KR20120009811A - 엑스선 산란 방지용 그리드 및 엑스선 검출 장치 - Google Patents

엑스선 산란 방지용 그리드 및 엑스선 검출 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20120009811A
KR20120009811A KR1020100070533A KR20100070533A KR20120009811A KR 20120009811 A KR20120009811 A KR 20120009811A KR 1020100070533 A KR1020100070533 A KR 1020100070533A KR 20100070533 A KR20100070533 A KR 20100070533A KR 20120009811 A KR20120009811 A KR 20120009811A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
rays
transmission
ray
gratings
grid
Prior art date
Application number
KR1020100070533A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101238023B1 (ko
Inventor
김중석
김응범
고병훈
문범진
Original Assignee
주식회사 디알텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 디알텍 filed Critical 주식회사 디알텍
Priority to KR1020100070533A priority Critical patent/KR101238023B1/ko
Publication of KR20120009811A publication Critical patent/KR20120009811A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101238023B1 publication Critical patent/KR101238023B1/ko

Links

Images

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/42Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis
    • A61B6/4291Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis the detector being combined with a grid or grating

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Medical Informatics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Heart & Thoracic Surgery (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Surgery (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Abstract

고화질의 엑스선 영상을 얻기 위한 산란 방지용 그리드 및 엑스선 검출 장치가 제공된다. 엑스선 산란 방지용 그리드는, 엑스선 광원으로부터 산란된 엑스선을 흡수하는 복수 개의 흡수 격자와, 복수 개의 흡수 격자 사이에 배치되어, 엑스선 광원으로부터 방사된 엑스선을 투과하는 복수 개의 투과 격자를 포함한다. 복수 개의 투과 격자 각각은, 투과된 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 형성된다.

Description

엑스선 산란 방지용 그리드 및 엑스선 검출 장치{X-ray anti-scatter grid and X-ray detector}
본 발명은, 일반적으로 진단 방사선 촬영 기술에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 엑스선 산란 방지용 그리드(anti-scatter grid)에 관한 것이다.
엑스선은 물리적으로 방사 형태로 발산하는 특성이 있으며, 공기나 어떤 물체 등 매질을 투과할 때 산란선이 발생된다. 의료 영상 시스템에서 감광성 필름 또는 검출기에 도달하는 엑스선은 유용한 영상을 형성하는 감쇠된 주 방사선(attenuated primary radiation) 및 영상의 품질을 떨어뜨리는 산란 방사선(scattered radiation)으로 분류될 수 있다. 주 방사선은 대부분 투과시키고 산란 방사선은 감쇠시키기 위하여 통상적으로 환자와 감광성 필름 또는 검출기와의 사이에 산란 방지 그리드(antiscatter grid)를 이용한다. 산란 방지 그리드 구조는, 픽셀에 정렬하기가 쉽지 않고, 그리드 구조의 크기가 제한적이어서 엑스선 산란을 제거하는데 한계가 있다.
고화질의 엑스선 영상을 얻기 위한 산란 방지용 그리드 및 엑스선 검출 장치가 제공된다.
일 측면에 따른 산란 방지용 그리드는 엑스선 광원으로부터 산란된 엑스선을 흡수하는 복수 개의 흡수 격자와, 복수 개의 흡수 격자 사이에 배치되어, 방사된 엑스선을 투과하는 복수 개의 투과 격자를 포함하며, 복수 개의 투과 격자 각각은, 투과된 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 형성된다.
복수 개의 투과 격자를 통해 투과된 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록, 복수 개의 투과 격자는 복수 개의 투과 격자의 각각의 위치에 따라 결정되는 그리드의 수평면에 대한 경사각을 가진다.
경사각은, 투과 격자의 엑스선의 입사면에서의 투과 격자를 구성하는 재료의 원자들의 배열의 방향에 따라 결정된다.
복수 개의 투과 격자 각각의 위치에서 방사되어 입사되는 엑스선과 그리드의 수평면이 이루는 제1 각도를, 복수 개의 투과 격자를 통해 투과된 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 하기 위하여 그리드의 수평면과 투과 격자를 투과한 엑스선이 이루는 제2 각도로 변환하기 위한 변환 함수로부터, 경사각이 결정된다.
복수 개의 투과 격자에서 제1 각도가 동일한 적어도 하나의 투과 격자는 서로 동일한 경사각을 가지고, 복수 개의 투과 격자의 각각의 경사각은 엑스선 광원으로부터 엑스선 검출면으로의 수직 방향으로부터 엑스선의 방사 각도가 클수록 크게 형성된다.
복수 개의 투과 격자의 폭은, 투과된 엑스선을 검출하는 검출부에 포함된 픽셀 피치와 동일한 크기를 가진다.
복수 개의 투과 격자는, (2 2 0), (4 4 0)의 결정 격자 벡터를 가지는 재료로 구성된다.
다른 측면에 따른 엑스선 검출 장치는, 엑스선 광원으로부터 산란된 엑스선을 흡수하는 복수 개의 흡수 격자와, 복수 개의 흡수 격자 사이에 배치되어, 엑스선 광원으로부터 방사된 엑스선을 투과하는 복수 개의 투과 격자와, 복수 개의 투과 격자를 투과한 엑스선을 검출하는 검출부를 포함하고, 복수 개의 투과 격자 각각은, 투과된 엑스선이 검출부의 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 형성된다.
산란 방지용 그리드의 투과 격자를 통과한 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 함으로써, 엑스선 검출면에서 산란 또는 간섭이 발생되지 않도록 함으로써 엑스선 영상의 신호 대 잡음비를 높일 수 있다. 또한, 엑스선 영상의 잡음을 줄임으로써, 엑스선 조사량을 늘리지 않음으로써 의료 장비를 이용하는 환자에 대한 불필요한 피폭을 줄일 수 있다. 이와 같은 엑스선 검출 장치를 맘포그래피(mammography) 또는 단층촬영(tomography)와 같은 진단의 정확도가 요구되는 의료 영상 장비에 적용함으로써, 고화질의 영상을 얻을 수 있으며, 촬영 방식에 의해 촬영하기 어려웠던 신체의 부위에 대해서도 정확한 영상을 획득할 수 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 엑스선 검출 장치에서 복수 개의 투과 격자 각각의 위치에서 방사된 엑스선의 진행 경로를 나타내는 도면이다.
도 2는 복수 개의 투과 격자 각각의 위치에서 방사된 엑스선과 그리드의 수평면이 이루는 제1 각도를 결정하는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 투과 격자를 구성하는 (2 2 0), (4 4 0)의 결정 격자 벡터를 가지는 매질의 격자 구조를 나타내는 도면이다.
