KR20110078081A - Apparatus and method of fabricating thin film pattern - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An apparatus and a method for manufacturing a thin film pattern are provided to improve the productivity and omit a printing liquid collecting and eliminating process by applying printing liquid on the desired part of a rotating roller. CONSTITUTION: A rotating roller(102) is prepared. A nano rod(104) is formed on the rotating roller. A printing liquid supplying part supplies printing liquid on the nano rod. A power supplying part(114) forms electric field between the nano rod and the printing liquid supplying part. A light radiating part selectively radiates light to the printing liquid on the nano rod. A photo-conductive layer is formed on the nano rod and in connection with the power supplying part. A surface processing layer is formed on the photo-conductive layer.

Description

박막 패턴의 제조 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD OF FABRICATING THIN FILM PATTERN}Apparatus and method for manufacturing a thin film pattern {APPARATUS AND METHOD OF FABRICATING THIN FILM PATTERN}

본 발명은 비용을 절감하고 공정을 단순화할 수 있는 박막 패턴의 제조 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method for manufacturing a thin film pattern that can reduce costs and simplify the process.

최근 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시 장치들이 대두되고 있다. 평판 표시 장치로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display), 플라즈마 표시 패널(Plasma Display Panel) 및 일렉트로-루미네센스(Electro-Luminescence : EL) 표시 장치 등이 있다.Recently, various flat panel display devices that can reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes, have emerged. The flat panel display includes a liquid crystal display, a field emission display, a plasma display panel, and an electro-luminescence display. .

이러한 평판 표시 장치는 증착(코팅) 공정, 노광 공정, 현상 공정 및 식각 공정 등을 포함하는 마스크 공정에 의해 형성되는 다수의 박막으로 이루어진다. 그러나, 마스크 공정은 제조 공정이 복잡하여 제조 단가를 상승시키는 문제점이 있다. 이에 따라, 최근에는 인쇄 롤러를 이용한 인쇄 공정을 통해 박막을 형성할 수 있는 연구가 진행되고 있다.The flat panel display includes a plurality of thin films formed by a mask process including a deposition (coating) process, an exposure process, a developing process, and an etching process. However, the mask process has a problem in that the manufacturing process is complicated and the manufacturing cost is increased. Accordingly, in recent years, research has been conducted to form a thin film through a printing process using a printing roller.

이러한 인쇄 공정은 인쇄 롤러의 블랭킷에 인쇄액을 코팅한 후, 인쇄판을 이 용하여 인쇄 롤러에 인쇄 패턴을 형성한 다음, 그 인쇄 패턴을 기판 상에 전사함으로써 원하는 박막을 형성하는 공정이다. This printing process is a process of forming a desired thin film by coating a printing liquid on the blanket of a printing roller, forming a printing pattern on a printing roller using a printing plate, and then transferring the printing pattern onto a substrate.

종래 인쇄 공정시 이용되는 인쇄판을 제작하기 위해서는 포토 마스크가 필요하므로 비용이 상승하고 공정이 복잡한 문제점이 있다. 또한, 경비를 절감하기 위해 인쇄판을 유리로 이용하는 경우, 선폭이 다른 인쇄판을 제작하기 위해서는 다수개의 포토 마스크가 필요하므로 비용이 상승하고 공정이 복잡한 문제점이 있다. 뿐만 아니라, 인쇄판에 인쇄액이 도포된 후 원하는 패턴만 인쇄 롤러의 블랭킷에 남겨야 하므로 불필요한 부분은 제거해야만 한다. 이에 따라, 불필요한 부분을 제거 및 회수를 위한 추가 공정 및 장비가 필요하므로 비용이 상승하고 공정이 복잡한 문제점이 있다.In order to manufacture a printing plate used in a conventional printing process, a photo mask is required, and thus, the cost increases and the process is complicated. In addition, when using a printing plate as a glass to reduce the cost, in order to produce a printing plate having a different line width, a plurality of photo masks are required, which increases the cost and the complicated process. In addition, after the printing liquid is applied to the printing plate, only the desired pattern should be left in the blanket of the printing roller, and thus unnecessary portions should be removed. Accordingly, there is a need for additional processes and equipment for removing and recovering unnecessary parts, thereby increasing costs and complicated processes.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 비용을 절감하고 공정을 단순화할 수 있는 박막 패턴의 제조 장치 및 방법을 제공하는 것이다.In order to solve the above problems, the present invention is to provide an apparatus and method for manufacturing a thin film pattern that can reduce the cost and simplify the process.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 박막 패턴의 제조 장치는 회전 롤러와; 상기 회전 롤러 상에 형성되는 나노 로드와; 상기 나노 로드 상에 인쇄액을 공급하는 인쇄액 공급부와; 상기 나노 로드와 상기 인쇄액 공급부 사이에 전계를 형성하는 전원부와; 상기 나노 로드 상에 공급된 인쇄액에 선택적으로 광을 조사하는 광조사부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above technical problem, the apparatus for manufacturing a thin film pattern according to the present invention comprises a rotating roller; A nano rod formed on the rotating roller; A printing liquid supply unit supplying a printing liquid on the nanorods; A power supply unit forming an electric field between the nanorods and the printing liquid supply unit; And a light irradiation part for selectively irradiating light to the printing liquid supplied on the nanorods.

상기 광조사부는 광을 생성하는 광원과; 상기 광원에서 생성된 입력광을 이용하여 입력된 패턴 정보에 대응하는 패턴광을 생성하는 디엠디와; 개구부를 가지며, 상기 디엠디에서 생성된 광이 상기 개구부를 통해 상기 나노 로드 상에 형성된 인쇄액에 공급하는 반사체를 구비하는 것을 특징으로 한다.The light irradiation unit and a light source for generating light; A DMD for generating pattern light corresponding to the input pattern information by using the input light generated by the light source; It has an opening, characterized in that it comprises a reflector for supplying the light generated in the DMMD to the printing liquid formed on the nanorod through the opening.

상기 광원, 디엠디 및 반사체 중 적어도 어느 하나는 상기 회전 롤러 내에 위치하는 것을 특징으로 한다.At least one of the light source, the DMD, and the reflector is located in the rotating roller.

상기 박막 패턴의 제조 장치는 상기 나노 로드 상에 형성되며 상기 전원부에 접속되는 광전도층과; 상기 광전도층 상에 형성되며 발수성을 가지는 표면처리층을 추가로 구비하는 것을 특징으로 한다.An apparatus for manufacturing the thin film pattern includes: a photoconductive layer formed on the nanorod and connected to the power supply unit; It is characterized in that it further comprises a surface treatment layer formed on the photoconductive layer and having a water repellency.

상기 나노 로드는 ZnO계열 재질로 형성되며, 상기 광전도층은 티탄닐프탈로시아닌(titanyl phthalocyanine; TiOPc)으로 형성되며, 상기 표면 처리층은 heptadecafluorodecyl-trimethoxysilane(FAS)로 형성되는 것을 특징으로 한다.The nanorods are formed of ZnO-based material, the photoconductive layer is formed of titanyl phthalocyanine (TiOPc), and the surface treatment layer is formed of heptadecafluorodecyl-trimethoxysilane (FAS).

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 박막 패턴의 제조 방법은 회전 롤러, 상기 회전 롤러 상에 형성되는 나노 로드, 상기 나노 로드 상에 인쇄액을 공급하는 인쇄액 공급부, 상기 나노 로드와 상기 인쇄액 공급부 사이에 전계를 형성하는 전원부, 상기 나노 로드 상에 공급된 인쇄액에 선택적으로 광을 조사하는 광조사부를 포함하는 박막 패턴의 제조 장치를 기판 상에 정렬하는 단계와; 상기 인쇄액에 상기 광과 상기 전계를 선택적으로 공급하여 상기 회전 롤러 상에 인쇄 패턴을 형성하는 단계와; 상기 기판 상에 상기 회전 롤러를 회전시킴으로써 상기 기판 상에 상기 인쇄 패턴을 전사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한 다.In order to achieve the above technical problem, a method of manufacturing a thin film pattern according to the present invention is a rotating roller, a nano rod formed on the rotating roller, a printing liquid supply unit for supplying a printing liquid on the nano rod, the nano rod and the Aligning a thin film pattern manufacturing apparatus on a substrate, the power supply unit forming an electric field between the printing liquid supply units and a light irradiation unit selectively irradiating light onto the printing liquid supplied on the nanorods; Selectively supplying the light and the electric field to the printing liquid to form a printing pattern on the rotating roller; And transferring the print pattern onto the substrate by rotating the rotary roller on the substrate.

상기 박막 패턴의 제조 장치를 상기 기판 상에 정렬하는 단계는 광을 생성하는 광원과, 상기 광원에서 생성된 입력광을 이용하여 입력된 패턴 정보에 대응하는 패턴광을 생성하는 디엠디와, 개구부를 가지며, 상기 디엠디에서 생성된 광이 상기 개구부를 통해 상기 나노 로드 상에 형성된 인쇄액에 공급하는 반사체를 포함하는 상기 광조사부를 상기 기판 상에 정렬하는 단계인 것을 특징으로 한다. Arranging the thin film pattern manufacturing apparatus on the substrate may include a light source for generating light, a DMM for generating pattern light corresponding to the input pattern information using the input light generated by the light source, and an opening. And aligning the light irradiation part on the substrate, wherein the light irradiation part includes a reflector for supplying light generated in the DMDM to the printing liquid formed on the nanorod through the opening.

본 발명에 따른 박막 패턴 제조 장치 및 방법은 패턴이 형성될 부분에만 광 및 전계를 공급해 나노 로드 사이에 인쇄액이 웨팅되도록 한 후 이를 기판 상에 전사함으로써 마스크없이 인쇄 패턴을 기판 상에 형성할 수 있다. 이에 따라, 본 발며에 따른 박막 패턴의 제조 장치 및 방법은 패턴 형성을 위한 마스크 제작 등이 불필요하므로 비용을 절감할 수 있으며 마스크 공정이 불필요하므로 공정이 단순화된다. 또한, 본 발명에 따른 박막 패턴 제조 장치 및 방법은 회전 롤러 상에 필요한 부분에만 인쇄액을 형성함으로써 인쇄액 회수 및 제거 공정이 불필요하므로 공정이 단순화되므로 생산성이 향상된다.The apparatus and method for manufacturing a thin film pattern according to the present invention may supply a light and an electric field only to a portion where a pattern is to be formed so that the printing liquid is wetted between the nanorods, and then transfer it onto the substrate to form a printed pattern without a mask on the substrate. have. Accordingly, the apparatus and method for manufacturing a thin film pattern according to the present invention can reduce the cost because it is not necessary to manufacture a mask for forming a pattern, and the process is simplified because no mask process is required. In addition, the apparatus and method for manufacturing a thin film pattern according to the present invention forms a printing liquid only on a portion necessary on a rotating roller, so that the printing liquid collection and removal process is unnecessary, thereby simplifying the process, thereby improving productivity.

이하, 첨부된 도면 및 실시 예를 통해 본 발명의 실시 예를 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings and embodiments.

도 1은 본 발명에 따른 박막 패턴의 제조 장치를 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing an apparatus for manufacturing a thin film pattern according to the present invention.

도 1에 도시된 박막 패턴의 제조 장치는 디지털 마이크로미러 디바이 스(Digital Micromirror Device : 이하 "DMD"라 함)(108)와, 반사체(106)와, 광원(110)을 포함하는 광조사부와; 회전 롤러(102)와; 나노 로드(104)와; 전원부(114)를 포함한다.The apparatus for manufacturing a thin film pattern illustrated in FIG. 1 includes a light irradiation unit including a digital micromirror device (hereinafter, referred to as a “DMD”) 108, a reflector 106, and a light source 110; A rotating roller 102; Nanorods 104; And a power supply 114.

광원(110)은 인쇄 노즐(112)을 통해 공급되는 인쇄액(116)을 패터닝시 이용되는 광을 생성한다. 이러한 광원(110)으로는 레이저 다이오드 등이 이용된다.The light source 110 generates light used for patterning the printing liquid 116 supplied through the printing nozzle 112. A laser diode or the like is used as the light source 110.

DMD(108)는 광원(110)으로부터 생성된 광을 인쇄액(116)에 선택적으로 조사한다. 구체적으로, DMD(108)는 다수개의 단위 미러가 각도 조절 가능하게 배열되어 구성되며, 각각의 단위 미러의 각도를 달리하여 광을 반사시킨다. 이러한 DMD(108)는 제어부(도시하지 않음)로부터 공급된 패턴 정보와 대응되게 각각의 단위 미러를 통해 광원(110)으로부터 공급된 광을 선택적으로 반사하여 패턴광을 생성한다. 그 패턴광이 나노 로드(104)에 공급됨으로써 기판(101) 상에 형성될 인쇄액(116)에 선택적으로 조사된다. The DMD 108 selectively irradiates the printing liquid 116 with the light generated from the light source 110. In detail, the DMD 108 is configured by arranging a plurality of unit mirrors in an adjustable angle, and reflects light by varying angles of the unit mirrors. The DMD 108 generates pattern light by selectively reflecting light supplied from the light source 110 through each unit mirror so as to correspond to pattern information supplied from a controller (not shown). The patterned light is selectively supplied to the printing liquid 116 to be formed on the substrate 101 by being supplied to the nanorods 104.

반사체(106)는 DMD(108)로부터 생성된 광이 전 영역으로 출사되는 것을 방지하기 위해 일부 영역이 개구된 형태로 형성된다. The reflector 106 is formed in a shape in which some regions are opened to prevent light generated from the DMD 108 from being emitted to all regions.

회전 롤러(102)에는 인쇄 노즐(112)을 통해 분사되는 인쇄액(116)이 도포된다. 이러한 회전 롤러(102) 내에는 반사체(106), 광원(110) 및 DMD(108)가 위치하게 된다. 이 때, 반사체(106), 광원(110) 및 DMD(108)는 회전 롤러(102)의 회전시 회전 롤러(102)를 따라 회전하지 않고 해당 위치에서 고정된 상태를 유지한다.The printing liquid 116 sprayed through the printing nozzle 112 is applied to the rotating roller 102. In the rotating roller 102, the reflector 106, the light source 110 and the DMD 108 are located. At this time, the reflector 106, the light source 110, and the DMD 108 do not rotate along the rotation roller 102 when the rotation roller 102 rotates and remain fixed at the corresponding position.

이 회전 롤러(102)는 DMD(108)으로부터 공급된 패턴광이 인쇄 노즐(112)에서 분사된 인쇄액(116)에 조사될 수 있도록 패턴광을 투과시키는 투명 재질, 예를 들 어 아크릴 재질로 형성된다.The rotating roller 102 is made of a transparent material, such as acrylic material, which transmits the pattern light so that the pattern light supplied from the DMD 108 can be irradiated to the printing liquid 116 ejected from the printing nozzle 112. Is formed.

나노 로드(104)는 회전 롤러(102) 상에 ZnO계열로 형성된다. 예를 들어, 나노 로드(104)는 징크 나이트레이트 하이드레이트(zinc nitrate hydrate)와 메테나민(methenamine)의 혼합 용액 속에서 100~200nm두께의 결정 시드(seed)로부터 액상으로 성장함으로써 형성된다. The nanorods 104 are formed of ZnO series on the rotary roller 102. For example, the nanorod 104 is formed by growing in a liquid phase from a crystal seed having a thickness of 100 nm to 200 nm in a mixed solution of zinc nitrate hydrate and methyleneamine.

이러한 나노 로드(104) 상에는 도 2에 도시된 바와 같이 광전도층(122)과, 표면처리층(124)이 순차적으로 적층된다. 광전도층(122)은 나노 로드(104) 상에 광전도성을 가지는 티탄닐프탈로시아닌(titanyl phthalocyanine; TiOPc)이 코팅됨으로써 형성되며, 표면 처리층(124)은 광전도층(122) 상에 인쇄액에 대해 소수성을 가지는 heptadecafluorodecyl-trimethoxysilane(FAS)이 코팅됨으로써 표면 처리층(124)은 발수성을 가지게 된다.As shown in FIG. 2, the photoconductive layer 122 and the surface treatment layer 124 are sequentially stacked on the nanorod 104. The photoconductive layer 122 is formed by coating photoconductive titanyl phthalocyanine (TiOPc) on the nanorod 104, and the surface treatment layer 124 is printed on the photoconductive layer 122. The hydrophobic heptadecafluorodecyl-trimethoxysilane (FAS) is coated with the surface treatment layer 124 is water-repellent.

이러한 나노 로드(104)와 인쇄액(116) 사이에 전압이 인가되고 광이 조사되면, 광이 조사된 인쇄액(116)은 도 3a에 도시된 바와 같이 접촉각(θ)이 낮아져 나노 로드(104) 상에 형성된 표면 처리층(124)과 인력이 발생된다. 이에 따라, 인쇄액은 나노 로드들(104) 사이와 나노 로드들(104) 상으로 이동하게 된다. 이 경우, 나노 로드들(104) 사이와 나노 로드들(104) 상으로 이동한 인쇄액(116)은 회전 롤러(102) 상에 남아 인쇄 패턴으로 형성된다. 또한, 나노 로드(104)와 인쇄액(116) 사이에 전압 및 광 중 적어도 어느 하나가 공급되지 않으면, 인쇄액(116)은 도 3b에 도시된 바와 같이 접촉각(θ)이 높아져 나노 로드(104) 상에 형성된 표면 처리층(124)과 척력이 발생된다. 이와 같이, 전압 및 광이 공급되는 인쇄액(116)이 회 전 롤러(102) 상에 선택적으로 형성됨으로써 회전 롤러(102) 상에 인쇄 패턴(120)이 형성되며, 그 인쇄 패턴(120)은 회전 롤러(102)가 기판(101) 상에서 회전시 기판(101) 상에 전사된다.When a voltage is applied between the nanorods 104 and the printing liquid 116 and light is irradiated, the irradiated printing liquid 116 has a low contact angle θ as shown in FIG. The surface treatment layer 124 formed on the surface and the attraction force is generated. Accordingly, the printing liquid moves between the nanorods 104 and onto the nanorods 104. In this case, the printing liquid 116 moved between the nanorods 104 and onto the nanorods 104 remains on the rotating roller 102 to be formed in a printing pattern. In addition, when at least one of voltage and light is not supplied between the nanorod 104 and the printing liquid 116, the printing liquid 116 may have a high contact angle θ as shown in FIG. 3B, thereby increasing the nanorod 104. The surface treatment layer 124 and the repulsive force are formed. As such, the printing liquid 116 to which the voltage and the light are supplied is selectively formed on the rotating roller 102 so that the printing pattern 120 is formed on the rotating roller 102, and the printing pattern 120 is The rotating roller 102 is transferred onto the substrate 101 as it rotates on the substrate 101.

전원부(114)는 나노 로드(104) 상에 형성된 광전도층(122)과 인쇄 노즐(112) 사이에 전계를 형성한다.The power supply unit 114 forms an electric field between the photoconductive layer 122 formed on the nanorod 104 and the printing nozzle 112.

한편, 도 1에 도시된 박막 패턴의 제조 장치의 반사체(106), 광원(110) 및 DMD(108)가 회전 롤러(102) 내에 위치하는 것을 예로 들어 설명하였지만 이외에도 도 4에 도시된 바와 같이 반사체(106), 광원(110) 및 DMD(108)가 회전 롤러(102) 외부에 위치할 수도 있다. 이 경우, 회전 롤러(102)는 아크릴 수지와 같은 투명 재질로 형성하지 않아도 무방한다. On the other hand, the reflector 106, the light source 110 and the DMD 108 of the apparatus for manufacturing a thin film pattern shown in FIG. 1 has been described as an example, but the reflector as shown in FIG. 106, light source 110, and DMD 108 may be located outside the rotating roller 102. In this case, the rotary roller 102 may not be formed of a transparent material such as acrylic resin.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 따른 박막 패턴 제조 장치를 이용한 박막 패터닝 방법을 설명하기 위한 도면들이다.5A to 5C are views for explaining a thin film patterning method using a thin film pattern manufacturing apparatus according to the present invention.

도 5a에 도시된 바와 같이 기판 상에 회전 롤러(102)와, 회전 롤러(102) 상에 형성되는 나노 로드(104)와, 나노 로드(104) 상에 인쇄액(116)을 공급하는 인쇄 노즐(112)과, 나노 로드(104)와 인쇄 노즐(112) 사이에 전계를 형성하는 전원부(114), 나노 로드(104) 상에 공급된 인쇄액에 선택적으로 광을 조사하는 광조사부를 포함하는 박막 패턴의 제조 장치가 정렬된다.As shown in FIG. 5A, a printing nozzle for supplying a rotating roller 102, a nanorod 104 formed on the rotating roller 102, and a printing liquid 116 on the nanorod 104. (112), a power supply unit 114 for forming an electric field between the nanorod 104 and the printing nozzle 112, and a light irradiation unit for selectively irradiating light to the printing liquid supplied on the nanorod 104 The manufacturing apparatus of a thin film pattern is aligned.

그런 다음, 도 5b에 도시된 바와 같이 인쇄액(116)에 광과 전계를 선택적으로 공급하여 회전 롤러(102) 상에 인쇄 패턴(120)을 형성한다. 이 때, 광과 전계 중 적어도 어느 하나가 공급되지 않은 인쇄액(116)은 나노 로드(104) 상에 형성된 표면 처리층(124)과 척력을 가지게 되며, 광과 전계가 공급된 인쇄액(116)은 나노 로드(104) 상에 형성된 표면 처리층(124)과 인력을 가지게 되므로 광과 전계가 공급된 인쇄액(116)은 회전 롤러(102) 상에서 인쇄 패턴(120)으로 형성된다.Then, as illustrated in FIG. 5B, light and an electric field are selectively supplied to the printing liquid 116 to form the printing pattern 120 on the rotating roller 102. At this time, the printing liquid 116 to which at least one of the light and the electric field are not supplied has a repulsive force with the surface treatment layer 124 formed on the nanorod 104, and the printing liquid 116 to which the light and the electric field is supplied. ) Has an attractive force with the surface treatment layer 124 formed on the nanorod 104, the printing liquid 116 supplied with the light and the electric field is formed in the printing pattern 120 on the rotating roller (102).

그런 다음, 도 5c에 도시된 바와 같이 인쇄 패턴(120)이 형성된 회전 롤러(102)는 기판(101) 상에서 회전하게 된다. 이에 따라, 기판(101) 상에는 인쇄 패턴(120)이 전사된 후 건조 및 경화되어 박막 패턴이 형성된다. Then, as shown in FIG. 5C, the rotating roller 102 on which the printing pattern 120 is formed is rotated on the substrate 101. Accordingly, the print pattern 120 is transferred onto the substrate 101, and then dried and cured to form a thin film pattern.

한편, 본 발명에 따른 인쇄 장치로는 액정 표시 패널 뿐만 아니라 플라즈마 디스플레이 패널, 전계 발광 표시 패널 및 전계 방출 소자 등의 평판 표시 소자의 박막 또는 후막을 형성할 수 있다. Meanwhile, the printing apparatus according to the present invention may form not only a liquid crystal display panel but also a thin film or a thick film of a flat panel display device such as a plasma display panel, an electroluminescent display panel, and a field emission device.

구체적으로, 도 6에 도시된 본 발명에 따른 액정 표시 패널은 액정층(160)을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 박막 트랜지스터 기판(150) 및 칼라 필터 기판(140)을 구비한다.Specifically, the liquid crystal display panel according to the present invention illustrated in FIG. 6 includes a thin film transistor substrate 150 and a color filter substrate 140 that are bonded to each other with the liquid crystal layer 160 therebetween.

칼라 필터 기판(140)은 상부기판(142) 상에 순차적으로 형성된 블랙매트릭스(144), 칼라필터(146), 공통 전극(148), 컬럼 스페이서(도시하지 않음)를 구비한다. The color filter substrate 140 includes a black matrix 144, a color filter 146, a common electrode 148, and a column spacer (not shown) sequentially formed on the upper substrate 142.

박막 트랜지스터 기판(150)은 하부 기판(152) 위에 서로 교차하게 형성된 게이트 라인(156) 및 데이터 라인(154)과, 그 교차부에 인접한 박막 트랜지스터(158)와, 그 교차 구조로 마련된 화소 영역에 형성된 화소 전극(170)을 구비한다. The thin film transistor substrate 150 may include a gate line 156 and a data line 154 formed on the lower substrate 152 to cross each other, a thin film transistor 158 adjacent to the intersection portion, and a pixel region having the cross structure. The formed pixel electrode 170 is provided.

이러한 액정 표시 패널의 컬러필터(146), 블랙 매트릭스(144) 및 컬럼 스페이서와, 유기 전계 발광 소자의 발광층을 포함하는 유기박막층 등과 같은 유기물질 로 형성되는 박막 패턴과, 액정 표시 패널의 박막트랜지스터(158), 게이트 라인(156), 데이터 라인(154) 및 화소 전극(170) 등과 같은 무기물질로 형성되는 박막을 패터닝하기 위한 마스크로 이용되는 유기 패턴은 본원 발명에 따른 인쇄 공정을 통해 형성될 수 있다.A thin film pattern formed of an organic material such as a color filter 146, a black matrix 144 and a column spacer of the liquid crystal display panel, an organic thin film layer including a light emitting layer of an organic light emitting diode, and a thin film transistor of a liquid crystal display panel ( 158, an organic pattern used as a mask for patterning a thin film formed of an inorganic material such as the gate line 156, the data line 154, and the pixel electrode 170 may be formed through a printing process according to the present invention. have.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Will be clear to those who have knowledge of.

도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 박막 패턴의 제조 장치를 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing an apparatus for manufacturing a thin film pattern according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 나노 로드 상에 형성되는 광전도층과 표면 처리층을 설명하기 위한 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a photoconductive layer and a surface treatment layer formed on the nanorods illustrated in FIG. 1.

도 3a 및 도 3b는 도 2에 도시된 인쇄액에 광 및 전계 공급 유무에 따른 인쇄 패턴의 형성 방법을 설명하기 위한 단면도이다.3A and 3B are cross-sectional views for describing a method of forming a print pattern according to whether light and an electric field are supplied to the printing liquid shown in FIG. 2.

도 4는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 박막 패턴의 제조 장치를 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating an apparatus for manufacturing a thin film pattern according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 5a 내지 도 5c는 도 1에 도시된 박막 패턴의 제조 장치를 이용하여 기판 상에 형성되는 박막 패턴의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.5A to 5C are views for explaining a method for manufacturing a thin film pattern formed on a substrate using the apparatus for manufacturing a thin film pattern shown in FIG. 1.

도 6은 도 5a 내지 도 5c의 제조 방법에 의해 형성된 박막 패턴을 가지는 액정 표시 패널을 나타내는 사시도이다.6 is a perspective view illustrating a liquid crystal display panel having a thin film pattern formed by the manufacturing method of FIGS. 5A to 5C.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

102 : 회전 롤러 104 : 나노 로드102: rotating roller 104: nano rod

106 : 반사체 108 : DMD 106: reflector 108: DMD

110 : 광원 112 : 인쇄 노즐110: light source 112: printing nozzle

114 : 전원부114: power supply

Claims (10)

회전 롤러와;A rotary roller; 상기 회전 롤러 상에 형성되는 나노 로드와;A nano rod formed on the rotating roller; 상기 나노 로드 상에 인쇄액을 공급하는 인쇄액 공급부와;A printing liquid supply unit supplying a printing liquid on the nanorods; 상기 나노 로드와 상기 인쇄액 공급부 사이에 전계를 형성하는 전원부와;A power supply unit forming an electric field between the nanorods and the printing liquid supply unit; 상기 나노 로드 상에 공급된 인쇄액에 선택적으로 광을 조사하는 광조사부를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴의 제조 장치.And a light irradiation part for selectively irradiating light to the printing liquid supplied on the nanorods. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광조사부는The light irradiation unit 광을 생성하는 광원과;A light source for generating light; 상기 광원에서 생성된 입력광을 이용하여 입력된 패턴 정보에 대응하는 패턴광을 생성하는 디엠디와;A DMD for generating pattern light corresponding to the input pattern information by using the input light generated by the light source; 개구부를 가지며, 상기 디엠디에서 생성된 광이 상기 개구부를 통해 상기 나노 로드 상에 형성된 인쇄액에 공급하는 반사체를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴의 제조 장치.And an reflector having an opening and supplying light generated by the DMDM to the printing liquid formed on the nanorod through the opening. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 광원, 디엠디 및 반사체 중 적어도 어느 하나는 상기 회전 롤러 내에 위치하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴의 제조 장치.At least one of the light source, the DMD, and the reflector is located in the rotating roller. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 나노 로드 상에 형성되며 상기 전원부에 접속되는 광전도층과;A photoconductive layer formed on the nanorod and connected to the power supply unit; 상기 광전도층 상에 형성되며 발수성을 가지는 표면처리층을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴의 제조 장치.And a surface treatment layer formed on the photoconductive layer and having water repellency. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 나노 로드는 ZnO계열 재질로 형성되며, 상기 광전도층은 티탄닐프탈로시아닌(titanyl phthalocyanine; TiOPc)으로 형성되며, 상기 표면 처리층은 heptadecafluorodecyl-trimethoxysilane(FAS)로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 패턴의 제조 장치.The nanorods are formed of a ZnO-based material, the photoconductive layer is formed of titanium phthalocyanine (TiOPc), and the surface treatment layer is formed of heptadecafluorodecyl-trimethoxysilane (FAS). Manufacturing device. 회전 롤러, 상기 회전 롤러 상에 형성되는 나노 로드, 상기 나노 로드 상에 인쇄액을 공급하는 인쇄액 공급부, 상기 나노 로드와 상기 인쇄액 공급부 사이에 전계를 형성하는 전원부, 상기 나노 로드 상에 공급된 인쇄액에 선택적으로 광을 조사하는 광조사부를 포함하는 박막 패턴의 제조 장치를 기판 상에 정렬하는 단계와;A rotating roller, a nanorod formed on the rotating roller, a printing liquid supply unit for supplying a printing liquid onto the nanorod, a power supply unit forming an electric field between the nanorod and the printing liquid supply unit, and supplied on the nanorod Aligning a thin film pattern manufacturing apparatus including a light irradiation part selectively irradiating light onto a printing liquid on a substrate; 상기 인쇄액에 상기 광과 상기 전계를 선택적으로 공급하여 상기 회전 롤러 상에 인쇄 패턴을 형성하는 단계와;Selectively supplying the light and the electric field to the printing liquid to form a printing pattern on the rotating roller; 상기 기판 상에 상기 회전 롤러를 회전시킴으로써 상기 기판 상에 상기 인쇄 패턴을 전사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴의 제조 방법.Transferring the print pattern onto the substrate by rotating the rotary roller on the substrate. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 박막 패턴의 제조 장치를 상기 기판 상에 정렬하는 단계는Arranging the manufacturing apparatus of the thin film pattern on the substrate 광을 생성하는 광원과, 상기 광원에서 생성된 입력광을 이용하여 입력된 패턴 정보에 대응하는 패턴광을 생성하는 디엠디와, 개구부를 가지며, 상기 디엠디에서 생성된 광이 상기 개구부를 통해 상기 나노 로드 상에 형성된 인쇄액에 공급하는 반사체를 포함하는 상기 광조사부를 상기 기판 상에 정렬하는 단계인 것을 특징으로 하는 박막 패턴의 제조 방법.A light source for generating light, a DMD for generating pattern light corresponding to the pattern information input by using the input light generated by the light source, and an opening, and the light generated in the DMD is disposed through the opening. And arranging the light irradiation part on the substrate including a reflector for supplying a printing liquid formed on a nanorod. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 광원, 디엠디 및 반사체 중 적어도 어느 하나는 상기 회전 롤러 내에 위치하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴의 제조 방법.At least one of the light source, the DMD and the reflector is located in the rotating roller. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 박막 패턴의 제조 장치를 상기 기판 상에 정렬하는 단계는Arranging the manufacturing apparatus of the thin film pattern on the substrate 상기 나노 로드 상에 형성되며 상기 전원부에 접속되는 광전도층과, 상기 광전도층 상에 형성되며 발수성을 가지는 표면처리층을 상기 나노 로드 상에 순차적으로 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패턴의 제조 방 법.And sequentially forming a photoconductive layer formed on the nanorods and connected to the power supply unit, and a surface treatment layer formed on the photoconductive layer and having a water repellency on the nanorods sequentially. Method of manufacturing a thin film pattern. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 나노 로드는 ZnO계열 재질로 형성되며, 상기 광전도층은 티탄닐프탈로시아닌(titanyl phthalocyanine; TiOPc)으로 형성되며, 상기 표면 처리층은 heptadecafluorodecyl-trimethoxysilane(FAS)로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 패턴의 제조 방법.The nanorods are formed of a ZnO-based material, the photoconductive layer is formed of titanium phthalocyanine (TiOPc), and the surface treatment layer is formed of heptadecafluorodecyl-trimethoxysilane (FAS). Manufacturing method.
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