JP2009178982A - Method for manufacturing piezoelectric actuator and method for manufacturing liquid transferring device - Google Patents

Method for manufacturing piezoelectric actuator and method for manufacturing liquid transferring device Download PDF

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JP2009178982A JP2008021283A JP2008021283A JP2009178982A JP 2009178982 A JP2009178982 A JP 2009178982A JP 2008021283 A JP2008021283 A JP 2008021283A JP 2008021283 A JP2008021283 A JP 2008021283A JP 2009178982 A JP2009178982 A JP 2009178982A
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宏人 菅原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To easily manufacture a piezoelectric actuator having a piezoelectric layer a part of which is curved and a liquid transferring device. <P>SOLUTION: In order to manufacture an inkjet head, a recessed part 51 having a curved surface 51a whose depth becomes larger and larger toward a center part is formed by half etching on an upper surface of a cavity plate 21 before a pressure chamber 10 is formed, and a protection layer 41 is deposited by an AD method on the upper surface of the cavity plate 21 on which the recessed part 51 has been formed. Next, a common electrode 43 is formed on an upper surface of the protection layer 41 and further the piezoelectric layer 42 is deposited by the AD method on the upper surface of the protection layer 41 on which the common electrode 43 has been formed. Then, the part of the cavity plate 21 where the recessed part 51 has been formed is removed by etching, so as to form the pressure chamber 10 piercing through the cavity plate 21. An individual electrode 44 is formed on an upper surface of the piezoelectric layer 42, and then heat treatment is performed to anneal the piezoelectric layer 42 and calcine the common electrode 43 and the individual electrode 44. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、圧電層を有する圧電アクチュエータの製造方法、及び、圧電層を有する液体移送装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a piezoelectric actuator having a piezoelectric layer, and a method for manufacturing a liquid transfer device having a piezoelectric layer.

特許文献1に記載のインクジェットヘッドにおいては、インクチャンバー(圧力室)を覆うように圧電素子が配置されており、圧電素子は圧力室に対向する部分において、圧力室と反対側に向かって湾曲している。また、このように圧力室と対向する部分が湾曲した圧電素子を、圧電材料の薄層を研磨することによって、あるいは、上記湾曲と同様の曲面を有する成形型を用いて射出成形を行うことによって作製している。   In the ink jet head described in Patent Document 1, a piezoelectric element is disposed so as to cover an ink chamber (pressure chamber), and the piezoelectric element is curved toward a side opposite to the pressure chamber at a portion facing the pressure chamber. ing. In addition, the piezoelectric element having a curved portion facing the pressure chamber is polished by thin layer of the piezoelectric material or by injection molding using a mold having a curved surface similar to the above-described curve. I am making it.

特開2005−512844号公報JP 2005-512844 A

また、特許文献1に記載されているような圧電材料の研磨及び射出成形によれば、特許文献1に記載されているのとは反対に、圧力室と対向する部分が圧力室に向かって湾曲した圧電素子を作製することも可能である。しかしながら、特許文献1に記載されているように、圧電素子を圧電材料の薄層を研磨することによって作製する場合には、湾曲した部分を精度よく研磨することが困難であり、射出成形によって作製する場合には、成形型から圧電素子を取り出す際に、圧電素子に反りが発生してしまう虞などがある。すなわち、いずれの場合にも、圧電素子の作製は困難なものとなる。   Further, according to the polishing and injection molding of the piezoelectric material as described in Patent Document 1, the portion facing the pressure chamber is curved toward the pressure chamber, contrary to that described in Patent Document 1. It is also possible to produce a piezoelectric element. However, as described in Patent Document 1, when a piezoelectric element is manufactured by polishing a thin layer of piezoelectric material, it is difficult to accurately polish a curved portion, and it is manufactured by injection molding. In this case, there is a risk that the piezoelectric element may be warped when the piezoelectric element is taken out of the mold. That is, in any case, it is difficult to produce a piezoelectric element.

本発明の目的は、一部分が湾曲した圧電層を容易に作製することが可能な圧電アクチュエータの製造方法及び液体移送装置の製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a piezoelectric actuator and a method of manufacturing a liquid transfer device that can easily manufacture a piezoelectric layer having a partially curved portion.

本発明の圧電アクチュエータの製造方法は、基材の一表面に、中央に向かうほど深さが深くなる湾曲面を画定する凹部、又は中央に向うほど高さが高くなる湾曲面を画定する凸部を形成する凹部又は凸部形成工程と、前記湾曲面が形成された前記基材の前記一表面側に、前記湾曲面と対向する部分がその湾曲面に倣って湾曲した圧電層を形成する圧電層形成工程と、前記圧電層形成工程の後に行われる工程であって、前記基材の前記凹部又は前記凸部が形成された部分を除去することで、前記基材の前記圧電層と反対側から前記圧電層を臨むことのできる貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記圧電層の表面に電極を形成する電極形成工程とを備えている(請求項1)。   The piezoelectric actuator manufacturing method of the present invention includes a concave portion that defines a curved surface that increases in depth toward the center or a convex portion that defines a curved surface that increases in height toward the center on one surface of a substrate. Forming a piezoelectric layer in which a portion facing the curved surface is curved to follow the curved surface on the one surface side of the base material on which the curved surface is formed A layer forming step and a step performed after the piezoelectric layer forming step, by removing a portion where the concave portion or the convex portion of the base material is formed, so that the side opposite to the piezoelectric layer of the base material is removed. A through-hole forming step of forming a through-hole that can face the piezoelectric layer, and an electrode forming step of forming an electrode on the surface of the piezoelectric layer.

これによると、基材の一表面に、中央に向かうほど深さが深くなる湾曲面を画定する凹部、又は中央に向うほど高さが高くなる湾曲面を画定する凸部を形成し、湾曲面が形成された基材の一表面側に湾曲面と対向する部分がその湾曲面に倣って湾曲した圧電層を形成することにより、貫通孔側に凸又は凹となるように湾曲した圧電層を容易に形成することができる。   According to this, on one surface of the base material, a concave portion that defines a curved surface that increases in depth toward the center or a convex portion that defines a curved surface that increases in height toward the center is formed. By forming a piezoelectric layer in which a portion facing the curved surface is curved along the curved surface on one surface side of the substrate on which the substrate is formed, the piezoelectric layer curved so as to be convex or concave toward the through-hole side It can be formed easily.

なお、本発明における、「湾曲面に倣って湾曲した」ということには、「湾曲面に沿って湾曲した」ことのほか、「基材の一表面に湾曲面に沿って形成された別の層が形成されており、この別の層の表面に沿って湾曲した」ことも含まれている。   In addition, in the present invention, “curved along the curved surface” means “curved along the curved surface” and “another surface formed on one surface of the base material along the curved surface”. It is also included that a layer is formed and curved along the surface of this other layer.

また、本発明の圧電アクチュエータの製造方法においては、前記圧電層形成工程の前に、前記基材の前記一表面に、前記湾曲面と対向する部分がその湾曲面に倣って湾曲した前記圧電層を保護するための保護層を形成する保護層形成工程をさらに備え、前記圧電層形成工程において、前記保護層の前記基材と反対側の面に前記圧電層を形成することが好ましい(請求項2)。   Further, in the method for manufacturing a piezoelectric actuator of the present invention, the piezoelectric layer in which a portion facing the curved surface is curved following the curved surface on the one surface of the base material before the piezoelectric layer forming step. It is preferable to further include a protective layer forming step of forming a protective layer for protecting the substrate, and in the piezoelectric layer forming step, the piezoelectric layer is formed on the surface of the protective layer opposite to the base material. 2).

圧電層が貫通孔に露出していると、例えば、貫通孔が液体流路を構成する圧力室であり、圧電層と液体とが接触してしまう場合などに圧電層が損傷してしまう虞がある。しかしながら、本発明では、貫通孔と圧電層との間に保護層が設けられているので、圧電層が貫通孔に露出することがなく、このような圧電層の損傷を防止することができる。   If the piezoelectric layer is exposed in the through hole, for example, the through hole is a pressure chamber constituting a liquid flow path, and the piezoelectric layer may be damaged when the piezoelectric layer and the liquid come into contact with each other. is there. However, in the present invention, since the protective layer is provided between the through hole and the piezoelectric layer, the piezoelectric layer is not exposed to the through hole, and such damage to the piezoelectric layer can be prevented.

このとき、前記保護層形成工程において、前記保護層はエアロゾルデポジション法によって形成されることが好ましい(請求項3)。   At this time, in the protective layer forming step, the protective layer is preferably formed by an aerosol deposition method.