도 4는 투과 격자의 입사면이 그리드 수평면으로부터 이루는 경사각을 결정하는 방법을 설명하기 위한 하나의 투과 격자의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 5는 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 형성된 산란 방지용 그리드의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 6a 및 도 6b는 산란 방지용 그리드의 제조 방법의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 7a 및 도 7b는 산란 방지용 그리드의 제조 방법의 다른 예를 나타내는 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예를 상세하게 설명한다. 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
도 1은 일 실시예에 따른 엑스선 검출 장치에서 복수 개의 투과 격자 각각의 위치에서 방사된 엑스선의 진행 경로를 나타내는 도면이다.
엑스선 검출 장치(10)는 산란 방지용 그리드(100) 및 검출부(200)를 포함한다. 도시되지는 않았으나, 산란 방지용 그리드(100)와 엑스선 광원(1) 사이에 엑스선에 의한 관측 대상이 되는 물체나 사람 등의 대상물이 위치된다. 엑스선은 대상물을 통과하면 산란된다.
산란 방지용 그리드(100)(또는 간략하게 '그리드')는, 복수 개의 흡수 격자 및 복수 개의 투과 격자를 포함한다. 투과 격자(111)들로 이루어지는 복수 개의 투과 격자는, 복수 개의 흡수 격자 사이에 배치되어, 엑스선 광원(1)으로부터 방사된 엑스선을 투과한다. 흡수 격자(121)들로 이루어지는 복수 개의 흡수 격자는 산란된 엑스선을 흡수한다.
투과 격자(111)는, 엑스선 투과율이 높은 물질로 이루어질 수 있다. 복수 개의 투과 격자는, 소정의 기판(도시되지 않음)상에 복수 개의 흡수 격자가 형성되고, 복수 개의 흡수 격자 사이의 공간을 엑스선 투과율이 높은 물질로 충진하는 방식으로 형성될 수 있다. 복수 개의 투과 격자의 폭은, 투과된 엑스선을 검출하는 검출부에 포함된 픽셀 피치와 동일한 크기를 가질 수 있다.
흡수 격자(121)는, 엑스선 흡수율이 높은, 납(lead), 금(gold), 바륨(barium), 텅스텐(tungsten), 플래티늄(platium), 니켈(nikel) 등으로 이루어질 수 있다.
검출부(200)는 복수 개의 투과 격자를 투과한 엑스선을 검출하는 복수 개의 픽셀 어레이로 구성될 수 있다.
복수 개의 투과 격자 각각은, 각각의 투과 격자를 투과한 엑스선이, 엑스선을 검출하는 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 형성된다. 즉, 복수 개의 투과 격자 각각은, 복수 개의 투과 격자를 통과한 엑스선이 검출부(200)의 검출면으로 수직으로 향하도록 한다. 이를 위해, 일 실시예에 따르면, 방사된 엑스선과 그리드(100)의 수평면(도 1에서 x축 방향)이 이루는 제1 각도(θ)가 이용된다. 도 1에서 θn은 xn 위치에 도달된 엑스선이 그리드(100)의 수평면과 이루는 제1 각도를 나타낸다.
검출부(200)의 엑스선 검출면에 엑스선이 수직으로 입사되도록 함으로써, 검출부(200)에서 산란 또는 간섭 현상을 방지하여, 획득되는 엑스선 영상에 노이즈가 발생되는 것을 최소화할 수 있다.
도 2는 복수 개의 투과 격자 각각의 위치에서 방사된 엑스선과 그리드의 수평면이 이루는 제1 각도를 결정하는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
엑스선이 방출되는 엑스선 광원(1)으로부터 그리드(100)까지의 엑스선 직선도달 거리(h) 및 엑스선이 방사 형태로 그리드(100)의 표면에 입사되었을 때 복수 개의 투과 격자의 각각의 위치(x)를 이용하여, 방사된 엑스선과 그리드(100)의 수평면이 이루는 제1 각도(θ)가 수학식 1과 같이 계산될 수 있다.
Figure pat00001
여기에서, xn은 그리드(100)에서 엑스선의 직선 도달 위치로부터 n번째 위치를 나타내고, θn은 xn 위치에 도달된 엑스선이 그리드(100)의 수평면과 이루는 제1 각도를 나타낸다. 예를 들어, 엑스선 광원(1)으로부터 그리드(100)까지의 엑스선 직선 도달 거리(h)가 150㎝이고, 엑스선 직선 도달 위치로부터 최외곽의 위치(xn)가 22㎝인 경우, θn은 81.5°로 계산될 수 있다.
도 3은 투과 격자를 구성하는 (2 2 0), (4 4 0)의 결정 격자 벡터를 가지는 매질의 격자 구조를 나타내는 도면이다.
전술한 바와 같이, 복수 개의 투과 격자는 각각의 투과 격자를 투과한 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 형성된다. 이를 위해, 복수 개의 투과 격자는, 도 3에 도시된 바와 같이, (2 2 0), (4 4 0)의 결정 격자 벡터를 가지는 재료(또는 원자면이 (2 2 0), (4 4 0)의 방향성을 갖는 재료)로 구성될 수 있다. (2 2 0), (4 4 0)의 결정 격자 벡터를 가지는 재료는, (2 2 0), (4 4 0)의 결정 격자 벡터를 만족하는 한 다양한 재료가 이용될 수 있다. (2 2 0), (4 4 0)의 결정 격자 벡터를 가지는 재료는,엑스선 입사면의 원자들의 배열 방향에 따라서, 입사된 엑스선이 특정 각도로 굴절되는 특성이 있다.
