KR20120069485A - 임프린팅용 몰드 및 그를 이용한 패턴 형성방법 및 그를 이용한 액정표시장치의 제조방법 - Google Patents

임프린팅용 몰드 및 그를 이용한 패턴 형성방법 및 그를 이용한 액정표시장치의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 패턴 물질과 접촉하는 일면에 볼록부 및 오목부를 구비하고 있고, 패턴 물질과 접촉하는 일면의 최외곽 영역에 패턴 물질의 퍼짐을 방지하기 위한 댐이 형성되어 있는 것을 특징으로 임프린팅용 몰드, 상기 몰드를 이용한 패턴 형성 방법 및 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로서,
본 발명은 몰드의 최외곽 영역에 댐이 형성되어 있기 때문에, 몰드가 패턴 물질과 접촉하는 동안에 패턴 물질이 기판의 측면으로 퍼지는 것이 방지되는 효과 있고, 패턴 물질이 상기 몰드의 댐 안쪽까지만 퍼지게 되므로, 상기 패턴 물질의 퍼짐 정도를 상기 댐에 의해 조절할 수 있고, 그에 따라 기판 위에 형성되는 패턴의 유효 영역을 정확하게 예측할 수 있다.

Description

임프린팅용 몰드 및 그를 이용한 패턴 형성방법 및 그를 이용한 액정표시장치의 제조방법{Imprinting Mold and Method for forming pattern on substrate and Method for manufacturing Liquid Crystal Display Device using the same}
본 발명은 임프리팅(Imprinting) 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 임프링팅 방법에 사용되는 몰드(Mold)에 관한 것이다.
반도체 및 디스플레이 장치 분야에서 소정의 패턴을 형성하는 방법으로서 포토리소그라피법(Photolithography)이 널리 이용되고 있는데, 포토리소그라피법은 공정이 복잡하고 고가의 포토 마스크가 요구되는 등의 단점이 있다.
따라서, 상기 포토리소그라피법을 대체할 수 있는 패턴 형성방법에 대한 연구가 있어왔고, 그 중 하나의 방법으로 임프린팅(Imprinting) 방법이 있다.
상기 임프린팅 방법은 기판 상에 패턴 물질을 도포하고 상기 패턴 물질에 소정의 몰드를 접촉시켜 소정의 패턴을 형성하는 방법으로서, 이와 같은 임프린팅 방법은 공정이 간단하고 비용이 절감되어 상기 포토리소그라피법에 비하여 경제성 및 생산성 면에서 유리하다.
이하, 도면을 참조로 종래의 임프린팅 방법에 대해서 설명하기로 한다.
도 1a 내지 도 1d는 종래의 임프린팅 방법에 대한 개략적인 공정 단면도이다.
우선, 도 1a에서 알 수 있듯이, 기판(10) 상에 소정의 패턴 물질(20a)을 도포한다.
다음, 도 1b에서 알 수 있듯이, 상기 패턴 물질(20a) 위에 소정의 몰드(30)를 위치시킨 후, 상기 몰드(30)를 상기 패턴 물질(20a)과 접촉시킨다.
여기서, 상기 몰드(30)는 볼록부(31) 및 오목부(32)를 구비하고 있어, 상기 볼록부(31) 및 오목부(32)의 구성이 상기 패턴 물질(20a)에 전사되어 최종 패턴 형태가 결정된다.
다음, 도 1c에서 알 수 있듯이, 상기 패턴 물질(20a)과 몰드(30)가 접촉한 상태로 상기 패턴 물질(20a)을 경화시킨다.
다음, 도 1d에서 알 수 있듯이, 상기 몰드(30)를 상기 패턴 물질(20a)로부터 분리한다. 그리하면, 상기 기판(10) 상에 소정의 패턴(20)이 완성된다.
그러나, 이와 같은 종래의 임프린팅 방법은 다음과 같은 문제점이 있다.
