KR20110063042A - Organic light emitting display device and manufacturing method of the same - Google Patents

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KR20110063042A
KR20110063042A KR1020090119973A KR20090119973A KR20110063042A KR 20110063042 A KR20110063042 A KR 20110063042A KR 1020090119973 A KR1020090119973 A KR 1020090119973A KR 20090119973 A KR20090119973 A KR 20090119973A KR 20110063042 A KR20110063042 A KR 20110063042A
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driving
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이종화
배성준
김민수
오석준
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

PURPOSE: An organic electroluminescent light emitting display device and a method for manufacturing the same are provided to sinter a sealing layer by implementing a heating and sintering process at low operational temperature. CONSTITUTION: A first substrate(110) faces a second substrate(111). An organic electroluminescent light emitting diode(120) is arranged between the first substrate and the second substrate. A driving circuit(130) applies a driving signal to a cell driving array for an organic layer. An insulating layer(140) is formed on the front surface of the first substrate including the driving circuit. A part of a sealing layer(150) is overlapped with the driving circuit on the rear side of the second substrate. A metal pad(160) is formed at a part of the insulating layer corresponding to the driving circuit. The sealing layer faces the metal pad.

Description

유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법{ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME}Organic electroluminescent display and its manufacturing method {ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME}

본 발명은 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법에 관한 것으로, 베젤 폭을 감소시킬 수 있는 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic light emitting display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an organic light emitting display device and a method of manufacturing the same, which can reduce a bezel width.

최근, 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 전기적 정보신호를 시각적으로 표현하는 디스플레이(display)분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 지닌 여러 가지 다양한 평판 표시장치(Flat Display Device)가 개발되어 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube : CRT)을 빠르게 대체하고 있다.In recent years, as the information age has entered, the display field for visually expressing electrical information signals has been rapidly developed, and various flat panel display devices having excellent performance of thinning, light weight, and low power consumption have been developed. Flat Display Device has been developed and is rapidly replacing the existing Cathode Ray Tube (CRT).

이 같은 평판 표시장치의 구체적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel device: PDP), 전계방출 표시장치(Field Emission Display device: FED), 전기발광 표시장치(Electro luminescence Display Device: ELD), 전기습윤 표시장치(Electro-Wetting Display: EWD) 및 유기전계발광 표시장치(Organic Light Emitting Display: OLED) 등을 들 수 있다.Specific examples of such a flat panel display include a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), and an electroluminescent display. (Electro luminescence Display Device (ELD), Electro-Wetting Display (EWD), and Organic Light Emitting Display (OLED)).

이 중, 유기전계발광표시장치(이하, "OLED"로 지칭함)는, 전자와 정공이 전자 주입 전극(캐소드 전극)과 정공 주입 전극(애노드 전극) 각각으로부터 발광층 내부로 주입되어, 주입된 전자와 정공의 결합으로 인해 엑시톤(exiton)이 발생되고, 엑시톤이 여기 상태에서 기저상태로 떨어지면서 방출되는 에너지에 의해 광이 발생되는 현상을 이용하여, 화상을 표시한다. 이와 같이 자체적으로 발광하는 OLED는, 액정표시장치(LCD)와 달리, 별도의 광원을 필요로 하지 않으므로, 소자의 부피와 무게를 줄일 수 있는 장점이 있으며, 반응속도가 액정표시장치에 비해 천 배 이상 빠르기 때문에, 동영상을 표시할 때 잔상이 남지 않는 장점이 있다. 그로 인해, OLED는 이동통신 단말기, 개인정보 단말기, 캠코더, 디지털 카메라 등의 고선명을 요구하는 소형 디스플레이 장치에 적용되고 있다. 이러한 OLED는, 능동 매트릭스(Active Matrix) 구동 방식과, 수동 매트릭스(Passive Matrix) 구동 방식으로 구분될 수 있다. 여기서, 능동 매트릭스 구동 방식의 OLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diode: AMOLED)는 3색(R, G, B) 서브 화소로 구성된 화소들이 매트릭스 형태로 배열되어 화상을 표시하게 된다.Among the organic light emitting display devices (hereinafter, referred to as "OLEDs"), electrons and holes are injected into the light emitting layer from the electron injection electrode (cathode electrode) and the hole injection electrode (anode electrode), respectively. Excitons are generated due to the combination of holes, and light is generated by energy emitted as the excitons fall from the excited state to the ground state, thereby displaying an image. As such, the OLED which emits light by itself does not need a separate light source, unlike a liquid crystal display (LCD), and thus has the advantage of reducing the volume and weight of the device, and the reaction speed is 1000 times higher than that of the liquid crystal display. Since it is faster, there is an advantage that no afterimage remains when displaying a video. Therefore, OLED has been applied to small display devices that require high definition of mobile communication terminals, personal information terminals, camcorders, digital cameras, and the like. Such OLEDs may be classified into an active matrix driving method and a passive matrix driving method. Here, in the active matrix organic light emitting diode (AMOLED) of the active matrix driving method, pixels composed of three color (R, G, B) sub-pixels are arranged in a matrix to display an image.

도 1은 종래기술에 따른 유기전계발광 표시장치의 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 유기전계발광표시장치의 일부를 나타낸 평면도이다. 1 is a cross-sectional view of an organic light emitting display device according to the prior art, and FIG. 2 is a plan view showing a part of the organic light emitting display device shown in FIG. 1.

종래기술에 따른 OLED(10)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 화상을 표시하는 영역(L, 이하, '표시영역'으로 지칭함)과 표시영역(L)의 외곽에 해당되는 비표시영역(D)로 정의되고, 서로 대향하는 하부기판(11a)과 상부기판(11b), 표시영역(L)에 대응되어 하부기판(11a)과 상부기판(11b) 사이에 배치되는 유기전계발광다이오드 어레이(12, 이하, "유기층"이라 함), 비표시영역(D)의 적어도 일부에 대응되는 하부기판(11a) 상의 일부에 배치되고, 유기층(12)을 구동하는 셀 어레이(미도시)에 구동신호를 인가하는 구동회로(13), 구동회로(13)를 포함한 하부기판(11a)의 전면에 형성되어 구동회로(13)가 전기적으로 안정되도록 구동회로(13)를 보호하는 절연층(14) 및 비표시영역(D)의 일부에 대응되도록 형성되어, 하부기판(11a)과 상부기판(11b)을 합착시키고, 유기층(12)이 배치된 내부를 밀봉하는 실링층(15)를 포함하여 이루어진다. 여기서, 실링층(15)은 외부의 수분 또는 산소에 의해 쉽게 열화되는 유기층(12)을 외부로부터 차단하기 위하여, OLED(10) 내부를 시키는 밀봉한다.As shown in FIG. 1, the OLED 10 according to the related art has a region (L, hereinafter, referred to as a display region) for displaying an image and a non-display region corresponding to an outer portion of the display region (L). An organic light emitting diode array defined as D) and disposed between the lower substrate 11a, the upper substrate 11b, and the display area L, which are disposed between the lower substrate 11a and the upper substrate 11b to face each other. 12, hereinafter referred to as an "organic layer", a drive signal disposed on a portion of the lower substrate 11a corresponding to at least a portion of the non-display area D and driving to a cell array (not shown) for driving the organic layer 12. An insulating layer 14 formed on the front surface of the lower substrate 11a including the driving circuit 13 and the driving circuit 13 to protect the driving circuit 13 so that the driving circuit 13 is electrically stable. It is formed to correspond to a part of the non-display area D, and the lower substrate 11a and the upper substrate 11b are bonded to each other, and the inside of the organic layer 12 is disposed. It comprises a sealing layer 15 for sealing. Here, the sealing layer 15 seals the inside of the OLED 10 in order to block the organic layer 12 easily deteriorated by external moisture or oxygen from the outside.

종래기술에 따르면, 실링층(15)는 투습 방지에 탁월한 것으로 알려져 있는 프릿페이스트(frit paste)로 마련되는 것이 일반적이다. 이러한 프릿페이스트는 프릿(frit, 유리원료)파우더, 프릿과 기판(11a, 11b) 사이의 열팽창계수 차이를 맞추기 위한 필러(filler, 충전재), 점착력을 발생시키는 바인더(binder, 교결재) 및 점도를 조절하는 솔벤트(solvent, 용매)의 혼합물로 구성된다.According to the prior art, the sealing layer 15 is generally provided with frit paste, which is known to be excellent for preventing moisture permeation. These frit pastes contain a frit powder, a filler to match the difference in coefficient of thermal expansion between the frit and the substrates 11a and 11b, a binder to generate adhesion, and a viscosity. It consists of a mixture of solvents (solvents) to control.

그런데, 실링층(15)를 프릿페이스트로 마련하면, OLED(10) 내부로의 투습을 적절히 방지할 수 있는 장점이 있는 반면, 섭씨 300도 이상의 공정온도에서 소성되기 때문에, 하부기판(11a)과 상부기판(11b)의 합착공정이 복잡해지고, 구동회로(13)를 보호하기 위하여 구동회로(13)와 실링층(15) 사이에 보호마진(16)이 마련되어야 하므로, 베젤(Bezel) 폭이 증가되는 문제점이 있다.However, when the sealing layer 15 is provided as a frit paste, the moisture permeation into the OLED 10 can be properly prevented, but since the sealing layer 15 is baked at a process temperature of 300 degrees Celsius or more, the lower substrate 11a and Since the bonding process of the upper substrate 11b becomes complicated and the protection margin 16 must be provided between the driving circuit 13 and the sealing layer 15 in order to protect the driving circuit 13, the bezel width is increased. There is an increasing problem.

이를 더욱 상세히 설명하면, 실링층(15)를 프릿페이스트로 마련하는 경우, 하부기판(11a)과 상부기판(11b)의 합착공정은, 비표시영역(D) 중 구동회로(13)과 중첩되지 않는 일부에 대응되도록 상부기판(11b)의 배면에 프릿페이스트를 패턴화하는 단계, 패턴화된 프릿페이스트를 소결(sintering)하는 단계, 상부기판(11b)과 하부기판(11a)을 서로 마주보도록 정렬하는 단계, 프릿페이스트가 형성된 부분에 대응되는 상부기판(11b)의 상부에 레이저(Lazer)를 조사하여 프릿페이스트를 소성(firing)하는 단계를 포함하여 이루어진다. 이와 같이, 실링층(15)를 프릿페이스트로 마련하는 경우, 소결하는 단계 및 레이저로 프릿페이스트를 소성하는 단계를 포함하여야 하므로, 상부기판(11b)과 하부기판(11a)의 합착 공정이 복잡해지는 문제점이 있다.In more detail, when the sealing layer 15 is provided as a frit paste, the bonding process of the lower substrate 11a and the upper substrate 11b does not overlap the driving circuit 13 in the non-display area D. Patterning the frit paste on the rear surface of the upper substrate 11b so as to correspond to a portion of the upper substrate 11b, sintering the patterned frit paste, and aligning the upper substrate 11b and the lower substrate 11a to face each other. And firing the frit paste by irradiating a laser on the upper portion of the upper substrate 11b corresponding to the portion where the frit paste is formed. As such, when the sealing layer 15 is prepared as a frit paste, the step of sintering and firing the frit paste with a laser should be included, thereby making the bonding process of the upper substrate 11b and the lower substrate 11a complicated. There is a problem.

또한, 프릿페이스트를 소결하는 단계는 섭씨 300도의 공정온도에서 수행되고, 프릿페이스트를 소성하는 단계는 섭씨 400도 이상의 공정온도에서 수행되어, 하부기판(11a)과 상부기판(11b)의 합착공정 시에 구동회로(13)가 높은 온도의 열에 의해 파손될 수 있다. 이에, 구동회로(13)를 높은 온도의 열로부터 보호하기 위하여, 구동회로(13)와 실링층(15) 사이에 소정 간격의 보호마진(16)이 마련된다.In addition, the step of sintering the frit paste is performed at a process temperature of 300 degrees Celsius, and the step of firing the frit paste is performed at a process temperature of 400 degrees Celsius or more, during the bonding process of the lower substrate 11a and the upper substrate 11b. The drive circuit 13 may be damaged by heat of high temperature. Accordingly, in order to protect the drive circuit 13 from heat of high temperature, a protection margin 16 at a predetermined interval is provided between the drive circuit 13 and the sealing layer 15.

이에 따라, 프릿페이스트로 마련된 실링층(15)을 포함하는 종래의 OLED(10)의 베젤은, 도 2에 도시된 바와 같이, 구동회로(12), 실링층(15), 프릿페이스트의 소성 및 소결을 위한 높은 온도의 열로부터 구동회로(13)를 보호하기 위한 보호마진(16) 및 OLED(10) 개개로 분리하는 스크라이빙(scribing) 공정에 의한 OLED(10)의 파손을 방지하기 위한 스크라이빙마진(17)을 포함하여야 하므로, (W12+W16+W15+W17)에 해당되는 폭(WB_10)을 갖게 된다. Accordingly, the bezel of the conventional OLED 10 including the sealing layer 15 provided as the frit paste, as shown in Figure 2, the firing of the drive circuit 12, the sealing layer 15, the frit paste and Protection margin 16 to protect the drive circuit 13 from high temperature heat for sintering and to prevent breakage of the OLED 10 by the scribing process to separate the OLED 10 individually Since the scribing margin 17 should be included, it has a width WB_10 corresponding to (W12 + W16 + W15 + W17).

따라서, 종래기술의 OLED(10)는 프릿페이스트로 마련된 실링층(15)를 포함하 여, 하부기판(11a)과 상부기판(11b)의 합착공정이 복잡해짐에 따라 제조방법이 복잡해지고, 베젤의 폭을 줄이는 데에 한계가 있어 슬림(slim)화에 한계가 있는 문제점이 있다.Therefore, the OLED 10 of the prior art includes a sealing layer 15 formed of a frit paste, and as the bonding process of the lower substrate 11a and the upper substrate 11b becomes complicated, the manufacturing method becomes complicated, and the bezel There is a limit in reducing the width of the slim (slim) has a problem that there is a limit.

이에 따라, 본 발명은, 제조공정이 용이해질 수 있고, 베젤 폭이 감소될 수 있는 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법을 제공한다.Accordingly, the present invention provides an organic light emitting display device and a method of manufacturing the same, which may facilitate a manufacturing process and reduce a bezel width.

이와 같은 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은, 화상이 표시되는 표시영역 및 상기 표시영역 외곽에 해당되는 비표시영역으로 정의되고, 서로 대향하는 제1 기판과 제2 기판; 상기 표시영역에 대응되어 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 배치되는 유기전계발광다이오드 어레이; 상기 비표시영역 중 일부에 대응되도록 상기 제1 기판 상에 형성되어, 상기 화상에 대응되는 구동신호를 생성하는 구동회로; 상기 구동회로를 포함한 상기 제1 기판의 전면에 형성되는 절연층; 및 상기 구동회로에 대향되는 상기 제2 기판의 배면에 금속페이스트로 형성되어, 상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 실링층을 포함함을 특징으로 하는 유기전계발광 표시장치를 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention, the display area and the non-display area corresponding to the outside of the display area is displayed, the first substrate and the second substrate facing each other; An organic light emitting diode array disposed between the first substrate and the second substrate to correspond to the display area; A driving circuit formed on the first substrate so as to correspond to a portion of the non-display area and generating a driving signal corresponding to the image; An insulating layer formed on an entire surface of the first substrate including the driving circuit; And a sealing layer formed on a rear surface of the second substrate facing the driving circuit, the sealing layer bonding the first substrate and the second substrate to each other.

그리고, 본 발명은, 화상이 표시되는 표시영역의 외곽에 해당되는 비표시영역에 대응되도록 배치되어 구동신호를 생성하는 구동회로가 형성되는 제1 기판을 마련하는 단계; 상기 구동회로를 포함한 상기 제1 기판의 전면에 절연층을 형성하는 단계; 상기 구동회로에 대응되는 상기 절연층 상에 금속패드를 형성하는 단계; 상기 구동회로에 대향되도록, 상기 제1 기판과 대향되는 제2 기판의 배면에, 금속페이스트로 실링층을 형성하는 단계; 상기 금속패드와 상기 실링층이 접촉하도록 상기 제1 기판과 상기 제2 기판을 정렬하는 단계; 및 상기 실링층이 상기 금속패드에 소성되도록, 상기 정렬된 제1 기판과 제2 기판을 열처리하여, 상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 유기전계발광 표시장치의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention includes the steps of: providing a first substrate on which a driving circuit is disposed so as to correspond to a non-display area corresponding to an outside of a display area in which an image is displayed and generates a driving signal; Forming an insulating layer on an entire surface of the first substrate including the driving circuit; Forming a metal pad on the insulating layer corresponding to the driving circuit; Forming a sealing layer with a metal paste on a rear surface of the second substrate facing the first substrate so as to face the driving circuit; Aligning the first substrate and the second substrate such that the metal pad contacts the sealing layer; And heat-treating the aligned first substrate and the second substrate to bond the first substrate and the second substrate to cause the sealing layer to be fired on the metal pad. It provides a method of manufacturing.

이상과 같이, 본 발명에 따른 유기전계발광 표시장치는 프릿페이스트에 비해 낮은 융해온도를 가지는 메탈페이스트로 마련된 실링층을 포함하여, 섭씨 300도 이상의 높은 공정온도에서 수행되는 레이저 소성 공정에 비해 낮은 공정온도에서 수행되는 가열 소성공정만으로도 실링층을 소성할 수 있다. As described above, the organic light emitting display device according to the present invention includes a sealing layer formed of a metal paste having a lower melting temperature than a frit paste, and is a lower process than a laser firing process performed at a high process temperature of 300 degrees Celsius or more. The sealing layer may be fired only by a heating firing step performed at a temperature.

이에, 유기전계발광 표시장치의 제조공정이 보다 용이해질 수 있다. 그리고, 실링층의 소성 공정에 의해 구동회로가 손상되지 않으므로, 구동회로를 보호하기 위한 보호마진을 배제할 수 있다. 이 뿐만 아니라, 구동회로와 실링층을 중첩시켜 배치할 수 있다. 따라서, 베젤 폭이 감소될 수 있으므로, 유기전계발광 표시장치가 보다 슬림하게 디자인될 수 있다.As a result, the manufacturing process of the organic light emitting display device may be easier. In addition, since the driving circuit is not damaged by the firing process of the sealing layer, a protection margin for protecting the driving circuit can be excluded. In addition to this, the driving circuit and the sealing layer can be superposed. Therefore, since the bezel width can be reduced, the organic light emitting display device can be designed to be slimmer.

또한, 구동회로의 상부에 배치되는 금속패드를 더 포함하여, 실링층의 계면특성이 향상되도록 함으로써, 상부기판과 하부기판이 더욱 견고하게 합착 및 밀봉될 수 있으므로, 유기전계발광 표시장치의 수명이 증가될 수 있다. 또한, 도전성인 금속패드가 접지전압레벨로 유지되어, 구동회로가 보다 안정적으로 구동될 수 있다.In addition, by further including a metal pad disposed on the upper portion of the driving circuit, by improving the interface characteristics of the sealing layer, the upper substrate and the lower substrate can be more firmly bonded and sealed, the life of the organic light emitting display device Can be increased. In addition, the conductive metal pad is maintained at the ground voltage level, so that the driving circuit can be driven more stably.

이하, 첨부된 도면을 참고하여, 본 발명의 실시예에 따른 유기전계발광 표시장치 및 그의 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, an organic light emitting display device and a manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기전계발광 표시장치의 단면도이다. 그리고, 도 4는 도 3에 도시된 유기전계발광 표시장치의 일부를 나타낸 평면도이다.3 is a cross-sectional view of an organic light emitting display device according to a first embodiment of the present invention. 4 is a plan view illustrating a part of the organic light emitting display device illustrated in FIG. 3.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기전계발광 표시장치(100, Organic Light Emitting Display: OLED, 이하 "OLED"로 지칭함)는, 화상이 표시되는 영역(L, 이하 "표시영역"으로 지칭함)과 표시영역(L)의 외곽에 대응되는 비표시영역(D)으로 정의되고, 서로 대향하는 제1 기판(110)과 제2 기판(111), 표시영역(L)에 대응되어 제1 기판(110)과 제2 기판(111) 사이에 배치되는 유기전계발광다이오드 어레이(Organic Light Emitting Array, 120, 이하 "유기층"으로 지칭함), 비표시영역(D)의 적어도 일부에 대응되는 제1 기판(110) 상의 일부에 형성되어 유기층(120)을 구동하는 셀 구동 어레이(미도시)에 구동신호를 인가하는 구동회로(130), 구동회로(130)를 포함한 제1 기판(110)의 전면에 형성되는 절연층(140), 비표시영역(D)의 일부에 대응되는 제2 기판(111)의 배면에 구동회로(130)과 적어도 일부가 중첩되도록 형성되는 실링층(150) 및 구동회로(130)에 대응되는 절연층(140)의 일부에 형성되어 실링층(150)에 접촉되는 금속패드(160)를 포함하여 이루어진다. 여기서, 실링층(150)과 금속패드(160)는, 서로 마주보도록 부착되어, 제1 기판(110)과 제2 기판(111)을 합착하고, 제1 기판(110)과 제2 기판(111) 사이의 유기층(120)이 배치된 내부를 밀봉한다.As shown in FIG. 3, the organic light emitting display device 100 according to the first embodiment of the present invention (hereinafter, referred to as OLED, hereinafter referred to as “OLED”) is an area (L, hereinafter) in which an image is displayed. The first substrate 110, the second substrate 111, and the display region L, which are defined as non-display regions D corresponding to the periphery of the display region L). An organic light emitting diode array 120, hereinafter referred to as an organic layer, disposed between the first substrate 110 and the second substrate 111, and at least a portion of the non-display area D. A first circuit including a driving circuit 130 and a driving circuit 130 formed on a portion of the first substrate 110 corresponding to the driving circuit to apply a driving signal to a cell driving array (not shown) driving the organic layer 120. The driving circuit 130 and the rear surface of the second substrate 111 corresponding to a portion of the insulating layer 140 and the non-display area D formed on the entire surface of the 110. And a metal pad 160 formed on a portion of the insulating layer 140 corresponding to the driving circuit 130 and the sealing layer 150 formed to overlap at least a portion thereof and in contact with the sealing layer 150. Here, the sealing layer 150 and the metal pad 160 are attached to face each other, the first substrate 110 and the second substrate 111 are bonded to each other, the first substrate 110 and the second substrate 111. Seal the inside of the organic layer 120 disposed between).

제1 기판(110)과 제2 기판(111)은 유리, 석영, 세라믹 또는 플라스틱 등으로 마련되는 투명한 절연성 기판이다. The first substrate 110 and the second substrate 111 are transparent insulating substrates made of glass, quartz, ceramic, or plastic.

표시영역(L)에 대응되는 제1 기판(110) 상의 일부에 배치되는 셀 구동 어레이(미도시)는 복수의 서브화소구동부로 구성된다. 복수의 서브화소구동부 각각은 구동회로(130)과 연결되는 게이트라인, 데이터라인, 스위치용 트랜지스터, 구동용 트랜지스터 및 커패시터를 포함하여 이루어진다. 여기서, 스위치용 트랜지스터는 게이트라인의 스캔 신호에 응답하여 데이터 라인으로부터의 데이터 신호를 공급한다. 구동용 트랜지스터는 게이트 전극, 게이트 절연막을 사이에 두고 게이트 전극에 중첩되는 반도체층 및 반도체층을 채널로 이용하는 소스/드레인 전극을 포함하고, 유기층(130)과 전기적으로 연결되어, 스위치용 트랜지스터로부터의 데이터 신호에 따라 유기층(130)에 흐르는 전류량을 제어한다. 커패시터는 스위치용 트랜지스터가 턴오프되더라도 구동용 트랜지스터를 통해 일정한 전류가 흐르도록 하는 역할을 한다. The cell driving array (not shown) disposed on a portion of the first substrate 110 corresponding to the display area L includes a plurality of sub-pixel driving units. Each of the plurality of subpixel drivers includes a gate line, a data line, a switching transistor, a driving transistor, and a capacitor connected to the driving circuit 130. Here, the switching transistor supplies a data signal from the data line in response to the scan signal of the gate line. The driving transistor includes a gate electrode, a semiconductor layer overlying the gate electrode with the gate insulating film interposed therebetween, and a source / drain electrode using the semiconductor layer as a channel, and electrically connected to the organic layer 130, thereby reducing the voltage from the switching transistor. The amount of current flowing through the organic layer 130 is controlled according to the data signal. The capacitor serves to allow a constant current to flow through the driving transistor even when the switching transistor is turned off.

유기층(130)은 복수의 서브화소를 포함한다. 복수의 서브화소 각각은, 구동용 트랜지스터와 연결된 제1 전극, 제1 전극과 절연되고 제1 전극에 대향되는 제2 전극 및 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치되어 발광하는 유기발광층을 포함한다. The organic layer 130 includes a plurality of subpixels. Each of the plurality of subpixels includes a first electrode connected to the driving transistor, a second electrode insulated from the first electrode and opposed to the first electrode, and an organic light emitting layer disposed between the first electrode and the second electrode to emit light. .

이때, 제1 전극은 애노드 전극으로 이용되고, 서브 화소의 경계에서 소정거리가 이격되어 인접한 서브 화소의 제1 전극과 절연되도록 형성된다. OLED(100)가 배면발광으로 설계될 경우 제1 전극은 투명 도전체로 형성되고, OLED(100)를 전면발광으로 설계할 경우 제1 전극은 Cr, Al, AlNd, Mo, Cu, W, Au, Ni, Ag 등의 단일 금속 또는 이들의 합금, 산화물 또는 다층(multi layer)으로 형성될 수 있다. In this case, the first electrode is used as an anode electrode and is formed to be insulated from the first electrode of an adjacent sub pixel by being spaced a predetermined distance from the boundary of the sub pixel. When the OLED 100 is designed for back emission, the first electrode is formed of a transparent conductor, and when the OLED 100 is designed for top emission, the first electrode is formed of Cr, Al, AlNd, Mo, Cu, W, Au, It may be formed of a single metal such as Ni, Ag, or an alloy thereof, an oxide, or a multilayer.

그리고, 제2 전극은 캐소드 전극으로 사용되며, 표시영역(L)에 대응되어 형성된다. OLED(100)가 배면발광으로 설계될 경우, 제2 전극은 Cr, Al, AlNd, Mo, Cu, W, Au, Ni, Ag 등의 단일금속 또는 이들의 합금, 산화물 또는 다층(multi layer)으로 형성될 수 있고, OLED(100)가 전면발광으로 설계될 경우, 제2 전극은 유기발광층에서 발생된 광이 외부로 방출될 수 있도록 투명 도전체로 형성된다.The second electrode is used as a cathode and is formed to correspond to the display area L. FIG. When the OLED 100 is designed for back emission, the second electrode may be formed of a single metal such as Cr, Al, AlNd, Mo, Cu, W, Au, Ni, Ag, or an alloy thereof, an oxide, or a multilayer thereof. When the OLED 100 is designed for top emission, the second electrode is formed of a transparent conductor so that light generated in the organic light emitting layer can be emitted to the outside.

유기 발광층은 정공 주입층(hole injection layer: HIL), 정공 수송층(hole transporting layer: HTL), 발광층(emission layer: EML), 전자 수송층(electron transporting layer: ETL) 및 전자 주입층(electron injection layer: EIL)을 포함하여 이루어진다. 이러한 유기 발광층은 제1 전극과 제2 전극에서 각각 주입된 정공과 전자가 결합하여 엑시톤(exiton)이 형성되고, 엑시톤(exiton)이 여기상태에서 기저상태로 떨어지면서 광이 발생되는 층으로, 서브화소 단위로 R, G, B(RED, GREEN, BLUE)의 광을 발생한다. The organic light emitting layer includes a hole injection layer (HIL), a hole transporting layer (HTL), an emission layer (EML), an electron transporting layer (ETL), and an electron injection layer (electron injection layer) EIL). The organic light emitting layer is a layer in which exciton is formed by combining holes and electrons injected from the first electrode and the second electrode, and light is generated as the exciton falls from the excited state to the ground state. R, G, B (RED, GREEN, BLUE) light is generated in pixel units.

이와 같이 구성되는 유기층(130)은 제1 전극과 제2 전극을 통해 유기 발광층에 서로 다른 극성의 전압을 가하여, R, G, B(RED, GREEN, BLUE) 중 어느 하나에 해당되는 파장대의 광을 방출함으로써 화상정보를 표시한다.The organic layer 130 configured as described above applies light having a different polarity to the organic light emitting layer through the first electrode and the second electrode, thereby allowing light in a wavelength band corresponding to any one of R, G, and B (RED, GREEN, and BLUE). Image information is displayed by emitting the.

구동회로(130)는 셀 구동 어레이(미도시)의 게이트라인에 스캔신호를 인가하는 게이트구동회로, 셀 구동 어레이(미도시)의 데이터라인에 데이터신호를 인가하는 데이터구동회로, 유기층(130)의 에이징(aging)을 위한 에이징구동회로, 셀 구동 어레이(미도시)에 기준전압(Vref) 또는 구동전압(VDD)을 인가하는 드라이빙라인 및 셀 구동 어레이(미도시)에 접지전압을 인가하는 그라운드라인 중 적어도 하나를 포함하여 이루어진다. 특히, 간단하게 설계가능한 게이트 구동회로 또는 에이징 구동 회로, 그라운드 라인 등은, 셀 구동 어레이(미도시)와 마찬가지로, 제1 기판(110) 상에 형성될 수 있다. 또한, 복잡한 구조의 구동회로는 제1 기판(110) 상에 형성될 수도 있고, 테이프 캐리어 패키지(Tape Carrier Package:TCP)에 실장된 IC 칩 형태로 셀 구동 어레이(미도시)와 연결될 수도 있다. 제1 기판(110) 상에 형성되는 구동회로(130)는 도 4에 도시된 바와 같이, 비표시영역(D)의 일부에 배치된다.The driving circuit 130 may include a gate driving circuit applying a scan signal to a gate line of a cell driving array (not shown), a data driving circuit applying a data signal to a data line of a cell driving array (not shown), and the organic layer 130. Aging driving circuit for aging of the battery, a driving line for applying a reference voltage Vref or a driving voltage VDD to a cell driving array (not shown), and a ground for applying a ground voltage to a cell driving array (not shown) It comprises at least one of the lines. In particular, a simply designed gate driving circuit or an aging driving circuit, a ground line, or the like may be formed on the first substrate 110, similarly to a cell driving array (not shown). In addition, the driving circuit of a complicated structure may be formed on the first substrate 110 or may be connected to a cell driving array (not shown) in the form of an IC chip mounted on a tape carrier package (TCP). The driving circuit 130 formed on the first substrate 110 is disposed in a portion of the non-display area D as shown in FIG. 4.

절연층(140)은, 제1 기판(110) 상에 형성된 구동회로(130)와 셀 구동 어레이(미도시)가 전기적으로 안정되도록 하고, 충격과 휘어짐 등과 같은 외부의 스트레스 요인으로부터 구동회로(130)와 셀 구동 어레이(미도시)를 보호하기 위하여, 구동회로(130)를 포함한 제1 기판(110)의 전면에 형성된다. 이때, 유기층(130)과 셀 구동 어레이(미도시)에 접촉될 수 있도록, 셀 구동 어레이(미도시)의 일부에 대응하는 절연층(140)의 일부가 제거된 상태에서, 표시 영역(L)에 대응하여 유기층(130)이 배치된다.The insulating layer 140 makes the driving circuit 130 and the cell driving array (not shown) formed on the first substrate 110 electrically stable, and the driving circuit 130 is prevented from external stress factors such as impact and bending. ) And a cell driving array (not shown) are formed on the front surface of the first substrate 110 including the driving circuit 130. In this case, the display area L may be disposed in a state where a portion of the insulating layer 140 corresponding to a portion of the cell driving array (not shown) is removed so that the organic layer 130 and the cell driving array may be contacted. The organic layer 130 is disposed correspondingly.

실링층(150)은, 금속패드(160)과 함께, 제1 기판(110)과 제2 기판(111)을 합착하고 제1 기판(110)과 제2 기판(111) 사이에 유기층(120)이 배치된 내부를 밀봉하기 위한 것이다. 이러한 실링층(150)은 금속페이스트(metal paste)로 마련되고, 비표시영역(D) 중 일부에 대응되는 제1 기판(110) 상에 배치된다. 금소페이스트는 인듐(Indium: In) 또는 비스무스(Bismuth: Bi) 등과 같이, 섭씨 300도(℃) 이하의 낮은 용해온도를 가지는 금속 또는 그를 포함하는 합금과 플럭스(flux, 용매)의 혼 합물로 마련된다. 이와 같이, 실링층(150)으로 마련되는 금속페이스트는, 프릿페이스트(frit paste)의 투습율에 근접한 투습율을 가지므로, 유기층(130)이 열화되는 것을 최소화할 수 있고, 연성을 가지는 금속의 소재특성상 외부 충격시 크랙(crack) 발생도 최소화할 수 있다. 그리고, 금속페이스트는 섭씨 300도(℃) 이하의 공정온도에서 수행되는 소성공정에 의해 소성될 수 있다. 이에 금속페이스트의 소성공정은 프릿페이스트의 소성공정에 비해 비교적 용이하여, OLED(100)의 제조공정이 용이해질 수 있다. 또한, 금속페이스트의 소성공정은 유기층(120)과 구동회로(130)에 영향을 미치지 않으므로, 도 4에 도시된 바와 같이, 실링층(150)의 소성 공정에 필요한 높은 온도의 열로부터 구동회로(130)를 보호하기 위한 보호마진을 별도로 마련할 필요가 없을 뿐만 아니라, 실링층(150)과 구동회로(130)가 서로 중첩되도록 배치할 수 있으므로, 베젤 폭이 감소될 수 있다.The sealing layer 150 joins the first substrate 110 and the second substrate 111 together with the metal pad 160, and the organic layer 120 between the first substrate 110 and the second substrate 111. This is for sealing the arranged interior. The sealing layer 150 is made of metal paste and is disposed on the first substrate 110 corresponding to a part of the non-display area D. The gold paste is prepared as a mixture of a metal having a low melting temperature of 300 degrees Celsius or less, or an alloy containing the same and a flux, such as indium (In) or bismuth (Bi). do. As described above, since the metal paste provided as the sealing layer 150 has a moisture permeability close to the moisture permeability of the frit paste, the organic layer 130 may be minimized from deterioration and the metal paste may have a ductility. Due to the material properties, cracks can be minimized during external impact. The metal paste may be fired by a firing process performed at a process temperature of 300 degrees Celsius or less. Accordingly, the firing process of the metal paste is relatively easy compared to the firing process of the frit paste, and thus, the manufacturing process of the OLED 100 may be facilitated. In addition, since the baking process of the metal paste does not affect the organic layer 120 and the driving circuit 130, as shown in FIG. 4, the driving circuit may be formed from the high temperature heat necessary for the baking process of the sealing layer 150. Not only does it need to provide a protection margin for protecting the 130, but also the sealing layer 150 and the driving circuit 130 can be disposed to overlap each other, the bezel width can be reduced.

금속패드(160)는, 실링층(150)의 계면특성을 향상시켜, 제1 기판(110)과 제2 기판(111)이 보다 견고하게 합착되도록 하고, 제1 기판(110)과 제2 기판(111) 사이의 유기층(120)이 배치되는 내부가 외부로부터 견고하게 차단되도록 밀봉하기 위한 것이다. 이러한 금속패드(160)는, 실링층(150)과 접촉되도록, 실링층(150)에 대응되는 절연층(140) 상의 일부에 형성된다. The metal pad 160 improves the interfacial properties of the sealing layer 150, so that the first substrate 110 and the second substrate 111 are firmly bonded to each other, and the first substrate 110 and the second substrate are bonded to each other. It is for sealing so that the inside in which the organic layer 120 between 111 is arrange | positioned is firmly blocked from the outside. The metal pad 160 is formed on a portion of the insulating layer 140 corresponding to the sealing layer 150 to be in contact with the sealing layer 150.

이상에서 설명한 제1 실시예에 따른 OLED(100)를 제조하는 방법은 다음과 같다.A method of manufacturing the OLED 100 according to the first embodiment described above is as follows.

도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기전계발광 표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이다.5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to a first embodiment of the present invention.

본 발명의 제1 실시예에 따른 OLED(100)의 제조방법은, 도 6에 도시된 바와 같이, 화면이 표시되는 표시영역(L)에 대응되어 셀 구동 어레이(미도시)가 배치되고, 화면이 표시되지 않는 비표시영역(D)에 대응되어 구동회로(130)가 배치되는 제1 기판(110)을 마련하는 단계(S100), 구동회로(130)를 포함하는 제1 기판(110)의 전면에 절연층(140)을 형성하는 단계(S110), 구동회로(130)과 적어도 일부가 중첩되는 절연층(140) 상의 일부에 금속패드(160)를 형성하는 단계(S120), 구동회로(130)에 대향되어 구동회로(130)와 적어도 일부가 중첩되는 제2 기판(111)의 배면에 금속페이스트로 마련되는 실링층(150)을 형성하는 단계(S130), 실링층(150)과 금속패드(160)가 접촉하도록 제1 기판(110)과 제2 기판(111)을 정렬하는 단계(S140) 및 실링층(150)을 소성하여, 정렬된 제1 기판(110)과 제2 기판(111)을 열처리하여, 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 단계(S150)을 포함하여 이루어진다. 이때, OLED(200)의 제조방법은, 절연층(140)을 형성하는 단계(S110) 이후에, 셀 구동 어레이(미도시)의 일부에 대응하는 절연층(140)을 제거하는 단계 및 셀 구동 어레이(미도시)에 접촉하도록 표시영역(D)에 대응되는 절연층(140) 상에 유기층(120)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In the method of manufacturing the OLED 100 according to the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 6, a cell driving array (not shown) is disposed corresponding to the display area L on which the screen is displayed, and the screen Preparing a first substrate 110 on which the driving circuit 130 is disposed in correspondence with the non-display area D, which is not displayed (S100), of the first substrate 110 including the driving circuit 130. Forming an insulating layer 140 on the front surface (S110), forming a metal pad 160 on a portion of the insulating layer 140 at least partially overlapping the driving circuit 130 (S120), and driving circuit ( Forming a sealing layer 150 formed of a metal paste on a rear surface of the second substrate 111 opposite to the driving circuit 130 at least partially (S130), and the sealing layer 150 and the metal. Aligning the first substrate 110 and the second substrate 111 so that the pad 160 contacts (S140) and firing the sealing layer 150, the aligned first substrate 110 and the second substrate ( 111) Heat-treating, and bonding the first substrate and the second substrate (S150). In this case, in the method of manufacturing the OLED 200, after the forming of the insulating layer 140 (S110), removing the insulating layer 140 corresponding to a part of the cell driving array (not shown) and driving the cell. The method may further include forming the organic layer 120 on the insulating layer 140 corresponding to the display area D so as to contact the array (not shown).

그리고, 금속페이스트로 마련되는 실링층(150)은 섭씨 300도 이하에서 소성가능하므로, 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 단계(S150)는 섭씨 300도 이하의 공정온도에서 수행가능하다.In addition, since the sealing layer 150 provided as the metal paste may be baked at 300 degrees C or less, the bonding of the first substrate and the second substrate (S150) may be performed at a process temperature of 300 degrees Celsius or less.

이상과 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 OLED(100)는, 금속페이스트로 마련되는 실링층(150)과 실링층(150)의 계면특성을 향상시키는 금속패드(160)을 포함 한다. 이에 실링층(150)의 소성이 섭씨 300도 이하의 공정온도에서 수행될 수 있어 OLED(100)의 제조공정이 용이해지고, 구동회로(130)가 실링층(150)의 소성공정에 의해 파손될 염려가 없어져서 구동회로(130)을 보호하기 위한 보호마진을 제거할 수 있음과 더불어 구동회로(130)과 실링층(150)을 중첩되도록 배치할 수 있다. 따라서, OLED(100)의 베젤은, 도 4에 도시된 바와 같이, 구동회로(130), 금속패드(160), 실링층(150) 및 OLED(100) 개개로 분리하는 스크라이빙(scribing) 공정으로부터 OLED(100)을 보호하기 위한 스크라이빙마진(170)을 포함하는 반면, 구동회로(130), 금속패드(160) 및 실링층(150)이 중첩되도록 배치되어, 베젤의 폭(WB)은 구동회로(130)의 폭(W130)과 스크라이빙마진(170)의 폭(W170)을 합한 값(W130+W170)으로 결정될 수 있으므로, 종래의 OLED보다 슬림하게 디자인될 수 있다.As described above, the OLED 100 according to the first embodiment of the present invention includes a metal pad 160 that improves the interfacial properties of the sealing layer 150 and the sealing layer 150 provided with the metal paste. Since the firing of the sealing layer 150 may be performed at a process temperature of 300 degrees C or less, the manufacturing process of the OLED 100 may be facilitated, and the driving circuit 130 may be damaged by the firing process of the sealing layer 150. Since the protection margin for protecting the driving circuit 130 can be removed by eliminating, the driving circuit 130 and the sealing layer 150 may be overlapped. Accordingly, the bezel of the OLED 100 is scribing to separate the driving circuit 130, the metal pad 160, the sealing layer 150 and the OLED 100 individually, as shown in FIG. While including a scribing margin 170 to protect the OLED 100 from the process, the drive circuit 130, the metal pad 160 and the sealing layer 150 are arranged to overlap, the width of the bezel (WB) ) May be determined as a sum (W130 + W170) of the sum of the width W130 of the driving circuit 130 and the width W170 of the scribing margin 170, and thus may be designed to be slimmer than a conventional OLED.

다음, 본 발명의 제2 실시예에 따른 OLED에 대해 설명한다.Next, an OLED according to a second embodiment of the present invention will be described.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 유기전계발광 표시장치를 나타낸 평면도이고, 도 7은 도 6에 도시된 A-A'의 단면도이다.6 is a plan view illustrating an organic light emitting display device according to a second exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 6.

본 발명의 제2 실시예에 따른 OLED(200)는, 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 표시영역(L)과 비표시영역(D)로 정의되고 서로 대향하는 제1 기판(110)과 제2 기판(111), 표시영역(L)에 대응되어 제1 기판(110)과 제2 기판(111) 사이에 배치되는 유기층(120), 비표시영역(D)의 일부에 대응되는 제1 기판(110) 상의 일부에 배치되는 구동회로(130), 구동회로(130)를 포함한 제1 기판(110)의 전면에 배치되는 절연층(140) 및 구동회로(130)에 대응되는 절연층(140)의 일부에 배치되는 실링 층(150)를 포함하여 이루어짐은, 앞서 설명한 제1 실시예에 따른 OLED(100)와 동일하다. 그리고, 제2 실시예에 따른 OLED(200)는, 구동회로(130)에 대응되는 절연층(140)의 일부에 형성되어 실링층(150)에 접촉되고, 접지전압이 인가되는 금속패드(161)를 더 포함한다. 여기서, 실링층(150)과 금속패드(161)는, 서로 마주보도록 부착되어, 제1 기판(110)과 제2 기판(111)을 합착하고, 제1 기판(110)과 제2 기판(111) 사이의 유기층(120)이 배치된 내부를 밀봉한다.As illustrated in FIGS. 6 and 7, the OLED 200 according to the second exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate 110 defined as a display area L and a non-display area D and facing each other. And an organic layer 120 disposed between the first substrate 110 and the second substrate 111 to correspond to the second substrate 111 and the display area L, and a portion corresponding to a portion of the non-display area D. FIG. 1 The driving circuit 130 disposed on a portion of the substrate 110, the insulating layer 140 disposed on the front surface of the first substrate 110 including the driving circuit 130, and the insulating layer corresponding to the driving circuit 130. Including the sealing layer 150 disposed on a part of the 140 is the same as the OLED 100 according to the first embodiment described above. The OLED 200 according to the second embodiment is formed on a part of the insulating layer 140 corresponding to the driving circuit 130, contacts the sealing layer 150, and applies a ground voltage to the metal pad 161. More). Here, the sealing layer 150 and the metal pad 161 are attached to face each other, the first substrate 110 and the second substrate 111 are bonded to each other, the first substrate 110 and the second substrate 111. Seal the inside of the organic layer 120 disposed between).

제1 기판(110), 제2 기판(111), 유기층(120), 셀 구동 어레이(미도시), 구동회로(130), 절연층(140) 및 실링층(150)에 대한 설명은, 제1 실시예에 따른 OLED(100)와 동일하므로, 이하에서 중복되는 설명은 생략하기로 한다.The first substrate 110, the second substrate 111, the organic layer 120, the cell driving array (not shown), the driving circuit 130, the insulating layer 140, and the sealing layer 150 are described in detail. Since it is the same as the OLED 100 according to the first embodiment, a redundant description will be omitted below.

금속패드(161)는 비표시영역(D)에 대응되는 절연층(140) 상의 일부에 배치되어 구동회로(130)와 적어도 일부가 중첩되고, 제2 기판(111)에 배치된 실링층(150)과 접촉되어 제1 기판(110)과 제2 기판(111)을 합착한다. 이러한 금속패드(161)은 절연층(140)이 제거되는 그라운드라인(GND line, 131)과 접촉되어 접지전압이 인가된다. 즉, 구동회로(130)는 셀 구동 어레이(미도시)에 접지전압을 인가하는 그라운드라인(131)을 포함하는데, 금속패드(161)는, 도 7에 도시된 바와 같이, 그라운드라인(131)에 대응되는 절연층(140)의 일부가 제거되어, 노출된 그라운드라인(131)과 접촉하도록 배치된다. 이에, 금속패드(161)는 도전성인 금속으로 마련되므로, 접촉되는 그라운드라인(131)으로부터 접지전압이 인가되어, 접지전압레벨로 유지된다.The metal pad 161 is disposed on a portion of the insulating layer 140 corresponding to the non-display area D so that at least a portion of the metal pad 161 overlaps the driving circuit 130, and the sealing layer 150 disposed on the second substrate 111. Contact with the first substrate 110 and the second substrate 111. The metal pad 161 is in contact with the ground line GND line 131 from which the insulating layer 140 is removed to apply a ground voltage. That is, the driving circuit 130 includes a ground line 131 for applying a ground voltage to the cell driving array (not shown), and the metal pad 161, as shown in FIG. 7, the ground line 131. A portion of the insulating layer 140 corresponding to is removed and disposed to contact the exposed ground line 131. Therefore, since the metal pad 161 is made of a conductive metal, a ground voltage is applied from the ground line 131 that is in contact, and maintained at the ground voltage level.

이러한 제2 실시예에 따른 OLED(200)를 제조하는 방법은 다음과 같다.A method of manufacturing the OLED 200 according to the second embodiment is as follows.

도 8은 본 발명의 제2 실시예에 따른 유기전계발광 표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이다.8 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to a second embodiment of the present invention.

본 발명의 제2 실시예에 따른 OLED(200)의 제조방법은, 도 8에 도시된 바와 같이, 화면이 표시되는 표시영역(L)에 대응되어 셀 구동 어레이(미도시)가 배치되고, 화면이 표시되지 않는 비표시영역(D)에 대응되어 구동회로(130)가 배치되는 제1 기판(110)을 마련하는 단계(S200), 구동회로(130)를 포함하는 제1 기판(110)의 전면에 절연층(140)을 형성하는 단계(S210), 구동회로(130)에 포함되는 그라운드리드(131)에 대응되는 절연층(140)의 일부를 제거하는 단계(S220), 구동회로(130)과 적어도 일부가 중첩되는 절연층(140) 상의 일부에 그라운드리드(131)과 접촉되도록 금속패드(161)를 형성하는 단계(S230), 구동회로(130)에 대향되어 구동회로(130)와 적어도 일부가 중첩되는 제2 기판(111)의 배면에 금속페이스트로 마련되는 실링층(150)을 형성하는 단계(S240), 실링층(150)과 금속패드(161)가 접촉하도록 제1 기판(110)과 제2 기판(111)을 정렬하는 단계(S250) 및 실링층(150)을 소성하여, 정렬된 제1 기판(110)과 제2 기판(111)을 열처리하여, 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 단계(S260)을 포함하여 이루어진다. 이때, OLED(200)의 제조방법은, 절연층(140)을 형성하는 단계(S110) 이후에, 셀 구동 어레이(미도시)의 일부에 대응하는 절연층(140)을 제거하는 단계 및 셀 구동 어레이(미도시)에 접촉하도록 표시영역(D)에 대응되는 절연층(140) 상에 유기층(120)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In the method of manufacturing the OLED 200 according to the second embodiment of the present invention, as shown in FIG. 8, a cell driving array (not shown) is disposed corresponding to the display area L on which the screen is displayed, and the screen Preparing the first substrate 110 on which the driving circuit 130 is disposed in correspondence with the non-display area D (S200), and of the first substrate 110 including the driving circuit 130. Forming an insulating layer 140 on the front surface (S210), removing a part of the insulating layer 140 corresponding to the ground lead 131 included in the driving circuit 130 (S220), and driving circuit 130. Forming a metal pad 161 in contact with the ground lead 131 on a portion of the insulating layer 140 at least partially overlapping with the driving circuit 130 (S230). Forming a sealing layer 150 formed of a metal paste on a rear surface of the second substrate 111 at least partially overlapping (S240), the sealing layer 150 and the metal pad 161. ) Aligning the first substrate 110 and the second substrate 111 so as to contact each other (S250) and firing the sealing layer 150 to form the aligned first substrate 110 and the second substrate 111. The heat treatment is performed, including the step of attaching the first substrate and the second substrate (S260). In this case, in the method of manufacturing the OLED 200, after the forming of the insulating layer 140 (S110), removing the insulating layer 140 corresponding to a part of the cell driving array (not shown) and driving the cell. The method may further include forming the organic layer 120 on the insulating layer 140 corresponding to the display area D so as to contact the array (not shown).

이상과 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따르면, 금속패드(160)가 그라운드리 드(131)과 접촉되어, 도전성인 금속패드(160)가 플로팅되면서 구동회로(130) 및 셀 구동 어레이(미도시)의 구동전압에 미치는 영향을 최소화할 수 있다. 이에 따라, 구동회로(130) 및 셀 구동 어레이(미도시)가 보다 안정적으로 구동될 수 있다.As described above, according to the second embodiment of the present invention, the metal pad 160 is in contact with the ground lead 131, the conductive metal pad 160 is floating while the driving circuit 130 and the cell drive array ( It is possible to minimize the influence on the driving voltage (not shown). Accordingly, the driving circuit 130 and the cell driving array (not shown) can be driven more stably.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes may be made without departing from the technical spirit of the present invention.

도 1은 종래기술에 따른 유기전계발광 표시장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an organic light emitting display device according to the prior art.

도 2는 도 1에 도시된 유기전계발광 표시장치의 일부를 나타낸 평면도이다.FIG. 2 is a plan view illustrating a part of the organic light emitting display device illustrated in FIG. 1.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기전계발광 표시장치의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of an organic light emitting display device according to a first embodiment of the present invention.

도 4는 도 3에 도시된 유기전계발광 표시장치의 일부를 나타낸 평면도이다.4 is a plan view illustrating a portion of the organic light emitting display device illustrated in FIG. 3.

도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기전계발광 표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이다.5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to a first embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 유기전계발광 표시장치의 평면도이다.6 is a plan view of an organic light emitting display device according to a second embodiment of the present invention.

도 7은 도 7에 도시된 B-B'의 단면도이다.FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line BB ′ shown in FIG. 7.

도 8은 본 발명의 제2 실시예에 따른 유기전계발광 표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이다.8 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to a second embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 식별번호 설명><Description of identification numbers for the main parts of the drawings>

100, 101: 유기전계발광표시장치 110: 하부기판100 and 101: organic light emitting display device 110: lower substrate

111: 상부기판 120: 구동회로111: upper substrate 120: drive circuit

121: 구동회로의 그라운드라인 130: 절연층121: ground line of the driving circuit 130: insulating layer

140: 표시영역 150: 금속밀봉체140: display area 150: metal sealing body

151: 금속패드 160: 스크라이빙 마진151: metal pad 160: scribing margin

Claims (11)

화상이 표시되는 표시영역 및 상기 표시영역 외곽에 해당되는 비표시영역으로 정의되고, 서로 대향하는 제1 기판과 제2 기판;A first substrate and a second substrate defined by a display area in which an image is displayed and a non-display area corresponding to the outside of the display area and facing each other; 상기 표시영역에 대응되어 상기 제1 기판과 제2 기판 사이에 배치되는 유기전계발광다이오드 어레이;An organic light emitting diode array disposed between the first substrate and the second substrate to correspond to the display area; 상기 비표시영역 중 일부에 대응되도록 상기 제1 기판 상에 형성되어, 상기 화상에 대응되는 구동신호를 생성하는 구동회로;A driving circuit formed on the first substrate so as to correspond to a portion of the non-display area and generating a driving signal corresponding to the image; 상기 구동회로를 포함한 상기 제1 기판의 전면에 형성되는 절연층; 및An insulating layer formed on an entire surface of the first substrate including the driving circuit; And 상기 구동회로에 대향되는 상기 제2 기판의 배면에 금속페이스트로 형성되어, 상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 실링층을 포함함을 특징으로 하는 유기전계발광 표시장치.And a sealing layer formed of a metal paste on a rear surface of the second substrate opposite to the driving circuit and bonding the first substrate and the second substrate to each other. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동회로에 대응되는 상기 절연층 상의 일부에 형성되어, 상기 실링층과 접촉하는 금속패드를 더 포함함을 특징으로 하는 유기전계발광 표시장치.And a metal pad formed on a portion of the insulating layer corresponding to the driving circuit and in contact with the sealing layer. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 구동회로는 접지전원이 인가되는 그라운드라인을 포함하고,The driving circuit includes a ground line to which a ground power source is applied. 상기 금속패드는 상기 그라운드라인과 접촉됨을 특징으로 하는 유기전계발광 표시장치.The metal pad is in contact with the ground line. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 금속페이스트는 섭씨 300도 이하의 융해온도를 가지는 금속 또는 상기 금속과 플럭스의 혼합물로 형성됨을 특징으로 하는 유기전계발광 표시장치.The metal paste is formed of a metal having a melting temperature of less than 300 degrees Celsius or a mixture of the metal and the flux. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 표시영역에 대응되어 형성되고, 상기 구동회로로부터 상기 구동신호를 인가받아 상기 유기전계발광다이오드 어레이를 구동하는 셀 구동 어레이를 더 포함함을 특징으로 하는 유기전계발광 표시장치.And a cell driving array formed corresponding to the display area and configured to drive the organic light emitting diode array by receiving the driving signal from the driving circuit. 화상이 표시되는 표시영역의 외곽에 해당되는 비표시영역에 대응되도록 배치되어 구동신호를 생성하는 구동회로가 형성되는 제1 기판을 마련하는 단계;Providing a first substrate on which a driving circuit is disposed so as to correspond to a non-display area corresponding to an outer portion of the display area in which an image is displayed and generates a driving signal; 상기 구동회로를 포함한 상기 제1 기판의 전면에 절연층을 형성하는 단계;Forming an insulating layer on an entire surface of the first substrate including the driving circuit; 상기 구동회로에 대응되는 상기 절연층 상에 금속패드를 형성하는 단계;Forming a metal pad on the insulating layer corresponding to the driving circuit; 상기 구동회로에 대향되도록, 상기 제1 기판과 대향되는 제2 기판의 배면에, 금속페이스트로 실링층을 형성하는 단계;Forming a sealing layer with a metal paste on a rear surface of the second substrate facing the first substrate so as to face the driving circuit; 상기 금속패드와 상기 실링층이 접촉하도록 상기 제1 기판과 상기 제2 기판을 정렬하는 단계; 및Aligning the first substrate and the second substrate such that the metal pad contacts the sealing layer; And 상기 실링층이 상기 금속패드에 소성되도록, 상기 정렬된 제1 기판과 제2 기 판을 열처리하여, 상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 유기전계발광 표시장치의 제조방법.And heat-treating the aligned first and second substrates to bond the first and second substrates so that the sealing layer is fired on the metal pads. Manufacturing method. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 절연층을 형성하는 단계 이후에,After forming the insulating layer, 상기 구동회로 중 접지전원이 인가되는 그라운드 리드에 대응되는 상기 절연층의 일부를 제거하는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 유기전계발광 표시장치의 제조방법.And removing a portion of the insulating layer corresponding to the ground lead to which the ground power is applied among the driving circuits. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 금속패드를 형성하는 단계에서, 상기 절연층이 제거된 상기 그라운드 리드와 접촉되도록 상기 금속패드를 형성함을 특징으로 하는 유기전계발광 표시장치의 제조방법.And forming the metal pad so that the metal pad is in contact with the ground lead from which the insulating layer is removed. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제1 기판을 마련하는 단계는, 상기 제1 기판에 상기 표시영역에 대응하고 상기 구동신호를 인가받아 구동되는 셀 구동 어레이를 형성하는 단계를 포함하고,The preparing of the first substrate may include forming a cell driving array on the first substrate, the cell driving array corresponding to the display area and driven by receiving the driving signal. 상기 절연층을 형성하는 단계 이후에,After forming the insulating layer, 상기 셀 구동 어레이의 일부에 대응되는 절연층을 제거하는 단계와,Removing an insulating layer corresponding to a portion of the cell drive array; 상기 셀 구동 어레이의 일부와 접촉하도록 상기 표시영역에 대응되는 상기 절연층 상에 유기발광 다이오드 어레이를 형성하는 단계를 더 포함함을 유기전계발광 표시장치의 제조방법.And forming an organic light emitting diode array on the insulating layer corresponding to the display area so as to be in contact with a portion of the cell driving array. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 실링층을 형성하는 단계에서, 상기 금속페이스트는 섭씨 300도 이하의 융해온도를 가지는 금속 또는 상기 금속과 플럭스의 혼합물임을 특징으로 하는 유기전계발광 표시장치의 제조방법.In the forming of the sealing layer, the metal paste is a metal having a melting temperature of less than 300 degrees Celsius or a mixture of the metal and the flux, the manufacturing method of the organic light emitting display device. 제10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 단계에서, 상기 열처리는 섭씨 300도 이하의 온도에서 수행됨을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조방법.In the step of bonding the first substrate and the second substrate, the heat treatment is a method of manufacturing an organic light emitting display device, characterized in that performed at a temperature of less than 300 degrees Celsius.
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