도 4는 투과 격자의 입사면이 그리드 수평면으로부터 이루는 경사각을 결정하는 방법을 설명하기 위한 하나의 투과 격자의 일 예를 나타내는 도면이다.
복수 개의 투과 격자는, 복수 개의 투과 격자를 통해 투과된 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록, 복수 개의 투과 격자의 각각의 위치에 따라 결정된 복수 개의 투과 격자의 그리드의 수평면에 대한 경사각을 가지도록 형성될 수 있다. 여기에서, 경사각은, 투과 격자의 입사면에서의 투과 격자를 구성하는 재료의 원자들의 배열 방향에 따라 결정될 수 있다.
경사각은, 복수 개의 투과 격자 각각의 위치에서 방사되어 입사되는 엑스선과 그리드의 수평면이 이루는 제1 각도를, 복수 개의 투과 격자를 투과한 각각의 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 하기 위하여 그리드의 수평면과 투과된 엑스선이 이루는 제2 각도로 변환하기 위한 변환 함수로부터 결정될 수 있다. 제2 각도는 투과 격자에 도달된 엑스선이 투과 격자에서 특정 각도만큼 굴절되어 투과 격자에서 진행하는 방향을 나타낸다.
제1 각도를 제2 각도로 변환하기 위한 변환 함수 f(x)는 수학식 2와 같이 나타낼 수 있다.
Figure pat00002
여기에서, α는 매질에 따른 계수값을 나타내고,
Figure pat00003
는 투과 격자의 매질의 회전각을 나타내고, t는 엑스선의 매질에서의 진행 경로를 나타낸다. θ는 제1 각도를 나타낸다.
Figure pat00004
Figure pat00005
및 t로 이루어진 함수를 나타내며, 투과 격자에 도달되는 엑스선마다 정의될 수 있다.
Figure pat00006
는 투과 격자의 매질 즉, 원자면이 (2 2 0), (4 4 0)인 구조를 가지는 매질을 나타내며,
Figure pat00007
는 투과 격자(즉, 매질)의 입사면의 원자 배열 구조에 따라 다른 값을 가진다.
도 1의 검출부(200) 및 그리드(100)의 평면이 평행하게 배치되는 경우, 제2 각도는 90°가 된다. sin(90°)= sin(π/2)=1이다. 따라서, 이 경우, 수학식 2는 제1 각도인 θ를 sin-1(1)로 변환하는 함수가 된다. 즉, 각 투과 격자는 투과 격자의 각 위치마다 제1 각도로 엑스선이 들어왔을 때 수학식 2의 변환 함수에 의해 엑스선이 검출부(200)에 수직으로 입사되도록 설계하는데 이용된다.
복수 개의 투과 격자는, 복수 개의 투과 격자를 통해 투과된 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 하는 입사면의 원자 배열 구조를 가지도록, 복수 개의 투과 격자의 각각의 위치에서 결정된 복수 개의 투과 격자의 그리드의 수평면에 대한 경사각을 가진다.
투과 격자의 경사면을 설정하기 위해서, 도 4와 같이 픽셀 피치에 대응하는 크기를 가지도록 투과 격자의 폭을 설정하고, 투과 격자의 깊이도 픽셀 피치에 대응하는 크기를 가지도록 설정한다. 예를 들어, 픽셀 피치가 50~200㎛인 경우, 투과 격자의 경사면을 설정하기 위한 투과 격자의 폭은 50~200㎛로 설정될 수 있다. 여기에서, 투과 격자의 깊이는 투과 격자의 경사면을 형성하기 위한 공간을 설정하기 위해 정의되는 것으로, 그리드(100)의 투과 격자의 깊이가 픽셀 피치에 한정되는 것을 의미하는 것은 아니다. 그러면, 도 4에 도시된 바와 같이, 투과 격자에서 정육면체의 격자 형태영역이 설정된다. 설정되는 정육면체의 격자는 격자 상수가 수Å인 단위 격자로 구성될 수 있다.
정육면체 공간에서, 그리드의 수평면에 대하여 경사각이 형성되도록 투과 격자에서 깍아낼 식각 영역(도 4에서 점선으로 표시된 영역)이 설정된다. 식각 영역은 도 4에 도시된 바와 같이, 투과 격자의 평면을 2차원 좌표 (x, y)로 설정했을 때, 0부터 π/2까지의 각도 범위의 영역을 제외한 영역으로 설정될 수 있다.
Figure pat00008
는 정육면체 공간에서 경사각을 결정하기 위하여 깎아내는 격자의 개수에 대응하는 부피를 제외한 부피로 모델링될 수 있다.
Figure pat00009
는 각 투과 격자를 구성하는 단위 격자의 질량(M)에 대하여, x축, y축의 2차원에서 각도(0 ~ π/2)와 곡면의 길이(0~L)에 의한 적분식으로 모델링한 수학식 3으로 표현될 수 있다.
Figure pat00010
여기에서, M은 투과 격자를 구성하는 단위 격자의 질량을 나타낸다.
각 투과 격자의 위치에서의 제1 각도는 도 2를 참조하여 설명한 바와 같이 계산할 수 있고, 도 1의 검출부(200)의 배치 방향에 따라, 제2 각도가 예를 들어, 90°로 결정될 수 있다. 또한, 수학식 3을 이용하여 메시 영역에서 투과 격자의 입사면의 경사각을 결정하기 위하여 투과 격자의 부피가 계산되고, 설정된 정육면체의 부피에서, 계산된 투과 격자의 부피를 차감하면, 깎아내야 하는 투과 격자의 부피가 계산될 수 있다. 따라서, 깎아내야 하는 투과 격자의 부피 정보를 이용하여 투과 격자의 메시 영역에서의 경사각이 추정될 수 있다.
깎아내야 하는 투과 격자의 부피 정보 및 도 4에서 x축의 좌표 x1은 픽셀 피치의 크기로 정해지고, 도시되지는 않았으나, x축 및 y축에 수직인 z축의 투과 격자의 좌표 z1의 크기도 픽셀 피치의 크기로 정해지므로, 호 L을 결정하기 위한 y 축의 투과 격자의 크기도 정해질 수 있다. 이와 같은 방법에 따라 투과 격자의 경사각이 정해질 수 있다. 도 4에서, 예를 들어, 깎아내야 하는 투과 격자의 부피에 따라서, 좌표 x1에서의 투과 격자의 y축의 좌표는 0으로 결정되고, 호 L에 따른 경사각이 형성될 수 있다. 또한, 도 4에서, 깎아내야 하는 투과 격자의 부피에 따라, 좌표 x1에서의 투과 격자의 y축의 좌표는 y2로 결정되고, 호 L2에 따라 경사각이 형성될 수 있다.
도 5는 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 형성된 산란 방지용 그리드의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 5의 그리드(100)는 복수 개의 투과 격자가 전술한 방법으로 추정된 경사각을 가지도록 패턴 형성된 그리드를 나타낸다. 패턴 형성된 그리드(100)에서, 복수 개의 투과 격자에서, 제1 각도가 동일한 적어도 하나의 투과 격자는 투과 격자의 입사면이 그리드 수평면으로부터 이루는 경사각이 서로 동일하다. 또한, 패턴 형성된 그리드(100)에서 투과 격자의 입사면이 그리드 수평면으로부터 이루는 경사각은 엑스선 광원(1)으로부터 방사되는 엑스선의 방사 각도가 클수록 크게 형성된다.
도 6a 및 도 6b는 산란 방지용 그리드의 제조 방법의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 6a는 산란 방지용 그리드를 제조하기 위하여 그리드를 고정하기 위한 그리드 가이드(611)에 그리드(613)가 놓여져 있는 상태를 나타낸다. 그리드(613)는 흡수 격자와 투과 격자가 반복적으로 적층된 형태로 원반형으로 형성될 수 있다. 그리드(613)의 단면(A-A')은 도면부호 617로 도시된 바와 같이 형성될 수 있다. 그리드(613)의 투과 격자를 투과한 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 형성하기 위하여, 패턴닝 바(615)를 이용할 수 있다.
패터닝 바(615)는 회전하면서, 도 4를 참조하여 설명한 바와 같이 추정된 각각의 투과 격자의 경사각에 따라 투과 격자가 형성되도록 투과 격자를 깍아 낼 수 있다. 패터닝 바(615)를 이용하여 그리드(613)의 투과 격자(617)는 도 6b에 나타난 바와 같이 패턴 형성될 수 있다.
도 7a 및 도 7b는 산란 방지용 그리드의 제조 방법의 다른 예를 나타내는 도면이다.
도 7a는 산란 방지용 그리드를 제조하기 위하여 흡수 격자와 투과 격자가 반복적으로 적층된 형태로 형성된 격자 형태의 그리드(711)가 놓여져 있는 상태를 나타낸다. 그리드(711)의 단면(A-A')은 도면부호 715로 도시된 바와 같이 형성될 수 있다. 그리드(711)의 투과 격자를 투과한 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 형성하기 위하여, 패턴닝 바(713)를 도 7a의 화살표 방향으로 이동시키면서 각각의 투과 격자가 도 4를 참조하여 설명한 바와 같은 경사각을 가지도록 투과격자들을 깍아낼 수 있다. 패터닝 바(713)를 이용하여 그리드(711)의 투과 격자는 도 7b의 도면부호 715에 나타난 바와 같이 패턴 형성될 수 있다.
본 발명의 일 양상은 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록 매체에 컴퓨터가 읽을 수 있는 코드로서 구현될 수 있다. 상기의 프로그램을 구현하는 코드들 및 코드 세그먼트들은 당해 분야의 컴퓨터 프로그래머에 의하여 용이하게 추론될 수 있다. 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체는 컴퓨터 시스템에 의하여 읽혀질 수 있는 데이터가 저장되는 모든 종류의 기록 장치를 포함한다. 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록 매체의 예로는 ROM, RAM, CD-ROM, 자기 테이프, 플로피 디스크, 광 디스크 등을 포함한다. 또한, 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록 매체는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템에 분산되어, 분산 방식으로 컴퓨터가 읽을 수 있는 코드로 저장되고 실행될 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 일 실시예에 불과할 뿐, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 본질적 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 범위는 전술한 실시예에 한정되지 않고 특허 청구범위에 기재된 내용과 동등한 범위 내에 있는 다양한 실시 형태가 포함되도록 해석되어야 할 것이다.

Claims (10)

  1. 엑스선 광원으로부터 방사된 엑스선을 엑스선 검출면으로 선택적으로 투과시키는 엑스선 산란 방지용 그리드로서,
    상기 방사된 엑스선을 흡수하는 복수 개의 흡수 격자; 및
    상기 복수 개의 흡수 격자 사이에 배치되어, 상기 방사된 엑스선을 투과하는 복수 개의 투과 격자를 포함하고,
    상기 복수 개의 투과 격자 각각은, 투과된 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 형성된 엑스선 산란 방지용 그리드.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 복수 개의 투과 격자를 통해 투과된 엑스선이 상기 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록, 상기 복수 개의 투과 격자는 상기 복수 개의 투과 격자의 각각의 위치에 따라 결정되는 상기 그리드의 수평면에 대한 경사각을 가지는 엑스선 산란 방지용 그리드.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 경사각은, 상기 투과 격자의 엑스선의 입사면에서의 상기 투과 격자를 구성하는 재료의 원자들의 배열의 방향에 따라 결정되는 엑스선 산란 방지용 그리드.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 복수 개의 투과 격자 각각의 위치에서 상기 방사되어 입사되는 엑스선과 상기 그리드의 수평면이 이루는 제1 각도를, 상기 복수 개의 투과 격자를 통해 투과된 엑스선이 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 하기 위하여 상기 그리드의 수평면과 상기 투과 격자를 투과한 엑스선이 이루는 제2 각도로 변환하기 위한 변환 함수로부터, 상기 경사각이 결정되는 엑스선 산란 방지용 그리드.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 복수 개의 투과 격자에서 상기 제1 각도가 동일한 적어도 하나의 투과 격자는 서로 동일한 경사각을 가지고, 상기 복수 개의 투과 격자의 각각의 경사각은 엑스선 광원으로부터 엑스선 검출면으로의 수직 방향으로부터 엑스선의 방사 각도가 클수록 크게 형성되는 엑스선 산란 방지용 그리드.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 복수 개의 투과 격자의 폭은, 상기 투과된 엑스선을 검출하는 검출부에 포함된 픽셀 피치와 동일한 크기를 가지는 엑스선 산란 방지용 그리드.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 복수 개의 투과 격자는, (2 2 0), (4 4 0)의 결정 격자 벡터를 가지는 재료로 구성되는 엑스선 산란 방지용 그리드.
  8. 엑스선 광원으로부터 산란된 엑스선을 흡수하는 복수 개의 흡수 격자;
    상기 복수 개의 흡수 격자 사이에 배치되어, 상기 방사된 엑스선을 투과하는 복수 개의 투과 격자; 및
    상기 복수 개의 투과 격자를 투과한 엑스선을 검출하는 검출부를 포함하고,
    상기 복수 개의 투과 격자 각각은, 상기 투과된 엑스선이 상기 검출부의 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록 형성된 엑스선 검출 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 복수 개의 투과 격자를 통해 투과된 엑스선이 상기 엑스선 검출면에 수직으로 입사되도록, 상기 복수 개의 투과 격자는 상기 복수 개의 투과 격자의 각각의 위치에 따라 결정되는 상기 그리드의 수평면에 대한 경사각을 가지는 엑스선 검출 장치.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 복수 개의 투과 격자에서 상기 제1 각도가 동일한 적어도 하나의 투과 격자는 서로 동일한 경사각을 가지고, 상기 복수 개의 투과 격자의 각각의 경사각은 엑스선 광원으로부터 엑스선 검출면으로의 수직 방향으로부터 엑스선의 방사 각도가 클수록 크게 형성되는 엑스선 검출 장치.
KR1020100070533A 2010-07-21 2010-07-21 엑스선 산란 방지용 그리드 및 엑스선 검출 장치 KR101238023B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100070533A KR101238023B1 (ko) 2010-07-21 2010-07-21 엑스선 산란 방지용 그리드 및 엑스선 검출 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100070533A KR101238023B1 (ko) 2010-07-21 2010-07-21 엑스선 산란 방지용 그리드 및 엑스선 검출 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120009811A true KR20120009811A (ko) 2012-02-02
KR101238023B1 KR101238023B1 (ko) 2013-03-04

