KR20120069667A - 기판 표면의 토포그라피 분석용 장치 - Google Patents

기판 표면의 토포그라피 분석용 장치 Download PDF

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KR20120069667A
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KR1020127004363A
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프랑시스 필루드
마띠유 리샤르
베누아 로세
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봅스트 쏘시에떼 아노님
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Abstract

본 발명은 축선 (X) 이 축선 (Y, Z) 에 대해 표면 (2) 이 실질적으로 XY 면에 평행한 공간의 정규 직교 기준을 정의하는 축선 (X) 의 실질적인 면 궤적을 따라 이동하는 기판 (1) 의 표면 (2) 을 위한 토포그라피 장치에 관한 것으로, 상기 장치는 상기 기판 (1) 의 이동 도중의 상기 표면 (2) 을 토포그라피 하기 위해 상기 표면 (2) 에 의해 백스캐터된 조명을 측정하기 위한 수단 (20) 과 상호 작동할 수 있는 상기 표면 (2) 의 구조화된 조명 (10) 을 위한 수단을 포함하고, 구조화된 조명 (10) 의 수단은 표면에 복수 'n' 의 광 스트릭 (S; S1, S2 ... Sn) 을 형성하기 위해, 입사 각도 'a' 로 라이트 빔 (F) 을 표면 (2) 에 투사할 수 있으며, 각각의 광 스트릭 (S) 은 축선 (X) 에 대해 각도 'b' 를 형성하고, 측정 수단 (20) 은 XY 면 및 XZ 면에 교차하는 면 (P) 에 위치된 선형 카메라로 구성되고, XY 면과 면 (P) 의 교차 지점은 축선 (Y) 에 대해 각도 'c' 를 형성하고, XZ 면과 면 (P) 의 교차 지점은 축선 (Z) 에 대해 각도 'e' 를 형성하며, 입사 각도 'a' 는 30°~ 70°사이에 있고, 각도 'b' 는 -45°~ +45° 사이에 있고, 각도 'c' 는 -30°~ +30° 사이에 있고 그리고 각도 'e' 는 -45°~ +45° 사이에 있다.

Description

기판 표면의 토포그라피 분석용 장치{DEVICE FOR ANALYSING THE TOPOGRAPHY OF A SURFACE OF A SUBSTRATE}
본 발명은 포장지 제조용으로 사용되는 기판의 표면을 위한 토포그라피 장치 (topography device) 에 관한 것이다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 토포그라피 장치의 시행을 위한 방법에 관한 것이다.
본 발명은 최종적으로 본 발명에 따른 토포그라피 장치를 포함하는 폴딩 글루잉 (folding gluing) 기계에 관한 것이다.
예를 들어, 약품 상자를 제조하기 위해, 저밀도 플레이트 요소를 다양한 기계에 통과시킴으로써 변형시키는 것이 공지되었다. 판지 시트는 저밀도 플레이트 요소의 한 예이다.
공지된 제 1 전환은 판지 시트의 프린팅이다. 이 작동은 시트의 표면 (face) 에 잉크 액적을 점착시키거나 (deposit) 또는 분사 (project) 시키는 것으로 구성된다.
공지된 제 2 전환은 판지 시트의 컷팅이다. 이 작동은 상기 시트로부터 형상을 컷팅하는 것으로 구성된다. 컷 형상은 컷아웃 (cutout) 또는 블랭크 (blank) 로 불린다. 크리징 (creasing) 은 또한 패널의 범위를 정하고 이후의 폴딩을 용이하게 하기 위해 블랭크에서 수행된다. 이 작동은 일반적으로 컷팅 프레스에서 수행된다.
공지된 제 3 전환은 블랭크의 엠보싱이다. 이 작동은 상기 블랭크의 표면에 범프 (또는 돌기) 를 생성하기 위해, 예를 들어 점자 철자 (Braille character) 를 형성하기 위해 블랭크를 엠보싱하는 것으로 구성된다. 엠보싱의 예시는 그 내용이 본 설명에 참조로 포함되는 특허 출원 EP-A-1932657 의 출원인에 의해 개시된다.
