KR20110072763A - Refractive coverlay film and the preparing process thereof - Google Patents

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KR20110072763A
KR20110072763A KR1020090129839A KR20090129839A KR20110072763A KR 20110072763 A KR20110072763 A KR 20110072763A KR 1020090129839 A KR1020090129839 A KR 1020090129839A KR 20090129839 A KR20090129839 A KR 20090129839A KR 20110072763 A KR20110072763 A KR 20110072763A
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이경석
이병국
원동호
이정우
차세영
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Abstract

PURPOSE: A reflective coverlay film and a manufacturing method thereof are provided to improve the reflection efficiency of a light source by laminating an adhesive layer and a release layer member on the surface of an insulation base film. CONSTITUTION: A metal deposition layer is formed on one side of a base film. The metal deposition layer is formed with a vacuum deposition method and has an optical density over 0.6. A coating layer is coated on the metal deposition layer to protect the metal deposition layer. An adhesive and a protection member are successively formed on the other side of the base film.

Description

반사 커버레이 필름 및 그 제조방법{Refractive coverlay film and the preparing process thereof}Reflective coverlay film and manufacturing method thereof

본 발명은 반사층 기능을 갖는 반사 커버레이 필름 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 절연성 기재필름의 일면에 높은 반사율과 낮은 전광선 투과율을 갖는 금속 증착층, 이 증착층을 보호하는 수지 코팅층 및 그 이면에 접착제층과 보호기재를 갖도록 하여 높은 반사율과 차폐성을 나타내어 백라이트의 휘도를 높일 수 있으며, 복잡한 잉크 인쇄 단계 공정을 생략할 수 있어 불량율을 줄이고 제조 시간과 인력을 줄여 원가 절감이 가능한 반사 커버레이 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a reflective coverlay film having a reflective layer function and a method of manufacturing the same, and more particularly, a metal deposition layer having a high reflectance and a low total light transmittance on one surface of an insulating base film, a resin coating layer protecting the deposited layer, and its The back cover layer has an adhesive layer and a protective base to show high reflectance and shielding properties, thereby increasing the brightness of the backlight, and eliminating complicated ink printing steps, thereby reducing the defect rate and reducing manufacturing time and manpower. A film and its manufacturing method are related.

근년 들어 기술이 발달함에 따라 전자제품의 경우는 소형화, 박막화, 고밀도화, 고굴곡화 추세가 더욱 가속화되고 있으며, 이에 따라 보다 협소한 공간에서도 내장이 용이한 인쇄회로기판(PCB: Printed Circuit Board)의 필요성이 증대되었으며, 이러한 시장의 요구에 따라, 소형화와 고밀도화가 가능하고 반복적인 굴곡성을 갖는 연성 인쇄회로기판(FPCB : Flexible Printed Circuit Board)이 개발되었다.In recent years, with the development of technology, the trend of miniaturization, thinning, high density, and high bending of electronic products is accelerating. Therefore, printed circuit board (PCB), which is easy to embed in narrow spaces, has been accelerated. The necessity has increased, and according to the demands of the market, a flexible printed circuit board (FPCB) has been developed that is capable of miniaturization, high density, and repeatability.

이러한 연성 인쇄회로기판을 제조하기 위해서는 일반적으로 고내열성과 고굴곡성을 가진 폴리이미드(polyimde)와 같은 절연성 기재 필름의 양면 혹은 단면에 동박층을 형성한 연성 동장적층판(FCCL)에 드라이 필름(dry film)을 라미네이팅(laminating)한 후, 순차적으로 노광, 현상 및 에칭으로 회로 패턴을 형성한 다음, 외측에 커버레이 필름(coverlay film)을 가접하고 핫프레스를 이용하여 접착하는 방식을 취하고 있으며, 이 외에 연성회로기판의 제조방법들이 다양하게 개시되어 있는데, 예를 들어 대한민국 특허출원 제2003-0017707호는 다층 연성 인쇄회로기판의 제조방법에 대한 것으로, 필요한 모든 층의 회로를 단면 자재를 사용하여 단면 공정을 통해 먼저 형성하고 내층 회로는 커버레이 필름 접착 공정을 거친 후 층간 접착 시트로 한꺼번에 결합하여 한번에 적층하고 드라이 필름 라미네이트 공정, 노광 공정, 도금 공정, 소프트 에칭 공정 등을 이용하여 선택적으로 전기 도금을 실시함으로써 제조공정을 간략화한 방법을 개시하고 있으며, 대한민국 특허출원 제2005-0003765호는 다층형 연성인쇄기판의 커버레이 라미네이팅 방법 및 장치라는 명칭으로, 연성인쇄기판을 제작하는 과정에서 동박판을 이용한 롤투롤 방식으로 노광, 현상, 에칭, 박리 공정을 거쳐 회로패턴이 형성되어진 동박회로판에 커버레이를 가접시킴에 있어, 높이를 달리하는 각각의 코일러에 롤상태의 동박회로판과 커버레이를 각각 로딩시키는 로딩단계; 상기 각 코일러로 부터 일정속도로 이송되는 동박회로판과 커버레이를 고온의 핫롤러를 통과시켜 밀착시키는 라미네이팅 단계; 상기 밀착상태로 이송되는 경로중에서 일정 텐션을 유지시키는 텐션유지 단계; 상 기 이송 경로상에서 커버레이가 밀착된 동박기판의 수평상태를 유지토록 제어하는 수평정렬 유지단계; 상기 수평상태가 유지되는 가운데서 이송되는 동박회로판의 센싱마크를 카메라로 인식하여 기판을 일정 크기로 절단하는 커팅단계; 상기 커팅이 이루어진 커버레이 가접 회로기판을 진공흡착하여 순차적으로 적층 보관하는 언로딩 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층형 연성인쇄기판의 커버레이 라미네이팅 방법을 개시하고 있다. In order to manufacture such a flexible printed circuit board, a dry film on a flexible copper clad laminate (FCCL) in which a copper foil layer is formed on both surfaces or one end surface of an insulating base film such as polyimde having high heat resistance and high flexibility. After laminating), the circuit pattern is sequentially formed by exposure, development, and etching, and then a coverlay film is welded to the outside and bonded using a hot press. Various methods of manufacturing flexible printed circuit boards are disclosed. For example, Korean Patent Application No. 2003-0017707 relates to a method for manufacturing a multi-layer flexible printed circuit board. First, the inner layer circuit is formed through the coverlay film bonding process, and then bonded together with the interlayer adhesive sheet at once. A method of simplifying a manufacturing process by selectively electroplating using a layer and a dry film lamination process, an exposure process, a plating process, a soft etching process, and the like is disclosed. Korean Patent Application No. 2005-0003765 discloses a multilayered flexible Coverlay laminating method and apparatus for printed boards. In the process of manufacturing flexible printed circuit boards, coverlays are applied to copper foil circuit boards in which circuit patterns are formed through exposure, development, etching, and peeling processes using a roll-to-roll method using copper foil. In the temporary welding, a loading step of loading the copper foil circuit board and the coverlay of the roll state to each coiler having a different height; A laminating step of bringing the copper foil circuit board and the coverlay conveyed from the coilers at a constant speed into close contact with each other through a high temperature hot roller; A tension maintaining step of maintaining a constant tension in the path transferred to the close state; A horizontal alignment maintaining step of controlling to maintain a horizontal state of the copper foil substrate in which the coverlay is in close contact on the transfer path; A cutting step of cutting a substrate to a predetermined size by recognizing a sensing mark of a copper foil circuit board transferred while the horizontal state is maintained with a camera; Disclosed is a coverlay laminating method of a multilayer flexible printed circuit board comprising an unloading step of sequentially vacuuming the coverlay temporary circuit board on which the cutting is made.

상기한 바와 같이 연성회로기판의 구성에 있어서, 연성 인쇄회로기판의 일 층을 형성하는 커버레이 필름은 동박층에 형성된 회로패턴 보호 및 절연, 산화방지, 고굴곡성 부여의 기능을 하는데, 이러한 커버레이 필름은 일반적으로 회로패턴의 형상에 따라 금형 가공을 실시한 후 가접, 열압착 공정, LED 등의 소자를 실장하기 위한 도금 공정, LED 등의 소자를 표면에 실장(SMT 공정)한 후 금형을 통해 외형을 가공하는 타발 공정(실장 및 검사 출하 단계) 등을 거치게 된다.As described above, in the configuration of the flexible printed circuit board, the coverlay film forming one layer of the flexible printed circuit board functions to protect and insulate the circuit pattern formed on the copper foil layer, to prevent oxidation, and to provide high flexibility. Films are generally processed according to the shape of the circuit pattern, followed by temporary welding, thermocompression bonding, plating processes for mounting devices such as LEDs, and mounting devices such as LEDs on the surface (SMT process), and then through the mold. It will go through the punching process (mounting and inspection shipment stage) for processing.

한편, 백라이트 유닛은 액정 표시패널에 빛을 조사하는 기능을 가지고 있어, 노트북, 모바일 기기 등에서 광원 역할을 하는 필수품으로 사용되는 것으로, 종래에 주로 사용되는 백라이트의 광원은 냉음극형광램프(CCFL)이었으나 최근 전력 소비 효율을 높이고 수명을 높이는 동시에 광원의 품위를 높이는 효과를 가진 LED 램프가 채용되고 있다. 그로 인하여 기존의 CCFL은 선형 램프의 양 에지에 전원이 연결되어 선형램프의 한쪽에 반사필름을 위치시킴으로써 램프의 효율을 올리는 반사 기능을 제공하도록 설계되었으나, 점(DOT) 형의 LED 램프를 장착하기 위해서는 연성인쇄회로기판(FPCB)이 사용되고 있고, 그럼으로써 LED 방식의 광원이 반사 효율 을 올리기 위해서는 연성회로기판의 표면 반사율이 높아야 한다는 것이 요구된다.On the other hand, the backlight unit has a function of irradiating light to the liquid crystal display panel, and is used as a necessity to serve as a light source in a notebook, a mobile device, etc. The light source of the backlight mainly used in the past was a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) Recently, LED lamps having an effect of increasing power consumption efficiency and lifespan, and at the same time increasing the quality of light sources have been adopted. As a result, the conventional CCFL is designed to provide a reflection function that increases the efficiency of the lamp by connecting the power supply to both edges of the linear lamp and placing the reflective film on one side of the linear lamp. Flexible printed circuit boards (FPCBs) are used, and thus, in order for LED-type light sources to increase reflection efficiency, the surface reflectance of flexible printed circuit boards is required to be high.

따라서, 이러한 요구를 충족하도록 연성회로 기판 표면의 반사율을 올리기 위해 종래에는 FPCB의 표면이 되는 커버레이 필름 층 표면에 별도의 잉크층을 도포하는 공정을 필요로 하게 되는데, 상기 잉크층의 대표적인 예로써는 포토 솔더 레지스트(PSR) 또는 아이알(IR) 잉크가 널리 사용되고 있으며, 잉크 도포 방식은 실크 스크린 인쇄방식, 나일론 스크린 방식, 금속 스크린 방식, 폴리에스테르 스크린 방식 등 공지된 다양한 방식들로 적용되는 실정이며, 이를 통하여, 연성회로기판의 LED 부품이 실장되는 부분을 제외한 폴리이미드 필름 층의 전면에 잉크를 도포하여 제조함으로써, 백라이트 유닛에 구비될 때에 보다 높은 휘도의 백라이트 유닛의 효율을 올리는 역할을 할 수 있게 된다.Therefore, in order to increase the reflectance of the surface of the flexible circuit board to meet such a requirement, it is conventionally required to apply a separate ink layer to the surface of the coverlay film layer that is the surface of the FPCB, a representative example of the ink layer Photo solder resist (PSR) or IR (IR) ink is widely used, the ink coating method is applied to a variety of known methods such as silk screen printing method, nylon screen method, metal screen method, polyester screen method, By applying ink to the entire surface of the polyimide film layer except for the portion where the LED component of the flexible printed circuit board is mounted, the ink can be made to increase the efficiency of the backlight unit having higher luminance when provided in the backlight unit. do.

그러나, 상기와 같이 종래의 잉크 인쇄 공정의 경우는 대부분 수작업으로 이루어져 효율이 떨어지며, 또한 도포 및 경화를 위한 여러 단계의 공정을 거치면서 정확도와 외관 결점, 균일도, 표면 깨짐 등의 문제가 쉽게 발생할 뿐 아니라 이러한 불량 발생을 제어하기 어려워 균일도가 떨어지고, 외관 품위가 나빠져 수율이 낮아지는 문제점이 있다. 또한, 특히 연성인쇄회로기판의 최종 완제품 상태에서 이루어지는 공정이기 때문에 불량이 발생할 경우에 그 경제적인 피해는 매우 크다고 할 수 있어 이에 대한 해결책이 시급하게 요구되어 오고 있으나 그 해결책이 전혀 제시되고 있지 못한 실정이다.However, in the conventional ink printing process as described above, the efficiency is mostly made by manual work, and also problems such as accuracy, appearance defects, uniformity, and surface cracking occur easily through various steps for coating and curing. However, it is difficult to control the occurrence of such defects, there is a problem that the uniformity is lowered, the appearance quality is worsened, the yield is lowered. In addition, since the process is performed in the final finished product state of the flexible printed circuit board, the economic damage in case of a defect can be said to be very large, and a solution for this has been urgently required, but the solution has not been suggested at all. to be.

상기한 바와 같이 종래 기술에 있어서는 백라이트 유닛용 연성인쇄회로기판에 커버레이 필름을 부착 후 후공정에서 다단계의 잉크 인쇄 공정을 통해서 발광 칩으로부터 발생되는 광을 반사시키는 기능을 부여하는 수단을 취하고 있으며, 이로 인해 다단계의 잉크 인쇄 공정을 적용시 공정 제조 비용, 시간 및 불량률이 증가 되는 단점과 연성인쇄회로기판의 최종 완제품 상태에서 인쇄공정을 수행함에 따른 불량 발생시의 경제적 불리함의 문제점이 있음을 인지하고, 이에 따라 본 발명에서는 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하는 것을 제일 목적으로 한다. 구체적으로는, 백라이트 유닛용 연성인쇄회로기판에 커버레이 필름의 부착 후 다단계 잉크 인쇄 공정의 수행으로 인한 공정 제조 비용, 시간 및 불량률의 증가를 방지하고, 나아가 인쇄공정에 있어서 정확도, 균일도 및 외관 품위의 제어가 용이하도록 하여 불량이 거의 발생하지 않는 반사 커버레이 필름을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.As described above, in the prior art, the coverlay film is attached to the flexible printed circuit board for the backlight unit, and then, a method of providing a function of reflecting the light generated from the light emitting chip through a multi-step ink printing process in a later step is taken. Due to this, it is recognized that there are disadvantages of increased manufacturing cost, time, and defective rate when applying the multi-step ink printing process, and economic disadvantages when defects occur when the printing process is performed in the final finished state of the flexible printed circuit board. Accordingly, the present invention is to solve the above conventional problems as the first object. Specifically, it prevents an increase in process manufacturing cost, time, and defective rate due to performing a multi-step ink printing process after attaching a coverlay film to a flexible printed circuit board for a backlight unit, and furthermore, improves accuracy, uniformity, and appearance in the printing process. It is an object of the present invention to provide a reflective coverlay film in which defects hardly occur by making it easy to control.

본 발명의 다른 목적은 백색 잉크 인쇄를 사용한 커버레이 필름보다 더 높은 수준의 반사율을 가진 커버레이 필름을 제공함으로써 백라이트 광원의 효율을 높일 수 있는 반사 커버레이 필름을 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a reflective coverlay film which can increase the efficiency of a backlight light source by providing a coverlay film having a higher level of reflectance than a coverlay film using white ink printing.

본 발명의 또 다른 목적은 상기한 특성을 갖는 커버레이 필름을 보다 용이하게 제조할 수 있는 제조방법을 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a manufacturing method that can more easily produce a coverlay film having the above characteristics.

본 발명은 또한 상기한 명확한 목적 이외에 이러한 목적 및 본 명세서의 전 반적인 기술로부터 이 분야의 통상인에 의해 용이하게 도출될 수 있는 다른 목적을 달성함을 그 목적으로 할 수 있다. The present invention may also be directed to achieving these and other objects which can be readily derived by those of ordinary skill in the art from the general description herein.

상기한 본 발명의 목적은 하기의 특정한 구성에 따른 금속 증착층 및 이 증착층 보호층이 형성된 커버레이 필름을 제공하여, 연성인쇄회로기판 제조 공정에서 잉크 인쇄 공정 없이도 광원에 대한 높은 반사 효과를 주어 우수한 휘도를 구현하는 백라이트 유닛이 되는 효과를 가진 커버레이 필름을 제공함으로 달성되어 질 수 있었다.The object of the present invention described above is to provide a cover layer film having a metal deposition layer and the deposition layer protective layer according to the following specific configuration, giving a high reflection effect on the light source without the ink printing process in the flexible printed circuit board manufacturing process It could be achieved by providing a coverlay film having the effect of being a backlight unit to realize excellent brightness.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반사 커버레이 필름은;Reflective coverlay film of the present invention for achieving the above object;

기재 필름의 일면에 가시광선 영역의 평균 반사율이 60% 이상이고, 전광선 투과율이 30% 이하인 금속 증착층이 형성되고, 그 증착층 윗면에 상기 증착층을 보호하기 위한 코팅층이 도포되어 있으며, 그 반대 면에 접착제와 이형층인 보호기재가 순차적으로 형성된 것임을 특징으로 한다.A metal deposition layer having an average reflectance of 60% or more and a total light transmittance of 30% or less is formed on one surface of the base film, and a coating layer for protecting the deposition layer is coated on the top of the deposition layer, and vice versa. It characterized in that the protective substrate which is an adhesive and a release layer formed on the surface sequentially.

본 발명의 다른 구성에 따르면, 상기 금속 증착층은 진공 증착법(vaccum deposition method)을 이용하여 알루미늄을 포함하는 금속이나 SiOx 또는 Al2Ox를 포함하는 금속 산화물을 기재 필름 표면에 증착시켜 0.6을 넘는 광학밀도(optical density)를 갖도록 형성한 것임을 특징으로 한다.According to another configuration of the present invention, the metal deposition layer is a vacuum deposition method (vaccum deposition method) by using a vacuum deposition method (vaccum deposition method) by depositing a metal oxide containing a metal or SiOx or Al 2 Ox on the surface of the base film to more than 0.6 optical It is characterized in that it is formed to have an optical density.

본 발명의 또 다른 구성에 따르면, 상기 금속 증착층을 보호하기 위한 코팅층은 아크릴계, 폴리에스터계, 에폭시계 수지, 우레탄계 수지 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 고분자 수지를 상기 금속 증착층 위에 코팅하여 형성된 것임을 특징으로 한다.According to another configuration of the present invention, the coating layer for protecting the metal deposition layer is formed by coating a polymer resin containing at least one selected from acrylic, polyester, epoxy resin, urethane resin on the metal deposition layer It is characterized by.

상기 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반사 커버레이 필름의 제조 방법은;Method for producing a reflective coverlay film of the present invention for achieving the above another object;

폴리이미드 필름, 폴리에스터 필름, 아라미드 필름과 같은 절연성 기재 필름의 일 표면에 금속 증착층을 형성한 후 고분자 수지 보호층을 코팅하는 단계;Forming a metal deposition layer on one surface of an insulating base film such as a polyimide film, a polyester film, an aramid film, and then coating the polymer resin protective layer;

상기 금속 증착층 및 보호층이 형성된 이면에 난연성 접착제를 도포한 후 상기 접착제 도포면에 이형층 기재와 라미네이션을 실시하는 단계로 구성됨을 특징으로 한다.After applying the flame-retardant adhesive on the back surface formed with the metal deposition layer and the protective layer is characterized in that consisting of the step of performing a release layer substrate and lamination on the adhesive coating surface.

상기 또 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반사 커버레이 필름을 포함하는 연성 인쇄회로기판은; Flexible printed circuit board comprising a reflective coverlay film of the present invention for achieving the above another object;

기재 필름의 일면에 가시광선 영역의 평균 반사율이 60% 이상이고, 전광선 투과율이 30% 이하인 금속 증착층 및 상기 증착층을 보호하는 수지 코팅층이 형성되고 그 반대 면에 접착제와 보호 이형층이 순차적으로 형성된 반사 커버레이 필름의 보호 이형층을 제거한 후, 접착제면을 회로패턴이 형성된 동장적층판(CCL)의 회로면과 접착하여 이루어진 것임을 특징으로 한다. A metal deposition layer having an average reflectance of 60% or more and a total light transmittance of 30% or less and a resin coating layer protecting the deposition layer are formed on one surface of the base film, and an adhesive and a protective release layer are sequentially formed on the opposite side thereof. After removing the protective release layer of the formed reflective coverlay film, the adhesive surface is made by adhering to the circuit surface of the copper clad laminate (CCL) having a circuit pattern formed.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 반사 커버레이 필름은 절연성 기재 필름의 일 표면에 일정한 반사율과 전광선 투과율을 갖는 금속 증착층과 증착 보호 코팅층, 그 이면에 접착제층 및 이형층 기재와 라미네이션을 실시하여 제조되므로, 종래에 사용되는 연성인쇄회로기판 제조 공정상의 잉크 인쇄 공정 없이도 높은 반사율과 고 차폐성을 가지고 외관 품질, 균일도가 우수하게 제조될 수 있어 광원의 반사 효율을 증가시키고 따라서 우수한 휘도를 구현하는 백라이트 유닛용 커버레이 필름으로 사용될 수 있을 뿐 아니라, 내열성 및 내화학성이 뛰어나 연성인쇄회로기판 제조 공정에 사용이 가능한 커버레이 필름을 제공한다.Reflective coverlay film of the present invention configured as described above is prepared by performing a lamination with the adhesive layer and the release layer substrate on the back surface of the insulating substrate film, the metal deposition layer and the deposition protection coating layer having a constant reflectance and total light transmittance, the back surface Therefore, the backlight unit can be manufactured with high reflectivity and high shielding properties and excellent appearance quality and uniformity without the ink printing process of the conventional flexible printed circuit board manufacturing process, thereby increasing the reflection efficiency of the light source and thus realizing excellent brightness. Not only can be used as a coverlay film for the present invention, but also excellent heat resistance and chemical resistance provides a coverlay film that can be used in a flexible printed circuit board manufacturing process.

이하, 본 발명을 바람직한 실시형태에 의해 보다 자세하게 설명한다. 다만, 아래의 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 할 것이다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail by preferable embodiment. However, the following examples are only presented by way of example only to more specifically describe the present invention, and do not represent all of the technical spirit of the present invention, various equivalents that may be substituted for them at the time of the present application It will be appreciated that there may be water and variations.

본 발명의 바람직한 실시형태에 따르면, 반사 커버레이 필름은 절연성 플라스틱 기재의 일면에 난연성 접착제가 형성되고, 접착제 표면을 보호하기 위한 이형층을 가진 보호기재의 이형 처리면이 접착제와 접하도록 합지되어 지고, 절연성 플 라스틱 기재의 반대면에 금속 증착층과 이 금속 증착층을 보호하는 수지 코팅층이 형성되어 지도록 구성된다.According to a preferred embodiment of the present invention, the reflective coverlay film is formed such that a flame-retardant adhesive is formed on one surface of the insulating plastic substrate, and the release treatment surface of the protective substrate having a release layer for protecting the adhesive surface is brought into contact with the adhesive. On the opposite side of the insulating plastic substrate, a metal deposition layer and a resin coating layer for protecting the metal deposition layer are formed.

이때, 상기 절연성 필름으로서는 폴리이미드, 폴리에스테르나프탈레이트, 폴리에스테르, 폴리페닐렌술페이트, 폴리에스테르술폰, 폴리에틸케톤, 아라미드, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트 등의 플라스틱으로 이루어지는 필름을 들 수 있다. 상기 절연성 필름의 두께는 5 내지 200㎛가 바람직하다. 또한, 필요에 의해서 가수분해, 코로나 방전, 저온 플라즈마, 물리적 표면 요철 처리, 이접착 코팅 처리 등의 표면 처리를 실시한 것이라도 좋다. 상기 절연성 필름의 두께는 가장 바람직하기로는 10 내지 125㎛의 범위에서 용도에 맞게 사용할 수 있다.At this time, as said insulating film, the film which consists of plastics, such as a polyimide, polyester naphthalate, polyester, polyphenylene sulfate, polyester sulfone, polyethyl ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, is mentioned. As for the thickness of the said insulating film, 5-200 micrometers is preferable. Moreover, surface treatment, such as hydrolysis, corona discharge, low temperature plasma, a physical surface asperity processing, and an easily-adhesive coating process, may be performed as needed. The thickness of the insulating film is most preferably used in the range of 10 to 125㎛.

본 발명의 바람직한 실시형태에 따른, 상기 접착제 층은 프레스를 통해 회로면에 직접 접하여서 접착되는 부분으로써 프레스 공정에서 적당한 접착제의 흐름을 통해 회로를 감싸는 역할을 한다. 이러한 접착제는 프레스 후에 분자 간의 가교를 통해 경화되는 기능을 할 수 있도록 가교 가능한 기능기를 가진 열경화성 수지(예를 들어, 에폭시계 또는 아크릴계 등)가 포함되어 있고, 또한 흐름성을 제어할 수 있는 열가소성 수지, 예를 들어 아크릴로니트릴-부타디엔공중합체(NBR) 등이 포함되어 있다. 또한, 전자 부품으로써 만족되어야 하는 수준의 난연성을 갖도록 하기 위해 브롬계 난연제 또는 인계 난연제 등이 포함될 수 있으며, 유기 또는 무기 입자를 포함시켜 기계적 특성이나, 난연성을 향상시킬 수도 있다. 상기 난연성 접착제 층의 두께는 동장적층판으로부터 형성된 회로 패턴의 두께에 따라 바람직하기로는 5 내지 50㎛ 범위 내에서 용도에 맞게 적용할 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention, the adhesive layer is a portion which is directly contacted with the circuit surface through a press, and serves to surround the circuit through a suitable flow of adhesive in the pressing process. Such an adhesive includes a thermosetting resin having a crosslinkable functional group (e.g., epoxy or acrylic) so as to be cured through crosslinking between molecules after pressing, and also a thermoplastic resin capable of controlling flowability. Acrylonitrile-butadiene copolymer (NBR) and the like. In addition, a bromine-based flame retardant or a phosphorous-based flame retardant may be included in order to have a level of flame retardancy to be satisfied as an electronic component, and mechanical properties or flame retardancy may be improved by including organic or inorganic particles. The thickness of the flame-retardant adhesive layer is preferably applied in accordance with the use within the range of 5 to 50㎛ according to the thickness of the circuit pattern formed from the copper clad laminate.

본 발명에 따른 상기 접착제층 상에 부착되는 박리 가능한 보호기재로서는 접착제 층의 형태를 손상 없이 박리할 수 있는 것이어야 하는데, 예를 들어, 실리콘 혹은 불소화합물의 코팅 처리를 실시한 폴리에스테르 필름(polyester film), 폴리올레핀계 필름, 그리고 이것들을 라미네이트한 종이를 들 수 있으며, 사용 목적에 따라 1종을 선택하여 사용할 수 있다.The peelable protective substrate attached on the adhesive layer according to the present invention should be one capable of peeling off the form of the adhesive layer without damage, for example, a polyester film subjected to a coating treatment of silicon or a fluorine compound ), A polyolefin-based film, and a paper laminated therewith, and one kind can be selected and used according to the purpose of use.

또한, 바람직한 박리 가능한 보호기재의 두께는 12.5 내지 150㎛이다. 상기 범위보다 작으면 취급성이 나빠지고, 상기 범위보다 두꺼우면 코스트(cost)가 높아지는 문제가 있다.In addition, the thickness of the preferable peelable protective base material is 12.5-150 micrometers. If it is smaller than the above range, the handleability worsens, and if it is thicker than the above range, the cost increases.

본 발명에 따라 상기 접착제 층의 이면에 형성되어 반사층 역할을 담당하는 금속 증착막의 재료로서는 특별히 한정되지 않지만, Al, Cu, Sn, In, Zn 등의 금속, 또는 상기 금속에서 선택된 2종 이상의 금속혼합물, 또는 합금 등을 이용할 수 있다. 금속산화물 증착막의 재료로서는 특별히 한정되지 않지만, SiOx, Al2Ox, InOx, SnOx 등의 금속 산화물, 또는 2종 이상의 금속산화물의 화합물 또는 혼합물 등을 이용할 수 있다. 본 발명에 따른 금속 증착층의 재료로는 알루미늄 산화물이 가장 바람직하다.According to the present invention, the material of the metal deposition film formed on the back surface of the adhesive layer and serving as a reflective layer is not particularly limited, but may be a metal such as Al, Cu, Sn, In, Zn, or two or more metal mixtures selected from the metals. Or an alloy may be used. As the vapor-deposited film of metal oxide material it is not particularly limited, and may take advantage of a SiO x, Al 2 O x, InO x, SnO x , such as a metal oxide, or a second compound or a mixture of one metal oxide or more and the like. As the material of the metal deposition layer according to the present invention, aluminum oxide is most preferred.

상기 금속 증착층의 두께는 필름의 요구특성에 따라, 적당한 두께로 할 수 있으며, 증착 필름의 플렉시블 특성 등을 고려할 때 0.006㎛에서 1㎛이 바람직하다. 또한, 반사층으로서의 역할을 할 수 있기 위해서는 바람직한 광학밀도가 0.6 이상이어랴 하며, 더욱 바람직하게는 0.9 이상이어야 한다. 상기 금속 증착층의 광 학밀도가 0.6보다 낮을 경우에는 전광투과율이 50% 이상 높아져 차폐력 및 광택도가 떨어지는 문제가 있다.The thickness of the metal deposition layer may be an appropriate thickness according to the required characteristics of the film, and considering the flexible characteristics of the deposited film, the thickness is preferably 0.006 µm to 1 µm. In addition, in order to be able to serve as a reflective layer, the preferred optical density should be 0.6 or more, and more preferably 0.9 or more. When the optical density of the metal deposition layer is lower than 0.6, the total light transmittance is increased by 50% or more, and thus there is a problem in that shielding power and glossiness are inferior.

상기 금속 증착층의 경우 반사율, 차폐력, 광택도를 부여하는 기능을 가지고 있지만, 단일층 만으로는 연성회로기판 제조 공정 시 고온, 고습 조건에서 산화가 발생할 수 있고, 내열성, 내화학성, 밀착력에 문제가 발생될 수 있다. 그렇기 때문에, 연성인쇄회로기판의 커버레이 필름으로 사용되기 위해서는 상기 금속 증착층을 보호할 수 있는 코팅층이 필요하다.The metal deposition layer has a function of imparting reflectance, shielding power, and glossiness, but a single layer alone may cause oxidation in high temperature and high humidity conditions in a flexible circuit board manufacturing process, and may cause problems in heat resistance, chemical resistance, and adhesion. Can be generated. Therefore, in order to be used as a coverlay film of a flexible printed circuit board, a coating layer capable of protecting the metal deposition layer is required.

본 발명의 바람직한 실시형태에 따라 상기 금속층을 보호하는 역할을 하는 상기 고분자 수지 코팅층은 그 두께를 0.01㎛ 이상 5㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 0.01㎛ 미만에서는 보호층으로의 역할 효과가 적고, 5㎛를 초과하면 플렉시블 특성과 제조 비용 측면에서 문제가 발생할 수 있어 바람직하지 않다.According to a preferred embodiment of the present invention, the polymer resin coating layer serving to protect the metal layer preferably has a thickness of 0.01 μm or more and 5 μm or less. If the thickness is less than 0.01 μm, the effect of the protective layer is less. If the thickness is more than 5 μm, problems may occur in terms of flexibility and manufacturing cost, which is not preferable.

본 발명에 따른 보호 코팅층 구성하는 조성물의 수지로는, 여기에 한정되는 것은 아니지만, 폴리메타크릴산메틸 또는 메타크릴산에스테르 공중합체 등의 아크릴계, 폴리에스테르계, 폴리우레탄계, 에폭시계, 비닐계, 폴리스티렌계, 폴리아미드계, 우레아계, 요소계 중 1종 이상을 사용할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 투명성이 좋고 경화가 용이한 폴리우레탄계와 아크릴계를 단독 또는 2종 이상 혼용하는 것이 좋다. 상기 조성물 중의 수지는 고형 중량비로써 코팅층의 20 내지 80%, 바람직하게는 30 내지 60%를 사용할 수 있다. 수지의 중량비가 너무 낮으면 바인더로써의 역할을 충실히 수행할 수 없고, 수지의 중량비가 너무 많으면 차폐력이 나빠져 바람직하지 않다.Although the resin of the composition which comprises the protective coating layer which concerns on this invention is not limited to this, Acrylic type, polyester type, polyurethane type, epoxy type, vinyl type, such as polymethyl methacrylate or methacrylic acid ester copolymer, At least one of polystyrene, polyamide, urea, and urea may be used, and more preferably, polyurethane alone or acryl may be used alone or in combination of two or more. The resin in the composition may use 20 to 80%, preferably 30 to 60% of the coating layer as a solid weight ratio. If the weight ratio of the resin is too low, the role as a binder cannot be faithfully fulfilled, and if the weight ratio of the resin is too large, the shielding force is bad, which is not preferable.

본 발명에 따른 상기 조성물 중에 포함되는 경화제로써는 아민계, 멜라민계, 페놀계, 이소시아네이트계, 우레탄계 중 선택된 1종 이상이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 함유되는 비율은 0.1 내지 20 중량%로 되는 것이 바람직하다.As the curing agent included in the composition according to the present invention, one or more selected from amine, melamine, phenol, isocyanate and urethane may be used, and preferably the ratio is 0.1 to 20% by weight. Do.

본 발명에 따른 상기 커버레이 필름에 접착제층을 형성하기 위한 도포 방식은 콤마(comma) 코팅, 립(lip) 코팅, 롤(roll) 코팅, 그라비어(gravure) 코팅 등을 적용할 수 있으며, 건조기 온도 50 내지 200℃에서, 0.5 내지 30m/min의 속도로 코팅 후 경화시키는 것이 바람직하다.The coating method for forming an adhesive layer on the coverlay film according to the present invention may be applied by comma coating, lip coating, roll coating, gravure coating, etc. At 50 to 200 ° C., it is preferred to cure after coating at a rate of 0.5 to 30 m / min.

본 발명에 따른 금속 증착층의 경우, 금속 증착층의 증착 방법은 보편적인 진공증착법을 적용하는 것이 바람직하며, 증착층의 보호 코팅층의 도포 방식은 콤마(comma) 코팅, 립(lip) 코팅, 롤(roll) 코팅, 그라비어(gravure) 코팅 등을 적용할 수 있다. 상기 보호 코팅층의 경화는 열경화 방식과 전리 방사선 경화 방식 중 하나를 선택할 수 있으며, 바람직하게는 전리방사선 경화 방식을 하는 것이 좋다. 도포 후 경화 공정에서 상온 방치 또는 50 내지 150℃에서, 1 내지 7일 정도로 숙성하여 경화 과정을 진행시키는 것도 좋다.In the case of the metal deposition layer according to the present invention, the deposition method of the metal deposition layer is preferably to apply a universal vacuum deposition method, the coating method of the protective coating layer of the deposition layer is a comma coating, lip coating, roll (roll) coating, gravure (gravure) coating and the like can be applied. Curing of the protective coating layer may be selected from a thermal curing method and an ionizing radiation curing method, preferably an ionizing radiation curing method. After application, the curing process may be left at room temperature in a curing process or aged at 50 to 150 ° C. for about 1 to 7 days.

상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 금속 증착층의 반사층, 금속증착층을 보호하는 수지 코팅층 그리고 접착제층이 구비된 커버레이 필름을 회로패턴이 형성되어 진 회로면 상에 가접하여 연성인쇄회로기판을 제조할 경우 FPCB 공정에서 잉크 도포, 인쇄, 경화, 타발 등의 공정을 생략할 수 있기 때문에 그에 따른 경제적 효과가 또한 아주 크다.The flexible printed circuit board is welded by attaching a coverlay film provided with a reflective layer, a resin coating layer protecting the metal deposition layer, and an adhesive layer on the circuit surface on which the circuit pattern is formed according to the present invention. In the case of manufacturing, the application of ink, printing, curing, punching, etc. in the FPCB process can be omitted, so the economic effect is also great.

이하, 본 발명의 실시예 및 비교예에 의해 보다 자세하게 설명한다.Hereinafter, the Example and comparative example of this invention are demonstrated in detail.

실시예 1Example 1

절연성 필름인 폴리이미드 12.5㎛ 필름 위에 알루미늄 산화물을 진공증착법에 의해 증착한다. 증착층의 광학밀도는 0.9가 되도록 실시하였으며, 그 후 우레탄 아크릴레이트계 올리고머(EB9970, SKUCB사 제조) 95중량부와 광중합 개시제(IRGACURE184, Ciba사 제조) 5중량부를 혼합하여, 메틸에틸케톤(MEK, methyl ethyl keton)에 녹인 후 알루미늄 증착층 위에 도포하였으며, UV선을 통해 보호 수지 코팅층을 경화시켰다. 알루미늄 산화물 증착층과 보호 코팅층의 총 두께는 3㎛가 되도록 도포하여 반사층인 금속 증착층 및 보호 수지 코팅층을 형성하였다.Aluminum oxide is deposited by vacuum deposition on a polyimide 12.5 μm film that is an insulating film. The optical density of the deposited layer was 0.9. Then, 95 parts by weight of a urethane acrylate oligomer (EB9970, manufactured by SKUCB) and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (IRGACURE184, manufactured by Ciba) were mixed, and methyl ethyl ketone (MEK , methyl ethyl keton) was applied on the aluminum deposition layer, and the protective resin coating layer was cured through UV rays. The total thickness of the aluminum oxide deposited layer and the protective coating layer was applied to 3 μm to form a metal deposition layer and a protective resin coating layer which are reflective layers.

반사층인 금속 증착층이 형성된 기재필름 뒷면에 에폭시계 접착제(9C1L-0000(4S)에 적용된 접착제, 도레이새한(주) 제조)를 코팅한 다음 160℃에서 5분간 건조하여 접착제층 보호기재로 이형필름(XD5BR, 도레이새한(주) 제조)과 라미네이션 후 접착제 두께가 25㎛인 커버레이 필름을 제조하였다.Epoxy-based adhesive (adhesive applied to 9C1L-0000 (4S), manufactured by Toray Saehan Co., Ltd.) was coated on the back side of the base film on which the metal deposition layer as the reflective layer was formed, and then dried at 160 ° C. for 5 minutes to release the film as an adhesive layer protective substrate. (XD5BR, manufactured by Toray Saehan Co., Ltd.) and a coverlay film having an adhesive thickness of 25 μm after lamination was prepared.

실시예 2Example 2

절연성 필름인 폴리이미드 12.5㎛ 필름 위에 알루미늄 산화물을 진공증착법에 의해 증착한다. 증착층의 광학밀도는 0.7이 되도록 실시하였으며, 그 후 아크릴 계 수지(DAI-3A, shensho사 제조)를 적용한 90중량부, 경화제로서 이소시아네이트계 경화제(DAI-3B, shensho사 제조) 10중량부 혼합하여 톨루엔(toluene)에 녹인 후 알루미늄 증착층 위에 도포하였으며, 140℃에서 10분간 건조하여, 알루미늄 산화물 증착층 및 증착층의 보호 코팅층의 총 두께가 3㎛가 되도록 도포하여 증착층 및 보호 코팅층을 형성하였다.Aluminum oxide is deposited by vacuum deposition on a polyimide 12.5 μm film that is an insulating film. The optical density of the deposited layer was 0.7, and then mixed with 90 parts by weight of acrylic resin (DAI-3A, manufactured by shensho) and 10 parts by weight of isocyanate-based curing agent (DAI-3B, manufactured by shensho) as a curing agent. It was dissolved in toluene and then coated on the aluminum deposition layer, and dried at 140 ° C. for 10 minutes, so that the total thickness of the aluminum oxide deposition layer and the protective coating layer of the deposition layer was 3 μm to form a deposition layer and a protective coating layer. It was.

반사층인 금속 증착층이 형성된 기재필름 뒷면에 에폭시계 접착제(9C1L-0000(4S)에 적용된 접착제, 도레이새한(주) 제조)를 코팅한 다음 160℃에서 5분간 건조하여 접착제층 보호기재로 이형필름(XD5BR, 도레이새한(주) 제조)과 라미네이션 후 접착제 두께가 25㎛인 커버레이 필름을 제조하였다.Epoxy-based adhesive (adhesive applied to 9C1L-0000 (4S), manufactured by Toray Saehan Co., Ltd.) was coated on the back side of the base film on which the metal deposition layer as the reflective layer was formed, and then dried at 160 ° C. for 5 minutes to release the film as an adhesive layer protective substrate. (XD5BR, manufactured by Toray Saehan Co., Ltd.) and a coverlay film having an adhesive thickness of 25 μm after lamination was prepared.

비교예 1Comparative Example 1

실시예 1의 조건에서 증착층의 보호 코팅층을 적용하지 않은 점을 제외하고는 실시예1과 동일하게 반사 커버레이 필름을 제조하였다.A reflective coverlay film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the protective coating layer of the deposition layer was not applied under the conditions of Example 1.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 1의 조건에서 알루미늄 산화물 증착층의 광학밀도를 0.2가 되도록 제조하였으며, 그 외 실시예 1과 동일하게 반사 커버레이 필름을 제조하였다.The optical density of the aluminum oxide deposited layer was prepared to be 0.2 under the conditions of Example 1, and a reflective coverlay film was prepared in the same manner as in Example 1.

비교예 3Comparative Example 3

실시예 1의 조건에서 반사층인 금속 증착층 대신 종래 기술에 따라 포토솔더 레지스트(PSR, SPI-707 SCRL TECH사 제조)를 커버레이 표면에 실크 스크린 방식으로 인쇄 후 UV경화, 열경화(150℃ 1시간)를 진행하여, 포토솔더레지스트층의 두께가 15㎛인 커버레이 필름을 제조하였다.In the condition of Example 1, after the photosolder resist (PSR, manufactured by SPI-707 SCRL TECH Co., Ltd.) was printed on the surface of the coverlay by a silk screen method instead of the metal deposition layer serving as the reflective layer, UV curing and thermal curing (150 ° C. 1). Time) was carried out to prepare a coverlay film having a thickness of the photosolder layer of 15 µm.

실험예Experimental Example

상기 본 발명에 따른 각 실시예에 의해 제조된 반사 커버레이 필름과 비교예에서 제조된 커버레이 필름들에 대해 각각 다음과 같이 반사율, 투과율, 내열성 및 내화학성에 대해 평가하고 그 결과를 다음 표 1에 나타냈다;The reflective coverlay films prepared by the examples according to the present invention and the coverlay films prepared in the comparative examples were evaluated for reflectance, transmittance, heat resistance, and chemical resistance, respectively, as follows. Indicated in;

반사율: 각 커버레이 필름을 UV-Visible spectrophotometer(UV-3600, SHIMADZU사 제조)로 300nm~800nm 사이의 파장 범위에 있어서 측정되는 반사율 값 중 평균값을 측정하여 반사층 평균반사율로 했다. Reflectance: The average value of the reflectance values measured in the wavelength range between 300 nm-800 nm was measured for each coverlay film by UV-Visible spectrophotometer (UV-3600, the product made by SHIMADZU), and it was set as the reflecting layer average reflectance.

투과율: 각 커버레이 필름의 백색 반사층을 투명한 폴리에스테르 필름에 각각 동일 조건으로 도포한 것을 탁도계(Haze-meter, NDH-2000)로 JIS K7105에 따라 전체 광선 투과율을 측정했다.Transmittance: The total light transmittance was measured according to JIS K7105 with a turbidimeter (Haze-meter, NDH-2000) in which the white reflective layer of each coverlay film was apply | coated to the transparent polyester film on the same conditions, respectively.

내열성 : 각 커버레이 필름들을 고온 건조기에 넣고 160도 30분간 열처리를 실시한 후 반사층의 변색 여부를 판단하여, 변색이 발생시 불합격이며, 변색이 없을시 합격으로 평가하였다.Heat resistance: After each coverlay film was placed in a high temperature dryer and subjected to heat treatment for 160 ° C for 30 minutes, it was judged whether the reflective layer was discolored.

내화학성 : 각 커버레이 필름들을 메칠에칠케톤(MEK)에 상온 10분간 담근 후 꺼내서 산업용 와이퍼(Sontara, Dupont사 제조)으로 반사층 표면을 10회 이상 문지른 후 반사층에 손상이 가면 불합격, 이상이 없으면 합격으로 처리하였음.Chemical resistance: Soak each coverlay film in methyl ethyl ketone (MEK) for 10 minutes at room temperature, take it out, rub it with an industrial wiper (Sontara, manufactured by Dupont) at least 10 times, and if the reflecting layer is damaged, fail or fail. Processed as pass.

광학밀도 : 각 커버레이 필름 증착층의 광학밀도를 측정하기 위해서, O.D측정기(D-200Ⅱ, Gretag Macbeth사 제조)를 통하여 평가하였다.Optical density: In order to measure the optical density of each coverlay film vapor deposition layer, it evaluated through the O.D measuring machine (D-200II, Gretag Macbeth company make).

평가항목Evaluation item 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 반사층 두께(보호 수지층 포함)Reflective layer thickness (including protective resin layer) 3㎛3㎛ 3㎛3㎛ 1㎛1㎛ 3㎛3㎛ 15㎛15 μm 광학밀도(O.D)Optical Density (O.D) 0.90.9 0.70.7 0.90.9 0.20.2 -- 반사율(UV-visible 측정)Reflectance (UV-visible measurement) 7575 6060 7575 1717 1010 전체 투과율 (차폐력)
(PI + 반사층 + 보호층)
Total transmittance (shielding force)
(PI + reflective layer + protective layer)
1212 1717 1212 5050 1414
내열성Heat resistance 합격pass 합격pass 불합격fail 합격pass 합격pass 내화학성Chemical resistance 합격pass 합격pass 불합격fail 합격pass 합격pass

상기 표 1에서 확인할 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 금속 산화물 증착층 및 수지 보호층을 적용하여, 제조된 반사 커버레이 필름은 종래 기술에 따라 제조된 포토솔더레지스트 인쇄 커버레이와 비교시, 높은 수준의 반사율 및 낮은 투과율(고차폐성)을 가진다.As can be seen in Table 1, by applying the metal oxide deposited layer and the resin protective layer according to the present invention, the reflective coverlay film produced is high, compared with the photosolder resist printing coverlay prepared according to the prior art Level of reflectance and low transmittance (high shielding).

또한, 상기한 바와 같이 본 발명에 따른 실시예에 의해 제조된 반사 커버레이 필름은 종래의 커버레이 필름을 본 발명에 따른 금속 증착층을 적용한 반사 커버레이 필름으로 대체할 경우에 월등히 높은 수준의 반사율과 높은 차폐성을 통해 백라이트의 휘도를 높일 수 있으며, 복잡한 PSR 잉크 인쇄 다단계 공정을 생략할 수 있기 때문에 불량율을 줄이고, 제조 시간의 단축, 제조 인력의 축소 등 원가 절감을 이룰 수 있기 때문에 매우 경제적이다.In addition, as described above, the reflective coverlay film produced by the embodiment according to the present invention has an extremely high level of reflectance when the conventional coverlay film is replaced with the reflective coverlay film to which the metal deposition layer according to the present invention is applied. It is very economical because it can increase the brightness of the backlight through high shielding, and can reduce the defect rate, shorten the manufacturing time, and reduce the manpower because the complicated PSR ink printing multi-step process can be omitted.

Claims (5)

기재 필름의 일면에 가시광선 영역의 평균 반사율이 60% 이상이고, 전광선 투과율이 30% 이하인 금속 증착층이 형성되고, 그 증착층 윗면에 상기 증착층을 보호하기 위한 코팅층이 도포되어 있으며, 그 반대 면에 접착제와 이형층인 보호기재가 순차적으로 형성된 것임을 특징으로 하는 반사 커버레이 필름.A metal deposition layer having an average reflectance of 60% or more and a total light transmittance of 30% or less is formed on one surface of the base film, and a coating layer for protecting the deposition layer is coated on the top of the deposition layer, and vice versa. Reflective coverlay film, characterized in that the protective substrate formed on the surface of the adhesive and the release layer sequentially. 제 1항에 있어서, 상기 금속 증착층은 진공 증착법(vaccum deposition method)을 이용하여 알루미늄을 포함하는 금속이나 SiOx 또는 Al2Ox를 포함하는 금속 산화물을 기재 필름 표면에 증착시켜 0.6을 넘는 광학밀도(optical density)를 갖도록 형성한 것임을 특징으로 하는 반사 커버레이 필름.The method of claim 1, wherein the metal deposition layer is a vacuum deposition method (vaccum deposition method) by depositing a metal containing aluminum or a metal oxide containing SiOx or Al 2 Ox on the surface of the base film by using a vacuum deposition method (vaccum deposition method) Reflective coverlay film, characterized in that formed to have an optical density). 제 1항에 있어서, 상기 금속 증착층을 보호하기 위한 코팅층은 아크릴계, 폴리에스터계, 에폭시계 수지, 우레탄계 수지 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 고분자 수지를 상기 금속 증착층 위에 코팅하여 형성된 것임을 특징으로 하는 반사 커버레이 필름.The method of claim 1, wherein the coating layer for protecting the metal deposition layer is formed by coating a polymer resin containing at least one selected from acrylic, polyester, epoxy, urethane-based resin on the metal deposition layer Reflective coverlay film. 폴리이미드 필름, 폴리에스터 필름, 아라미드 필름과 같은 절연성 기재 필름의 일 표면에 금속 증착층을 형성한 후 고분자 수지 보호층을 코팅하는 단계;Forming a metal deposition layer on one surface of an insulating base film such as a polyimide film, a polyester film, an aramid film, and then coating the polymer resin protective layer; 상기 금속 증착층 및 보호층이 형성된 이면에 난연성 접착제를 도포한 후 상기 접착제 도포면에 이형층 기재와 라미네이션을 실시하는 단계로 구성됨을 특징으로 하는 반사 커버레이 필름의 제조 방법.And applying a flame-retardant adhesive on the back surface on which the metal deposition layer and the protective layer are formed, and then performing lamination with a release layer substrate on the adhesive coating surface. 기재 필름의 일면에 가시광선 영역의 평균 반사율이 60% 이상이고, 전광선 투과율이 30% 이하인 금속 증착층 및 상기 증착층을 보호하는 수지 코팅층이 형성되고 그 반대 면에 접착제와 보호 이형층이 순차적으로 형성된 반사 커버레이 필름의 보호 이형층을 제거한 후, 접착제면을 회로패턴이 형성된 동장적층판(CCL)의 회로면과 접착하여 이루어진 것임을 특징으로 하는 반사 커버레이 필름을 포함하는 연성 인쇄회로기판. A metal deposition layer having an average reflectance of 60% or more and a total light transmittance of 30% or less and a resin coating layer protecting the deposition layer are formed on one surface of the base film, and an adhesive and a protective release layer are sequentially formed on the opposite side thereof. And removing the protective release layer of the formed reflective coverlay film, and then bonding the adhesive surface to the circuit surface of the copper clad laminate (CCL) having the circuit pattern formed thereon.
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KR20170140865A (en) * 2016-06-14 2017-12-22 주식회사 핌텍스 Back-light textile for advertising and apparatus of advertising using the textile

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