KR20110123692A - 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조 - Google Patents

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나노세미콘(주)
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Abstract

본 발명은 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조에 관한 것으로, 제 1보트(10)가 제 2보트(20)의 내부에 수용되고, 상기 제 1,2보트(10,20)는 상호 상하 방향으로 상대 거동된다.
상기 제 1보트(10)의 기둥(11)에 제 1척홈(11a)이 형성되어 1차로 웨이퍼(W)를 지지하고, 상기 제 2보트(20)의 기둥(21)에 제 2척플레이트(23)가 설치되어, 상기 웨이퍼(W)를 2차로 받아 지지한다.
따라서, 웨이퍼(W) 지지를 위한 웨이퍼 이송부의 이동량이 최소화되어 장치와 웨이퍼 이송부와의 간섭이 감소하여 장치 및 웨이퍼 이송부의 손상이 방지되고, 단계적인 웨이퍼(W) 거치가 이루어짐으로써 웨이퍼(W)에 전달되는 진동 및 충격이 최소화되어 웨이퍼(W) 처리 수율이 증가하고, 생산성이 향상된다.

Description

웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조{A DOUBLE BOAT STRUCTURE OF WAFER PROCESSING DEVICE}
본 발명은 웨이퍼 처리 장치에 있어서 웨이퍼를 처리 장치에 장착하기 위하여 웨이퍼를 지지하는 척을 포함하는 보트에 관한 기술이다. 더욱 자세하게는, 웨이퍼를 웨이퍼 이송부가 척에 장착할 때, 웨이퍼 이송부와 척의 충돌에 의한 웨이퍼의 진동 또는 손상 및 웨이퍼 이송부 및 척의 손상을 방지하여, 웨이퍼 처리 장치 및 웨이퍼를 보호하는 기술에 관한 것이다.
반도체 기술의 발전이 가속화되면서, 반도체 생산에 필요한 웨이퍼를 처리하는 기술에 대한 연구가 발전하고 있다. 웨이퍼는, 반도체 제조에 사용되는 재료로서, 실리콘 웨이퍼는 다양한 처리 공정을 통해 반도체 제조에 사용될 수 있는 소재로 공급되게 된다.
실리콘 웨이퍼는 실리콘 반도체의 소재의 종류 결정을 원주상에 성장시킨 주괴를 얇게 깎아낸 원 모양의 판이다. 실리콘 웨이퍼를 결정으로 육성하는 과정에서는 산소가 결합하여 실리콘 웨이퍼상에 불순물을 통해 제어된 저항값이 원하는 저항값과 어긋나는 현상이 발생할 수 있다.
따라서, 산소를 웨이퍼로부터 분리하여 양질의 웨이퍼를 생산하기 위하여 열처리 공정이 필요하다. 또한, 열처리 공정은 웨이퍼 가공응력의 완화나 웨이퍼 결정의 결함을 감소하기 위하여 필요하기도 하다.
열처리 공정 이외에도, 공정 처리 장치 내부에서 웨이퍼는 증착 공정 및 식각 공정 등 복수의 공정에 의해 처리되어 반도체를 생산하게 된다.
복수의 공정을 통해 웨이퍼를 처리하기 위해서는 웨이퍼 처리 장치의 처리실 내부에 웨이퍼를 공급하게 된다. 미처리된 웨이퍼를 처리실에 공급하기 위하여 웨이퍼 이송부가 설치되어 있다. 웨이퍼 이송부는 로드 포트 모듈에 의해 뚜껑이 개방된 카세트 내부에서 웨이퍼가 반출되면, 웨이퍼를 하나 또는 복수개씩 고정하여 처리실 내부에 반입하게 된다. 즉, 상기 웨이퍼 이송부는 웨이퍼 이송 로봇이다.