これによると、エアロゾルデポジション法(AD法)により、緻密な構造を有する保護層を高速に形成することができる。   According to this, the protective layer having a dense structure can be formed at high speed by the aerosol deposition method (AD method).

また、本発明の圧電アクチュエータの製造方法においては、前記基材が、金属又はシリコンからなるものであり、前記圧電層を加熱処理する加熱処理工程をさらに備えており、前記加熱処理工程を貫通孔形成工程よりも後に行うことが好ましい(請求項4)。   In the method for manufacturing a piezoelectric actuator of the present invention, the base material is made of metal or silicon, and further includes a heat treatment step for heat-treating the piezoelectric layer, and the heat treatment step is performed through a through hole. It is preferable to carry out after the forming step (claim 4).

基材が金属又はシリコンからなるとともに、圧電層を加熱処理する工程を有している場合、加熱処理の際に、基材の構成分子が圧電層に拡散して、圧電層の圧電特性が低下してしまう虞がある。しかしながら、本発明では、加熱処理を行う前に基材に貫通孔を形成しているため、圧電層の圧力室と対向する部分に基材の構成分子が拡散しにくくなる。これにより、圧電層の駆動に用いられる部分における圧電特性が低下してしまうのを抑制することができる。   When the base material is made of metal or silicon and has a step of heat-treating the piezoelectric layer, the constituent molecules of the base material diffuse into the piezoelectric layer during the heat treatment, and the piezoelectric characteristics of the piezoelectric layer are lowered. There is a risk of it. However, in the present invention, since the through holes are formed in the base material before the heat treatment, the constituent molecules of the base material are difficult to diffuse into the portion of the piezoelectric layer facing the pressure chamber. Thereby, it can suppress that the piezoelectric characteristic in the part used for the drive of a piezoelectric layer falls.

このとき、前記圧電層形成工程において、前記圧電層はエアロゾルデポジション法によって形成されることが好ましい(請求項5)。   At this time, in the piezoelectric layer forming step, the piezoelectric layer is preferably formed by an aerosol deposition method.

エアロゾルデポジション法(AD法)によって圧電層を形成する場合には、加熱処理工程として、圧電層を高温で加熱して圧電層に圧電特性を持たせるアニールを行う必要がある。しかしながら、このような場合でも、本発明では、加熱処理工程の前に貫通孔形成工程を行っているので、アニールを行う際の加熱によって、基材の構成分子が圧電層の貫通孔と対向する部分に拡散してしまうのを抑制することができる。   When the piezoelectric layer is formed by the aerosol deposition method (AD method), it is necessary to perform annealing for heating the piezoelectric layer at a high temperature to give the piezoelectric layer piezoelectric characteristics as a heat treatment step. However, even in such a case, in the present invention, since the through-hole forming step is performed before the heat treatment step, the constituent molecules of the base material face the through-holes of the piezoelectric layer by heating at the time of annealing. It is possible to suppress the diffusion to the part.

また、本発明の圧電アクチュエータの製造方法においては、前記電極形成工程よりも後に、前記加熱処理工程を行うことが好ましい(請求項6)。   In the method for manufacturing a piezoelectric actuator of the present invention, it is preferable that the heat treatment step is performed after the electrode forming step.

スパッタ法等により電極を形成した場合には、形成した電極を焼成する必要がある。しかしながら、本発明では、加熱処理工程を電極形成工程よりも後に行うことにより、圧電層の加熱処理と同時に電極の焼成を行うことができる。   When an electrode is formed by sputtering or the like, it is necessary to fire the formed electrode. However, in the present invention, by performing the heat treatment step after the electrode formation step, the electrodes can be fired simultaneously with the heat treatment of the piezoelectric layer.

また、本発明の圧電アクチュエータの製造方法においては、前記凹部又は凸部形成工程は、前記凹部を形成するものであることが好ましい。(請求項7)。これによれば、凸部を形成する場合と比べてハーフエッチングなどによって容易に形成することができる。   Moreover, in the manufacturing method of the piezoelectric actuator of this invention, it is preferable that the said recessed part or convex part formation process forms the said recessed part. (Claim 7). According to this, it can form easily by half etching etc. compared with the case where a convex part is formed.

本発明の液体移送装置の製造方法は、圧力室が形成される圧力室プレートの一表面に、中央に向かうほど深さが深くなる湾曲面を画定する凹部、又は中央に向うほど高さが高くなる湾曲面を画定する凸部を形成する凹部又は凸部形成工程と、前記湾曲面が形成された前記圧力室プレートの前記一表面側に、前記湾曲面と対向する部分がその湾曲面に倣って湾曲した圧電層を形成する圧電層形成工程と、前記圧電層形成工程の後に行われる工程であって、前記圧力室プレートの前記凹部又は前記凸部が形成された部分を除去することで、前記圧力室プレートの前記圧電層と反対側から前記圧電層を臨むことのできる圧力室を形成する圧力室形成工程と、前記圧電層の表面に電極を形成する電極形成工程とを備えている(請求項8)。   The manufacturing method of the liquid transfer device of the present invention has a concave portion that defines a curved surface whose depth increases toward the center, or a height that increases toward the center, on one surface of the pressure chamber plate in which the pressure chamber is formed. A concave portion or a convex portion forming step for forming a convex portion that defines the curved surface, and a portion facing the curved surface on the one surface side of the pressure chamber plate on which the curved surface is formed follows the curved surface. A piezoelectric layer forming step of forming a curved piezoelectric layer, and a step performed after the piezoelectric layer forming step, by removing the portion where the concave portion or the convex portion of the pressure chamber plate is formed, A pressure chamber forming step of forming a pressure chamber capable of facing the piezoelectric layer from a side opposite to the piezoelectric layer of the pressure chamber plate; and an electrode forming step of forming an electrode on the surface of the piezoelectric layer ( Claim 8).

本発明によれば、基材の一表面に、中央に向かうほど深さが深くなる湾曲面を画定する凹部、又は中央に向うほど高さが高くなる湾曲面を画定する凸部を形成し、湾曲面が形成された基材の一表面側に湾曲面と対向する部分がその湾曲面に倣って湾曲した圧電層を形成することにより、貫通孔側に凸又は凹となるように湾曲した圧電層を容易に形成することができる。   According to the present invention, on one surface of the base material, a concave portion that defines a curved surface that increases in depth toward the center, or a convex portion that defines a curved surface that increases in height toward the center, A piezoelectric layer that is curved so as to be convex or concave on the through-hole side by forming a piezoelectric layer in which the portion facing the curved surface is curved along the curved surface on one surface side of the substrate on which the curved surface is formed Layers can be easily formed.

以下、本発明の好適な実施の形態について説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.

図1は、本発明における実施の形態に係るプリンタの概略構成図である。図1に示すように、プリンタ1は、キャリッジ2、インクジェットヘッド3、搬送ローラ4などを備えている。キャリッジ2は、走査方向(図1の左右方向)に往復移動する。インクジェットヘッド3は、キャリッジ2の下面に取り付けられており、キャリッジ2とともに走査方向に往復移動しつつ、その下面に形成された複数のノズル15(図2参照)からインクを吐出する。搬送ローラ4は記録用紙Pを紙送り方向(図1の手前方向)に搬送する。そして、プリンタ1においては、キャリッジ2とともに走査方向に往復移動するインクジェットヘッド3から搬送ローラ4によって紙送り方向に搬送される記録用紙Pにインクを吐出することによって記録用紙Pに印刷を行う。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a printer according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the printer 1 includes a carriage 2, an inkjet head 3, a transport roller 4, and the like. The carriage 2 reciprocates in the scanning direction (left and right direction in FIG. 1). The inkjet head 3 is attached to the lower surface of the carriage 2 and ejects ink from a plurality of nozzles 15 (see FIG. 2) formed on the lower surface while reciprocating in the scanning direction together with the carriage 2. The conveyance roller 4 conveys the recording paper P in the paper feeding direction (frontward direction in FIG. 1). In the printer 1, printing is performed on the recording paper P by ejecting ink from the inkjet head 3 that reciprocates in the scanning direction together with the carriage 2 onto the recording paper P that is transported in the paper feeding direction by the transport roller 4.

次に、インクジェットヘッド3について説明する。図2は図1のインクジェットヘッド3の平面図である。図3は図2の部分拡大図である。図4は図3のIV−IV線断面図である。図5は図3のV−V線断面図である。図2〜図5に示すように、インクジェットヘッド3は、圧力室10を含むインク流路が形成された流路ユニット31と、圧力室10内のインクに圧力を付与するための圧電アクチュエータ32とを備えている。   Next, the inkjet head 3 will be described. FIG. 2 is a plan view of the inkjet head 3 of FIG. FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line VV in FIG. As shown in FIGS. 2 to 5, the inkjet head 3 includes a flow path unit 31 in which an ink flow path including the pressure chamber 10 is formed, and a piezoelectric actuator 32 for applying pressure to the ink in the pressure chamber 10. It has.

流路ユニット31は、キャビティプレート21(圧力室プレート、基材)、ベースプレート22、マニホールドプレート23及びノズルプレート24の4枚のプレートが互いに積層されることによって構成されている。これら4枚のプレート21〜24のうち、ノズルプレート24を除く3枚のプレート21〜23は、ステンレスなどの金属材料からなり、ノズルプレート24は、ポリイミドなどの合成樹脂からなる。あるいは、ノズルプレート24も他の3枚のプレート21〜23と同様、金属材料により構成されていてもよい。   The flow path unit 31 is configured by stacking four plates of a cavity plate 21 (pressure chamber plate, base material), a base plate 22, a manifold plate 23, and a nozzle plate 24. Of these four plates 21 to 24, the three plates 21 to 23 excluding the nozzle plate 24 are made of a metal material such as stainless steel, and the nozzle plate 24 is made of a synthetic resin such as polyimide. Or the nozzle plate 24 may be comprised with the metal material similarly to the other three plates 21-23.

キャビティプレート21には、複数の圧力室10(貫通孔)が形成されている。複数の圧力室10は、走査方向(図2の左右方向)を長手方向とする略楕円の平面形状を有しており、キャビティプレート21をその厚み方向に貫通している。また、複数の圧力室10は、紙送り方向(図2の上下方向)に2列に配列されている。ベースプレート22には、平面視で圧力室10の長手方向に関する両端部と重なる位置に、それぞれ、略円形の貫通孔12、13が形成されている。   A plurality of pressure chambers 10 (through holes) are formed in the cavity plate 21. The plurality of pressure chambers 10 have a substantially oval planar shape whose longitudinal direction is the scanning direction (left-right direction in FIG. 2), and penetrates the cavity plate 21 in the thickness direction. The plurality of pressure chambers 10 are arranged in two rows in the paper feeding direction (up and down direction in FIG. 2). In the base plate 22, substantially circular through holes 12 and 13 are formed at positions overlapping with both ends in the longitudinal direction of the pressure chamber 10 in plan view.

マニホールドプレート23には、圧力室10の列に沿って紙送り方向に2列に延びているとともに、図2における下端部においてこれら紙送り方向に延びた部分同士を接続するように走査方向に延びたマニホールド流路11が形成されている。マニホールド流路11は、上記紙送り方向に延びた部分において、平面視で図2の右側に配列された複数の圧力室10の略右半分、及び、図2の左側に配列された複数の圧力室10の略左半分と重なるように配置されている。ここで、マニホールド流路11には、その走査方向に延びた部分の略中央部と対向する位置に配置されたインク供給口9からインクが供給される。また、マニホールドプレート23には、平面視で貫通孔13と重なる部分に略円形の貫通孔14が形成されている。ノズルプレート24には、平面視で貫通孔14と重なる部分に、ノズル15が形成されている。   The manifold plate 23 extends in two rows in the paper feed direction along the row of pressure chambers 10 and extends in the scanning direction so as to connect the portions extending in the paper feed direction at the lower end in FIG. A manifold channel 11 is formed. In the portion extending in the paper feeding direction, the manifold channel 11 has a substantially right half of the plurality of pressure chambers 10 arranged on the right side in FIG. 2 and a plurality of pressures arranged on the left side in FIG. It arrange | positions so that it may overlap with the substantially left half of the chamber 10. FIG. Here, ink is supplied to the manifold channel 11 from an ink supply port 9 disposed at a position facing a substantially central portion of a portion extending in the scanning direction. The manifold plate 23 is formed with a substantially circular through hole 14 at a portion overlapping the through hole 13 in plan view. A nozzle 15 is formed in the nozzle plate 24 at a portion overlapping the through hole 14 in plan view.

そして、マニホールド流路11が貫通孔12を介して圧力室10と連通しており、圧力室10が貫通孔13、14を介してノズル15に連通している。このように、流路ユニット31には、マニホールド流路11の出口から圧力室10を経てノズル15に至る複数の個別インク流路が形成されている。   The manifold channel 11 communicates with the pressure chamber 10 through the through hole 12, and the pressure chamber 10 communicates with the nozzle 15 through the through holes 13 and 14. As described above, the flow path unit 31 is formed with a plurality of individual ink flow paths from the outlet of the manifold flow path 11 to the nozzle 15 via the pressure chamber 10.

圧電アクチュエータ32は、保護層41、圧電層(圧電材料を含む層)42、共通電極43及び複数の個別電極44を備えている。保護層41はアルミナ、ジルコニアなどのセラミックス材料からなり、複数の圧力室10を覆うように、キャビティプレート21の上面に配置されている。また、保護層41は、圧力室10と対向する部分において、圧力室10に向かって凸となるように湾曲している。そして、保護層41が設けられていることにより、後述する共通電極43及び圧電層42が圧力室10に露出せず、圧力室10内のインクが共通電極43及び圧電層42に接触してしまうことがない。したがって、共通電極43あるいは圧電層42を構成する材料と反応してしまうような材料からなるインクであっても、インクジェットヘッド3において使用することができる。   The piezoelectric actuator 32 includes a protective layer 41, a piezoelectric layer (a layer containing a piezoelectric material) 42, a common electrode 43, and a plurality of individual electrodes 44. The protective layer 41 is made of a ceramic material such as alumina or zirconia, and is disposed on the upper surface of the cavity plate 21 so as to cover the plurality of pressure chambers 10. Further, the protective layer 41 is curved so as to protrude toward the pressure chamber 10 at a portion facing the pressure chamber 10. Since the protective layer 41 is provided, the later-described common electrode 43 and the piezoelectric layer 42 are not exposed to the pressure chamber 10, and the ink in the pressure chamber 10 comes into contact with the common electrode 43 and the piezoelectric layer 42. There is nothing. Therefore, even an ink made of a material that reacts with the material constituting the common electrode 43 or the piezoelectric layer 42 can be used in the inkjet head 3.

圧電層42は、チタン酸鉛とジルコン酸鉛との混晶であるチタン酸ジルコン酸鉛を主成分とする圧電材料を含む層であり、保護層41の上面に複数の圧力室10にまたがって連続的に配置されている。これにより、圧電層42も、保護層41と同様、圧力室10と対向する部分において、圧力室10に向かって凸となるように湾曲している。また、圧電層42は、予めその厚み方向に分極されている。   The piezoelectric layer 42 is a layer containing a piezoelectric material mainly composed of lead zirconate titanate, which is a mixed crystal of lead titanate and lead zirconate, and spans the plurality of pressure chambers 10 on the upper surface of the protective layer 41. It is arranged continuously. As a result, the piezoelectric layer 42 is also curved so as to be convex toward the pressure chamber 10 at a portion facing the pressure chamber 10, similarly to the protective layer 41. The piezoelectric layer 42 is previously polarized in the thickness direction.

共通電極43は、白金、パラジウム、金、銀などの導電材料からなり、保護層41と圧電層42との間のほぼ全域にわたって配置されている。共通電極43は、図示しないフレキシブル配線基板(FPC)を介して図示しないドライバICに接続されており、ドライバICにより常にグランド電位に保持されている。   The common electrode 43 is made of a conductive material such as platinum, palladium, gold, or silver, and is disposed over almost the entire area between the protective layer 41 and the piezoelectric layer 42. The common electrode 43 is connected to a driver IC (not shown) via a flexible wiring board (FPC) (not shown), and is always held at the ground potential by the driver IC.

複数の個別電極44は、共通電極43と同様の導電材料からなり、圧電層42の上面に複数の圧力室10に対応して配置されている。個別電極44は、圧力室10とほぼ同じ大きさの略楕円の平面形状を有しており、平面視で、圧力室10の略中央部と対向する部分に配置されている。また、個別電極44の長手方向に関するノズル15と反対側の端は、走査方向に圧力室10と対向しない部分まで延びており、その先端部が、図示しないFPCに接続される接続端子44aとなっている。そして、複数の個別電極44には、図示しないドライバICにより、FPCを介して選択的に駆動電位(例えば、20V)が付与される。   The plurality of individual electrodes 44 are made of the same conductive material as the common electrode 43, and are arranged on the upper surface of the piezoelectric layer 42 so as to correspond to the plurality of pressure chambers 10. The individual electrode 44 has a substantially oval planar shape that is substantially the same size as the pressure chamber 10, and is disposed in a portion facing the substantially central portion of the pressure chamber 10 in plan view. Further, the end of the individual electrode 44 opposite to the nozzle 15 in the longitudinal direction extends to a portion that does not face the pressure chamber 10 in the scanning direction, and the tip thereof becomes a connection terminal 44a connected to an FPC (not shown). ing. A drive potential (for example, 20 V) is selectively applied to the plurality of individual electrodes 44 via an FPC by a driver IC (not shown).

