KR20110131047A - Manufacturing method of embedded pcb and structure for manufacturing embedded pcb - Google Patents

Manufacturing method of embedded pcb and structure for manufacturing embedded pcb Download PDF

Info

Publication number
KR20110131047A
KR20110131047A KR1020100050673A KR20100050673A KR20110131047A KR 20110131047 A KR20110131047 A KR 20110131047A KR 1020100050673 A KR1020100050673 A KR 1020100050673A KR 20100050673 A KR20100050673 A KR 20100050673A KR 20110131047 A KR20110131047 A KR 20110131047A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
metal layer
insulating layer
chip
printed circuit
circuit board
Prior art date
Application number
KR1020100050673A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이민석
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to KR1020100050673A priority Critical patent/KR20110131047A/en
Publication of KR20110131047A publication Critical patent/KR20110131047A/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/19Manufacturing methods of high density interconnect preforms
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04105Bonding areas formed on an encapsulation of the semiconductor or solid-state body, e.g. bonding areas on chip-scale packages
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/19Manufacturing methods of high density interconnect preforms
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73267Layer and HDI connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/922Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
    • H01L2224/9222Sequential connecting processes
    • H01L2224/92242Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
    • H01L2224/92244Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a build-up interconnect
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1515Shape
    • H01L2924/15153Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19105Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate

Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing an embedded type printed circuit board and a structure for the embedded type printed circuit board are provided to efficiently emit a heat to outside by supporting the mounting surface of a chip within a cavity area using a metal layer. CONSTITUTION: A base board(110) is formed on the surface of a first insulation layer(111). The base board comprises a circuit pattern which is electrically connected. First metal layers(140,141) are formed in the chip mounting range on the first insulation layer. One side supporting metal insulation layer is composed of an insulating layer and a second metal layer(220). The insulating layer is laminated in the base board of a part in which the first metal layer is formed. An external circuit pattern which is connected to the terminal of a chip is formed.

Description

매립형 인쇄회로기판 제조방법 및 매립형 인쇄회로기판 제조용 구조물{ Manufacturing method of Embedded PCB and Structure for Manufacturing Embedded PCB}Manufacturing method of embedded printed circuit board and structure for manufacturing embedded printed circuit board

본 발명은 매립형 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것으로, 특히 전자소자칩의 안정적인 장착구조를 구현함과 동시에 방열기능을 수행할 수 있는 인쇄회로기판의 제조에 관한 것이다The present invention relates to a method of manufacturing a buried printed circuit board, and more particularly, to the manufacture of a printed circuit board that can perform a heat dissipation function while implementing a stable mounting structure of an electronic device chip.

인쇄회로기판은 반도체, 전자기기의 발전과 동시에 전자부품의 하나로서 그 지위를 굳히고 있으며, 라디오, 텔레비전, PCS 등의 각종 전기, 전자제품에서부터 컴퓨터 및 최첨단 전자 장비에 이르기까지 모든 전기, 전자기기 등의 회로를 구현하는 부품으로서 널리 사용되고 있다. 최근 이 분야의 기술상의 진보가 현저해짐에 따라서 인쇄회로기판에 있어서 고도의 품질이 요구되고 있으며 이에 의해 급속히 고밀도화하는 현상을 나타내고 있다. 특히, 부품 내장형 인쇄회로기판(Embedded PCB)의 제조에서는 부품이 표면 실장 될 부분에 Au 등의 금속물질을 도금하고 이를 위하여 드라이필름레지스트(이하, 'DFR'이라 한다.)을 이용하여 마스킹 처리를 하는 공정을 통해 이를 구현하고 있다.Printed circuit boards are solidifying their status as one of electronic components with the development of semiconductors and electronic devices, and all electric and electronic devices such as radios, televisions, PCS, and various other electrical and electronic products, as well as computers and high-tech electronic equipment. It is widely used as a component for implementing the circuit of. In recent years, as the technological progress in this field becomes remarkable, high quality is required in printed circuit boards, thereby rapidly increasing density. Particularly, in the manufacture of embedded PCB, a metal material such as Au is plated on the part where the component is to be surface-mounted, and for this purpose, masking treatment is performed using a dry film resist (hereinafter referred to as 'DFR'). This is achieved through a process.

이러한 매립형 인쇄회로기판(Embedded PCB)의 핵심기술 중 가장 중요한 부분의 하나는, 내장 부품의 High I/O Count의 대응 여부이다. 이는 결국 미세피치(Fine Pitch) 구현 수준으로 나타낼 수 있으며 이를 위해서 대부분의 개발 기술에서는 전자소자칩을 회로와 연결하기 위해 비아와 랜드(Via/Land), 혹은 메탈범프와 랜드(Metal Bump/Land), 혹은 솔더와 솔더패드(Solder/Pad)와 같은 구조를 이용한 접합 공정 등의 미세패턴(Fine Pattern) 회로기술을 이용하여 구현하고 있다.One of the most important parts of the embedded technology of the embedded PCB is the high I / O count of the embedded components. This can be expressed as a fine pitch implementation level. For this, most development technologies use vias and / or metal bumps and lands to connect electronic device chips with circuits. Or, it is implemented using a fine pattern circuit technology such as a bonding process using a structure such as solder and solder pad (Solder / Pad).

도 1을 참조하면, 이는 종래의 매립형 인쇄회로기판의 제조공정에서 전자소자칩을 솔더와 솔더패드(Solder/Pad)를 이용하여 인쇄회로기판에 장착하는 공정을 개념적으로 도시한 것이다.Referring to FIG. 1, this conceptually illustrates a process of mounting an electronic device chip on a printed circuit board using solder and a solder pad (Solder / Pad) in a conventional buried printed circuit board manufacturing process.

종래에는, 절연층(1)과 외각의 금속층(2, 2') 및 회로패턴(3)이 구현된 내층회로기판 상에 전자소자칩(5)을 접속하기 위해서는 도시된 것처럼, 솔더볼 패드(6)에 솔더볼(7)을 형성하고, 인쇄회로기판의 회로패턴(3)의 일부와 간접적으로 연결하는 구조를 구현하게 된다. 이후, 이를 뒤집어 절연층(8)을 적층하고, 외각회로패턴을 구현(10)하거나 비아홀(11)을 가공하여 도금처리하여 회로를 완성하게 된다.Conventionally, in order to connect the electronic device chip 5 on the inner circuit board on which the insulating layer 1 and the outer metal layers 2 and 2 'and the circuit pattern 3 are implemented, the solder ball pad 6 is shown. ) To form a solder ball (7), and indirectly connected to a part of the circuit pattern (3) of the printed circuit board. Subsequently, the insulation layer 8 is stacked upside down and the outer circuit pattern is implemented 10 or the via hole 11 is plated to complete the circuit.

