KR20120057878A

KR20120057878A - 탄소-세라믹 브레이크 디스크 및 이를 만드는 방법

Info

Publication number: KR20120057878A
Application number: KR1020100119413A
Authority: KR
Inventors: 이준상; 신현규; 최연호; 조채욱; 강정석; 임동원; 채병근; 최문수
Original assignee: 주식회사 데크
Priority date: 2010-11-29
Filing date: 2010-11-29
Publication date: 2012-06-07
Also published as: KR101242079B1; WO2012074263A1; EP2647863A1; EP2647863A4; EP2647863B1

Abstract

본 발명인 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법은, 팬계 탄소섬유를 페놀수지로 코팅하는 제1단계; 상기 페놀수지로 코팅된 팬계 탄소섬유를, 제1온도에서 탄화시키는 제2단계; 상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 혼합물을 만드는 제3단계; 상기 혼합물을 몰드에 넣고 프레스로 가압하여 성형체를 만드는 제4단계; 상기 성형체를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키는 제5단계; 상기 탄화된 성형체를 기계가공하는 제6단계; 상기 기계가공된 성형체에 규소를 녹여서 침투시키는 제7단계; 및 상기 규소가 침투된 성형체를 연마하는 제8단계;를 포함한다.
본 발명을 사용하면, 성형체에 규소를 녹여서 침투시킨 후에도 팬계 탄소섬유는 원형을 그대로 유지할 수 있어, 브레이크 작동시, 쉽게 끊어지지 않는다. 따라서, 탄소-세라믹 브레이크 디스크의 강도가 지속적으로 유지될 수 있다.

Description

탄소-세라믹 브레이크 디스크 및 이를 만드는 방법{CARBON-CERAMIC BRAKE DISC AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 탄소-세라믹 브레이크 디스크에 관한 것이다.

자동차 브레이크는 드럼식 브레이크와 디스크식 브레이크로 구분된다.

디스크식 브레이크는 디스크의 표면과 패드의 마찰로 발생 되는 마찰력으로 디스크의 회전을 늦추거나 멈추게 함으로써, 자동차의 속도를 감속하거나 자동차를 정지시킨다.

제동력이 우수한 디스크는, 무게가 가볍고, 내열충격성, 내산화성, 내마모성이 크고, 고강도이며, 높은 마찰계수를 가져야 한다. 이를 위해, 최근에는 탄소 섬유 강화 세라믹 복합체로 디스크를 만든다.

탄소 섬유 강화 세라믹 복합체는, 기지(matrix)가 세라믹이고 탄소섬유로 강화된 소재이다.

이하, 탄소 섬유 강화 세라믹 복합체로 만든 브레이크 디스크를 탄소-세라믹 브레이크 디스크라 칭한다.

일반적으로, 탄소-세라믹 브레이크 디스크는, 페놀수지와 탄소섬유를 혼합하여 혼합물을 만드는 단계, 혼합물을 가압 및 가열하여 성형체를 만드는 단계, 성형체를 탄화시키는 단계, 탄화된 성형체에 규소를 녹여서 침투시키는 단계를 거쳐서 만들어진다.

탄소섬유로는 팬(PAN, Polyacrylonitrile)계 탄소섬유가 사용된다. 팬계 탄소섬유는 강도가 크고 인성(引性)이 크며 취성이 작다. 따라서, 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 강화시키는 용도로 사용하기에 적합하다.

그러나, 팬계 탄소섬유는 규소와 반응을 잘한다. 따라서, 탄화된 성형체에 규소를 녹여서 침투시키는 단계에서, 팬계 탄소섬유는 규소에 의해 쉽게 침식되고, 침식된 부분은 탄화규소(silicon carbide, SiC)가 된다. 팬계 탄소섬유가 규소에 의해 침식되면, 브레이크 작동시 충격에 의해, 쉽게 끊어질 수 있다. 이 경우, 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 강화시키는 기능을 제대로 할 수 없다.

종래에는, 팬계 탄소섬유가 규소에 의해 쉽게 침식되는 문제점을 해결하기 위하여 팬계 탄소섬유를 코팅하여 사용하였다. 그러나, 팬계 탄소섬유를 코팅하여 사용하더라도 규소침식을 완벽히 막을 수는 없었다.

이하, 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 단계를 설명하면서, 그 이유를 설명한다.

팬계 탄소섬유를 페놀수지용액으로 코팅시킨다.

도 1은, 코팅막이 주위에 형성된 팬계 탄소섬유의 종단면도이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 팬계 탄소섬유(Cf-pan)의 주위에 코팅막(F)이 형성된다. 코팅막이 형성된 팬계 탄소섬유(Cf-pan)와 페놀수지를 혼합하여 혼합물을 만든다. 혼합물을 가압 및 가열하여 성형체를 만든다. 성형체를 탄화시킨다.

성형체 탄화 시, 팬계 탄소섬유와 코팅막이 수축한다.

팬계 탄소섬유의 수축율은 탄화 후 팬계 탄소섬유의 무게감소율에 비례하고, 코팅막의 수축율은 탄화 후 코팅막의 잔류탄소량에 비례한다. 일반적으로, 팬계 탄소섬유의 무게감소율은 5%이고, 코팅막의 잔류탄소량은 50%이다. 이로 인해, 팬계 탄소섬유는 5%이내로 수축하는 반면, 코팅막은 50%이상 수축한다.

도 2는, 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 생긴 틈과, 코팅막에 생긴 균열을 나타낸 도면이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 팬계 탄소섬유의 수축율과 코팅막의 수축율의 큰 차이(45%이상)로 인해, 성형체 탄화 후에, 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 틈(VV)이 생기고, 코팅막에 균열(YY)이 생긴다.

탄화된 성형체에 규소를 녹여서 침투시킨다.