공지된 제 4 전환은 블랭크의 글루잉이다. 이 작동은 블랭크의 표면에 접착제 액적을 점착시키거나 또는 분사시키는 것으로 구성된다. 글루잉의 예시는 그 내용이 또한 본 설명에 참조로 포함되는 특허 출원 EP-A-1070548 에 개시된다.
대량 생산의 관점에서, 시행중인 품질 기준을 확실하게 고수하도록 다양한 전환을 온-라인으로 확인할 수 있는 것이 필요하다. 특히, 양각부 (relief), 예를 들어 점자 철자 또는 접착제 액적을 제조하는 전환을 다룰 때, 양각부의 존재 또는 그 반대뿐만 아니라 고속으로 이동하는 블랭크의 양각부의 위치를 검출하는 것을 가능하게 하는 해결책은 존재한다. 반면에, 이 해결책은 양각부의 고유 포메이션 (proper formation) 은 확인할 수 없다.
양각부의 고유 포메이션을 확인하기 위해, 양각부의 3-차원 특성을 측정할 수 있게 하는 것이 또한 필요하다. 매트릭스 어레이 (matrix array) 카메라를 사용하는 해결책이 존재하지만 이 해결책은 충분히 빠른 조건하에서 양각부의 3-차원 특성을 측정할 수 없기 때문에 온-라인 사용에는 적합하지 않다.
본 발명의 제 1 목표는 고속으로 이동하는 기판의 표면에서 양각부의 고유 포메이션을, 양각부의 검출, 등록 및 치수 특성의 요구 사항과 산업 조건하에서 양립되는 신뢰할 만한 방식으로, 확인하기 위한 장치를 제안함으로써 상기 언급된 문제점을 해결하는 것이다.
따라서, 본 발명의 주제는 청구항 제 1 항에 따른 기판의 표면을 위한 토포그라피 장치이다.
본 발명의 제 2 목표는 본 발명에 따른 토포그라피 장치의 시행을 위한 방법을 제안하는 것이다.
따라서, 본 발명의 주제는 청구항 제 7 항에 따른 방법이다.
본 발명의 제 3 목표는 본 발명에 따른 토포그라피 장치가 장착된 폴딩-글루잉 기계를 제안하는 것이다.
따라서, 본 발명의 주제는 청구항 제 8 항에 따른 폴딩-글루잉 기계이다.
청구항 제 1 항에 정의된 토포그라피 장치때문에, 기판의 표면의 토포그라피를 측정하는 것이 가능하고 그렇게 함으로써 기판의 표면에서 양각부를 검출, 등록 및 특징짓는 것이 가능하다.
추가로, 청구항 제 7 항에 정의된 방법때문에, 기판의 표면에 존재하는 양각부의 모든 치수 특성을 신뢰할 만하고 빠른 방식으로 측정하는 것이 가능하다.
최종적으로, 청구항 제 8 항에 정의된 폴딩-글루잉 기계때문에, 양각부의 포메이션의 품질을 온-라인으로 확인하는 것이 가능하고, 다시 말해 박스의 제조 도중에, 그 이동 속도와 상관없이, 각각의 블랭크에 대해 확인이 이루어진다.
본 발명의 다른 목적 및 장점은 실시예의 기술을 통해 더 명확하게 드러날 것이고, 기술은 첨부된 도면을 참조하여 주어질 것이다.
도 1 은 본 발명에 따른 토포그라피 장치의 사시도이고;
도 2a ~ 도 2c 는 각 'b', 'c', 'e', 및 'f' 의 도면이고;
도 3 은 양각부를 포함하는 판-형 요소의 확대 배율의 단면도이고;
도 4 는 장치의 선형 카메라에 의한 이미지의 표시도이고;
도 5 는 도 3 의 이미지에 대응하고, 선형 어레이 카메라의 감광성 요소에 의해 전달된, 전기 신호의 표시도이다.
