KR20110052838A - 플라즈마 처치기 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 교류 방전에 의한 플라즈마를 피처치체에 대하여 확산시키고, 스트리머(streamer)를 통한 피처치체로의 전류 흐름을 방지하는 플라즈마 처치기에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처치기는, 방전가스를 공급하는 가스 공급부, 전압을 공급하는 전원 공급부, 및 상기 가스 공급부로부터 공급되는 상기 방전가스를 둘러싸고 상기 전원 공급부로부터 인가되는 상기 전압으로 방전을 일으켜, 플라즈마를 생성하여, 피처치체에 분사하는 플라즈마 발생기를 포함하며, 상기 플라즈마 발생기는, 상기 방전가스의 유동 경로를 형성하여 상기 플라즈마를 상기 피처치체에 분사하는 바디, 상기 유동 경로의 일측에 배치되고 상기 전압이 인가되는 제1 전극, 상기 유동 경로의 다른 일측에서 상기 바디에 매립되어 상기 제1 전극에 대향하여 이격 배치되고 접지되는 제2 전극, 및 상기 유동 경로의 길이 방향을 따라 상기 제2 전극과 이격되어 상기 유동 경로의 단부에 배치되어 접지되는 제3 전극을 포함한다.
플라즈마, 스트리머, 유동 경로

Description

플라즈마 처치기 {DEVICE GIVING TREATMENT USING PLASMA BY GAS DISCHARGE}
본 발명은 플라즈마 처치기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 교류 방전에 의한 플라즈마를 확산시켜 피처치체에 작용시키는 플라즈마 처치기에 관한 것이다.
예를 들면, 플라즈마 처치기는 고주파 발생기와 공진회로를 통하여 연결되는 플라즈마 발생기를 포함하고, 플라즈마 발생기는 플라즈마를 발생시킨다. 플라즈마 처치기는 피처치체, 예를 들면 생체에 고주파 발생기와 공진회로를 연결하고, 생체에 플라즈마 발생기를 근접시켜, 플라즈마 발생기에서 발생되는 플라즈마를 생체에 작용시킴으로써 필요한 의료 처치를 수행한다. 이러한 처치 과정에서 플라즈마 발생기에서 플라즈마를 분사할 때, 플라즈마 발생기와 생체 사이에 스트리머(streamer)를 형성할 수 있다. 스트리머는 플라즈마 발생기에서 생체로 전류를 흐르게 하여, 불쾌감 및 쇼크를 일으킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예는 교류 방전에 의한 플라즈마를 피처치체에 대하여 확산시키고, 스트리머(streamer)를 통한 피처치체로의 전류 흐름을 방지하는 플라즈 마 처치기에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처치기는, 방전가스를 공급하는 가스 공급부, 전압을 공급하는 전원 공급부, 및 상기 가스 공급부로부터 공급되는 상기 방전가스를 둘러싸고 상기 전원 공급부로부터 인가되는 상기 전압으로 방전을 일으켜, 플라즈마를 생성하여, 피처치체에 분사하는 플라즈마 발생기를 포함하며, 상기 플라즈마 발생기는, 상기 방전가스의 유동 경로를 형성하여 상기 플라즈마를 상기 피처치체에 분사하는 바디, 상기 유동 경로의 일측에 배치되고 상기 전압이 인가되는 제1 전극, 상기 유동 경로의 다른 일측에서 상기 바디에 매립되어 상기 제1 전극에 대향하여 이격 배치되고 접지되는 제2 전극, 및 상기 유동 경로의 길이 방향을 따라 상기 제2 전극과 이격되어 상기 유동 경로의 단부에 배치되어 접지되는 제3 전극을 포함한다.
상기 바디는 유전재로 형성될 수 있다. 상기 바디는, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격과 나란하게 설정되는 두께와 상기 두께에 직교하여 설정되는 폭을 가지고 상기 유동 경로의 길이 방향으로 설정되는 길이를 가지는 직육면체로 형성될 수 있다.
