KR20110045852A - 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치 - Google Patents

다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20110045852A
KR20110045852A KR1020090102584A KR20090102584A KR20110045852A KR 20110045852 A KR20110045852 A KR 20110045852A KR 1020090102584 A KR1020090102584 A KR 1020090102584A KR 20090102584 A KR20090102584 A KR 20090102584A KR 20110045852 A KR20110045852 A KR 20110045852A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
leaf
shaped
plasma
floating induction
Prior art date
Application number
KR1020090102584A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101118359B1 (ko
Inventor
송석균
Original Assignee
(주)유이온
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)유이온 filed Critical (주)유이온
Priority to KR1020090102584A priority Critical patent/KR101118359B1/ko
Publication of KR20110045852A publication Critical patent/KR20110045852A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101118359B1 publication Critical patent/KR101118359B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32532—Electrodes
    • H01J37/32541—Shape
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
    • H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32532—Electrodes
    • H01J37/32568—Relative arrangement or disposition of electrodes; moving means
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H05H1/4645—Radiofrequency discharges
    • H05H1/4652—Radiofrequency discharges using inductive coupling means, e.g. coils
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2242/00—Auxiliary systems
    • H05H2242/20—Power circuits

Abstract

본 발명은 하나의 전원 장치로 특히 다중의 플로팅 유도전극과 다이오드를 적절히 사용함과 작업가스의 송풍 또는 전자기력 추력으로 글라이딩 아크 플라즈마를 대면적으로 발생할 수 있으며, 3차원을 처리할 수 있도록 길게 발생할 수 있도록 구성되는 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서,
본 발명을 적용하면, 대면적 시편을 효율적으로 처리할 수 있을 뿐만 아니라 3 차원 구조의 시편도 처리할 수 있고, 안정적으로 세정 및 표면개질 또는 가스 처리 등이 가능하게 할 수 있는 효과가 있다.
상압 플라즈마, 다중 전극, 다이오드, 송풍추진방식, 자기장추진방식

Description

다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치{ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA GENERATING APPARATUS BY MULTI FLOATING INDUCTION ELECTRODE}
본 발명은 상압 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 송풍기 앞에 또는 자기장에 수직으로 제1전극과 제2전극 또는 제3전극을 설치하고, 그 사이에 다수의 플로팅(Floating) 유도전극을 위치하여 플라즈마 발생 폭을 대폭적으로 늘리도록 하는 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치에 관한 것이다.
일반적으로, 플라즈마란 제4의 물질상태로 외부에서 가해진 전기장 등에 의해 생성된 이온, 전자, 라디칼 등과 중성입자로 구성되어 거시적으로 전기적 중성을 이루고 있는 물질상태이며, 이러한 플라즈마 내의 이온, 전자, 라디칼 등을 이용하여 재료의 표면 개질, 에칭, 코팅 또는 살균, 소독, 오존 생성, 염색, 폐수 및 수돗물 정화, 공기 정화, 고 휘도 램프 등의 분야에 널리 쓰이고 있다.
그리고, 종래의 기술로는 등록특허10-0530735, 등록특허10-0596511, 등록특 허10-0719900, 공개특허10-2006-0131917 등이 있다.
상기 등록특허10-0530735는 다양한 모양의 한 쌍의 전극으로 플라즈마를 발생시키고, 플라즈마 발생 폭을 증가하기 위하여 다중 전극에서 각 전극 쌍 마다 전류 제어형 전원 공급기 또는 전류제어를 위한 초크코일, 콘덴서, 저항, 또는 누설 자로 트랜스 중 하나 이상을 설치하여야 하는 단점이 있다.
그리고, 종래의 기술 등록특허10-0596511는 한쌍의 칼날 전극으로 플라즈마를 발생하여 플라즈마 발생 폭이 크지 않으며, 여기에서 자석의 역할은 전극의 수명 확대가 목적이다.
그리고, 종래의 기술 등록특허10-0719900은 도 1에서 나타낸 바와 같이, 잘 알려진 한 쌍의 칼날 전극으로 글라이딩 아크 플라즈마를 발생하여 이용하는 기술로 역시 플라즈마 발생 폭이 크지 않다.
그리고, 종래의 기술 공개특허10-2006-0131917은 플라즈마 발생 폭을 증가시키기 위하여 각 전극 쌍에 전류 제어를 위한 코일과 콘덴서를 직렬로 연결하여 다중 전극에서 플라즈마가 발생하게 하는 발명으로 그 이전 등록특허10-0530735와 유사한 발명이다.
또한, 종래의 기술에서 플라즈마 발생 폭을 증가시키기 위하여 각 전극마다 별도의 전원을 공급하든가, 또는 전류 제어 부품 코일, 콘덴서, 저항 등을 직렬로 연결하여야만 하였다. 이와 같은 기술은 번거롭고, 비싼 기술이며, 각 부품에서 발열 등으로 인한 에너지 손실이 발생하는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기한 종래 기술에 따른 제반 문제점을 해결하기 위하여 개량발명된 것으로서, 본 발명의 목적은 간단한 구조와 다이오드 전기 배선으로 대면적 플라즈마가 발생하는 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치를 제공하는 데 있다.
그러나 본 발명의 목적은 상기에 언급된 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 제1특징은,
나뭇잎 모양의 제1전극과, 상기 제1전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅(Floating) 유도전극을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극과 제2전극에 교류를 인가하며, 상기 전극들을 용기로 감싸고 용기 안으로 작업 가스를 송풍하여 플라즈마가 발생하도록 구성된다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 제2특징은,
나뭇잎 모양의 제1전극과, 상기 제1전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 또한 상기 제2전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제3전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극에 다이오드의 한 극성을 통과한 반파 파형의 전압을 인가하고, 상기 제2전극은 공통 전극으로 고압 트랜스의 다른 한쪽에 연결하고, 180도 위상차를 갖도록 제3전극에 다른 다이오드의 다른 극성을 통과한 다른 반파 파형의 전압을 인가하고, 상기 전극들을 용기로 감싸고 용기 안으로 작업 가스를 송풍하여 플라즈마가 발생하도록 구성된다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 제3특징은,
나뭇잎 모양의 제1전극과, 상기 제1전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극과 제2전극에 전파 전압 파형을 인가하며, 상기 전극 배열에 수직하게 자기장을 인가하여 전자기력으로 플라즈마가 추진 발생하도록 구성된다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 제4특징은,
나뭇잎 모양의 제1전극과, 상기 제1전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극을 일 정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 또한 상기 제2전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제3전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극에 다이오드의 한 극성을 통과한 반파 파형의 전압을 인가하고, 상기 제2전극은 공통 전극으로 고압 트랜스의 다른 한쪽에 연결하고, 180도 위상차를 갖도록 제3전극에 다른 다이오드의 다른 극성을 통과한 다른 반파 파형의 전압을 인가하고, 상기 전극 배열에 수직하게 자기장을 인가하여 전자기력으로 플라즈마가 추진하도록 구성된다.
이상에서 상술한 바와 같이 본 발명에 따른 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치는 전원 장치 하나로 수 백mm 플라즈마 발생 폭과 100mm에 달하는 플라즈마 발생 길이를 확보할 수 있는 효과가 있다.
그리고, 현재까지 주로 발명된 글라이딩 아크 플라즈마 토치, 플라즈마 샤워 등은 3 차원 구조의 시편 등을 처리할 수는 있지만 플라즈마 발생 면적이 작아서 대면적 처리가 어려웠지만, 본 발명은 대면적 처리가 가능하면서 3차원 처리도 가능하다면 상압 플라즈마의 응용 및 적용 분야가 크게 확대되어 시장 확대가 기대되는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 간단한 금속 형태의 전극을 사용하여 고효율 및 내구성을 가지며, 구조가 간단하고, 저비용으로 쉽게 대면적 3차원 처리용 플라즈마 발생장치를 제작할 수 있는 효과가 있다.
이하, 본 발명에 따른 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 바람직한 실시 예를 설명하면 다음과 같다. 하기에서 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다.
도 1은 종래 기술에 따른 글라이딩 아크 플라즈마 발생장치, 단지 한쌍의 칼날 전극을 사용하여 플라즈마를 발생함으로 플라즈마 발생 폭이 제한적인 단점과 두 전극간의 간격이 적어 플라즈마 발생 길이 또한 크지 않았다. 이와 같은 구조는 플라즈마 발생 폭 및 길이가 대략 30 mm 내외로, 대면적을 처리하기 위하여 일반적으로 여러개를 일렬로 배열하여 사용하고 있다.(공개특허10-2006-0131917, 도13 및 도14 참조) 이와 같은 번거로움을 해소하기 위해,
본 발명은 도 2에 도시된 바와 같이 나뭇잎 모양의 제1전극(23a)과, 상기 제1전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극(23b)을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅(Floating) 유도전극(23c, 23d, 23e, 23f)을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극(23a)과 제2전극(23b)에 교류를 인가하며, 상기 전극들을 용기(21)로 감싸고 용기(21) 안으로 작업 가스를 송풍(22)하여 플라즈마(24)가 발생하도록 구성된다.
상기 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 동작을 설명하면, 제1전극(23a)에 고압이 인가되는 순간에 이웃에 있는 플로팅 유도전극(23c)은 제로 포텐샬(zero Potential)로 양단간에 고 전압 포텐샬이 형성되고 높은 전기장 상태가 됨으로 플라즈마가 방전되기 시작한다.
이와 같은 방전에 의해 플로팅 유도전극(23c)의 포텐샬은 제1전극(23a)의 포텐샬과 유사하게 높게 올라가게 되며, 다음 그 이웃의 플로팅 유도전극(23d)는 아직 제로 포텐샬 상태로, 플로팅 유도전극(23c)과 플로팅 유도전극(23d) 사이는 높은 포텐샬이 형성되고 방전이 발생하게 되며, 이런 식으로 이웃의 플로팅 유도전극으로 플라즈마가 확산하게 된다.
결국 제2전극(23b)에 플라즈마 방전이 도달하여 전체적으로 플라즈마가 발생하는 형상이 되며, 이때 작업 가스가 송풍되면 발생된 플라즈마는 전극의 곡선을 따라 글라이딩 되어 넓은 막 형태의 기다란 플라즈마를 얻을 수 있다.
실험적으로 하나의 플로팅 유도전극의 전극 증가에 대해 이그니션 전압은 단지 수kV 증가만으로도 충분하며, 방전 상태에서는 수 백V 증가만으로도 충분하다.
상기 도 2에서 플라즈마(24) 발생 사진은 총 7개의 나뭇잎 전극을 사용하여 110mm의 플라즈마 발생 폭과 90mm의 플라즈마 발생 길이를 나타내는 사진이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따른 플라즈마 발생 폭을 2 배 증가시킬 수 있는 송풍에 의한 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면으로,
나뭇잎 모양의 제1전극(23a)과, 상기 제1전극(23a) 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극(23b)을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극(23c, 23d, 23e, 23f)을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 또한 상기 제2전극(23b) 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제3전극(33)을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극(23g, 23h, 23i 23j)을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극(23a)에 다이오드(32)의 한 극성을 통과한 반파 파형(35)의 전압을 인가하고, 상기 제2전극(23b)은 공통 전극으로 고압 트랜스(31)의 다른 한쪽에 연결하고, 180도 위상차를 갖도록 제3전극(33)에 다른 다이오드(37)의 다른 극성을 통과한 다른 반파 파형(36)의 전압을 인가하고(도3 참조), 상기 전극들을 용기(21)로 감싸고 용기 안으로 작업 가스(34)를 송풍하여 플라즈마가 발생하도록 구성된다.
상기와 같이 구성된 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 동작을 설명하면, 플라즈마가 이그니션 되어 옆의 Floating 전극으로 전이되는 것은 상기 도 2의 설명과 같고, 제1전극(23a)과 상기 제2전극(23b) 사이에 걸리는 반파 전압 파형(35) 동안에는 고압 다이오드(32)를 통하여 제1전극(23a)을 통하여 플로팅 유도전극(23c, 23d, 23e, 23f)을 통과하고 제2전극(23b)으로 전류가 흐르며 방전하여 플라즈마를 발생하고, 상기 제2전극(23b)과 제3전극(33) 사이에 걸리는 반파 전압 파형(36) 동안에는 제2전극(23b)을 통하여 Floating 유도전극(23g, 23h, 23i, 23j)을 통과하고 제3전극(33)을 통하여 고압 다이오드(37)으로 전류가 흐르며 방전하여 플라즈마를 발생한다.
즉, 같은 전원 장치를 반파로 나누어 각 플라즈마 전극에서 플라즈마를 발생시킴으로서 두 배로 플라즈마 발생 폭을 확대할 수 있는 장점이 있다.
도 4는 본 발명의 바람직한 또 다른 실시예에 따른 자기장에 의한 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 단면 구성을 개략적으로 나타내는 도면이며, 도 5는 도 4의 작동 원리를 설명하기 위한 평면 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 4 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치는 나뭇잎 모양의 제1전극(23a)과, 제1전극(23a) 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극(23b)을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극(23c, 23d, 23e, 23f)을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극(23a)과 제2전극(23a)에 전파 전압 파형(53)을 인가하며, 상기 전극 배열에 수직하게 자기장(42)을 인가하여 전기장 방향(51)과 자기장(42) 방향이 수직이 되어 전자기력으로 플라즈마가 추진(52) 발생하도록 구성된다.
그리고, 다이오드(32)를 브릿지로 구성하여 전파 전압 파형(53)을 적용하면, 송풍이 아닌 전자기력에 의한 플라즈마 추력이 발생함으로 흔들리지 않는 깨끗한 플라즈마 발생 모습을 나타내어 안정성을 확보할 수 플라즈마 발생 모양이다.
도 6은 본 발명의 바람직한 또 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 폭을 2 배 증가시킬 수 있는 자기장에 의한 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면으로,
나뭇잎 모양의 제1전극(23a)과, 제1전극(23a) 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극(23b)을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극(23c, 23d, 23e, 23f)을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 또한 제2전 극(23b) 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제3전극(33)을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극(23g, 23h, 23i, 23j)을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극(23a)에 다이오드(32)의 한 극성을 통과한 반파 파형의 전압(65)을 인가하고, 상기 제2전극(23b)은 공통 전극으로 고압 트랜스(31)의 다른 한쪽에 연결하고, 180도 위상차를 갖도록 제3전극(33)에 다른 다이오드(37)의 다른 극성을 통과한 다른 반파 파형의 전압(66)을 인가하고(도6 참조), 상기 전극 배열에 수직하게 자기장(42)을 인가하여 전자기력으로 플라즈마(63)가 추진하도록 구성된다.
상기 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 동작을 설명하면, 플라즈마가 발생되는 형상의 설명은 도 3에서의 설명과 같으며, 단지 송풍이 아닌 전자기력에 의한 플라즈마 추력이 발생되는 부분이 차이를 갖는다. 플라즈마 발생 폭을 두 배로 발생시키면서, 흔들리지 않는 깨끗한 플라즈마 발생 모습을 나타낼 수 있는 플라즈마 발생장치이다.
상기 발명에서 작업가스는 모든 종류의 가스를 사용할 수 있다.
이상의 본 발명은 상기에 기술된 실시예들에 의해 한정되지 않고, 당업자들에 의해 다양한 변형 및 변경을 가져올 수 있으며, 이는 첨부된 청구항에서 정의되는 본 발명의 취지와 범위에 포함된다.
도 1은 종래 기술에 따른 글라이딩 아크 플라즈마 발생장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면.
도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 송풍에 의한 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면.
도 3은 본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따른 플라즈마 발생 폭을 2 배 증가시킬 수 있는 송풍에 의한 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면.
도 4는 본 발명의 바람직한 또 다른 실시예에 따른 자기장에 의한 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 단면 구성을 개략적으로 나타내는 도면.
도 5는 도 4의 작동 원리를 설명하기 위한 평면 구성을 개략적으로 나타내는 도면.
도 6은 본 발명의 바람직한 또 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 폭을 2 배 증가시킬 수 있는 자기장에 의한 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
1 : 제1칼날 전극 2 : 제2칼날 전극
3 : 플라즈마 4 : 바람
21 : 용기 22 : 송풍기
23a : 제1전극 23b : 제2전극
23c, 23d, 23e, 23f, 23g, 23h, 23i, 23j : 플로팅 유도전극
24 : 플라즈마 31 : 고압 트랜스
32, 37 : 고압 다이오드 33 : 제3전극
34 : 작업가스 흐름
35 : 제1전극과 제2전극 사이에 걸리는 반파 전압 파형
36 : 제2전극과 제3전극 사이에 걸리는 반파 전압 파형
41a, 41b : 자석 42 : 자기장 방향
44 :전자기력에 의해 토출되는 플라즈마
51 : 전기장 방향 52 : 플라즈마 발생 방향
53 : 인가된 전파전압 파형 61, 62 : 전기장 방향
63, 64 : 플라즈마 발생 방향
65 : 제1전극과 제2전극 사이에 걸리는 반파 전압 파형
66 : 제2전극과 제3전극 사이에 걸리는 반파 전압 파형

Claims (4)

  1. 나뭇잎 모양의 제1전극과, 상기 제1전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅(Floating) 유도전극을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극과 제2전극에 교류를 인가하며, 상기 전극들을 용기로 감싸고 용기 안으로 작업 가스를 송풍하여 플라즈마가 발생하도록 구성된 것을 특징으로 하는 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치.
  2. 나뭇잎 모양의 제1전극과, 상기 제1전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 또한 상기 제2전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제3전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극에 다이오드의 한 극성을 통과한 반파 파형의 전압을 인가하고, 상기 제2전극은 공통 전극으로 고압 트랜스의 다른 한쪽에 연결하고, 180도 위상차를 갖도록 제3전극에 다른 다이오드의 다른 극성을 통과한 다른 반파 파형의 전압을 인가하고, 상기 전극들을 용기로 감싸고 용기 안으로 작업 가스를 송풍하여 플라즈마가 발생하도록 구성된 것을 특징으로 하는 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치.
  3. 나뭇잎 모양의 제1전극과, 상기 제1전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극과 제2전극에 전파 전압 파형을 인가하며, 상기 전극 배열에 수직하게 자기장을 인가하여 전자기력으로 플라즈마가 추진 발생하도록 구성된 것을 특징으로 하는 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치.
  4. 나뭇잎 모양의 제1전극과, 상기 제1전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제2전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 또한 상기 제2전극 측면으로부터 일정 거리 떨어져 나뭇잎 모양의 제3전극을 설치하고, 그 사이에 나뭇잎 모양의 플로팅 유도전극을 일정 간격으로 하나 이상 다중 배치하고, 상기 제1전극에 다이오드의 한 극성을 통과한 반파 파형의 전압을 인가하고, 상기 제2전극은 공통 전극으로 고압 트랜스의 다른 한쪽에 연결하고, 180도 위상차를 갖도록 제3전극에 다른 다이오드의 다른 극성을 통과한 다른 반파 파형의 전압을 인가하고, 상기 전극 배열에 수직하게 자기장을 인가하여 전자기력으로 플라즈마가 추진하도록 구성된 것을 특징으로 하는 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치.
KR1020090102584A 2009-10-28 2009-10-28 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치 KR101118359B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090102584A KR101118359B1 (ko) 2009-10-28 2009-10-28 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090102584A KR101118359B1 (ko) 2009-10-28 2009-10-28 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110045852A true KR20110045852A (ko) 2011-05-04
KR101118359B1 KR101118359B1 (ko) 2012-03-09

Family

ID=44240847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090102584A KR101118359B1 (ko) 2009-10-28 2009-10-28 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101118359B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101587724B1 (ko) * 2014-06-30 2016-01-22 재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원 상압 플라즈마 발생 장치 및 이를 포함하는 분말 처리 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR101118359B1 (ko) 2012-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6277493B2 (ja) プラズマ発生装置
Lu et al. Atmospheric pressure nonthermal plasma sources
US20170232132A1 (en) Flexible Electrode Assembly For Plasma Generation And Air Treatment System Including The Flexible Electrode Assembly
US10283327B2 (en) Apparatus and methods for generating reactive gas with glow discharges
US8097217B2 (en) Atmospheric pressure plasma generating apparatus by induction electrode
FR2611132B1 (fr) Bistouri a plasma
US9572241B1 (en) Devices for creating non-thermal plasma and ozone
US20130064710A1 (en) Plasma apparatus for biological decontamination and sterilization and method for use
RU2009131534A (ru) Устройство для плазменной обработки
US10342112B2 (en) Satellite-shaped flexible plasma generator
ES2361157T3 (es) Dispositivo de generación de iones, generador iónico que tiene un dispositivo generador de iones y aparato eléctrico que tiene un generador iónico.
KR101118359B1 (ko) 다중 플로팅 유도전극에 의한 상압 플라즈마 발생장치
KR100761962B1 (ko) 상압 플라즈마 발생장치
KR100606451B1 (ko) 상압 플라즈마 발생장치
JP2019507943A (ja) 非熱的大気圧プラズマを生成する装置および方法
Yambe et al. Experimental study on focusing multiple atmospheric-pressure plasma jets
JP4772759B2 (ja) ディフューザ
KR100485816B1 (ko) 상압 플라즈마 발생장치
KR100591343B1 (ko) 살균 모듈 장치
KR200427719Y1 (ko) 상압 플라즈마 발생장치
Laroussi et al. Cold atmospheric pressure plasma sources for cancer applications
JP2011231928A (ja) ディフューザ
KR101281543B1 (ko) 플라즈마 공기 정화 장치
JP3589453B2 (ja) 位相制御多電極型交流放電光源
JP5766739B2 (ja) ディフューザ

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150211

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee