KR20110055135A - Manufacturing method of piezo actuator for inkjet head - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method of manufacturing a piezoelectric actuator for an inkjet head is provided to increase driving displacement by the increase of driving efficiency compared to driving voltage by the thickness decrease of a piezoelectric actuator and to enable operation at a high frequency. CONSTITUTION: A method of manufacturing a piezoelectric actuator for an inkjet head is as follows. A block(42a) consisting of a bulky piezoelectric material is prepared. The block is bonded to a sacrificial substrate(100). The block is wrapped to form a thickness-decreased piezoelectric body. The thickness-decreased piezoelectric body is polished. The polished piezoelectric body is separated form the sacrificial substrate. First and second electrodes are formed on both sides of the piezoelectric body. The piezoelectric body comprising the first and second electrodes is cut. Poling is performed on the cut piezoelectric body.

Description

잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조 방법{Manufacturing Method of Piezo Actuator for inkjet head}Manufacturing method of piezo actuator for inkjet head {Manufacturing Method of Piezo Actuator for inkjet head}

본 발명은 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 구동 효율이 증가된 고성능의 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for manufacturing a piezoelectric actuator for an inkjet head, and more particularly, to a method for manufacturing a piezoelectric actuator for a high performance inkjet head with increased driving efficiency.

일반적으로 잉크젯 헤드는 인쇄용 잉크의 미소한 액적(droplet)을 기록 용지 상의 원하는 위치에 토출시켜서 소정 색상의 화상으로 인쇄하는 장치로써, 최근에는 산업용 잉크젯 프린터에서도 사용되고 있다. In general, an inkjet head is an apparatus for printing a predetermined color image by discharging a small droplet of printing ink to a desired position on a recording sheet. Recently, an inkjet head is also used in an industrial inkjet printer.

예를 들어, 인쇄회로기판(PCB) 상에 금, 은 등의 금속을 포함하는 잉크를 분사해 회로 패턴을 직접 형성시켜 산업 그래픽이나 액정 디스플레이(LCD), 유기발광다이오드(OLED)의 제조, 태양전지 등에 사용되고 있다.For example, by injecting ink containing metals such as gold and silver on a printed circuit board (PCB) to form a circuit pattern directly, manufacturing industrial graphics, liquid crystal displays (LCDs), organic light emitting diodes (OLEDs), and the like. It is used in a battery or the like.

잉크젯 헤드는 잉크 토출 방식에 따라 크게 두가지로 나뉠 수 있는다. 하나는 열원을 이용하여 잉크에 버블(bubble)을 발생시켜 그 버블의 팽창력에 의해 잉크를 토출시키는 열 구동 방식의 잉크 젯 헤드이고, 다른 하나는 압전체를 사용하 여 압전체의 변형으로 인해 잉크에 가해지는 압력에 의해 잉크를 토출하는 압전 방식의 잉크젯 헤드이다. The inkjet head can be divided into two types according to the ink ejection method. One is a heat-driven ink jet head that generates bubbles in the ink by using a heat source and discharges the ink by the expansion force of the bubbles. The other is applied to the ink by deformation of the piezoelectric body using a piezoelectric body. It is a piezoelectric inkjet head which discharges ink by losing pressure.

압전 방식의 잉크젯 헤드는 카트리지에서 잉크를 유입 및 유출하는 유입구와 유출구, 유입되는 잉크를 저장하는 리저버, 그리고 상기 리저버 내의 잉크를 노즐로 이동시키기 위한 압력 챔버 등이 형성되며, 상기 압력 챔버의 표면에는 잉크를 외부로 토출시키기 위한 압전 엑츄에이터가 장착된다.The piezoelectric inkjet head is formed with an inlet and an outlet for inflow and outflow of ink from a cartridge, a reservoir for storing the incoming ink, and a pressure chamber for moving the ink in the reservoir to the nozzle. A piezoelectric actuator for discharging ink to the outside is mounted.