도 3은, 도 2에 도시된 균열과 틈을 통해 규소가 침투하여 팬계 탄소섬유를 침식한 상태를 나타낸 도면이다. 참고로, 코팅막 주위에는 규소, 탄소, 탄화규소 성분을 가진 규소층이 형성된다.

도 3에 도시된 바와 같이, 탄화된 성형체에 규소를 녹여서 침투시킬 때, 코팅막에 생긴 균열과 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 생긴 틈을 통해 규소가 침투하여, 팬계 탄소섬유를 침식한다. 이로 인해, 브레이크 작동시 팬계 탄소섬유가 충격에 의해 쉽게 끊어질 수 있어, 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 강화하는 기능을 제대로 할 수 없다.

본 발명의 목적은, 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 생긴 틈을 없애고, 코팅막에 생긴 균열을 없애서, 규소가 균열과 틈을 통해 팬계 탄소섬유를 침식하지 못하게 한, 탄소-세라믹 브레이크 디스크 및 이를 만드는 방법을 제공하는 데 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법은,팬계 탄소섬유를 페놀수지로 코팅하는 제1단계; 상기 페놀수지로 코팅된 팬계 탄소섬유를, 제1온도에서 탄화시키는 제2단계; 상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 혼합물을 만드는 제3단계; 상기 혼합물을 몰드에 넣고 프레스로 가압하여 성형체를 만드는 제4단계; 상기 성형체를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키는 제5단계; 상기 탄화된 성형체를 기계가공하는 제6단계; 상기 기계가공된 성형체에 규소를 녹여서 침투시키는 제7단계; 및 상기 규소가 침투된 성형체를 연마하는 제8단계;를 포함한다.

또한, 상기 목적은, 규소에 의해 침식받지 않은 팬계 탄소섬유가 무작위로 분포된 단일몸체로 구성되며, 상기 단일몸체는, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 팬계 탄소섬유를 제외한 세라믹부분인 기지로 구성되며, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 기지 사이에는 틈이 없는 탄소-세라믹 브레이크 디스크에 의해 달성된다.

또한, 상기 목적은, 팬계 탄소섬유를 페놀수지로 코팅하는 제1단계; 상기 페놀수지로 코팅된 팬계 탄소섬유를, 제1온도에서 탄화시키는 제2단계; 상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제1혼합물을 만들고, 상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제2혼합물을 만드는 제3단계; 상기 제1혼합물을 몰드에 넣고 프레스로 가압하여 제1성형체를 만들고, 상기 제2혼합물을 몰드에 넣고 프레스로 가압하여 제2성형체를 만드는 제4단계; 상기 제1성형체를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키고, 상기 제2성형체를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키는 제5단계; 상기 탄화된 제1성형체를 기계가공하고, 상기 탄화된 제2성형체를 기계가공하는 제6단계; 상기 기계가공된 제1성형체와 상기 기계가공된 제2성형체를 서로 접착하는 제7단계; 상기 서로 접착된 제1성형체와 제2성형체에 규소를 녹여서 침투시키는 제8단계; 및 상기 규소가 침투된 제1성형체와 제2성형체를 연마하는 제9단계;를 포함하는 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법에 의해 달성된다.

또한, 상기 목적은, 지지층; 상기 지지층의 상면과 하면에 각각 접착된 마찰층; 및 상기 지지층과 마찰층 사이에 형성된 접착층으로 구성되며, 상기 지지층과 마찰층에는, 규소에 의해 침식받지 않은 팬계 탄소섬유가 무작위로 분포되고, 상기 지지층과 마찰층은, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 팬계 탄소섬유를 제외한 세라믹부분인 기지로 구성되며, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 기지 사이에는 틈이 없는 탄소-세라믹 브레이크 디스크에 의해 달성된다.

또한, 상기 목적은, 팬계 탄소섬유를 페놀수지로 코팅하는 제1단계; 상기 페놀수지로 코팅된 팬계 탄소섬유를, 제1온도에서 탄화시키는 제2단계; 상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제1혼합물을 만들고, 코팅되지 않은 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제2혼합물을 만드는 제3단계; 상기 제1혼합물을 몰드에 넣고 프레스로 가압하여 제1성형체를 만들고, 상기 제2혼합물을 몰드에 넣고 프레스로 가압하여 제2성형체를 만드는 제4단계; 상기 제1성형체를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키고, 상기 제2성형체를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 또는 높은 제3온도에서 탄화시키는 제5단계; 상기 탄화된 제1성형체를 기계가공하고, 상기 탄화된 제2성형체를 기계가공하는 제6단계; 상기 기계가공된 제1성형체와 상기 기계가공된 제2성형체를 서로 접착하는 제7단계; 상기 서로 접착된 제1성형체와 제2성형체에 규소를 녹여서 침투시키는 제8단계; 및 상기 규소가 침투된 제1성형체와 제2성형체를 연마하는 제9단계;를 포함하는 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법에 의해 달성된다.

또한, 상기 목적은, 지지층; 상기 지지층의 상면과 하면에 각각 접착된 마찰층; 및 상기 지지층과 마찰층 사이에 형성된 접착층으로 구성되며, 상기 지지층에는, 규소에 의해 침식받지 않은 팬계 탄소섬유가 무작위로 분포되고, 상기 지지층은, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 팬계 탄소섬유를 제외한 세라믹부분인 기지로 구성되며, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 기지 사이에는 틈이 없으며, 상기 마찰층에는, 규소에 의해 침식받은 팬계 탄소섬유가 무작위로 분포되고, 상기 지지층과 마찰층은, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 팬계 탄소섬유를 제외한 세라믹부분인 기지로 구성되며, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 기지 사이에는 틈이 있는 탄소-세라믹 브레이크 디스크에 의해 달성된다.

본 발명은, 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 생긴 틈을 페놀수지로 메워 없애고, 코팅막에 생긴 균열을 페놀수지로 메워 없앤다.

따라서, 성형체에 규소를 녹여서 침투시키는 단계에서, 규소가 균열과 틈을 통해 팬계 탄소섬유를 침식하지 못한다. 이로 인해, 성형체에 규소를 녹여서 침투시킨 후에도, 팬계 탄소섬유는 원형을 그대로 유지할 수 있어, 브레이크 작동시, 쉽게 끊어지지 않는다. 따라서, 탄소-세라믹 브레이크 디스크의 강도가 지속적으로 유지될 수 있다.

또한, 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 틈이 없으므로, 코팅막이 규소침투 후 기지(matrix)의 일부분이 되면, 팬계 탄소섬유는 기지에 단단하게 접착되어 쉽게 분리되지 않는다.

도 1은, 코팅막이 주위에 형성된 팬계 탄소섬유의 종단면도이다.
도 2는, 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 생긴 틈과, 코팅막에 생긴 균열을 나타낸 도면이다.
도 3은, 도 2에 도시된 균열과 틈을 통해 규소가 침투하여 팬계 탄소섬유를 침식한 상태를 나타낸 도면이다.
도 4는, 본 발명의 제1실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법을 나타낸 순서도이다.
도 5(a),(b),(c)는, 혼합물로 성형체를 만드는 순서를 나타낸 도면이다.
도 6은, 코팅막에 생긴 균열과 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 생긴 틈을 페놀수지가 메워서 없앤 도면이다.
도 7은, 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 성형체를 탄화 시, 제1온도에서 탄화된 코팅막에 균열이 다시 생기지 않고, 팬계 탄소섬유와 제1온도에서 탄화된 코팅막 사이에 틈이 다시 생기지 않은 상태를 나타낸 도면이다.
도 8은, 균열이 생긴 코팅막이 팬계 탄소섬유의 주위에 2중으로 형성된 상태를 나타낸 도면이다.
도 9는, 도 7에 도시된 팬계 탄소섬유로 규소가 침식하지 못한 상태를 나타낸 도면이다.
도 10은, 본 발명의 제1실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법으로 만들어진, 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 나타낸 도면이다.
도 11은, 본 발명의 제2실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법을 나타낸 순서도이다.
도 12(a),(b),(c)는, 제1혼합물로 제1성형체를 만드는 순서를 나타낸 도면이다.
도 13(a),(b),(c)는, 제2혼합물로 제2성형체를 만드는 순서를 나타낸 도면이다.
도 14는, 본 발명의 제2실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법으로 만들어진, 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 나타낸 도면이다.
도 15는, 본 발명의 제3실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법을 나타낸 순서도이다.

이하, 본 발명의 제1실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법을 설명한다.

도 4는, 본 발명의 제1실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법을 나타낸 순서도이다. 도 5(a),(b),(c)는, 혼합물로 성형체를 만드는 순서를 나타낸 도면이다. 도 5에 도시된 실선화살표는 프레스의 이동방향을 나타내고, 점선화살표는 성형체를 몰드로부터 꺼내는 방향을 나타낸다.

도 4 및 도 5(a),(b),(c)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법은,

팬계 탄소섬유를 페놀수지로 코팅하는 제1단계(S11); 상기 페놀수지로 코팅된 팬계 탄소섬유를, 제1온도에서 탄화시키는 제2단계(S12); 상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 혼합물(X)을 만드는 제3단계(S13); 상기 혼합물(X)을 몰드(M)에 넣고 프레스(P)로 가압하여 성형체(Y)를 만드는 제4단계(S14); 상기 성형체(Y)를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키는 제5단계(S15); 상기 탄화된 성형체(Y)를 기계가공하는 제6단계(S16); 상기 기계가공된 성형체(Y)에 규소를 녹여서 침투시키는 제7단계(S17); 및 상기 규소가 침투된 성형체(Y)를 연마하는 제8단계(S18);를 포함한다.

이하, 제1단계(S11)를 설명한다.

팬계 탄소섬유를 페놀수지용액으로 코팅시킨다.

도 1에 도시된 바와 같이, 팬계 탄소섬유(Cf-pan)의 주위에 코팅막(F)이 형성된다.

이하, 제2단계(S12)를 설명한다.

코팅막이 주위에 형성된 팬계 탄소섬유를 제1온도에서 탄화시킨다. 제1온도는 2000℃이상이다.

도 2에 도시된 바와 같이, 팬계 탄소섬유의 수축율과 코팅막의 수축율의 큰 차이(45%이상)로 인해, 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 틈(VV)이 생기고, 코팅막에 균열(YY)이 생긴다.

이하, 제3단계(S13)를 설명한다.

코팅막이 주위에 형성된 팬계 탄소섬유 30~70 vol%, 페놀수지 70~30 vol%를 혼합하여 혼합물(X)을 만든다.

이하, 제4단계(S14)를 설명한다.

도 5(a)에 도시된 바와 같이, 몰드(M)에 혼합물(X)을 넣는다.

도 5(b)에 도시된 바와 같이, 프레스(P)로 혼합물(X)를 가압하여 성형체(Y)를 만든다. 이때, 가압하는 압력은 3~5 Mpa이다. 여기서, 프레스(P)에 설치된 히터로 혼합물(X)을 가열할 수도 있다. 가열하는 온도는 120~180 ℃이다.

도 6은, 코팅막에 생긴 균열과 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 생긴 틈을 페놀수지가 메워서 없앤 도면이다.

도 6에 도시된 바와 같이, 프레스(P)로 혼합물(X)를 가압할 때, 페놀수지(Pn)가 코팅막에 생긴 균열과 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 틈으로 침투함으로써, 균열과 틈을 메우게 된다. 이로 인해, 균열과 틈이 없어진다.

도 5(c)에 도시된 바와 같이, 몰드(M)로부터 성형체(Y)를 꺼낸다.

