KR20120063321A - 저온 대기압 플라즈마를 이용한 키토산 도포 장치 - Google Patents

저온 대기압 플라즈마를 이용한 키토산 도포 장치 Download PDF

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KR20120063321A
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유한영
윤용주
장원익
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한국전자통신연구원
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Abstract

저온 대기압 플라즈마를 이용한 키토산 도포 장치가 제공된다. 키토산 도포 장치는 캐리어 가스가 유입되는 가스 유입구 및 내부에서 발생된 저온 대기압 플라즈마를 분사하는 플라즈마 분사구를 갖는 중공의 실린더 형태의 유전체 튜브, 유전체 튜브에 설치되는 제 1 전극, 제 1 전극에 전원을 인가하는 전원부, 유전체 튜브의 가스 유입구로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부 및 유전체 튜브 내에서 발생되는 저온 대기압 플라즈마로 키토산을 공급하는 키토산 공급부를 포함한다.

Description

저온 대기압 플라즈마를 이용한 키토산 도포 장치{Chitosan spreading system using low temperature and atmospheric pressure plasma}
본 발명은 키토산 도포 장치에 관한 것으로서, 저온 대기압 플라즈마를 이용하여 키토산을 피부에 도포하는 키토산 도포 장치에 관한 것이다.
일반적으로 화상, 당뇨성 족궤양, 정맥성 족궤양, 욕창과 같은 다양한 피부 상처나 질환, 인체 수술시 형성되는 상처의 회복 또는 관리는 위해서는 기본적으로 박테리아나 바이러스와 같은 유해한 미생물에 대한 살균 및 소독, 혈액의 응고 및 세포의 재생이 매우 중요하다. 따라서 다양한 피부 질환 및 상처의 치료 관리에 필요한 위의 특성을 모두 만족하는 새로운 의료기기의 개발이 요구된다.
키토산은 게, 새우의 껍질과 오징어 뼈, 곰팡이, 버섯 균사체 및 미생물의 세포벽과 같은 자연계에 존재하는 키틴(chitin)을 탈아세탈화(deacetylation)하여 얻어내는 아미노폴리사카라이드(amino-polysaccharide)의 일종으로서, 독성이 없고 생분해가 가능하며 생체친화성이 우수하여, 식품, 의류, 제약, 의료 등과 같은 다양한 분야에서 키토산에 대한 연구가 진행되고 있다. 이러한 연구는 키토산의 항균, 혈액응고, 세포 재생과 같은 특성을 바탕으로 진행되고 있다.
키토산의 우수한 생물학적 특성(항균, 혈액응고, 세포 분화 및 성장 등)은 온도에 매우 민감하여 약 50℃ 이상이 될 경우 그 기능이 현저히 떨어지게 되며, 또한 피부 질환이나 상처에 활용하기 위해서는 피부에 대한 접착력과 더불어 균일한 도포 장치가 요구된다.
한편, 대기압 플라즈마의 의료분야 적용은 2000년 초까지 수술시 혈액의 응고나 조직의 제거와 같은 플라즈마의 열적 특성을 이용하여 진행되어 왔으나, 2000년대 초부터 플라즈마의 박테리아 살균 및 소독 특성을 이용한 공기 청정기, 유해가스필터와 같은 기기에 폭 넓게 응용되고 있다. 최근에는 플라즈마와 생체세포의 상호작용에 대한 연구를 토대로 새로운 의료기기 산업이 활성화되고 있다. 특히, 기존 플라즈마의 열적 특성 보다는 전기 화학적 특성을 이용한 세포의 살균 소독 및 재생 현상을 이용하는 의료기기들이 개발되고 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 키토산의 피부 흡수 및 부착 특성을 향상시킬 수 있는 키토산 도포 장치를 제공하는데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 해결하고자 하는 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 키토산 도포 장치는 캐리어 가스가 유입되는 가스 유입구 및 내부에서 발생된 저온 대기압 플라즈마를 분사하는 플라즈마 분사구를 갖는 중공의 실린더 형태의 유전체 튜브, 유전체 튜브 내에 설치되는 제 1 전극, 제 1 전극에 전원을 인가하는 전원부, 유전체 튜브의 가스 유입구로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부 및 유전체 튜브 내에서 발생되는 저온 대기압 플라즈마로 키토산을 공급하는 키토산 공급부를 포함한다.