상기 패턴 물질(20a)에 상기 몰드(30)를 접촉시키게 되면, 상기 패턴 물질(20a)이 주변부로 퍼지면서 상기 기판(10)의 측면까지 넘치게 된다(도 1c의 A영역 참조). 이와 같이, 패턴 물질(20a)이 기판(10)의 측면까지 넘치게 되면, 상기 몰드(30)를 패턴 물질(20a)로부터 분리하는 도 1d에 따른 공정이 어렵게 되는 문제점이 있다.
본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명은 패턴 물질과 접촉시 패턴 물질의 퍼짐 정도를 조절함으로써 패턴 물질이 기판의 측면까지 넘치는 문제를 방지할 수 있는 임프린팅용 몰드 및 그를 이용한 패턴 형성방법 및 액정표시장치의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 패턴 물질과 접촉하는 일면에 볼록부 및 오목부를 구비하고 있고, 패턴 물질과 접촉하는 일면의 최외곽 영역에 패턴 물질의 퍼짐을 방지하기 위한 댐이 형성되어 있는 것을 특징으로 임프린팅용 몰드를 제공한다.
여기서, 상기 댐의 높이는 상기 볼록부의 높이보다 높게 형성될 수 있다.
본 발명은 또한, 기판 상에 소정의 패턴 물질을 도포하는 공정; 상기 패턴 물질 위에 소정의 몰드를 위치시킨 후, 상기 몰드를 상기 패턴 물질과 접촉시키는 공정; 상기 패턴 물질과 몰드가 접촉한 상태로 상기 패턴 물질을 경화시키는 공정; 및 상기 몰드를 상기 패턴 물질로부터 분리하는 공정을 포함하여 이루어지고, 이때, 상기 몰드는 패턴 물질과 접촉하는 일면에 볼록부 및 오목부를 구비하고 있고, 패턴 물질과 접촉하는 일면의 최외곽 영역에 패턴 물질의 퍼짐을 방지하기 위한 댐이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법을 제공한다.
상기 패턴 물질을 경화시키는 공정은 상기 몰드를 통해 UV를 조사하는 공정으로 이루어지고, 상기 몰드는 투명한 재료로 이루어질 수 있다.
본 발명은 또한, 제1 기판 상에 차광층을 형성하는 공정; 상기 차광층 사이에 컬러 필터층을 형성하는 공정; 상기 컬러 필터층 상에 소정의 패턴 물질을 도포하는 공정; 상기 패턴 물질 위에 소정의 몰드를 위치시킨 후, 상기 몰드를 상기 패턴 물질과 접촉시키는 공정; 상기 패턴 물질과 몰드가 접촉한 상태로 상기 패턴 물질을 경화시키는 공정; 상기 몰드를 상기 패턴 물질로부터 분리하여 오버코트층 및 컬럼 스페이서 패턴을 형성하는 공정; 및 상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판을 준비하고, 상기 제1 기판 및 제2 기판 사이에 액정층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지고, 이때, 상기 몰드는 패턴 물질과 접촉하는 일면에 볼록부 및 오목부를 구비하고 있고, 패턴 물질과 접촉하는 일면의 최외곽 영역에 패턴 물질의 퍼짐을 방지하기 위한 댐이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법을 제공한다.
이상과 같은 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명은 몰드의 최외곽 영역에 댐이 형성되어 있기 때문에, 몰드가 패턴 물질과 접촉하는 동안에 패턴 물질이 기판의 측면으로 퍼지는 것이 방지되는 효과 있다.
또한, 본 발명은 패턴 물질이 상기 몰드의 댐 안쪽까지만 퍼지게 되므로, 상기 패턴 물질의 퍼짐 정도를 상기 댐에 의해 조절할 수 있고, 그에 따라 기판 위에 형성되는 패턴의 유효 영역을 정확하게 예측할 수 있다.
도 1a 내지 도 1d는 종래의 임프린팅 방법에 대한 개략적인 공정 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린팅용 몰드의 개략적인 단면도이다.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린팅 방법을 적용한 패턴 형성 방법에 대한 개략적인 공정 단면도이다.
도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치 제조방법에 대한 개략적인 공정 단면도이다.
이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린팅용 몰드의 개략적인 단면도이다.
도 2에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린팅용 몰드(100)는 패턴 물질과 접촉하는 일면에 볼록부(110) 및 오목부(120)를 구비하고 있어, 상기 볼록부(110) 및 오목부(120)의 형상에 의해서 패턴 물질의 최종 패턴이 결정될 수 있다. 따라서, 상기 볼록부(110) 및 오목부(120)는 패턴 물질의 최종 패턴에 대응하는 형상으로 이루어진다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린팅용 몰드(100)는 패턴 물질과 접촉하는 일면에 패턴 물질의 퍼짐을 방지하기 위한 댐(dam)(130)을 구비하고 있어, 상기 댐(130)에 의해서 몰드(100)가 패턴 물질과 접촉하는 동안에 패턴 물질의 퍼짐이 방지될 수 있다.
상기 댐(130)은 상기 패턴 물질과 접촉하는 일면의 최외곽 영역에 형성된다. 예로서, 상기 몰드(100)가 사각형 구조로 이루어진 경우, 상기 댐(130)은 사각형의 최외곽 네 변에 형성된다.
상기 댐(130)은 상기 몰드(100)에서 가장 높은 높이로 형성되며, 따라서, 상기 댐(130)의 높이(h3)는 상기 오목부(120)의 높이(h1) 및 상기 볼록부(110)의 높이(h2)보다 높게 형성된다. 본 명세서에서, 각각의 구성의 높이(h1, h2, h3)는 패턴 물질과 접촉하지 않는 몰드(100)의 타면(100a)에서부터 각각의 구성면까지의 길이를 의미한다.
이와 같이, 본 발명은 몰드(100)의 최외곽 영역에 가장 높은 높이로 댐(130)을 형성함으로써, 몰드(100)가 패턴 물질과 접촉하는 동안에 패턴 물질의 퍼짐이 방지되는 효과가 있다.
특히, 본 발명에 따르면 상기 댐(130)의 높이(h3)와 폭(w)을 적절히 조절함으로써, 패턴 물질의 퍼짐 정도를 조절할 수 있고, 그에 따라 최종 패턴의 유효 영역을 정확히 제어할 수 있는 이점이 있다. 이에 대해서는 후술하는 패턴 형성 방법에서 보다 구체적으로 설명하기로 한다.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린팅 방법을 적용한 패턴 형성 방법에 대한 개략적인 공정 단면도로서, 전술한 도 2에 따른 몰드(100)를 이용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다.
우선, 도 3a에서 알 수 있듯이, 기판(200) 상에 소정의 패턴 물질(210a)을 도포한다.
상기 기판(200)은 용도에 따라 다양한 재료를 이용할 수 있으며, 일반적으로 디스플레이 장치에 적용될 경우 유리 또는 투명한 플라스틱을 이용할 수 있다.
상기 패턴 물질(210a)은 롤(Roll) 인쇄방식, 또는 슬릿 노즐(slit nozzle) 방식 등 당업계에 공지된 다양한 방법을 이용하여 상기 기판(200) 상에 도포할 수 있다.
다음, 도 3b에서 알 수 있듯이, 상기 패턴 물질(210a) 위에 몰드(100)를 위치시킨 후, 상기 몰드(100)를 상기 패턴 물질(210a)과 접촉시킨다.
여기서, 상기 몰드(100)는 전술한 도 2에 따른 몰드(100)를 이용한다. 즉, 볼록부(110), 오목부(120) 및 댐(130)을 구비한 몰드(100)를 이용하여 상기 패턴 물질(210a)과 접촉시킨다.
상기 몰드(100)에 대해서는 전술한 바와 동일하므로 반복 설명은 생략하기로 한다.
다음, 도 3c에서 알 수 있듯이, 상기 패턴 물질(210a)과 몰드(100)가 접촉한 상태로 상기 패턴 물질(210a)을 경화시킨다.
상기 몰드(100)는 그 최외곽 영역에 가장 높은 높이로 댐(130)이 형성되어 있기 때문에, 몰드(100)가 패턴 물질(210a)과 접촉하는 동안에 패턴 물질(210a)이 상기 기판(200)의 측면까지 퍼지는 것이 방지된다.
특히, 패턴 물질(210a)이 퍼지더라도 상기 몰드(100)의 댐(130) 안쪽까지만 퍼지게 되므로, 상기 댐(130)의 높이(h3) 및 폭(w)을 조절하여 패턴 물질(210a)의 퍼짐 정도를 조절할 있다. 이와 같이, 패턴 물질(210a)의 퍼짐 정도를 조절할 수 있기 때문에, 상기 기판(200) 위에 형성되는 패턴의 유효 영역을 정확하게 예측할 수 있다.
상기 패턴 물질(210a)의 경화 공정은 열을 가하는 열 경화 공정 또는 UV를 가하는 UV 경화 공정으로 이루어질 수 있다.
상기 경화 공정이 UV 경화 공정으로 이루어질 경우, 상기 UV는 상기 몰드(100)를 통과하여 상기 패턴 물질(210a)로 조사될 수 있으며, 이를 위해서 상기 몰드(100)는 UV가 투과할 수 있는 투명한 재료로 형성한다.
다음, 도 3d에서 알 수 있듯이, 상기 몰드(100)를 상기 패턴 물질(210a)로부터 분리한다.
그리하면, 상기 기판(200) 상에 소정의 패턴(210)이 완성된다.
한편, 도시하지는 않았지만, 상기 완성된 소정의 패턴(210)을 식각함으로써, 도 3d에서와 같이 전체가 연결된 것이 아니라, 소정 간격으로 이격된 패턴을 형성하는 것도 가능하다.
도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치 제조방법에 대한 개략적인 공정 단면도로서, 이는 전술한 패턴 형성 방법을 적용하여 액정표시장치의 소정 구성을 패턴 형성하는 방법에 관한 것이다.
우선, 도 4a에서 알 수 있듯이, 제1 기판(300) 상에 차광층(310)을 형성한다.
상기 제1 기판(300)은 유리 또는 투명한 플라스틱을 이용할 수 있다.
상기 차광층(310)은 화소 영역 이외의 영역으로 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 것으로서, 상기 제1 기판(300) 상에 매트릭스 형상으로 패턴 형성한다.
다음, 도 4b에서 알 수 있듯이, 상기 차광층(310) 사이에 컬러 필터층(320)을 형성한다.
상기 컬러 필터층(320)은 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터로 형성할 수 있다.
다음, 도 4c에서 알 수 있듯이, 상기 컬러 필터층(320) 상에 소정의 패턴 물질(330a)을 도포한다.
상기 패턴 물질(330a)은 최종적으로 오버 코트층(over coating layer) 및 컬럼 스페이서(column spacer)로 패턴되는 것이다.
따라서, 오버 코트층 및 컬럼 스페이서에 적용될 수 있는 당업계에 공지된 재료를 상기 패턴 물질(330a)로 이용한다.
상기 패턴 물질(330a)은 롤(Roll) 인쇄방식, 또는 슬릿 노즐(slit nozzle) 방식 등 당업계에 공지된 다양한 방법을 이용하여 상기 컬러 필터층(320) 상에 도포할 수 있다.
다음, 도 4d에서 알 수 있듯이, 상기 패턴 물질(330a) 위에 몰드(100)를 위치시킨 후, 상기 몰드(100)를 상기 패턴 물질(330a)과 접촉시킨다.
여기서, 상기 몰드(100)는 전술한 도 2에 따른 몰드(100)를 이용한다. 즉, 볼록부(110), 오목부(120) 및 댐(130)을 구비한 몰드(100)를 이용하여 상기 패턴 물질(210a)과 접촉시킨다. 상기 몰드(100)에 대해서는 전술한 바와 동일하므로 반복 설명은 생략하기로 한다.
특히, 후술하는 공정에서 알 수 있듯이, 상기 몰드(100)를 구성하는 볼록부(110)와 댐(130) 사이의 높이차(△H)에 의해서 오버 코트층의 두께가 결정되고, 상기 몰드(100)를 구성하는 오목부(120)의 깊이(D)에 의해서 상기 컬럼 스페이서의 높이가 결정된다.
다음, 도 4e에서 알 수 있듯이, 상기 패턴 물질(330a)과 몰드(100)가 접촉한 상태로 상기 패턴 물질(330a)을 경화시킨다.
상기 몰드(100)는 그 최외곽 영역에 가장 높은 높이로 댐(130)이 형성되어 있기 때문에, 몰드(100)가 패턴 물질(330a)과 접촉하는 동안에 패턴 물질(330a)이 퍼지는 것이 방지됨은 전술한 바와 동일하다.
상기 패턴 물질(330a)의 경화 공정은 열 경화 공정 또는 UV 경화 공정으로 이루어질 수 있고, 상기 경화 공정이 UV 경화 공정으로 이루어질 경우, 상기 UV는 상기 몰드(100)를 통과하여 상기 패턴 물질(330a)로 조사될 수 있으며, 이를 위해서 상기 몰드(100)는 UV가 투과할 수 있는 투명한 재료로 형성할 수 있음도 전술한 바와 동일하다.
다음, 도 4f에서 알 수 있듯이, 상기 몰드(100)를 상기 패턴 물질(330a)로부터 분리한다.
그리하면, 오버 코트층(331) 및 컬럼 스페이서(332) 패턴이 형성된다.
상기 오버 코트층(331)은 상기 컬러 필터층(320) 상에 형성되어 상기 컬러 필터층(320)을 보호함과 더불어 제1 기판(300)을 평탄화시키는 역할을 하는 것으로서, 전술한 바와 같이, 상기 오버 코트층(331)의 두께는 상기 몰드(100)를 구성하는 볼록부(110)와 댐(130) 사이의 높이차(△H)에 의해서 결정된다(도 4d 참조).
상기 컬럼 스페이서(332)는 액정표시장치의 셀갭(cell gap)을 유지시키는 역할을 하는 것으로서, 전술한 바와 같이, 상기 컬럼 스페이서(332)의 높이는 상기 몰드(100)를 구성하는 오목부(120)의 깊이(D)에 의해서 결정된다(도 4d 참조).
다음, 도 4g에서 알 수 있듯이, 상기 제1 기판(300)과 대향하는 제2 기판(400)을 준비하고, 상기 제1 기판(300) 및 제2 기판(400) 사이에 액정층(500)을 형성하면서 상기 제1 기판(300)과 제2 기판(400)을 합착한다.
구체적으로 도시하지 않았지만, 상기 제2 기판(400) 상에는 화소 영역을 정의하기 위한 게이트 라인과 데이터 라인이 교차배열되어 있고, 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하는 영역에 스위칭소자로서 박막 트랜지스터가 형성되어 있고, 상기 화소 영역에 액정을 구동하기 위한 화소 전극과 공통 전극이 형성되어 있다.
상기 박막 트랜지스터는 상기 게이트 라인과 연결되는 게이트 전극, 상기 데이터 라인과 연결되는 소스 전극, 상기 소스 전극과 마주하면서 소정 간격으로 이격되는 드레인 전극, 및 전자의 이동채널로 기능하는 반도체층을 포함하여 이루어진다.
이와 같은 제2 기판(400)의 구성은 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 액정표시장치는 IPS(In plane Switching) 모드 이외에 TN(Twisted Nematic) 모드, VA(Vertical Alignment) 모드 등 당업계에 공지된 다양한 구동모드를 포함할 수 있고, 그에 따라, 상기 제1 기판(300) 및 제2 기판(400)의 구체적인 구성도 변경될 수 있다.
상기 제1 기판(300)과 제2 기판(400) 사이에 액정층(500)을 형성하면서 양 기판(300, 400)을 합착하는 공정은 진공주입법 또는 액정적하법을 이용하여 수행할 수 있다.
상기 진공주입법은 상기 제1 기판(300)과 제2 기판(400) 중 어느 하나의 기판 상에 액정 주입구를 구비한 실런트(sealant)를 도포하고, 상기 제1 기판(300)과 제2 기판(400)을 합착한 후, 상기 액정 주입구를 통해 액정을 주입하여 액정층(500)을 형성하는 방법이다.
상기 액정적하법은 상기 제1 기판(300)과 제2 기판(400) 중 어느 하나의 기판 상에 액정 주입구가 없는 실런트(sealant)를 도포하고, 상기 실런트 내에 액정을 적하하여 액정층(500)을 형성한 후, 상기 제1 기판(300)과 제2 기판(400)을 합착하는 방법이다.
이상은 액정표시장치를 제조함에 있어서 전술한 패턴 형성 공정을 이용하여 오버 코트층(331) 및 컬럼 스페이서(332) 패턴을 형성하는 경우만을 설명하였지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 그 이외에도 본 발명에 따른 패턴 형성 공정이 적용될 수 있는 구성요소가 있다면, 그와 같은 구성요소도 전술한 패턴 형성 공정이 적용될 수 있을 것이다.
또한, 본 발명에 따른 패턴 형성 공정은 액정표시장치 이외에도 다양한 디스플레이 장치의 제조방법에 적용될 수 있을 것이다.
100: 몰드 110: 볼록부
120: 오목부 130: 댐
200: 기판 210a, 330a: 패턴 물질
210: 패턴 300: 제1 기판
310: 차광층 320: 컬러 필터층
331: 오버 코트층 332: 컬럼 스페이서
400: 제2 기판 500: 액정층

Claims (5)

  1. 패턴 물질과 접촉하는 일면에 볼록부 및 오목부를 구비하고 있고, 패턴 물질과 접촉하는 일면의 최외곽 영역에 패턴 물질의 퍼짐을 방지하기 위한 댐이 형성되어 있는 것을 특징으로 임프린팅용 몰드.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 댐의 높이는 상기 볼록부의 높이보다 높게 형성된 것을 특징으로 하는 임프린팅용 몰드.
  3. 기판 상에 소정의 패턴 물질을 도포하는 공정;
    상기 패턴 물질 위에 소정의 몰드를 위치시킨 후, 상기 몰드를 상기 패턴 물질과 접촉시키는 공정;
    상기 패턴 물질과 몰드가 접촉한 상태로 상기 패턴 물질을 경화시키는 공정; 및
    상기 몰드를 상기 패턴 물질로부터 분리하는 공정을 포함하여 이루어지고,
    이때, 상기 몰드는 패턴 물질과 접촉하는 일면에 볼록부 및 오목부를 구비하고 있고, 패턴 물질과 접촉하는 일면의 최외곽 영역에 패턴 물질의 퍼짐을 방지하기 위한 댐이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 패턴 물질을 경화시키는 공정은 상기 몰드를 통해 UV를 조사하는 공정으로 이루어지고, 상기 몰드는 투명한 재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  5. 제1 기판 상에 차광층을 형성하는 공정;
    상기 차광층 사이에 컬러 필터층을 형성하는 공정;
    상기 컬러 필터층 상에 소정의 패턴 물질을 도포하는 공정;
    상기 패턴 물질 위에 소정의 몰드를 위치시킨 후, 상기 몰드를 상기 패턴 물질과 접촉시키는 공정;
    상기 패턴 물질과 몰드가 접촉한 상태로 상기 패턴 물질을 경화시키는 공정;
    상기 몰드를 상기 패턴 물질로부터 분리하여 오버코트층 및 컬럼 스페이서 패턴을 형성하는 공정; 및
    상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판을 준비하고, 상기 제1 기판 및 제2 기판 사이에 액정층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지고,
    이때, 상기 몰드는 패턴 물질과 접촉하는 일면에 볼록부 및 오목부를 구비하고 있고, 패턴 물질과 접촉하는 일면의 최외곽 영역에 패턴 물질의 퍼짐을 방지하기 위한 댐이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
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