성형체(Y)는, 경화된 페놀수지안에 무작위로 분포된, 코팅된 팬계 탄소섬유로 구성된다. 코팅막에는 균열이 없고, 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에는 틈이 없다.

이하, 제5단계(S15)를 설명한다.

도가니(crucible) 안에 성형체(Y)를 넣는다. 진공저항가열로 안에 도가니를 넣는다. 진공저항가열로 안은 진공분위기 또는 불활성분위기이다.

진공저항가열로는, 성형체(Y)를 13~20시간동안 제2온도로 승온시킨다. 제2온도는 1550~2000℃ 사이다. 진공저항가열로는, 성형체(Y)를 1~2시간동안 제2온도로 유지시킨다. 성형체(Y)의 온도가 제2온도로 승온되고 유지되는 동안, 성형체(Y)에 포함된 유기화합물이 열분해되어 탄소가 된다. 유기화합물이 열분해되고 남은 자리에는 기공(porosity)이 형성된다.

도 7은, 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 성형체를 탄화 시, 제1온도에서 탄화된 코팅막에 균열이 다시 생기지 않고, 팬계 탄소섬유와 제1온도에서 탄화된 코팅막 사이에 틈이 다시 생기지 않은 상태를 나타낸 도면이다.

도 7에 도시된 바와 같이, 성형체(Y)를 제1온도(2000℃)보다 같은 또는 낮은 제2온도(1550~2000℃)에서 탄화시키면, 제1온도에서 탄화된 코팅막은, 다시 탄화되지 않는다. 이로 인해, 제1온도에서 탄화된 코팅막에 다시 균열이 생기지 않는다. 또한, 팬계 탄소섬유와 제1온도에서 탄화된 코팅막 사이에 다시 틈이 생기지 않는다.

다만, 제1온도에서 탄화된 코팅막에 생긴 균열을 메운 페놀수지(Pn)에는, 미세한 균열(XX)이 생긴다. 그러나, 미세한 균열을 통해 규소가 팬계 탄소섬유를 침식하기는 어렵다.

한편, 미세한 균열을 통해서 규소가 침투하는 것도 완전히 막기 위해서, 제1단계(S11)와 제2단계(S12)를 복수회 반복하여, 팬계 탄소섬유의 주위에 균열이 생긴 코팅막을 복수 겹 형성할 수도 있다.

도 8은, 균열이 생긴 코팅막이 팬계 탄소섬유의 주위에 2중으로 형성된 상태를 나타낸 도면이다.

예를 들어, 도 8에 도시된 바와 같이, 제1단계(S11)와 제2단계(S12)를 2회 반복하면, 팬계 탄소섬유의 주위에는 균열이 생긴 코팅막이 2겹 형성된다. 코팅막은 팬계 탄소섬유의 주위에 1차로 형성된 제1코팅막(F1)과 2차로 형성된 제2코팅막(F2)으로 구성된다. 제1코팅막(F1)에 형성된 균열(YY1)의 방향과 제2코팅막(F2)에 형성된 균열(YY2)의 방향은 제각각이다. 따라서, 성형체 탄화시 제1코팅막의 균열과 제2코팅막의 균열을 메운 페놀수지에 미세한 균열이 생기더라도, 제1코팅막의 균열과 제2코팅막의 균열의 방향이 서로 엇갈려 있는 관계로, 규소가 균열을 통해서 팬계 탄소섬유까지 침식하기는 어렵다. 코팅막이 여러겹일 수록, 규소가 미세한 균열을 통해서 팬계 탄소섬유까지 침식하기는 더욱 어려워진다.

이하, 제6단계(S16)를 설명한다.

성형체(Y)의 중심부에 차축이 지나가는 축공을 뚫는다.

성형체(Y)의 축공 주위로, 햇파트(hat part)와 결합되는 볼트가 관통하는 관통공을 동일원상에 동일간격으로 뚫는다. 햇파트는 바퀴와 결합된다.

이하, 제7단계(S17)를 설명한다.

도가니 안에 규소를 넣는다.

도가니 안에 성형체(Y)의 하부가 규소에 묻히도록 넣는다. 성형체(Y)의 상부에 규소를 쌓는다.

진공저항가열로 안에 도가니를 넣는다. 진공저항가열로 안은 진공분위기 또는 불활성분위기이다.

진공저항가열로는, 성형체(Y)의 온도를 13시간 동안 1550℃로 승온시킨다.

진공저항가열로는, 성형체(Y)의 온도를 1~2시간 동안 1550℃로 유지시킨다.

성형체(Y)의 온도가 1550℃로 승온되고 유지되는 동안, 규소가 녹아서 성형체(Y)의 기공으로 침투한다.

기공으로 침투한 규소 대부분은 성형체(Y)에 포함된 탄소와 반응하여, 탄화규소(silicon carbide, SiC)가 된다. 탄소와 반응하지 않은 나머지 규소는 기공을 메운다.

도 9는, 도 7에 도시된 팬계 탄소섬유로 규소가 침식하지 못한 상태를 나타낸 도면이다. 참고로, 코팅막의 주위에는 규소, 탄소, 탄화규소 성분을 가진 규소층이 형성된다.

도 9에 도시된 바와 같이, 팬계 탄소섬유와 코팅막(F) 사이에는 틈이 없고, 코팅막에 균열도 없다. 따라서, 규소가 균열과 틈을 통해 팬계 탄소섬유를 침식하지 못한다. 이로 인해, 성형체에 규소를 녹여서 침투시킨 후에도, 팬계 탄소섬유는 원형을 그대로 유지할 수 있어, 브레이크 작동시, 쉽게 끊어지지 않는다. 따라서, 탄소-세라믹 브레이크 디스크의 강도가 지속적으로 유지될 수 있다.

한편, 팬계 탄소섬유와 코팅막(F) 사이에 틈이 없으므로, 코팅막이 규소침투 후 기지의 일부분이 되면, 팬계 탄소섬유는 기지에 단단하게 접착되어 쉽게 분리되지 않는다. 여기서, 기지란, 규소가 침투된 성형체(Y)에서, 팬계 탄소섬유를 제외한 나머지 세라믹 부분을 일컫는다.

이하, 제7단계(S17)를 설명한다.

연마기(grinder)로, 성형체(Y)를 연마한다.

도 10은, 본 발명의 제1실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법으로 만들어진, 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 나타낸 도면이다.

도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법으로 만들어진 탄소-세라믹 브레이크 디스크(10)는, 단일몸체(single body)로 구성된다. 단일몸체는, 팬계 탄소섬유와 팬계 탄소섬유를 제외한 세라믹부분인 기지로 구성되며, 팬계 탄소섬유와 기지 사이에는 틈이 없다.

탄소-세라믹 브레이크 디스크(10)는, 중심부에 차축이 지나가는 축공(11)을 구비한다. 축공(11) 주위로, 햇파트(hat part)와 결합되는 볼트가 관통하는 관통공(12)이 동일원상에 동일간격으로 구비된다.

탄소-세라믹 브레이크 디스크(10)의 두께는 20~50mm이다.

탄소-세라믹 브레이크 디스크(10)의 성분조성은, SiC 65~25 wt%, Si 15~25 wt%, C 20~50 wt%이다. 탄소-세라믹 브레이크 디스크(10)에는 팬계 탄소섬유(Cf-pan)가 무작위로 분포된다. 팬계 탄소섬유는, 직경이 7㎛인 필라멘트 1K~48K의 다발로 구성된다. 팬계 탄소섬유의 길이는 1~30mm이다.

도 11은, 본 발명의 제2실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법을 나타낸 순서도이다. 도 12(a),(b),(c)는, 제1혼합물로 제1성형체를 만드는 순서를 나타낸 도면이다. 도 13(a),(b),(c)는, 제2혼합물로 제2성형체를 만드는 순서를 나타낸 도면이다.

도 11, 도 12(a),(b),(c), 도 13(a),(b),(c)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법은,

팬계 탄소섬유를 페놀수지로 코팅하는 제1단계(S21); 상기 페놀수지로 코팅된 팬계 탄소섬유를, 제1온도에서 탄화시키는 제2단계(S22); 상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제1혼합물(X1)을 만들고, 상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제2혼합물(X2)을 만드는 제3단계(S23); 상기 제1혼합물(X1)을 몰드(M)에 넣고 프레스(P)로 가압하여 제1성형체(Y1)를 만들고, 상기 제2혼합물(X2)을 몰드(M)에 넣고 프레스(P)로 가압하여 제2성형체(Y2)를 만드는 제4단계(S24); 상기 제1성형체(Y1)를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키고, 상기 제2성형체(Y2)를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키는 제5단계(S25); 상기 탄화된 제1성형체(Y1)를 기계가공하고, 상기 탄화된 제2성형체(Y2)를 기계가공하는 제6단계(S26); 상기 기계가공된 제1성형체(Y1)와 상기 기계가공된 제2성형체(Y2)를 서로 접착하는 제7단계(S27); 상기 서로 접착된 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)에 규소를 녹여서 침투시키는 제8단계(S28); 및 상기 규소가 침투된 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)를 연마하는 제9단계(S29);를 포함한다.

이하, 제1단계(S21)를 설명한다.

팬계 탄소섬유를 페놀수지용액으로 코팅시킨다. 그러면, 팬계 탄소섬유의 주위에 코팅막이 형성된다.

이하, 제2단계(S22)를 설명한다.

코팅막이 주위에 형성된 팬계 탄소섬유를 제1온도에서 탄화시킨다. 제1온도는 2000℃이상이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 팬계 탄소섬유의 수축율과 코팅막의 수축율의 큰 차이(45%이상)로 인해, 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 틈(VV)이 생기고, 코팅막에 균열(YY)이 생긴다.

이하, 제3단계(S23)를 설명한다.

탄화된 팬계 탄소섬유 30~70 vol%, 페놀수지 70~30 vol%를 혼합하여 제1혼합물(X1)을 만든다. 제1혼합물(X1)로 후술할 지지층을 만든다.

탄화된 팬계 탄소섬유 30~70 vol%, 페놀수지 70~30 vol%를 혼합하여 제2혼합물(X2)을 만든다. 제2혼합물(X2)로 후술할 마찰층을 만든다.

이하, 제4단계(S24)를 설명한다.

도 12(a)에 도시된 바와 같이, 몰드(M)에 제1혼합물(X1)을 넣는다.

제1혼합물(X1)위에 코어체(V)를 올려놓는다. 코어체(V)는 냉각채널의 형상을 가진다. 코어체(V)위에 제1혼합물(X1)을 넣는다.

도 12(b)에 도시된 바와 같이, 프레스(P)로 가압하여 제1성형체(Y1)를 만든다. 이때, 가압하는 압력은 3~5 Mpa이다. 여기서, 프레스(P)에 설치된 히터로 제1혼합물(X1)을 가열할 수도 있다. 가열하는 온도는 120~180 ℃이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 프레스(P)로 제1혼합물(X1)를 가압할 때, 페놀수지(Pn)가 코팅막에 생긴 균열과 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 틈으로 침투함으로써, 균열과 틈을 메우게 된다. 이로 인해, 균열과 틈이 없어진다.

도 12(c)에 도시된 바와 같이, 몰드(M)로부터 제1성형체(Y1)를 꺼낸다.

제1성형체(Y1)는, 경화된 페놀수지안에 무작위로 분포된, 코팅된 팬계 탄소섬유로 구성된다. 코팅막에는 균열이 없고, 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에는 틈이 없다.

도 13(a)에 도시된 바와 같이, 몰드(M)에 제2혼합물(X2)을 넣는다.

도 13(b)에 도시된 바와 같이, 프레스(P)로 제2혼합물(X2)를 가압하여 제2성형체(Y2)를 만든다. 이때, 가압하는 압력은 3~5 Mpa이다. 여기서, 프레스(P)에 설치된 히터로 제2혼합물(X2)을 가열할 수도 있다. 가열하는 온도는 120~180 ℃이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 프레스(P)로 제1혼합물(X2)를 가압할 때, 페놀수지(Pn)가 코팅막에 생긴 균열과 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 틈으로 침투함으로써, 균열과 틈을 메우게 된다. 이로 인해, 균열과 틈이 없어진다.

도 13(c)에 도시된 바와 같이, 몰드(M)로부터 제2성형체(Y2)를 꺼낸다.

제2성형체(Y2)는, 경화된 페놀수지안에 무작위로 분포된, 코팅된 팬계 탄소섬유로 구성된다. 코팅막에는 균열이 없고, 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에는 틈이 없다.

이하, 제5단계(S25)를 설명한다.

제1성형체(Y1)를 제2온도에서 탄화시킨다. 제2성형체(Y2)를 제2온도에서 탄화시킨다. 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)를 탄화시키는 방법은 제1실시예에서 성형체를 탄화시키는 방법과 동일하므로 그 설명을 생략한다.

제1성형체(Y1) 탄화시, 코어체(V)는 열분해 된다. 코어체(V)의 열분해 시 잔류 탄소량은 10 wt% 미만인 것이 바람직하다. 이를 위해, 코어체(V)는, 폴리카보네이트(polycarbonate), ABS수지(Acrylonitrile Butadiene Styrene copolymer), 스티렌 수지(Styrene resin), 폴리에틸렌(Polyethylene), 아크릴 수지(Acrylic resin) 등과 같은 열가소성 수지로 만들어진다. 코어체(V)가 열분해 되면, 코어체(V)가 열분해되고 남은 빈자리에 냉각채널이 형성된다.

도 7에 도시된 바와 같이, 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)를 제1온도(2000℃)보다 같은 또는 낮은 제2온도(1550~2000℃)에서 탄화시키면, 제1온도에서 탄화된 코팅막은, 다시 탄화되지 않는다.

이로 인해, 제1온도에서 탄화된 제1성형체(Y1)의 코팅막에 균열이 다시 생기지 않고, 제1온도에서 탄화된 제2성형체(Y2)의 코팅막에 다시 균열이 생기지 않는다.

또한, 제1온도에서 탄화된 제1성형체(Y1)의 코팅막과 팬계 탄소섬유 사이에 틈이 다시 생기지 않고, 제1온도에서 탄화된 제2성형체(Y2)의 코팅막과 팬계 탄소섬유 사이에 틈이 다시 생기지 않는다.

다만, 제1온도에서 탄화된 제1성형체(Y1)의 코팅막과 제1온도에서 탄화된 제2성형체(Y2)의 코팅막에 생긴 균열을 메운 페놀수지에는, 미세한 균열이 생긴다. 그러나, 미세한 균열을 통해 규소가 팬계 탄소섬유를 침식하기는 어렵다.

이하, 제6단계(S26)를 설명한다.

제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)의 중심부에 차축이 지나가는 축공을 뚫는다.

제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)의 축공주위로 햇파트(hat part)와 결합되는 볼트가 관통하는 관통공을 동일원상에 동일간격으로 뚫는다. 햇파트는 바퀴와 결합한다.

이하, 제7단계(S27)를 설명한다.

제1성형체(Y1)의 상면과 하면에 액체상태의 페놀수지를 도포한다. 도포두께는 0.1~2mm이다. 제1성형체(Y1)의 상면과 하면 각각에 제2성형체(Y2)를 접착한다. 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2) 사이로 빠져나온 액체상태의 페놀수지를 제거한다.

다른 방법으로, 제1성형체(Y1)의 상면과 하면에 고체상태의 페놀수지를 뿌린다. 제1성형체(Y1)의 상면과 하면에 제2성형체(Y2)를 각각 올려놓고 프레스로 가압하고 프레스에 설치된 히터로 가열한다. 고체상태의 페놀수지가 녹으면서, 제1성형체(Y1)의 상면과 하면 각각에 제2성형체(Y2)가 접착된다. 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2) 사이로 빠져나온 액체상태(고체상태의 페놀수지가 녹은 상태)의 페놀수지를 제거한다.

제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)가 접착되면, 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2) 사이에 후술할 접착층이 만들어진다.

이하, 제8단계(S28)를 설명한다.

서로 접착된 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)에 규소를 녹여서 침투시킨다. 서로 접착된 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)에 규소를 녹여서 침투시키는 방법은, 제1실시예에서 성형체에 규소를 침투시키는 방법과 동일하므로 그 설명을 생략한다.

제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)에 포함된 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에는 틈이 없고, 코팅막에 균열도 없으므로, 규소가 균열과 틈을 통해 팬계 탄소섬유를 침식하지 못한다.

한편, 팬계 탄소섬유와 코팅막(F) 사이에 틈이 없으므로, 코팅막이 규소침투 후 기지의 일부분이 되면, 팬계 탄소섬유는 기지에 단단하게 접착되어 쉽게 분리되지 않는다. 여기서, 기지란, 규소가 침투된 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)에서, 팬계 탄소섬유를 제외한 나머지 세라믹 부분을 일컫는다.

이하, 제9단계(S29)를 설명한다.

연마기(grinder)로, 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)를 연마한다.

도 14는, 본 발명의 제2실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법으로 만들어진, 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 나타낸 도면이다.

