KR20110077841A - Ｃｄ-ｓｅｍ 장비의 레시피 생성 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 CD-SEM 장비의 레시피 생성 기술에 관한 것으로, CD-SEM 장비의 CD 측정 레시피 작성을 웨이퍼 기반으로 하는 것이 아닌, 측정하고자 하는 패턴에 대한 도면 정보를 기반으로 CD 측정 레시피 응용프로그램에서의 작업을 통해 CD 측정 레시피를 생성하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 측정하고자 하는 패턴에 대한 도면 정보를 기반으로 측정하고자 하는 웨이퍼가 없는 경우에도 레시피를 작성 할 수 있으며, 이를 통해 측정하고자 하는 위치에 대한 정확한 측정이 가능하며 실제 라인이 아닌 곳에서도 컴퓨팅 장치를 통하여 CD 측정 레시피의 작성을 가능하게 할 수 있다.

반도체,　포토리소그래피, CD-SEM(Critical Dimension Scanning Electron Microscope)

Description

ＣＤ-ＳＥＭ 장비의 레시피 생성 방법{METHOD FOR GENERATING RECIPE OF Critical Dimension - Scanning Electron Microscope}

본 발명은 반도체 소자의 포토리소그래피 공정에 관한 것으로서, 특히 오버레이 장비를 통해 층간 정렬도를 측정한 후, 오버레이 장비CD-SEM 장비에서 패턴의 임계치수를 측정할 때 측정하게 될 위치와 방식을 설정하는 CD측정 레시피를 웨이퍼의 로딩 없이 자동으로 생성하는데 적합한 CD-SEM 장비의 레시피 생성 방법에 관한 것이다.

반도체 제조 공정이 점차 고집적화 미세 패턴을 구현하며, 이에 따른 대량 제품 생산에 있어서 포토리소그래피 공정은 많은 어려움에 직면하고 있다. 일반적으로 포토리소그래피 공정에서 노광 및 현상으로 패턴을 형성한 후에 오버레이 장비를 통해서 층간의 정렬도를 측정하며 CD-SEM(Critical Dimension Scanning Electron Microscope) 장비로 패턴의 임계치수를 측정하게 된다.

반도체 양산 라인에서는 패턴의 임계치수를 측정할 때 측정하게 될 위치와 방법에 대해서 작업자가 미리 레시피(recipe)를 만들게 되는데 측정할 CD가 있는 웨이퍼를 CD-SEM 장비에 로딩하여 레시피를 작성하게 된다.

상기한 바와 같이 동작하는 종래 기술에 의한 CD-SEM 장비의 레시피 작성 방식에 있어서는, 해당 패턴의 CD를 측정하기 위한 웨이퍼(스탠다드 웨이퍼 또는 참조 웨이퍼)가 필요하며, 측정 정보를 확인하며 작업을 수행해야 한다. 이는 측정 정보를 작업자가 잘못 인식할 경우, 사고의 위험성이 항상 존재하여 때로는 또 다른 작업자가 작성된 측정 레시피를 확인하는 절차를 추가하기도 하였다.

이와 같이 CD-SEM측정 레시피를 생성하기 위해서는 현장에서 웨이퍼를 로딩하여 웨이퍼 기반으로 작성을 수행하였다. 이처럼 CD-SEM 측정 레시피는 한번 셋업을 잘못하게 될 경우, 반도체 양산 라인에서는 대형 사고를 유발할 수도 있다는 문제점이 있었다.

이에 본 발명은, CD-SEM 장비의 CD 측정 레시피 작성을 웨이퍼 기반으로 하는 것이 아니라 측정하고자 하는 패턴에 대한 도면(Drawing) 정보를 기반으로 수행할 수 있는 CD-SEM 장비의 레시피 생성 방법을 제공한다.

또한 본 발명은, CD-SEM 장비의 CD 측정 레시피 생성을 CD 패턴에 대한 도면 정보를 이용하여 CD 측정 레시피 응용프로그램에서 작업을 수행함으로써, 웨이퍼의 로딩/언로딩으로 소용되는 장비 구동 시간이 필요없는 CD-SEM 장비의 레시피 생성 방법을 제공한다.

본 발명의 일 실시예 방법은, 컴퓨팅 장치에서 복수의 도면 정보를 포함하는 도면 서버로부터 요청한 도면 정보를 수신하는 단계와, 상기 수신된 도면 정보로부터 CD 측정 레시피를 생성하는 단계와, 상기 생성된 CD 측정 레시피를 CD-SEM 장비에 적용하는 단계를 포함한다.

본 발명에 있어서, 개시되는 발명 중 대표적인 것에 의하여 얻어지는 효과를 간단히 설명하면 다음과 같다.

본 발명은, 측정하고자 하는 패턴에 대한 도면 정보를 기반으로 측정하고자 하는 웨이퍼가 없는 경우에도 레시피를 작성할 수 있으며, 이를 통해 측정하고자 하는 위치에 대한 정확한 측정이 가능하며 실제 라인이 아닌 곳에서도 컴퓨팅 장치를 통하여 CD 측정 레시피의 작성이 가능하다.

또한 측정 CD 패턴에 대한 도면 정보를 컴퓨팅 장치의 CD 측정 레시피 응용프로그램으로 작업을 수행하기 때문에 기존 CD-SEM 장비에서 웨이퍼를 로딩/언로딩하면서 소요되던 여러 가지 장비의 구동 시간이 발생하지 않으므로, 레시피 작성 시간도 크게 단축 시킬 수 있는 효과가 있다.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 동작 원리를 상세히 설명한다. 하기에서 본 발명을 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.

본 발명은 CD-SEM 장비의 CD 측정 레시피 작성을 웨이퍼 기반으로 하는 것이 아니라 측정하고자 하는 패턴에 대한 도면(예컨대, 캐드(CAD), 마스크(MASK) 정보 등) 정보를 기반으로 CD 측정 레시피 응용프로그램에서 작업함으로써, 레시피 작성을 통해 기존에 웨이퍼의 로딩/언로딩으로 소요되는 장비 구동 시간을 제거하는 것이다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 레시피 생성 시스템을 도시한 블록도이다.

도 1을 참조하면, 레시피 생성 시스템은 도면 DB 서버(100), 컴퓨팅 장치(102) 및 CD-SEM(104) 등을 포함한다.

도면 DB 서버(100)는 패턴에 대한 도면 정보로서, 캐드 정보 및 마스크 정보를 저장하고 있는 데이터베이스이며, 컴퓨팅 장치(102)에 의해 요청된 도면 정보를 제공하게 된다.

컴퓨팅 장치(102)는 도면 DB 서버(100)로 CD 측정 레시피를 작성하기 위해 도면 DB 서버(100)로 해당 도면 정보를 요청하여 요청된 도면 정보를 수신한 경우, 수신된 도면 정보를 토대로 CD 측정 레시피를 생성하게 된다. 이후 생성된 레시피는 CD-SEM(104) 장비로 전달한다.

CD-SEM(104) 장비는 컴퓨팅 장치(102)로부터 수신한 레시피를 저장한 후, 측정하고자 하는 웨이퍼가 로딩된 경우, 저장된 레시피를 토대로 CD 측정을 수행하게 된다.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 레시피 생성 시스템의 동작 절차를 도시한 흐름도이다.

도 2를 참조하면, 200단계에서 컴퓨팅 장치(102)는 도면 DB 서버(100)로 측정하고자 하는 패턴에 대한 도면 정보를 요청하여 요청된 도면 정보를 수신한 경우, 202단계에서는 수신한 도면 정보로부터 패턴의 임계치수를 측정할 때 측정하게 될 위치와 방법에 대한 레시피를 CD 측정을 통해 생성하게 된다.

이때, CD 측정 레시피는 컴퓨팅 장치(102)에 설치된 CD 측정 레시피 응용프로그램을 통한 작업으로 생성되므로, CD-SEM(104) 장비에서 웨이퍼를 이용한 로딩 및 언로딩 과정이 필요 없게 된다.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 패턴을 포함하는 도면 정보를 도시한 도면이다.

도 3을 참조하면, 도면 DB 서버(100)에서 컴퓨팅 장치(102)로 전달된 도면 정보(300)에는 CD 좌표와 패턴 정보를 포함하고 있으므로, 패턴을 매뉴얼로 작업자가 직접 확인하면서 레시피를 작성하거나, 일정한 측정 레시피 타입이 기 선택되어 있는 경우에는 자동으로 레시피를 생성하는 것이 가능하다.

이와 같이 컴퓨팅 장치(102)를 통해 생성된 레시피는 204단계에서 CD-SEM(104) 장비로 전송함으로써, CD-SEM(104) 장비에서는 수신한 레시피를 설정한 후 로딩하여 사용하게 된다. 이후, 206단계에서 CD-SEM(104) 장비에 웨이퍼가 삽입된 경우 로딩을 통해 설정된 레시피로 패턴의 임계치수를 측정하게 된다.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명은 대량 생산(Mass Product) 라인에서 현장의 CD-SEM 장비를 이용하여 CD 계측 레시피를 작성하지 않으므로 CD-SEM 장비 사용에 효율성 증대를 시킬 수 있다. 이는 CD-SEM 정비를 통해 실물 즉, 웨이퍼를 사용하지 않고서 작성할 수 있으므로 레시피 작성을 위해 웨이퍼의 로딩/언로딩으로 소요되던 기존의 장비 구동 시간이 포함되지 않게 된다.

또한, 측정해야 될 CD 좌표와 패턴 정보를 도면 DB 서버로부터 가져오기 때문에 측정해야 될 위치가 아닌 곳을 측정하는 공정 사고가 발생하지 않으며, 해당 패턴에 대한 CAD 정보와 측정 좌표 정보를 가지고 매뉴얼로 레시피를 작성하거나, 또는 타입 설정을 통해 자동으로 레시피를 만들어 줄 수 있으므로, 작업자의 레시피 작성 소요시간이 대폭 줄어들 수 있다.

한편 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되지 않으며, 후술되는 특허청구의 범위뿐만 아니라 이 특허청구의 범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 레시피 생성 시스템을 도시한 블록도,

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 레시피 생성 시스템의 동작 절차를 도시한 흐름도,

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 패턴을 포함하는 도면 정보를 도시한 도면.

Claims (3)

1. 컴퓨팅 장치에서 복수의 도면 정보를 포함하는 도면 서버로부터 요청한 도면 정보를 수신하는 단계와,

   상기 수신된 도면 정보로부터 CD 측정 레시피를 생성하는 단계와,

   상기 생성된 CD 측정 레시피를 CD-SEM 장비에 적용하는 단계

   를 포함하는 CD-SEM 장비의 레시피 생성 방법.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 도면 정보는,

   CD 좌표와 패턴 정보를 포함하는 캐드 정보 또는 마스크 정보인 것을 특징으로 하는 CD-SEM 장비의 레시피 생성 방법.
3. 제 1항에 있어서,

   상기 CD 측정 레시피를 생성하는 단계는,

   측정하고자 하는 패턴에 대한 데이터가 포함된 상기 도면 정보를 기반으로 CD 측정 레시피 응용프로그램을 구동하여 상기 CD-SEM 장비에서 임계 치수를 측정할 때 측정하게 될 위치 및 측정 방식의 레시피를 생성하는 것을 특징으로 하는 CD-SEM 장비의 레시피 생성 방법.

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