KR101913025B1 - 플라즈마 자극 장치 및 그를 포함하는 침술 치료기 - Google Patents

Abstract

본 발명은 플라즈마 자극 장치 및 그를 포함하는 침술 치료기에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 자극 장치는, 체부에 삽입된 자극 매체를 덮는 덮개부; 및 플라즈마를 발생시켜 상기 덮개부로 공급하는 플라즈마 발생부를 포함할 수 있다.

Description

플라즈마 자극 장치 및 그를 포함하는 침술 치료기{PLASMA STIMULATION APPARATUS AND ACUPUNCTURE THERAPEUTIC APPARATUS COMPRISING THE SAME}

본 발명은 플라즈마 자극 장치 및 그를 포함하는 침술 치료기에 관한 것이다.

침술은 가늘고 예민한 바늘과 같은 침으로 신체의 특정 부위를 찔러 자극함으로써 질병을 치료하는 의료 행위이다. 신체에 침을 삽입한 후 물리적 자극을 높이기 위해 한의사들은 삽입된 침을 돌리거나 피부에 침을 더 깊게 넣었다 빼기도 한다.

또 다른 침술로 신체에 침을 꽂고 침에 전기 신호를 인가하는 전기침술이 있다. 이 전기침술은 침을 2 대 이상 꽂고 침에 전원의 양극 단자와 음극 단자를 연결하여 침이 꽂아져 있는 신체 부위에 침 자극과 전기 자극을 함께 가한다.

그러나, 전기침술은 엄밀히 말하면 침이 꽂혀 있는 경혈 부위를 자극하기보다는 두 침이 꽂혀 있는 경혈과 경혈 사이의 조직에 전류를 흘려 자극을 가하는 것이므로 경혈 부위를 집중적으로 자극하는 것은 아니다.

특허문헌1: 등록특허공보 제10-1147397호(2012.05.11.)

본 발명의 실시예는 침과 같이 신체에 자극을 주는 자극 매체를 통해 자극 매체가 삽입된 체부에 물리적 자극, 전기적 자극 및 화학적 자극을 가하여 경혈 부위를 효과적으로 자극할 수 있는 플라즈마 자극 장치 및 침술 치료기를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 실시예는 플라즈마를 이용한 자극 치료 시 자극 매체에 과전류가 흐르는 것을 방지할 수 있는 플라즈마 자극 장치 및 침술 치료기를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 실시예는 자극 매체를 덮는 덮개부 내 전자와 양이온의 분포를 조절하여 플라즈마를 이용한 자극 치료의 효과를 향상시킬 수 있는 플라즈마 자극 장치 및 침술 치료기를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 실시예는 플라즈마에 약물을 혼합시켜 체부에 제공함으로써 자극 치료의 효과를 향상시킬 수 있는 플라즈마 자극 장치 및 침술 치료기를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 자극 장치는, 체부에 삽입된 자극 매체를 덮는 덮개부; 및 플라즈마를 발생시켜 상기 덮개부로 공급하는 플라즈마 발생부를 포함할 수 있다.

상기 덮개부는: 유전체로 만들어질 수 있다.

상기 덮개부는: 상기 플라즈마 발생부로부터 플라즈마를 공급받는 공급구를 포함할 수 있다.

상기 플라즈마 자극 장치는 상기 플라즈마 발생부와 상기 공급구 사이에 위치하여 접지된 채 플라즈마를 통과시키는 플라즈마 통과부를 더 포함할 수 있다.

상기 플라즈마 통과부는: 플라즈마가 지나가는 영역을 가로막는 메쉬를 포함할 수 있다.

상기 덮개부는: 체부와 접촉하는 접촉면에 인접하여 배기 가스를 내보내는 배기구를 포함할 수 있다.

상기 플라즈마 발생부는: 플라즈마를 발생시키기 위한 소스 가스가 지나가는 중공을 갖는 유전체; 상기 유전체의 내측에 위치하는 제 1 전극; 및 상기 유전체의 적어도 일부를 둘러싸는 제 2 전극을 포함할 수 있다.

상기 플라즈마 발생부는: 상기 소스 가스로 불활성 가스를 공급받을 수 있다.

상기 덮개부는: 상기 덮개부 내 플라즈마의 분포를 조절하는 플라즈마 분포 조절부를 더 포함할 수 있다.

상기 플라즈마 분포 조절부는: 상기 덮개부에 구비되는 적어도 하나의 조절 전극; 및 상기 조절 전극에 전기 신호를 인가하는 조절 전원을 포함할 수 있다.

상기 조절 전극은: 상기 자극 매체를 둘러싸는 상기 덮개부의 측벽에 형성되는 제 1 조절 전극; 및 체부와 마주보는 상기 덮개부의 상벽에 형성되는 제 2 조절 전극; 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

상기 조절 전원은: 상기 조절 전극에 직류 신호를 인가할 수 있다.

상기 조절 전원은: 상기 제 1 조절 전극에 음의 극성을 갖는 직류 신호를 인가하고, 상기 제 2 조절 전극에 양의 극성을 갖는 직류 신호를 인가할 수 있다.

상기 플라즈마 통과부 및 상기 덮개부의 내측면 중 적어도 하나에 적용되는 약물을 더 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 침술 치료기는, 체부에 삽입되는 적어도 하나의 침; 체부에 삽입된 침을 덮는 덮개부; 및 플라즈마를 발생시켜 상기 덮개부로 공급하는 플라즈마 발생부를 포함할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따르면, 자극 매체를 통해 자극 매체가 삽입된 체부에 물리적 자극, 전기적 자극 및 화학적 자극을 가하여 경혈 부위를 효과적으로 자극할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따르면, 플라즈마를 이용한 자극 치료 시 자극 매체에 과전류가 흐르는 것을 방지할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따르면, 자극 매체를 덮는 덮개부 내 전자와 양이온의 분포를 조절하여 플라즈마를 이용한 자극 치료의 효과를 향상시킬 수 있다.

본 발명의 실시예에 따르면, 자극 치료 시 체부에 약물이 혼합된 플라즈마를 제공함으로써 자극 치료의 효과를 향상시킬 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 자극 장치의 예시적인 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생부의 예시적인 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 통과부가 구비된 플라즈마 자극 장치의 예시적인 부분 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 통과부가 구비된 덮개부의 예시적인 평면도이다.
도 5 및 도 6은 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 분포 조절부를 포함하는 덮개부의 예시적인 단면도 및 평면도이다.
도 7 및 도 8은 각각 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 분포 조절부를 포함하는 덮개부의 예시적인 단면도 및 평면도이다.
도 9 및 도 10은 각각 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 플라즈마 분포 조절부를 포함하는 덮개부의 예시적인 단면도 및 평면도이다.
도 11 내지 도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따라 조절 전원이 조절 전극에 인가하는 전기 신호의 파형을 예시적으로 나타내는 도면이다.
도 14 내지 도 16은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 조절 전원이 조절 전극에 인가하는 전기 신호의 파형을 예시적으로 나타내는 도면이다.
도 17은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 덮개부의 예시적인 단면도이다.
도 18은 본 발명의 일 실시예에 따른 침술 치료기의 예시적인 도면이다.
도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 침술 치료기의 예시적인 단면도이다.

본 발명의 다른 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술 되는 실시 예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.

만일 정의되지 않더라도, 여기서 사용되는 모든 용어들(기술 혹은 과학 용어들을 포함)은 이 발명이 속한 종래 기술에서 보편적 기술에 의해 일반적으로 수용되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적인 사전들에 의해 정의된 용어들은 관련된 기술 그리고/혹은 본 출원의 본문에 의미하는 것과 동일한 의미를 갖는 것으로 해석될 수 있고, 그리고 여기서 명확하게 정의된 표현이 아니더라도 개념화되거나 혹은 과도하게 형식적으로 해석되지 않을 것이다.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다' 및/또는 이 동사의 다양한 활용형들 예를 들어, '포함', '포함하는', '포함하고', '포함하며' 등은 언급된 조성, 성분, 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 조성, 성분, 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 본 명세서에서 '및/또는' 이라는 용어는 나열된 구성들 각각 또는 이들의 다양한 조합을 가리킨다.

이하, 본 명세서에 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 자극 장치(1)의 예시적인 도면이다.

도 1을 참조하면, 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 덮개부(11) 및 플라즈마 발생부(12)를 포함한다. 상기 덮개부(11)는 체부에 삽입된 자극 매체(10)를 덮는다. 상기 플라즈마 발생부(12)는 플라즈마를 발생시켜 상기 덮개부(11)로 공급한다.

본 발명의 실시예에 따르면, 자극 매체(10)는 침을 포함한다. 그러나, 상기 자극 매체(10)는 한의학에서 침술 치료를 위해 사용되는 침으로 국한되지 않고, 신체에 삽입되어 본 발명의 실시예와 같이 플라즈마를 이용한 자극 치료에 사용될 수 있는 임의의 수단을 포함한다.

상기 자극 매체(10)는 전도체로 만들어질 수 있다. 예를 들어, 상기 자극 매체(10)는 철과 같은 금속으로 만들어질 수 있으나 이에 제한되지는 않는다.

상기 덮개부(11)는 유전체로 만들어질 수 있다. 후술하는 바와 같이 상기 덮개부(11)는 상기 플라즈마 발생부(12)로부터 플라즈마를 공급받아 자극 매체(10) 및 상기 자극 매체(10)가 삽입된 체부에 제공하며 자극 매체(10)를 덮으면서 체부와 접촉하기 때문에, 상기 덮개부(11)를 통해 전류가 흐르지 않도록 유전체로 만들어질 수 있다.

상기 덮개부(11)는 상기 플라즈마 발생부(12)로부터 플라즈마를 공급받는 공급구(S)를 포함한다. 도 1에서 공급구(S)는 상기 덮개부(11)의 윗면에 형성되었으나, 상기 공급구(S)의 위치는 이에 제한되지 않는다.

또한, 상기 덮개부(11)는 체부와 접촉하는 접촉면에 인접하여 배기 가스를 내보내는 배기구(E)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 1에 도시된 바와 같이, 배기구(E)는 상기 덮개부(11)에서 체부에 가까운 곳에 하나 또는 그 이상 형성될 수 있다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생부(12)의 예시적인 단면도이다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 플라즈마 발생부(12)는 플라즈마를 발생시키기 위한 소스 가스가 지나가는 중공을 갖는 유전체(123), 상기 유전체(123)의 내측에 위치하는 제 1 전극(121), 및 상기 유전체(123)의 적어도 일부를 둘러싸는 제 2 전극(122)을 포함할 수 있다.

예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 및 제 2 전극(121, 122)은 상기 유전체(123)를 사이에 두고 서로 마주보도록 구성될 수 있다. 여기서, 상기 유전체(123)의 바깥쪽에 구비되는 제 2 전극(122)은 안쪽에 구비되는 제 1 전극(111)의 일부 영역을 둘러싸도록 배치될 수 있다.

즉, 제 1 전극(121)과 제 2 전극(122)은 지름과 길이가 서로 다른 중공형 원통으로 형성될 수 있으며, 유전체(123)를 사이에 두고 서로 중첩되도록 배치되나, 제 1 전극(121)에서 제 2 전극(122)과 중첩되는 영역은 제 1 전극(121)의 일부에 해당한다.

또한, 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 상기 플라즈마 발생부(12)에 플라즈마를 발생시키기 위한 전력을 공급하는 전원부를 더 포함한다.

도 2를 참조하면, 상기 전원부는 제 1 전극(121)에 전원 신호를 인가하고, 제 2 전극(122)을 접지시킬 수 있다. 상기 전원부는 전원 신호로 고전압의 직류 신호 또는 고주파 신호를 인가할 수 있다.