압전 방식의 잉크젯 헤드의 성능은 압전 엑츄에이터의 구동변위 및 구동주파수에 따른 구동 효율에 의해서 결정된다. 최근에는 잉크젯 헤드가 슬림화되는 추세이므로 압전 엑츄에이터도 얇게 제조되고 있다. 이러한 기술적인 추세에 따라 잉크젯 헤드의 성능을 향상시키기 위한 압전 엑츄에이터의 두께를 낮출 수 있는 기술이 요구되고 있다. The performance of the piezoelectric inkjet head is determined by the driving efficiency of the piezoelectric actuator according to the driving displacement and the driving frequency. Recently, since the inkjet head has become slimmer, piezoelectric actuators have also been manufactured thinly. According to this technical trend, a technique for reducing the thickness of a piezoelectric actuator for improving the performance of an inkjet head is required.

본 발명은 상술된 종래 기술의 문제를 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 구동 효율이 증가된 고성능의 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조 방법을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a piezoelectric actuator for a high performance inkjet head with increased driving efficiency.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 실시형태는 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록을 마련하는 단계; 상기 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록을 희생 기판에 접합하는 단계; 상기 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록을 래핑하여 두께가 감소된 압전체를 제조하는 단계; 상기 두께가 감소된 압전체를 폴리싱하는 단계; 상기 폴리싱 된 압전체를 상기 희생 기판으로부터 분리하는 단계; 상기 압전체의 양면에 제1 및 제2 전극을 형성하는 단계; 상기 제1 및 제2 전극이 형성된 압전체를 절단하는 단계; 및 상기 절단된 압전체를 폴링(poling)하는 단계;를 포함하는 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법을 제공한다.In order to solve the above problems, an embodiment of the present invention comprises the steps of providing a block of piezoelectric material in a bulk state; Bonding the block of bulk piezoelectric material to a sacrificial substrate; Wrapping the block of piezoelectric material in the bulk state to produce a piezoelectric member having a reduced thickness; Polishing the piezoelectric body having the reduced thickness; Separating the polished piezoelectric body from the sacrificial substrate; Forming first and second electrodes on both surfaces of the piezoelectric body; Cutting piezoelectric materials on which the first and second electrodes are formed; And a step of polling the cut piezoelectric body, thereby providing a method of manufacturing a piezoelectric actuator for an inkjet head.

상기 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록은 100㎛ 이상의 두께를 가질 수 있다.The bulk block of piezoelectric material may have a thickness of 100 μm or more.

상기 희생 기판은 실리콘 웨이퍼, 글라스 웨이퍼 또는 쿼츠 웨이퍼일 수 있다.The sacrificial substrate may be a silicon wafer, a glass wafer, or a quartz wafer.

상기 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록은 가열에 의하여 접합력이 저하되는 접합 물질에 의하여 상기 희생 기판에 접합될 수 있다.The block of the piezoelectric material in the bulk state may be bonded to the sacrificial substrate by a bonding material in which bonding strength is reduced by heating.

상기 래핑 단계는 상기 압전체의 원하는 두께보다 5 내지 10㎛의 큰 두께를 갖도록 수행될 수 있다.The lapping step may be performed to have a thickness of 5 to 10 μm greater than the desired thickness of the piezoelectric body.

상기 폴리싱 단계는 상기 압전체의 표면조도가 10Å이하가 되도록 수행될 수 있다.The polishing step may be performed so that the surface roughness of the piezoelectric body is 10 kPa or less.

상기 폴리싱 단계 이후의 압전체는 10㎛ 이상의 두께를 가질 수 있다.The piezoelectric body after the polishing step may have a thickness of 10 μm or more.

상기 제1 및 제2 전극의 형성은 도금 공정에 의하여 동시에 수행될 수 있다. Formation of the first and second electrodes may be performed simultaneously by a plating process.

본 발명에 따른 잉크 젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법은 희생 기판을 이용하여 래핑 및 폴리싱 공정을 수행하여 두께가 얇은 압전체를 제조할 수 있다.In the method of manufacturing a piezoelectric actuator for an ink jet head according to the present invention, a thin piezoelectric material may be manufactured by performing a lapping and polishing process using a sacrificial substrate.

또한, 도금 공정에 의하여 한번에 제1 및 제2 전극의 형성이 가능하여 공정수가 단축된다.In addition, by the plating process, the first and second electrodes can be formed at one time, thereby reducing the number of processes.

또한, 압전 엑츄에이터의 두께가 감소하여 구동 전압 대비 구동 효율이 증가하여 구동 변위가 커지고, 고주파수에서 작동이 가능해진다. In addition, the thickness of the piezoelectric actuator is reduced to increase the driving efficiency relative to the driving voltage, so that the driving displacement is increased, and the operation is possible at a high frequency.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태를 설명한다. 다만, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described a preferred embodiment of the present invention. However, embodiments of the present invention may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. In addition, the embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for clarity, and the elements denoted by the same reference numerals in the drawings are the same elements.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따라 제조된 압전 엑츄에이터(40)를 포함하는 잉크 젯 헤드를 개략적으로 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing an ink jet head including a piezoelectric actuator 40 manufactured according to one embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 잉크 젯 헤드는 유로형성 기판(10), 노즐 기판(20)을 포함한다. 상기 유로형성 기판(10)에는 잉크 유로를 구성하는 매니폴드(13), 다수의 리스트릭터(12) 및 다수의 압력 챔버(11)가 형성되어 있다. 상기 노즐 기판(20)에는 다수의 압력 챔버(11) 각각에 대응하는 다수의 노즐(22)이 형성되어 있다. Referring to FIG. 1, the ink jet head includes a flow path forming substrate 10 and a nozzle substrate 20. The flow path forming substrate 10 is provided with a manifold 13, a plurality of restrictors 12, and a plurality of pressure chambers 11 constituting an ink flow path. A plurality of nozzles 22 corresponding to each of the plurality of pressure chambers 11 are formed in the nozzle substrate 20.

또한, 상기 유로형성 기판(10)의 상부에는 압전 액츄에이터(40)가 장착되어 있다. In addition, a piezoelectric actuator 40 is mounted on the flow path forming substrate 10.

매니폴드(13)는 잉크 저장고(미도시)로부터 유입된 잉크를 다수의 압력 챔버(11)로 공급하는 통로이며, 리스트릭터(12)는 매니폴드(13)로부터 압력 챔버(11) 내부로 잉크가 유입되는 통로이다. 다수의 압력 챔버(11)는 토출될 잉크가 채워지는 곳으로, 매니폴드(13)의 일측 또는 양측에 배열되어 있다. The manifold 13 is a passage for supplying ink flowing from an ink reservoir (not shown) to the plurality of pressure chambers 11, and the restrictor 12 is ink from the manifold 13 into the pressure chamber 11. Is the passage through which The plurality of pressure chambers 11 are filled with the ink to be discharged, and are arranged on one side or both sides of the manifold 13.

압력 챔버(11)는 압전 액츄에이터(40)의 구동에 의해 그 부피가 변화함으로써 잉크의 토출 또는 유입을 위한 압력 변화를 생성하게 된다. 압전 액츄에이터(40)는 유로형성 기판(10) 위에 순차 적층된 하부 전극(41), 압전체(42), 상부 전극(43)을 포함한다. 하부 전극(41)과 유로형성 기판(10)사이에는 절연막으로서 실리콘 산화막(31)이 형성될 수 있다. 상부 전극(43)은 압전체(42) 상에 형성되며, 압전체(42)에 전압을 인가하는 구동 전극의 역할을 하게 된다. 상부 전극(43) 에는 전압 인가용 플렉시블 인쇄 회로(FPC; Flexible Printed Circuit, 50)가 연결된다.The pressure chamber 11 generates a pressure change for ejecting or injecting ink by changing its volume by driving the piezoelectric actuator 40. The piezoelectric actuator 40 includes a lower electrode 41, a piezoelectric body 42, and an upper electrode 43 sequentially stacked on the flow path forming substrate 10. A silicon oxide film 31 may be formed between the lower electrode 41 and the flow path forming substrate 10 as an insulating film. The upper electrode 43 is formed on the piezoelectric body 42 and serves as a driving electrode for applying a voltage to the piezoelectric body 42. The upper electrode 43 is connected to a flexible printed circuit (FPC) 50 for voltage application.

상부 전극(43)에 구동 펄스를 인가하면, 압전체(42)가 변형되어 압력 챔버(11)의 부피를 변화시켜 압력 챔버(11) 내의 잉크가 노즐(22)을 통하여 토출된다. When a driving pulse is applied to the upper electrode 43, the piezoelectric body 42 is deformed to change the volume of the pressure chamber 11 so that ink in the pressure chamber 11 is discharged through the nozzle 22.

압전 엑츄에이터(40)의 성능은 구동 변위 및 구동 주파수에 의하여 결정되는데, 압전 엑츄에이터(40)의 두께가 감소하면, 구동 전압 대비 구동 효율이 증가되어 구동 변위가 커지고 고주파수에서 작동이 가능해진다. 이에 따라 고성능의 저전압 구동의 잉크젯 헤드의 제작이 가능해진다.The performance of the piezoelectric actuator 40 is determined by the driving displacement and the driving frequency. When the thickness of the piezoelectric actuator 40 decreases, the driving efficiency increases with respect to the driving voltage, thereby increasing the driving displacement and enabling operation at a high frequency. This makes it possible to manufacture a high performance, low voltage drive inkjet head.

이하, 본 발명의 일 실시형태에 따른 압전 엑츄에이터의 제조방법을 설명한다. Hereinafter, the manufacturing method of the piezoelectric actuator which concerns on one Embodiment of this invention is demonstrated.

도 2 내지 도 6은 본 발명의 일 실시형태에 따른 압전 엑츄에이터의 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도이다.2 to 6 are process cross-sectional views for explaining a method for manufacturing a piezoelectric actuator according to an embodiment of the present invention.

우선, 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록을 마련한다. 이에 제한되는 것은 아니나, 벌크 상태의 압전 물질로된 블록은 100㎛ 이상의 두께를 가질 수 있다.First, a block of bulk piezoelectric material is prepared. Although not limited thereto, the block of bulk piezoelectric material may have a thickness of 100 μm or more.

압전 물질을 얻는 방법으로는 원료 분말에 여러가지 첨가제를 혼합한 페이스트를 제조하고, 마스크를 통하여 프린팅 한 후 열처리 하는 스크린 프린팅 방법, 초미립자 분말이 분말장치와 기판 간의 내부 압력 차이와 반송 가스에 의해 초음속 의 속도로 분사되어 기판 표면에 코팅되는 에어로졸 증착법, 스퍼터링 타겟과 이온이 충돌하여 타겟 재료가 기판에 증착되는 스퍼터렁법 등이 있다.As a method of obtaining a piezoelectric material, a screen printing method of preparing a paste in which various additives are mixed with a raw material powder, printing through a mask, and then heat-treating, the ultra-fine particle powder has a supersonic The aerosol deposition method sprayed at a speed and coated on the substrate surface, the sputtering method in which the target material is deposited on the substrate by colliding with the sputtering target and the like.

본 실시형태에서는 벌크 상태의 압전 물질을 이용하는 것으로, 벌크 상태의 압전 물질은 블록으로 제조되어 사용된다.In this embodiment, a piezoelectric material in a bulk state is used, and the piezoelectric material in a bulk state is manufactured and used as a block.

압전 물질은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, PZT 등을 사용할 수 있다.The piezoelectric material is not particularly limited, and for example, PZT can be used.

다음으로, 도 2에 도시된 바와 같이, 벌크 상태의 압전 벌크 물질로 된 블록(42a)을 희생 기판(100)에 접합한다. 희생 기판(100)은 기판 전체의 두께 편차가 ±1 이내로 가공될 수 있는 물질이면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 실리콘 웨이퍼, 글라스 웨이퍼, 쿼츠 웨이퍼 등을 사용할 수 있다.Next, as shown in FIG. 2, a block 42a made of a piezoelectric bulk material in a bulk state is bonded to the sacrificial substrate 100. The sacrificial substrate 100 is not particularly limited as long as the thickness variation of the entire substrate is processed to within ± 1, and for example, a silicon wafer, a glass wafer, a quartz wafer, or the like may be used.

희생 기판(100)은 이에 제한되는 것은 아니나, 300㎛ 이상의 두께를 가질 수 있다.The sacrificial substrate 100 is not limited thereto, but may have a thickness of 300 μm or more.

벌크 상태의 압전 물질로 된 블록(42a)은 접합물질(미도시)에 의하여 희생 기판(100)에 접합될 수 있다. 접합물질은 가열에 의하여 쉽게 접합력을 상실하는 것이면 특별히 제한되지 않는다. 보다 구체적으로, 상기 접합 물질은 약 80℃의 온도에서 녹는 왁스를 사용할 수 있으며, 이에 따라 희생 기판(100)과 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록(42a)을 쉽게 분리할 수 있다.The block 42a of the piezoelectric material in the bulk state may be bonded to the sacrificial substrate 100 by a bonding material (not shown). The bonding material is not particularly limited as long as it loses the bonding strength easily by heating. More specifically, the bonding material may use wax that melts at a temperature of about 80 ° C., thereby easily separating the sacrificial substrate 100 and the block 42a made of a piezoelectric material in bulk.

도 2는 6인치 웨이퍼에 다수의 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록을 접합한 상태를 도시한 것이고, 웨이퍼의 크기 및 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록의 크기 에 따라 접합되는 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록의 갯수는 조절될 수 있다.FIG. 2 illustrates a state in which a plurality of bulk piezoelectric materials are bonded to a 6-inch wafer, and the bulk piezoelectric materials are bonded according to the size of the wafer and the size of the blocks of the bulk piezoelectric materials. The number of blocks made can be adjusted.

도 3a는 도 2의 I-I'선을 따라 취한 단면도이다. 도 3a에 도시된 바와 같이, 희생 기판에 접합된 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록(42a)을 래핑(lapping)한다. 이에 따라, 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록에 비하여 두께가 감소된 압전체(42b)를 제조한다.3A is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 2. As shown in FIG. 3A, a block 42a of bulk piezoelectric material bonded to a sacrificial substrate is wrapped. As a result, a piezoelectric body 42b having a reduced thickness as compared to a block made of a piezoelectric material in a bulk state is manufactured.

이때, 원하는 최종 두께보다 큰 두께를 갖도록 래핑한다. 보다 구체적으로, 최종 설계된 두께보다 약 5 내지 10㎛의 큰 두께를 갖도록 래핑한다. 이는 후속 공정인 폴리싱 공정을 통하여 표면 조도를 형성하기 위한 것이다.At this time, it is wrapped to have a thickness larger than the desired final thickness. More specifically, the wrap is to have a thickness of about 5-10 μm greater than the final designed thickness. This is to form the surface roughness through the polishing process, which is a subsequent process.

도 3b는 래핑 공정이 수행된 이후의 압전체(42b)의 표면을 촬영한 SEM사진이다.3B is a SEM photograph of the surface of the piezoelectric body 42b after the lapping process is performed.

다음으로, 도 4a에 도시된 바와 같이, 두께가 감소된 압전체(42b)를 폴리싱(polishing)한다. 폴리싱 공정에 의하여 두께가 감소된 압전체(42b)의 표면에는 표면 조도가 형성된다. 표면 조도는 이에 제한되는 것은 아니나, 10Å이하일 수 있다. 도 4b는 폴리싱 공정이 수행된 이후의 표면 조도가 형성된 압전체(42c)의 표면을 촬영한 SEM사진이다.Next, as shown in Fig. 4A, the piezoelectric body 42b having a reduced thickness is polished. Surface roughness is formed on the surface of the piezoelectric member 42b having a reduced thickness by the polishing process. Surface roughness is not limited thereto, but may be less than 10 GPa. 4B is a SEM photograph of the surface of the piezoelectric body 42c having the surface roughness after the polishing process is performed.

폴리싱 공정에 의하여, 압전체(43c)에 표면 조도가 형성되면, 구동시 크랙이 발생되는 것을 방지할 수 있다.When the surface roughness is formed on the piezoelectric body 43c by the polishing process, it is possible to prevent the occurrence of cracks during driving.

폴리싱 공정 이후의 압전체(43c)는 10㎛이상의 두께를 가질 수 있다.The piezoelectric body 43c after the polishing process may have a thickness of 10 μm or more.

다음으로, 상기 표면 조도가 형성된 압전체(43c)를 상기 희생 기판(100)으로부터 분리한다. Next, the piezoelectric body 43c having the surface roughness is separated from the sacrificial substrate 100.

보다 구체적으로, 희생 기판(100)을 핫 플레이트(hotplate) 등에 배치하고, 약 80℃로 가열한다. 이에 따라 접합 물질의 접합력이 약화되고, 표면 조도가 형성된 압전체(43c)는 희생기판(100)으로부터 용이하게 분리된다.More specifically, the sacrificial substrate 100 is placed on a hotplate or the like and heated to about 80 ° C. Accordingly, the bonding force of the bonding material is weakened, and the piezoelectric body 43c having the surface roughness is easily separated from the sacrificial substrate 100.

다음으로, 도 5에 도시된 바와같이, 표면 조도가 형성된 압전체(43c)의 양면에 제1 및 제2 전극(41c, 43c)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 5, first and second electrodes 41c and 43c are formed on both surfaces of the piezoelectric body 43c having surface roughness.

상기 제1 및 제2 전극의 형성은 도금 공정으로 수행될 수 있다. 표면 조도가 형성된 압전체(43c)를 도금조에 담금으로써, 양면에 제1 및 제2 전극을 한번에 형성할 수 있다. 이에 따라, 제1 및 제2 전극을 각각 형성하는 공정에 비하여 공정 수가 단축된다.Formation of the first and second electrodes may be performed by a plating process. By immersing the piezoelectric body 43c having the surface roughness in the plating bath, the first and second electrodes can be formed on both surfaces at once. As a result, the number of steps is shortened as compared with the steps of forming the first and second electrodes, respectively.

제1 및 제2 전극의 두께는 이에 제한되는 것은 아니나, 10nm 내지 10㎛일 수 있다. 또한, 전극 물질은 도금 공정이 가능한 물질이면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, Au, Ag, Pt, Cu 등을 사용할 수 있다.The thickness of the first and second electrodes is not limited thereto, but may be 10 nm to 10 μm. In addition, the electrode material is not particularly limited as long as it is a material capable of plating, and for example, Au, Ag, Pt, Cu, or the like may be used.

도금 공정은 무전해 도금을 공정 또는 전해 도금 공정을 이용할 수 있다. 전해 도금 공정을 이용하는 경우에는 시드 층(seed layer)을 형성하고, 전해 도금 공정을 수행할 수 있다. 시드 층의 형성방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 스퍼터(sputter). CVD, E-beam evaporator를 사용할 수 있다.The plating process may use an electroless plating process or an electrolytic plating process. In the case of using an electrolytic plating process, a seed layer may be formed and an electrolytic plating process may be performed. The method of forming the seed layer is not particularly limited, and for example, sputters. CVD, E-beam evaporator can be used.

다음으로, 제1 및 제2 전극(41c, 43c)이 형성된 압전체(42c)를 최종 설계된크기로 절단한다.Next, the piezoelectric body 42c on which the first and second electrodes 41c and 43c are formed is cut to a final designed size.

이후, 도 6에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 전극(41c, 43c)에 전압을 인가하여 절단된 압전체(42)를 폴링한다. 폴링이란, 압전체의 상부 및 하부에 형성된 제1 및 제2 전극에 전압을 인가하면, 전기장이 발생되고, 전기장에 의하여 인접한 도메인들의 다이폴 방향이 점차 일치하게 되는 공정이다.Thereafter, as illustrated in FIG. 6, the piezoelectric material 42 cut by applying voltage to the first and second electrodes 41c and 43c is polled. Polling is a process in which an electric field is generated when the voltage is applied to the first and second electrodes formed on the upper and lower portions of the piezoelectric body, and the dipole directions of adjacent domains are gradually coincided by the electric field.

본 실시형태에서는 도금 공정에 의하여 한번에 전극 형성이 가능하나, 전극 형성 이후에, 압전체를 절단하여, 압전체의 측면에는 전극이 형성되어 있지 않는 특징을 갖는다. 이에 따라 폴링 공정의 수행이 가능하다.In the present embodiment, the electrode can be formed at one time by the plating process, but after the electrode is formed, the piezoelectric body is cut and the electrode is not formed on the side surface of the piezoelectric body. Accordingly, it is possible to perform the polling process.

본 발명의 일 실시형태에 따라 제조된 압전 엑츄에이터는 도 1에 도시된 바와 같이, 잉크 헤드의 압력 챔버 등에 장착되어 사용될 수 있다.The piezoelectric actuator manufactured according to one embodiment of the present invention can be used by being mounted to a pressure chamber of an ink head or the like, as shown in FIG.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 희생 기판을 이용한 래핑 및 폴리싱 공정을 통하여 두께가 얇은 압전체를 제조할 수 있고, 도금 공정에 의하여 한번에 제1 및 제2 전극의 형성이 가능하여 공정수가 단축된다. 또한, 압전 엑츄에이터의 두께가 감소하여 구동 전압 대비 구동 효율이 증가하여 구동 변위가 커지고, 고주파수에서 작동이 가능해진다. According to one embodiment of the present invention, a thin piezoelectric material can be manufactured through a lapping and polishing process using a sacrificial substrate, and the number of processes can be shortened by forming the first and second electrodes at a time by the plating process. In addition, the thickness of the piezoelectric actuator is reduced to increase the driving efficiency relative to the driving voltage, so that the driving displacement is increased, and the operation is possible at a high frequency.

본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며, 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.It is intended that the invention not be limited by the foregoing embodiments and the accompanying drawings, but rather by the claims appended hereto. It will be apparent to those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. something to do.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따라 제조된 압전 엑츄에이터를 포함하는 잉크 젯 헤드를 개략적으로 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing an ink jet head including a piezoelectric actuator manufactured according to an embodiment of the present invention.

도 2 내지 도 6은 본 발명의 일 실시형태에 따른 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법을 설명하기 위한 공정별 단면도이다.2-6 is sectional drawing by process for demonstrating the manufacturing method of the piezoelectric actuator for inkjet heads which concerns on one Embodiment of this invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>                <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10: 유로 형성 기판 20: 노즐 기판10: flow path forming substrate 20: nozzle substrate

40: 압전 액츄에이터 42a: 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록 40: piezoelectric actuator 42a: block of piezoelectric material in bulk

42b, 42c: 압전체 41, 43: 전극42b, 42c: piezoelectric 41, 43: electrode

100: 희생 기판100: sacrificial substrate

Claims (8)

벌크 상태의 압전 물질로 된 블록을 마련하는 단계;Providing a block of piezoelectric material in bulk; 상기 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록을 희생 기판에 접합하는 단계;Bonding the block of bulk piezoelectric material to a sacrificial substrate; 상기 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록을 래핑하여 두께가 감소된 압전체를 제조하는 단계;Wrapping the block of piezoelectric material in the bulk state to produce a piezoelectric member having a reduced thickness; 상기 두께가 감소된 압전체를 폴리싱하는 단계;Polishing the piezoelectric body having the reduced thickness; 상기 폴리싱 된 압전체를 상기 희생 기판으로부터 분리하는 단계;Separating the polished piezoelectric body from the sacrificial substrate; 상기 압전체의 양면에 제1 및 제2 전극을 형성하는 단계; Forming first and second electrodes on both surfaces of the piezoelectric body; 상기 제1 및 제2 전극이 형성된 압전체를 절단하는 단계; 및Cutting piezoelectric materials on which the first and second electrodes are formed; And 상기 절단된 압전체를 폴링(poling)하는 단계;Polling the cut piezoelectric body; 를 포함하는 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법.Method of manufacturing a piezoelectric actuator for an inkjet head comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록은 100㎛ 이상의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법.And wherein said block of bulk piezoelectric material has a thickness of at least 100 [mu] m. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 희생 기판은 실리콘 웨이퍼, 글라스 웨이퍼 또는 쿼츠 웨이퍼인 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법.The sacrificial substrate is a silicon wafer, a glass wafer or a quartz wafer, characterized in that the piezoelectric actuator for ink jet head. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 벌크 상태의 압전 물질로 된 블록은 가열에 의하여 접합력이 저하되는 접합 물질에 의하여 상기 희생 기판에 접합되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법.And the block of the piezoelectric material in the bulk state is bonded to the sacrificial substrate by a bonding material whose bonding force is lowered by heating. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 래핑 단계는 상기 압전체의 원하는 최종 두께보다 5 내지 10㎛의 큰 두께를 갖도록 수행되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법.And said lapping step is performed to have a thickness of 5 to 10 [mu] m larger than a desired final thickness of the piezoelectric body. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 폴리싱 단계는 상기 압전체의 표면조도가 10Å이하가 되도록 수행되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법.The polishing step is a piezoelectric actuator for inkjet head, characterized in that the surface roughness of the piezoelectric material is performed to be less than 10Å. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 폴리싱 단계 이후의 압전체는 10㎛ 이상의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법.The piezoelectric body after the polishing step has a thickness of 10㎛ or more, characterized in that the piezoelectric actuator for inkjet head. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 및 제2 전극의 형성은 도금 공정에 의하여 동시에 수행되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 압전 엑츄에이터의 제조방법.Forming the first and second electrodes is a method of manufacturing a piezoelectric actuator for ink jet head, characterized in that carried out simultaneously by a plating process.
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