 6 corrects the change in the focus position of the light collected by the light converging optical system 3. As shown in Figs. 2 and 3, the reference correcting member 6 is integrally provided with the measuring cell 5, and is provided with a second body installed in the main body 511 of the cell main body 51. It is accommodated in the accommodating recess 511b. And this reference correction member 6 is comprised so that the focal position of the light which passed by the reference position R mentioned later is substantially the same as the focal position of the light which passed through the measuring cell 5 in the said measurement position P. In addition, the detail of the reference correction member 6 is mentioned later.

또한, 레퍼런스 보정 부재는, 후술하는 이동 기구(7)에 의해, 상기 집광 광학계(3) 및 상기 검출 광학계(4) 사이에서의 광로 L상에 위치하는 레퍼런스 위치 R, 및 이 레퍼런스 위치 R로부터 퇴피한 퇴피 위치 S와 사이로 이동 가능하다(도 4 참조).In addition, the reference correction member is evacuated from the reference position R located on the optical path L between the condensing optical system 3 and the detection optical system 4 and the reference position R by the moving mechanism 7 described later. It is possible to move between one retracted position S and FIG. 4.

이동 기구(7)는, 측정 셀(5) 및 레퍼런스 보정 부재(6)를 이동시키고, 선택적으로 측정 셀(5)을 측정 위치 P 또는 레퍼런스 보정 부재(6)를 레퍼런스 위치 R로 하는 것이다. 본 실시형태의 측정 셀(5) 및 레퍼런스 보정 부재(6)는 집광 광학계(3)에 의해 집광된 빛의 광로 L에 대해서 병렬적으로 일체로 되어 있고, 이동 기구(7)는, 측정 셀(5) 및 레퍼런스 보정 부재(6)를 광로 L에 대해 직교하는 방향으로 일체로 진퇴 이동시킨다. 한편, 이동 기구(7)의 구성으로서는, 도시하지 않지만, 예를 들면, 구동 모터와, 이 모터의 구동축의 회전운동을 직진 운동으로 변환하는 랙 앤드 피니언 기구를 구비한 것이다.The movement mechanism 7 moves the measurement cell 5 and the reference correction member 6, and optionally sets the measurement cell 5 as the measurement position P or the reference correction member 6 as the reference position R. The measuring cell 5 and the reference correction member 6 of the present embodiment are integrated in parallel with respect to the optical path L of the light collected by the condensing optical system 3, and the moving mechanism 7 includes the measuring cell ( 5) and the reference correction member 6 are moved forward and backward integrally in the direction orthogonal to the optical path L. FIG. On the other hand, although not shown in figure, the structure of the movement mechanism 7 is equipped with a drive motor and the rack and pinion mechanism which converts the rotational motion of the drive shaft of this motor into a linear motion.

여기서, 측정 셀(5)의 측정 위치 P 및 퇴피 위치 Q와, 레퍼런스 보정 부재 (6)의 레퍼런스 위치 R 및 퇴피 위치 S와의 위치 관계에 대해 도 4를 참조해 설명한다. 측정 셀(5)의 측정 위치 P와 레퍼런스 보정 부재(6)의 레퍼런스 위치 R은 집광렌즈(3)에 대해 대략 같은 위치이다. 또한 측정 셀(5)이 측정 위치 P에 있는 경우, 레퍼런스 보정 부재(6)는 퇴피 위치 S에 있고(도 4의 상단 참조), 레퍼런스 보정 부재(6)가 레퍼런스 위치 R에 있는 경우, 측정 셀(5)은 퇴피 위치 Q에 있다(도 4의 하단 참조). 한편, 측정 셀(5)의 측정 위치 P는 샘플광측정을 하기 위한 위치이며, 레퍼런스 보정 부재의 레퍼런스 위치 R은 레퍼런스 광측정을 하기 위한 위치이다.Here, the positional relationship between the measurement position P and the retraction position Q of the measurement cell 5, and the reference position R and the retraction position S of the reference correction member 6 will be described with reference to FIG. The measurement position P of the measurement cell 5 and the reference position R of the reference correction member 6 are approximately the same position with respect to the condenser lens 3. In addition, when the measurement cell 5 is at the measurement position P, the reference correction member 6 is at the retracted position S (see top of FIG. 4), and when the reference correction member 6 is at the reference position R, the measurement cell (5) is at the retracted position Q (see bottom of FIG. 4). On the other hand, the measurement position P of the measurement cell 5 is a position for sample optical measurement, and the reference position R of the reference correction member is a position for reference optical measurement.

그리고 본 실시형태의 레퍼런스 보정 부재(6)는, 적어도 레퍼런스 위치 R에서 광로 L과 교차하는 외면 부분(6A)이, 부식성 가스인 불화수소 가스에 대해 내부식성을 가지는 내부식성 재료로 형성되어 있다.And the reference correction member 6 of this embodiment is formed with the corrosion-resistant material which has at least the outer surface part 6A which cross | intersects the optical path L at the reference position R with corrosion resistance with respect to the hydrogen fluoride gas which is a corrosive gas.

구체적으로 레퍼런스 보정 부재(6)는, 특히 도 3에 도시하는 바와 같이, 광학유리(61)와, 상기 광학유리(61)의 광입사면(61a) 및 광사출면(61b) 각각에 대향해서 설치된 내부식성 재료로 이루어지는 내부식성 판재(62)와, 광학유리(61) 및 내부식성 판재(62)의 사이를 기밀하게 봉하여 막는 O링 등의 시일부재(63)를 가진다. 이들 구성요소(61∼63)는, 제2의 수용 오목부(511b)에 수용된 상태로 고정 부재(8)에 의해 고정된다. 본 실시형태의 내부식성 판재(62)는, 불산에 대해서 내부식성을 가지는 동시에 자외 영역에 대해서 고투광율을 나타내는 사파이어를 이용하여 형성된 사파이어 판재이다.Specifically, as shown in FIG. 3, the reference correction member 6 is provided to face the optical glass 61 and the light incident surface 61a and the light emitting surface 61b of the optical glass 61, respectively. The corrosion resistant plate material 62 which consists of a corrosion resistant material, and the sealing member 63, such as an O-ring which seals and closes between the optical glass 61 and the corrosion resistant plate material 62, and is sealed. These components 61-63 are fixed by the fixing member 8 in the state accommodated in the 2nd accommodation recessed part 511b. The corrosion resistant plate material 62 of this embodiment is a sapphire plate material formed using sapphire which has corrosion resistance with hydrofluoric acid and shows high light transmittance with respect to an ultraviolet region.

본 실시형태에서는, 광학유리(61)의 광입사면(61a) 및 광사출면(61b)의 대략 전체를 사파이어 판재(62)로 덮는 것에 의해, 레퍼런스 보정 부재(6)의 광입사면 및 광사출면 전체를 내부식성 재료에 의해 형성하고 있다. 이에 의해, 레퍼런스 보정 부재(6)의 외면 부분(6A)에 내부식성을 갖게 할 수 있는 동시에, 광학유리(61)가 불화수소 가스에 의해 부식되어 백탁하는 것을 방지할 수 있다. 한편, 사파이어 판재(62) 및 시일부재(63)는, 광학유리(61)에 있어서의 광로와 교차하는 부분을 둘러싸도록 광학유리(61)로 기밀하게 설치되어 있으면 된다. 즉, 레퍼런스 위치 R에서 광학유리(61)가 광로 L과 교차하는 외면 부분을 기밀적으로 덮도록 사파이어 판재(62) 및 시일부재(63)가 설치되어 있으면 된다.In this embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the reference correction member 6 are covered by covering the entire light incident surface 61a and the light emitting surface 61b of the optical glass 61 with the sapphire plate material 62. The whole is formed by the corrosion resistant material. As a result, the outer surface portion 6A of the reference correction member 6 can be provided with corrosion resistance, and the optical glass 61 can be prevented from corroding and clouding by the hydrogen fluoride gas. On the other hand, the sapphire plate material 62 and the sealing member 63 should just be airtightly provided by the optical glass 61 so that the part which may cross | intersect the optical path in the optical glass 61 may be enclosed. That is, the sapphire plate material 62 and the sealing member 63 should just be provided so that the optical glass 61 may cover the outer surface part which intersects the optical path L at the reference position R airtightly.

이와 같이 구성한 레퍼런스 보정 부재(6)에 의해서 초점 위치를 보정하기 위해서는, 사파이어 판재(62)의 두께를 고려하면서, 광학유리(61)의 두께를 조정하는 것에 의해서 실시한다. 두께 수㎜의 사파이어 판재는 수요가 적고 일반적으로 고가이기 때문에, 수요가 많고 염가인, 두께가 얇은 사파이어 판재를 이용하는 것이 바람직하다. 여기서, 측정 셀(5)의 구성에 따라 다르지만, 예를 들면 1매의 사파이어 판재(62)의 두께를 0.5㎜로 했을 경우, 광학유리(61)의 두께는 예를 들면 6㎜∼15㎜ 정도이다. 즉 초점 위치의 보정에 있어서의 대부분을 광학유리(61)로 보정하는 것이 된다.In order to correct the focus position by the reference correction member 6 configured as described above, the thickness of the optical glass 61 is adjusted while considering the thickness of the sapphire plate material 62. Since the sapphire plate of several mm in thickness is low in demand and generally expensive, it is preferable to use a thin sapphire plate in demand and inexpensive. Here, although it changes with the structure of the measuring cell 5, when the thickness of one sapphire plate material 62 is 0.5 mm, for example, the thickness of the optical glass 61 is about 6 mm-15 mm, for example. to be. That is, the optical glass 61 corrects most of the focus position correction.

<본 실시형태의 효과><Effect of this embodiment>

이와 같이 구성한 본 실시형태에 관한 분광 분석 장치(100)에 의하면, 레퍼런스 측정에 있어서 레퍼런스 보정 부재(6)가 광로 L상에 설치되기 때문에, 측정 셀(5)의 유무에 의한 초점 위치의 변화를 보정하고, 측정 결과의 오차를 저감할 수 있다.According to the spectroscopic analysis apparatus 100 which concerns on this embodiment comprised in this way, since the reference correction member 6 is provided in the optical path L in a reference measurement, the change of the focal position by the presence or absence of the measurement cell 5 is prevented. It can correct and reduce the error of a measurement result.

특히, 레퍼런스 위치 R에서 광로와 교차하는 외면 부분(6A)이, 사파이어 판재로 형성되어 있기 때문에, 레퍼런스 측정에 있어서 레퍼런스 보정 부재(6)가 불화수소 가스로부터 받는 영향을 저감할 수 있다. 이에 의해, 불화수소 가스의 존재에 관계없이, 레퍼런스 측정의 오차를 저감할 수 있고, 상기 레퍼런스 측정의 결과를 이용한 분광 분석 장치(100)의 측정 결과의 오차를 저감할 수 있다. 또한, 레퍼런스 광측정에 있어서의 레퍼런스 보정 부재(6)의 부식을 무시할 수 있으므로, 레퍼런스 보정 부재(6)의 교환을 반드시 실시할 필요가 없고, 레퍼런스 보정 부재(6)의 교환에 수반하는 종래의 여러 가지의 문제점을 해결할 수 있다.In particular, since the outer surface portion 6A intersecting the optical path at the reference position R is formed of a sapphire plate, the influence of the reference correction member 6 from the hydrogen fluoride gas on the reference measurement can be reduced. Thereby, the error of a reference measurement can be reduced regardless of presence of hydrogen fluoride gas, and the error of the measurement result of the spectroscopic analyzer 100 using the result of the said reference measurement can be reduced. In addition, since the corrosion of the reference correction member 6 in the reference optical measurement can be neglected, it is not necessary to necessarily replace the reference correction member 6, and the conventional art accompanying the replacement of the reference correction member 6 is required. Various problems can be solved.

또한, 측정 셀(5) 및 레퍼런스 보정 부재(6)를 집광 광학계(3) 및 검출 광학계(4)에 대해 진퇴 이동시키는 것으로, 집광 광학계(3) 및 검출 광학계(4)를 공통화하고 있으므로, 복수의 광로를 마련하는 경우에 비해, 광원(2)의 위치 차이나 집광렌즈(3)의 흐림이 미치는 영향을 줄일 수 있다. 게다가 집광 광학계(3)를 1개만 준비하면 된다거나, 광원(2)로부터의 빛을 검출 광학계(4)로 유도할 때까지의 구조가 비교적 간단한 것이, 저비용으로 제작하는 것이 가능하다.In addition, since the condensing optical system 3 and the detecting optical system 4 are shared by moving the measuring cell 5 and the reference correction member 6 with respect to the condensing optical system 3 and the detecting optical system 4, Compared with the case of providing the optical path of the light source, the effect of the positional difference of the light source 2 and the blurring of the condensing lens 3 can be reduced. Furthermore, only one condensing optical system 3 needs to be prepared, or the structure until the light from the light source 2 is guided to the detection optical system 4 is relatively simple, so that it can be produced at low cost.

<기타 변형 실시형태><Other Modified Embodiments>

한편, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다.In addition, this invention is not limited to the said embodiment.

예를 들면, 레퍼런스 보정 부재(6)로서는, 도 5(A)에 도시하는 바와 같이, 광학 렌즈(61)의 적어도 광입사면(61a) 및 광사출면(61b)에 내식성 재료에 의해 코팅해도 좋다. 한편, 도 5(A)는 광학유리(61)의 외면 전체를 코팅했을 경우를 나타내고 있다. 이것이라면, 레퍼런스 보정 부재의 구성부품의 부품 점수를 삭감할 수 있고, 조립 작업을 간단화할 수 있다.For example, as the reference correction member 6, as shown in FIG. 5A, at least the light incident surface 61a and the light emitting surface 61b of the optical lens 61 may be coated with a corrosion resistant material. . 5A shows the case where the entire outer surface of the optical glass 61 is coated. In this case, the number of parts of the components of the reference correction member can be reduced, and the assembly work can be simplified.

또한, 레퍼런스 보정 부재(6)로서는, 광학유리 이외의 광학 소자를 이용하여도 되고, 또한, 도 5(B) 에 도시하는 바와 같이, 복수 매의 내부식성 재료로 되는 내부식성 판재(예를 들면 사파이어 판재)(62)를 스페이서(64)를 통하여 겹쳐맞춰서 구성해도 좋다. 이것이라면, 겹쳐맞춘 사파이어 판재의 매수를 조정하는 것에 의해서 여러 가지의 측정 셀의 초점 위치에 대응시킬 수 있다.In addition, as the reference correction member 6, optical elements other than optical glass may be used, and as shown in FIG. 5 (B), the corrosion resistant plate material which consists of several sheets of corrosion resistant material (for example, The sapphire plate material 62 may be laminated together via the spacer 64. In this case, it is possible to correspond to the focal position of various measurement cells by adjusting the number of superimposed sapphire plates.

게다가 상기 실시형태에서는 자외 영역에서의 흡광도 스펙트럼을 얻기 위해서 내부식성 재료로서 사파이어를 이용한 것이었지만, 그 외, 자외 영역 이외의 용도로 이용하는 경우에는, 사파이어 이외에, 불소 수지를 이용해도 좋다.Moreover, in the said embodiment, although sapphire was used as a corrosion-resistant material in order to acquire the absorbance spectrum in an ultraviolet region, when using for the use other than an ultraviolet region, you may use a fluorine resin other than sapphire.

더불어, 상기 실시형태에서는 측정 셀 및 레퍼런스 보정 부재를 일체로 설치하고 있지만, 그 외, 별도의 부재로서 구성하는 동시에, 이동 기구에 의해 선택적으로 측정 위치 또는 레퍼런스 위치에 이동시키도록 해도 좋다.In addition, in the said embodiment, although the measuring cell and the reference correction member are integrally provided, you may comprise as another member and also make it move selectively to a measurement position or a reference position by a moving mechanism.

게다가, 불화수소 가스 이외에, 예를 들면 염소 가스 등의 부식성 가스에 대해서 내부식성을 가지도록 구성해도 좋다.Furthermore, in addition to hydrogen fluoride gas, you may comprise so that corrosion resistance may be carried out with corrosive gas, such as chlorine gas.

또한, 상기 실시형태에서는 흡광도 측정법을 이용한 분광 분석 장치에 대해 설명했지만, 그 외의 레퍼런스 광측정을 실시하는 광학 분석 장치에도 적용 가능하다.In addition, although the said embodiment demonstrated the spectroscopic analyzer using the absorbance measuring method, it is applicable also to the optical analyzer which performs another reference optical measurement.

그 외, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되지 않고, 그 취지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지의 변형이 가능하다는 것은 말할 나위도 없다.In addition, this invention is not limited to the said embodiment, Needless to say that various deformation | transformation is possible in the range which does not deviate from the meaning.

100 ... 분광 분석 장치(광학 분석 장치)
2 ... 광원
3 ... 집광렌즈(집광 광학계)
4 ... 검출 광학계
P ... 측정 위치
Q ... 퇴피 위치
5 ... 측정 셀
R ... 레퍼런스 위치
S ... 퇴피 위치
6 ... 레퍼런스 보정 부재
6A ... 광로와 교차하는 외면 부분
61 ... 광학유리
62 ... 사파이어 판재(내부식성 판재)
63 : 시일부재
7 : 이동 기구
100 ... Spectroscopic Analyzer (Optical Analyzer)
2 ... light source
3 ... condenser lens (condensing optics)
4 ... detection optical system
P ... measuring position
Q ... evacuation position
5 ... measuring cell
R ... reference position
S ... evacuation position
6 ... reference compensation member
6A ... exterior section intersecting the light path
61 ... optical glass
62 ... sapphire plate (corrosion resistant plate)
63: seal member
7: moving mechanism

Claims (4)

광원에서 나오는 빛을 집광하는 집광 광학계와,
상기 집광 광학계에 의해 집광된 빛의 광로상에 설치되어, 그 빛을 검출하는 검출 광학계와,
상기 집광 광학계 및 상기 검출 광학계 사이에서의 광로상에 위치하는 측정 위치, 및 이 측정 위치로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동 가능한 측정 셀과,
상기 집광 광학계 및 상기 검출 광학계 사이에서의 광로상에 위치하는 레퍼런스 위치, 및 이 레퍼런스 위치로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동 가능하고, 상기 레퍼런스 위치에서 통과한 빛의 초점 위치가 상기 측정 위치에 있는 측정 셀을 통과한 빛의 초점 위치와 대략 동일하게 되도록 구성된 레퍼런스 보정 부재와,
상기 측정 셀 및 상기 레퍼런스 보정 부재를 이동시켜서, 선택적으로 상기 측정 셀을 상기 측정 위치 또는 상기 레퍼런스 보정 부재를 상기 레퍼런스 위치로 하는 이동 기구를 구비하고,
상기 레퍼런스 보정 부재의 적어도 상기 레퍼런스 위치에서 광로와 교차하는 외면 부분이, 부식성 가스에 대해 내부식성을 가지는 내부식성 재료로 형성되어 있는 광학 분석 장치.
A condensing optical system that condenses the light from the light source,
A detection optical system provided on the optical path of the light collected by the condensing optical system and detecting the light;
A measurement cell movable between a measurement position located on an optical path between the condensing optical system and the detection optical system, and an evacuation position evacuated from the measurement position;
A measurement in which the reference position located on the optical path between the condensing optical system and the detection optical system and the evacuation position withdrawn from this reference position are movable, and the focal position of the light passing at the reference position is at the measurement position A reference correction member configured to be approximately equal to the focal position of the light passing through the cell,
A movement mechanism for moving the measurement cell and the reference correction member to selectively move the measurement cell to the measurement position or the reference correction member to the reference position,
And an outer surface portion intersecting the optical path at least at the reference position of the reference correction member is formed of a corrosion resistant material having corrosion resistance against corrosive gas.
제 1 항에 있어서, 상기 레퍼런스 보정 부재가, 광학유리와, 상기 광학유리의 광입사면 및 광사출면 각각에 대향하여 설치된 상기 내부식성 재료로 이루어지는 내부식성 판재와, 상기 광학유리 및 상기 내부식성 판재의 사이를 봉하여 막는 시일부재를 가지는 광학 분석 장치.The anticorrosive plate material according to claim 1, wherein the reference correction member is made of an optical glass, a corrosion resistant plate made of the corrosion resistant material provided to face each of the light incidence plane and the light emission face of the optical glass, and the optical glass and the corrosion resistant plate. An optical analysis device having a sealing member that seals and seals the gap between them. 제 1 항에 있어서, 상기 레퍼런스 보정 부재가, 광학유리를 적어도 광입사면 및 광사출면에 상기 내부식성 재료를 코팅하는 것에 의해서 구성되어 있는 광학 분석 장치.The optical analysis device according to claim 1, wherein the reference correction member is formed by coating optical glass with the corrosion resistant material on at least a light incident surface and a light emitting surface. 제 1 항에 있어서, 상기 레퍼런스 보정 부재가, 상기 내부식성 재료로 이루어지는 복수 매의 내부식성 판재를 스페이서를 통하여 겹쳐맞춤으로써 구성되어 있는 광학 분석 장치.The optical analysis device according to claim 1, wherein the reference correction member is configured by overlapping a plurality of corrosion resistant plate materials made of the corrosion resistant material through spacers.
KR1020110137968A 2010-12-24 2011-12-20 Optical instrument KR101814823B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2010-287860 2010-12-24
JP2010287860A JP5584109B2 (en) 2010-12-24 2010-12-24 Optical analyzer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120073108A true KR20120073108A (en) 2012-07-04
KR101814823B1 KR101814823B1 (en) 2018-01-03

Family

ID=46525586

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110137968A KR101814823B1 (en) 2010-12-24 2011-12-20 Optical instrument

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5584109B2 (en)
KR (1) KR101814823B1 (en)
CN (1) CN102608029B (en)
TW (1) TWI576573B (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140068759A (en) * 2012-11-28 2014-06-09 가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼 Optical analyzer
KR20170070804A (en) * 2015-12-14 2017-06-22 가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼 Absorption spectrometer

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5947709B2 (en) 2012-12-27 2016-07-06 株式会社堀場製作所 Spectroscopic analysis method and spectroscopic analysis apparatus
JP6249886B2 (en) * 2014-06-11 2017-12-20 株式会社堀場製作所 Optical measuring cell and optical analyzer
JP7229084B2 (en) * 2019-04-19 2023-02-27 株式会社 堀場アドバンスドテクノ optical analyzer

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN85202765U (en) * 1985-06-29 1986-04-30 上海自立仪器合作工厂 Concentration direct-reading dial wivelength photometer
JPH03104857A (en) * 1989-09-18 1991-05-01 Central Glass Co Ltd Sheet-like kbr body coated with fluorine-containing resin and its production
JPH0798252A (en) * 1993-09-28 1995-04-11 Jasco Corp Fourrier transform infrared spectrometer
JPH0868746A (en) * 1994-08-29 1996-03-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Flow cell for measuring transmitted light
JP2000046728A (en) * 1998-07-24 2000-02-18 Apurikusu:Kk Corrosion-resistant cell for optical analysis
JP2002082050A (en) * 2000-09-08 2002-03-22 Horiba Ltd Spectrum analyzer
DE10204963A1 (en) * 2002-02-06 2003-08-14 Isco Inc Photometric probe for investigations on liquids and methods therefor
US7655910B2 (en) * 2005-02-14 2010-02-02 Japan Science And Technology Agency Apparatus for gas concentration measurement according to gas correlation method
CN101324524B (en) * 2007-06-11 2010-10-27 财团法人工业技术研究院 Measuring apparatus
CN201335808Y (en) * 2009-01-05 2009-10-28 宇星科技发展(深圳)有限公司 Double-wavelength optical detection device
US20120018312A1 (en) * 2009-01-16 2012-01-26 Shirou Yamamoto Corrosion Protection Method And Corrosion Protection Structure

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140068759A (en) * 2012-11-28 2014-06-09 가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼 Optical analyzer
KR20170070804A (en) * 2015-12-14 2017-06-22 가부시키가이샤 호리바 세이사꾸쇼 Absorption spectrometer

Also Published As

Publication number Publication date
CN102608029A (en) 2012-07-25
CN102608029B (en) 2016-08-24
TWI576573B (en) 2017-04-01
KR101814823B1 (en) 2018-01-03
JP5584109B2 (en) 2014-09-03
JP2012137303A (en) 2012-07-19
TW201233991A (en) 2012-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20120073108A (en) Optical instrument
US8934101B2 (en) Gas analysis apparatus
US9528877B2 (en) Spectrometer and a fluid analysis system
KR101907393B1 (en) Non-dispersive infrared sensor deposited hydrophobic thin film
JP4254654B2 (en) Laser multiple reflection cell gas analyzer
JP5419301B2 (en) Sample analyzer
KR102122843B1 (en) Optical analyzer
CN101871882A (en) Method and apparatus for examination of liquids
CN104220864A (en) Gas measuring device
US11630058B2 (en) Concentration measurement device
US20200158625A1 (en) Flow cell and optical system for analyzing fluid
CN103403529B (en) Optical gas analyser device having means for calibrating the frequency spectrum
JP7229084B2 (en) optical analyzer
JP3215570B2 (en) Method and apparatus for measuring component concentration of organic stripping liquid
JP4538364B2 (en) Refractive index measuring tool, refractive index measuring apparatus and refractive index measuring method
US11480553B2 (en) Liquid chromatography detector
CN109655406A (en) Spectral water quality detection device and detection method
CN107036981B (en) Absorption spectrometer
KR102341437B1 (en) Spectroscopic analysis apparatus, spectroscopic analysis method, manufacturing method of steel strip, and quality assurance method of steel strip
JP2022017606A (en) Concentration sensor
CN212432972U (en) Dual-optical-path spectrophotometry measuring device for multiplexing CCD
WO2015163782A1 (en) Method for measuring composition of sample
CN114026407A (en) Spectroscopic measuring instrument
JP2020139908A (en) Measurement cell, concentration measurement device, and method of manufacturing measurement cell

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant