KR20120002625U - Cleaning pad for glass substrate - Google Patents

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KR20120002625U KR2020100010338U KR20100010338U KR20120002625U KR 20120002625 U KR20120002625 U KR 20120002625U KR 2020100010338 U KR2020100010338 U KR 2020100010338U KR 20100010338 U KR20100010338 U KR 20100010338U KR 20120002625 U KR20120002625 U KR 20120002625U
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문덕주
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Abstract

유리기판 표면의 이물질을 제거하기 위하여 유리기판 표면과 마찰접촉하면서 유리기판의 표면을 세정하도록, 베이스와, 이 베이스에 장착되어 기판 표면의 입자성 고형 이물질을 제거하는 고형 이물질 세정용 패드부와, 기판 표면의 액상의 유기성 이물질을 제거하는 브러시부를 구비하는 세정부재를 포함하는 유리기판용 세정패드를 개시한다. 개시된 유리기판용 세정패드의 브러시부는 지지체와, 지지체에 식모되어 패드부의 돌기부재를 관통하고 돌기부재의 표면 외측으로 돌출되어 패드부에 균일하게 산포되는 다수의 브러시를 포함함으로써, 유리기판의 세정 시 발생되는 경질의 연마칩이 브러시부로 포집되는 않아 이 연마칩에 의한 유리기판의 스크래치를 방지할 수 있다.A base and a solid foreign matter cleaning pad portion mounted on the base to remove particulate solid foreign matter from the surface of the glass substrate so as to clean the surface of the glass substrate while being in frictional contact with the surface of the glass substrate in order to remove foreign substances from the surface of the glass substrate; Disclosed is a cleaning pad for a glass substrate, the cleaning pad including a cleaning member having a brush portion for removing liquid organic foreign matter on the surface of the substrate. The brush portion of the cleaning substrate for a glass substrate disclosed herein includes a support and a plurality of brushes that are implanted in the support and penetrate the protrusion members of the pad portion and protrude outward from the surface of the protrusion member to be uniformly distributed on the pad portion. Since the generated hard polishing chips are not collected by the brush portion, it is possible to prevent scratches of the glass substrate by the polishing chips.

Description

유리기판용 세정패드{Cleaning pad for glass substrate}Cleaning pad for glass substrate

본 고안은 유리기판용 세정패드에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유리기판 표면의 각종 이물질을 효율적으로 제거할 수 있는 유리기판용 세정패드에 관한 것이다. The present invention relates to a cleaning pad for a glass substrate, and more particularly to a cleaning pad for a glass substrate that can efficiently remove various foreign substances on the surface of the glass substrate.

일반적으로 평판디스플레이(FPD;Flat Panel Display)는 편평한 박형의 디스플레이를 말하며, 이러한 평판디스플레이의 종류로는 LCD, PDP, LED, TFT 등이 있다.In general, a flat panel display (FPD) refers to a flat thin display, and the type of such a flat panel display includes LCD, PDP, LED, and TFT.

평판디스플레이 특히, TFT(Thin Film Transistor;박막 트랜지스터)에 사용되는 유리기판은 여러 다양한 공정을 거치게 되는데, 이러한 과정에서 미세먼지 또는 유기성 물질 등과 같은 각종 이물질이 표면에 부착된다.Glass substrates used in flat panel displays, in particular, TFTs (Thin Film Transistors), go through various processes, and in this process, various foreign matters such as fine dust or organic materials adhere to the surface.

이러한 각종 이물질은 평판디스플레이의 불량을 초래하거나, 제품의 질을 상대적으로 저하시키는 원인이 되기 때문에 세정작업을 통해 완전히 제거해 주어야 한다.These various foreign matters may cause a defect of the flat panel display or relatively deteriorate the quality of the product and should be completely removed by cleaning.

따라서, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 패널세정장치가 대한민국등록특허공보 10-0914508호에 개시되어 있다. 개시된 패널세정장치는 세정휠의 패널에 접면되는 일면에 패널을 연마하는 연마부 및 연마부에 연마작업 시 발생되는 이물질을 제거하는 이물질 제거부를 구비하고 있다. 이때의 이물질 제거부는 다수개의 브러시로 이루어져 있다.Therefore, a panel cleaning device for solving the above problems is disclosed in Korean Patent Publication No. 10-0914508. The disclosed panel cleaning apparatus includes a polishing portion for polishing a panel on one surface of the cleaning wheel and a foreign matter removal portion for removing foreign matters generated during polishing. At this time, the foreign material removing unit is composed of a plurality of brushes.