도 1 의 도면에서 축선 (X) 의 실질적인 면 궤적 (plane trajectory) 을 따라 이동하는 판지 기판 (1) 의 표면 (2) 에 존재하는 양각부의 3-차원 특성 측정을 위해 시행된 토포그라피 장치를 개략적으로 나타낸다. 기판 (1) 의 표면 (2) 의 면 부분을 포함하는 면, 즉 어떤 양각부도 없는 부분은 기준 면 (reference plane) 으로 불린다. 축선 (Y, Z) 은 기준 면이 XY 면에 평행한 공간의 정규 직교 기준을 축선 (X) 에 대해 정의한다.
장치는 기판 (1) 의 표면 (2) 에, 출사동 (exit pupil; 11) 을 통해, 정의된 조명 프로파일에 따른 구조화된 조명을 형성하기 위해 조정된 라이트 빔 (F) 을 비스듬하게 투사할 수 있는 광원 (10) 을 포함한다. 바람직하게, 광원 (10) 은 간섭 광원 (coherent light source), 전형적으로 레이저를 포함한다. 유리하게, 구조화된 조명은, 광원 (10) 으로부터 나오는, 두 개의 공간적 및 일시적 간섭 평면파 (coherent plane wave) 를 기판 (1) 의 표면 (2) 에서 간섭시키는 것에 의한 레이저 간섭계 (laser interferometry) 에 의해 얻어진다. 이 경우, 기판이 조명되는 입사각 'a' 는 기판에 수직인 두 개의 평면파에 의해 형성된 평균 각도이다. 이 배치를 통해, 구조화된 조명은 간섭 무늬 어레이, 즉 기판 (1) 의 표면 (2) 의 광도의 주기적인 변화로 이루어진다. 더 유리하게, 간섭 무늬는 기준면에서 직선으로 평행하면서 등거리이고, 교대로 명암진다.
대안으로, 구조화된 조명은 LED 에 의해서 또는 당업자에게 공지된 다른 수단에 의해서 백-라이트된 마스크 이미지를 투사하는 것에 의해 얻어질 수 있다.
도시된 예시에서, 복수 'n' 의 평행하면서 등거리인 직선의 광 스트릭 (luminous streak; S1, S2 ... Sn) 은 구조화된 조명 프로파일을 형성한다. 레이저 간섭계에 의해 얻어진 구조화된 조명의 사용은 광범위한 필드 심도 (large field depth) 로 라이트 빔 (F) 을 투사할 수 있게 하고 그리고 비스듬한 조명에도 불구하고, 기판의 조명받는 구역을 통틀어 일정한 선명도 및 일정한 간격의 광 스트릭을 얻을 수 있게 한다. 기준 면에 형성된 두 개의 연이은 스트릭 사이의 최단 거리는 'p1' 으로 불린다. 바람직하게, 거리 'p1' 은 0.01㎜ ~ 0.3㎜ 사이에 있고, 도시된 예시에서, 'p1' 은 0.2㎜ 와 동일하다. 각각의 스트릭 (S) 은 기판 (1) 의 표면 (2) 에서 폭 (L) 에 걸쳐 연장된다. 바람직하게, 폭 (L) 은 0.1㎜ ~ 3㎜ 사이에 있고, 도시된 예시에서, 폭 (L) 은 3㎜ 와 동일하다.
라이트 빔 (F) 은 기판 (2) 에 대해 비스듬한 평균 방향 (12) 을 따라 입사 각도 'a' 로 투사된다. 기준 면에서, 각각의 광 스트릭 (S) 은 축선 (X) 에 대해 각도 'b' 를 형성하는 선형 세그먼트이다. 유리하게, 각도 'b' 는 -45°~ +45°사이에 있고, 바람직하게, 'b' 는 0°와 동일하다. 게다가, 기판 (1) 의 표면 (2) 에 형성된 광 스트릭 (S1, S2 ... Sn) 의 어레이는 실질적으로 L1 이 p1 × n 과 동일한 길이 (L1) 및 폭 (L) 의 직사각형에 의해 범위가 정해진다는 것이 지적될 것이다. 이 직사각형은 관찰 구역 (23) 에 대한 조명 구역 (3) 을 정의한다. 바람직하게, 길이 (L1) 는 10㎜ ~ 100㎜ 사이에 있고, 도시된 예시에서, 길이 (L1) 는 42㎜ 와 동일하다.
광 스트릭 (S1, S2 ... Sn) 이 광원 (10) 으로부터 나오는 라이트 빔 (F) 의 임팩트로 스캐터의 잘 알려진 현상에 의해, 표면 (2) 에 가시적으로 표시되고, 또한 백스캐터 (backscatter) 또는 확산 반사 (diffuse reflection) 로 불린다.
본 발명에 따른 장치는 또한 상기 스트릭 (S) 에 의한 표면 (2) 의 조명을 측정하기 위한 수단을 포함하고, 이 수단은 선형 센서 및 렌즈 (어느쪽도 도시되지 않음) 를 포함하는 선형 카메라 (20) 로 이루어진다. 선형 센서는 CCD 또는 CMOS 타입의 센서이다. 유리하게, 관찰 영역에서 반사율이 무엇이든, 어떤 표면의 조명도 측정이 가능하도록 선형 카메라 (20) 는 고 명암비 카메라 (high dynamic range camera) 이다.
카메라 (20) 는 선형이기 때문에, 카메라의 관찰 구역 (23) 은 길이 (L2) 및 폭 (L3) (도시되지 않음) 의 좁은 관찰 스트립으로 감소되고, 또한 측정선으로 불린다. 이 측정선은 카메라 렌즈에 의해 카메라 (20) 의 선형 센서에 이미지화된다. 폭 (L3) 은 0.01㎜ ~ 0.1㎜ 사이에 있다. 카메라 (20) 의 관찰의 평균 방향은 축선 (Z) 에 대해 각도 'f' 를 형성하는 점선 (21) 으로 나타내지고 (도 2c 참조), 선 (21) 은 XZ 면에 속하고 측정선 중앙에 위치된 지점 (A) 을 통과해 지나간다. 바람직한 실시예에서, 각도 'f' 는 0 이다. 이 배치를 통해, 카메라 (20) 에 의해 이미지화된 측정선은 길이 (L2) 전체에 걸쳐서 선명하고 그리고 배율은 이 길이 전체에 걸쳐서 일정하다.
표면 (2) 이 본질적으로 반사하는 특정한 경우에, 예를 들어 기판이 알루미늄 층으로 코팅되면, 거울처럼 반사된 빛을 수집하기 위해 그렇게 하면서, 각도 '-a' 에 동일한 각도 'f' 를 사용하는 것이 유리하다. 이 경우, 당업자는 측정선 전체에 걸쳐 선명한 이미지를 얻기 위해 공지된 기술을 사용할 것이다.
카메라 (20) 의 렌즈 타입 및, 이른바 관찰 거리인, 카메라 (20) 로부터 표면 (2) 까지의 거리는, 관찰 스트립의 길이 (L2) 를 고려하여, 'd' 로 표시되는 최대 필드 각도가 작도록 선택되고, 이렇게 함으로써 길이 (L2) 전체에 걸쳐서, 관찰 방향은 축선 (Y) 에 거의 직각일 수 있다. 유리하게, 텔레센트릭 (telecentric) 타입의 렌즈는 축선 (Y) 에 직각인 관찰 방향으로, 길이 (L2) 전체에 걸쳐서, 측정선을 관찰하는데 사용될 것이고, 카메라 (20) 와 표면 (2) 사이의 최소 거리를 유지하는 동안, 이 경우에, 각도 'd' 는 거의 0 이다. 130㎜ 의 조명 거리에 대해서, 관찰 거리는 예를 들어 100㎜ 와 동일하다.
렌즈가 텔레센트릭이 아닌 경우에, 관찰 방향은 길이 (L2) 의 전체에 걸쳐서 축선 (Y) 에 직각이 아니다. 이 경우, 정확한 측정을 위해서, 당업자는 L2 에 따른 각도 'd' 의 변화를 고려할 것이고 그리고 예를 들어, 기준면에 칼리브레이션 (calibration) 을 사용하는 것에 의해 적절한 수정을 적용할 것이다.
감광성 요소의 선형 어레이를 구비한 카메라 (20) 는 XY 면 및 XZ 면에 교차하는 면 (P) 에 위치된다. 면 (P) 과 XY 면의 교차점은 축선 (Y) 에 대해 각도 'c' 를 형성한다 (도 2a 참조). 마찬가지로, 면 (P) 과 XZ 면의 교차점은 축선 (Z) 에 대해 각도 'e' 를 형성한다 (도 2b 참조). 유리하게, 각도 'c' 는 -30°~ +30°사이에 있고, 바람직하게 'c' 는 0°와 동일하다. 더 유리하게, 각도 'e' 는 -45°~ +45°사이에 있고, 바람직하게 'e' 는 0°와 동일하다. 그러므로, 각도 'b' 가 0°와 동일하고, 각도 'c' 가 0°와 동일하고 그리고 각도 'e' 가 0°와 동일한 특정 실시예에서, 직선의 광 스트릭 (S1, S2 ... Sn) 은 면 (P) 에 직교한다. 바람직한 실시예에서, 광원 (10) 및 선형 카메라 (20) 는 길이 (L1) 가 적어도 길이 (L2) 와 동일한 방식으로 배열된다.
광원 (10) 은 바람직하게 400㎚ ~ 1,100㎚ 사이에 위치된 파장을 내고, 이러한 광원의 전력은 대략 1 ~ 100㎽ 정도이다.
카메라 (20) 는 예를 들어 2,048 픽셀의 단선 (single line) 을 구비한 선형 카메라이다. 카메라 (20) 에 의해 획득된 1차원 이미지는 메모리 (26) 에 저장된다. 메모리 (26) 의 데이터는 추가적으로 기술되는 삼각 측량 알고리즘 (triangulation algorithm) 에 의해 사용된다. 그러므로, 초당 40,000 선의 획득 속도 및 초당 8 미터의 기판 이동 속도에 대하여, 두 개의 연이은 측정선 사이의 기판 이동 거리에 대응하여, 0.2㎜ 의 축선 (X) 을 따른 해상도가 얻어지고, 이는 관찰 영역을 통과해 지나가는 기판의 표면의 토포그라피, 예를 들어 점자 철자 또는 글루 스폿 또는 기판, 특히 포장지 생산을 위해 사용되는 기판의 표면의 어떤 다른 양각부를 보이는 표면의 토포그라피를 신뢰할 만한 방식으로 추정하기에 충분하다.
입사 각도 'a' 는 유리하게 30°~ 70°사이에 있고, 바람직하게 45°~ 60°사이에 있다. 도 3 의 도면에서 더 잘 이해되는 대로, 이 각도는 토포그라피를 수행하도록 요구되는 양각부의 치수 특성의 함수로서 선택된다.
도 3 에서 면 (P) 의 단면이, 확대 배율로, 블랭크 (1) 의 표면 (2) 의 양각부를 통해 나타내진다. 이 예시에서, 양각부는 그 기저에서 (전형적으로 점자 지점) 약 2㎜ 의 높이 'h' 및 약 1.6㎜ 의 직경 'D' 로 특징지어진 범프 (4) 이다. 45°와 동일한 입사 각도 'a' 및 0.2㎜ 의 해상도로, 블랭크 (1) 가 8㎧ 의 속도로 면 (P) 을 횡단할 때, 범프 (4) 의 7 번 또는 8 번의 토포그라피 기록이 연이어 수행될 수 있고, 이는 상기 범프의 3-차원 특성을 그로부터 추정하기에 충분하다.
도 3 은 상부가 면 (P) 을 횡단하는 순간의 범프 (4) 를 도시한다. 평균 방향 (12) 을 따라 표면 (2) 에 투사되는 스트릭 (S1, S2 ... Sn) 은 여러 방향으로 및 특히 선형 카메라 (20) 를 향해 백스캐터된다. 선형 카메라 (20) 의 렌즈가 텔레센트릭 타입이고 각도 'e' 는 0 인 특정한 경우에, 카메라 (20) 에 의해 관찰된 백스캐터된 광선은 블랭크의 표면 (2) 에 직교한다. 표면 (2) 에서 라이트 빔 (F) 의 임팩트 이후의 면 (P) 에서 'n' 스트릭 (S1, S2 ... Sn) 에 의해 백스캐터된 직교하는 광선은 각각 R1, R2 ... Rn 으로 불린다. 마찬가지로, 면 (P) 에서 백스캐터된 두 개의 연이은 직교하는 광선 사이의 최단 거리는 'p2' 로 불린다. 각각의 직교하는 광선은 화살표 (R) 에 의해 나타내진다.
선형 카메라 (20) 의 관찰의 평균 방향 (21) 은 표면 (2) 에 수직이고, 카메라 (20) 는 면 (P) 에서 백스캐터된 직교하는 광선 (R1, R2 ... Rn) 을 관찰한다. 범프 (4) 때문에, 이 직교하는 광선은 길이 (L1) 전체에 걸쳐 등거리가 아니고, 달리 말해서, 거리 'p2' 는 가변적이다. 정말로, 관찰 영역에서 아무런 양각부가 위치되지 않는 동안, 카메라 (20) 는 구조화된 조명 프로파일과 일치하는 백스캐터된 광에 의해 자극된다. 다른 한편으로, 양각부가 관찰 영역 내에 위치되자마자, 이는 광 스트릭 (S1, S2 ... Sn) 의 공간 이동을 야기하고, 그러므로, 카메라 (20) 의 대응하는 감광성 요소의 자극의 공간 이동을 야기한다. 이는 본 발명에 따른 토포그라피 장치가 잘 공지된 삼각 측량 원리로 작동하고, 원리에 따라 입사 각도 'a' 는 0 이 아니고, 그러므로 카메라 (20) 와 표면 (2) 사이의 거리의 변화는 카메라 (20) 에 의해 수신된 광선의 측 이동을 야기한다는 사실에 기인한다. 표면 (2) 의 3-차원 특성을 결정할 수 있게 하고 그러므로 범프 (4) 의 고유 포메이션을 확증할 수 있게 하는 이동의 측정이다. 그러므로, 프로세서 (25) 는 삼각 측량 알고리즘을 카메라 (20) 에 의해 얻어진 각각의 이미지에 적용한다. 삼각 측량 알고리즘의 공지된 예시는 다음의 식으로 주어진다 : "측 이동" = tan('a') × "수직 이동"; tan('a') 는 입사 각도 'a' 의 탄젠트이고, "수직 이동" 은 카메라 (20) 에 의해 수신된 광선의 축선 (Z) 의 이동이고 그리고 "측 이동" 은 카메라 (20) 에 의해 수신된 광선의 축선 (Y) 의 이동이다. 도시된 예시에서, 삼각 측량 알고리즘은 한줄씩 적용되고, 서로 독립적으로 적용된다. 변형 실시예에서, 삼각 측량 알고리즘은 여러 인접한 선의 저장된 데이터를 사용한다.
실제로, 입사 각도 'a' 가 70°를 초과하면, 양각부의 검출은 매우 민감해지지만 토포그라피 기록은 양각부의 그림자가 나타날 수 있다는 사실 때문에 덜 신뢰하게 된다. 다른 한편으로, 입사 각도 'a' 가 30°아래로 떨어지면, 광 스트릭 (S1, S2 ... Sn) 의 이동이 덜 가시화된다는 사실 때문에 민감도는 급격하게 감소된다.
도 4 에서 광 스트릭 (S1, S2 ... Sn) 의 이미지 (30) 가 나타내지고, 이는 범프 (4) 가 도 3 의 위치에 있을 때 카메라 (20) 에 의해 보여진다. 카메라 (20) 는 선형이고, 선형은 각각의 스트릭의 오직 단일 광 지점만 볼 수 있다. 음영 지역 (W) 은 빛을 수신하는 카메라 (20) 의 감광성 요소를 나타낸다. 대응하는 전기 신호 (40) 는 도 5 에 나타내진다.
도 5 에서 감광성 요소의 어레이에 의해 전달된 주기적인 전기 신호가 나타내진다. 관찰 영역에서 블랭크의 표면의 양각부의 존재는 이전에 설명된대로 공간 이동을 야기한다. 이 이동은 신호 (40) 의 주기 (T) 의 감소 또는 증가에 의해 스폿된다 (spotted). 도시된 예시에서, 주기 (T) 가 감소하면, 이는 광원 (10) 이 표면 (2) 레벨의 양 (positive) 의 차이인 구역을 조명하고 있음을 의미하고, 반대로, 주기 (T) 가 증가하면, 이는 광원 (10) 이 표면 (2) 레벨의 음 (negative) 의 차이인 구역을 조명하고 있음을 의미한다.
관찰 영역에서 블랭크의 표면의 양각부의 부재시에, 주기 (T) 는 실질적으로 감광성 요소의 어레이의 길이의 전체에 걸쳐 일정하다는 것이 지적될 것이다.
본 발명에 따른 장치는 다음의 방식으로 시행될 수 있다 : 라이트 빔 (F) 은 표면 (2) 에 'n' 광 스트릭 (S1, S2 ... Sn) 을 형성하기 위해 표면 (2) 에 비스듬하게 투사되고, 그 후에 광 스트릭 (S1, S2 ... Sn) 의 공간 이동은 각각의 얻어진 이미지에 대해 측정되고, 그리고 최종적으로 삼각 측량 알고리즘이 각각의 측정된 이동에 적용된다.
본 발명에 따른 장치는 판-형 요소 (1) 를 실질적으로 축선 (X) 의 면 궤적을 따라 전달하기 위한 컨베이어를 포함하는 폴딩-글루잉 기계에 유리하게 장착될 수 있다.
토포그라피 표면이 판-형 요소의 토포그라피 표면임에도 불구하고, 본 발명은 재료의 웹의 형태를 취하는 기판에 또한 적용할 수 있음은 말할 필요도 없다.

Claims (10)

  1. 축선 (X) 이 축선 (Y, Z) 에 대해 표면 (2) 이 실질적으로 XY 면에 평행한 공간의 정규 직교 기준을 정의하는 축선 (X) 의 실질적인 면 궤적을 따라 이동하는 기판 (1) 의 표면 (2) 을 위한 토포그라피 장치로서, 상기 장치는 상기 기판 (1) 의 이동 도중의 상기 표면 (2) 을 토포그라피 하기 위해 상기 표면 (2) 에 의해 백스캐터된 조명을 측정하기 위한 수단 (20) 과 상호 작동할 수 있는 상기 표면 (2) 의 구조화된 조명 (10) 을 위한 수단을 포함하고, 구조화된 조명 (10) 의 수단은 표면에 복수 'n' 의 광 스트릭 (S; S1, S2 ... Sn) 을 형성하기 위해, 입사 각도 'a' 로 라이트 빔 (F) 을 표면 (2) 에 투사할 수 있으며, 각각의 광 스트릭 (S) 은 축선 (X) 에 대해 각도 'b' 를 형성하고, 측정 수단 (20) 은 XY 면 및 XZ 면에 교차하는 면 (P) 에 위치된 선형 카메라로 구성되고, XY 면과 면 (P) 의 교차 지점은 축선 (Y) 에 대해 각도 'c' 를 형성하고, XZ 면과 면 (P) 의 교차 지점은 축선 (Z) 에 대해 각도 'e' 를 형성하며, 입사 각도 'a' 는 30°~ 70°사이에 있고, 각도 'b' 는 -45°~ +45° 사이에 있고, 각도 'c' 는 -30°~ +30° 사이에 있고 그리고 각도 'e' 는 -45°~ +45° 사이에 있는 토포그라피 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 입사 각도 'a' 는 45°~ 60°사이에 있는 것을 특징으로 하는 토포그라피 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 각도 'b' 는 0°와 동일한 것을 특징으로 하는 토포그라피 장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 각도 'c' 는 0°와 동일한 것을 특징으로 하는 토포그라피 장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 각도 'e' 는 0°와 동일한 것을 특징으로 하는 토포그라피 장치.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 구조화된 조명 (10) 의 수단은 레이저 간섭계로 구성되고 간섭 무늬 어레이는 구조화된 조명을 구성하는 것을 특징으로 하는 토포그라피 장치.
  7. 축선 (X) 이 축선 (Y, Z) 에 대해 표면 (2) 이 실질적으로 XY 면에 평행한 공간의 정규 직교 기준을 정의하는 축선 (X) 의 실질적인 면 궤적을 따라 이동하는 기판 (1) 의 표면 (2) 을 위한 토포그라피 방법으로서,
    - 복수 'n' 의 광 스트릭 (S; S1, S2 ... Sn) 을 형성하기 위해 라이트 빔 (F) 을 비스듬하게 표면 (2) 에 투사하는 단계,
    - XY 면 및 XZ 면에 교차하는 면 (P) 에 위치된 선형 카메라 (20) 로 상기 표면 (2) 의 연이은 이미지를 취하는 단계,
    - 각각의 얻어진 이미지에 대해 광 스트릭 (S; S1, S2 ... Sn) 의 공간 이동을 측정하는 단계,
    - 각각의 측정된 이동에 삼각 측량 알고리즘을 적용하는 단계를 포함하는 토포그라피 방법.
  8. 판-형 요소 (1) 를 실질적으로 축선 (X) 의 면 궤적을 따라 전달하기 위한 컨베이어를 포함하는 폴딩-글루잉 기계에 있어서, 제 1 항에 따라 정의된 토포그라피 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴딩-글루잉 기계.
  9. 폴더-글루어에서 이동하는 판-평 요소 (1) 의 표면 (2) 을 위한 토포그라피 장치.
  10. 축선 (X) 이 축선 (Y, Z) 에 대해 표면 (2) 이 실질적으로 XY 면에 평행한 공간의 정규 직교 기준을 정의하는 축선 (X) 의 실질적인 면 궤적을 따라 폴더-글루어에서 이동하는 플레이트 요소 (1) 의 표면 (2) 을 위한 토포그라피 장치로서, 상기 장치는 상기 폴더-글루어에서 상기 플레이트 요소 (1) 의 이동 도중의 상기 표면 (2) 을 토포그라피 하기 위해 상기 표면 (2) 에 의해 백스캐터된 조명을 측정하기 위한 수단 (20) 과 상호 작동할 수 있는 상기 표면 (2) 의 구조화된 조명 (10) 을 위한 수단을 포함하고, 구조화된 조명 (10) 의 수단은 표면에 복수 'n' 의 광 스트릭 (S; S1, S2 ... Sn) 을 형성하기 위해, 입사 각도 'a' 로 라이트 빔 (F) 을 표면 (2) 에 투사할 수 있으며, 각각의 광 스트릭 (S) 은 축선 (X) 에 대해 각도 'b' 를 형성하고, 측정 수단 (20) 은 XY 면 및 XZ 면에 교차하는 면 (P) 에 위치된 선형 카메라로 구성되고, XY 면과 면 (P) 의 교차 지점은 축선 (Y) 에 대해 각도 'c' 를 형성하고, XZ 면과 면 (P) 의 교차 지점은 축선 (Z) 에 대해 각도 'e' 를 형성하며, 입사 각도 'a' 는 30°~ 70°사이에 있고, 각도 'b' 는 -45°~ +45° 사이에 있고, 각도 'c' 는 -30°~ +30° 사이에 있고 그리고 각도 'e' 는 -45°~ +45° 사이에 있는 토포그라피 장치.
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