처리실 내부에는, 웨이퍼 이송부로부터 반입된 웨이퍼를 장착하기 위한 구조가 존재한다. 즉, 상기 처리실 내부에는 웨이퍼를 장착하여 처리하기 위한 보트가 설치되어 있다. 하나 이상의 웨이퍼를 장착하여 처리하고자 하는 경우, 보트에는 웨이퍼를 지지하기 위한 척이 존재한다. 척은, 웨이퍼를 보트 내부에서 지지 및 고정하는 한편, 웨이퍼에 열을 가하여 열처리를 하거나, 증착용 가스를 분사하여 증착 과정에 있어서 웨이퍼에 증착용 가스를 공급하는 기능을 수행하기도 한다.
척은 보트 내에 높이 방향을 따라 복수개가 적층된 형식으로 형성되어 있다. 보트는 일반적으로 원주 상에 배치된 복수개의 기둥에 원판형의 척이 복수개 장착된 것이다. 이를 통해 복수의 웨이퍼는 서로 접촉하는 일 없이 보트 내에 높이 방향을 따라 적층되어 공정 처리된다.
그러나 웨이퍼를 웨이퍼 이송부가 척에 올려놓을 때, 웨이퍼 이송부와 척이 충돌하는 일이 빈번하게 발생하고 있으며, 이에 따라서 웨이퍼가 불필요한 진동에 노출되거나 갈라지는 현상이 발생하여 웨이퍼 처리 수율에 있어서 불리한 점이 지적되어 왔다. 또한, 웨이퍼 이송부와 척의 충돌에 따라서 웨이퍼 이송부 및 척이 손상되어, 웨이퍼 처리 장치의 수명이 줄어드는 문제점이 지적되어 왔다.
상기의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 웨이퍼 이송부와 척의 직접적인 충돌을 막고, 웨이퍼가 척에 안전하게 착지하여 진동하는 일 없이, 웨이퍼를 척이 지지할 수 있게 됨으로써 웨이퍼, 웨이퍼 이송부 및 척의 손상을 방지하고, 웨이퍼 처리 장치의 수명을 늘리며, 웨이퍼 처리의 수율 및 생산성을 높일 수 있도록 된 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조를 제공함에 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은,
원주상에 배치된 다수의 기둥과, 상기 기둥을 상호 연결하여 배치 상태를 유지하는 연결부재를 포함하는 제 1보트와;
원주상에 배치된 다수의 기둥과, 상기 기둥을 상호 연결하여 배치 상태를 유지하는 연결부재를 포함하고, 상기 제 1보트가 내부에 수용되는 제 2보트;를 포함하고,
상기 제 1보트와 상기 제 2보트는 상하 방향으로 상대 위치가 가변될 수 있도록 된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 1보트의 기둥에 웨이퍼의 테두리 부분이 삽입되어 지지되는 다수의 제 1척홈이 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 2보트의 기둥에 다수의 마운팅부가 형성되고, 상기 마운팅부에 웨이퍼가 얹혀지는 제 2척플레이트와 상기 웨이퍼에 공정가스를 분사하는 샤워헤드가 설치된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 2보트의 기둥 외주면에 상하 방향으로 삽입홈이 형성되고, 상기 삽입홈에 상기 제 1보트의 기둥이 삽입되어 상하 방향으로 슬라이딩 이동될 수 있도록 된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 1보트와 상기 제 2보트에는 기둥들의 사이 구간 중 적어도 어느 한 구간이 웨이퍼가 진입할 수 있는 웨이퍼 진입 구간으로 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 1보트와 상기 제 2보트의 웨이퍼 진입 구간이 웨이퍼 처리 장치의 개방된 정면을 향하여 상호 일치되도록 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 1보트의 기둥에 제 1척홈이 형성되고,
상기 제 2보트의 기둥에 제 2척플레이트가 장착되며,
웨이퍼 장착 대기 상태에서 상기 제 1척홈은 상기 제 2척플레이트의 상부에 위치되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 2보트의 기둥에 상기 제 2척플레이트에 얹혀지는 웨이퍼에 공정가스를 분사하는 샤워헤드가 장착되고, 상기 샤워헤드는 상기 제 2척플레이트로부터 상방으로 이격된 위치에 장착된 것을 특징으로 한다.