상기 플라즈마 발생부(12)는 소스 가스를 공급받는다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 플라즈마 발생부(12)는 소스 가스로 불활성 가스를 공급받을 수 있다. 예를 들어, 상기 플라즈마 발생부(12)는 아르곤 및 헬륨 중 적어도 하나를 공급받을 수 있다. 그러나, 소스 가스는 이에 제한되지 않고 대기 또는 다른 종류의 가스가 사용될 수도 있다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 실시예는 경혈과 같은 체부에 삽입된 자극 매체(10)를 덮개부(11)로 덮어 상기 덮개부(11) 안에 플라즈마를 공급함으로써, 플라즈마를 구성하는 전자와 양이온 중 전자는 자극 매체(10)를 통해 전류로서 체부에 전달되어 체부를 전기적으로 자극하고 양이온은 자극 매체(10) 주위의 체부에 화학적으로 작용하여 체부를 화학적으로 자극할 수 있다.

즉, 본 발명의 실시예에 따르면, 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 자극 매체(10)와 플라즈마를 이용해 체부에 물리적 자극(침에 의한 자극), 전기적 자극(전자에 의한 자극), 및 화학적 자극(양이온에 의한 자극)을 제공하여 경혈 부위를 효과적으로 자극할 수 있다.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 통과부(13)가 구비된 플라즈마 자극 장치(1)의 예시적인 부분 단면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 통과부(13)가 구비된 덮개부(11)의 예시적인 평면도이다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 상기 플라즈마 발생부(12)와 공급구(S) 사이에 위치하여 접지된 채 플라즈마를 통과시키는 플라즈마 통과부(13)를 더 포함할 수 있다.

예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 통과부(13)는 공급구(S)에 배치되어 플라즈마를 통과시킬 수 있다. 그러나, 상기 플라즈마 통과부(13)의 위치는 이에 제한되지 않고, 상기 플라즈마 통과부(13)는 상기 플라즈마 발생부(12)에서 플라즈마가 배출되는 곳에서 시작하여 상기 덮개부(11)에서 플라즈마가 유입되는 곳에 이르기까지 플라즈마가 지나가는 임의의 위치에 배치될 수 있다.

이 실시예에 따르면, 상기 플라즈마 통과부(13)는 플라즈마가 지나가는 영역을 가로막는 메쉬를 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 통과부(13)는 메쉬 형태로 구성되어 플라즈마가 지나가는 영역을 가로막도록 배치될 수 있다. 이와 같은 구성으로 상기 플라즈마 발생부(12)에서 생성되어 상기 덮개부(11)로 공급되는 플라즈마는 상기 플라즈마 통과부(13)를 거치게 된다.

또한, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 통과부(13)는 접지된다. 이와 같이 상기 플라즈마 통과부(13)가 접지되어 전위가 0으로 유지됨으로써, 상기 플라즈마 자극 장치(1)에서 고전압의 신호가 흐르는 플라즈마 발생부(12)로부터 자극 매체(10)에 이르는 방전 경로가 형성되지 않도록 한다. 그 결과, 이 실시예에 따르면 상기 덮개부(11) 안으로 공급되는 플라즈마에 의해 상기 자극 매체(10)에 과전류가 흐르는 것을 방지할 수 있다.

상기 덮개부(11)는 덮개부(11) 내 플라즈마의 분포를 조절하는 플라즈마 분포 조절부를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 실시예에 따르면, 상기 플라즈마 분포 조절부는 상기 덮개부(11)에 구비되는 적어도 하나의 조절 전극, 및 상기 조절 전극에 전기 신호를 인가하는 조절 전원을 포함할 수 있다.

도 5 및 도 6은 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 분포 조절부를 포함하는 덮개부(11)의 예시적인 단면도 및 평면도이다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 조절 전극은 자극 매체(10)를 둘러싸는 덮개부(11)의 측벽에 형성되는 제 1 조절 전극(141)을 포함할 수 있다.

예를 들어, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 조절 전극(141)은 덮개부(11)의 중심축(X)을 중심으로 360°에 걸쳐 덮개부(11)의 외측면을 감싸도록 형성될 수 있다.

그리고, 상기 조절 전원은 상기 제 1 조절 전극(141)에 직류 신호를 인가할 수 있다. 예를 들어, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 조절 전극(141)에는 음의 극성을 갖는 직류 신호가 인가될 수 있다.

이 경우, 상기 제 1 조절 전극(141)은 음의 극성을 갖는 직류 신호가 인가되므로 플라즈마를 구성하는 전자와 양이온에 대해 각각 척력과 인력을 작용하게 된다. 그 결과, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 덮개부(11)로 공급된 플라즈마는 전자가 덮개부(11)의 중심 영역에 배치되고 양이온이 덮개부(11)의 가장자리 영역에 배치될 수 있다.

그로 인해 상기 덮개부(11)의 중심 영역에 위치하는 자극 매체(10)에 플라즈마의 전자가 집중적으로 분포하고 상기 자극 매체(10)의 주변에 있는 체부에 플라즈마의 양이온이 분포하게 되어, 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 자극 매체(10)를 통한 전기적 자극과 상기 자극 매체(10)가 삽입된 체부에 대한 화학적 자극을 효과적으로 제공할 수 있다.

도 7 및 도 8은 각각 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 분포 조절부를 포함하는 덮개부(11)의 예시적인 단면도 및 평면도이다.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 조절 전극은 체부와 마주보는 상기 덮개부(11)의 상벽에 형성되는 제 2 조절 전극(142)을 포함할 수 있다.

예를 들어, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 조절 전극(142)은 덮개부(11)의 상면에 상기 덮개부(11)의 중심축(X)을 중심으로 360°에 걸쳐 형성될 수 있다.

그리고, 상기 조절 전원은 상기 제 2 조절 전극(142)에 직류 신호를 인가할 수 있다. 예를 들어, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 조절 전극(142)에는 양의 극성을 갖는 직류 신호가 인가될 수 있다.

이 경우, 상기 제 2 조절 전극(142)은 양의 극성을 갖는 직류 신호가 인가되므로 플라즈마를 구성하는 전자와 양이온에 대해 각각 인력과 척력을 작용하게 된다.

그로 인해 상기 덮개부(11) 내에서 상기 제 2 조절 전극(142)에 가까운 영역(도 7 및 도 8에서 상부 중심 영역)에는 플라즈마의 전자가 분포하고 상기 제 2 조절 전극(142)에서 먼 영역(도 7 및 도 8에서 가장자리 영역 및 하부 중심 영역)에는 플라즈마의 양이온이 분포하게 되어, 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 자극 매체(10)를 통한 전기적 자극과 상기 자극 매체(10)가 삽입된 체부에 대한 화학적 자극을 효과적으로 제공할 수 있다.

도 9 및 도 10은 각각 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 플라즈마 분포 조절부를 포함하는 덮개부(11)의 예시적인 단면도 및 평면도이다.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 상기 덮개부(11)에 설치되는 조절 전극은 상기 제 1 조절 전극(141)과 상기 제 2 조절 전극(142) 둘 모두를 포함할 수 있다.

그리고, 상기 조절 전원은 상기 제 1 및 제 2 조절 전극(141, 142)에 직류 신호를 인가할 수 있다. 예를 들어, 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 조절 전극(141)에는 음의 극성을 갖는 직류 신호가 인가되고, 상기 제 2 조절 전극(142)에는 양의 극성을 갖는 직류 신호가 인가될 수 있다.

이와 같이 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 상기 덮개부(11)의 측벽과 상벽에 조절 전극을 적절하게 포함하고 상기 조절 전극에 양 또는 음의 극성을 갖는 직류 신호를 인가함으로써, 상기 덮개부(11) 내 플라즈마의 전자와 양이온의 공간적 분포를 조절하여 자극 매체(10)를 통한 전기적 자극과 체부에 대한 화학적 자극을 극대화시킬 수 있다.

이 실시예에서 상기 조절 전원은 상기 조절 전극에 직류 신호를 인가하였으나, 상기 조절 전원은 다양한 파형의 전기 신호를 상기 조절 전극에 인가할 수도 있다.

도 11 내지 도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따라 조절 전원이 조절 전극에 인가하는 전기 신호의 파형을 예시적으로 나타내는 도면이다.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 조절 전원은 상기 조절 전극에 구형파의 전기 신호를 인가할 수 있다.

예를 들어, 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 조절 전원은 기 결정된 진폭을 갖는 양의 펄스와 음의 펄스가 교대로 반복되는 구형파를 상기 조절 전극에 인가할 수 있다.

이 실시예에 따르면, 상기 조절 전원은 하나의 조절 전극(예컨대, 제 1 조절 전극(141) 또는 제 2 조절 전극(142))에 동일한 극성의 신호만 인가하는 것이 아니라 시간에 따라 조절 전극에 인가되는 신호의 극성을 변경할 수 있어, 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 상기 덮개부(11) 내에서 플라즈마의 분포를 시간적으로도 조절할 수 있다. 다시 말해, 이 실시예에 따르면 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 상기 덮개부(11) 내 전자와 양이온의 공간적 분포 외에 시간적 분포도 조절 가능하다.

또한, 상기 조절 전원은 구형파에서 양의 극성을 갖는 시간과 음의 극성을 갖는 시간을 동일하게 하는 것뿐만 아니라, 실시예에 따라 양의 극성을 갖는 시간과 음의 극성을 갖는 시간을 서로 다르게 조절할 수도 있다.

예를 들어, 상기 조절 전원은 도 12와 같이 음의 극성을 갖는 시간이 양의 극성을 갖는 시간보다 더 길도록 구형파를 조절하거나, 도 13과 같이 양의 극성을 갖는 시간이 음의 극성을 갖는 시간보다 더 길도록 구형파를 조절할 수 있다.

도 14 내지 도 16은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 조절 전원이 조절 전극에 인가하는 전기 신호의 파형을 예시적으로 나타내는 도면이다.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 상기 조절 전원은 상기 조절 전극에 사인파의 전기 신호를 인가할 수 있다.

예를 들어, 도 14에 도시된 바와 같이, 상기 조절 전원은 기 결정된 진폭 A과 주파수 1/T를 갖는 사인파를 상기 조절 전극에 인가할 수 있다.

이 실시예에 따르면, 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 상기 덮개부(11) 내 플라즈마의 분포를 조절하기 위해 교류 신호로부터 특정 파형을 갖는 신호(예컨대, 앞서 설명한 구형파)를 별도로 제작할 필요가 없다.

다시 말해, 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 장치의 전원으로서 공급받는 교류 신호를 구형파 등으로 정형할 필요 없이 진폭 A나 주파수 1/T를 적절히 조절하여 상기 조절 전극에 그대로 인가할 수 있다.

그 결과, 이 실시예에 따르면 상기 조절 전극에 전기 신호를 인가하기 위해 마련되는 조절 전원의 구성을 단순화시켜 조절 전원의 복잡도를 감소시킬 수 있다.

또한, 상기 조절 전원은 사인파에 기 결정된 크기의 직류 신호를 중첩시켜 상기 조절 전극에 인가할 수도 있다.

이 실시예에 따르면, 상기 조절 전원은 사인파에 상기 사인파의 진폭 A보다 작거나 같은 크기의 직류 신호를 중첩시켜 상기 조절 전극에 인가할 수도 있다.

예를 들어, 상기 조절 전원은 도 15와 같이 사인파에 그 사인파의 진폭 A보다 작은 크기 ｜-V_bias｜를 갖는 음의 직류 신호를 중첩시켜 상기 조절 전극에 인가하거나, 도 16과 같이 사인파에 그 사인파의 진폭 A보다 작은 크기 V_bias를 갖는 양의 직류 신호를 중첩시켜 상기 조절 전극에 인가할 수 있다.

이와 같이 상기 조절 전원은 사인파 신호에 직류 신호를 중첩시켜 사인파를 양 또는 음의 방향으로 바이어싱함으로써, 전원 회로의 복잡도를 최소화하면서 상기 조절 전극에 인가되는 전기 신호에서 양의 극성을 갖는 시간과 음의 극성을 갖는 시간을 조절할 수 있다.

도 17은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 덮개부(11)의 예시적인 단면도이다.

이 실시예에 따르면, 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 상기 플라즈마 통과부(13) 및 상기 덮개부(11)의 내측면 중 적어도 하나에 적용되는 약물(M)을 더 포함할 수 있다. 상기 약물(M)은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 자극 치료에서 치료 효과를 증진시키기 위한 것으로, 다양한 종류의 한약 또는 양약을 포함할 수 있다.

이 실시예에서 플라즈마는 상기 플라즈마 발생부(12)에서 생성되어 상기 덮개부(11)로 이동하면서 상기 플라즈마 통과부(13)를 지나게 되고 상기 덮개부(11)를 따라 체부에 제공되므로, 생성 후 체부에 도달하기까지 약물(M)과 접촉하여 혼합될 수 있다.

특히, 상기 플라즈마 통과부(13)는 플라즈마가 상기 플라즈마 발생부(12)로부터 상기 덮개부(11)로 공급되는 도중에 필수적으로 거치는 부재이므로, 플라즈마는 상기 플라즈마 통과부(13)를 통과하면서 약물(M)과 충분히 혼합될 수 있다.

그 결과, 도 17에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 체부에 약물(M)이 혼합된 플라즈마를 제공하게 된다.

이와 같이 이 실시예는 약물(M)이 상기 덮개부(11)의 안쪽과 상기 플라즈마 통과부(13)에 적용되어 자극 치료 시 체부에 약물(M)이 더 제공됨으로써, 플라즈마만으로 자극 치료를 실시하는 것보다 향상된 치료 효과를 얻을 수 있다.

이상에서 설명한 상기 플라즈마 자극 장치(1)는 체부에 삽입되는 자극 매체(10)로 침과 함께 침술 치료기를 구성할 수 있다.

도 18은 본 발명의 일 실시예에 따른 침술 치료기의 예시적인 도면이고, 도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 침술 치료기의 예시적인 단면도이다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 침술 치료기는 체부에 삽입되는 적어도 하나의 침(10), 체부에 삽입된 침(10)을 덮는 덮개부(11), 및 플라즈마를 발생시켜 상기 덮개부(11)로 공급하는 플라즈마 발생부(12)를 포함할 수 있다.

앞서 설명된 도 1의 실시예와 달리, 이 실시예는 체부에 다수의 침(10)이 삽입되며 상기 덮개부(11)는 다수의 침(10)을 모두 덮을 수 있도록 보다 넓은 면적을 갖는다.

또한, 도 18 및 도 19에서 상기 다수의 침(10)은 체부에 균일하게 삽입되었으나, 상기 침(10)은 반드시 균일하게 삽입될 필요는 없으며 자극이 필요한 다수의 경혈 부위에 삽입될 수 있다.

나아가, 이 실시예에서도 앞서 설명한 플라즈마 통과부(13) 및 플라즈마 분포 조절부 중 적어도 하나가 구비될 수 있다. 특히, 이 실시예와 같이 체부에 다수의 침(10)이 삽입된 경우, 상기 덮개부(11)의 상면에 구비되는 제 2 조절 전극(142)의 위치 및 면적을 상기 다수의 침(10)의 배치에 따라 적절하게 결정함으로써 각각의 침(10)을 통한 전기적 자극 및 화학적 자극을 극대화시킬 수 있다.

이상에서 실시예를 통해 본 발명을 설명하였으나, 위 실시예는 단지 본 발명의 사상을 설명하기 위한 것으로 이에 한정되지 않는다. 통상의 기술자는 전술한 실시예에 다양한 변형이 가해질 수 있음을 이해할 것이다. 본 발명의 범위는 첨부된 특허청구범위의 해석을 통해서만 정해진다.

1: 플라즈마 자극 장치
10: 자극 매체
11: 덮개부
12: 플라즈마 발생부
13: 플라즈마 통과부
121: 제 1 전극
122: 제 2 전극
123: 유전체
141: 제 1 조절 전극
142: 제 2 조절 전극
E: 배기구
M: 약물
S: 공급구

Claims (15)

1. 체부에 삽입된 자극 매체를 덮는 덮개부; 및
   플라즈마를 발생시켜 상기 덮개부로 공급하는 플라즈마 발생부를 포함하되,
   상기 덮개부는:
   상기 덮개부 내 플라즈마의 분포를 조절하는 플라즈마 분포 조절부를 더 포함하는 플라즈마 자극 장치.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 덮개부는:
   유전체로 만들어진 플라즈마 자극 장치.
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 덮개부는:
   상기 플라즈마 발생부로부터 플라즈마를 공급받는 공급구를 포함하는 플라즈마 자극 장치.
4. 제 3 항에 있어서,
   상기 플라즈마 발생부와 상기 공급구 사이에 위치하여 접지된 채 플라즈마를 통과시키는 플라즈마 통과부를 더 포함하는 플라즈마 자극 장치.
5. 제 4 항에 있어서,
   상기 플라즈마 통과부는:
   플라즈마가 지나가는 영역을 가로막는 메쉬를 포함하는 플라즈마 자극 장치.
6. 제 1 항에 있어서,
   상기 덮개부는:
   체부와 접촉하는 접촉면에 인접하여 배기 가스를 내보내는 배기구를 포함하는 플라즈마 자극 장치.
7. 제 1 항에 있어서,
   상기 플라즈마 발생부는:
   플라즈마를 발생시키기 위한 소스 가스가 지나가는 중공을 갖는 유전체;
   상기 유전체의 내측에 위치하는 제 1 전극; 및
   상기 유전체의 적어도 일부를 둘러싸는 제 2 전극을 포함하는 플라즈마 자극 장치.
8. 제 7 항에 있어서,
   상기 플라즈마 발생부는:
   상기 소스 가스로 불활성 가스를 공급받는 플라즈마 자극 장치.
9. 삭제
10. 제 1 항에 있어서,
    상기 플라즈마 분포 조절부는:
    상기 덮개부에 구비되는 적어도 하나의 조절 전극; 및
    상기 조절 전극에 전기 신호를 인가하는 조절 전원을 포함하는 플라즈마 자극 장치.
11. 제 10 항에 있어서,
    상기 조절 전극은:
    상기 자극 매체를 둘러싸는 상기 덮개부의 측벽에 형성되는 제 1 조절 전극; 및
    체부와 마주보는 상기 덮개부의 상벽에 형성되는 제 2 조절 전극;
    중 적어도 하나를 포함하는 플라즈마 자극 장치.
12. 제 11 항에 있어서,
    상기 조절 전원은:
    상기 조절 전극에 직류 신호를 인가하는 플라즈마 자극 장치.
13. 제 12 항에 있어서,
    상기 조절 전원은:
    상기 제 1 조절 전극에 음의 극성을 갖는 직류 신호를 인가하고,
    상기 제 2 조절 전극에 양의 극성을 갖는 직류 신호를 인가하는 플라즈마 자극 장치.
14. 제 4 항에 있어서,
    상기 플라즈마 통과부 및 상기 덮개부의 내측면 중 적어도 하나에 적용되는 약물을 더 포함하는 플라즈마 자극 장치.
15. 체부에 삽입되는 적어도 하나의 침;
    체부에 삽입된 침을 덮는 덮개부; 및
    플라즈마를 발생시켜 상기 덮개부로 공급하는 플라즈마 발생부를 포함하되,
    상기 덮개부는:
    상기 덮개부 내 플라즈마의 분포를 조절하는 플라즈마 분포 조절부를 더 포함하는 침술 치료기.

Images