그러나 이러한 매립형 인쇄회로기판의 칩 실장방법은 칩을 정확히 실장할 위치를 어라인 하여야 하는 제조공정상의 기술적 난점이 존재하여 칩을 고정하기 위한 베이스포인트를 형성하여야 하는 번거로움으로 공정 효율성을 저하시키며, 칩 내부에서 발생하는 열원을 외부로 방출하기 위한 방열구조가 확보되지 않아 부품 작동시 열로 인한 에러율이 높아지는 문제가 발생하게 된다.However, the chip mounting method of the buried printed circuit board has a technical difficulty in the manufacturing process to align the position to mount the chip accurately, reducing the process efficiency to the hassle to form a base point for fixing the chip, Since the heat dissipation structure for dissipating the heat source generated inside the chip to the outside is not secured, there is a problem that the error rate due to heat increases during the operation of the component.

본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 내부회로패턴을 구비한 절연층 상에 금속층으로 일측면이 밀폐되어 관통되지 않는 캐비티를 가공하여, 부품을 실장할 수 있도록 함으로써, 별도의 칩을 고정하기 위한 베이스포인트의 형성공정이 필요가 없어 공정의 효율성을 구현할 수 있으녀, 캐비티영역 내에 칩이 실장되는 아랫면을 상기 금속층으로 지지하도록 함으로써, 부품작동시 발생하는 열을 인쇄회로기판의 외부로 효율적으로 방출시킬 수 있는 매립형 인쇄회로기판과 그 제조방법을 제공하는 데 있다.The present invention has been made to solve the above-described problem, an object of the present invention is to machine a cavity that is not penetrated by sealing one side with a metal layer on an insulating layer having an internal circuit pattern, so that the component can be mounted Therefore, the process of forming a base point for fixing a separate chip is not necessary, and thus, the efficiency of the process can be realized, and the bottom surface on which the chip is mounted in the cavity area is supported by the metal layer, so that the heat generated during operation The present invention provides a buried printed circuit board and a method for manufacturing the same that can be efficiently discharged to the outside of the printed circuit board.

아울러, 칩실장영역의 금속층의 하부를 지지하는 편면지지금속층을 형성한 상태에서 공정을 진행하게 되는바, 칩실장영역에서 칩 본딩시 금속층(Cu)의 팽창, 중력에 의한 처짐, 공정작업(Handling)시 발생할 수 있는 금속층의 손상을 방지할 수 있어, 신뢰성 있는 제품을 구현할 수 있는 제조공정을 제공하는데 본 발명의 또 다른 목적이 있다.In addition, the process is performed in the state of forming a single-side support metal layer supporting the lower portion of the metal layer of the chip mounting region. When chip bonding in the chip mounting region, the expansion of the metal layer (Cu), sag caused by gravity, and processing work (Handling) Another object of the present invention is to provide a manufacturing process that can prevent damage to the metal layer that can occur during the), to implement a reliable product.

상술한 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 적어도 1 이상의 내부회로패턴을 제1절연층에 구비한 베이스기판의 일표면에 편면지지금속층을 형성하는 1단계; 상기 제1절연층에 칩실장영역을 형성하고 칩을 실장하는 2단계; 상기 칩의 단자와 접속되는 외부회로패턴을 형성하는 3단계;를 포함하는 매립형 인쇄회로기판의 제조방법을 제공할 수 있도록 한다.In order to solve the above problems, the present invention comprises the steps of forming a single-side support metal layer on one surface of the base substrate having at least one internal circuit pattern on the first insulating layer; Forming a chip mounting region in the first insulating layer and mounting a chip; It provides a method of manufacturing a buried printed circuit board comprising; three steps of forming an external circuit pattern connected to the terminal of the chip.

또한, 상술한 상기 1단계의 편면지지금속층은, 제2절연층과 제2금속층의 적층구조로 형성된다.In addition, the above-described single-sided support metal layer of the first step is formed in a laminated structure of the second insulating layer and the second metal layer.

아울러, 상기 2단계는, a1) 상기 제1절연층의 일면에 형성되는 제1금속층을 스토퍼층으로 하여 캐비티영역을 가공하는 단계; a2) 상기 캐비티영역에 접착물질을 매개로 상기 칩을 제1금속층에 접합하는 단계;로 이루어질 수 있다. 이 경우 상기 제1금속층이 노출될 때까지 레이저가공을 통해 상기 제1절연층을 가공하며, 가공되는 캐비티영역의 폭이 제1금속층의 폭보다 작도록 가공하는 단계로, 상기 a 2)단계는, 상기 능동소자 또는 수동소자의 접속 단자의 이면을 제1금속층에 접착물질로 접합시키고 경화시키는 단계로 구성할 수 있다.In addition, the step 2, a1) processing the cavity region using a first metal layer formed on one surface of the first insulating layer as a stopper layer; a2) bonding the chip to the first metal layer through an adhesive material in the cavity region; In this case, the first insulating layer is processed by laser processing until the first metal layer is exposed, and the width of the cavity area to be processed is smaller than the width of the first metal layer. And bonding the back surface of the connection terminal of the active device or the passive device to the first metal layer with an adhesive material and curing the adhesive.

특히, 상기 3단계는, b 1) 상기 칩단자와 제1절연층을 매립하는 제3절연층 및 제3금속층을 적층하는 단계; b 2) 상기 칩단자 또는 내부회로패턴을 전기적으로 연결하는 도통홀을 가공하고 충진하는 단계; b 3) 제2금속층 및 제3금속층을 패터닝해 상기 외부회로패턴을 형성하는 단계로 구성될 수 있다. 이 경우 상기 b 1)단계는, 상기 제1절연층과 동일 또는 상이한 재질의 제2절연층과 제2금속층을 레이업(lay-up)하는 단계로, 상기 b 2)단계는, Cu, Ag, Sn, Au, Ni, Pd 중 선택되는 어느 하나의 물질을 무전해 도금, 전해도금, 스크린인쇄(screen printing), 스퍼터링(suppering), 증발법(evaporation), 잉크젯팅, 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용하여 충진하는 단계로 구성할 수 있다.
Particularly, the step 3 may include: b 1) stacking a third insulating layer and a third metal layer to fill the chip terminal and the first insulating layer; b 2) processing and filling the through hole for electrically connecting the chip terminal or the internal circuit pattern; b 3) patterning the second metal layer and the third metal layer to form the external circuit pattern. In this case, step b 1) is a step of laying up a second insulating layer and a second metal layer of the same or different material as that of the first insulating layer. Any one of electroless plating, electroplating, screen printing, sputtering, evaporation, inkjetting, dispensing any one selected from among Sn, Au, Ni, Pd, or It can be configured by the step of filling using a combination of these methods.

상술한 제조공정에 이용되는 매립형 인쇄회로기판 제조용 구조물은 다음과 같은 구조를 구비하여 효율적인 인쇄회로기판으로 제조될 수 있게 된다.The buried printed circuit board manufacturing structure used in the above-described manufacturing process has the following structure and can be manufactured into an efficient printed circuit board.