상기 해결하고자 하는 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 키토산 도포 장치는 캐리어 가스가 유입되는 가스 유입구 및 내부에서 발생된 저온 대기압 플라즈마를 분사하는 플라즈마 분사구를 갖는 중공의 실린더 형태의 제 1 유전체 튜브, 제 1 유전체 튜브에 설치되는 제 1 전극, 제 1 전극에 전원을 인가하는 전원부, 및 제 1 유전체 튜브의 가스 유입구로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부를 포함하는 플라즈마 발생 장치 및 중공의 실린더 형태를 갖는 제 2 유전체 튜브를 통해 제 1 유전체 튜브에서 발생되는 저온 대기압 플라즈마로 키토산을 공급하는 키토산 공급 장치를 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 키토산 도포 장치에 따르면, 저온 대기압 플라즈마를 이용하여 피부에 키토산을 도포함으로써 피부에 키토산이 흡수 및 부착 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 플라즈마의 혈액 응고, 유해 미생물의 살균 소독 및 세포 재생 특성이 키토산의 의학적 특성(예를 들어, 항균, 혈액응고, 세포 분화 및 성장 등)과 결합되므로, 피부 상처의 회복을 촉진시킬 수 있다.
도 1a 내지 도 1d는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도들이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도들이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도들이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도들이다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도들이다.
도 6은 본 발명의 제 6 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 장치는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 장치의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
본 발명의 실시예들에 따른 키토산 도포 장치는 저온 대기압 플라즈마의 표면 처리 특성과, 저온 대기압 플라즈마의 생물학적 특성을 구현할 수 있다. 이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 키토산 도포 장치에 대해 상세히 설명한다.
도 1a 내지 도 1d는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도들이다.
도 1a 내지 도 1d를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 키토산 도포 장치는 유전체 튜브(110), 파워 전극(122), 접지 전극(124), 전원부(132), 캐리어 가스 공급부(140) 및 키토산 공급부(150)를 포함한다.
유전체 튜브(110)는 내부에 빈 공간을 갖는 중공의 실린더(hollow cylinder) 형태를 가질 수 있으며, 석영 또는 알루미나와 같은 유전체로 형성될 수 있다. 유전체 튜브(110)는 일측에 캐리어 가스 공급부(140)와 연결되는 가스 유입구(111)를 가지며, 타측에 플라즈마가 분사되는 플라즈마 분사구(112)를 갖는다. 그리고, 제 1 실시예에서 가스 유입구(111)의 직경과 플라즈마 분사구(112)의 직경은 실질적으로 동일할 수 있다. 또한, 제 1 실시예에 따르면, 유전체 튜브(110)의 측벽에는 키토산 공급부(150)와 연결되는 키토산 유입구(113)를 가질 수 있다.
파워 전극(122)은 중공의 실린더 형태를 갖는 유전체 튜브(110) 내부에 설치될 수 있다. 일 실시예에서, 파워 전극(122)은 도 1a 및 도 1b에 도시된 것처럼, 핀(pin) 또는 막대 형태를 가질 수 있으며, 유전체로 코팅될 수 있다. 다른 실시예에서, 파워 전극(122)은 도 1c에 도시된 것처럼, 유전체 튜브(110)의 단면과 유사하게, 유전체 튜브(110) 내부에서 링(ring) 또는 튜브(tube) 형태를 가질 수 있다.
접지 전극(124)은 유전체 튜브(110)의 일단에 설치될 수 있으며 플라즈마를 분사하는 노즐 기능을 할 수 있다. 일 실시예에서, 접지 전극(124)은 유전체 튜브(110)의 단면과 유사하게, 링 또는 튜브 형태를 가질 수 있으며, 유전체로 코팅될 수 있다.
한편, 다른 실시예에 따르면, 접지 전극(124)이 설치되지 않고, 도 1d에 도시된 것처럼, 파워 전극(122)만 유전체 튜브(110)에 설치될 수도 있다.
파워 전극(122)과 접지 전극(124)은 구리 및 그의 합금, 알루미늄 및 그의 합금, 스테인레스 스틸 등으로 이루어질 수 있으며, 또한, 텅스텐, 몰리브데늄, 지르코늄, 탄탈륨 등이나 그것의 합금 혹은 화합물로 이루어질 수도 있다.
파워 전극(122)과 접지 전극(124) 사이에는 전원부(132)가 연결된다. 전원부(132)로는 펄스형 직류 및 교류 전원이 이용될 수 있다. 전원부(132)는 파워 전극(122)과 접지 전극(124)에 수십~수백 kHZ의 진동수를 갖는 RF 전력을 공급할 수 있다. 또한, 전원부(132)와 파워 전극(122) 사이에 저항기(134)을 연결함으로써, 플라즈마 발생시 아크(arc) 방전이 방지될 수 있다.
캐리어 가스 공급부(140)는 유전체 튜브(110) 내부로 질소, 산소, 헬륨, 아르곤, 이산화탄소 등과 같은 캐리어 가스를 유전체 튜브(110) 내부로 공급한다.
가스 유입구(111)와 인접한 유전체 튜브(110) 내에는 캐리어 가스의 공급량을 조절하는 제어 밸브(115)가 설치될 수 있다. 유전체 튜브(110)로 공급되는 캐리어 가스의 공급량에 따라 플라즈마의 플룸(plume)이 조절될 수 있다. 또한, 플라즈마의 플룸은 전압의 세기, 주파수, 펄스주기에 의해서도 조절 가능하다.
키토산 공급부(150)는 키토산을 에어로 졸 형태로 분사하는 분사 장치일 수 있다. 키토산 공급부는 유전체 튜브(110) 내부로 키토산을 에어로 졸(aerosol) 또는 입자 형태로 분사한다.
일 실시예에 따른 키토산 도포 장치에서, 캐리어 가스 공급부(140)에 의해 캐리어 가스가 주입되면 파워 전극(122)과 접지 전극(124) 사이의 방전에 의해서 플라즈마가 발생된다. 유전체 튜브(110) 내에서 발생된 플라즈마는 유전체 튜브(110) 내부에서 노즐을 통해 외부로 고속 분사될 수 있다. 그리고, 유전체 튜브(110)에서 발생된 저온(약 60℃ 이하) 대기압 플라즈마는, 플라즈마 분사구(112)와 인접한 키토산 유입구(113)로 공급되는 키토산을 외부로 고속 분사시킬 수 있다. 즉, 생체의 피부에 외부로 고속 분사되는 저온 대기압 플라즈마와 함께 키토산이 도포될 수 있다.
도 2a 내지 도 2b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도들이다. 제 2 실시예에서, 도 1a 내지 도 1d에 도시된 실시예와 실질적으로 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 사용하며, 해당 구성 요소에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 제 2 실시예에 따른 키토산 도포 장치는 유전체 튜브(110), 파워 전극(122), 접지 전극(124), 전원부(132), 캐리어 가스 공급부(140) 및 키토산 공급부(150)를 포함한다.
제 2 실시예에서, 캐리어 가스와 키토산이 가스 유입구(111) 및 키토산 유입구(113)를 통해 각각 개별적으로 공급되는 제 1 실시예와 달리, 캐리어 가스와 키토산이 가스 유입구(111)를 통해 함께 유전체 튜브(110) 내부로 공급될 수 있다. 즉, 제 2 실시예에 따르면, 유전체 튜브(110)는 양단에 캐리어 가스 및 키토산이 공급되는 가스 유입구(111)와 플라즈마 분사구(112)를 가질 수 있다. 그리고, 캐리어 가스 공급부(140)와 키토산 공급부(150)가 유전체 튜브(110)의 가스 유입구(111)와 연결될 수 있다.
또한, 유전체 튜브(110)에 설치되는 파워 전극(122)과 접지 전극(124)은 도 2a에 도시된 것처럼 막대 형태 또는 튜브 형태를 가질 수 있으며, 도 2b에 도시된 것처럼, 단일 전극 형태일 수도 있다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도들이다.
도 3a 및 도 3b에 도시된 제 3 실시예에 따르면, 키토산 도포 장치는 유전체 튜브(110), 파워 전극(122), 전원부(132), 캐리어 가스 공급부(140) 및 키토산 공급부(150)를 포함한다.
유전체 튜브(110)는 중공의 실린더 형태를 가질 수 있으며, 석영 또는 알루미나와 같은 유전체로 형성될 수 있다.
파워 전극(122)은 유전체 튜브(110)보다 짧으며, 직경이 작은 중공의 실린더 형태를 가질 수 있다. 파워 전극(122)은 금속 물질로 이루어지며, 유전체로 코팅될 수도 있다. 이와 같은 파워 전극(122)은 유전체 튜브(110) 내에 삽입될 수 있으며, 파워 전극(122)의 내부(111a)로 키토산이 공급될 수 있다. 그리고, 파워 전극(122)과 유전체 튜브(110) 사이의 공간(111a)으로 캐리어 가스가 공급될 수 있다.
나아가, 키토산 도포 장치는 도 3b에 도시된 것처럼, 유전체 튜브(110)에 설치된 접지 전극(124)을 포함할 수 있으며, 접지 전극(124)은 유전체 튜브(110)의 둘레를 감싸는 링 또는 튜브 형태를 가질 수 있다.
나아가, 제 3 실시예에 따른 키토산 도포 장치는 유전체 튜브(110) 및 파워 전극(122)에 캐리어 가스 및 키토산의 공급량을 조절하는 제어 밸브(115)가 설치될 수 있다.
제 3 실시예에서, 파워 전극(122)의 내부 공간을 통해 공급되는 키토산은 플라즈마 분사구(112)와 인접한 유전체 튜브(110) 내에서 저온 대기압 플라즈마와 혼합되어 외부로 분사될 수 있다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도들이다.
도 4a에 도시된 실시예에 따르면, 키토산 도포 장치는 유전체 튜브(110), 파워 전극(122), 접지 전극(124), 전원부(132), 캐리어 가스 공급부(140) 및 키토산 공급부(150)를 포함한다.
유전체 튜브(110)는 중공의 실린더 형태를 가질 수 있으며, 석영 또는 알루미나와 같은 유전체로 형성될 수 있다. 유전체 튜브(110)는 양단에 각각 가스 유입구(111) 및 플라즈마 분사구(112)를 가질 수 있으며, 가스 유입구(111)의 직경보다 플라즈마 분사구(112)의 직경이 작을 수 있다.
도 4a에 도시된 실시예에 따르면, 유전체 튜브(110) 내부로 캐리어 가스가 공급되며, 유전체 튜브(110)의 플라즈마 분사구(112)에서 분사되는 저온 대기압 플라즈마로 직접 공급될 수 있다.
도 4b에 도시된 실시예에 따르면, 키토산 도포 장치는 제 1 및 제 2 유전체 튜브들(110a, 110b)을 포함할 수 있다. 여기서, 제 1 유전체 튜브(110a)는 직경이 서로 다른 가스 유입구(111) 및 플라즈마 분사구(112)를 가질 수 있다. 그리고, 제 1 유전체 튜브(110a) 내에 중공의 실린더 형태를 갖는 제 2 유전체 튜브(110b)가 설치될 수 있다. 제 2 유전체 튜브(110b)는 제 1 유전체 튜브(110a)보다 짧고, 직경이 작을 수 있다.
제 2 유전체 튜브(110b) 내에는 파워 전극(122)이 설치될 수 있다. 제 4 실시예에서, 파워 전극(122)은 핀(pin) 또는 막대 형태를 가질 수 있으며, 도 1c에 도시된 것처럼, 유전체 튜브(110) 내부에서 링(ring) 또는 튜브(tube) 형태를 가질 수도 있다. 접지 전극(124)은 유전체 튜브(110)의 일단에 설치될 수 있으며 플라즈마를 분사하는 노즐 기능을 할 수 있다.
이와 같이, 제 1 및 제 2 유전체 튜브들(110a, 110b)를 포함하는 키토산 도포 장치에서, 파워 전극(122)이 설치된 제 2 유전체 튜브(110b) 내부로 캐리어 가스가 공급될 수 있다. 그리고, 제 1 유전체 튜브(110a)와 제 2 유전체 튜브(110b) 사이의 공간으로 키토산이 공급될 수 있다.
한편, 도면에는 도시되지 않았으나, 앞에서 설명한 것처럼, 캐리어 가스 및/또는 키토산이 공급되는 유전체 튜브(110)의 일단에 제어 밸브(미도시)가 설치될 수 있다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도들이다.
도 5a 및 도 5b에 도시된 키토산 도포 장치는 플라즈마 발생 장치 및 키토산 공급 장치를 포함한다. 여기서, 플라즈마 발생 장치는 제 1 유전체 튜브(110a), 파워 전극(122), 전원부(132) 및 캐리어 가스 공급부(140)를 포함한다. 그리고, 키토산 공급 장치는 제 2 유전체 튜브(110b) 및 키토산 공급부(150)를 포함한다.
플라즈마 발생 장치에서, 제 1 유전체 튜브(110a)는 중공의 실린더 형태를 가질 수 있으며, 양단에 가스 유입구(111)와 플라즈마 분사구(112)를 가질 수 있다. 파워 전극(122)은 핀 형태, 막대 형태, 링 또는 튜브 형태를 가질 수 있으며, 제 1 유전체 튜브(110a) 내에 설치된다. 한편, 제 1 유전체 튜브(110a)의 일단에 접지 전극(미도시)이 설치될 수도 있다.
캐리어 가스 공급부(140)에 의해 제 1 유전체 튜브(110a) 내부로 공급되는 캐리어 가스는 파워 전극(122)에 전원이 인가됨에 따라 방전되어 저온 대기압 플라즈마를 생성한다. 캐리어 가스는 제어 밸브(115)에 의해 공급량이 조절될 수 있으며, 이에 따라 플라즈마의 플룸이 조절될 수 있다.
키토산 공급 장치에서, 제 2 유전체 튜브(110b)는 중공의 실린더 형태를 가질 수 있으며, 제 2 유전체 튜브(110b)의 내부 공간을 통해 키토산이 분사된다.
도 5a에 도시된 실시예에 따르면, 플라즈마 발생 장치에서 여기된 플룸은 키토산 공급 장치의 제 2 유전체 튜브(110b)의 측벽으로 공급될 수 있다. 플라즈마를 제 2 유전체 튜브(110b)의 측벽으로 분사함에 따라 키토산이 분사되는 제 1 유전체 튜브(110a) 내부에 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 즉, 플라즈마 발생 장치에서 발생된 플라즈마가 간접적으로 키토산에 공급될 수 있으며, 이에 따라 제 1 유전체 튜브(110a) 내에서는 보다 낮은 온도의 플라즈마를 발생시킬 수 있다.
도 5b에 도시된 실시예에 따르면, 키토산 도포 장치는 플라즈마 발생 장치의 제 1 유전체 튜브(110a)와 키토산 공급 장치의 제 2 유전체 튜브(110b)가 서로 연결된 형태를 가질 수 있다. 즉, 키토산이 공급되는 제 2 유전체 튜브(110b) 내부로 플라즈마 발생 장치에서 발생된 저온 대기압 플라즈마가 분사될 수 있다. 그리고, 제 2 유전체 튜브(110b) 내에서 저온 대기압 플라즈마와 키토산이 혼합되어 피부 표면으로 도포될 수 있다.
도 6은 본 발명의 제 6 실시예에 따른 키토산 도포 장치를 나타내는 단면도이다.
도 6에 도시된 키토산 도포 장치는 복수 개의 플라즈마 발생 장치들과 키토산 에어로졸 챔버를 포함한다.
플라즈마 발생 장치는 유전체 튜브(110), 파워 전극(122) 및 접지 전극(124), 캐리어 가스 공급부(140)를 포함하며, 저온 대기압 플라즈마를 발생시킨다. 복수 개의 플라즈마 발생 장치들은 키토산 에어로졸 챔버(150)로부터 에어로졸 형태로 키토산이 분사되는 키토산 분사 영역으로 저온 대기압 플라즈마를 공급한다.
키토산 에어로졸 챔버(150)에서 분사된 키토산은 저온 대기압 플라즈마와 함께 피부로 도포될 수 있다. 이에 따라 피부 표면의 키토산의 흡수 및 부착력이 향상될 수 있다. 피부 표면 처리 효과를 갖는 저온 대기압 플라즈마 효능과, 혈액 응고, 살균 소독 및 세포 재생 효과를 갖는 키토산의 효능이 시너지 효과를 일으킬 수 있다.
이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예에는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims (14)

  1. 캐리어 가스가 유입되는 가스 유입구 및 내부에서 발생된 저온 대기압 플라즈마를 분사하는 플라즈마 분사구를 갖는 중공의 실린더 형태의 유전체 튜브;
    상기 유전체 튜브 내에 설치되는 제 1 전극;
    상기 제 1 전극에 전원을 인가하는 전원부;
    상기 유전체 튜브의 상기 가스 유입구로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부; 및
    상기 유전체 튜브 내에서 발생되는 저온 대기압 플라즈마로 키토산을 공급하는 키토산 공급부를 포함하는 키토산 도포 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 유전체 튜브의 측벽에 상기 키토산 공급부로부터 키토산이 유입되는 키토산 유입구가 형성된 키토산 도포 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 키토산 공급부는 상기 캐리어 가스와 함께 상기 유전체 튜브의 상기 가스 유입구로 상기 키토산을 공급하는 키토산 도포 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 키토산 공급부는 상기 플라즈마 분사구에서 분사되는 상기 저온 대기압 플라즈마로 직접 상기 키토산을 공급하는 키토산 도포 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극은 막대 형태 또는 링 형태를 갖는 키토산 도포 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극은 상기 유전체 튜브보다 짧고 직경이 작은 중공의 실린더 형태를 갖되,
    상기 키토산 공급부는 상기 제 1 전극의 내부로 상기 키토산을 공급하며, 상기 캐리어 가스 공급부는 상기 유전체 튜브와 상기 제 1 전극 사이의 내부 공간으로 상기 캐리어 가스를 공급하는 키토산 도포 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 플라즈마 분사구의 직경이 상기 가스 유입구의 직경보다 작은 키토산 도포 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 전원부와 연결되며 상기 유전체 튜브에서 상기 플라즈마 분사구와 인접하게 설치된 제 2 전극을 더 포함하는 키토산 도포 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 전원부는 상기 제 1 전극과 직렬로 연결되어 아크 방전을 방지하는 저항기(resistor)를 더 포함하는 키토산 도포 장치.
  10. 캐리어 가스가 유입되는 가스 유입구 및 내부에서 발생된 저온 대기압 플라즈마를 분사하는 플라즈마 분사구를 갖는 중공의 실린더 형태의 제 1 유전체 튜브, 상기 제 1 유전체 튜브에 설치되는 제 1 전극, 상기 제 1 전극에 전원을 인가하는 전원부, 및 상기 제 1 유전체 튜브의 상기 가스 유입구로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부를 포함하는 플라즈마 발생 장치; 및
    중공의 실린더 형태를 갖는 제 2 유전체 튜브를 통해 상기 제 1 유전체 튜브에서 발생되는 상기 저온 대기압 플라즈마로 키토산을 공급하는 키토산 공급 장치를 포함하는 키토산 도포 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 플라즈마 발생 장치 및 상기 키토산 공급 장치 서로 분리되어 설치되되,
    상기 플라즈마 발생 장치에서 발생된 상기 플라즈마를 상기 키토산 공급 장치의 상기 제 2 유전체 튜브의 측벽으로 분사하는 키토산 도포 장치.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 플라즈마 발생 장치의 상기 제 1 유전체 튜브는 상기 키토산 공급 장치의 상기 제 2 유전체 튜브의 측벽에 연결되어, 상기 플라즈마 발생 장치에서 발생된 상기 저온 대기압 플라즈마를 상기 제 2 유전체 튜브의 내부로 분사하는 키토산 도포 장치.
  13. 제 10 항에 있어서,
    상기 키토산 도포 장치는 복수 개의 상기 플라즈마 발생 장치들을 포함하는 키토산 도포 장치.
  14. 제 10 항에 있어서,
    상기 키토산 공급 장치는 에어로졸 형태로 상기 키토산을 분사하는 키토산 도포 장치.
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