이상 설명한 바와 같은 본 발명에 따르면, 웨이퍼를 웨이퍼 처리 장치의 내부로 투입하여 거치할 때, 먼저 제 1보트의 제 1척홈에 의해 웨이퍼의 테두리 부분이 지지되고, 이어 제 1보트와 제 2보트의 상하 방향 상대 위치가 가변되어 웨이퍼가 제 2보트의 제 2척플레이트에 얹혀지는 2단계의 과정이 수행된다.
상기와 같이, 1차로 웨이퍼가 지지되는 부분이 웨이퍼의 테두리 부분 일부로 한정되고, 정확히 수평이 유지된 상태에서 2차로 상기 제 2척플레이트에 얹혀지게 됨으로써 웨이퍼에 가해지는 진동 및 충격이 최소화된다.
따라서, 웨이퍼의 처리 수율이 증가됨으로써 생산성이 증대되는 효과가 있다.
또한, 상기 제 1척홈에 웨이퍼를 놓아주는 웨이퍼 이송부의 상하 방향 이동량이 미미하므로 웨이퍼가 보호될 뿐만 아니라 상기 웨이퍼 이송부가 제 2척플레이트와 충돌하지 않게 되어 웨이퍼 이송부 및 제 2척플레이트의 손상이 방지된다.
따라서, 웨이퍼 이송부 및 웨이퍼 처리 장치의 수명이 연장되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조가 적용된 웨이퍼 처리 장치의 개략 단면도,
도 2는 본 발명의 일 구성인 제 1보트의 사시도,
도 3은 본 발명의 또 다른 일 구성인 제 2보트의 배면도,
도 4는 상기 제 1보트와 제 2보트가 결합된 상태의 부분 정단면도,
도 5는 상기 제 1보트와 제 2보트가 결합된 상태의 평단면도이다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 예시도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 처리 장치(100)는 원통형의 밀폐 용기로서, 내부에 제 1보트(10)와 제 2보트(20)를 포함하는 이중 보트를 구비한다.
상기 제 1보트(10)와 제 2보트(20)는 각각 다수의 기둥(11,21)이 원주상에 배치되고, 그 배치상태를 유지하도록 상기 기둥들이 연결부재(12a,12b,22)로 연결된 구조물이며, 상기 제 1보트(10)가 상기 제 2보트(20)의 내부에 설치된다.
또한, 상기 제 1보트(10)와 제 2보트(20)는 서로 상하 방향으로 상대 이동할 수 있도록 설치된다. 즉, 상기 제 1보트(10)는 고정되고 상기 제 2보트(20)만 상하 이동되거나, 또는 상기 제 1보트(10)만 상하 이동되고 상기 제 2보트(20)는 고정되거나, 또는 상기 제 1보트(10)와 제 2보트(20)가 모두 상하 이동 가능하여 상호 반대 방향으로 이동될 수 있도록 설치될 수 있다. 이와 같이 상기 제 1보트(10)와 제 2보트(20)를 상하 이동할 수 있도록 설치하는 것은 당업자가 공지된 다양한 액츄에이터들(공압 및 유압 실린더, 모터, 솔레노이드 방식의 직선형 액츄에이터 등)을 이용하여 용이하게 실시할 수 있는 것이므로 그에 관한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
한편, 상기 웨이퍼 처리 장치(100)에는, 상기 이중 보트의 내부에 웨이퍼를 삽입 장착(거치)하거나 처리된 웨이퍼를 취출하기 위하여, 밀폐 상태를 개폐할 수 있도록 된 도어 또는 커버가 구비됨은 물론이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제 1보트(10)는 원주상(설계 치수에 따른 가상의 원주)에 배치된 다수의 기둥(11)과, 상기 기둥(11)을 상호 연결하여 상기 기둥(11)들의 배치 상태를 유지하는 중공 원형판 또는 단순 원형판 형상의 연결부재(12a,12b)를 포함한다.
상기 기둥(11)들의 사이 구간 중, 적어도 어느 한 구간은 웨이퍼(W)의 직경보다 큰 간격을 가지도록 상기 기둥(11)들이 배치됨으로써, 그 구간을 통해 웨이퍼가 제 1보트(10)의 내부로 진입될 수 있도록 되어 있다.
또한, 상기 기둥(11)들에는 다수의 제 1척홈(11a)이 상하 방향으로 일정 간격마다 형성되어 있다. 상기 기둥(11)들에 있어서, 상기 제 1척홈(11a)들은 모두 동일한 수로 형성되고 그 형성 간격이 동일하므로 동일한 높이를 가지는 제 1척홈(11a)들이 존재하게 되고, 이러한 1군의 제 1척홈(11a)들이 일정 간격마다 다수 단으로 즉, 다수 층으로 존재하게 된다.
상기 제 1척홈(11a)은 상기 기둥(11) 외주면의 내측 부분(제 1보트(10)의 내부를 향하는 면)으로부터 상기 기둥(11)의 외측 부분(제 1보트(10)의 외부를 향하는 면)을 향해 수평으로 함입 형성된 것으로, 그 바닥면은 평평하게 형성된다.
따라서, 도시된 바와 같이, 상기 기둥(11)들의 사이로 웨이퍼(W)를 수평으로 삽입하되, 상기 웨이퍼(W)를 상기 제 1척홈(11a)의 바닥면과 상부면 사이로 삽입한 후 내려 놓음으로써 상기 웨이퍼(W)를 동일한 높이의 제 1척홈(11a)들에 걸쳐 놓을 수 있게 된다.
한편, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제 2보트(20)는 원주상(설계 치수에 따른 가상의 원주)에 배치된 다수의 기둥(21)과, 상기 기둥(21)을 상호 연결하여 상기 기둥(21)들의 배치 상태를 유지하는 상기 연결부재(22)를 포함한다.
또한, 상기 기둥(21)들의 사이 구간 중, 적어도 어느 하나는 웨이퍼의 직경보다 큰 간격을 가지도록 상기 기둥(21)들이 배치됨으로써, 그 구간을 통해 웨이퍼가 제 2보트(20)의 내부로 진입될 수 있도록 되어 있다. 상기 도 3은 제 2보트(20)의 배면도이므로 도면에서 뒤쪽 양측의 기둥(21)들 사이가 웨이퍼의 진입이 가능하도록 넓은 간격으로 형성된 부분이다.
또한, 상기 기둥(21)들에는 상하방향으로 일정 간격마다 마운팅부(21a)가 형성되고, 동일 높이의 마운팅부(21a)들에 제 2척플레이트(23)와 샤워헤드(24)가 장착된다. 따라서, 상기 제 2보트(20)에는 상하 방향으로 일정 간격마다 상기 제 2척플레이트(23)와 샤워헤드(24)가 구비된다.(도 1에서는 상기 제 2척플레이트(23)와 샤워헤드(24)를 상부에 1개씩만 도시하고 나머지는 생략하였다.)
상기 제 2척플레이트(23)와 샤워헤드(24)는 모두 원판형 부품이며, 상기 제 2척플레이트(23)의 상부에 소정 간격을 두고 상기 샤워헤드(24)가 장착된다.
상기 제 2척플레이트(23)와 샤워헤드(24)는 상기 마운팅부(21a)에 고정 상태로 설치된 것으로 상호간의 간격은 불변이다.
후술하겠지만, 상기 제 2척플레이트(23)는 웨이퍼를 최종적으로 지지하게 되고, 상기 샤워헤드(24)는 상기 제 2척플레이트(23)에 안착된 웨이퍼에 공정가스를 분사하는 기능을 수행한다. 상기 샤워헤드(24)는 상기 기둥(21)의 내부에 형성된 관로를 통해 공정가스를 공급받을 수 있다.
한편, 상기 제 1보트(10)가 상기 제 2보트(20)의 내부에 설치될 때는 각각에 있어 웨이퍼가 진입할 수 있도록 넓게 형성된 부분이 상호 일치하도록 설치된다. 즉, 제 1보트(10)와 제 2보트(20)는 모두 웨이퍼 처리 장치(100)의 도어가 설치된 정면으로 웨이퍼 진입 구간이 형성되도록 설치되고, 양자의 웨이퍼 진입 구간은 상호 일치된다.
도 4는 상기 제 1보트(10)가 상기 제 2보트(20)의 내측에 설치된 상태의 정단면을 도시(도 3에서 볼 때 앞쪽 2개의 기둥을 후방에서 바라보고 도시한 것임)한 것이고, 도 5는 상기 제 1보트(10)가 상기 제 2보트(20)의 내측에 설치된 상태의 평단면을 도시한 것이다.
도시된 바와 같이, 상기 제 1보트(10)의 각 기둥(11)들은 상기 제 2보트(20)의 각 기둥(21)들의 내측면에 일부 삽입되는 상태로 설치된다. 즉, 상기 제 2보트(20) 기둥(21)의 외주면에는 웨이퍼 처리 장치(100)의 내측을 향하는 부분에 상하 방향 전체에 걸쳐서 상기 제 1보트(10)의 기둥(11)의 외주면과 동일한 반경 및 곡률을 가지는 삽입홈(21b)이 형성되고, 상기 삽입홈(21b)에 상기 제 1보트(10)의 기둥(11)이 반경 방향으로 일부 삽입되는 상태로 설치된다. 이때 상기 제 1보트(10)의 기둥(11)은 상기 제 2보트(20) 기둥(21)의 삽입홈(21b)에서 상기 삽입홈(21b)의 길이방향(상하방향)을 따라 슬라이딩 이동될 수 있다.
따라서, 전술한 바와 같이, 상기 제 1보트(10)와 제 2보트(20)는 상하 방향으로 상대 거동할 수 있다. 즉, 상기 제 1보트(10)만 승강되거나, 또는 상기 제 2보트(20)만 승강되거나, 또는 상기 제 1보트(10)와 상기 제 2보트(20)가 상호 반대 방향으로 승강되는 것이다.
이제, 본 발명의 작용 및 효과를 설명한다.
상기 웨이퍼 처리 장치(100)의 내부에 웨이퍼(W)를 투입하기 전의 대기 상태에서, 상기 제 1보트(10)와 제 2보트(20)는 상기 제 2척플레이트(23)와 샤워헤드(24)의 사이에 상기 제 1척홈(11a)이 위치되는 상대적 위치 관계를 갖는다. 따라서, 웨이퍼(W) 투입 전에 상기 제 1척홈(11a)은 상기 제 2척플레이트(23)와 샤워헤드(24)의 사이에 위치된다.
상기 상태에서 웨이퍼 이송부가 웨이퍼(W)를 상기 제 2척플레이트(23)와 샤워헤드(24)의 사이 공간으로 삽입하여, 상기 웨이퍼(W)를 상기 제 1척홈(11a)에 걸쳐 놓는다.(도 2의 상태)
그리고, 상기 웨이퍼 이송부는 웨이퍼 처리 장치(100)로부터 빠져 나간다.
이후, 상기 제 1보트(20)가 하강하여, 상기 제 1척홈(11a)의 바닥면이 상기 제 2척플레이트(23)의 상면과 동일한 높이 또는 그 보다 조금 낮은 높이로 위치되면, 상기 제 2척플레이트(23)의 상면에 웨이퍼(W)가 얹혀진다.
상기 상태에서 웨이퍼 처리 장치(100)의 도어(또는 커버) 등이 닫혀서 외부에 대해 밀폐된 공간을 형성하고, 웨이퍼 처리 공정을 수행한다.
