KR20110112053A - Method for manufacturing conductive thin-film using ultrasonic spray nozzle coating - Google Patents
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Abstract
10~100nm의 미립자가 분산되어 있는 분산액을 통해 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따른 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법은 고온의 소성과정을 거친 10~100nm의 미립자를 유기 용매와 혼합하여 분산액을 제조하는 단계, 상기 미립자가 분산되어 있는 분산액에 유기 용매를 첨가 및 교반하여 제1코팅액을 제조하는 단계, 상기 제1코팅액을 초음파 스프레이 노즐을 통해 유리판 상에 코팅하는 단계 및 상기 제1코팅액이 코팅된 유리판을 상온에서 건조시키는 건조단계를 포함하여 이루어진다.Disclosed is a method of manufacturing a conductive thin film using an ultrasonic spray nozzle coating through a dispersion in which fine particles of 10 to 100 nm are dispersed. The conductive thin film manufacturing method using the ultrasonic spray nozzle coating according to the present invention comprises the steps of preparing a dispersion by mixing the fine particles of 10 ~ 100nm through a high temperature firing process with an organic solvent, the organic solvent is added to the dispersion in which the fine particles are dispersed And stirring to prepare a first coating liquid, coating the first coating liquid on a glass plate through an ultrasonic spray nozzle, and drying the glass plate coated with the first coating liquid at room temperature.
Description
본 발명은 도전성 박막 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 10~100nm의 미립자가 분산되어 있는 분산액을 초음파 스프레이 노즐을 이용하여 코팅하는 도전성 박막 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a conductive thin film, and more particularly, to a method for manufacturing a conductive thin film for coating a dispersion liquid in which 10 to 100 nm fine particles are dispersed using an ultrasonic spray nozzle.
일반적으로 도전막에는 금속산화물 중 인듐 주석 산화물(ITO: Indium Tin Oxide)dl 이용되고 있으며, 상기 도전막의 박막 특성은 전기 전도도에 의존하고, 상기 전기 전도도는 도펀트(dopant)의 종류와 막의 형성방법에 따라 결정된다.Generally, indium tin oxide (ITO) dl among the metal oxides is used for the conductive film, and the thin film properties of the conductive film depend on the electrical conductivity, and the electrical conductivity depends on the type of dopant and the method of forming the film. Is determined accordingly.
상기 도핑제로는 금속원소가 함유된 주석(Sn), 안티몬(Sb) 및 불소(F) 등이 이용되고 있으며, 도전성 박막의 제조방법에는 스퍼터링(sputtering) 및 이빔증착법(E-beam evaporation)과 같은 물리적 방법과 분무 열분해법(Spray pyrolysis), 졸-겔법(sol-gel), 고진공 증착법(CVD) 등과 같은 기본적인 화학 반응으로서 전구체 물질의 열분해 산화 반응을 이용하는 화학적 방법이 이용되고 있다.As the dopant, tin (Sn), antimony (Sb), and fluorine (F) containing metal elements are used, and a method of manufacturing a conductive thin film, such as sputtering and e-beam evaporation, Physical methods and chemical methods using pyrolysis oxidation of precursor materials are used as basic chemical reactions such as spray pyrolysis, sol-gel, and high vacuum deposition (CVD).
이와 같은 방법 중에서 스퍼터링을 이용하여 도전막을 제조하는 방법은 한국공개특허 제1997-062065호에 개시되어 있다. 여기에서는 두 전극에 걸린 전압에 의해 플라즈마를 형성하고, 불활성 가스의 이온화에 의해 형성된 가스이온이 음극과 충돌함으로써 표적 물질이 스퍼터되어 막이 형성되는 도전성 박막을 제조하는 것을 개시하고 있다.Among these methods, a method of manufacturing a conductive film using sputtering is disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 1997-062065. Herein, a conductive thin film is disclosed in which a plasma is formed by a voltage applied to two electrodes, and gas ions formed by ionization of an inert gas collide with a cathode, whereby a target material is sputtered to form a film.
하지만, 이와 같은 물리적 제막 방법은 막의 균질성은 우수하나 막의 성장 속도가 느리고 생산성이 낮으며, 처리공정 중 고전압, 고진공 등으로 인한 고가의 생산단가가 요구되어 제조비가 상승한다는 문제점이 있었다.However, such a physical film forming method has a problem in that the film homogeneity is excellent, but the film growth rate is low and productivity is low, and the manufacturing cost is increased due to the expensive production cost due to high voltage and high vacuum during the processing process.
또한, 한국공고특허 제1996-011171호에는 반응성이 높은 용액인 졸(sol)을 담금법으로 기판 위에 도포하여 형성된 건조겔막을 열처리함으로써 고상 산화막을 형성하는 졸-겔법이 개시되어 있고, 한국공개특허 제2000-05673호에는 금속염 용액을 이용하여 가열된 전기로 내에서 스프레이 코팅하여 막을 형성하는 스프레이법이 개시되어 있다.In addition, Korean Patent Publication No. 1996-011171 discloses a sol-gel method for forming a solid oxide film by heat-treating a dry gel film formed by applying a sol, which is a highly reactive solution, onto a substrate by dipping. 2000-05673 discloses a spray method in which a coating is formed by spray coating in a heated electric furnace using a metal salt solution.
하지만, 역시 막의 성장 속도가 느리고, 넓은 면적의 투명도전막의 형성에는 불리하다는 단점을 가지고 있다.However, it also has the disadvantage that the growth rate of the film is slow, it is disadvantageous for the formation of a large area transparent conductive film.
한편, 고진공 증착법을 통해 도전성 박막을 제조하게 되면, 박막의 균질도은 좋으나, 막의 성장 속도가 느려 비효율적이고, 분출가스로 인한 환경문제를 유발시키는 문제점을 내포하고 있다.On the other hand, when the conductive thin film is manufactured through a high vacuum deposition method, the homogeneity of the thin film is good, but the growth rate of the film is slow, it is inefficient, and has a problem of causing an environmental problem due to the blowing gas.
이에 최근에는 순수 기체압을 이용한 압축공기 노즐을 사용하여 용액을 분사하는 방법이 사용되고 있으나, 이는 박막의 균질도가 떨어져 박막의 전기적 기능이 저하되는 문제점이 있다.In recent years, a method of spraying a solution using a compressed air nozzle using pure gas pressure has been used, but there is a problem in that the thin film homogeneity is reduced and the electrical function of the thin film is degraded.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 유기 용매와 고온의 소성과정을 거친 10~100nm의 미립자가 혼합된 분산액을 제조하고 이를 초음파 스프레이 노즐 코팅하여 도전성 박막을 제조함으로써 원료를 절감할 수 있는 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법을 제공하는 데에 있다.The present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention to prepare a dispersion liquid mixed with an organic solvent and fine particles of 10 ~ 100nm through a high temperature firing process and to produce a conductive thin film by coating the ultrasonic spray nozzle By providing a conductive thin film manufacturing method using the ultrasonic spray nozzle coating that can reduce the raw material.
본 발명의 다른 목적은 10~100nm의 미립자가 혼합된 분산액이 코팅된 유리판에 제2코팅액을 초음파 스프레이 노즐을 통해 더 코팅하고 저온 소성하여 상기 미립자를 상기 유리판 상에 고착시켜 오염물 발생을 줄일 수 있는 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법을 제공하는 데에 있다.Another object of the present invention is to further coat a second coating liquid on the glass plate coated with a dispersion of fine particles of 10 ~ 100nm through an ultrasonic spray nozzle and to bake at a low temperature to reduce the generation of contaminants by fixing the fine particles on the glass plate It is to provide a method for manufacturing a conductive thin film using an ultrasonic spray nozzle coating.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 고온의 소성과정을 거친 10~100nm의 미립자를 유기 용매와 혼합하여 분산액을 제조하는 단계, 상기 미립자가 분산되어 있는 분산액에 유기 용매를 첨가 및 교반하여 제1코팅액을 제조하는 단계, 상기 제1코팅액을 초음파 스프레이 노즐을 통해 유리판 상에 코팅하는 단계 및 상기 제1코팅액이 코팅된 유리판을 상온에서 건조시키는 건조단계를 포함하여 이루어지는 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법을 제공한다.In order to achieve the above object, according to an embodiment of the present invention, the step of preparing a dispersion by mixing fine particles of 10 ~ 100nm through a high temperature firing process with an organic solvent, organic in the dispersion in which the fine particles are dispersed Preparing a first coating liquid by adding and stirring a solvent, coating the first coating liquid on a glass plate through an ultrasonic spray nozzle, and drying the glass plate coated with the first coating liquid at room temperature. Provided is a method for manufacturing a conductive thin film using ultrasonic spray nozzle coating.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제1코팅액이 코팅된 유리판을 상온에서 건조시키는 건조단계를 거친 후에 상기 미립자를 상기 유리판 상에 고착시키기 위하여 상기 제1코팅액과 같은 제2코팅액을 초음파 스프레이 노즐을 통해 상기 제1코팅액이 코팅된 유리판 상에 코팅하는 단계를 더 포함하여 이루어질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, after the drying step of drying the glass plate coated with the first coating liquid at room temperature, a second coating liquid, such as the first coating liquid, in order to fix the fine particles on the glass plate ultrasonic spray nozzle Through the first coating solution may be further comprising the step of coating on the coated glass plate.
여기에서, 상기 제2코팅액을 초음파 스프레이 노즐을 통해 상기 제1코팅액이 코팅된 유리판 상에 코팅하는 단계는 제2코팅액의 코팅이 완료된 후에 저온소성단계를 더 포함하여 이루어질 수 있다.Here, the step of coating the second coating liquid on the glass plate coated with the first coating liquid through an ultrasonic spray nozzle may further comprise a low temperature baking step after the coating of the second coating liquid is completed.
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법에서 사용되는 상기 미립자는 공침법에 의해 합성된 인듐 주석 산화물(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 콜로이달 실버(colloidal silver)법에 의해 제조된Ag미립자 중 적어도 어느 하나로 이루어질 수 있다.The fine particles used in the conductive thin film manufacturing method using the ultrasonic spray nozzle coating according to an embodiment of the present invention is an indium tin oxide (ITO) or colloidal silver method synthesized by a coprecipitation method. It may be made of at least any one of the Ag particles produced by.
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 제1코팅액은 에탄올(ethanol), 메탄올(methanol) 및 2-이소프로폭시 에탄올(2-isopropoxy ethanol)이 상기 분산액과 혼합되어 이루어질 수 있다.The first coating solution according to an embodiment of the present invention may be made by mixing ethanol, methanol and 2-isopropoxy ethanol with the dispersion.
첫째, 유기 용매와 고온의 소성과정을 거친 10~100nm의 미립자가 혼합된 분산액을 제조하고 이를 초음파 스프레이 노즐 코팅하여 도전성 박막을 제조함으로써 원료를 절감할 수 있는 효과가 있다.First, there is an effect that can reduce the raw material by producing a conductive thin film by preparing a dispersion liquid mixed with an organic solvent and fine particles of 10 ~ 100nm through a high temperature firing process and coating the ultrasonic spray nozzle.
둘째, 10~100nm의 미립자가 혼합된 분산액이 코팅된 유리판에 제2코팅액을 초음파 스프레이 노즐을 통해 더 코팅하고 저온 소성하여 상기 미립자를 상기 유리판 상에 고착시켜 오염물 발생을 줄일 수 있는 이점이 있다.Secondly, the second coating liquid is further coated on the glass plate coated with the dispersion mixture of 10 to 100 nm particles through an ultrasonic spray nozzle and calcined at low temperature to reduce the generation of contaminants by fixing the fine particles on the glass plate.
셋째, 10~100nm의 미립자가 혼합된 분산액을 제조하고 이를 초음파 스프레이 노즐 코팅함에 따라 연속 공정이 가능하여 액정 디스플레이, 액정조광장치 등의 제조가 가능하며 산업상의 이용가치가 높은 장점이 있다.Third, by preparing a dispersion in which 10 ~ 100nm fine particles are mixed and coating the ultrasonic spray nozzle, it is possible to manufacture a liquid crystal display, a liquid crystal dimming device, etc., and has a high industrial value.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법을 나타내는 순서도이다.1 is a flow chart showing a conductive thin film manufacturing method using the ultrasonic spray nozzle coating according to an embodiment of the present invention.
이하 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In describing the present embodiment, the same designations and the same reference numerals are used for the same components, and further description thereof will be omitted.
먼저, 도 1을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법에 대하여 설명하면 다음과 같다.First, the conductive thin film manufacturing method using the ultrasonic spray nozzle coating according to an embodiment of the present invention with reference to FIG. 1 will be described.
도 1에 나타난 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법은 크게, 도전성 미립자를 제조하는 단계(S1), 도전성 미립자 분산액을 제조하는 단계(S2), 알코올 유기용매 하에서 미립자 코팅액을 제조하는 단계(S3), 초음파 스프레이 노즐에 의한 미립자 용액을 코팅하는 단계(S4), 초음파 스프레이 노즐에 의한 2층액을 코팅하는 단계(S5) 및 저온소성 단계(S6)을 포함하여 이루어진다.As shown in Figure 1, the conductive thin film manufacturing method using the ultrasonic spray nozzle coating in one embodiment of the present invention is largely, the step of producing the conductive fine particles (S1), the step of producing a conductive fine particle dispersion (S2), alcohol organic Preparing a particulate coating solution under a solvent (S3), coating a particulate solution by an ultrasonic spray nozzle (S4), coating a two-layer liquid by an ultrasonic spray nozzle (S5), and a low temperature baking step (S6). It is done by
보다 구체적으로 설명하면, 우선, 본 발명의 일 실시예에 따른, 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법은 10~100nm의 크기를 가지는 미립자를 제조하는 단계(S1)를 거친 후 제조된 미립자와 유기용매를 혼합하여 미립자 분산액을 제조(S2)한다.In more detail, first, the conductive thin film manufacturing method using the ultrasonic spray nozzle coating according to an embodiment of the present invention after the step (S1) of preparing the fine particles having a size of 10 ~ 100nm and The organic solvent is mixed to prepare a fine particle dispersion (S2).
다음으로, 제조된 미립자 분산액을 알코올 유기용매 하에서 제1코팅액을 제조(S3)하여 유리판에 초음파 스프레이 노즐을 이용하여 상기 제1코팅액을 코팅(S4)한다.Next, the prepared fine particle dispersion is prepared under the alcohol organic solvent (S3) and the first coating solution is coated on the glass plate using an ultrasonic spray nozzle (S4).
유리판에 제1코팅액의 코팅이 완료되면, 상온에서 건조하여 박막을 제조할 수 있게 되는 것이다.When the coating of the first coating solution on the glass plate is completed, it is possible to produce a thin film by drying at room temperature.
또한, 본 실시예에 따르면, 유리판에 제1코팅액을 코팅한 후 상온에서 건조하여 제조된 박막에 미립자를 고착시키기 위하여 상기 제1코팅액과 같은 제2코팅액을 초음파 스프레이 노즐을 통해 상기 박막에 코팅하여 2층액을 형성한 후 100℃~300℃의 범위에서 저온 소성(S6)을 하게 된다.In addition, according to the present embodiment, by coating the first coating liquid on a glass plate and then drying at room temperature, the second coating liquid, such as the first coating liquid, is coated on the thin film through an ultrasonic spray nozzle in order to fix the fine particles on the thin film. After forming the two-layer liquid is a low temperature baking (S6) in the range of 100 ℃ ~ 300 ℃.
상기 도전성 미립자를 제조하는 단계(S1)에서는 고온 소성과정을 거친 미립자가 사용된다. 이에 따라, 금속이나 금속 산화물로 이루어진 미립자를 통해 박막을 제조하기 위해서 종래에 사용되었던 500℃~700℃ 범위에서 수행되었던 고온 소성 과정이 필요하지 않고, 100℃~300℃의 범위에서 저온 소성을 통해서도 박막의 제조가 가능하다는 장점이 있다.In the step of preparing the conductive fine particles (S1), fine particles that have undergone high temperature baking are used. Accordingly, the high temperature firing process, which was performed in the range of 500 ° C. to 700 ° C., which has been conventionally used, is not required to prepare a thin film through the fine particles made of metal or metal oxide, and also through low temperature firing in the range of 100 ° C. to 300 ° C. There is an advantage that the thin film can be manufactured.
본 실시예에 따른 상기 미립자는 공침법에 의해 합성된 인듐 주석 산화물(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 콜로이달 실버(colloidal silver)법에 의해 제조된Ag미립자 중 적어도 어느 하나가 사용될 수 있는데, 각각의 사용 예를 통해 보다 구체적으로 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막의 제조방법에 대하여 설명하도록 하겠다.
As the fine particles according to the present embodiment, at least one of indium tin oxide (ITO) synthesized by a coprecipitation method or Ag fine particles prepared by a colloidal silver method may be used. Through the use example will be described in more detail the manufacturing method of the conductive thin film using the ultrasonic spray nozzle coating.
<실시예1>Example 1
본 실시예에서는 인듐 주석 산화물(ITO: Indium Tin Oxide)로 이루어지는 미립자를 통해 도전성 박막을 제조하는 방법에 대하여 설명하도록 하겠다.In this embodiment, a method of manufacturing a conductive thin film using fine particles made of indium tin oxide (ITO) will be described.
우선, 에탄올과 디메틸 포르마이드(DMF: dimethyl firmamide)를 혼합하여 마그네틱 스핀바로 상온에서 교반한 용매를 250ml 메디아 병에 투입하고 공침법에 의해 합성된 10~100nm 크기의 ITO 미립자와 혼합용 지르코니아 비드(zirconia bead)를 투입하여 분쇄기로 분쇄한다.First, ethanol and dimethyl formamide (DMF: dimethyl firmamide) were mixed and the solvent stirred at room temperature with a magnetic spin bar was added to a 250 ml media bottle, and 10 to 100 nm sized ITO particles synthesized by coprecipitation were mixed with zirconia beads ( zirconia bead) is added and crushed with a grinder.
이와 같이 분쇄 후에 제조된 ITO 분산액에 질산을 넣어 적정한 후 교반하게 되면 미립자 분산액의 제조가 완료된다.After nitric acid is added to the prepared ITO dispersion after crushing and titration, the preparation of the fine particle dispersion is completed.
미립자 분산액의 제조가 완료되면, 미립자가 분산되어 있는 분산액에 에탄올, 메탄올, 2-이소프로폭시 에탄올(2-isopropoxy ethanol)을 첨가하여 제1코팅액을 제조한다.When the preparation of the fine particle dispersion is completed, ethanol, methanol, 2-isopropoxy ethanol are added to the dispersion in which the fine particles are dispersed to prepare a first coating solution.
이와 같이 제조된 상기 제1코팅액을 상온에서 초음파 스프레이 노즐 코팅에 의해 유리판에 코팅한 후 상온 건조 시킨다.The first coating solution prepared as described above is coated on a glass plate by ultrasonic spray nozzle coating at room temperature and then dried at room temperature.
상온 건조 후에 상기 제1코팅액과 동일한 방법으로 제조된 제2코팅액을 코팅하여 2층액을 형성한 후 250℃의 노(furnace)에서 저온 소성하여 단위면적당 104Ω의 면저항을 가지는 도전성 박막을 제조한다.
After drying at room temperature, a second coating solution prepared in the same manner as the first coating solution was coated to form a two-layered solution, and then baked at low temperature in a furnace at 250 ° C. to prepare a conductive thin film having a sheet resistance of 104 Ω per unit area.
<실시예2>Example 2
본 실시예에서는 Carey Leas’ colloidal silver로 알려진 제조법에 의해 20nm 이하의 Ag 미립자가 포함되어 있는 Ag 콜로이드를 제조한다.In this embodiment, Ag colloid containing Ag particles of 20 nm or less is prepared by a manufacturing method known as Carey Leas' colloidal silver.
비극성 용매를 첨가하여 Ag 입자의 분산을 방해하는 이온을 제거하고, 용매의 혼합을 용이하게 하기 위하여 전기 투석기를 통하여 전기 투석한다.Nonpolar solvents are added to remove ions that interfere with the dispersion of Ag particles, and electrodialyzed via an electrodialysis to facilitate mixing of the solvents.
이온이 제거된 Ag 콜로이드에 에탄올, 메탄올, 2-이소프로폭시 에탄올(2-isopropoxy ethanol) 및 프로필렌 글리코 메틸 에테르(propylene glycol methyl ether)를 첨가 및 교반하여 제1코팅액을 제조한다.Ethanol, methanol, 2-isopropoxy ethanol and propylene glycol methyl ether were added and stirred to Ag colloid from which ions were removed to prepare a first coating solution.
이와 같이 제조된 제1코팅액을 상온에서 초음파 스프레이 노즐 코팅에 의해 유리판에 코팅한 후 상온에서 건조시킨다.The first coating solution thus prepared is coated on a glass plate by ultrasonic spray nozzle coating at room temperature and then dried at room temperature.
상온에서 건조된 상기 제1코팅액이 코팅된 유리판에 상기 제1코팅액과 동일한 방법으로 제조된 제2코팅액을 코팅하여 2층액을 형성한 후 250℃의 노(furnace)에서 저온 소성하여 단위면적당 103Ω의 면저항을 가지는 도전성 박막을 제조한다.
After coating the second coating liquid prepared in the same manner as the first coating liquid on a glass plate coated with the first coating liquid dried at room temperature to form a two-layer liquid, and then calcined at a low temperature in a furnace at 250 ℃ (103Ω per unit area) A conductive thin film having sheet resistance is produced.
상술한 두 가지의 실시예에서 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법은 10~100nm 크기의 미립자를 포함하는 분산액을 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용하여 코팅함으로써, 유리판에 코팅되는 분산액이 유출되지 않고, 막의 균질도가 향상되는 효과가 있다.As shown in the above two embodiments, the conductive thin film manufacturing method using the ultrasonic spray nozzle coating according to the present invention is coated on the glass plate by coating a dispersion liquid containing fine particles of 10 ~ 100nm size using the ultrasonic spray nozzle coating The dispersion to be coated is not spilled, and the homogeneity of the film is improved.
또한, 2층액의 형성을 통해서 미립자를 고착시킴으로 인하여 오염물의 발생을 억제할 수 있는 효과가 있다.In addition, it is possible to suppress the generation of contaminants by fixing the fine particles through the formation of the two-layer liquid.
이상과 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화 될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.As described above, the preferred embodiments of the present invention have been described, and the fact that the present invention can be embodied in other specific forms in addition to the above-described embodiments without departing from the spirit or scope thereof has ordinary skill in the art. It is obvious to them. Therefore, the above-described embodiments should be regarded as illustrative rather than restrictive, and thus, the present invention is not limited to the above description and may be modified within the scope of the appended claims and their equivalents.
Claims (5)
상기 미립자가 분산되어 있는 분산액에 유기 용매를 첨가 및 교반하여 제1코팅액을 제조하는 단계;
상기 제1코팅액을 초음파 스프레이 노즐을 통해 유리판 상에 코팅하는 단계; 및
상기 제1코팅액이 코팅된 유리판을 상온에서 건조시키는 건조단계;
를 포함하여 이루어지는 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법.Preparing a dispersion by mixing fine particles of 10 to 100 nm that have undergone high temperature baking with an organic solvent;
Preparing a first coating liquid by adding and stirring an organic solvent to a dispersion in which the fine particles are dispersed;
Coating the first coating liquid on a glass plate through an ultrasonic spray nozzle; And
A drying step of drying the glass plate coated with the first coating solution at room temperature;
Conductive thin film manufacturing method using the ultrasonic spray nozzle coating comprising a.
상기 제1코팅액이 코팅된 유리판을 상온에서 건조시키는 건조단계를 거친 후에 상기 미립자를 상기 유리판 상에 고착시키기 위하여 상기 제1코팅액과 같은 제2코팅액을 초음파 스프레이 노즐을 통해 상기 제1코팅액이 코팅된 유리판 상에 코팅하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법.The method of claim 1,
After the drying step of drying the glass plate coated with the first coating liquid at room temperature, the second coating liquid, such as the first coating liquid, is coated with an ultrasonic spray nozzle to fix the fine particles on the glass plate. Method for producing a conductive thin film using an ultrasonic spray nozzle coating further comprising the step of coating on a glass plate.
상기 제2코팅액을 초음파 스프레이 노즐을 통해 상기 제1코팅액이 코팅된 유리판 상에 코팅하는 단계는,
제2코팅액의 코팅이 완료된 후에 저온소성단계를 더 포함하여 이루어지는 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법.The method of claim 2,
Coating the second coating liquid on the glass plate coated with the first coating liquid through an ultrasonic spray nozzle,
A method of manufacturing a conductive thin film using an ultrasonic spray nozzle coating further comprising a low temperature baking step after the coating of the second coating liquid is completed.
상기 미립자는,
공침법에 의해 합성된 인듐 주석 산화물(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 콜로이달 실버(colloidal silver)법에 의해 제조된Ag미립자 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법.The method of claim 1,
The fine particles,
Method for producing a conductive thin film using an ultrasonic spray nozzle coating, characterized in that at least one of indium tin oxide (ITO) synthesized by the co-precipitation method or Ag fine particles produced by the colloidal silver (colloidal silver) method .
상기 제1코팅액은,
에탄올(ethanol), 메탄올(methanol) 및 2-이소프로폭시 에탄올(2-isopropoxy ethanol)이 상기 분산액과 혼합되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 초음파 스프레이 노즐 코팅을 이용한 도전성 박막 제조방법.The method of claim 1,
The first coating liquid,
Ethanol (ethanol), methanol (methanol) and 2-isopropoxy ethanol (2-isopropoxy ethanol) is a conductive thin film manufacturing method using the ultrasonic spray nozzle coating, characterized in that the mixture is mixed with the dispersion.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020100031448A KR20110112053A (en) | 2010-04-06 | 2010-04-06 | Method for manufacturing conductive thin-film using ultrasonic spray nozzle coating |
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| KR1020100031448A KR20110112053A (en) | 2010-04-06 | 2010-04-06 | Method for manufacturing conductive thin-film using ultrasonic spray nozzle coating |
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ID=45027967
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| KR (1) | KR20110112053A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180069118A (en) * | 2015-11-12 | 2018-06-22 | 코넬 유니버시티 | Alternating-type electron spray manufacturing and its products |
-
2010
- 2010-04-06 KR KR1020100031448A patent/KR20110112053A/en not_active Application Discontinuation
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