KR20110059954A - 생체이식 가능한 몸체 및 그 표면처리방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 예를 들면 인체의 골에 이식되는 임플란트의 표면에 분화구 형상의 큰 요홈을 형성한 다음, 양극 산화법 등을 이용하여 이 요홈 내부에 나노 기공층을 형성함으로써 임플란트 매식시에 나노 기공층의 탈락을 방지하는 할 수 있는 생체에 이식 가능한 몸체의 표면처리방법에 관한 것이다.

임플란트, 요홈, 양극 산화법, 나노 기공, 저온 분사

Description

생체이식 가능한 몸체 및 그 표면처리방법{Bio-implantable Devices and Surface Reforming Method thereof}

본 발명은 생체이식 가능한 몸체의 표면처리방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 예를 들면 인체의 골에 이식되는 임플란트의 표면에 분화구 형상의 큰 요홈을 형성한 다음, 양극 산화법 등을 이용하여 이 요홈 내부에 나노 기공층을 형성함으로써 임플란트 매식시에 나노 기공층의 탈락을 방지하는 할 수 있는 생체에 이식 가능한 몸체의 표면처리방법에 관한 것이다.

일반적으로 치과용 임플란트는 영구적으로 치아를 이식하기 위해 사용하는 것으로, 인간의 턱뼈와 인공치아를 연결시키는 역할을 한다. 턱뼈에 임플란트를 매식하면 주변의 골조직에서 유래된 골아세포가 골전도성 및 골유도성 치유과정으로 새로운 골조직이 임플란트 표면에 형성, 밀착되어 임플란트와 골조직의 경계면에서 결합되어 음식의 저작시 발생하는 하중을 분산시켜서 실제 치아와 동일한 역할을 수행할 수 있다. 따라서 임플란트는 인간의 생체조직에 매우 친화적인 재료를 사용하여야 하며 부작용 및 기타 화학적, 생화학적 반응성이 없는 것이어야 한다.

치과용 임플란트 소재로는 지금까지 다양한 금속 및 합금이 개발되어 있는 데, 이중 티타늄 합금을 주로 이용하고 있다. 하지만 이러한 금속 재료만으로는 생체 친화성, 화학적 안정성 등을 만족시킬 수 없기 때문에, 합금 표면을 이산화티탄으로 개질하거나, 생체 친화성, 또는 생체활성을 나타내는 인산칼슘계 세라믹스와 같은 복합재료를 코팅하는 기술이 개발되어 사용되고 있다.

한편, 인체에 매입된 임플란트를 턱뼈와 강하게 결합시키기 위해서는 임플란트와 골조직의 접촉 면적이 클수록 유리하기 때문에, 임플란트 표면의 거칠기를 증진시키는 방법이 많은 관심을 받고 있으며, 마이크로 단위의 거칠기를 부여하는 방법으로는, 샌드 블래스팅, 숏 블라스팅, 산처리 등이 있으며, 마이크로 이하 단위의 거칠기를 부여하는 방법으로 양극산화법이 개발되어 응용되고 있다.

대한민국 공개 특허공보 제 2008-0111243 호에는, 골과의 접촉면적을 증가시킬 목적으로 임플란트 표면을 블라스팅 처리하여 미리 0.5 내지 3㎛ 정도의 표면 거칠기를 부여한 다음에 양극산화법을 실시하여 임플란트 표면에 나노 기공층을 형성하는 기술이 개시되어 있다.

그러나 수 마이크로 이하의 거칠기를 부여한 표면에 양극 산화법으로 나노 기공을 형성할 경우에는, 티타늄 재질의 임플란트 표면이 이산화티탄으로 산화된 후 나노기공이 형성되기 때문에 내부의 티타늄과 표면의 이산화티탄층 간의 약한 부착력으로 인해 임플란트 매식시 이산화티탄 나노 기공층이 파괴되거나 탈락되어 버리기 쉽다는 문제점이 있다.

또한, 대한민국 특허등록 제 10-0736826 호에는 티타늄 볼이나 세라믹 볼, 혹은 삼인산칼슘을 플라즈마 용사코팅에 의해 임플란트 표면을 코팅 처리한 다음 양극산화법을 실시하여 임플란트 표면에 나노 기공층을 형성하는 기술이 개시되어 있다.

그러나 도 1a에 나타낸 바와 같이, 티타늄 볼과 같은 금속물질(2)을 임플란트(1)의 표면에 코팅하는 경우에는 금속물질이 임플란트 표면에서 양각으로 돌출되어 형성되므로 골 조직과 접촉이 일어나는 마찰면으로 나노 기공(4)이 노출되는 정도가 심화되어 임플란트 매식시 이산화티탄 나노 기공층의 탈락이 오히려 촉진되는 결과를 초래한다.

또한, 도 1b에 나타낸 바와 같이, 삼인산칼슘과 같은 비금속의 생체 적합성 물질(3)로 임플란트(1)의 표면을 코팅 처리하면 비금속 물질인 생체 적합성 물질의 표면에는 나노 기공(4)이 형성될 수 없기 때문에 코팅처리되지 않은 임플란트 표면의 국소 영역에서만 나노 기공이 형성되어 골 조직과의 접촉면적을 증가시킬 수 없다는 것이 문제이다. 도 1a 및 도1b에서 도면 부호 5는 산화막 층이다.

특히, 임플란트 시술 후에 골 치유기간을 줄이기 위해서 주변의 성체 미분화 세포를 빠르게 분화시켜 골세포로 분화되도록 하는 기술이 다양하게 연구, 개발되고 있는데, 그 중에서 재조합 골형성 촉진 단백질이 골형성 촉진에 큰 역할을 한다는 것이 이미 밝혀져 있다. 따라서 임플란트 표면에 골형성 촉진인자를 위치시키는 연구가 진행되어 왔으며, 양극산화법으로 티타늄계열의 임플란트 표면에 나노 기공층을 형성하고 이 기공 내부에 골형성 촉진인자를 담지하는 기술이 주로 사용되고 있다. 그런데, 상기한 바와 같이 임플란트 매식시 나노 기공층이 파괴되거나 탈락되어 버리면 기공 내부에 담지된 골형성 촉진인자도 쉽게 탈락해 버린다.

이에 본 발명자들은 이러한 배경에서 이산화티탄 나노 기공층의 탈락을 방지하여 골 치유기간을 단축하기 위한 새로운 임플란트의 표면처리 기술에 관하여 연구를 거듭한 결과, 임플란트 표면에 적어도 10마이크로 크기의 요홈을 형성하고 이 요홈 내부에 이산화티탄 나노 기공층을 형성하면 골과 임플란트의 결합력이 향상됨과 동시에, 임플란트 매식시에 나노 기공층이 탈락되거나 파괴되는 현상을 방지할 수 있다는 사실을 발견하여 본 발명을 완성하게 되었다.

따라서, 본 발명의 목적은 임플란트 표면에 적어도 10마이크로 크기의 요홈을 형성하여 골과 임플란트의 결합력을 높임과 동시에, 이 요홈 내부에 이산화티탄 나노 기공층을 형성하여 임플란트 매식시에 나노 기공층의 탈락을 방지할 수 있는 임플란트의 표면처리방법을 제공하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는, 생체에 이식 가능한 몸체의 표면에 10 내지 50마이크로의 직경을 가지는 요홈을 형성하는 단계, 및 상기 요홈 내부에 이산화티탄 나노 기공층을 형성하는 단계를 포함하는 생체에 이식 가능한 몸체의 표면처리방법을 제공한다.

또한 본 발명은 생체에 이식 가능한 몸체로서, 상기 몸체의 표면에 10 내지 50마이크로미터 크기의 직경을 가지도록 형성된 요홈; 및 상기 요홈 내부에 형성된 나노 기공층을 포함하는 것을 특징으로 하는 생체에 이식 가능한 몸체를 제공한다.

본 발명에서 요홈을 형성하는 단계는, 바람직하기로는 저온 분사법을 통해 상기 표면에 분말상태의 생체 적합성 물질을 분사 코팅한 후, 상기 코팅된 물질을 식각 용액으로 모두 제거하는 방법으로 수행된다.

상기 요홈 내부의 나노 기공층은, 바람직하기로는 양극산화법에 의해 형성된다. 양극산화법은 상기 언급한 종래기술에 상세하게 개시되어 있는 등 일반적으로 잘 알려진 기술이므로 여기에서는 구체적인 설명을 생략한다.

상기 생체적합성 물질은, 바람직하기로는 생체에 적합한 분말 또는 생체활성 분말로서 인산칼슘 화합물 및 생체 유리 화합물에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 것이다. 상기 인산칼슘 화합물은, 바람직하기로는 아파타이트, 삼인산칼슘(TCP), 사인산칼슘(TTCP), 이인산칼슘 및 일인산칼슘 중에서 선택된 적어도 1종이다. 상기 생체 유리 화합물은 바람직하기로는 CaO, SiO₂ 및 P₂O₅를 성분으로 함유하는 생체 유리 또는 생체 결정화 유리이다.

상기 생체 적합성 물질의 분말입자 크기는 바람직하기로는 0.01∼200㎛의 범위이다.

상기 식각 용액은 인산, 염산, 질산, 불산 및 황산 중에서 선택된 적어도 1종이다.

본 발명에서 생체이식 가능한 몸체는 인공치아와 같은 치과용 임플란트나 혹은 척추고정 시스템 등의 정형외과용 임플란트를 비롯한 의료용 임플란트를 예로 들 수 있고, 대표적인 것은 치과용 임플란트이다. 이러한 생체이식 가능한 몸체의 재질로는 이체와 반응성이 거의 없는 티타늄 금속이나 그 합금이다.

본 발명에서 요홈의 직경이 50 마이크로를 초과하면 임플란트 나사 표면의 지지 면적이 상대적으로 너무 작아져 임플란트 매식시 하중을 견디지 못할 우려가 있으며, 반면 요홈의 직경이 10 마이크로 미만으로 되면 요홈의 크기가 너무 작아 내부에 형성되는 나노 기공이 임플란트 표면으로 드러나게 될 가능성이 커져서 임플란트 매식시 나노 기공의 탈락을 방지하는 효과를 충분히 기대하기 어렵다.

또한, 일반적으로 성장 인자 물질을 콜라겐 또는 하이드로 젤과 같은 고분자에 담지하여 코팅을 하여 성장인자가 천천히 방출되는 서방화 기술이 적용되는데, 임플란트의 요홈 내부에 이러한 고분자를 코팅함에 있어서, 사용되는 고분자 물질의 크기가 적어도 10 마이크로 이상이므로, 요홈이 10 마이크로 미만으로 되면 고분자가 마찰면에 노출되어 바람직하지 않다.

이상과 같은 본 발명에 의하면, 임플란트 표면에 10 내지 50마이크로 크기의 요홈을 형성한 후 이 요홈 내부에 이산화티탄 나노 기공층을 형성하면 골과 임플란트의 결합력을 높임과 동시에, 임플란트 매식시에 나노 기공층의 탈락을 방지할 수 있는 이점이 있다.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.

저온 분사법(cold spray process)에 의한 코팅공정은 분말을 압축가스(He, N₂, 공기, 또는 이들의 혼합가스)를 초음속 제트로 가속시켜 피사체에 분사하여 피사체에 코팅층을 형성하는 새로운 코팅기술이다.

이러한 저온 분사 코팅방법은 이미 결정화가 되었거나 고유의 특성을 지닌 분말을 초기 입자로 사용함으로써 초기 입자의 고유의 물성을 그대로 유지할 수 있으며 분말의 운동에너지에 의한 코팅방식이므로 피사체의 예열을 최소로 할 수 있어 저온공정이 가능하고 높은 생산성도 기대할 수 있는 장점이 있다. 또한 분말 재질과 분사속도에 따라서는 피사체의 표면 깊숙히 분말을 박아 넣을 수 있다. 이러한 저온 분사법을 이용하지 않고 샌드 블라스트나 숏 블라스트 법을 사용할 시에는 피사체에 분사되는 분말의 운동량이 충분하지 않아서, 분말이 피사체에 마이크로 크기의 요홈을 형성하기 어렵다.

본 발명에서는, 이러한 저온 분사 코팅기술을 이용하여, 생체 금속재료에 생체 친화성 분말을 코팅하고, 산처리를 통해 상기 분말을 녹여 내어 마이크로 크기의 요홈을 형성하고, 이 요홈 내부에 양극산화법으로 이산화티탄 나노 기공층을 형성하는 방법을 제시한다.

도 2는 본 발명에서 이용한 저온 분사 코팅장치의 일례를 모식적으로 나타낸 것이다. 본 발명의 저온 분사코팅은 도 2에 도시한 저온 분사 코팅기에 의해 실시될 수 있다.

이러한 저온 분사 코팅기는, 가스탱크, 컨트롤러, 가스히터, 분말 송급 장치, 분말 가열기 및 노즐을 포함하고 있다. 가스탱크에서 공급된 가스는 컨트롤러를 통해 가스히터와 분말 송급 장치로 보내지며 가스히터에서는 가스를 가열하여 압력을 높여 가스의 속도 상승을 유도하며, 분말 송급 장치에서는 컨트롤러에서 보내진 가스에 분말을 공급하고 분말 히터에서는 분말을 가열한다. 노즐에서는 고온 의 가스와 가스 분말 혼합물이 만나 고속의 가스-분말 제트류를 분사한다.

이렇게 분사된 제트류 중의 분말은 높은 운동에너지를 갖고 피사체(기판) 표면과 충돌하여 피사체와 결합하게 되어 코팅층을 형성한다. 이후 피사체는 코팅과 동시에 이동되며 냉각된다.

본 발명에서는 피사체에 요홈을 형성하기 위하여 저온 분사법으로 코팅한 분말을 식각하는 공정을 제공하는데, 상기 식각하는 공정에서 코팅된 분말이 미량이라도 식각되지 않고 잔존해 경우 생체에 이식된 후 부작용을 초래할 수 있기 때문에, 코팅하는 분말은 생체 적합성 물질의 분말인 것이 바람직하다. 생체 적합성 물질 분말로는 예를 들면, 수산화아파타이트(HA)와 같은 인산칼슘 화합물, 또는 CaO, SiO₂, P₂O₅를 주성분으로 하는 생체 유리나 생체 결정화 유리 등과 같은 생체 유리 화합물, 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.

피사체에 코팅되는 생체 적합성 물질 분말의 사이즈는 충격량에 직접적으로 영향을 미치므로, 요홈을 형성하는데 크게 영향을 미치는 중요한 인자이다. 분말 사이즈가 너무 작은 경우 분말의 질량이 감소하여 운동에너지가 감소하게 되어 결국 피사체에 깊이 박히지 못하거나 원하는 크기의 요홈을 형성할 수 없게 된다. 또한 너무 큰 사이즈의 분말을 사용할 경우 가스로 가속이 충분히 되지 않아 분말의 운동에너지가 감소해 역시 깊이 박히지 못하게 된다. 이러한 이유로, 본 발명에서 사용하는 분말의 사이즈(직경)는 0.01∼200㎛이 적당하며, 바람직하기는 10∼200㎛이다.

이때 1㎛ 미만의 분말은 사이즈가 작아 충분한 운동에너지를 갖지 못하여 저 온 분사 시 피사체에 부착될 정도로 가속되지 못하는 경우가 있을 수 있는데, 이때는 이러한 작은 사이즈의 분말을 저온분사 코팅으로 코팅시키기 위해 1∼10㎛의 크기로 알갱이화(granulation)하여 분사할 수 있다. 이렇게 하면 상기 알갱이에 충분한 운동에너지를 부여할 수 있으므로 피사체에 원하는 크기의 요홈을 형성할 수 있다.

이렇게 저온 분사법으로 코팅된 생체 친화성 분말층을 식각하여 피사체 표면에 요홈을 형성하기 위해서, 본 발명에서는, 형성된 코팅층의 표면을 산성용액에 침지하여 생체 친화성 분말을 완전히 녹여내는 방법을 제공한다. 상기 산성용액이란 인산 (H₃PO₄), 염산 (HCl), 질산 (HNO₃), 불산 (HF), 황산 (H₂SO₄) 등의 수용액이며, 특히 인산이나 염산 수용액이 생체에 대한 무독성 측면에서 바람직하다. 생체 친화성 분말을 녹여내기 위해서 상기 산성용액에 침지하고 열을 가하거나, 초음파를 가하는 방법을 사용할 수도 있다.

상기 생체에 이식 가능한 몸체 표면에 코팅된 생체 친화성 분말을 모두 녹여내어 형성된 요홈 표면에 나노 크기의 기공을 제공하기 위해서, 본 발명에서는, 생체에 이식 가능한 몸체를 양극산화하는 방법을 제공한다.

이렇게 요홈을 형성한 후에 나노 크기의 기공층을 형성하면, 도 3에 나타낸 바와 같이, 나노 크기의 기공층(2)이 요홈(1) 내부에 형성되어 외부로 노출되지 않기 때문에 임플란트 매식시에 골조직과 직접적으로 마찰되는 면적이 감소하여 나노 크기의 기공층이 탈락될 가능성이 현저하게 줄어들게 된다. 도 3에서 도면 부호 3은 산화막층이다.

상기 양극 산화를 하기 위해서는 상기 생체에 이식 가능한 몸체의 재질이 금속이어야 하며, 티타늄 금속 또는 티타늄 합금인 것이 바람직하다. 양극 산화는 상기 요홈이 형성된 피사체를 반대극과 함께 산성 용액으로 이루어진 전해액에 침지하고 전압을 인가하여 전해액 중에 포함된 산소이온을 기재 표면과 반응시켜 산화물층을 형성하고, 이 산화물층이 식각과 생성을 반복하여 나노 기공을 형성하게 된다.

이하에서는, 실시예를 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 그러나 본 발명의 범위가 아래의 실시예로 한정되는 것은 아니다.

(실시예)

저온 분사를 위하여 티타늄 금속 재질의 임플란트 픽스쳐를 피사체로 사용하였다. 이때 저온 분사 코팅장비는 도 2에서 도시한 것과 같은 장치를 사용하였으며, 캐리어 가스로는 공기를 사용하였다. 상기 가스의 온도는 600℃, 피사체의 온도는 100℃, 분말의 온도는 상온, 분사되는 가스의 압력은 25kg/cm², 분사노즐과 피사체까지의 거리는 1.5cm, 분사유량은 0.2g/sec으로 제어하였으며, 피사체는 고정시킨 채로 1분 동안 분사를 진행하였다.

이때 코팅 물질은 생체활성 물질인 수산화 아파타이트 분말을 사용하였으며, 충격량을 충분히 크게 하기 위하여, 도 4에 나타낸 바와 같은 수십 ㎛ 크기의 응집체를 사용하였다. 수산화아파타이트 분말 응집체는 수산화아파타이트 나노입자를 스프레이 건조하여 소결하는 방법으로 합성된 것을 사용하였다.

도 5는 본 실시예에 따라 수산화 아파타이트 분말이 코팅된 임플란트 픽스쳐 표면의 주사전자현미경(Scanning electron microscope, x1000 SEM) 사진이다. 1000배 확대한 도 5를 보면, 피사체인 티타늄 금속 임플란트 표면에 수산화 아파타이트가 깊이 박힌 형태로 코팅이 된 것을 확인할 수 있다.

상기 임플란트 표면에 코팅된 수산화 아파타이트를 제거하기 위해 화학적 에칭법을 사용하였다. 50℃로 유지한 pH 2의 인산 수용액에 상기 임플란트를 침지하여 10분간 초음파 처리를 하였다.

도 6은 본 실시예에 따라 수산화 아파타이트 분말 코팅 후에, 인산 수용액에 피사체를 침지시켜 수산화 아파타이트 분말을 모두 녹여낸 후의 주사전자현미경(x500 SEM) 사진이다. 500배 확대한 도 6을 보면, 평균 20㎛ 크기의 분화구 형상의 요홈이 충분히 형성되어 있음을 확인할 수 있다. 또한, 수산화 아파타이트 분말은 모두 식각된 상태인 것도 알 수 있다.

이렇게 하여 형성된 상기 요홈 내부에 나노 기공층을 형성하기 위하여, 양극 산화법을 통해 임플란트 표면에 이산화티탄 나노 튜브를 형성하였다. 상기 양극 산화는, 에틸렌글리콜에 1wt%의 물과 0.5wt%의 NH₄F가 첨가된 용액을 전해질로 사용하였으며, 상기 요홈이 형성된 임플란트를 양극, 백금판을 음극으로 침지시키고, 50V의 전압을 1시간 인가하는 방법으로 이루어졌다.

도 7은 본 실시예에 따라 상기 요홈을 형성한 후에 양극 산화를 실시한 임플란트의 표면을 주사전자현미경(x50,000 SEM)으로 관찰한 사진이다. 50,000배 확대한 주사전자현미경 사진을 보면 임플란트 표면에 약 100nm 크기의 기공이 균일하고 규칙적으로 형성되어 있는 것을 확인할 수 있다.

이상으로 본 발명에 의하면, 티타늄 금속 재질의 임플란트에 10∼50㎛ 크기의 요홈을 형성하고, 이 요홈 내부에 나노 크기의 기공을 형성할 수 있으며, 요홈 내부에 형성된 나노 크기의 기공에 성장촉진 인자를 담지하여 성장촉진 인자 또는 나노 크기 기공층의 탈락 없이 임플란트를 뼈에 매식할 수 있다.

도 1a는 종래의 방법에 따라 금속물질의 볼을 사용하여 임플란트 표면에 양각으로 코팅한 상태를 나타내는 모식도,

도 1b는 종래의 방법에 따라 비금속의 세라믹으로 임플란트 표면에 양각으로 코팅한 상태를 나타내는 모식도,

도 2는 본 발명에서 이용한 저온 분사 코팅장치의 일례를 나타내는 모식도,

도 3은 본 발명의 실시예에 따라 요홈이 형성된 임플란트 표면에 양극산화법으로 나노기공을 형성한 상태를 나타내는 모식도,

도 4는 본 발명에 따라 저온 분사코팅에 사용된 수산화아파타이트 분말입자를 나타내는 주사전자현미경 사진,

도 5는 본 발명의 실시예에 따라 수산화아파타이트 분말이 코팅된 임플란트 픽스쳐 표면의 주사전자현미경(Scanning electron microscope, x1000 SEM) 사진,

도 6은 본 발명의 실시예에 따라 수산화아파타이트 분말 코팅 후 수산화 아파타이트 분말을 모두 녹여낸 후의 주사전자현미경(x500 SEM) 사진,

도 7은 본 발명의 실시예에 따라 요홈을 형성한 후에 양극산화를 실시한 후의 임플란트의 표면을 주사전자현미경(x50,000 SEM)으로 관찰한 사진이다.

Claims (12)

1. 생체에 이식 가능한 몸체의 표면에 10 내지 50마이크로 크기의 직경을 가지는 요홈을 형성하는 단계; 및

   상기 요홈 내부에 이산화티탄 나노 기공층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 생체이식 가능한 몸체의 표면처리방법.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 요홈을 형성하는 단계는, 저온 분사법을 통해 상기 표면에 분말상태의 생체 적합성 물질을 분사 코팅한 후, 상기 코팅된 물질을 식각 용액으로 모두 제거하는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 표면처리방법.
3. 제 1항에 있어서,

   상기 요홈 내부의 나노 기공층은 양극산화법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 표면처리방법.
4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,

   상기 생체 적합성 물질은, 생체에 적합한 분말 또는 생체활성 분말로서 인산칼슘 화합물 및 생체 유리 화합물에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리방법.
5. 제 4항에 있어서,

   상기 인산칼슘 화합물은 아파타이트, 삼인산칼슘(TCP), 사인산칼슘(TTCP), 이인산칼슘 및 일인산칼슘 중에서 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 표면처리방법.
6. 제 4항에 있어서,

   상기 생체 유리 화합물은 CaO, SiO₂ 및 P₂O₅를 성분으로 함유하는 생체 유리 또는 생체 결정화 유리인 것을 특징으로 하는 표면처리방법.
7. 제 2항에 있어서,

   상기 생체 적합성 물질의 분말입자 크기는 0.01∼200㎛ 범위인 것을 특징으로 하는 표면처리방법.
8. 제 2항에 있어서,

   상기 식각 용액은 인산, 염산, 질산, 불산 및 황산 중에서 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 표면처리방법.
9. 제 1항에 있어서,

   상기 생체에 이식 가능한 몸체의 재질은 티타늄 금속 또는 티타늄 합금인 것 을 특징으로 하는 표면처리방법.
10. 제 1항에 있어서,

    상기 생체이식 가능한 몸체는 의료용 임플란트인 것을 특징으로 하는 표면처리방법.
11. 생체이식 가능한 몸체로서,

    상기 몸체의 표면에 10 내지 50마이크로미터 크기의 직경을 가지도록 형성된 요홈; 및

    상기 요홈 내부에 형성된 나노 기공층을 포함하는 것을 특징으로 하는 생체이식 가능한 몸체.
12. 제 11항에 있어서,

    상기 생체이식 가능한 몸체는 의료용 임플란트인 것을 특징으로 하는 생체이식 가능한 몸체.

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