도 14에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법으로 만들어진 탄소-세라믹 브레이크 디스크는, 지지층(110), 마찰층(120), 접착층(130)으로 구성된다. 지지층(110)과 마찰층(120)은, 팬계 탄소섬유와 팬계 탄소섬유를 제외한 세라믹부분인 기지로 구성되며, 팬계 탄소섬유와 기지 사이에는 틈이 없다.

탄소-세라믹 브레이크 디스크(100)는, 중심부에 차축이 지나가는 축공(101)을 구비한다. 축공(101) 주위로, 햇파트(hat part)와 결합되는 볼트가 관통하는 관통공(102)이 동일원상에 동일간격으로 구비된다.

지지층(110)은 냉각채널(111)을 구비한다. 지지층(110)의 두께는 20~50mm이다. 지지층(110)의 성분조성은, SiC 65~25 wt%, Si 15~25 wt%, C 20~50 wt%이다.

마찰층(120)의 두께는 0.1~2mm이다. 마찰층(120)의 성분조성은, 지지층(110)의 성분조성과 동일한, SiC 65~25 wt%, Si 15~25 wt%, C 20~50 wt%이다.

지지층(110)의 성분조성과 마찰층(120)의 성분조성이 동일하므로, 지지층(110)의 열팽창계수와 마찰층(120)의 열팽창계수가 동일하다. 따라서, 탄소-세라믹 브레이크 디스크(100)를 만드는 과정에서, 지지층(110)의 열팽창계수와 마찰층(120)의 열팽창계수의 차이로 인해, 마찰층(120)에 균열이 생기지 않는다.

지지층(110)에는, 팬계 탄소섬유가 무작위로 분포된다. 팬계 탄소섬유는, 직경이 7㎛인 필라멘트 1K~48K의 다발로 구성된다. 팬계 탄소섬유의 길이는 25~30mm이다.

마찰층(120)에는, 팬계 탄소섬유가 무작위로 분포된다. 팬계 탄소섬유는, 직경이 7㎛인 필라멘트 1K~48K의 다발로 구성된다. 팬계 탄소섬유의 길이는 1~3mm이다.

한편, 마찰층(120)에 포함된 팬계 탄소섬유는, 마찰층(120)이 외부로 노출된 관계로, 공기와 만나 산화되기 쉽다. 따라서, 공기와의 접촉면적을 최소화하기 위해서, 마찰층(120)에 포함된 팬계 탄소섬유은 지지층(110)에 포함된 팬계 탄소섬유의 길이보다 짧다. 팬계 탄소섬유의 길이를 짧게 하더라도, 브레이크 작동시, 마찰층(120)이 지지층(110)보다 상대적으로 충격을 덜 받기 때문에, 마찰층(120)의 강도는 충분히 유지될 수 있다.

접착층(130)의 두께는 0.1~1mm이다. 접착층(130)의 성분조성은, SiC 50 wt%, Si 45 wt%, C 5 wt%이다.

도 15는, 본 발명의 제3실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법을 나타낸 순서도이다.

도 11(a),(b),(c), 도 12(a),(b),(c), 도 15에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법은,

팬계 탄소섬유를 페놀수지로 코팅하는 제1단계(S31); 상기 페놀수지로 코팅된 팬계 탄소섬유를, 제1온도에서 탄화시키는 제2단계(S32); 상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제1혼합물(X1)을 만들고, 코팅되지 않은 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제2혼합물(X2)을 만드는 제3단계(S33); 상기 제1혼합물(X1)을 몰드(M)에 넣고 프레스(P)로 가압하여 제1성형체(Y1)를 만들고, 상기 제2혼합물(X2)을 몰드(M)에 넣고 프레스(P)로 가압하여 제2성형체(Y2)를 만드는 제4단계(S34); 상기 제1성형체(Y1)를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키고, 상기 제2성형체(Y2)를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 또는 높은 제3온도에서 탄화시키는 제5단계(S35); 상기 탄화된 제1성형체(Y1)를 기계가공하고, 상기 탄화된 제2성형체(Y2)를 기계가공하는 제6단계(S36); 상기 기계가공된 제1성형체(Y1)와 상기 기계가공된 제2성형체(Y2)를 서로 접착하는 제7단계(S37); 상기 서로 접착된 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)에 규소를 녹여서 침투시키는 제8단계(S38); 및 상기 규소가 침투된 제1성형체(Y1)와 제2성형체(Y2)를 연마하는 제9단계(S39);를 포함한다.

본 발명의 제3실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법은, 제2혼합물(X2)을, 코팅되지 않은 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 만든다. 따라서, 마찰층에 포함된 팬계 탄소섬유는 코팅되지 않아서, 규소침식을 받는다.

그리고, 제2성형체(Y2)를 제1온도와 같은 또는 낮은 또는 높은 제3온도에서 탄화시킨다. 즉, 제3온도는 제1온도보다 반드시 같거나 또는 낮을 필요가 없다.

이를 제외하고는, 제2실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법과 동일하다.

또한, 제3실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법으로 만들어진 탄소-세라믹 브레이크 디스크는, 마찰층에 규소에 의해 침식받은 팬계 탄소섬유가 포함된 것을 제외하고는, 제2실시예에 따른 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법으로 만들어진 탄소-세라믹 브레이크 디스크와 동일하다.

제3실시예에서, 마찰층에 포함된 팬계 탄소섬유를 코팅하지 않는 이유는 다음과 같다.

브레이크 작동시, 지지층이 마찰층보다 더 많은 응력을 받는다. 따라서, 마찰층의 강도는 지지층의 강도보다 상대적으로 작아도 되어, 마찰층에 포함된 팬계 탄소섬유은 규소침식이 되더라도 크게 문제되지 않는다. 이로 인해, 마찰층에 포함된 팬계 탄소섬유까지 코팅막을 형성할 필요가 적다. 또한, 마찰층에 포함된 팬계 탄소섬유에 코팅막을 형성하면, 마찰층에 탄소가 많아져, 마찰층이 산화될 수 있다. 따라서, 마찰층에 포함된 팬계 탄소섬유까지 코팅막을 형성할 필요가 적다.

Claims

팬계 탄소섬유를 페놀수지로 코팅하는 제1단계;
상기 페놀수지로 코팅된 팬계 탄소섬유를, 제1온도에서 탄화시키는 제2단계;
상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 혼합물을 만드는 제3단계;
상기 혼합물을 몰드에 넣고 프레스로 가압하여 성형체를 만드는 제4단계;
상기 성형체를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키는 제5단계;
상기 탄화된 성형체를 기계가공하는 제6단계;
상기 기계가공된 성형체에 규소를 녹여서 침투시키는 제7단계; 및
상기 규소가 침투된 성형체를 연마하는 제8단계;를 포함하는 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법.
제1항에 있어서,
상기 제2단계에서, 상기 팬계 탄소섬유와 코팅막 사이에 틈이 생기고 상기 코팅막에 균열이 생기고,
상기 제4단계에서, 상기 페놀수지가 상기 틈과 균열을 메우는 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법.
제1항에 있어서, 상기 제1온도는 2000℃이상이며, 상기 제2온도는 1550~2000℃인 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법.
제1항에 있어서, 상기 제1단계 및 제2단계를 복수 회 반복하여, 상기 팬계 탄소섬유의 주위에, 균열이 생긴 코팅막을 복수 겹 형성하는 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법.
제1항에 있어서, 상기 제5단계에서,
상기 제1온도에서 탄화된 코팅막에 균열이 다시 생기지 않고, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 제1온도에서 탄화된 코팅막 사이에 틈이 다시 생기지 않는 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법.
규소에 의해 침식받지 않은 팬계 탄소섬유가 무작위로 분포된 단일몸체로 구성되며, 상기 단일몸체는, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 팬계 탄소섬유를 제외한 세라믹부분인 기지로 구성되며, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 기지 사이에는 틈이 없는 탄소-세라믹 브레이크 디스크.
팬계 탄소섬유를 페놀수지로 코팅하는 제1단계;
상기 페놀수지로 코팅된 팬계 탄소섬유를, 제1온도에서 탄화시키는 제2단계;
상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제1혼합물을 만들고, 상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제2혼합물을 만드는 제3단계;
상기 제1혼합물을 몰드에 넣고 프레스로 가압하여 제1성형체를 만들고, 상기 제2혼합물을 몰드에 넣고 프레스로 가압하여 제2성형체를 만드는 제4단계;
상기 제1성형체를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키고, 상기 제2성형체를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키는 제5단계;
상기 탄화된 제1성형체를 기계가공하고, 상기 탄화된 제2성형체를 기계가공하는 제6단계;
상기 기계가공된 제1성형체와 상기 기계가공된 제2성형체를 서로 접착하는 제7단계;
상기 서로 접착된 제1성형체와 제2성형체에 규소를 녹여서 침투시키는 제8단계; 및
상기 규소가 침투된 제1성형체와 제2성형체를 연마하는 제9단계;를 포함하는 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법.
지지층;
상기 지지층의 상면과 하면에 각각 접착된 마찰층; 및
상기 지지층과 마찰층 사이에 형성된 접착층으로 구성되며,
상기 지지층과 마찰층에는, 규소에 의해 침식받지 않은 팬계 탄소섬유가 무작위로 분포되고,
상기 지지층과 마찰층은, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 팬계 탄소섬유를 제외한 세라믹부분인 기지로 구성되며, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 기지 사이에는 틈이 없는 탄소-세라믹 브레이크 디스크.
팬계 탄소섬유를 페놀수지로 코팅하는 제1단계;
상기 페놀수지로 코팅된 팬계 탄소섬유를, 제1온도에서 탄화시키는 제2단계;
상기 제1온도에서 탄화된 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제1혼합물을 만들고, 코팅되지 않은 팬계 탄소섬유와 페놀수지를 혼합하여 제2혼합물을 만드는 제3단계;
상기 제1혼합물을 몰드에 넣고 프레스로 가압하여 제1성형체를 만들고, 상기 제2혼합물을 몰드에 넣고 프레스로 가압하여 제2성형체를 만드는 제4단계;
상기 제1성형체를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 제2온도에서 탄화시키고, 상기 제2성형체를 상기 제1온도와 같은 또는 낮은 또는 높은 제3온도에서 탄화시키는 제5단계;
상기 탄화된 제1성형체를 기계가공하고, 상기 탄화된 제2성형체를 기계가공하는 제6단계;
상기 기계가공된 제1성형체와 상기 기계가공된 제2성형체를 서로 접착하는 제7단계;
상기 서로 접착된 제1성형체와 제2성형체에 규소를 녹여서 침투시키는 제8단계; 및
상기 규소가 침투된 제1성형체와 제2성형체를 연마하는 제9단계;를 포함하는 탄소-세라믹 브레이크 디스크를 만드는 방법.
지지층;
상기 지지층의 상면과 하면에 각각 접착된 마찰층; 및
상기 지지층과 마찰층 사이에 형성된 접착층으로 구성되며,
상기 지지층에는, 규소에 의해 침식받지 않은 팬계 탄소섬유가 무작위로 분포되고, 상기 지지층은, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 팬계 탄소섬유를 제외한 세라믹부분인 기지로 구성되며, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 기지 사이에는 틈이 없으며,
상기 마찰층에는, 규소에 의해 침식받은 팬계 탄소섬유가 무작위로 분포되고, 상기 지지층과 마찰층은, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 팬계 탄소섬유를 제외한 세라믹부분인 기지로 구성되며, 상기 팬계 탄소섬유와 상기 기지 사이에는 틈이 있는 탄소-세라믹 브레이크 디스크.