구체적으로는, 제1절연층 표면에 전기적으로 연결되는 회로패턴을 구비한 베이스기판; 상기 제1절연층 상의 칩실장영역에 형성되는 제1금속층; 상기 제1금속층이 형성된 부분의 베이스기판 면에 적층되는 절연층과 제2금속층으로 구성되는 편면지지금속층;이 형성된 구조물이 이용될 수 있다.Specifically, the base substrate having a circuit pattern electrically connected to the surface of the first insulating layer; A first metal layer formed in the chip mounting region on the first insulating layer; A structure may be used; a single-sided support metal layer including an insulating layer and a second metal layer laminated on the base substrate surface of the portion where the first metal layer is formed.

특히, 상술한 구조물에서 상기 칩실장영역은, 상기 베이스기판의 제1절연층에 비어 있는 공간영역으로 형성되는 캐비티영역;과 상기 캐비티영역의 일면을 밀폐하도록 제1절연층 표면에 형성되는 상기 제1금속층;으로 구성될 수 있다.In particular, in the above-described structure, the chip mounting region may include: a cavity region formed as a space region empty in the first insulating layer of the base substrate, and the first insulating layer formed on a surface of the first insulating layer to seal one surface of the cavity region. It may be composed of a metal layer.

또한, 상술한 구조물은, 상기 제1금속층상에 칩단자의 반대면이 접착물질로 접속되는 전자소자칩을 더 포함하여 구성될 수 있으며, 나아가 상기 베이스기판의 상부에 적층되는 제3절연층과 제3금속층을 더 포함하는 구조로 변형될 수 있다.The above structure may further include an electronic device chip having an opposite surface of the chip terminal connected to the first metal layer with an adhesive material, and further comprising a third insulating layer stacked on the base substrate. The structure may further be modified to further include a third metal layer.

아울러, 상술한 구조물은 상기 칩단자 또는 내부회로패턴을 제3금속층과 전기적으로 연결하는 연결부를 적어도 1 이상 더 포함할 수 있으며, 상기 제3금속층은, 상기 제3절연층의 표면이 노출되는 영역을 다수 구비한 구조로 변형되어 인쇄회로기판으로 완성될 수 있다.In addition, the above-described structure may further include at least one or more connecting portions electrically connecting the chip terminal or the internal circuit pattern with the third metal layer, wherein the third metal layer is an area where the surface of the third insulating layer is exposed. It can be transformed into a structure having a plurality of completed to a printed circuit board.

본 발명은 내부회로패턴을 구비한 절연층 상에 금속층으로 일측면이 밀폐되어 관통되지 않는 캐비티를 가공하여, 부품을 실장할 수 있도록 함으로써, 별도의 칩을 고정하기 위한 베이스포인트의 형성공정이 필요가 없어 공정의 효율성을 구현할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, a process of forming a base point for fixing a separate chip is required by processing a cavity in which one side is closed and not penetrated by a metal layer on an insulating layer having an internal circuit pattern, so that components can be mounted. There is no effect to realize the efficiency of the process.

또한, 캐비티영역 내에 칩이 실장되는 아랫면을 상기 금속층으로 지지하도록 함으로써, 부품작동시 발생하는 열을 인쇄회로기판의 외부로 효율적으로 방출시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, by supporting the lower surface on which the chip is mounted in the cavity area with the metal layer, there is an effect that the heat generated during the operation of the component can be efficiently released to the outside of the printed circuit board.

특히, 칩실장영역의 금속층의 하부를 지지하는 편면지지금속층을 형성한 상태에서 공정을 진행하게 되는바, 칩실장영역에서 칩 본딩시 금속층(Cu)의 팽창, 중력에 의한 처짐, 공정작업(Handling)시 발생할 수 있는 금속층의 손상을 방지할 수 있어, 신뢰성 있는 제품을 구현할 수 있는 효과가 있다.In particular, the process is performed in the state of forming a single-side supporting metal layer supporting the lower part of the metal layer of the chip mounting region. When chip bonding in the chip mounting region, the expansion of the metal layer (Cu), sag caused by gravity, and processing work ) Can prevent damage to the metal layer that can occur, there is an effect that can implement a reliable product.

도 1은 종래의 매립형 인쇄회로기판의 칩 실장방식을 설명한 개념도이다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명에 따른 제조순서도 및 공정도를 도시한 것이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명에 따른 제조공정에 의해 제조된 매립형 인쇄회로기판의 구조를 도시한 단면개념도이다.
1 is a conceptual diagram illustrating a chip mounting method of a conventional buried printed circuit board.
2A to 2C show a manufacturing flowchart and process diagram according to the present invention.
3A and 3B are cross-sectional conceptual views showing the structure of a buried printed circuit board manufactured by a manufacturing process according to the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다. 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성요소는 동일한 참조부여를 부여하고, 이에 대한 중복설명은 생략하기로 한다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the configuration and operation according to the present invention. In the description with reference to the accompanying drawings, the same components are given the same reference numerals regardless of the reference numerals, and duplicate description thereof will be omitted. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

본 발명은 회로패턴을 구비한 베이스기판에 부품을 매립하기 위하여, 하부에서 지지하는 편면지지금속층 상의 제1금속층을 스토퍼층으로 하여 관통되지 않는 캐비티를 가공하며, 이를 통해 제1금속층의 손상을 막고, 부품 실장 기술의 효율성을 높이며, 상기 금속층을 통해 방열효과를 구현할 수 있는 구조의 인쇄회로기판을 제조하는 제조공정을 제공하는 것을 그 요지로 한다.The present invention processes a cavity that is not penetrated by using a first metal layer on a single sided support metal layer supported from the bottom as a stopper layer in order to embed a component in a base substrate having a circuit pattern, thereby preventing damage to the first metal layer. To improve the efficiency of the component mounting technology, to provide a manufacturing process for manufacturing a printed circuit board having a structure that can implement a heat dissipation effect through the metal layer.

구체적으로, 도 2a 내지 도 2c를 참조하여 본 발명에 따른 제조공정을 설명하면 다음과 같다. 도 2a는 본 발명에 따른 제조순서도이며, 도 2b 및 도 2c는 본 발명에 따른 제조공정도이다.Specifically, the manufacturing process according to the present invention with reference to Figures 2a to 2c as follows. Figure 2a is a manufacturing flow chart according to the present invention, Figures 2b and 2c is a manufacturing process chart according to the present invention.

본 발명에 따른 매립형 인쇄회로기판의 제조공정은, 적어도 1 이상의 내부회로패턴을 제1절연층에 구비한 베이스기판의 일표면에 편면지지금속층을 형성하는 1단계와 상기 제1절연층에 칩실장영역을 형성하고 칩을 실장하는 2단계, 그리고 상기 칩의 단자와 접속되는 외부회로패턴을 형성하는 3단계를 포함하여 구성된다.In the manufacturing process of the buried printed circuit board according to the present invention, a step of forming a single-side support metal layer on one surface of a base substrate having at least one or more internal circuit patterns on the first insulating layer and chip mounting on the first insulating layer And two steps of forming an area and mounting a chip, and three steps of forming an external circuit pattern connected to the terminals of the chip.

제시된 순서도 및 공정도를 참조하여 상술한 공정을 구체적으로 설명하기로 한다.The above-described process will be described in detail with reference to the presented flowchart and process diagram.

1.베이스기판에 편면지지금속층 형성(1단계)1. Form one-side support metal layer on the base substrate (Step 1)

도 2b를 참조하면, S O단계의 공정에서는, 베이스기판(110)의 하부에 제2절연층(210)과 제2금속층(220)으로 구성되는 편면지지금속층을 적층한다. 상기 편면지지금속층은 추후 이어지는 공정에서 캐비티 가공과 칩 실장 등의 공정에서 제1금속층(140, 141)의 손상을 막고, 안정적인 공정을 수행할 수 있도록 하게 된다. 즉, 칩실장영역에서 칩 본딩시 제1금속층(Cu)의 팽창, 중력에 의한 처짐, 공정작업(Handling)시 발생할 수 있는 금속층의 손상을 방지할 수 있어, 신뢰성 있는 제품을 구현할 수 있도록 하는 기능을 수행한다.
Referring to FIG. 2B, in the SO step process, a single-sided support metal layer including the second insulating layer 210 and the second metal layer 220 is stacked below the base substrate 110. The single-sided support metal layer prevents damage to the first metal layers 140 and 141 in a process such as cavity processing and chip mounting in a subsequent process, and enables a stable process to be performed. In other words, it is possible to prevent the expansion of the first metal layer (Cu), sagging due to gravity, and damage to the metal layer that may occur during handling during chip bonding in the chip mounting area, thereby realizing a reliable product. Do this.

2. 칩실장영역의 형성 및 칩실장공정(2단계)2. Formation of chip mounting area and chip mounting process (2 steps)

이후, 상기 편면지지금속층이 형성된 베이스기판의 상기 제1절연층(112)에 캐비티(120, 121)를 가공한다(S 1단계). 즉, 기본 전기적으로 도통홀(113)로 전기적으로 연결되는 회로패턴(111)을 구비한 상기 베이스기판(110)의 근간이 되는 제1절연층(112)에 회로패턴이 형성되지 않는 부분을 가공하여 내부가 비어있는 영역인 캐비티(120)을 형성한다. 특히 이 경우, 상기 캐비티가 가공되는 제1절연층의 일면은 제1금속층(140, 141)을 구비하여, 상기 캐비티의 가공으로 전체적으로 관통되지 않으며 상부면만이 개구된 칩실장영역을 구비한다. 즉, 상기 칩실장영역은 비어 있는 제1절연층의 내부공간(120, 121)과 제1금속층(140, 11)으로 둘러싸인 영역으로 정의한다. 상기 캐비티의 가공은 레이저 가공을 통해 제1절연층을 식각하여 내는 공정으로 가공될 수 있으며, 이 경우 제1금속층을 식각 스토퍼층으로 하여 제1절연층을 깍아 내게 되므로, 캐비티의 가공공정은 제1금속층이 노출될 때까지 수행하는 것이 바람직하다.Thereafter, the cavities 120 and 121 are processed in the first insulating layer 112 of the base substrate on which the single-sided supporting metal layer is formed (step S1). In other words, a portion in which the circuit pattern is not formed is processed in the first insulating layer 112 that is the basis of the base substrate 110 having the circuit pattern 111 electrically connected to the conductive hole 113. As a result, the cavity 120 which is an empty area is formed. Particularly, in this case, one surface of the first insulating layer on which the cavity is processed includes the first metal layers 140 and 141, and has a chip mounting area in which only the upper surface is opened and does not penetrate through the cavity. In other words, the chip mounting area is defined as an area surrounded by the internal spaces 120 and 121 and the first metal layers 140 and 11 of the first insulating layer. The cavity may be processed by etching a first insulating layer through laser processing, and in this case, the first insulating layer is scraped off using the first metal layer as an etch stopper layer. It is preferable to carry out until the 1 metal layer is exposed.

상기 제1금속층은 상기 캐비티의 일면을 커버하는 위치에 형성되어 있는 것으로, 바람직하게는 상기 제1금속층의 폭보다 상기 캐비티의 폭을 좁게 형성하여 안정적인 칩실장영역을 구현함이 바람직하다. 상기 제1금속층은 Cu, Ag, Sn, Au, Ni, Pd 등의 물질을 이용하여 형성할 수 있으며, 특히 본 일 실시예에서는 Cu로 형성된 것을 일례로 설명하기로 한다.The first metal layer is formed at a position covering one surface of the cavity, and preferably, the width of the cavity is narrower than the width of the first metal layer to implement a stable chip mounting region. The first metal layer may be formed using a material such as Cu, Ag, Sn, Au, Ni, Pd, and the like, and in particular, the first metal layer is formed of Cu as an example.

이후, 상기 제1금속층(140, 141)을 구비한 칩실장영역에 칩(150, 152)을 정열하고, 이후 접착물질로 상기 제1금속층에 접합하는 공정이 수행된다.(S 11~S 13단계). 이 경우 상기 접속물질로 칩을 접합한 후에는 접속물질을 경화시켜 접합을 견고히 한다. 상기 칩은 상기 능동소자(150) 또는 수동소자(152)를 포함하며, 각 소자의 접속 단자(151, 153)의 이면을 제1금속층(140, 141)에 접합시킬 수 있도록 함이 바람직하다.
Subsequently, the chips 150 and 152 are arranged in the chip mounting region including the first metal layers 140 and 141 and then bonded to the first metal layer with an adhesive material. step). In this case, after bonding the chip with the connection material, the connection material is cured to firmly bond. The chip may include the active element 150 or the passive element 152, and the back surface of the connection terminals 151 and 153 of each element may be bonded to the first metal layers 140 and 141.

3. 외부회로패턴의 형성공정(3단계)3. Formation process of external circuit pattern (3 steps)

상기 S 1단계 이후의 공정으로, 칩실장영역에 접착된 칩이 단자의 상부에 다층화를 위한 제3절연층(220)과 제3금속층(230)을 레이업(Lay-up)한다(S21~S22단계). 여기서 레이업이란 절연층과 금속층을 정렬하고 가열, 가압을 통해 적층시키는 공정을 의미한다.After the step S1, the chip bonded to the chip mounting area lays up the third insulating layer 220 and the third metal layer 230 for multilayering on the terminal (S21 ~). Step S22). Here, the layup refers to a process of aligning the insulating layer and the metal layer and laminating them by heating and pressing.

이 경우 상기 베이스기판의 제1절연층(112)과 제3절연층(220)은 동일한 재료로 형성될 수 있으며, 서로 다른 재료를 사용할 수도 있다. 이용될 수 있는 절연재료로는 에폭시, 페놀수지, 프리프레그, 폴리이미드 필름, ABF(Ajinomoto Build up Film), FR4 등이 있다.In this case, the first insulating layer 112 and the third insulating layer 220 of the base substrate may be formed of the same material, or different materials may be used. Insulating materials that can be used include epoxy, phenolic resin, prepreg, polyimide film, Ajinomoto Build up Film (ABF), FR4, and the like.

이후, 상기 칩단자(151, 153) 또는 내부회로패턴(111)을 전기적으로 연결하는 도통홀(H1)을 가공하고, 상기 도통홀 내부를 금속물질로 충진하는 공정이 수행된다. 상기 충진되는 금속물질은 Cu, Ag, Sn, Au, Ni, Pd 중 선택되는 어느 하나의 물질을 무전해 도금, 전해도금, 스크린인쇄(screen printing), 스퍼터링(suppering), 증발법(evaporation), 잉크젯팅, 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용하여 충진할 수 있다(S 31~S 32단계).Thereafter, a process of processing the through hole H1 electrically connecting the chip terminals 151 and 153 or the internal circuit pattern 111 and filling the inside of the through hole with a metal material is performed. The metal material to be filled is electroless plating, electroplating, screen printing, sputtering, evaporation, evaporation, any one selected from Cu, Ag, Sn, Au, Ni, and Pd. Filling may be performed using any one of inkjetting and dispensing, or a combination thereof (steps S 31 to S 32).

이후, 제2금속층(220) 및 제3금속층(240)을 패터닝해 상기 외부회로패턴(221, 241)을 형성하는 공정이 이어질 수 있다. 외부회로패턴(221, 241)의 형성은 에칭공법, 또는 Addifive 공법을 이용하여 형성할 수 있음은 공지의 기술인바 생략하기로 한다.
Thereafter, a process of forming the external circuit patterns 221 and 241 by patterning the second metal layer 220 and the third metal layer 240 may be performed. The external circuit patterns 221 and 241 may be formed using an etching method or an addifive method, which will be omitted.

3. 제2실시예3. Second Embodiment

이상과 같은 본 발명에 따른 매립형 인쇄회로기판의 제조공정에서는, 제1금속층을 스토퍼층으로 하여 제1절연층을 가공하여 캐비티를 형성하고, 이렇게 형성된 캐비티 내에 칩을 자연스럽게 정렬하여 장착하는 공정이 특징적인 부분인바, 그외 공정의 출발점이 되는 베이스기판의 구조를 어떻게 사용하는 것이냐에 따라 약간 상이한 회로층을 구비한 구조를 구현할 수 있다.In the manufacturing process of the buried printed circuit board according to the present invention as described above, the first insulating layer is processed to form a cavity by using the first metal layer as a stopper layer, and the process of naturally aligning and mounting chips in the cavity thus formed. As a matter of fact, depending on how to use the structure of the base substrate, which is the starting point of other processes, a structure having slightly different circuit layers can be realized.

도 2c는 이러한 베이스기판의 회로패턴이 단일한 절연층의 양면에 형성된 것을 넘어서, 베이스기판 자체가 다층의 절연층(112, 113, 114)과 여기에 형성되는 외부회로 또는 내부회로를 구비한 구조를 이용하여 도 2b에서 진행된 공정을 수행하는 경우에는 다층 인쇄회로기판을 구현할 수 있게 된다.2C is a structure in which the circuit pattern of the base substrate is formed on both sides of a single insulating layer, and the base substrate itself has a multilayer insulating layer 112, 113, 114 and an external circuit or an internal circuit formed thereon. In the case of performing the process of FIG. 2B by using the multi-layer printed circuit board can be implemented.

물론, 이 경우에도 베이스기판의 하부에는 제2절연층(210)과 제2금속층(220)으로 형성되는 편면지지금속층이 형성된 구조에서 공정을 수행하는 것이 바람직하다(P 0단계).Of course, even in this case, it is preferable to perform the process in a structure in which a single-sided support metal layer formed of the second insulating layer 210 and the second metal layer 220 is formed below the base substrate (step P 0).

즉, 간략하게는 베이스기판(110)의 제1절연층 부분에 캐비티(120, 121)를 가공하고(P 11), 접착물질(130, 131)을 매개로 제1금속층(140, 141)에 칩(150, 152)을 접착하게 되며(P 12~P 13), 이후에 베이스기판의 상면 하면에 제3절연층(230)과 제3금속층(240)을 레이업하고(P21~P22), 칩의 단자와 회로패턴, 또는 회로패턴 간의 전기적 연결을 구현하는 도통홀(H1)가공과 금속물질(250)을 충진하여 인쇄회로기판을 완성시키는 공정으로 수행될 수 있다. 본 발명에서, 절연층이 금속층에 의해 관통되지 않은 캐비티(Cavity)를 활용함으로 별도의 칩(Chip)을 고정시키기 위한 베이스포인트(Base Point)를 형성시킬 필요가 없으며, 칩(Chip)이 실장되는 아랫면이 금속층(Cu Pattern)이므로 부품 작동 시 발생하는 열을 PCB 외부로 연결시켜 제거할 수 있는 장점이 있다. 또한, 편면지지금속층을 이용하여 공정단계를 수행하게 되는바, 칩실장영역에서 칩 본딩시 제1금속층(Cu)의 팽창, 중력에 의한 처짐, 공정작업(Handling)시 발생할 수 있는 금속층의 손상을 방지할 수 있어, 신뢰성 있는 제품을 구현할 수 있음은 상술한 바와 같다.
That is, in brief, the cavity 120, 121 is processed in the first insulating layer portion of the base substrate 110 (P 11), and the first metal layer 140, 141 is applied to the first metal layer 140, 141 through the adhesive materials 130, 131. The chips 150 and 152 are bonded to each other (P 12 to P 13), and then the third insulating layer 230 and the third metal layer 240 are laid up on the upper and lower surfaces of the base substrate (P 21 to P 22). It may be performed by a process of completing a printed circuit board by filling a conductive hole (H1) processing and a metal material 250 to realize electrical connection between the terminal and the circuit pattern of the chip or the circuit pattern. In the present invention, it is not necessary to form a base point for fixing a separate chip by using a cavity in which the insulating layer is not penetrated by the metal layer, and the chip is mounted. Since the bottom is a metal layer (Cu Pattern), there is an advantage in that the heat generated when operating a component can be removed by connecting it to the outside of the PCB. In addition, the process step is performed by using a single-sided support metal layer. In the chip mounting region, when the chip is bonded, the expansion of the first metal layer (Cu), deflection by gravity, and damage to the metal layer that may occur during handling are performed. It can be prevented, it is possible to implement a reliable product as described above.

도 2b 및 도 2c의 공정단계에서, 본 발명에 따른 매립형 인쇄회로기판구조물은 본 발명의 특징적인 제조공정상의 효과를 구현하는 구조를 가지게 된다.In the process steps of FIGS. 2B and 2C, the buried printed circuit board structure according to the present invention has a structure implementing the characteristic manufacturing process effects of the present invention.

즉, 도 2b의 S 0단계의 구조물은 제1절연층 표면에 전기적으로 연결되는 회로패턴을 구비한 베이스기판을 구비하고, 상기 제1절연층 상의 칩실장영역에 형성되는 제1금속층을 구비한 구조물이다. 특히 상기 제1금속층이 형성된 부분의 베이스기판 면에 적층되는 연층과 제2금속절층으로 구성되는 편면지지금속층을 부가함으로써, 제1절연층을 가공하여 형성하는 캐비티의 일면을 밀폐하는 제1금속층을 안정적으로 지지할 수 있도록 하며, 이를 통해 추후 칩본딩공정이나 적층 공정에서 제1금속층의 손상을 배제할 수 있게 된다. 이는 도 2c의 P 0단계의 구조물도 동일한 특수성을 구현함은 상술한 바와 같다.That is, the structure of step S 0 of FIG. 2B includes a base substrate having a circuit pattern electrically connected to the surface of the first insulating layer, and includes a first metal layer formed in the chip mounting region on the first insulating layer. It is a structure. In particular, by adding a one-side supporting metal layer composed of a soft layer and a second metal cutting layer laminated on the surface of the base substrate where the first metal layer is formed, the first metal layer sealing one surface of the cavity formed by processing the first insulating layer is formed. It can be stably supported, through which it is possible to exclude the damage of the first metal layer in the chip bonding process or lamination process later. As described above, the structure of step P 0 of FIG. 2C also implements the same specificity.

이러한 매립형 인쇄회로기판 제조용 구조물은 공정단계에 따라 상기 베이스기판의 제1절연층에 비어 있는 공간영역으로 형성되는 캐비티영역과 상기 캐비티영역의 일면을 밀폐하도록 제1절연층 표면에 형성되는 상기 제1금속층으로 구성되는 구조물로 변경될 수 있다(도 2b의 S 11단계 참조). 이 경우 제1절연층을 레이저 가공등을 통해 가공하는 경우에도 상기 편면지지금속층(210, 220)의 존재로 인해 안정적인 공정이 구현될 수 있게 된다.The buried printed circuit board manufacturing structure may include a cavity region formed as an empty space region on the first insulating layer of the base substrate and a surface of the first insulating layer formed to seal one surface of the cavity region according to a process step. It may be changed to a structure consisting of a metal layer (see step S 11 of FIG. 2b). In this case, even when the first insulating layer is processed through laser processing or the like, a stable process may be realized due to the existence of the single-sided support metal layers 210 and 220.

또한, 본 발명에 따른 매립형 인쇄회로기판을 제조하기 위한 상술한 구조물은, 먼저 가공된 캐비티영역에 상기 제1금속층상에 칩단자의 반대면이 접착물질로 접속되는 전자소자칩을 더 포함하는 구조로 변경될 수 있으며, 나아가 상기 베이스기판의 상부에 적층되는 제3절연층과 제3금속층을 더 포함하여 외부회로패턴을 구현하는 구조로 형성할 수 있다. 아울러 외부회로패턴과 칩단자를 전기적으로 연결하기 위해서, 상기 칩단자 또는 내부회로패턴을 제3금속층과 전기적으로 연결하는 연결부를 더 구비할 수 있다. In addition, the above-described structure for manufacturing the buried printed circuit board according to the present invention, the structure further comprises an electronic device chip in which the opposite side of the chip terminal is connected to the first metal layer on the first cavity layer processed by the adhesive material. It may be changed to, and may further include a third insulating layer and a third metal layer stacked on the base substrate to implement an external circuit pattern. In addition, in order to electrically connect the external circuit pattern and the chip terminal, a connection part for electrically connecting the chip terminal or the internal circuit pattern with the third metal layer may be further provided.

이러한 매립형 인쇄회로기판 구조물은, 최종적으로는 제3금속층을 선택적으로 제거하여 회로패턴을 구비하는 매립형 인쇄회로기판을 완성할 수 있다.The buried printed circuit board structure may finally complete the buried printed circuit board having the circuit pattern by selectively removing the third metal layer.

도 3a 및 도 3b를 참조하며, 상술한 매립형 인쇄회로기판 구조물을 이용하여 제조되는 매립형 인쇄회로기판의 구조를 설명한다.3A and 3B, a structure of a buried printed circuit board manufactured by using the buried printed circuit board structure described above will be described.

본 발명에 따른 매립형 인쇄회로기판은 도 3a에 도시된 것과 같이, 제1절연층(111)의 표면에 형성되는 외부회로패턴(221)과 접속되는 칩(150, 152)을 포함하며, 특히 상기 전자소자칩의 이면에 접착되는 제1금속층(140, 141)을 포함한다. 이 경우 상기 제1절연층(111)에 칩이 실장되는 공간영역인 캐비티영역와 상기 제1금속층이 이루는 영역을 칩실장영역이라고 정의한다.The buried printed circuit board according to the present invention includes chips 150 and 152 connected to an external circuit pattern 221 formed on the surface of the first insulating layer 111, as shown in FIG. 3A. And first metal layers 140 and 141 bonded to the rear surface of the electronic device chip. In this case, a cavity region which is a space region in which a chip is mounted on the first insulating layer 111 and a region formed by the first metal layer are defined as a chip mounting region.

상기 제1금속층(140, 141)은 내부회로패턴을 구비한 제1절연층(111)을 가공하여 형성된 상기 캐비티영역의 일면을 밀폐하는 구조로 형성되며, 따라서, 상기 제1금속층의 폭(X1)은 상기 캐비티 영역의 폭(Y1) 보다 넓은 길이를 가지도록 함이 바람직하다.The first metal layers 140 and 141 are formed to seal one surface of the cavity region formed by processing the first insulating layer 111 having an internal circuit pattern, and thus, the width X1 of the first metal layer. ) May have a length wider than the width Y1 of the cavity area.

아울러, 상기 칩(150, 152)과 상기 제1금속층(140, 141) 사이에는 비전도성접착물질이 배치되어 두 구성요소 간의 견고한 결합을 구현함이 바람직하다. 아울러, 상기 칩은 도시된 구조는 하나의 능동소자(150)과 수동소자(152)가 동시에 실장되는 구조를 예시하였으나, 이들 중 어느 하나만의 칩들을 실장하는 구조나, 이들이 조합된 구조의 칩들을 실장하는 것도 가능함은 당업자에게 자명한바, 본 발명의 요지에 포함된다고 할 것이다.In addition, it is preferable that a nonconductive adhesive material is disposed between the chips 150 and 152 and the first metal layers 140 and 141 to realize a firm coupling between the two components. In addition, although the chip illustrated illustrates a structure in which one active device 150 and a passive device 152 are mounted at the same time, a chip mounting only one of these chips or chips having a combination thereof are used. It is also apparent to those skilled in the art that the mounting is possible, and will be included in the gist of the present invention.

또한, 상기 제1절연층(111)의 상부 및 하부에는 상기 1절연층과 동일 또는 상이한 재질의 제2절연층(220)이 형성될 수 있다. 아울러 상기 제2절연층(220)의 표면에 상기 내부회로패턴과 전기적으로 연결되는 상기 외부회로패턴(221)이 구비되며, 상기 내부 및 외부회로패턴간은 도통홀(230)을 통해 전기적으로 연결되게 된다. 상기 도통홀의 내부는 Cu, Ag, Sn, Au, Ni, Pd 등의 물질로 충진될 수 있다.In addition, a second insulating layer 220 of the same or different material as the first insulating layer may be formed on the upper and lower portions of the first insulating layer 111. In addition, the external circuit pattern 221 is provided on the surface of the second insulating layer 220 electrically connected to the internal circuit pattern, and the internal and external circuit patterns are electrically connected through the through hole 230. Will be. The inside of the through hole may be filled with a material such as Cu, Ag, Sn, Au, Ni, Pd.

도 3b는 상술한 도 3a와 제1금속층과 캐비티 영역으로 형성되는 칩실장영역에 칩이 실장되는 구조는 모두 동일하나, 소재가 되는 베이스기판이 도 3a 처럼 2층의 회로패턴을 구비한 구조가 아니라, 다층의 회로패턴을 구비한 다수의 절연층(112, 113, 113)을 구비한 구조라는 점에서 차이가 있다.3B has the same structure in which the chip is mounted in the chip mounting region formed of the first metal layer and the cavity region as shown in FIG. 3A, but the base substrate made of the material has a two-layer circuit pattern as shown in FIG. 3A. However, there is a difference in that the structure includes a plurality of insulating layers 112, 113, and 113 having a multilayer circuit pattern.

상술한 구조의 본 발명에 따른 매립형 인쇄회로기판의 구조는 제1절연층 내에 칩실장영역이 구비되는 구조인바, 칩의 안정적인 실장이 가능하며, 칩 하부의 제1금속층의 존재로 인해 방열특성이 현저하게 향상되는 장점이 구현된다.The buried printed circuit board according to the present invention having the above-described structure is a structure in which a chip mounting region is provided in the first insulating layer, so that stable mounting of the chip is possible and heat dissipation characteristics are improved due to the presence of the first metal layer under the chip. Significantly improved advantages are realized.

전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다. 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 기술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
In the foregoing detailed description of the present invention, specific examples have been described. However, various modifications are possible within the scope of the present invention. The technical idea of the present invention should not be limited to the embodiments of the present invention but should be determined by the equivalents of the claims and the claims.

110: 베이스기판
111: 제1절연층
112: 내부회로패턴
120: 캐비티영역
130, 131: 접착물질
140, 141: 제1금속층
150: 능동소자
151: 연결단자
152: 수동소자
153: 연결단자
210: 제2절연층
220: 제2금속층
230: 제3절연층
240: 제3금속층
110: base substrate
111: first insulating layer
112: internal circuit pattern
120: cavity area
130, 131: adhesive material
140 and 141: first metal layer
150: active element
151: connecting terminal
152: passive element
153: connection terminal
210: second insulating layer
220: second metal layer
230: third insulating layer
240: third metal layer

Claims (14)

적어도 1 이상의 내부회로패턴을 제1절연층에 구비한 베이스기판의 일표면에 편면지지금속층을 형성하는 1단계;
상기 제1절연층에 칩실장영역을 형성하고 칩을 실장하는 2단계;
상기 칩의 단자와 접속되는 외부회로패턴을 형성하는 3단계;
를 포함하는 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
Forming a single-side support metal layer on one surface of the base substrate having at least one internal circuit pattern on the first insulating layer;
Forming a chip mounting region in the first insulating layer and mounting a chip;
Forming an external circuit pattern connected to the terminals of the chip;
Method of manufacturing a buried printed circuit board comprising a.
청구항 1에 있어서,
상기 1단계의 편면지지금속층은,
제2절연층과 제2금속층의 적층구조로 형성되는 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
The single-sided support metal layer of the first step,
A method of manufacturing a buried printed circuit board having a laminated structure of a second insulating layer and a second metal layer.
청구항 1 또는 2에 있어서,
상기 2단계는,
a1) 상기 제1절연층의 일면에 형성되는 제1금속층을 스토퍼층으로 하여 캐비티영역을 가공하는 단계;
a2) 상기 캐비티영역에 접착물질을 매개로 상기 칩을 제1금속층에 접합하는 단계;
로 이루어지는 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1 or 2,
In the second step,
a1) processing the cavity region using the first metal layer formed on one surface of the first insulating layer as a stopper layer;
a2) bonding the chip to the first metal layer using an adhesive material in the cavity region;
Method of manufacturing a buried printed circuit board consisting of.
청구항 3에 있어서,
상기 a 1)단계는,
상기 제1금속층이 노출될 때까지 레이저가공을 통해 상기 제1절연층을 가공하며, 가공되는 캐비티영역의 폭이 제1
금속층의 폭보다 작도록 가공하는 단계인 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 3,
The step a1),
The first insulating layer is processed by laser processing until the first metal layer is exposed, and the width of the cavity area to be processed is first
A method of manufacturing a buried printed circuit board, which is a step of processing to be smaller than the width of the metal layer.
청구항 3에 있어서,
상기 a 2)단계는,
상기 능동소자 또는 수동소자의 접속 단자의 이면을 제1금속층에 접착물질로 접합시키고 경화시키는 단계인 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 3,
In step a 2),
And attaching and curing the back surface of the connection terminal of the active device or the passive device to the first metal layer with an adhesive material.
청구항 3에 있어서,
상기 3단계는,
b 1) 상기 칩단자와 제1절연층을 매립하는 제3절연층 및 제3금속층을 적층하는 단계;
b 2) 상기 칩단자 또는 내부회로패턴을 전기적으로 연결하는 도통홀을 가공하고 충진하는 단계;
b 3) 제2금속층 및 제3금속층을 패터닝해 상기 외부회로패턴을 형성하는 단계;
인 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 3,
The third step,
b) laminating a third insulating layer and a third metal layer to fill the chip terminal and the first insulating layer;
b 2) processing and filling the through hole for electrically connecting the chip terminal or the internal circuit pattern;
b 3) patterning the second metal layer and the third metal layer to form the external circuit pattern;
Method for manufacturing a phosphorus embedded printed circuit board.
청구항 6에 있어서,
상기 b 1)단계는,
상기 제1절연층과 동일 또는 상이한 재질의 제2절연층과 제2금속층을 레이업(lay-up)하는 단계인 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 6,
Step b 1) is,
And laying up the second insulating layer and the second metal layer having the same or different materials as those of the first insulating layer.
청구항 6에 있어서,
상기 b 2)단계는,
Cu, Ag, Sn, Au, Ni, Pd 중 선택되는 어느 하나의 물질을 무전해 도금, 전해도금, 스크린인쇄(screen printing),
스퍼터링(suppering), 증발법(evaporation), 잉크젯팅, 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용하여 충진하는 단계인 매립형 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 6,
Step b 2) is,
Electroless plating, electroplating, screen printing of any one selected from Cu, Ag, Sn, Au, Ni, Pd,
A method of manufacturing a buried printed circuit board, which is a step of filling using any one or a combination of sputtering, evaporation, inkjetting, and dispensing.
제1절연층 표면에 전기적으로 연결되는 회로패턴을 구비한 베이스기판;
상기 제1절연층 상의 칩실장영역에 형성되는 제1금속층;
상기 제1금속층이 형성된 부분의 베이스기판 면에 적층되는 절연층과 제2금속층으로 구성되는 편면지지금속층;
이 형성되는 매립형 인쇄회로기판 제조용 구조물.
A base substrate having a circuit pattern electrically connected to a surface of the first insulating layer;
A first metal layer formed in the chip mounting region on the first insulating layer;
A one-side supporting metal layer comprising an insulating layer and a second metal layer laminated on the base substrate surface of the portion where the first metal layer is formed;
The buried printed circuit board manufacturing structure is formed.
청구항 9에 있어서,
상기 칩실장영역은,
상기 베이스기판의 제1절연층에 비어 있는 공간영역으로 형성되는 캐비티영역;과
상기 캐비티영역의 일면을 밀폐하도록 제1절연층 표면에 형성되는 상기 제1금속층;으로 구성되는 인쇄회로기판 제조용 구조물.
The method according to claim 9,
The chip mounting area is,
A cavity region formed as an empty space region in the first insulating layer of the base substrate; and
And a first metal layer formed on a surface of the first insulating layer to seal one surface of the cavity region.
청구항 10에 있어서,
상기 제1금속층상에 칩단자의 반대면이 접착물질로 접속되는 전자소자칩을 더 포함하는 매립형 인쇄회로기판 제조용 구조물.
The method according to claim 10,
The buried printed circuit board manufacturing structure of claim 1, further comprising an electronic device chip on the first metal layer opposite side of the chip terminal is connected to the adhesive material.
청구항 11에 있어서,
상기 베이스기판의 상부에 적층되는 제3절연층과 제3금속층을 더 포함하는 매립형 인쇄회로기판 제조용 구조물.
The method of claim 11,
A buried printed circuit board manufacturing structure further comprising a third insulating layer and a third metal layer stacked on the base substrate.
청구항 12에 있어서,
상기 칩단자 또는 내부회로패턴을 제3금속층과 전기적으로 연결하는 연결부를 적어도 1 이상 더 포함하는 매립형 인쇄회로기판 제조용 구조물.
The method of claim 12,
The embedded printed circuit board manufacturing structure of claim 1, further comprising at least one or more connecting portions for electrically connecting the chip terminal or the internal circuit pattern with the third metal layer.
청구항 13에 있어서,
상기 제3금속층은,
상기 제3절연층의 표면이 노출되는 영역을 다수 구비한 구조인 매립형 인쇄회로기판 제조용 구조물.
The method according to claim 13,
The third metal layer is,
A structure for manufacturing a buried printed circuit board having a plurality of regions where the surface of the third insulating layer is exposed.
KR1020100050673A 2010-05-28 2010-05-28 Manufacturing method of embedded pcb and structure for manufacturing embedded pcb KR20110131047A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100050673A KR20110131047A (en) 2010-05-28 2010-05-28 Manufacturing method of embedded pcb and structure for manufacturing embedded pcb

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100050673A KR20110131047A (en) 2010-05-28 2010-05-28 Manufacturing method of embedded pcb and structure for manufacturing embedded pcb

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20110131047A true KR20110131047A (en) 2011-12-06

Family

ID=45499645

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100050673A KR20110131047A (en) 2010-05-28 2010-05-28 Manufacturing method of embedded pcb and structure for manufacturing embedded pcb

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20110131047A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110571229A (en) * 2018-06-05 2019-12-13 深南电路股份有限公司 Embedded light sensing module and manufacturing method thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110571229A (en) * 2018-06-05 2019-12-13 深南电路股份有限公司 Embedded light sensing module and manufacturing method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI594345B (en) Ultra fine pitch pop coreless package
US9538642B2 (en) Wiring board and method for manufacturing the same
US20110127076A1 (en) Electronic component-embedded printed circuit board and method of manufacturing the same
KR101204233B1 (en) A printed circuit board comprising embeded electronic component within and a method for manufacturing
US20150245484A1 (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
JPWO2007126090A1 (en) CIRCUIT BOARD, ELECTRONIC DEVICE DEVICE, AND CIRCUIT BOARD MANUFACTURING METHOD
KR101516072B1 (en) Semiconductor Package and Method of Manufacturing The Same
JP7074409B2 (en) Built-in element type printed circuit board
JP6795137B2 (en) Manufacturing method of printed circuit board with built-in electronic elements
US20150156882A1 (en) Printed circuit board, manufacturing method thereof, and semiconductor package
TW201429326A (en) Printed circuit board with burried element and method for manufacture same and package structure
US20110083892A1 (en) Electronic component-embedded printed circuit board and method of manufacturing the same
JP2012151154A (en) Method for manufacturing component built-in wiring substrate
KR20120051991A (en) Printed circuit board and method for manufacturing the same
JP5184497B2 (en) Electronic component-embedded printed circuit board and manufacturing method thereof
US20160353572A1 (en) Printed circuit board, semiconductor package and method of manufacturing the same
US20150195902A1 (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
JP6798076B2 (en) Embedded substrate and manufacturing method of embedded substrate
KR20160008848A (en) Package board, method of manufacturing the same and stack type package using the therof
TW201431454A (en) Circuit board and method for manufacturing same
KR20110131047A (en) Manufacturing method of embedded pcb and structure for manufacturing embedded pcb
JP2002164663A (en) Build-up core board, build-up wiring board, and manufacturing method thereof
KR20030011433A (en) Manufacturing method for hidden laser via hole of multi-layered printed circuit board
KR101115476B1 (en) Embedded PCB and Manufacturing method of the same
KR20100028209A (en) Printed circuit board

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
E601 Decision to refuse application
E801 Decision on dismissal of amendment