상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격은 상기 유동 경로의 길이보다 더 짧게 형성될 수 있다.
상기 제1 전극은 상기 바디에 매립될 수 있다.
상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 판상으로 형성되어 면방전 구조를 형성할 수 있다.
상기 제3 전극은, 상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 중심 연장선과 교차하여 배치될 수 있다.
상기 제3 전극은, 상기 유동 경로의 일단과의 사이에 상기 바디에서 연장된 절연부를 개재하여 배치될 수 있다.
상기 제3 전극은, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격의 연장 방향에서, 상기 절연부에서 상기 바디의 끝까지 형성될 수 있다.
상기 제3 전극은, 상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 최외곽 연장선의 외곽에 배치될 수 있다.
상기 제3 전극은, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격의 연장 방향에서, 상기 바디의 두께 범위 내에 형성되는 제1 부분과, 상기 제1 부분에서 연장되어 상기 두께 범위 밖에 형성되는 제2 부분을 포함할 수 있다.
상기 바디는 원통으로 형성되어 중심에 상기 유동 경로를 형성하고, 상기 제1 전극은 상기 유동 경로의 중심에 배치되며, 상기 제2 전극은 상기 유동 경로의 외측에 원통으로 형성되어 상기 바디에 매립될 수 있다.
상기 제3 전극은, 상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 연장선 내측과 외측 중 적어도 일측에 배치될 수 있다.
이와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처치기는, 유동 경로를 사이에 두고 양측에서 제1 전극과 제2 전극을 대향 배치하여 AC 방전으로 플라즈마를 발생시켜 유동 경로를 통하여 분사하고, 유동 경로의 단부에 제3 전극을 더 구비하므로 분사되는 플라즈마를 유동 경로의 출구에서 확산시켜 피처치체를 처치한다. 제2 전극의 1차 접지에 더하여 제3 전극의 2차 접지에 의한 전기장을 형성하여, 유동 경로의 끝에 형성되는 분사구에서 플라즈마가 확산되고, 스트리머(streamer)가 제3 전극으로 진행되어, 피처치체로 전류가 흐르는 것을 방지하는 효과가 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.
도1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 처치기의 구성도이다. 도1을 참조하면, 제1 실시예의 플라즈마 처치기(100)는 가스 공급부(10), 전원 공급부(20) 및 플라즈마 발생기(30)를 포함한다.
가스 공급부(10)는 플라즈마 발생기(30)에서 플라즈마를 발생시키도록 플라즈마 발생기(30)에 연결되어 방전가스를 공급한다. 전원 공급부(20)는 플라즈마 발생기(30) 내에서 방전가스를 플라즈마로 변화시키도록 플라즈마 발생기(30)에 연결되어 전원을 공급한다. 편의상, 본 실시예는 교류 전원을 사용한다.
플라즈마 발생기(30)는 인가되는 전압에 의하여 방전가스에 글로우 혹은 글 로우 방전과 유사한 스트리머(streamer)가 억제된 방전을 일으켜 방전가스로부터 플라즈마를 발생시키며, 발생된 플라즈마를 피처치체(B)에, 예를 들면, 생체 또는 비생물체의 표면에 분사하여 처치한다.
방전가스는 NO, O2, He 또는 N2를 포함하는 가스로 형성될 수 있다. 예를 들어 설명하면, NO는 생체 반응 대사의 신호 물질로 알려져 있다. 방전가스가 NO인 경우, NO를 포함하는 기체를 이용한 플라즈마 처치의 경우, 조직 재생 및 세포 대사를 촉진시킬 수 있다. O2를 포함하는 기체를 이용한 플라즈마 처치의 경우, 피처치체 표면을 산화 유도 및 살균시킬 수 있다. He 및 N2를 포함하는 기체를 이용한 플라즈마 처치의 경우, 세포의 부착성 변화를 야기할 수 있다. 또한, NO, O2, He 및 N2 중 2가지 이상을 조합한 기체를 이용할 수도 있다. 예를 들면, He 및 O2를 조합하므로 2가지 기체의 효과를 복합적으로 얻을 수 있다.
부연 설명하면, 플라즈마는 방전에 의하여 발생되는 전자, 이온 및 기체 분자들의 상태에 따라 여러 종류로 분류될 수 있다. 이온 및 기체 분자들은 전자에 비하여 상대적으로 저온에 머무르며, 전자는 온도가 높은 조건인 저온 플라즈마 상태를 형성한다.
전자 온도와 기체 분자의 온도가 같은 상태인 고온 플라즈마에 비하여, 저온 플라즈마에서는 높은 전자 온도와 낮은 기체 분자의 온도를 가지게 된다. 저온 플라즈마 중, 글로우 혹은 스트리머가 억제된 방전은 비생물체의 균일한 표면처리 및 생체의 처치 등에 효과적으로 사용될 수 있다.
저온 플라즈마 방전에서 스트리머를 억제하는 방법은 진공 조건에서 방전을 구현하는 방법, 나노 초 간격의 펄스로 방전을 구현하는 방법 및 작은 공간에서 방전을 구현하는 방법을 포함한다.
본 발명의 실시예는 대기압하에서 구현하기 용이하도록 작은 공간에서 방전을 구현하는 방법을 적용한다. 따라서 플라즈마 발생기(30)는 방전 공간을 매우 작게 형성하며, 스트리머가 억제된 균일한 방전을 형성하므로 비생물체의 표면처리 및 생체의 처치에 사용될 수 있다.
제1 실시예의 플라즈마 처치기(100)는 플라즈마 발생기(30)에 전압을 인가하고 피처치체에는 전압을 인가하지 않으며, 단지 플라즈마 발생기(30)에서 발생된 플라즈마를 피처치체에 작용시키도록 형성된다. 즉 생체는 플라즈마를 발생시키는 전기장에 노출되지 않으므로 안전을 보장 받게 된다.
도2는 도1에 적용되는 플라즈마 발생기의 분해 사시도이고, 도3은 도2의 Ⅲ-Ⅲ 선을 따라 자른 단면도이며, 도4는 도3의 저면도이다. 도2, 도3 및 도4를 참조하면, 플라즈마 발생기(30)는 유동 경로(31)를 형성하는 바디(32)와, 유동 경로(31)의 주위에 설치되어 플라즈마를 생성하는 제1, 제2, 제3 전극(41, 42, 43)을 포함한다.
바디(32)는 가스 공급부(10)에 연결되어 공급되는 방전가스를 유동시키는 유동 경로(31)를 형성하며, 유동 경로(31)를 경유하는 방전가스를 변환하여 생성되는 플라즈마를 피처치체(B)에 분사하도록 형성된다. 유동 경로(31)는 맨 끝에 플라즈 마를 분사하는 분사구(311)를 형성한다.
제1 전극(41)은 유동 경로(31)의 일측에 배치되고 전압 공급부(20)에 연결되어 고전압을 인가한다. 제2 전극(42)은 유동 경로(31)의 다른 일측에서 제1 전극(41)에 대향하여 이격 배치된다. 제2 전극(42)은 바디(32)에 매립되어 접지된다. 바디(32)는 절연재인 유전재로 형성되어, 제1, 제2, 제3 전극(41, 42, 43)을 서로 절연시킨다. 제2 전극(42)과 제1 전극(41)은 유전재의 바디(32)에 매립되어 방전으로부터 보호된다.
유동 경로(31)로 방전가스가 공급되고 제1 전극(41)에 고접압이 인가되고 제2 전극(42)이 접지되면, 제1, 제2 전극(41, 42) 사이의 유동 경로(31)에서 방전이 일어나고, 이로 인하여 방전가스는 플라즈마로 변환된다. 변환된 플라즈마는 유동 경로(31)로 공급되는 방전가스에 밀리어 유동 경로(31)를 경유하면서 분사구(311)로 분사된다.
제3 전극(43)은 유동 경로(31)의 길이 방향을 따라 제2 전극(42)과 이격되어, 유동 경로(31)의 단부에 배치되어 접지된다. 따라서 제1, 제2 전극(41, 42) 사이에서 생성된 플라즈마는 유동 경로(31)를 통하여 분사구(311)로 분사되고, 제1, 제3 전극(41, 43) 사이에 형성되는 전기장에 의하여 유동 경로(31)의 분사구(311)에서, 유동 경로(31)의 길이 방향에 수직하는 방향으로 확산된다. 즉 플라즈마는 피처치체(B)에 대하여 넓게 확산된다.
유동 경로(31)의 분사구(311)에서 분사되는 플라즈마가 확산됨에 따라, 플라즈마 분사로 인한, 피처치체(B)의 처리 면적을 넓힐 수 있다. 또한 스트리머가 제3 전극(43)으로 진행하여 피처치체(B)로 전류가 흐르는 것을 방지할 수 있다.
한편, 바디(32)는 제1, 제2 전극(41, 42) 사이에 설정되는 간격(C)과 같은 방향으로 설정되는 두께(T)와, 이 두께(T)에 직교하는 방향으로 설정되는 폭(W), 및 유동 경로(31)의 길이 방향으로 설정되는 길이(L)를 가지는 직육면체로 형성될 수 있다. 직육면체로 형성되는 바디(32)는 유동 경로(31)의 끝에 설정되는 분사구(311)를 슬릿형으로 형성하여, 피처치체(B)에 넓은 면적으로 플라즈마를 분사할 수 있게 한다.
제1, 제2 전극(41, 42) 사이에 설정되는 간격(C)은 유동 경로(31)의 길이보다 더 짧게 형성된다. 즉 플라즈마 발생기(30)는 작은 공간에서 스트리머가 억제된 방전을 구현하도록 구성된다.
제1 실시예에서와 같이, 바디(32)가 직육면체로 형성되고, 유동 경로(31) 및 분사구(311)가 슬릿형으로 형성되는 경우, 제1, 제2 전극(41, 42)은 판상으로 형성되어, 유동 경로(31)의 양측에 배치되는 면방전 구조를 형성하는 것이 바람직하다.
제3 전극(43)은 유동 경로(31)와 나란하게 배치되는 제2 전극(42)의 중심 연장선(CL)과 교차하여 배치된다. 따라서 제3 전극(43)은 바디(32)의 두께(T) 방향에서 제1 전극(41)에 근접하여 배치되어, 제1 전극(41)과의 사이에 전기장을 형성하고, 이로 인하여, 분사구(311) 밖에서 플라즈마의 확산을 용이하게 할 수 있다.
또한, 제3 전극(43)은 유동 경로(31)의 일단과의 사이에 절연부(312)를 개재하여 배치된다. 절연부(312)는 바디(32)에서 연장되어 분사구(311)의 일측에 형성된다. 절연부(312)는 제3 전극(43)이 제1 전극(41)과 제2 전극(42) 사이에 형성되 는 방전 생성에 영향을 주지 않도록 한다.
제3 전극(43)은 제1, 제2 전극(41, 42) 사이에 설정되는 간격(C)의 연장 방향, 즉 두께(T) 방향을 따라, 절연부(312)에서 바디(32)의 끝에까지 형성된다. 즉 제3 전극(43)은 분사구(311)로 분사되는 플라즈마를 바디(32)의 두께(T) 범위 전체에서 확산시키고, 스트리머의 피처치체(B)로의 방출을 억제한다.
도5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 발생기의 단면도이다. 도5를 참조하면, 제2 실시예의 플라즈마 발생기(230)에 있어서, 유동 경로(31)와 나란하게 설정되는 제2 전극(42)의 최외곽 연장선(OL)의 외곽에 제3 전극(243)을 배치한다.
분사구(311)로 플라즈마 분사시, 제1, 제3 전극(41, 243)은 서로의 사이에 형성되는 전기장을 바디(32)의 외곽에까지 형성하여, 제1 실시예에 비하여, 플라즈마의 면방향 확산을 더 증대시킬 수 있다.
또한, 제3 전극(243)은 제1, 제2 전극41, 42) 사이에 설정되는 간격(C)의 연장 방향에서, 바디(32)의 두께(T) 범위 내에 형성되는 제1 부분(431)과, 제1 부분(431)에서 연장되어 두께(T) 범위 밖에 형성되는 제2 부분(432)을 포함한다.
제3 전극(243)에서 제2 부분(432)은 분사구(311)로 플라즈마 분사시, 제1, 제3 전극(41, 243) 사이에 형성되는 전기장을 바디(32)의 두께(T) 범위 밖에까지 연장 형성하여, 플라즈마의 확산을 더욱 증대시킬 수 있다.
도6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 발생기의 사시 단면도이고, 도7은 도6의 저면도이다. 제1, 제2 실시예의 플라즈마 발생기(30, 230)은 외형을 직 육면체로 형성하는데 비하여, 제3 실시예의 플라즈마 발생기(330)는 외형을 원통으로 형성한다.
제3 실시예의 플라즈마 발생기(330)에서, 바디(332)는 원통으로 형성되고, 바디(332)의 중심에 유동 경로(331)를 형성한다. 제1 전극(341)은 유동 경로(331)의 중심에 배치되고, 제2 전극(342)은 유동 경로(331)의 외측에 원통으로 형성되어 바디(332)에 매립된다. 제1 전극(341)은 유동 경로(331)에 노출되어 있으나, 제2 전극(342)과 같이 유전재로 피복될 수도 있다(미도시).
제1 전극(341)과 제2 전극(342)는 동심원 구조의 면방전 구조를 형성하여, 원통 형상으로 플라즈마를 분사한다. 제3 전극(343)은 유동 경로(331)와 나란하게 설정되는 제2 전극(342)의 연장선의 내측 또는 외측에 배치될 수 있다. 도6에서, 제3 전극(343)은 링(ring) 상으로 형성되어 제2 전극(342)의 연장선 외측 바디(332)의 단부에 구비된다. 제1, 제2 전극(341, 342)의 방전에 의하여, 유동 경로(331) 및 분사구(333)로 플라즈마 분사시, 제3 전극(343)과 제1 전극(341)은 서로의 사이에 전기장을 형성하여 플라즈마를 원형으로 확산시킨다.
유동 경로(331) 및 분사구(333)로 분사되는 플라즈마는 원통 형상을 가지므로 제3 실시예의 플라즈마 발생기(330)는 피부 외상에 형성되는 비대 흉터(hypertrophic scar)의 제거, 척수(spinal cord) 손상시 발생되는 신경교 세포(glial cell)에 의한 흉터의 제거, 암(cancer) 등 비대 세포에서의 세포자멸사(apoptosis) 유도, 프로트롬빈(prothrombin) 활성을 통한 비접촉, 및 비열적 지혈 과정 유도 등에 효과적으로 사용될 수 있다.
도8은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 발생시의 사시 단면도이다. 도8을 참조하면, 제4 실시예의 플라즈마 발생기(430)는 제3 전극(443)을 2개의 링(ring) 상으로 형성하여, 제2 전극(342)의 연장선 내측과 외측에 구비한다. 즉 제3 전극(443)은 내측 제3 전극(51)과 외측 제3 전극(52)을 포함한다.
제1, 제2 전극(341, 342)의 방전에 의하여, 유동 경로(331) 및 분사구(333)로 플라즈마 분사시, 제3 전극(443)과 제1 전극(341)는 서로의 사이에 전기장을 형성하여 플라즈마를 원형으로 확산시킨다. 이때, 내측 제3 전극(51)과 제1 전극(341)에 의하여 1차로 플라즈마를 확산하고, 이어서 외측 제3 전극(52)과 제1 전극(341)에 의하여 2차로 플라즈마를 확산한다. 따라서 제4 실시예의 제3 전극(443)은 제3 실시예의 제3 전극(343)보다 플라즈마를 더 균일하게 확산시킬 수 있다.
이상을 통해 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
도1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 처치기의 구성도이다.
도2는 도1에 적용되는 플라즈마 발생기의 분해 사시도이다.
도3은 도2의 Ⅲ-Ⅲ 선을 따라 자른 단면도이다.
도4는 도3의 저면도이다.
도5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 발생기의 단면도이다.
도6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 발생기의 사시 단면도이다.
도7은 도6의 저면도이다.
도8은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 발생시의 사시 단면도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100 : 플라즈마 처치기 10 : 가스 공급부
20 : 전원 공급부 30, 230, 330, 430 : 플라즈마 발생기
31, 331 : 유동 경로 311, 333 : 분사구
312 : 절연부 32, 332 : 바디
41, 341 : 제1 전극 42, 342 : 제2 전극
43, 243, 343, 443 : 제3 전극 431, 432 : 제1, 제2 부분
51, 52 : 내, 외측 제3 전극 B : 피처치체
C : 간격 T : 두께
W : 폭 L : 길이
CL : 중심 연장선 OL : 최외곽 연장선

Claims (13)

  1. 방전가스를 공급하는 가스 공급부;
    전압을 공급하는 전원 공급부; 및
    상기 가스 공급부로부터 공급되는 상기 방전가스를 둘러싸고 상기 전원 공급부로부터 인가되는 상기 전압으로 방전을 일으켜, 플라즈마를 생성하여, 피처치체에 분사하는 플라즈마 발생기를 포함하며,
    상기 플라즈마 발생기는,
    상기 방전가스의 유동 경로를 형성하여 상기 플라즈마를 상기 피처치체에 분사하는 바디,
    상기 유동 경로의 일측에 배치되고 상기 전압이 인가되는 제1 전극,
    상기 유동 경로의 다른 일측에서 상기 바디에 매립되어 상기 제1 전극에 대향하여 이격 배치되고 접지되는 제2 전극, 및
    상기 유동 경로의 길이 방향을 따라 상기 제2 전극과 이격되어 상기 유동 경로의 단부에 배치되어 접지되는 제3 전극을 포함하는 플라즈마 처치기.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 바디는 유전재로 형성되는 플라즈마 처치기.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 바디는,
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격과 나란하게 설정되는 두께와 상기 두께에 직교하여 설정되는 폭을 가지고 상기 유동 경로의 길이 방향으로 설정되는 길이를 가지는 직육면체로 형성되는 플라즈마 처치기.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격은 상기 유동 경로의 길이보다 더 짧게 형성되는 플라즈마 처치기.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 전극은 상기 바디에 매립되는 플라즈마 처치기.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 판상으로 형성되어 면방전 구조를 형성하는 플라즈마 처치기.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 제3 전극은,
    상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 중심 연장선과 교차하여 배치되는 플라즈마 처치기.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 제3 전극은,
    상기 유동 경로의 일단과의 사이에 상기 바디에서 연장된 절연부를 개재하여 배치되는 플라즈마 처치기.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 제3 전극은,
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격의 연장 방향에서, 상기 절연부에서 상기 바디의 끝까지 형성되는 플라즈마 처치기.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 제3 전극은,
    상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 최외곽 연장선의 외곽에 배치되는 플라즈마 처치기.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 제3 전극은,
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 설정되는 간격의 연장 방향에서, 상기 바디의 두께 범위 내에 형성되는 제1 부분과,
    상기 제1 부분에서 연장되어 상기 두께 범위 밖에 형성되는 제2 부분을 포함하는 플라즈마 처치기.
  12. 제1 항에 있어서,
    상기 바디는, 원통으로 형성되어 중심에 상기 유동 경로를 형성하고,
    상기 제1 전극은, 상기 유동 경로의 중심에 배치되며,
    상기 제2 전극은, 상기 유동 경로의 외측에 원통으로 형성되어 상기 바디에 매립되는 플라즈마 처치기.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 제3 전극은,
    상기 유동 경로와 나란하게 설정되는 상기 제2 전극의 연장선 내측과 외측 중 적어도 일측에 배치되는 플라즈마 처치기.
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