한편, 상기의 이물질 제거부는 세정휠의 회전축을 중심으로 방사 대칭으로 복수 개가 형성되거나 부채꼴 형상으로 형성되어 있다. 즉, 이물질 제거부는 다수개의 브러시로 이루어지되, 세정휠에서 별도의 섹터를 이루도록 분할되어 있다. On the other hand, the foreign material removal portion is formed in a plurality or radially symmetrical around the axis of rotation of the cleaning wheel is formed in a fan shape. That is, the foreign material removing unit is composed of a plurality of brushes, it is divided to form a separate sector in the cleaning wheel.

그러나, 종래의 패널세정장치는 상술한 바와 같이 다수의 브러시로 이루어진 이물질 제거부가 별도의 섹터를 이루도록 세정휠에 형성되어 있으므로, 연마부에 의한 유리기판의 연마작업 시 발생되는 경질의 연마칩이 별도의 섹터로 분할되어 있는 이물질 제거부로 포집되어 이 연마칩이 유리기판에 2차 스크래치를 발생시키는 문제점이 있다.However, in the conventional panel cleaning apparatus, as described above, since the foreign material removing unit made of a plurality of brushes is formed on the cleaning wheel to form a separate sector, the hard polishing chip generated during the polishing operation of the glass substrate by the polishing unit is separately included. There is a problem that the abrasive chip is collected by the foreign matter removing unit divided into sectors of the secondary chip to cause secondary scratches on the glass substrate.

본 고안은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 고안의 목적은 유리기판 표면의 입상의 고형 이물질과 액상의 유기성 이물질을 한꺼번에 세정할 수 있는 유리기판용 세정패드를 제공하는데 있다.The present invention is to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a cleaning substrate for a glass substrate that can clean the solid foreign matter of the granular surface and the liquid organic foreign matter at the same time.

또, 본 고안의 목적은 세정휠에 의한 유리기판의 세정 시 발생되는 연마칩이 브러시로 포집되는 것을 방지하여 유리기판에 스크래치가 발생되는 것을 방지하는 유리기판용 세정패드를 제공하는데 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a cleaning pad for a glass substrate to prevent the scratch generated on the glass substrate by preventing the polishing chips generated when cleaning the glass substrate by the cleaning wheel with a brush.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 고안의 유리기판용 세정패드는 기판 표면의 이물질을 제거하기 위하여 기판 표면과 마찰 접촉하면서 기판의 표면을 연마세정하도록, 베이스와 상기 베이스에 장착되는 세정부재를 포함하되,The cleaning pad for a glass substrate of the present invention for achieving the above object includes a base and a cleaning member mounted to the base to polish and clean the surface of the substrate while in frictional contact with the surface of the substrate to remove foreign substances from the surface of the substrate. ,

상기 세정부재는,The cleaning member,

상기 세정부재는 고형 이물질 세정용 패드부와, 유기성 이물질 세정용 브러시부를 포함하고,The cleaning member includes a solid foreign material cleaning pad part and an organic foreign material cleaning brush part.

상기 패드부는 입자성 고형 이물질을 제거할 수 있도록 경질의 연마입자들을 포함하고, 그 표면에 종횡으로 일정한 간격을 두고 연속 배치되는 복수개의 파형 그루브에 의해 형성되는 돌기부재를 가지며,The pad part includes hard abrasive particles to remove particulate solid foreign matter, and has a protruding member formed by a plurality of corrugated grooves continuously disposed at regular intervals vertically and horizontally on the surface thereof.

상기 브러시부는, The brush unit,

지지체와, With a support,

상기 지지체에 식모되어 상기 패드부의 돌기부재를 관통하고 상기 돌기부재의 표면 외측으로 돌출되어 상기 패드부에 균일하게 산포되며, 각각은 굴성을 가진 연질의 제료로 성형되는 다수의 브러시를 포함하는 것을 특징으로 한다.It is implanted in the support and penetrates the protrusion member of the pad portion and protrudes out of the surface of the protrusion member is uniformly dispersed in the pad portion, each comprising a plurality of brushes are formed of a flexible material having a flexible It is done.

상기 그루브는 상기 패드부의 표면에 동일주기의 파형으로 반복 형성되는 제1그루브와, 상기 제1그루브와 교차하도록 상기 패드부의 표면에 동일 주기의 파형으로 반복 형성되는 제2그루브를 포함하며,The groove includes a first groove repeatedly formed on the surface of the pad part in the same cycle, and a second groove repeatedly formed on the surface of the pad part in the same cycle so as to intersect the first groove.

상기 제1,2그루브는 인접하는 2개의 그루브들의 배치 간격이 각 그루브의 진폭보다 적게 형성된 것을 특징으로 한다.The first and second grooves may have a spacing between two adjacent grooves less than the amplitude of each groove.

상기 다수의 브러시는 상기 돌기부재의 중앙을 관통하여 설치된 것을 특징으로 한다.The plurality of brushes are characterized in that installed through the center of the projection member.

상기의 설명에서와 같이 본 고안의 유리기판용 세정패드는 유리기판 표면의 입상의 고형 이물질을 제거하는 패드부와, 액상의 유기성 이물질을 제거하는 브러시부를 포함함에 따라 입상의 고형 이물질과 액상의 유기성 이물질을 한꺼번에 제거할 수 있는 효과가 있다.As described above, the cleaning pad for glass substrates of the present invention includes a pad portion for removing particulate solid foreign matter on the surface of the glass substrate, and a brush portion for removing liquid organic foreign matter. It is effective to remove foreign substances at once.

또, 본 고안의 유리기판용 세정패드는 다수의 브러시가 패드부의 돌기부재 외측으로 돌출되되 패드부의 전체 영역에 다수개가 균일하게 산포되도록 배치됨에 따라 유리기판의 세정 시 발생되는 경질의 연마칩이 브러시부로 포집되는 않아 이 연마칩에 의한 유리기판의 스크래치를 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, the cleaning pad for the glass substrate of the present invention has a plurality of brushes are protruded to the outside of the protrusion member of the pad portion is arranged so that a plurality of uniformly distributed over the entire area of the pad portion hard grinding chips generated when cleaning the glass substrate brush Since it is not negatively collected, there is an effect of preventing scratches on the glass substrate by this polishing chip.

도 1은 본 고안의 유리기판용 세정패드를 도시한 사시도이다.
도 2는 본 고안의 유리기판용 세정패드를 부분적으로 확대 도시한 사시도이다.
도 3은 본 고안의 유리기판용 세정패드의 세정부를 확대 도시한 평면도이다.
도 4 및 도 5는 본 고안의 유리기판용 세정패드의 동작을 설명하기 위해 도시한 도면이다.1 is a perspective view showing a cleaning pad for a glass substrate of the present invention.
2 is a partially enlarged perspective view of the cleaning pad for a glass substrate of the present invention.
3 is an enlarged plan view illustrating a cleaning part of the cleaning pad for a glass substrate of the present invention.
4 and 5 are views for explaining the operation of the cleaning pad for a glass substrate of the present invention.

이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 고안의 유리기판용 세정패드에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail with respect to the cleaning pad for a glass substrate of the present invention.

도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 고안의 유리기판용 세정패드는 유리기판(S,도 4 참조) 표면의 이물질을 제거하기 위하여 유리기판(S) 표면을 세정하는 역할을 한다. 이러한 세정패드는 베이스(10)와, 이 베이스(10)에 장착되는 세정부재를 포함한다.As shown in Figures 1 to 3, the cleaning pad for a glass substrate of the present invention serves to clean the surface of the glass substrate (S) in order to remove foreign substances on the surface of the glass substrate (S, see Figure 4). The cleaning pad includes a base 10 and a cleaning member mounted to the base 10.

이때, 유리기판(S) 표면의 이물질은 미세먼지와 같은 입상의 고형 이물질과 유분 등과 같은 액상의 유기성 이물질을 포함하며, 본 고안의 유리기판용 세정패드의 세정부재는 입상의 고형 이물질을 연마 세정하는 패드부(20)와, 액상의 유기성 이물질을 세정하는 브러시부(30)를 포함한다.At this time, the foreign matter on the surface of the glass substrate (S) includes a solid foreign matter, such as fine dust and liquid organic foreign matter, such as oil, etc., the cleaning member of the cleaning pad for glass substrates of the present invention is abrasive cleaning the particulate solid foreign matter A pad portion 20 and a brush portion 30 for cleaning liquid organic foreign matter.

먼저, 베이스(10)는 패드부(20)에 일정의 탄성을 부여한다. 즉, 베이스(10)는 패드부(20)가 유리기판(S)에 대하여 일정의 압력으로 회전하면서 세정할 때 유리기판(S)에 대하여 충격을 완화함과 아울러 유리기판(S)과의 접촉면에 대한 압력을 균일하게 전달하여 평탄도를 조절하는 역할을 한다.First, the base 10 imparts a certain elasticity to the pad portion 20. In other words, the base 10 has a pad surface 20 to reduce the impact on the glass substrate (S) when the pad portion 20 is rotated at a constant pressure with respect to the glass substrate (S) and the contact surface with the glass substrate (S) It uniformly transmits the pressure against and serves to adjust the flatness.

이러한 베이스(10)는 탄성을 지닌 다양한 재질의 것을 선택적으로 적용할 수 있으나, Shore A 경도 기준으로 10 ~ 80 정도의 탄성을 가지는 재질로 이루어지는 것이 바람직하다. 그리고 베이스(10)의 두께는 대략 1.0 ~ 10.0 mm 정도인 것이 바람직하다.The base 10 may be selectively applied to various materials having elasticity, but preferably made of a material having elasticity of about 10 to 80 based on Shore A hardness. And it is preferable that the thickness of the base 10 is about 1.0-10.0 mm.

패드부(20)는 일정한 두께를 가지는 원판형태의 구조를 가진다. 이러한 패드부(20)의 표면에는 유리기판(S)과의 표면마찰을 통해 유리기판(S)의 표면에 부착된 미세먼지와 같은 입자성 고형 이물질을 실질적으로 제거하는 돌기부재(25)가 형성된다. 여기서, 돌기부재(25)에는 입자성 고형 이물질을 제거할 수 있도록 미세한 경질의 연마입자들을 포함할 수 있다.The pad portion 20 has a disk-shaped structure having a certain thickness. Protruding member 25 is formed on the surface of the pad part 20 to substantially remove particulate solid foreign matter such as fine dust attached to the surface of the glass substrate S through surface friction with the glass substrate S. do. Here, the protrusion member 25 may include fine hard abrasive particles to remove the particulate solid foreign matter.

상기의 돌기부재(25)는 패드부(20)의 표면에 종횡으로 일정한 간격을 두고 연속 배치되는 복수개의 파형 그루브에 의해 형성된다. 구체적으로 그루브는 패드부(20)의 표면에서 동일 주기의 파형으로 반복 형성되는 제1그루브(21)와, 이 제1그루브(21)와 마찬가지로 동일 주기의 파형으로 반복 형성되되 제1그루브(21)와 교차 형성되는 제2그루브(23)를 포함한다.The protrusion member 25 is formed by a plurality of corrugated grooves continuously arranged at regular intervals in the vertical and horizontal direction on the surface of the pad portion 20. Specifically, the groove is repeatedly formed in the same cycle as the first groove 21 and the first groove 21 is formed repeatedly on the surface of the pad portion 20 in the same cycle, but the first groove 21 ) And a second groove 23 intersecting with each other.

도 3에 도시된 바와 같이, 상기의 각 그루브들(21,23)은 인접하는 그루브들과의 배치 간격(D)이 각 그루브의 진폭(W)보다 적게 형성되어 배치된다. 즉, 어느 하나의 그루브의 골들 사이의 공간 안에 인접한 다른 그루브의 골이 배치된다. As shown in FIG. 3, each of the grooves 21 and 23 is disposed so that an arrangement interval D of adjacent grooves is smaller than an amplitude W of each groove. That is, the valley of another groove is disposed in the space between the valleys of one groove.

따라서 본 고안에서 각 그루브들은 인접하는 그루브들과의 배치 간격(D)이 각 그루브의 진폭(W)보다 적게 형성됨에 따라, 제1,2그루브(21,23)에 의해 형성되는 돌기부재(25)가 유리기판(S)의 세정시 발생될 수 있는 사각지대를 완전히 제거하여 유리기판을 균일하게 세정할 수 있다. Therefore, in the present invention, each groove is formed of the protrusion member 25 formed by the first and second grooves 21 and 23, as the arrangement interval D between the adjacent grooves is smaller than the amplitude W of each groove. ) Can completely clean the glass substrate by completely removing the blind spots that may be generated during the cleaning of the glass substrate (S).

그리고 돌기부재(25)가 유리기판의 세정 시 발생될 수 있는 사각지대를 완전히 제거하여 균일하게 세정할 수 있으므로, 미세먼지와 같은 입자형 고형의 이물질들을 원활하게 세정할 수 있다. In addition, since the protrusion member 25 completely removes the blind spots that may be generated during the cleaning of the glass substrate, it may be uniformly cleaned, and thus, it may smoothly clean the particulate solid particles such as fine dust.

브러시부(30)는 세정패드의 회전 시 패드부(20)의 돌기부재(25)에 의해 유리기판(S)의 표면의 입자성 고형 이물질이 세정될 때 유리기판(S) 표면의 유기성 이물질을 세정하는 역할을 한다. The brush part 30 cleans the organic foreign matter on the surface of the glass substrate S when the particulate solid foreign matter on the surface of the glass substrate S is cleaned by the protrusion member 25 of the pad part 20 when the cleaning pad is rotated. It serves to clean.

상기의 브러시부(30)는 지지체(31)와, 이 지지체(31)에 식모되는 다수의 브러시(33)를 포함한다. The brush portion 30 includes a support 31 and a plurality of brushes 33 implanted into the support 31.

지지체(31)는 도시된 바와 같이 베이스(10)와 패드부(20)의 사이에 배치된다. 이러한 지지체(31)는 일정한 두께를 가지는 원판형태의 구조를 가진다.The support 31 is disposed between the base 10 and the pad portion 20 as shown. The support 31 has a disk-shaped structure having a constant thickness.

브러시(33)는 상술한 바와 같이 베이스(10)와 패드부(20)의 사이에 배치되는 지지체(31)에 식모되는데, 이러한 브러시(33)는 지지체(31) 상에 다수개가 균일하게 산포되도록 식모된다. As described above, the brushes 33 are implanted in the support 31 disposed between the base 10 and the pad portion 20, and the brushes 33 are uniformly distributed on the support 31. It is planted.

구체적으로, 지지체(31) 상에 다수개가 균일하게 산포되도록 식모된 브러시(33)는 본 고안의 세정패드의 제조 시 패드부(20)를 관통하여 설치된다. 즉, 브러시(33)는 상술한 바와 같이 패드부(20)를 관통하여 설치되되, 패드부(20)의 표면에 종횡으로 일정한 간격을 두고 연속 배치되는 복수개의 제1,2그루브(21,23)에 의해 형성되는 돌기부재(25)를 관통한다. Specifically, the brush 33 implanted so that a plurality is uniformly distributed on the support 31 is installed through the pad portion 20 in the manufacture of the cleaning pad of the present invention. That is, the brush 33 is installed through the pad portion 20 as described above, and the plurality of first and second grooves 21 and 23 continuously arranged at regular intervals vertically and horizontally on the surface of the pad portion 20. Penetrates through the protruding member 25 formed by).

또, 상기의 브러시(33)는 돌기부재(25) 보다 외측으로 돌출되도록 연장되며, 패드부(20) 보다 굴성을 가진 상대적으로 연질의 재료로 성형된다. 이때의 브러시(33)는 돌기부재(25)의 중앙에서 돌출되도록 배치되는 것이 바람직하다.
In addition, the brush 33 extends to protrude outward from the protruding member 25, and is formed of a relatively soft material having greater flexibility than the pad part 20. At this time, the brush 33 is preferably disposed to protrude from the center of the projection member (25).

한편, 본 고안의 유리기판용 세정패드의 세정과정에 대해 상세히 설명하면 다음과 같다.On the other hand, the cleaning process of the cleaning pad for a glass substrate of the present invention will be described in detail.

먼저, 유리기판(S)은 여러 과정의 제조공정을 거쳐 제조되며, 이러한 과정에서 유리기판(S)의 표면에는 미세먼지와 같은 입상의 고형 이물질과 유분과 같은 유기성 이물질이 잔류할 수 있다.First, the glass substrate S is manufactured through various manufacturing processes. In this process, the surface of the glass substrate S may have particulate solid particles such as fine dust and organic foreign substances such as oil.

이에 따라 본 고안에서는 상기의 각종 이물질을 세정하기 위해 원판형상의 베이스(10)와, 제1,2그루브(21,23)에 의해 형성되는 돌기부재(25)가 표면에 마련된 패드부(20)와, 패드부(20)의 돌기부재(25)를 관통하여 배치되는 다수의 브러시(33)를 갖는 브러시부(30)를 포함하는 세정패드를 이용하여 세정한다.Accordingly, in the present invention, the pad portion 20 provided with a disc-shaped base 10 and a protrusion member 25 formed by the first and second grooves 21 and 23 to clean the various foreign substances. And a cleaning pad including a brush portion 30 having a plurality of brushes 33 disposed through the protruding member 25 of the pad portion 20.

즉, 본 고안에서는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 세정패드를 이용하여 유리기판(S) 표면의 각종 이물질을 세정하게 된다.That is, in the present invention, various foreign substances on the surface of the glass substrate S are cleaned by using a cleaning pad as shown in FIGS. 4 and 5.

여기서, 유리기판(S) 표면의 미세먼지와 같은 입상의 고형 이물질은 패드부(20) 즉, 제1,2그루브(21,23)에 의해 형성되는 돌기부재(25)에 의해 제거된다.Here, the particulate solid foreign matter such as fine dust on the surface of the glass substrate S is removed by the protrusion member 25 formed by the pad portion 20, that is, the first and second grooves 21 and 23.

그리고, 유리기판(S) 표면의 유분과 같은 유기성 이물질은 패드부(20) 보다 일정 부분 외측으로 돌출되도록 형성되는 다수의 브러시(33)를 갖는 브러시부(30)에 의해 제거된다. 이때, 브러시(33)는 연질의 재료로 지지체로부터 성형되므로 세정패드의 회전 시 유기성 이물질을 쓸게 되므로 효율적으로 제거할 수 있게 된다.In addition, organic foreign substances such as oil on the surface of the glass substrate S are removed by the brush part 30 having a plurality of brushes 33 formed to protrude outward from the pad part 20. At this time, since the brush 33 is molded from the support with a soft material, the organic foreign substances are wiped when the cleaning pad is rotated, so that the brush 33 can be efficiently removed.

따라서, 본 고안에서는 유리기판의 세정 시 패드부(20)의 돌기부재(25)를 통해 입상의 고형 이물질을 제거할 수 있을 뿐만 아니라 브러시부(30)를 통해 유기성 이물질을 한꺼번에 제거할 수 있다.Therefore, in the present invention, when cleaning the glass substrate, not only the particulate solid foreign matter may be removed through the protruding member 25 of the pad part 20, but the organic foreign matter may be removed at the same time through the brush part 30.

또한, 본 고안에서는 다수의 브러시가 군집되어 세정휠 즉, 세정패드에 일정 섹터를 이루는 종래와는 달리 다수의 브러시(33)가 패드부(20)의 돌기부재(25) 외측으로 돌출되되 패드부(20)의 전체 영역에 다수개가 균일하게 산포되도록 배치됨에 따라 유리기판의 세정 시 발생되는 경질의 연마칩이 브러시부(30)로 포집되는 않아 이 연마칩에 의한 유리기판의 스크래치를 방지할 수 있다.In addition, in the present invention, a plurality of brushes are clustered to form a predetermined sector on the cleaning wheel, that is, the cleaning pad. Unlike the conventional art, the plurality of brushes 33 protrude to the outside of the protruding member 25 of the pad part 20, but the pad part is not. As a plurality of uniformly distributed in the entire area of the (20), the hard polishing chips generated during the cleaning of the glass substrate is not collected by the brush portion 30, it is possible to prevent scratches of the glass substrate by this polishing chip. have.

10 : 베이스 20 : 패드부
21 : 제1그루브 23 : 제2그루브
25 : 돌기부재 30 : 브러시부
31 : 지지체 35 : 브러시
S : 기판10: base 20: pad part
21: first groove 23: second groove
25: projection member 30: brush portion
31: support 35: brush
S: Substrate

Claims (3)

유리기판(S) 표면의 이물질을 제거하기 위하여 유리기판(S) 표면과 마찰접촉하면서 유리기판(S)의 표면을 세정하도록, 베이스(10)와 상기 베이스(10)에 장착되는 세정부재를 포함하는 유리기판용 세정패드에 있어서,
상기 세정부재는 고형 이물질 세정용 패드부(20)와, 유기성 이물질 세정용 브러시부(30)를 포함하고,
상기 패드부(20)는 입자성 고형 이물질을 제거할 수 있도록 경질의 연마입자들을 포함하고, 그 표면에 종횡으로 일정한 간격을 두고 연속 배치되는 복수개의 파형 그루브에 의해 형성되는 돌기부재(25)를 가지며,
상기 브러시부(30)는,
지지체(31)와,
상기 지지체(31)에 식모되어 상기 패드부(20)의 돌기부재(25)를 관통하고 상기 돌기부재(25)의 표면 외측으로 돌출되어 상기 패드부(20)에 균일하게 산포되며, 각각은 굴성을 가진 연질의 제료로 성형되는 다수의 브러시(33)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정용 패드.And a cleaning member mounted to the base 10 and the base 10 to clean the surface of the glass substrate S while being in frictional contact with the surface of the glass substrate S to remove foreign substances on the surface of the glass substrate S. In the cleaning substrate for glass substrate,
The cleaning member includes a solid foreign substance cleaning pad portion 20 and an organic foreign substance cleaning brush portion 30,
The pad part 20 includes the abrasive member 25 which includes hard abrasive particles to remove particulate solid foreign matter, and is formed by a plurality of corrugated grooves continuously arranged at regular intervals vertically and horizontally on the surface thereof. Has,
The brush part 30,
With the support 31,
It is planted on the support 31 and penetrates through the protruding member 25 of the pad portion 20 and protrudes out of the surface of the protruding member 25 to be uniformly distributed on the pad portion 20, each of which is flexible. Substrate cleaning pads comprising a plurality of brushes (33) formed of a soft material having a. 제1항에 있어서,
상기 그루브는 상기 패드부(20)의 표면에 동일주기의 파형으로 반복 형성되는 제1그루브(21)와, 상기 제1그루브(21)와 교차하도록 상기 패드부(20)의 표면에 동일 주기의 파형으로 반복 형성되는 제2그루브(23)를 포함하며,
상기 제1,2그루브(21,23)는 인접하는 2개의 그루브들의 배치 간격이 각 그루브의 진폭보다 적게 형성된 것을 특징으로 하는 유리기판용 세정패드. The method of claim 1,
The groove has the same groove on the surface of the pad portion 20 so as to intersect the first groove 21 and the first groove 21 on the surface of the pad portion 20. A second groove 23 repeatedly formed in a waveform;
The first and second grooves (21, 23) is a cleaning substrate for the glass substrate, characterized in that the spacing of the two adjacent grooves is formed less than the amplitude of each groove. 제1항에 있어서,
상기 다수의 브러시(33)는 상기 돌기부재(25)의 중앙을 관통하여 설치된 것을 특징으로 하는 유리기판용 세정패드.The method of claim 1,
The plurality of brushes (33) is a cleaning pad for a glass substrate, characterized in that installed through the center of the projection member (25).
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KR20170040902A (en) 2015-10-06 2017-04-14 인트테크놀로지(주) Glass cleaning pad
KR20190118324A (en) * 2018-04-10 2019-10-18 주식회사 에이유테크 Pad for cleaning panel and apparatus for cleaning panel with this pad

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