ここで、圧電アクチュエータ32の駆動方法について説明する。図6は圧電アクチュエータ32の駆動方法を示す図である。圧電アクチュエータ32においては、図6(a)に示すように、共通電極43がグランド電位及び複数の個別電極44がともにグランド電位に保持されている。この状態では、圧電層42及び振動層41の圧力室10と対向する部分は、前述したように、圧力室10に向かって凸となるように湾曲している。   Here, a driving method of the piezoelectric actuator 32 will be described. FIG. 6 is a diagram illustrating a method for driving the piezoelectric actuator 32. In the piezoelectric actuator 32, as shown in FIG. 6A, the common electrode 43 is held at the ground potential and the plurality of individual electrodes 44 are both held at the ground potential. In this state, the portions of the piezoelectric layer 42 and the vibration layer 41 facing the pressure chamber 10 are curved so as to protrude toward the pressure chamber 10 as described above.

そして、圧電アクチュエータ32を駆動する際には、図6(b)に示すように、複数の個別電極44のいずれかに駆動電位(例えば、20V)を付与する。すると、圧電層42の駆動電位が付与された個別電極44とグランド電位に保持された共通電極43との間に電位差が生じ、圧電層42のこれらの電極に挟まれた部分には厚み方向の電界が発生する。   When the piezoelectric actuator 32 is driven, a driving potential (for example, 20 V) is applied to any of the plurality of individual electrodes 44 as shown in FIG. Then, a potential difference is generated between the individual electrode 44 to which the drive potential of the piezoelectric layer 42 is applied and the common electrode 43 held at the ground potential, and the portion of the piezoelectric layer 42 sandwiched between these electrodes has a thickness direction. An electric field is generated.

この電界の方向は、圧電層42の分極方向と一致しているので、圧電層42のこの部分は、この電界の方向と直交する水平方向に収縮する。これにより、圧力室10側に向かって凸となるように湾曲していた、圧電層42及び保護層41の圧力室10と対向する部分が上方に持ち上げられて、水平方向に延びた状態、あるいは、駆動電位が付与される前よりも小さく湾曲した状態となる。これにより、圧力室10の容積が増加して圧力室10内のインクの圧力が低下し、マニホールド流路11から圧力室10にインクが流れ込む。   Since the direction of the electric field coincides with the polarization direction of the piezoelectric layer 42, this portion of the piezoelectric layer 42 contracts in a horizontal direction orthogonal to the direction of the electric field. As a result, the portion facing the pressure chamber 10 of the piezoelectric layer 42 and the protective layer 41 that is curved so as to be convex toward the pressure chamber 10 side is lifted upward, and extends in the horizontal direction, or Thus, the curved state is smaller than before the driving potential is applied. As a result, the volume of the pressure chamber 10 increases, the pressure of the ink in the pressure chamber 10 decreases, and the ink flows from the manifold channel 11 into the pressure chamber 10.

そして、所定時間経過後、駆動電位を付与していた個別電極44の電位をグランド電位に戻す。すると、圧電層42の個別電極44と共通電極43とに挟まれた部分の電界がなくなり、図6(a)に示すように、圧電層42及び保護層41の圧力室10と対向する部分が、圧力室10に向かって凸となるように湾曲した状態に戻る。これにより、圧力室10の容積が減少し、圧力室10内のインクの圧力が増加して(圧力室10内のインクに圧力が付与されて)、圧力室10に連通するノズル15からインクが吐出される。   Then, after a predetermined time has elapsed, the potential of the individual electrode 44 to which the drive potential has been applied is returned to the ground potential. Then, the electric field in the portion sandwiched between the individual electrode 44 and the common electrode 43 of the piezoelectric layer 42 disappears, and the portions of the piezoelectric layer 42 and the protective layer 41 that oppose the pressure chamber 10 are removed as shown in FIG. Then, it returns to the curved state so as to be convex toward the pressure chamber 10. As a result, the volume of the pressure chamber 10 is reduced, the pressure of the ink in the pressure chamber 10 is increased (pressure is applied to the ink in the pressure chamber 10), and ink is ejected from the nozzle 15 communicating with the pressure chamber 10. Discharged.

次に、インクジェットヘッド3(圧電アクチュエータ32)の製造方法について説明する。図7はインクジェットヘッド3の製造工程を示すフローチャートである。図8は製造の各工程におけるインクジェットヘッド3の状態を示す図である。   Next, a method for manufacturing the inkjet head 3 (piezoelectric actuator 32) will be described. FIG. 7 is a flowchart showing the manufacturing process of the inkjet head 3. FIG. 8 is a diagram showing the state of the inkjet head 3 in each manufacturing process.

インクジェットヘッド3(圧電アクチュエータ32)を製造するためには、まず、図7、図8(a)に示すように、ハーフエッチングによって圧力室10が形成される前のキャビティプレート21(基材)の上面(一表面)における圧力室10となる部分と対向する部分に、前述した振動層41及び圧電層42の湾曲形状に対応する、中央に向かうほどその深さが深くなるように湾曲した湾曲面51aを有する凹部51を形成する(ステップS101、以下単にS101などとする、凹部形成工程)。すなわち、凹部51が形成されることによって、キャビティプレート21の上面に湾曲面51aが画定される。ここで、キャビティプレート21がステンレスなどの金属材料により構成されているため、ハーフエッチングにより、このような湾曲面51aを有する凹部51を容易に形成することができる。   In order to manufacture the inkjet head 3 (piezoelectric actuator 32), first, as shown in FIGS. 7 and 8A, the cavity plate 21 (base material) before the pressure chamber 10 is formed by half-etching is used. A curved surface corresponding to the curved shape of the vibration layer 41 and the piezoelectric layer 42 described above on a portion facing the pressure chamber 10 on the upper surface (one surface) and curved so that its depth increases toward the center. A recess 51 having 51a is formed (step S101, hereinafter referred to simply as S101). That is, by forming the recess 51, the curved surface 51 a is defined on the upper surface of the cavity plate 21. Here, since the cavity plate 21 is comprised with metal materials, such as stainless steel, the recessed part 51 which has such a curved surface 51a can be easily formed by half etching.

次に、図7、図8(b)に示すように、微粒子を含むエアロゾルを噴き付けることによって成膜を行うエアロゾルデポジション法(AD法)により、凹部51が形成されたキャビティプレート21の上面に保護層41を成膜する(S102、保護層形成工程)。これにより、凹部51と対向する部分が湾曲面51aに沿って(倣って)湾曲した保護層41が成膜される。   Next, as shown in FIG. 7 and FIG. 8B, the upper surface of the cavity plate 21 in which the recesses 51 are formed by an aerosol deposition method (AD method) in which film formation is performed by spraying aerosol containing fine particles. A protective layer 41 is formed on the substrate (S102, protective layer forming step). Thereby, the protective layer 41 in which the portion facing the recess 51 is curved along the curved surface 51a is formed.

次に、図7、図8(c)に示すように、保護層41の上面にスパッタ法などにより、共通電極43を形成し(S103)、続いて、図7、図8(d)に示すように、AD法により、共通電極43が形成された保護層41の上面(キャビティプレート21の一表面側)に圧電層42を成膜する(S104、圧電層形成工程)。これにより、圧力室10と対向する部分が、湾曲面51aと同様に湾曲した保護層41の上面に沿って(湾曲面51aに倣って)湾曲した圧電層43が成膜される。   Next, as shown in FIGS. 7 and 8 (c), the common electrode 43 is formed on the upper surface of the protective layer 41 by sputtering or the like (S103), and subsequently, as shown in FIGS. 7 and 8 (d). As described above, the piezoelectric layer 42 is formed on the upper surface (one surface side of the cavity plate 21) of the protective layer 41 on which the common electrode 43 is formed by the AD method (S104, piezoelectric layer forming step). As a result, the piezoelectric layer 43 whose portion facing the pressure chamber 10 is curved along the upper surface of the protective layer 41 that is curved similarly to the curved surface 51a (following the curved surface 51a) is formed.

次に、図7、図8(e)に示すように、エッチングによりキャビティプレート21の凹部51が形成された部分を除去して、キャビティプレート21に、キャビティプレート21をその厚み方向に貫通しており、キャビティプレート21の下方から保護層41(下面に保護層41及び共通電極43が形成された圧電層42)を臨むことのできる圧力室10(貫通孔)を形成する(S105、貫通孔形成工程、圧力室形成工程)。ここで、キャビティプレート21がステンレスなどの金属材料からなるため、エッチングにより圧力室10を容易に形成することができる。また、このとき、キャビティプレート21と圧電層42との間に保護層41が配置されているので、エッチング液によって共通電極43が損傷してしまうことがない。   Next, as shown in FIGS. 7 and 8E, the portion of the cavity plate 21 where the recess 51 is formed is removed by etching, and the cavity plate 21 is penetrated through the cavity plate 21 in the thickness direction. Then, the pressure chamber 10 (through hole) that can face the protective layer 41 (the piezoelectric layer 42 having the protective layer 41 and the common electrode 43 formed on the lower surface) from below the cavity plate 21 is formed (S105, through hole formation). Process, pressure chamber forming process). Here, since the cavity plate 21 is made of a metal material such as stainless steel, the pressure chamber 10 can be easily formed by etching. At this time, since the protective layer 41 is disposed between the cavity plate 21 and the piezoelectric layer 42, the common electrode 43 is not damaged by the etching solution.

次に、図7、図8(f)に示すように、スパッタ法等により、圧電層42の上面に個別電極44を形成する(S106)。なお、上述したS103の共通電極43を形成する工程と、S106の個別電極44を形成する工程とを合わせたものが、本発明に係る電極形成工程に相当する。   Next, as shown in FIGS. 7 and 8F, the individual electrodes 44 are formed on the upper surface of the piezoelectric layer 42 by sputtering or the like (S106). The combination of the step of forming the common electrode 43 in S103 described above and the step of forming the individual electrode 44 in S106 corresponds to the electrode forming step according to the present invention.

ここで、キャビティプレート21に圧力室10を形成する前に、圧電層42の上面に個別電極44を形成することも可能であるが、この場合には、その後のキャビティプレート21に圧力室10を形成する工程において、エッチング液が個別電極44に接触して、個別電極44が損傷してしまう虞がある。また、これを防止するためには、エッチングによりキャビティプレート21に圧力室10を形成する前に、個別電極44にマスクをするなどの余分な工程が必要となってしまう。   Here, it is possible to form the individual electrode 44 on the upper surface of the piezoelectric layer 42 before forming the pressure chamber 10 in the cavity plate 21, but in this case, the pressure chamber 10 is formed in the subsequent cavity plate 21. In the process of forming, the etching solution may come into contact with the individual electrode 44 and the individual electrode 44 may be damaged. In order to prevent this, an extra step such as masking the individual electrode 44 is required before the pressure chamber 10 is formed in the cavity plate 21 by etching.

これに対して、本実施の形態においては、エッチングによりキャビティプレート21に圧力室10を形成した後、圧電層42の上面に個別電極44を形成しているため、エッチング液によって個別電極44が損傷してしまうことがなく、個別電極44にマスクをする必要もない。   On the other hand, in the present embodiment, after the pressure chamber 10 is formed in the cavity plate 21 by etching, the individual electrode 44 is formed on the upper surface of the piezoelectric layer 42. Therefore, the individual electrode 44 is damaged by the etching solution. There is no need to mask the individual electrode 44.

次に、キャビティプレート21、保護層41、共通電極43、圧電層42及び個別電極44の積層体を高温(例えば、850℃程度)で加熱処理する(S107、加熱処理工程)。この加熱処理により、圧電層42に圧電特性を持たせるためのアニールが行われるとともに、共通電極43及び個別電極44が焼成される。   Next, the laminated body of the cavity plate 21, the protective layer 41, the common electrode 43, the piezoelectric layer 42, and the individual electrode 44 is heat-treated at a high temperature (for example, about 850 ° C.) (S107, heat treatment step). By this heat treatment, annealing for imparting piezoelectric characteristics to the piezoelectric layer 42 is performed, and the common electrode 43 and the individual electrodes 44 are fired.

ここで、上記加熱処理が行われると、ステンレスなどの金属材料からなるキャビティプレート21からその構成分子が拡散する。そして、キャビティプレート21の構成分子が圧電層42の圧力室10と対向する部分に拡散してしまうと、圧電層42のこの部分の圧電特性が低下し、圧電アクチュエータ32を駆動したときの圧電層42の変形量が低下してしまう。その結果、ノズル15からのインクの吐出特性が低下してしまう。   Here, when the heat treatment is performed, the constituent molecules diffuse from the cavity plate 21 made of a metal material such as stainless steel. When the constituent molecules of the cavity plate 21 diffuse into the portion of the piezoelectric layer 42 facing the pressure chamber 10, the piezoelectric characteristics of this portion of the piezoelectric layer 42 deteriorate, and the piezoelectric layer when the piezoelectric actuator 32 is driven. The amount of deformation of 42 is reduced. As a result, the ink ejection characteristics from the nozzles 15 are degraded.

しかしながら、本実施の形態では、上記加熱処理が行われる前に、キャビティプレート21に圧力室10が形成されているため(加熱処理工程を貫通孔形成工程よりも後に行っているため)、キャビティプレート21の構成分子が圧電層42の圧力室10と対向する部分には拡散しにくい。これにより、圧電層42のこの部分の圧電特性が低下してしまうのを抑制することができる。   However, in the present embodiment, the pressure chamber 10 is formed in the cavity plate 21 before the heat treatment is performed (because the heat treatment process is performed after the through hole forming process), the cavity plate The constituent molecules 21 hardly diffuse into the portion of the piezoelectric layer 42 facing the pressure chamber 10. Thereby, it can suppress that the piezoelectric characteristic of this part of the piezoelectric layer 42 falls.

また、本実施の形態とは逆に、キャビティプレート21に圧力室10を形成した後、個別電極44を形成する前に上記加熱処理を行い、その後、圧電層42の上面に個別電極44を形成することも可能であるが、この場合には、上記加熱処理によって、圧電層42のアニール及び共通電極43の焼成のみが行われるだけであるため、その後に形成した個別電極44を焼成するために、上述したのとは別の加熱処理が必要となる。   In contrast to the present embodiment, after the pressure chamber 10 is formed in the cavity plate 21, the above heat treatment is performed before the individual electrode 44 is formed, and then the individual electrode 44 is formed on the upper surface of the piezoelectric layer 42. However, in this case, only the annealing of the piezoelectric layer 42 and the firing of the common electrode 43 are performed by the above heat treatment, so that the individual electrode 44 formed thereafter is fired. A heat treatment different from that described above is required.

これに対して、本実施の形態では、個別電極44を形成した後、上記加熱処理を行っている(電極形成工程よりも後に加熱処理工程が行われる)ので、上述したように、圧電層42のアニールと、共通電極43及び個別電極44の焼成とを同時に行うことができ、インクジェットヘッド3の製造工程を簡略化することができる。   On the other hand, in the present embodiment, after the individual electrodes 44 are formed, the heat treatment is performed (the heat treatment step is performed after the electrode formation step). This annealing and the firing of the common electrode 43 and the individual electrode 44 can be performed simultaneously, and the manufacturing process of the inkjet head 3 can be simplified.

この後、キャビティプレート21と、流路ユニット31を構成する他の3枚のプレート22〜24とを接合して(S108)、インクジェットヘッド3が完成する。   Thereafter, the cavity plate 21 and the other three plates 22 to 24 constituting the flow path unit 31 are joined (S108), and the inkjet head 3 is completed.

以上に説明した実施の形態によると、圧力室10が形成される前のキャビティプレート21の上面に、中央に向かうほど深さが深くなる湾曲面51aを有する凹部51を形成し、凹部51が形成されたキャビティプレート21の上面に凹部51と対向する部分が湾曲面51aに倣って湾曲した保護層41及び圧電層42を形成し、その後、キャビティプレート21の凹部が形成された部分を除去して圧力室10を形成することにより、貫通孔10側に凸となるように湾曲した保護層41及び圧電層42を容易に形成することができる。また、中央部ほど深さが深くなる湾曲面51aを有する凹部51は、キャビティプレート21にハーフエッチングなどによって容易に形成することができる。   According to the embodiment described above, the concave portion 51 having the curved surface 51a that becomes deeper toward the center is formed on the upper surface of the cavity plate 21 before the pressure chamber 10 is formed, and the concave portion 51 is formed. A portion of the cavity plate 21 facing the recess 51 is formed on the upper surface of the cavity plate 21 so as to follow the curved surface 51a, and then the protective layer 41 and the piezoelectric layer 42 are formed. Thereafter, the portion of the cavity plate 21 where the recess is formed is removed. By forming the pressure chamber 10, it is possible to easily form the protective layer 41 and the piezoelectric layer 42 that are curved so as to protrude toward the through hole 10. Further, the concave portion 51 having the curved surface 51a whose depth becomes deeper at the center can be easily formed in the cavity plate 21 by half etching or the like.

また、圧力室10が形成されたキャビティプレート21と、下面に共通電極43が形成された圧電層42との間に保護層41が配置されているため、圧電層42及び共通電極43が圧力室10に露出することがなく、圧力室10のインク、キャビティプレート21に圧力室10を形成する際のエッチング液などによって圧電層42及び共通電極43が損傷してしまうことがない。   Further, since the protective layer 41 is disposed between the cavity plate 21 in which the pressure chamber 10 is formed and the piezoelectric layer 42 in which the common electrode 43 is formed on the lower surface, the piezoelectric layer 42 and the common electrode 43 are connected to the pressure chamber. 10 and the piezoelectric layer 42 and the common electrode 43 are not damaged by the ink in the pressure chamber 10, the etching solution for forming the pressure chamber 10 in the cavity plate 21, or the like.

また、キャビティプレート21に圧力室10を形成した後、圧電層42のアニール及び共通電極43及び個別電極44の焼成のための加熱処理を行っているため、加熱処理の際に、キャビティプレート21の構成分子が、圧電層42の圧力室10と対向する部分に拡散しにくい。これにより、圧電層42のこの部分の圧電特性が低下してしまうのを抑制することができる。   Further, after the pressure chamber 10 is formed in the cavity plate 21, the heat treatment for annealing the piezoelectric layer 42 and firing the common electrode 43 and the individual electrode 44 is performed. The constituent molecules are unlikely to diffuse into the portion of the piezoelectric layer 42 facing the pressure chamber 10. Thereby, it can suppress that the piezoelectric characteristic of this part of the piezoelectric layer 42 falls.

また、AD法により緻密な構造の保護層41を高速に成膜することができる。そして、保護層41が緻密な構造を有しているので、上述した加熱処理の際の、キャビティプレート21の構成分子の拡散が保護層41で止まり、圧電層42には拡散しにくい。したがって、圧電層42の圧力室10と対向する部分の圧電特性が低下してしまうのをより効果的に抑制することができる。   Further, the protective layer 41 having a dense structure can be formed at a high speed by the AD method. Since the protective layer 41 has a dense structure, the diffusion of the constituent molecules of the cavity plate 21 during the heat treatment described above stops at the protective layer 41 and is difficult to diffuse into the piezoelectric layer 42. Therefore, it can suppress more effectively that the piezoelectric characteristic of the part which opposes the pressure chamber 10 of the piezoelectric layer 42 falls.

また、個別電極44を形成した後、加熱処理を行っているので、圧電層42のアニールと、共通電極43及び個別電極44の焼成とを同時に行うことができる。   Further, since the heat treatment is performed after the individual electrode 44 is formed, the annealing of the piezoelectric layer 42 and the firing of the common electrode 43 and the individual electrode 44 can be performed simultaneously.

次に、本実施の形態に種々の変更を加えた変形例について説明する。ただし、本実施の形態と同様の構成を有するものについては同じ符号を付し、適宜その説明を省略する。   Next, modified examples in which various changes are made to the present embodiment will be described. However, components having the same configuration as in the present embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.

一変形例では、図9に示すように、振動層41(図5参照)が設けられておらず、圧力室10に共通電極43(下面に共通電極43が形成された圧電層42)が露出している(変形例1)。   In one modification, as shown in FIG. 9, the vibration layer 41 (see FIG. 5) is not provided, and the common electrode 43 (the piezoelectric layer 42 having the common electrode 43 formed on the lower surface) is exposed in the pressure chamber 10. (Modification 1).

この場合には、インクジェットヘッド(圧電アクチュエータ)を製造するために、図10(a)に示すように、キャビティプレート21の上面に凹部51を形成した後、図10(b)に示すように、凹部51が形成されたキャビティプレート21の上面に直接共通電極43を形成する。その後、図10(c)〜(e)に示すように、実施の形態で説明したのと同様、圧電層42の形成、圧力室10の形成及び個別電極44の形成を行い、さらに、キャビティプレート21、共通電極43、圧電層42及び個別電極44の積層体を加熱処理して、圧電層42のアニール、並びに、共通電極43及び個別電極44の焼成を行う。   In this case, in order to manufacture an ink jet head (piezoelectric actuator), as shown in FIG. 10A, after forming a recess 51 on the upper surface of the cavity plate 21, as shown in FIG. The common electrode 43 is formed directly on the upper surface of the cavity plate 21 in which the recess 51 is formed. Thereafter, as shown in FIGS. 10C to 10E, the piezoelectric layer 42, the pressure chamber 10, and the individual electrode 44 are formed as described in the embodiment, and the cavity plate is further formed. 21, the laminated body of the common electrode 43, the piezoelectric layer 42, and the individual electrode 44 is heat-treated to anneal the piezoelectric layer 42 and to fire the common electrode 43 and the individual electrode 44.

ただし、この場合には、圧力室10に共通電極43が露出しているため、図10(d)に示すように、エッチングによってキャビティプレート21に圧力室10を形成するときに、キャビティプレート21とともに、共通電極43の圧力室10と対向する部分を除去してしまわないようにするため、エッチングの時間などを調整する必要がある。   However, in this case, since the common electrode 43 is exposed in the pressure chamber 10, when the pressure chamber 10 is formed in the cavity plate 21 by etching as shown in FIG. In order not to remove the portion of the common electrode 43 facing the pressure chamber 10, it is necessary to adjust the etching time and the like.

また、別の一変形例では、図11に示すように、圧電層42の上面にさらに圧電層71、72が配置されているととともに、圧電層71と圧電層72との間には、そのほぼ全域に共通電極43と同様の共通電極73が配置されており、圧電層72の上面には、圧力室10と対向する部分に、個別電極44と同様の個別電極74が配置されている(変形例2)。   In another modification, as shown in FIG. 11, piezoelectric layers 71 and 72 are further arranged on the upper surface of the piezoelectric layer 42, and between the piezoelectric layer 71 and the piezoelectric layer 72, A common electrode 73 similar to the common electrode 43 is disposed almost all over, and an individual electrode 74 similar to the individual electrode 44 is disposed on the upper surface of the piezoelectric layer 72 at a portion facing the pressure chamber 10 ( Modification 2).

この場合には、インクジェットヘッドを製造する際に、本実施の形態と同様、図8(a)〜(d)に示すようにして、キャビティプレート21の上面に、保護層41、共通電極42及び圧電層42を形成した後、その上面に、図12(a)〜(d)に示すように、個別電極44、圧電層71、共通電極73及び圧電層72を順に形成する。なお、圧電層71、72は、圧電層42と同様、AD法により形成し、共通電極73は、共通電極43と同様、スパッタ法等によって形成する。   In this case, when the inkjet head is manufactured, as in the present embodiment, as shown in FIGS. 8A to 8D, the protective layer 41, the common electrode 42, and the After the piezoelectric layer 42 is formed, the individual electrode 44, the piezoelectric layer 71, the common electrode 73, and the piezoelectric layer 72 are sequentially formed on the upper surface thereof as shown in FIGS. The piezoelectric layers 71 and 72 are formed by the AD method similarly to the piezoelectric layer 42, and the common electrode 73 is formed by the sputtering method or the like similarly to the common electrode 43.

次に、図12(e)に示すように、エッチングによりキャビティプレート21に圧力室10を形成し、次に、図12(f)に示すように、圧電層72の上面にスパッタ法等により個別電極74を形成する。そして、その後、キャビティプレート21、保護層41、圧電層42、71、72、共通電極43、73及び個別電極44、74の積層体を高温(例えば、850℃程度)で加熱処理することによって、圧電層42、71、72のアニールと、共通電極43、73及び個別電極44、74の焼成とを行う。   Next, as shown in FIG. 12 (e), the pressure chamber 10 is formed in the cavity plate 21 by etching. Next, as shown in FIG. 12 (f), the upper surface of the piezoelectric layer 72 is individually formed by sputtering or the like. An electrode 74 is formed. And then, by heating the laminated body of the cavity plate 21, the protective layer 41, the piezoelectric layers 42, 71, 72, the common electrodes 43, 73, and the individual electrodes 44, 74 at a high temperature (for example, about 850 ° C.), The piezoelectric layers 42, 71, 72 are annealed, and the common electrodes 43, 73 and the individual electrodes 44, 74 are fired.

この場合でも、共通電極43、73及び個別電極44、74を全て形成した後、加熱処理を行っている(電極形成工程よりも後に加熱処理工程が行われる)ので、圧電層42、71、72のアニールと、共通電極43、73及び個別電極44、74の焼成とを同時に行うことができる。なお、この場合には、圧電層42、71、72を形成する工程が、それぞれ、本発明に係る圧電層形成工程に相当し、共通電極43、73及び個別電極44、74を形成する工程が、それぞれ、本発明に係る電極形成工程に相当する。   Even in this case, since the heat treatment is performed after the common electrodes 43 and 73 and the individual electrodes 44 and 74 are all formed (the heat treatment process is performed after the electrode formation process), the piezoelectric layers 42, 71, and 72 are performed. And annealing of the common electrodes 43 and 73 and the individual electrodes 44 and 74 can be performed simultaneously. In this case, the steps of forming the piezoelectric layers 42, 71, 72 correspond to the piezoelectric layer forming step according to the present invention, respectively, and the steps of forming the common electrodes 43, 73 and the individual electrodes 44, 74 are included. These correspond to the electrode forming step according to the present invention.

また、本実施の形態では、圧電層42をAD法によって成膜したが、圧電層42を他の方法によって成膜することも可能である。具体的には、AD法のほか、例えば、ゾルゲル法、スパッタ法、CVD法(化学気相成長法)、水熱合成法によって圧電層42を形成することも可能である。さらには、圧電材料とガラスなどの焼結助剤とからなる原料粉末、有機バインダー及び可塑剤を溶剤と混合することによって作られる液状のスラリーを共通電極43が形成された振動層41の上面に塗布することによって圧電層42を形成してもよい。   In the present embodiment, the piezoelectric layer 42 is formed by the AD method. However, the piezoelectric layer 42 can be formed by another method. Specifically, in addition to the AD method, the piezoelectric layer 42 can be formed by, for example, a sol-gel method, a sputtering method, a CVD method (chemical vapor deposition method), or a hydrothermal synthesis method. Further, a liquid slurry made by mixing a raw material powder made of a piezoelectric material and a sintering aid such as glass, an organic binder and a plasticizer with a solvent is applied to the upper surface of the vibration layer 41 on which the common electrode 43 is formed. The piezoelectric layer 42 may be formed by coating.

また、本実施の形態では、振動層41をAD法によって成膜したが、保護層41を他の方法によって成膜することも可能である。具体的には、ゾルゲル法、スパッタ法、CVD法(化学気相成長法)、水熱合成法などの方法により保護層41を成膜することができる。   In the present embodiment, the vibration layer 41 is formed by the AD method. However, the protective layer 41 can be formed by another method. Specifically, the protective layer 41 can be formed by a method such as a sol-gel method, a sputtering method, a CVD method (chemical vapor deposition method), or a hydrothermal synthesis method.

また、本実施の形態では、キャビティプレート21に圧力室10を形成した後、圧電層42の上面に個別電極44を形成していたが、圧電層42の上面に個別電極44を形成した後に、キャビティプレート21に圧力室10を形成してもよい。この場合には、エッチング液が個別電極44に付着して個別電極44が損傷してしまうのを防止するため、エッチングによりキャビティプレート21に圧力室10を形成する前に、個別電極44にマスクをすればよい。   In the present embodiment, after the pressure chamber 10 is formed in the cavity plate 21, the individual electrode 44 is formed on the upper surface of the piezoelectric layer 42. However, after the individual electrode 44 is formed on the upper surface of the piezoelectric layer 42, The pressure chamber 10 may be formed in the cavity plate 21. In this case, in order to prevent the etchant from adhering to the individual electrode 44 and damaging the individual electrode 44, a mask is applied to the individual electrode 44 before the pressure chamber 10 is formed in the cavity plate 21 by etching. do it.

また、本実施の形態では、個別電極44を形成した後、圧電層42のアニールと個別電極44及び共通電極43の焼成のために加熱処理を行っていたが、これには限られない。例えば、キャビティプレート21に圧力室10を形成した後、個別電極44を形成する前に、圧電層42のアニール及び共通電極43の焼成のための加熱処理を行い、その後、圧電層42の上面に個別電極44を形成し、形成した個別電極44を焼成するために、上述したのとは別に加熱処理を行ってもよい。   In this embodiment, after the individual electrode 44 is formed, the heat treatment is performed for annealing the piezoelectric layer 42 and firing the individual electrode 44 and the common electrode 43. However, the present invention is not limited to this. For example, after forming the pressure chamber 10 in the cavity plate 21 and before forming the individual electrodes 44, heat treatment for annealing the piezoelectric layer 42 and firing the common electrode 43 is performed, and then the upper surface of the piezoelectric layer 42 is formed. In order to form the individual electrode 44 and to fire the formed individual electrode 44, heat treatment may be performed separately from the above.

また、キャビティプレートはステンレスなどの金属材料であることには限られず、キャビティプレートが、シリコンからなるものであってもよい。シリコンの分子が圧電層42に拡散した場合にも、圧電層42の圧電特性が低下するが、この場合でも、加熱処理の前に、キャビティプレート21に圧力室10を形成しているため、実施の形態と同様、シリコンの分子が圧電層42の圧力室10と対向する部分には拡散しにくい。また、キャビティプレートとなる基材がシリコンからなる場合にも、ハーフエッチングにより中央に向かうほど深さが深くなる湾曲面を有する凹部を容易に形成することができるとともに、エッチングにより基材に圧力室を容易に形成することができる。   The cavity plate is not limited to a metal material such as stainless steel, and the cavity plate may be made of silicon. Even when silicon molecules are diffused into the piezoelectric layer 42, the piezoelectric characteristics of the piezoelectric layer 42 are deteriorated. Even in this case, the pressure chamber 10 is formed in the cavity plate 21 before the heat treatment. Similar to the embodiment, silicon molecules hardly diffuse into the portion of the piezoelectric layer 42 facing the pressure chamber 10. Further, even when the base material to be the cavity plate is made of silicon, a concave portion having a curved surface whose depth becomes deeper toward the center by half etching can be easily formed, and the pressure chamber is formed in the base material by etching. Can be easily formed.

また、本実施の形態では、圧電アクチュエータ32において、圧電層42の下面に共通電極43が配置されているとともに、圧電層42の上面に複数の個別電極44が配置されていたが、圧電アクチュエータは、圧電層42の上面あるいは下面にのみ電極が配置されたものであってもよい。   In the present embodiment, in the piezoelectric actuator 32, the common electrode 43 is disposed on the lower surface of the piezoelectric layer 42 and the plurality of individual electrodes 44 are disposed on the upper surface of the piezoelectric layer 42. The electrode may be disposed only on the upper surface or the lower surface of the piezoelectric layer 42.

また、本実施の形態では、エッチングによりキャビティプレート21に圧力室10を形成したが、レーザ加工など、他の方法によって圧力室10を形成してもよい。   In the present embodiment, the pressure chamber 10 is formed in the cavity plate 21 by etching. However, the pressure chamber 10 may be formed by other methods such as laser processing.

また、以上では、圧力室内のノズルからインクを吐出するインクジェットヘッド及びこれに用いられる圧電アクチュエータの製造に本発明を適用したが、これには限られない。例えば、ノズルからインク以外の液体を吐出する液体吐出ヘッド及びこれに用いられる圧電アクチュエータの製造に本発明を適用することも可能であり、圧力室内の液体に圧力を付与することによって圧力室を含む液体移送流路内の液体を移送する液体移送装置及びこれに用いられる圧電アクチュエータの製造に本発明を適用することも可能である。   In the above, the present invention is applied to the manufacture of an inkjet head that discharges ink from nozzles in a pressure chamber and a piezoelectric actuator used therefor, but the present invention is not limited thereto. For example, the present invention can also be applied to the manufacture of a liquid discharge head that discharges liquid other than ink from a nozzle and a piezoelectric actuator used therein, and includes a pressure chamber by applying pressure to the liquid in the pressure chamber. It is also possible to apply the present invention to the manufacture of a liquid transfer device for transferring the liquid in the liquid transfer channel and the piezoelectric actuator used therefor.

さらには、所定の駆動対象を駆動させるための圧電アクチュエータの製造に本発明を適用することも可能である。この場合には、圧電層あるいは保護層の下面における、基材に形成された貫通孔に露出した部分に駆動対象を取り付ければよい。   Furthermore, the present invention can also be applied to the manufacture of a piezoelectric actuator for driving a predetermined drive target. In this case, the drive target may be attached to a portion of the lower surface of the piezoelectric layer or the protective layer that is exposed in the through hole formed in the base material.

なお、以上説明した本発明の実施形態及び変形例は、キャビティプレート21の上面における圧力室10となる部分と対向する部分に、中央に向かうほどその深さが深くなるように湾曲した湾曲面51aを有する凹部51を形成し、振動層41と圧電層42がこの湾曲面51aに倣った湾曲形状となるようにしていたが、この凹部51の替わりに、圧力室10となる部分と対向する部分に、中央に向かうほど高さが高くなる湾曲面を画定する凸部を形成し、振動層41と圧電層42がこの湾曲面に倣った湾曲形状(圧力室10と反対側に凸となる湾曲形状)となるようにしてもよい。   In the embodiment and the modification of the present invention described above, the curved surface 51a curved so that the depth thereof becomes deeper toward the center in the portion facing the portion to be the pressure chamber 10 on the upper surface of the cavity plate 21. A recess 51 having a shape is formed so that the vibration layer 41 and the piezoelectric layer 42 have a curved shape that follows the curved surface 51a. However, instead of the recess 51, a portion that faces the portion that becomes the pressure chamber 10 In addition, a convex portion that defines a curved surface that increases in height toward the center is formed, and the vibration layer 41 and the piezoelectric layer 42 have a curved shape that follows the curved surface (a curved surface that is convex on the side opposite to the pressure chamber 10). Shape).

本発明における実施の形態に係るプリンタの概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of a printer according to an embodiment of the present invention. 図1のインクジェットヘッドの平面図である。It is a top view of the inkjet head of FIG. 図2の部分拡大図である。FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG. 2. 図3のIV−IV線断面図である。It is the IV-IV sectional view taken on the line of FIG. 図4のV−V線断面図である。It is the VV sectional view taken on the line of FIG. インクジェットヘッドの駆動方法を示す図である。It is a figure which shows the drive method of an inkjet head. インクジェットヘッドの製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of an inkjet head. 製造の各工程におけるインクジェットヘッドの状態を示す図である。It is a figure which shows the state of the inkjet head in each process of manufacture. 変形例1の図5相当の図である。FIG. 6 is a diagram corresponding to FIG. 変形例1の図7相当の図である。FIG. 8 is a diagram corresponding to FIG. 変形例2の図5相当の図である。FIG. 6 is a diagram corresponding to FIG. 変形例2におけるインクジェットヘッドの製造の各工程におけるインクジェットヘッドの状態を示す図である。It is a figure which shows the state of the inkjet head in each process of manufacture of the inkjet head in the modification 2.

符号の説明Explanation of symbols

3 インクジェットヘッド
10 圧力室
21 キャビティプレート
32 圧電アクチュエータ
41 保護層
42 圧電層
51 凹部
51a 湾曲面
71 圧電層
72 圧電層
73 共通電極
74 個別電極
3 Inkjet head 10 Pressure chamber 21 Cavity plate 32 Piezoelectric actuator 41 Protective layer 42 Piezoelectric layer 51 Recessed portion 51a Curved surface 71 Piezoelectric layer 72 Piezoelectric layer 73 Common electrode 74 Individual electrode

Claims (8)

基材の一表面に、中央に向かうほど深さが深くなる湾曲面を画定する凹部、又は中央に向うほど高さが高くなる湾曲面を画定する凸部を形成する凹部又は凸部形成工程と、
前記湾曲面が形成された前記基材の前記一表面側に、前記湾曲面と対向する部分がその湾曲面に倣って湾曲した圧電層を形成する圧電層形成工程と、
前記圧電層形成工程の後に行われる工程であって、前記基材の前記凹部又は前記凸部が形成された部分を除去することで、前記基材の前記圧電層と反対側から前記圧電層を臨むことのできる貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
前記圧電層の表面に電極を形成する電極形成工程と
を備えていることを特徴とする圧電アクチュエータの製造方法。
A concave portion or convex portion forming step for forming a concave portion defining a curved surface whose depth increases toward the center or a convex portion defining a curved surface whose height increases toward the center on one surface of the substrate; ,
A piezoelectric layer forming step of forming, on the one surface side of the base material on which the curved surface is formed, a piezoelectric layer in which a portion facing the curved surface is curved along the curved surface;
It is a step performed after the piezoelectric layer forming step, and the piezoelectric layer is removed from the opposite side of the base material from the side opposite to the piezoelectric layer by removing the concave portion or the convex portion of the base material. A through-hole forming step for forming a through-hole that can face,
A method for manufacturing a piezoelectric actuator comprising: an electrode forming step of forming an electrode on the surface of the piezoelectric layer.
前記圧電層形成工程の前に、前記基材の前記一表面に、前記湾曲面と対向する部分がその湾曲面に倣って湾曲した前記圧電層を保護するための保護層を形成する保護層形成工程をさらに備え、
前記圧電層形成工程において、前記保護層の前記基材と反対側の面に前記圧電層を形成することを特徴とする請求項1に記載の圧電アクチュエータの製造方法。
Before the piezoelectric layer forming step, a protective layer is formed on the one surface of the base material to form a protective layer for protecting the piezoelectric layer in which a portion facing the curved surface is curved following the curved surface A further process,
The method for manufacturing a piezoelectric actuator according to claim 1, wherein in the piezoelectric layer forming step, the piezoelectric layer is formed on a surface of the protective layer opposite to the base material.
前記保護層形成工程において、前記保護層はエアロゾルデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項2に記載の圧電アクチュエータの製造方法。   3. The method for manufacturing a piezoelectric actuator according to claim 2, wherein in the protective layer forming step, the protective layer is formed by an aerosol deposition method. 前記基材が、金属又はシリコンからなるものであり、
前記圧電層を加熱処理する加熱処理工程をさらに備えており、
前記加熱処理工程を貫通孔形成工程よりも後に行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の圧電アクチュエータの製造方法。
The base material is made of metal or silicon,
A heat treatment step of heat-treating the piezoelectric layer;
The method for manufacturing a piezoelectric actuator according to claim 1, wherein the heat treatment step is performed after the through-hole forming step.
前記圧電層形成工程において、前記圧電層はエアロゾルデポジション法によって形成されることを特徴とする請求項4に記載の圧電アクチュエータの製造方法。   5. The method for manufacturing a piezoelectric actuator according to claim 4, wherein in the piezoelectric layer forming step, the piezoelectric layer is formed by an aerosol deposition method. 前記電極形成工程よりも後に、前記加熱処理工程を行うことを特徴とする請求項4又は5に記載の圧電アクチュエータの製造方法。   6. The method for manufacturing a piezoelectric actuator according to claim 4, wherein the heat treatment step is performed after the electrode forming step. 前記凹部又は凸部形成工程は、前記凹部を形成するものであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の圧電アクチュエータの製造方法。   The method for manufacturing a piezoelectric actuator according to claim 1, wherein the recess or protrusion forming step forms the recess. 圧力室が形成される圧力室プレートの一表面に、中央に向かうほど深さが深くなる湾曲面を画定する凹部、又は中央に向うほど高さが高くなる湾曲面を画定する凸部を形成する凹部又は凸部形成工程と、
前記湾曲面が形成された前記圧力室プレートの前記一表面側に、前記湾曲面と対向する部分がその湾曲面に倣って湾曲した圧電層を形成する圧電層形成工程と、
前記圧電層形成工程の後に行われる工程であって、前記圧力室プレートの前記凹部又は前記凸部が形成された部分を除去することで、前記圧力室プレートの前記圧電層と反対側から前記圧電層を臨むことのできる圧力室を形成する圧力室形成工程と、
前記圧電層の表面に電極を形成する電極形成工程とを備えていることを特徴とする液体移送装置の製造方法。
On one surface of the pressure chamber plate in which the pressure chamber is formed, a concave portion that defines a curved surface that increases in depth toward the center or a convex portion that defines a curved surface that increases in height toward the center is formed. A recess or protrusion forming step;
A piezoelectric layer forming step of forming, on the one surface side of the pressure chamber plate on which the curved surface is formed, a piezoelectric layer in which a portion facing the curved surface is curved along the curved surface;
A step performed after the piezoelectric layer forming step, wherein the piezoelectric chamber is removed from the side of the pressure chamber plate opposite to the piezoelectric layer by removing the concave portion or the convex portion of the pressure chamber plate. A pressure chamber forming step for forming a pressure chamber capable of facing the layer;
An electrode forming step of forming an electrode on the surface of the piezoelectric layer. A method for manufacturing a liquid transfer device.
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