상기와 같이, 본 발명에 따르면, 웨이퍼 처리 장치(100)의 내부로 웨이퍼(W)가 투입, 장착될 때 상기 웨이퍼(W)는 먼저 제 1보트(10)의 제 1척홈(11a)에 테두리 부분만 걸쳐지게 되므로 상기 웨이퍼 이송부가 웨이퍼 처리 장치(100)의 내부로 진입된 상태에서 웨이퍼(W)를 내려 놓기 위해 하강하는 양이 크지 않다.
따라서, 웨이퍼 이송부와 상기 제 2척플레이트(23)의 간섭(충돌)이 발생하지 않으므로 웨이퍼 이송부와 상기 제 2척플레이트(23)에 손상이 발생하지 않고, 이에 따라 상기 웨이퍼 이송부와 웨이퍼 처리 장치의 수명이 연장된다.
또한, 상기 웨이퍼(W)는 칩을 제조하는 면 부분에 대한 충돌 없이 테두리 부분만 상기 제 1척홈(11a)에 걸쳐지고, 이후, 다수의 제 1척홈(11a)에 의해 테두리 가 지지되어 안정적으로 수평이 유지된 상태에서 상기 제 2척플레이트(23)의 상면에 얹혀짐으로써 웨이퍼(W)에 전달되는 진동이나 접촉 충격이 최소화된다.
따라서, 웨이퍼(W)의 손상이 발생하지 않으므로 웨이퍼 처리 수율이 증가하고, 이에 생산성이 향상되는 효과가 있다.
10 : 제 1보트 11 : 기둥
11a : 제 1척홈 12a,12b : 연결부재
20 : 제 2보트 21 : 기둥
21a : 마운팅부 21b : 삽입홈
22 : 연결부재 23 : 제 2척플레이트
24 : 샤워헤드 100 : 웨이퍼 처리 장치
W : 웨이퍼

Claims (8)

  1. 원주상에 배치된 다수의 기둥과, 상기 기둥을 상호 연결하여 배치 상태를 유지하는 연결부재를 포함하는 제 1보트와;
    원주상에 배치된 다수의 기둥과, 상기 기둥을 상호 연결하여 배치 상태를 유지하는 연결부재를 포함하고, 상기 제 1보트가 내부에 수용되는 제 2보트;를 포함하고,
    상기 제 1보트와 상기 제 2보트는 상하 방향으로 상대 위치가 가변될 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제 1보트의 기둥에 웨이퍼의 테두리 부분이 삽입되어 지지되는 다수의 제 1척홈이 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 제 2보트의 기둥에 다수의 마운팅부가 형성되고, 상기 마운팅부에 웨이퍼가 얹혀지는 제 2척플레이트와 상기 웨이퍼에 공정가스를 분사하는 샤워헤드가 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 제 2보트의 기둥 외주면에 상하 방향으로 삽입홈이 형성되고, 상기 삽입홈에 상기 제 1보트의 기둥이 삽입되어 상하 방향으로 슬라이딩 이동될 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 제 1보트와 상기 제 2보트에는 기둥들의 사이 구간 중 적어도 어느 한 구간이 웨이퍼가 진입할 수 있는 웨이퍼 진입 구간으로 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 제 1보트와 상기 제 2보트의 웨이퍼 진입 구간이 웨이퍼 처리 장치의 개방된 정면을 향하여 상호 일치되도록 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 제 1보트의 기둥에 제 1척홈이 형성되고,
    상기 제 2보트의 기둥에 제 2척플레이트가 장착되며,
    웨이퍼 장착 대기 상태에서 상기 제 1척홈은 상기 제 2척플레이트의 상부에 위치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 제 2보트의 기둥에 상기 제 2척플레이트에 얹혀지는 웨이퍼에 공정가스를 분사하는 샤워헤드가 장착되고, 상기 샤워헤드는 상기 제 2척플레이트로부터 상방으로 이격된 위치에 장착된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조.
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