Family

ID=45834542

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100070533A KR101238023B1 (ko) 2010-07-21 2010-07-21 엑스선 산란 방지용 그리드 및 엑스선 검출 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101238023B1 (ko)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160024650A (ko) 2014-08-26 2016-03-07 주식회사 오피트 다공성 기판을 이용한 방사선 산란 방지용 그리드 장치
KR20160024653A (ko) 2014-08-26 2016-03-07 주식회사 오피트 다공성 기판을 이용한 방사선 산란 방지용 그리드 및 그 제조 방법
KR20160024647A (ko) 2014-08-26 2016-03-07 주식회사 오피트 방사선 산란 방지용 그리드 장치 및 그 제조 방법
KR20160065802A (ko) 2016-05-27 2016-06-09 주식회사 오피트 방사선 산란 방지용 그리드 장치 및 그 제조 방법
KR20160067073A (ko) 2016-05-27 2016-06-13 주식회사 오피트 다공성 기판을 이용한 방사선 산란 방지용 그리드 장치
CN109983542A (zh) * 2016-11-24 2019-07-05 皇家飞利浦有限公司 用于探测器装置的防散射网格组件
CN110236587A (zh) * 2019-07-11 2019-09-17 上海联影医疗科技有限公司 防散射栅格及其制备方法、探测器装置及医疗影像设备

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000210274A (ja) 1999-01-25 2000-08-02 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線撮像装置およびそれに用いられる放射線センサ
KR20010017988A (ko) * 1999-08-16 2001-03-05 전춘택 엑스레이 그리드
JP2002257939A (ja) 2001-03-06 2002-09-11 Shimadzu Corp 2次元放射線検出器とその製造方法、及びその補正方法
DE10241423B4 (de) * 2002-09-06 2007-08-09 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung und Aufbringung eines Streustrahlenrasters oder Kollimators auf einen Röntgen- oder Gammadetektor

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160024650A (ko) 2014-08-26 2016-03-07 주식회사 오피트 다공성 기판을 이용한 방사선 산란 방지용 그리드 장치
KR20160024653A (ko) 2014-08-26 2016-03-07 주식회사 오피트 다공성 기판을 이용한 방사선 산란 방지용 그리드 및 그 제조 방법
KR20160024647A (ko) 2014-08-26 2016-03-07 주식회사 오피트 방사선 산란 방지용 그리드 장치 및 그 제조 방법
KR20160065802A (ko) 2016-05-27 2016-06-09 주식회사 오피트 방사선 산란 방지용 그리드 장치 및 그 제조 방법
KR20160067073A (ko) 2016-05-27 2016-06-13 주식회사 오피트 다공성 기판을 이용한 방사선 산란 방지용 그리드 장치
CN109983542A (zh) * 2016-11-24 2019-07-05 皇家飞利浦有限公司 用于探测器装置的防散射网格组件
CN109983542B (zh) * 2016-11-24 2023-09-01 皇家飞利浦有限公司 用于探测器装置的防散射网格组件
CN110236587A (zh) * 2019-07-11 2019-09-17 上海联影医疗科技有限公司 防散射栅格及其制备方法、探测器装置及医疗影像设备
CN110236587B (zh) * 2019-07-11 2024-03-01 上海联影医疗科技股份有限公司 防散射栅格制备方法、探测器装置及医疗影像设备

Also Published As

Publication number Publication date
KR101238023B1 (ko) 2013-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101238023B1 (ko) 엑스선 산란 방지용 그리드 및 엑스선 검출 장치
US9234856B2 (en) X-ray apparatus and X-ray measuring method
JP6460226B2 (ja) X線撮影装置
US7643611B2 (en) Method and apparatus for shadow aperture backscatter radiography (SABR) system and protocol
US20160187269A1 (en) Volumetric-molecular-imaging system and method therefor
KR20070047224A (ko) X-선 검출기 및 이를 구비하는 x-선 ct 장치
KR20110079722A (ko) X선 촬상장치 및 x선 촬상방법
JP2012200567A (ja) 放射線撮影システム及び放射線撮影方法
JP2010190777A (ja) X線撮影装置
CN106214169B (zh) 用于产生检查对象的x射线图像的方法和装置
JP5526775B2 (ja) 放射線撮像装置
JP5143147B2 (ja) X線撮像装置およびx線撮像方法
US11221303B2 (en) Radiation capturing system
JP5946848B2 (ja) 放射線撮像装置及びスキャニング方法
JP2023537997A (ja) 検知コリメートユニット、検知装置及びspect結像システム
KR20120009812A (ko) 엑스선 산란 방지용 그리드 및 엑스선 검출 장치
US11000249B2 (en) X-ray detector for grating-based phase-contrast imaging
WO2013038881A1 (ja) 放射線撮影装置及び画像処理方法
JP2013042788A (ja) 放射線撮影装置及びアンラップ処理方法
JP5610885B2 (ja) X線撮像装置および撮像方法
WO2012147749A1 (ja) 放射線撮影システム及び放射線撮影方法
JP6516981B2 (ja) 放射線検出器
JP2012228301A (ja) 放射線撮影装置
JP7496181B1 (ja) 測定装置および測定方法
KR102568800B1 (ko) 방사선 검출용 콜리메이터 및 이를 이용한 방사선 검출 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160111

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170209

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180213

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190214

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200210

Year of fee payment: 8