KR20110075587A - 기판검사장치 및 스테이지의 평탄도 보정방법 - Google Patents
기판검사장치 및 스테이지의 평탄도 보정방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20110075587A KR20110075587A KR1020090132078A KR20090132078A KR20110075587A KR 20110075587 A KR20110075587 A KR 20110075587A KR 1020090132078 A KR1020090132078 A KR 1020090132078A KR 20090132078 A KR20090132078 A KR 20090132078A KR 20110075587 A KR20110075587 A KR 20110075587A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- stage
- flatness
- substrate
- edge
- inspection apparatus
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B21/00—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
- G01B21/30—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring roughness or irregularity of surfaces
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
- G01B11/306—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces for measuring evenness
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
본 발명은 기판검사장치 및 스테이지의 평탄도 보정방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 스테이지의 평탄도를 측정하고 보정할 수 있는 기판검사장치 및 스테이지의 평탄도 보정방법에 관한 것이다.
본 발명에 의한 기판검사장치는 기판이 안착되는 스테이지; 및 상기 스테이지의 각 위치별 테두리의 평탄도를 측정하는 검출수단;을 포함한다.
기판. 검사. 카메라. 스테이지. 평탄도.
Description
본 발명은 기판검사장치 및 스테이지의 평탄도 보정방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 스테이지의 평탄도를 측정하고 보정할 수 있는 기판검사장치 및 스테이지의 평탄도 보정방법에 관한 것이다.
기판을 검사하는 장치의 일예로서, 컬러 필터 패턴 자동광학검사(Automated Optical Inspection:이하 AOI) 시스템은 컬러 필터 기판(Color Filter substrate)의 미세한 패턴 결함을 정밀한 카메라에 의해 고속으로 검출하고, 검출된 결함을 실시간으로 재생, 저장 가능한 제품으로, 다양한 모델의 기판(Multi Model Substrate)에 대응이 가능하며, 사용자 운영하기 쉬운 소프트웨어와 인라인(Inline) 및 독립적으로 운영(Stand alone)이 가능한 검사 장비이다.
도 1을 참조하여 종래의 일반적인 기판검사장치(100)를 설명한다.
도시된 바와 같이, 기판검사장치(100)는 기판이 안착되는 스테이지와, 상기 기판을 검사하기 위하여 기판의 이미지를 획득하는 카메라(160)와 조명수단(150), 상기 기판의 상부에서 상기 카메라를 이동시키는 갠트리(140)를 포함한다. 또한 상 기 스테이지는 설치장치의 바닥면 상에 구비되는 베이스플레이트(110)와, 상기 베이스플레이트상에 올려지는 석정반(120)과, 상기 석정반상에 올려져서 기판(S)을 부상시키는 부상유닛(130)을 포함한다.
또한 상기 부상유닛(130)은 상기 카메라(150)의 검사영역에서 난반사 및 이로 인한 이미지 저하를 방지하기 위하여 슬릿(131)이 형성된다.
도 2를 참조하여 종래 기판검사장치의 작동상태를 설명하면, 기판(S)을 스테이지에 올려 놓고(부상유닛에 의해 부상된 상태), 조명수단(150)이 광을 출사하면 출사된 광은 기판(S)으로부터 반사되는데, 카메라(160)가 반사광으로부터 기판(S)의 이미지를 획득하여 외형을 검사하는 것이다.
한편, 카메라(160)와 기판(S) 사이의 이격거리가 다르다면 정밀한 이미지를 획득하는 것은 불가능하다. 다시 말하면, 기판(S)의 고도(h0)가 위치에 따라 다르지 않고, 일정해야 한다는 것이다.
다시 말하면, 스테이지가 평탄하지 않다면 검사정밀도가 저하되는 문제가 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 스테이지의 평탄도를 측정하고 보정할 수 있는 기판검사장치 및 스테이지의 평탄도 보정방법을 제공함에 있다.
위와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 의한 기판검사장치는 기판이 안착되는 스테이지; 및 상기 스테이지의 각 위치별 테두리의 평탄도를 측정하는 검출수단;을 포함한다.
또한 상기 검출수단은 다이얼게이지(Dialgauge), 인디게이터(Indigator) 및 레이저 변위센서 중 선택된 어느 하나인 것이 바람직하다.
또한 상기 검출수단을 상기 스테이지의 테두리를 따라 이동시키는 이동수단이 더 구비되는 것이 바람직하다.
