KR20110091136A - Apparatus to dry substrate - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 기판 건조 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 건조 대상물인 기판에 고온의 액체 이소프로필 알코올을 공급함으로써 기판의 건조 효과를 향상시킬 수 있는 기판 건조 장치에 관한 것이다.
TECHNICAL FIELD This invention relates to a board | substrate drying apparatus. More specifically, It is related with the board | substrate drying apparatus which can improve the drying effect of a board | substrate by supplying high temperature liquid isopropyl alcohol to the board | substrate which is a drying object.
일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위해서는, 리소그래피(lithography), 증착 및 에칭(etching) 등의 여러 공정을 반복적으로 수행한다. 이러한 공정들을 거치는 동안 기판(예를 들면 실리콘 재질의 웨이퍼) 상에는 파티클(particle), 금속 불순물, 유기물 등이 잔존하게 된다. In general, in order to manufacture a semiconductor device, various processes such as lithography, deposition, and etching are repeatedly performed. Particles, metal impurities, organics, etc. remain on the substrate (eg, silicon wafer) during these processes.
이와 같은 오염 물질은 제품의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미치기 때문에 반도체 제조 공정에서는 기판에 잔존된 오염 물질을 제거하기 위한 세정 공정이 수행되고, 세정 공정 후에는 기판에 대한 건조 공정이 수행된다. Since such contaminants adversely affect the yield and reliability of products, a cleaning process for removing contaminants remaining on the substrate is performed in the semiconductor manufacturing process, and a drying process for the substrate is performed after the cleaning process.
종래 알려진 건조 방식으로는 스핀 건조 방식, 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol)에 의한 마란고니 효과(Marangoni effect)를 이용한 건조 방식 등이 있다. Conventionally known drying methods include spin drying, drying using Marangoni effect by isopropyl alcohol (IPA, Iso-propyl Alcohol), and the like.
그 중 이소프로필 알코올을 이용한 건조 방식은 기판을 순수(DIW, de-ionized water) 안에서 수직 방향으로 끌어올림과 동시에 이소프로필 알코올 및 질소 가스(N2)를 기판 표면의 기액 계면 부근에 불어 넣는 것에 의해 마란고니 효과를 발생시켜 기판을 건조시키는 방식을 말한다.Among them, the drying method using isopropyl alcohol is obtained by pulling the substrate vertically in de-ionized water (DIW) and blowing isopropyl alcohol and nitrogen gas (N2) near the gas-liquid interface on the substrate surface. It refers to a method of drying the substrate by generating a marangoni effect.
일반적으로 건조 공정 시 사용되는 이소프로필 알코올은 기판 건조 장치로부터 기체 상태로 제공된다. 여기서, 기판 건조 장치는 히터를 이용하는 직/간접 가열 방식 또는 가스를 공급함에 따른 버블링(bubbling)에 의해 액상의 이소프로필 알코올이 기화될 수 있도록 구성되어 있다.In general, isopropyl alcohol used in the drying process is provided in the gaseous state from the substrate drying apparatus. Here, the substrate drying apparatus is configured such that the liquid isopropyl alcohol can be vaporized by a direct / indirect heating method using a heater or bubbling by supplying a gas.
그런데, 이와 같이 기체 상태의 이소프로필 알코올로 기판을 건조시키는 경우, 이소프로필 알코올의 농도를 높게 구현하는 데 한계가 있어 기판 상의 물반점과 같은 부분을 신뢰성 있게 제거할 수 없는 문제점이 있다.However, when the substrate is dried with isopropyl alcohol in the gaseous state as described above, there is a limit in implementing a high concentration of isopropyl alcohol, and thus there is a problem in that parts such as water spots on the substrate cannot be removed reliably.
이에, 기체 상태에 비해 상대적으로 높은 농도를 구현할 수 있는 액체 상태의 이소프로필 알코올을 기판 상에 분사함으로써 기판의 건조 작업을 신뢰성 있게 수행할 수 있는, 새로운 구조의 기판 건조 장치의 개발이 필요한 실정이다.Accordingly, there is a need for the development of a substrate drying apparatus having a new structure that can reliably perform the drying operation of the substrate by spraying a liquid isopropyl alcohol on the substrate, which can realize a relatively high concentration compared to the gas state. .
본 발명의 목적은, 기판 건조 시 액체 상태의 이소프로필 알코올을 공급함으로써 기판 상에 잔존 가능한 물반점 등을 신뢰성 있게 제거할 수 있는 기판 건조 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a substrate drying apparatus which can reliably remove water spots and the like remaining on a substrate by supplying isopropyl alcohol in a liquid state during substrate drying.
또한, 본 발명의 목적은, 기판 건조 시 공급되는 액체 상태의 이소프로필 알코올이 히팅 유닛에 의해 고온을 유지할 수 있어 기판에 대한 표면 장력을 감소시킬 수 있고, 이에 따라 기판에 형성된 패턴 간의 리닝(leaning) 현상을 방지할 수 있는 기판 건조 장치를 제공하는 것이다.
It is also an object of the present invention that the liquid isopropyl alcohol supplied during drying of the substrate can maintain a high temperature by the heating unit, thereby reducing the surface tension on the substrate, thereby lining between the patterns formed on the substrate. It is to provide a substrate drying apparatus that can prevent the phenomenon.
본 발명의 실시예에 따른 기판 건조 장치는, 기판에 대한 건조 작업이 진행되는 건조부; 상기 건조부 내에서 상기 기판에 액체 상태의 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol)을 공급하며, 내측에는 상기 이소프로필 알코올이 이동하는 이동 라인을 지그재그(zigzag) 형상으로 형성하는 건조 물질 공급부; 및 상기 건조 물질 공급부 내에 있는 상기 액체 상태의 이소프로필 알코올의 온도를 상승시키거나 유지시키는 히팅 유닛을 포함하며, 이러한 구성에 의해 기판에 대한 건조 작업 시 기판 상에 잔존 가능한 물반점 등을 확실히 제거할 수 있다.Substrate drying apparatus according to an embodiment of the present invention, the drying unit is a drying operation proceeds to the substrate; A dry material supply unit supplying isopropyl alcohol (IPA) in a liquid state to the substrate in the drying unit, and forming a moving line in which the isopropyl alcohol moves in a zigzag shape; And a heating unit which raises or maintains the temperature of the liquid isopropyl alcohol in the dry matter supply unit, and by such a configuration, it is possible to surely remove water spots and the like remaining on the substrate during the drying operation on the substrate. Can be.
여기서, 상기 건조 물질 공급부는, 상기 건조부에 수용된 상기 기판의 반경 방향을 따라 배치되는 공급본체; 상기 공급본체 내에 형성되며 외부의 알코올 공급 장치로부터 공급된 상기 액체 상태의 이소프로필 알코올을 채우는 알코올 수용 공간; 및 상기 기판을 향하는 상기 공급본체의 하단부의 길이 방향을 따라 슬롯(slot) 형상으로 마련되며, 상기 이동 라인에 의해 상기 알코올 수용 공간과 연통되어 상기 액체 상태의 이소프로필 알코올을 상기 기판의 일면으로 분사하는 공급 나이프를 포함할 수 있다. 따라서, 회전하는 기판의 전면에 액체 상태의 이소프로필 알코올을 균일하게 분사할 수 있다.Here, the dry material supply unit, the supply body disposed along the radial direction of the substrate accommodated in the drying unit; An alcohol receiving space formed in the supply body and filling the isopropyl alcohol in the liquid state supplied from an external alcohol supply device; And a slot shape along a longitudinal direction of the lower end portion of the supply body facing the substrate, in communication with the alcohol receiving space by the moving line, and spraying the isopropyl alcohol in the liquid state to one surface of the substrate. It may include a supply knife. Therefore, the isopropyl alcohol in a liquid state can be sprayed uniformly on the front surface of the rotating substrate.
상기 이동 라인의 일단부는, 상기 알코올 수용 공간에 저장된 상기 액체 상태의 이소프로필 알코올 중 넘치는 이소프로필 알코올이 이동할 수 있도록, 상기 알코올 수용 공간의 상단부와 연통되게 연결될 수 있다.One end of the moving line may be connected to communicate with the upper end of the alcohol receiving space so that the overflow isopropyl alcohol of the liquid isopropyl alcohol stored in the alcohol receiving space can move.
상기 히팅 유닛은 상기 공급본체의 길이 방향을 따라 상기 공급본체의 양측부에 장착될 수 있으며, 이에 따라 공급본체의 거의 전 영역을 고르게 가열시킬 수 있다.The heating unit may be mounted to both sides of the supply body along the longitudinal direction of the supply body, thereby heating almost the entire area of the supply body evenly.
상기 히팅 유닛은 인가되는 전류의 양에 따라 발열 정도를 조절할 수 있는 코일(coil) 타입의 히터일 수 있다.The heating unit may be a coil type heater capable of adjusting the degree of heat generation according to the amount of current applied.
상기 히팅 유닛은 상기 건조 물질 공급부에 의해 공급되는 상기 액체 상태의 이소프로필 알코올을 70℃ 내지 80℃의 온도로 가열할 수 있으며, 이에 따라 기판에 대한 이소프로필 알코올의 표면 장력을 감소시킴으로써 기판에 형성된 패턴 간의 리닝(leaning) 현상을 방지할 수 있다.The heating unit may heat the liquid isopropyl alcohol supplied by the dry matter supply unit to a temperature of 70 ° C. to 80 ° C., thereby reducing the surface tension of isopropyl alcohol on the substrate to form a substrate. Leaning between patterns can be prevented.
상기 건조 물질 공급부는, 상기 알코올 수용 공간과 연통되도록 상기 공급본체 내에 마련되며, 외부의 질소 가스 공급 장치로부터 질소 가스(N2) 또는 가열된 상태의 질소 가스(hot N2)가 유입되는 질소 가스 유입부를 더 포함하며, 상기 질소 가스는 상기 알코올 수용 공간, 상기 이동 라인 및 슬롯 형상의 상기 공급 나이프를 이동하여 상기 기판에 분사될 수 있다.The dry matter supply unit is provided in the supply body so as to communicate with the alcohol receiving space, and a nitrogen gas inlet unit through which an external nitrogen gas supply device receives nitrogen gas (N2) or a heated nitrogen gas (hot N2). Further, the nitrogen gas may be injected to the substrate by moving the supply knife of the alcohol receiving space, the moving line and the slot shape.
상기 질소 가스 유입부는, 상기 알코올 수용 공간의 상부에 배치되는 상기 공급본체의 상부벽의 두께 방향을 따라 관통되되 상기 공급본체의 길이 방향을 따라 규칙적으로 관통되는 복수의 유입구를 포함할 수 있다.The nitrogen gas inlet may include a plurality of inlets that are penetrated along the thickness direction of the upper wall of the supply body disposed above the alcohol containing space and regularly penetrates along the longitudinal direction of the supply body.
상기 건조 물질 공급부와 별도로 마련되어 질소 가스를 공급하는 질소 가스 공급부를 더 포함하며, 상기 기판으로 상기 질소 가스를 공급하는 상기 질소 가스 공급부의 분사구는 슬롯(slot) 형상으로 길게 마련될 수 있다.
The apparatus may further include a nitrogen gas supply unit provided separately from the dry matter supply unit to supply nitrogen gas, and the injection hole of the nitrogen gas supply unit supplying the nitrogen gas to the substrate may be elongated in a slot shape.
본 발명의 실시예에 따르면, 기판 건조 시 액체 상태의 이소프로필 알코올을 공급함으로써 기판 상에 잔존 가능한 물반점 등을 신뢰성 있게 제거할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, by supplying isopropyl alcohol in a liquid state when drying the substrate, it is possible to reliably remove water spots and the like remaining on the substrate.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 기판 건조 시 공급되는 액체 상태의 이소프로필 알코올이 히팅 유닛에 의해 고온을 유지할 수 있어 기판에 대한 표면 장력을 감소시킬 수 있고, 이에 따라 기판에 형성된 패턴 간의 리닝(leaning) 현상을 방지할 수 있다.
In addition, according to an embodiment of the present invention, the liquid isopropyl alcohol supplied when the substrate is dried can maintain a high temperature by the heating unit to reduce the surface tension on the substrate, thereby lining between the patterns formed on the substrate Leaning can be prevented.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 건조 물질 공급부 및 그에 연결된 알코올 공급 장치의 단면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 건조 물질 공급부를 다른 방향으로 단면 처리한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치에 구비되는 건조 물질 공급부의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치에 구비되는 건조 물질 공급부 및 질소 가스 공급부의 단면도이다.1 is a view schematically showing the configuration of a substrate drying apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the dry matter supply unit shown in FIG. 1 and the alcohol supply device connected thereto. FIG.
3 is a cross-sectional view of the dry matter supply unit illustrated in FIG. 2 in a different direction.
4 is a cross-sectional view of a dry material supply unit provided in the substrate drying apparatus according to another embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of a dry matter supply unit and a nitrogen gas supply unit included in the substrate drying apparatus according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 구성 및 적용에 관하여 상세히 설명한다. 이하의 설명은 특허 청구 가능한 본 발명의 여러 태양(aspects) 중 하나이며, 하기의 기술(description)은 본 발명에 대한 상세한 기술(detailed description)의 일부를 이룬다. Hereinafter, configurations and applications according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The following description is one of several aspects of the patentable invention and the following description forms part of the detailed description of the invention.
다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 관한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail for the sake of clarity and conciseness.
이하에서 상술되는 기판은, 웨이퍼(Wafer), 엘씨디(LCD, Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel)와 같은 다른 평판디스플레이(Flat Panel Display) 중 어느 하나일 수 있다.The substrate to be described below may be any one of another flat panel display such as a wafer, a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and the like.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치의 구성을 개략적으로 도시한 도면이고, 도 2는 도 1에 도시된 건조 물질 공급부 및 그에 연결된 알코올 공급 장치의 단면도이며, 도 3은 도 2에 도시된 건조 물질 공급부를 다른 방향으로 단면 처리한 단면도이다. 1 is a view schematically showing the configuration of a substrate drying apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of a dry material supply unit shown in FIG. 1 and an alcohol supply device connected thereto, and FIG. 3 is FIG. It is sectional drawing in which the dry matter supply part shown in the cross section was processed in the other direction.
이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치(100)는, 건조 대상물인 기판(W)이 수용되며 기판(W)에 대한 건조 작업이 진행되는 건조부(110)와, 건조부(110) 내의 상부에 마련되어 기판(W)에 액체 상태의 이소프로필 알코올(103, IPA, Iso-propyl Alcohol) 및 질소 가스(N2, 105)를 공급하는 건조 물질 공급부(120)와, 건조 물질 공급부(120)에 장착되어 건조 물질 공급부(120)의 내부에 있는 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)의 온도를 상승 또는 유지시키는 히팅 유닛(160)을 포함한다.As shown in these figures, the
이러한 구성에 의해서, 기판(W)의 전면에 고온의 액체 이소프로필 알코올(103)이 공급되어 건조 작업이 진행될 수 있는데, 이때 이소프로필 알코올(103)이 액체 상태를 유지함으로써 기판(W) 상의 물반점과 같은 부분을 깨끗하게 제거할 수 있으며, 또한 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)이 고온을 유지함으로써 기판(W)에 대한 표면 장력을 감소시킬 수 있어 기판(W)에 형성된 패턴 간의 리닝(leaning) 현상을 방지할 수 있다.By such a configuration, a high temperature
각각의 구성에 대해 설명하면, 건조부(110)는, 기판(W)이 안착되는 안착부재(111)가 마련된다. 안착부재(111)는 상면에 기판(W)을 안착한 상태로 회전 가능하며, 이에 따라 후술할 건조 물질 공급부(120)로부터 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)이 공급될 때 기판(W)의 전면에 대한 건조 작업이 이루어질 수 있다.Each structure is demonstrated, and the
건조 물질 공급부(120)는, 기판(W) 상에 액체 상태의 이소프로필 알코올(103) 및 질소 가스(105)를 순차적으로 공급함으로써 기판(W)을 건조하는 역할을 한다. 이때 기판(W)으로 공급되는 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)은 끓는점(82℃)에 가까운 높은 온도를 가짐으로써 기판(W)에 대한 건조 작업이 신뢰성 있게 진행될 수 있다.The dry
건조 물질 공급부(120)의 구성에 대해 설명하면, 본 실시예의 건조 물질 공급부(120)는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 건조부(110) 내에서 기판(W)의 반경 방향을 따라 길게 배치되는 공급본체(121)와, 공급본체(121) 내에 형성되며 외부의 알코올 공급 장치(150)로부터 공급된 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)이 채워지는 알코올 수용 공간(123)과, 알코올 수용 공간(123)과 연결되며 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)의 이동 통로를 형성하는 이동 라인(125)과, 기판(W)을 향하는 공급본체(121)의 하단부의 길이 방향을 따라 길게 형성되며 이동 라인(125)에 의해 알코올 수용 공간(123)과 연통되는 슬롯(slot) 형상의 공급 나이프(127)를 포함한다. Referring to the configuration of the dry
먼저, 공급본체(121)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 기판(W)의 반지름에 해당하는 길이를 갖는다. 이러한 공급본체(121)의 일단은 기판(W)의 중심 영역에 위치하고 타단은 기판(W)의 외연 영역에 위치하도록 공급본체(121)는 건조부(110) 내에 배치되며, 따라서 기판(W)의 회전 시 기판(W)의 전면에 건조 물질, 즉 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)과 질소 가스(105)를 순차적으로 공급할 수 있어 기판(W)에 대한 건조 작업을 수행할 수 있다.First, the supply
이러한 공급본체(121)는 열 전달이 우수한 금속 재질로 마련될 수 있다. 따라서 후술할 히팅 유닛(160)으로부터 열이 발생될 때 공급본체(121)는 가열될 수 있으며, 이에 따라 그 내부에 있는 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)의 온도를 상승시키거나 유지시킬 수 있다.The
알코올 수용 공간(123)은, 도 2에 도시된 단면을 갖도록 공급본체(121)의 길이 방향을 따라 길게 형성된다. 이러한 알코올 수용 공간(123)은 알코올 공급 라인(158)에 의해 외부의 알코올 공급 장치(150)와 연결되어 있다. The
알코올 공급 장치(150)는, 알코올 수용 공간(123)으로 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)을 주로 공급하는 메인 탱크부(151, main tank)와, 알코올 수용 공간(123)으로 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)을 보조적으로 공급하는 보조 탱크부(155, sub tank)를 구비할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 알코올 공급 장치(150)는 하나의 탱크부로 이루어지거나 또는 보다 많은 수의 탱크부로 구성될 수도 있다.The
메인 탱크부(151)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)이 저장되며 알코올 공급 라인(158)에 의해 알코올 수용 공간(123)과 연결되는 알코올 저장 탱크(152)와, 알코올 저장 탱크(152)를 감싸며 배치되며 순수(107, DIW)가 저장되는 순수 저장 탱크(153)와, 순수 저장 탱크(153)의 하부에 마련되어 순수 저장 탱크(153) 내의 순수(107)를 가열하는 순수 히터(157)를 구비한다. As shown in FIG. 2, the
이에 따라, 순수 히터(157)에 의해 순수 저장 탱크(153) 내의 순수(107)가 가열되고, 이어서 가열된 순수(107)에 의해 알코올 저장 탱크(152) 내의 이소프로필 알코올(103)이 가열됨으로써, 외부의 알코올 공급 장치(150)로부터 건조 물질 공급부(120)의 알코올 수용 공간(123)으로 고온의 액체 이소프로필 알코올(103)을 공급할 수 있다.Accordingly, the
이때, 알코올 공급 장치(150)로부터 알코올 수용 공간(123)으로 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)의 공급이 계속적으로 이루어지는 경우, 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)은 알코올 수용 공간(123)으로부터 넘치게 되고, 넘친 이소프로필 알코올(103)은 공급본체(121) 내에 마련된 이동 라인(125)을 따라 공급 나이프(127)로 이동한다.At this time, when the
본 실시예의 이동 라인(125)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 높이 방향을 향하여 지그재그(zigzag) 식으로 형성된다. 따라서, 알코올 수용 공간(123)으로부터 이동 라인(125)으로 이송된 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)은 비교적 긴 이동 라인(125)을 통과한 후 공급 나이프(127)에 도달할 수 있으며, 이후 공급 나이프(127)를 통해 기판(W)으로 공급될 수 있다.The moving
여기서, 이동 라인(125)이 지그재그 식으로 마련되어 비교적 길게 형성되는 이유는, 이동 라인(125)을 따라 이동하는 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)의 온도를 상승시키거나 유지시키기 위해서이다. 전술한 바와 같이, 공급본체(121)는 히팅 유닛(160)에 의해 가열되기 때문에 이동 라인(125)을 형성하는 내벽 역시 가열되는데, 이때 이소프로필 알코올(103)이 가열된 이동 라인(125)에 머무는 시간을 길게 함으로써 이소프로필 알코올(103)의 온도를 상승시키거나 유지시킬 수 있다. 따라서, 고온의 액체 이소프로필 알코올(103)을 기판(W)에 공급하여 기판의 건조 작업을 신뢰성 있게 실행할 수 있다.Here, the reason why the moving
한편, 공급 나이프(127)는, 공급본체(121)의 하단부를 따라 슬롯(slot) 형상으로 길게 관통 형성된다. 도 3을 통해 알 수 있듯이, 공급본체(121)의 하단부의 내측 영역은 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)이 하방으로 원활하게 흐를 수 있도록 경사지게 마련된다.On the other hand, the
공급 나이프(127)의 관통된 부분의 길이는 건조 대상물인 기판(W)의 반경에 대응된다. 따라서, 공급 나이프(127)로부터 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)이 공급될 때 기판(W)은 회전하기 때문에 공급 나이프(127)로부터 기판(W)의 전면으로 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)이 공급될 수 있으며, 이에 따라 기판(W)에 대한 건조 작업이 이루어질 수 있다.The length of the penetrated portion of the
또한, 공급 나이프(127)가 슬롯 형상으로 마련됨으로써 이동 라인(125)을 통과한 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)은 공급 나이프(127)를 통과할 때 흐름 속도가 빨라질 수 있으며, 이에 따라 기판(W)에 공급 속도가 빠른 이소프로필 알코올(103)을 공급함으로써 기판(W)의 건조 효과를 향상시킬 수 있다.In addition, since the
한편, 전술한 바와 같이, 공급본체(121)의 양측면의 길이 방향을 따라 히팅 유닛(160)이 장착된다. 히팅 유닛(160)은, 금속 재질의 공급본체(121)를 가열하여 그 내부에 있는 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)의 온도를 상승시키거나 유지시키는 역할을 한다.On the other hand, as described above, the
본 실시예의 히팅 유닛(160)은 인가되는 전류의 양에 따라 가열 정도를 다르게 조절할 수 있는 코일(coil) 타입의 히터로 마련될 수 있다. 본 실시예에서 건조 물질로 사용되는 이소프로필 알코올(103)의 끓는점은 대략 82℃인데, 너무 많은 열을 가하는 경우 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)이 기체 상태의 이소프로필 알코올(103)로 상태 변화될 수 있으므로 히팅 유닛(160)의 가열 정도는 적절하게 조절되어야 한다.The
따라서, 본 실시예의 히팅 유닛(160)은 공급 나이프(127)를 통해 공급되는 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)의 온도가 70℃ 내지 80℃를 유지하도록 공급본체(121)를 가열한다. 이에 따라, 전술한 바와 같이, 고온의 액체 이소프로필 알코올(103)이 기판(W)에 공급될 수 있어 기판(W)에 대한 이소프로필 알코올(103)의 표면 장력을 감소시킬 수 있으며, 이로 인해 기판(W)에 형성된 패턴 간의 리닝(leaning) 현상을 방지할 수 있다. Therefore, the
한편, 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)을 공급한 이후에, 기판(W) 상의 이소프로필 알코올(103)을 제거하기 위해 질소 가스(105, N2)가 분사된다. 본 실시예에서는, 이러한 질소 가스(105) 역시 전술한 건조 물질 공급부(120)에 의해 분사된다. 다시 말해, 공급 나이프(127)를 통해 질소 가스(105)가 기판(W)의 전면으로 분사되는 것이다.On the other hand, after supplying the
이를 위해, 본 실시예의 건조 물질 공급부(120)는, 알코올 수용 공간(123)과 연통되도록 공급본체(121) 내에 마련되며 외부의 질소 가스 공급 장치(170)로부터 질소 가스(105)가 유입되는 질소 가스 유입부(128)를 더 포함한다.To this end, the dry
본 실시예의 질소 가스 유입부(128)는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 알코올 수용 공간(123)의 상부에 배치되는 공급본체(121)의 상부벽의 두께 방향을 따라 관통 형성되되 공급본체(121)의 길이 방향을 따라 규칙적으로 마련되는 복수의 유입구(129)를 포함한다.
따라서, 소정 직경을 갖는 복수의 유입구(129)를 지나 알코올 수용 공간(123)의 상부로 질소 가스(105)가 원활하게 유입될 수 있다. 알코올 수용 공간(123)의 상부로 유입된 질소 가스(105)는 전술한 이동 라인(125)을 지난 후 공급 나이프(127)를 통해 기판(W)으로 분사된다. 이때 공급 나이프(127)의 슬롯 형상에 의해 질소 가스(105)가 빠른 속도로 분사될 수 있으며, 분사된 질소 가스(105)에 의해 기판(W) 상의 이소프로필 알코올(103)을 신뢰성 있게 제거함으로써 기판(W)에 대한 건조 작업을 마무리할 수 있다.Therefore, the
다만, 본 실시예에서는, 기판(W) 상의 액체 이소프로필 알코올(103)을 기판(W)으로부터 제거하기 위해 질소 가스(105)가 사용된다고 상술하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 종류의 가스, 예를 들면 아르곤(Ar), 헬륨(He) 등의 가스가 사용될 수도 있음은 물론이다. However, in the present embodiment, the
또한, 질소 가스(105)는 가열된 상태의 질소 가스(hot N2)일 수도 있다. 가열된 질소 가스가 기판(W)에 분사되는 경우 기판(W)의 건조 효과를 보다 향상시킬 수 있다.In addition, the
이하에서는, 전술한 구성을 갖는 기판 건조 장치(100)의 작동 과정에 대해서 설명하기로 한다.Hereinafter, an operation process of the
먼저, 외부의 알코올 공급 장치(150)로부터 공급본체(121) 내에 형성된 알코올 수용 공간(123)에 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)을 공급한다. 이때 공급되는 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)은 알코올 공급 장치(150) 내에서 미리 가열되어, 알코올 수용 공간(123)에 고온의 액체 이소프로필 알코올(103)이 공급될 수 있다.First, the
이후, 알코올 수용 공간(123)의 이소프로필 알코올(103)은 히팅 유닛(160)에 의해 가열된 이동 라인(125)을 지나 공급 나이프(127)로 이동한다. 이때, 이소프로필 알코올(103)은 지그재그 식으로 형성된 이동 라인(125)을 지난 후 공급 나이프(127)를 통해 분사되기 때문에 이소프로필 알코올(103)은 이동 라인(125) 상에 상대적으로 긴 시간동안 머물게 되며, 이로 인해 이소프로필 알코올(103)의 온도는 상승되거나 고온의 상태를 유지할 수 있다.Thereafter, the
이어서, 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)은 공급 나이프(127)를 통해 기판(W) 상으로 공급된다. 이때 기판(W)은 회전하기 때문에 기판(W)의 전면에 액체 상태의 이소프로필 알코올(103)이 공급될 수 있다. 또한, 기판(W)의 계속적인 회전에 의해 기판(W) 상의 이소프로필 알코올(103)은 외부로 제거될 수 있다.Subsequently, the
다음으로, 기판(W) 상의 이소프로필 알코올(103)을 완전히 제거하기 위해, 건조 물질 공급부(120)로부터 기판(W)으로 질소 가스(105)를 공급한다. 질소 가스(105)는, 전술한 바와 같이, 건조 물질 공급부(120)의 질소 가스 유입부(128)로 유입된 후 이동 라인(125)을 지나고, 이어서 공급 나이프(127)를 통해 기판(W)으로 분사될 수 있다. 따라서, 기판(W) 상의 이소프로필 알코올(103)을 완전히 제거함으로써 기판(W)에 대한 건조 작업을 완료할 수 있다.Next, in order to completely remove the
이와 같이, 본 실시예에 의하면, 기판(W) 건조 시 고온의 이소프로필 알코올(103) 액체를 공급함으로써 기판(W) 상에 잔존 가능한 물반점 등을 신뢰성 있게 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 기판(W)에 대한 이소프로필 알코올(103)의 표면 장력을 감소시킬 수 있어 기판(W)에 형성된 패턴 간의 리닝(leaning) 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present embodiment, by supplying a high
한편, 이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치를 설명하되, 본 발명의 일 실시예의 기판 건조 장치에서 설명한 바와 동일한 것에 대해서는 그 설명을 생략하기로 한다.Meanwhile, hereinafter, a substrate drying apparatus according to another embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings, and the same description as that described in the substrate drying apparatus according to an embodiment of the present invention will be omitted.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치에 구비되는 건조 물질 공급부의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a dry material supply unit provided in the substrate drying apparatus according to another embodiment of the present invention.
이에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치의 건조 물질 공급부(220)는, 전술한 일실시예의 이동 라인(125, 도 3 참조)과 형상적으로 차이가 있는 이동 라인(225)을 구비한다. 즉, 전술한 일 실시예의 이동 라인(125)이 상하 방향을 향하여 지그재그 식으로 형성되었다면, 다른 실시예의 이동 라인(225)은 좌우 방향을 향하여 지그재그 식으로 형성되어 있다.As shown therein, the dry
따라서, 전술한 일 실시예와 마찬가지로, 이동 라인(225)의 길이를 공급본체(221) 내에서 길게 마련할 수 있어 액체 상태의 이소프로필 알코올(203)의 온도를 유지하거나 상승시키는 데 유리하며, 이에 따라 고온의 액체 이소프로필 알코올(203)을 기판(W)에 공급할 수 있어 기판(W)의 건조 작업을 신뢰성 있게 수행할 수 있다.Thus, as in the above-described embodiment, the length of the moving
다만, 전술한 일 실시예에서는 이동 라인(125)이 높이 방향을 따라 지그재그 식으로 형성되고, 다른 실시예에서는 이동 라인(225)이 좌우 방향을 따라 지그재그 식으로 형성된다고 상술하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 공급본체 내에서 이동 라인의 길이를 연장시킬 수만 있다면 다른 형상 및 구조로 마련될 수도 있음은 당연하다.However, in the above-described embodiment, the moving
한편, 이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치를 설명하되, 전술한 실시예들에서의 기판 건조 장치에서 설명한 바와 동일한 것에 대해서는 그 설명을 생략하기로 한다.On the other hand, in the following, with reference to the accompanying drawings will be described a substrate drying apparatus according to another embodiment of the present invention, the same as described in the substrate drying apparatus in the above embodiments will be omitted the description thereof .
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치에 구비되는 건조 물질 공급부 및 질소 가스 공급부의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a dry matter supply unit and a nitrogen gas supply unit included in the substrate drying apparatus according to another embodiment of the present invention.
이에 도시된 바와 같이, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치는, 건조 물질 공급부(320)와 별도로 마련되어 기판(W) 상으로 질소 가스(305)를 공급하는 질소 가스 공급부(380)를 더 포함한다.As shown in the drawing, the substrate drying apparatus according to another embodiment of the present invention includes a nitrogen
도 5에 도시된 바와 같이, 질소 가스 공급부(380)의 외측에는 질소 가스 공급부(380)의 내측을 통과하는 질소 가스(305)를 가열시키기 위한 히팅 유닛(360)이 장착되며, 따라서 가열된 상태의 질소 가스(305)가 기판(W) 상으로 분사될 수 있어 기판(W)의 건조 효과를 향상시킬 수 있다.As shown in FIG. 5, a
또한 질소 가스 공급부(380)의 분사구(385)는, 건조 물질 공급부(320)의 공급 나이프(327)와 유사한 형상을 갖는 나이프(knife)로 마련된다. 다시 말해 질소 가스 공급부(380)의 분사구(385)는 슬롯(slot) 형상으로 길게 관통 형성된다. 따라서, 질소 가스 공급부(380)로 유입된 질소 가스(305)는 분사구(385)를 통해 빠른 속도로 분사될 수 있으며, 이에 따라 기판(W)에 잔존하는 이소프로필 알코올을 빨리 제거할 수 있어 기판(W)의 건조 효과를 향상시킬 수 있다.In addition, the
한편, 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, such modifications or variations will have to be belong to the claims of the present invention.
100 : 기판 건조 장치 110 : 건조부
120 : 건조 물질 공급부 121 : 공급본체
123 : 알코올 수용 공간 125 : 이동 라인
127 : 공급 나이프 128 : 질소 가스 유입부
150 : 알코올 공급 장치 160 : 히팅 유닛100
120: dry matter supply unit 121: supply body
123: alcohol storage space 125: moving line
127: supply knife 128: nitrogen gas inlet
150: alcohol supply unit 160: heating unit
Claims (9)
상기 건조부 내에서 상기 기판에 액체 상태의 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol)을 공급하며, 내측에는 상기 이소프로필 알코올이 이동하는 이동 라인을 지그재그(zigzag) 형상으로 형성하는 건조 물질 공급부; 및
상기 건조 물질 공급부 내에 있는 상기 액체 상태의 이소프로필 알코올의 온도를 상승시키거나 유지시키는 히팅 유닛;
을 포함하는 기판 건조 장치.
A drying unit in which a drying operation on the substrate is performed;
A dry material supply unit supplying isopropyl alcohol (IPA) in a liquid state to the substrate in the drying unit, and forming a moving line in which the isopropyl alcohol moves in a zigzag shape; And
A heating unit for raising or maintaining the temperature of the liquid isopropyl alcohol in the dry matter supply portion;
Substrate drying apparatus comprising a.
상기 건조 물질 공급부는,
상기 건조부에 수용된 상기 기판의 반경 방향을 따라 배치되는 공급본체;
상기 공급본체 내에 형성되며 외부의 알코올 공급 장치로부터 공급된 상기 액체 상태의 이소프로필 알코올을 채우는 알코올 수용 공간; 및
상기 기판을 향하는 상기 공급본체의 하단부의 길이 방향을 따라 슬롯(slot) 형상으로 마련되며, 상기 이동 라인에 의해 상기 알코올 수용 공간과 연통되어 상기 액체 상태의 이소프로필 알코올을 상기 기판의 일면으로 분사하는 공급 나이프를 포함하는 기판 건조 장치.
The method of claim 1,
The dry matter supply unit,
A supply body disposed along a radial direction of the substrate accommodated in the drying unit;
An alcohol receiving space formed in the supply body and filling the isopropyl alcohol in the liquid state supplied from an external alcohol supply device; And
It is provided in a slot shape along the longitudinal direction of the lower end of the supply body toward the substrate, and is in communication with the alcohol receiving space by the moving line to inject the isopropyl alcohol in the liquid state to one surface of the substrate Substrate drying apparatus comprising a supply knife.
상기 이동 라인의 일단부는, 상기 알코올 수용 공간에 저장된 상기 액체 상태의 이소프로필 알코올 중 넘치는 이소프로필 알코올이 이동할 수 있도록, 상기 알코올 수용 공간의 상단부와 연통되게 연결되는 기판 건조 장치.
The method of claim 2,
One end of the movement line, the substrate drying apparatus is connected in communication with the upper end of the alcohol containing space to move the overflow isopropyl alcohol in the liquid isopropyl alcohol stored in the alcohol containing space.
상기 히팅 유닛은 상기 공급본체의 길이 방향을 따라 상기 공급본체의 양측부에 장착되는 기판 건조 장치.
The method of claim 2,
The heating unit is mounted on both sides of the supply body along the longitudinal direction of the supply body substrate drying apparatus.
상기 히팅 유닛은 인가되는 전류의 양에 따라 발열 정도를 조절할 수 있는 코일(coil) 타입의 히터인 기판 건조 장치.
The method of claim 4, wherein
And the heating unit is a coil-type heater capable of adjusting the degree of heat generation according to the amount of current applied thereto.
상기 히팅 유닛은 상기 건조 물질 공급부에 의해 공급되는 상기 액체 상태의 이소프로필 알코올을 70℃ 내지 80℃의 온도로 가열하는 기판 건조 장치.
The method of claim 4, wherein
And the heating unit heats the liquid isopropyl alcohol supplied by the dry matter supply unit to a temperature of 70 ° C to 80 ° C.
상기 건조 물질 공급부는,
상기 알코올 수용 공간과 연통되도록 상기 공급본체 내에 마련되며, 외부의 질소 가스 공급 장치로부터 질소 가스(N2) 또는 가열된 상태의 질소 가스(hot N2)가 유입되는 질소 가스 유입부를 더 포함하며,
상기 질소 가스는 상기 알코올 수용 공간, 상기 이동 라인 및 슬롯 형상의 상기 공급 나이프를 이동하여 상기 기판에 분사되는 기판 건조 장치.
The method of claim 2,
The dry matter supply unit,
It is provided in the supply main body so as to communicate with the alcohol receiving space, and further comprises a nitrogen gas inlet for introducing nitrogen gas (N2) or a heated nitrogen gas (hot N2) from the external nitrogen gas supply device,
The nitrogen gas is sprayed on the substrate by moving the supply knife of the alcohol containing space, the moving line and the slot shape.
상기 질소 가스 유입부는,
상기 알코올 수용 공간의 상부에 배치되는 상기 공급본체의 상부벽의 두께 방향을 따라 관통되되 상기 공급본체의 길이 방향을 따라 규칙적으로 관통되는 복수의 유입구를 포함하는 기판 건조 장치.
The method of claim 7, wherein
The nitrogen gas inlet,
And a plurality of inlets penetrating along the thickness direction of the upper wall of the supply body disposed above the alcohol containing space and regularly penetrating along the longitudinal direction of the supply body.
상기 건조 물질 공급부와 별도로 마련되어 질소 가스를 공급하는 질소 가스 공급부를 더 포함하며,
상기 기판으로 상기 질소 가스를 공급하는 상기 질소 가스 공급부의 분사구는 슬롯(slot) 형상으로 길게 마련되는 기판 건조 장치.The method of claim 1,
It further comprises a nitrogen gas supply unit provided separately from the dry matter supply unit for supplying nitrogen gas,
The injection port of the nitrogen gas supply unit for supplying the nitrogen gas to the substrate is provided with a slot (slot) elongate substrate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100010822A KR101122863B1 (en) | 2010-02-05 | 2010-02-05 | Apparatus to Dry Substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110091136A true KR20110091136A (en) | 2011-08-11 |
KR101122863B1 KR101122863B1 (en) | 2012-03-21 |
Family
ID=44928618
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101122863B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107342248A (en) * | 2016-04-29 | 2017-11-10 | 细美事有限公司 | Apparatus and method for handling substrate |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000051760A (en) * | 1998-08-10 | 2000-02-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Fluid feeder |
KR100854930B1 (en) * | 2007-03-09 | 2008-08-29 | 주식회사 케이씨텍 | Drying apparatus and drying method |
JP4891168B2 (en) | 2007-07-12 | 2012-03-07 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Substrate processing equipment |
KR101022783B1 (en) * | 2009-12-11 | 2011-03-17 | 세메스 주식회사 | Method for drying substrates |
-
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- 2010-02-05 KR KR1020100010822A patent/KR101122863B1/en active IP Right Grant
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---|---|
KR101122863B1 (en) | 2012-03-21 |
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