또한 상기 검출수단이 상기 스테이지의 각 위치별 테두리의 평탄도를 측정하도록 상기 스테이지를 이동시키는 이동수단이 더 구비되는 것이 바람직하다.
또한 상기 검출수단의 측정결과에 따라 상기 스테이지의 각 위치별 평탄도를 보정하는 보정수단이 더 구비되는 것이 바람직하다.
또한 상기 보정수단은 상기 스테이지를 하부에서 지지하며, 높이 조절이 가능한 복수의 지지부재인 것이 바람직하다.
또한 상기 검출수단은 상기 스테이지의 양측에 각각 구비되는 것이 바람직하 다.
본 발명에 의한 스테이지의 평탄도 보정방법은 1) 스테이지의 각 위치별 테두리의 평탄도를 측정하는 단계; 및 2) 상기 1)단계의 측정결과에 따라 상기 스테이지의 각 위치별 테두리의 평탄도를 보정하는 단계;를 포함한다.
또한 상기 1)단계는, 다이얼게이지(Dial gage), 인디게이터(Indigator) 및 레이저 변위센서 중 선택된 어느 하나를 상기 스테이지의 테두리를 따라 이동하면서 평탄도를 측정하는 것이 바람직하다.
또한 상기 1)단계는 상기 스테이지의 양측 테두리의 평탄도를 동시에 측정하는 것이 바람직하다.
또한 상기 2)단계는 상기 스테이지를 지지하는 지지부재의 높이를 조절함으로써 수행되는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 스테이지의 평탄도를 측정하고 보정할 수 있는 효과가 있다.
따라서 기판의 전 범위에 걸쳐 균일한 이미지를 획득할 수 있기 때문에 검사정밀도가 향상된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 기판검사장치의 구성 및 작용을 설명한다.
도 3 및 도 4를 참조하여 본 발명에 의한 기판검사장치(1)의 제1실시예를 설 명한다.
도시된 바와 같이, 기판이 안착되는 스테이지는 베이스플레이트(10)와, 석정반(20)과 부상유닛(30)으로 구성된다.
특히, 상기 부상유닛(30)의 양측 테두리 상부에는 각각 한 쌍의 다이얼게이지(Dialgauge,73)가 구비되고, 상기 다이얼게이지(73)를 수평방향으로 이동시키는 이동수단(71)이 구비된다. 상기 이동수단(71)은 석정반(20)에 설치되고, 상기 이동수단(71)과 다이얼게이지(73)는 연결부재(72)에 의해 연결된다. 상기 다이얼게이지(73)는 부상유닛(30)의 표면에 직접 접촉하여 이동하면서 미세한 움직임을 눈금판에 지시함으로써 평면의 요철이나 축 중심의 뒤틀림 등을 측정하는 공지의 수단이다.
또한, 상기 부상유닛(30)을 하부에서 지지하는 복수의 지지부재(80)가 구비된다. 상기 지지부재(80)는 상부부재(81)와 하부부재(82)로 분리구성되고, 상기 상부부재(81)와 하부부재(82)는 나사체결방식에 의해 결합된다. 따라서 체결정도에 따라 지지부재(80)의 전체적인 길이(높이)를 조절할 수 있는 것이다.
이하, 본 발명에 의한 제1실시예의 작동상태 및 스테이지의 평탄도 보정방법을 설명한다.
먼저, 기판(S)을 스테이지(구체적으로는 부상유닛)에 로딩하기 전에, 먼저 다이얼게이지(73)를 부상유닛(30)의 양측 테두리에 접촉시킨 상태로, 상기 테두리를 따라 수평방향으로 이동시킨다.
이와 같은 동작으로 부상유닛(30)의 양측 테두리의 평탄도가 측정되는데, 측 정결과가 허용범위 내이면 기판(S)을 부상유닛(30)에 로딩하고, 광을 조사하여 기판의 외형을 검사한다.
그러나 이와 달리 측정결과가 허용범위를 벗어나면 부상유닛(30)의 평탄도를 보정해야 하는데, 구체적으로는 지지부재(80)의 높이를 조절함으로써 평탄도를 보정한다. 상술한 바와 같이, 지지부재(80)의 높이조절은 상부부재(81)와 하부부재(82)의 체결정도에 따라 가능하다.
도 5는 본 발명에 의한 제2실시예를 나타낸 것이다. 도시된 바와 같이, 다이얼게이지 대신에 레이저 변위센서(93)가 구비된다는 차이가 있다. 다이얼게이지는 접촉방식임에 반해 레이저 변위센서(93)는 부상유닛(30)과 직접 접촉하지 않고 일정 거리를 갖고 이격된 상태에서 평탄도를 측정할 수 있는 공지의 수단이다.
기타 상기 레이저 변위센서(93)를 이동시키는 이동부재(91)나 연결부재(92) 및 길이조절이 가능한 지지부재(80) 등의 구성은 제1실시예와 동일하다.
또한 도시하지는 아니하였으나, 다이얼게이지나 레이저 변위센서 대신, 인디게이터(Indigator)나 기타 평탄도를 측정할 수 있는 공지의 수단이 이용할 수 있는 것은 당연하다.
또한 측정결과에 따라 평탄도를 보정하는 보정수단 역시 설명되지 아니한 공지의 수단으로 대체 가능한 것은 당연하다.
또한 다이얼게이지 또는 레이저 변위센서 등 검출수단이 고정되고, 스테이지가 이동하면서 테두리의 평탄도를 측정하는 것도 가능하다.
도 1 및 도2는 종래 기판검사장치를 나타낸 것이다.
도 2는 선조명수단을 나타낸 것이다.
도 3 및 도 4는 본 발명에 의한 기판검사장치의 제1실시예를 나타낸 것이다.
도 5는 본 발명에 의한 기판검사장치의 제2실시예를 나타낸 것이다.
Claims (11)
- 기판이 안착되는 스테이지; 및상기 스테이지의 각 위치별 테두리의 평탄도를 측정하는 검출수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
- 제1항에 있어서,상기 검출수단은 다이얼게이지(Dialgauge), 인디게이터(Indigator) 및 레이저 변위센서 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
- 제1항에 있어서,상기 검출수단을 상기 스테이지의 테두리를 따라 이동시키는 이동수단이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
- 제1항에 있어서,상기 검출수단이 상기 스테이지의 각 위치별 테두리의 평탄도를 측정하도록 상기 스테이지를 이동시키는 이동수단이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 기판검사 장치.
- 제1항에 있어서,상기 검출수단의 측정결과에 따라 상기 스테이지의 각 위치별 평탄도를 보정하는 보정수단이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
- 제5항에 있어서,상기 보정수단은 상기 스테이지를 하부에서 지지하며, 높이 조절이 가능한 복수의 지지부재인 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
- 제1항에 있어서,상기 검출수단은 상기 스테이지의 양측에 각각 구비되는 것을 특징으로 하는 기판검사장치.
- 1) 스테이지의 각 위치별 테두리의 평탄도를 측정하는 단계; 및2) 상기 1)단계의 측정결과에 따라 상기 스테이지의 각 위치별 테두리의 평 탄도를 보정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지의 평탄도 보정방법.
- 제8항에 있어서,상기 1)단계는,다이얼게이지(Dial gage), 인디게이터(Indigator) 및 레이저 변위센서 중 선택된 어느 하나를 상기 스테이지의 테두리를 따라 이동하면서 평탄도를 측정하는 것을 특징으로 하는 스테이지의 평탄도 보정방법.
- 제8항에 있어서,상기 1)단계는 상기 스테이지의 양측 테두리의 평탄도를 동시에 측정하는 것을 특징으로 하는 스테이지의 평탄도 보정방법.
- 제8항에 있어서,상기 2)단계는 상기 스테이지를 지지하는 지지부재의 높이를 조절함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 스테이지의 평탄도 보정방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090132078A KR20110075587A (ko) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | 기판검사장치 및 스테이지의 평탄도 보정방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090132078A KR20110075587A (ko) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | 기판검사장치 및 스테이지의 평탄도 보정방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110075587A true KR20110075587A (ko) | 2011-07-06 |
Family
ID=44915567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090132078A KR20110075587A (ko) | 2009-12-28 | 2009-12-28 | 기판검사장치 및 스테이지의 평탄도 보정방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20110075587A (ko) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101359912B1 (ko) * | 2012-09-24 | 2014-02-10 | 주식회사 제우스 | 평탄도 자동 보정 장치와 방법 |
KR102441795B1 (ko) * | 2022-03-11 | 2022-09-08 | 주식회사 프로이천 | 평탄측정지그 및 이를 이용하는 평탄측정방법 |
KR102498018B1 (ko) * | 2022-06-21 | 2023-02-10 | 주식회사 프로이천 | 평탄 측정용 지그 |
CN116099901A (zh) * | 2023-04-17 | 2023-05-12 | 蒂升电梯(中国)有限公司成都分公司 | 一种电梯门板矫形装置 |
WO2023085775A1 (ko) * | 2021-11-09 | 2023-05-19 | 한화정밀기계 주식회사 | 스크린 프린터의 평탄도 검사 방법 |
CN116164680A (zh) * | 2023-04-23 | 2023-05-26 | 牧铭智能制造(山东)有限公司 | 一种机械制造用水平检测装置 |
KR20230144833A (ko) | 2022-04-08 | 2023-10-17 | 주식회사 크레셈 | 스테이지 평탄도를 고려한 최적 초점 거리 기반 검사 방법 |
-
2009
- 2009-12-28 KR KR1020090132078A patent/KR20110075587A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101359912B1 (ko) * | 2012-09-24 | 2014-02-10 | 주식회사 제우스 | 평탄도 자동 보정 장치와 방법 |
WO2023085775A1 (ko) * | 2021-11-09 | 2023-05-19 | 한화정밀기계 주식회사 | 스크린 프린터의 평탄도 검사 방법 |
KR102441795B1 (ko) * | 2022-03-11 | 2022-09-08 | 주식회사 프로이천 | 평탄측정지그 및 이를 이용하는 평탄측정방법 |
KR20230144833A (ko) | 2022-04-08 | 2023-10-17 | 주식회사 크레셈 | 스테이지 평탄도를 고려한 최적 초점 거리 기반 검사 방법 |
KR102498018B1 (ko) * | 2022-06-21 | 2023-02-10 | 주식회사 프로이천 | 평탄 측정용 지그 |
CN116099901A (zh) * | 2023-04-17 | 2023-05-12 | 蒂升电梯(中国)有限公司成都分公司 | 一种电梯门板矫形装置 |
CN116164680A (zh) * | 2023-04-23 | 2023-05-26 | 牧铭智能制造(山东)有限公司 | 一种机械制造用水平检测装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20110075587A (ko) | 기판검사장치 및 스테이지의 평탄도 보정방법 | |
KR101735403B1 (ko) | 검사 방법, 템플릿 기판 및 포커스 오프셋 방법 | |
TWI586958B (zh) | 板狀體之翹曲檢查裝置及其翹曲檢查方法 | |
US6497047B1 (en) | Flatness measuring equipment | |
CN103424088B (zh) | 一种倒角测量仪 | |
US10365084B2 (en) | Bead measurement system | |
US9625353B2 (en) | Shape inspection device | |
MX2013003334A (es) | Dispositivo y metodo para detectar imperfecciones en vidrio flotado producido continuamente. | |
KR20190020815A (ko) | 광 정렬 제어 방법 및 광 정렬 장치 | |
JP2010185763A (ja) | フィルムの平面性検査装置および平面性検査方法 | |
KR20100019179A (ko) | 페이스트 디스펜서 및 이를 이용한 페이스트 패턴의 형성방법 | |
CN208419896U (zh) | 一种表面检测装置 | |
JP2001249060A (ja) | 重心検出装置および試験体検査装置 | |
KR101144797B1 (ko) | 박막형 검사대상체 검사장치 및 동작방법 | |
KR20240013403A (ko) | 박막 두께 측정 장치 | |
TW201608231A (zh) | 光偏折檢測模組及使用其檢測及誤差校正之方法 | |
KR101289880B1 (ko) | 리드형 구조물의 리드 간 동일평면성 계측 장치 및 방법 | |
JP2008076283A (ja) | 基板検査装置の光軸調整方法および光軸調整用サンプル | |
KR102563136B1 (ko) | 강판의 휨 상태 및 치수 측정이 가능한 수직형 강판 측정장치 | |
CN213336006U (zh) | 一种抛光瓷砖表面检测机 | |
CN219798220U (zh) | 一种工艺气体间隙的校准装置 | |
CN105783708A (zh) | 光学校正装置与光学校正方法 | |
CN214583964U (zh) | 一种远心镜头测试装置 | |
CN211425335U (zh) | 一种适用于激光干涉仪的对焦固定调整装置 | |
KR20060061875A (ko) | 인-라인 검사장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |