KR20110044417A - Method and apparatus for measuring transmittance - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: Method and apparatus for measuring transmittance are provided to measure the transmittance of a ceramic sample by sensing vacuum change according to the transmitting of gas through the ceramic sample. CONSTITUTION: A method for measuring transmittance comprises next steps. A cap is formed on the edge of a ceramic sample using epoxy resin. The ceramic sample is arranged between a high-pressure chamber and a vacuum chamber, which are arranged so that the openings of the chambers face each other. One or more of the chambers move. The openings of the chambers make tight contact with both sides of the cap of the ceramic sample. An airtight state is formed for the chambers. Gas is supplied to the high-pressure chamber so that a predetermined level of high pressure is made. Gas is pumped so that a predetermined level of vacuum state is made.

Description

투과도 측정 방법 및 장치{Method and apparatus for measuring transmittance}Method and apparatus for measuring transmittance

본 발명은 투과도 측정 방법 및 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 세라믹과 같은 시료의 투과도를 측정하기 위한 방법과 상기 방법에 의하여 시료의 투과도를 측정하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method and apparatus for measuring permeability, and more particularly, to a method for measuring the permeability of a sample such as a ceramic and an apparatus for measuring the permeability of a sample by the method.

세라믹은 금속재료 및 유기 재료에 비하여 내식성, 내열성 및 내마모성 등이 우수하며 다양한 전자기적 기능, 기계적 기능 및 광학적 기능 등을 갖는다.Ceramics have excellent corrosion resistance, heat resistance, and abrasion resistance compared to metal materials and organic materials, and have various electromagnetic functions, mechanical functions, and optical functions.

세라믹에 대한 물성 측정은 측정하고자 하는 물성에 따라 다양한 방법으로 실행될 수 있으며, 대표적으로 강도, 밀도, 인성 등의 물성이 용도에 따라 측정될 수 있다.Measurement of physical properties of the ceramic can be carried out in a variety of ways depending on the physical properties to be measured, typically physical properties such as strength, density, toughness can be measured depending on the application.

도자기(porcelain)와 같은 세라믹은 옹기와 장독과 같은 저장용기 등으로 많이 이용될 수 있으며, 이 경우 세라믹은 수용되는 내용물의 저장성을 개선하기 위하여 양호한 상태의 기체의 투과도가 확보되어야 한다.Ceramics such as porcelain (porcelain) can be used a lot of storage containers such as onggi and poisonous, in this case, the ceramic must be ensured permeability of the gas in a good state in order to improve the storage of the contents contained therein.

따라서, 세라믹에 대한 기체의 투과도를 평가하는 방법과 투과도 측정을 위한 장치의 제시가 필요한 실정이다.Therefore, there is a need to present a method for evaluating gas permeability to ceramics and an apparatus for measuring permeability.

본 발명은 옹기나 장독과 같은 물품으로 제작되는 세라믹 시료에 대한 투과도를 측정하는 방법을 제공함을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method for measuring the transmittance of a ceramic sample made of an article such as onggi or long poisoning.

본 발명은 기체의 투과도를 측정하기 위하여 세라믹 시료의 양면에 고압과 진공을 형성하여 세라믹 시료를 통한 기체의 투과에 따른 고압과 진공의 변화를 센싱하여 투과도를 측정하는 방법과 장치를 제공함을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method and apparatus for measuring the permeability by forming a high pressure and a vacuum on both sides of the ceramic sample in order to measure the permeability of the gas to sense the change in high pressure and vacuum in accordance with the permeation of the gas through the ceramic sample. do.

본 발명에 따른 투과도 측정 방법은, 세라믹 시료의 테두리에 에폭시 수지로 캡을 형성하는 단계, 개방된 면이 서로 바라보게 배치되는 고압 챔버와 진공 챔버 사이에 상기 세라믹 시료를 배치하는 단계, 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 중 적어도 하나 이상을 이동시켜서 상기 세라믹 시료의 상기 캡의 양쪽에 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버의 개방된 면을 압착시킴으로써 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버에 대한 기밀 상태를 형성하는 단계, 상기 고압 챔버에 미리 정해진 수준의 고압을 이루도록 가스를 공급하는 단계, 상기 진공 챔버에 미리 정해진 수준의 진공을 이루도록 가스를 펌핑하는 단계 및 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버가 미리 정 해진 수준의 상기 고압과 상기 진공에 도달하면 상기 가스의 공급과 펌핑을 중지하고 상기 고압 챔버 내의 가스가 상기 세라믹 시료를 투과하여 상기 진공 챔버로 이동함에 따른 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내의 압력 변화를 정해진 시간동안 센싱하는 단계를 포함한다.According to the present invention, a method of measuring transmittance may include forming a cap with an epoxy resin on an edge of a ceramic sample, arranging the ceramic sample between a high pressure chamber and a vacuum chamber in which the open surfaces face each other, and the high pressure chamber. Moving at least one of the vacuum chamber and compressing the open surfaces of the high pressure chamber and the vacuum chamber to both sides of the cap of the ceramic sample to form an airtight state for the high pressure chamber and the vacuum chamber, Supplying gas to the high pressure chamber to achieve a predetermined level of high pressure, pumping the gas to achieve a predetermined level of vacuum to the vacuum chamber, and the high pressure chamber and the vacuum chamber to the predetermined level of the high pressure and When the vacuum is reached, the supply and pumping of the gas is stopped and the high pressure chamber Of a step of the gas is sensed for a time given the change in pressure in the vacuum chamber and the high-pressure chamber resulting from the sample passes through the ceramic moving in the vacuum chamber.

본 발명에 따른 투과도 측정 방법은, 세라믹 시료의 일 면에 고압을 형성하고 반대 면에 진공을 형성하는 단계 및 상기 세라믹 시료의 고압이 형성된 상기 일 면에서 진공이 형성된 상기 반대 면으로 가스가 투과함에 따라 변화되는 상기 세라믹 시료의 양면 쪽의 압력을 정해진 시간동안 센싱하는 단계를 포함한다.The method of measuring permeability according to the present invention includes forming a high pressure on one side of a ceramic sample and forming a vacuum on the opposite side, and gas permeating from the one side on which the high pressure of the ceramic sample is formed to the opposite side on which the vacuum is formed. Sensing the pressure on both sides of the ceramic sample to be changed according to a predetermined time.

여기에서, 상기 고압은 공기, 질소 가스, 아르곤 가스 및 수소 가스 중 적어도 하나 이상이 공급되어 형성될 수 있으며, 1000 Torr 내지 1100 Torr의 범위로 형성될 수 있다.Here, the high pressure may be formed by supplying at least one of air, nitrogen gas, argon gas and hydrogen gas, and may be formed in the range of 1000 Torr to 1100 Torr.

그리고, 상기 진공은 0.1 Torr 내지 0.05 Torr의 범위로 형성될 수 있다.The vacuum may be formed in a range of 0.1 Torr to 0.05 Torr.

상기 센싱은 바라트론(Baratron) 게이지를 이용하여 수행될 수 있으며, 압력 측정을 위한 디지털 게이지를 더 이용할 수 있다.The sensing may be performed using a Baratron gauge, and may further use a digital gauge for pressure measurement.

본 발명에 따른 투과도 측정 장치는, 고압의 가스를 공급하여 고압을 제공하며 상기 가스를 공급하는 라인 중에 고압 센싱용 제1 바라트론(Baratron) 게이지를 구비하는 고압 제공 장치, 펌핑에 의하여 진공을 제공하며 펌핑 라인 중에 진공 센싱용 제2 바라트론 게이지를 구비하는 진공 제공 장치, 세라믹 시료의 일면과 밀착되는 제1 개방면을 가지며 상기 고압 제공 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 일면에 고압을 형성하는 고압 챔버, 상기 세라믹 시료가 배치되는 제2 개방면을 가지며 상기 진공 형성 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 다른 일면에 진공을 형성하는 진공 챔버 및 상기 제1 및 제2 개방면이 서로 마주하도록 이격 배치되는 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버를 지지하며 상기 제1 및 상기 제2 개방면이 이들 사이에 배치되는 세라믹 시료와 접하여 기밀 상태가 유지되도록 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버 중 적어도 어느 하나를 직선 왕복시키는 고정 장치를 포함하고, 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력차에 의하여 상기 가스가 상기 세라믹 시료를 투과함에 따라 발생되는 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력 변화를 상기 제1 및 제2 바라트론 게이지로 센싱한다.A device for measuring permeability according to the present invention provides a high pressure by supplying a gas of high pressure, and a high pressure providing device having a first Baratron gauge for high pressure sensing in a line supplying the gas, and providing a vacuum by pumping And a high pressure chamber for forming a high pressure on one surface of the ceramic sample by the high pressure providing device, the vacuum providing device having a second baratrone gauge for vacuum sensing in the pumping line, and having a first open surface in close contact with one surface of the ceramic sample. And a vacuum chamber for forming a vacuum on the other surface of the ceramic sample by the vacuum forming apparatus and the first and second opening surfaces spaced apart from each other so as to face each other. A ceramic sample supporting the chamber and the vacuum chamber and having the first and second open surfaces disposed therebetween; And a fixing device for linearly reciprocating at least one of the high pressure chamber and the vacuum chamber so as to be in contact with the airtight state, and the gas penetrates the ceramic sample by a pressure difference between the high pressure chamber and the vacuum chamber. The generated pressure changes in the high pressure chamber and the vacuum chamber are sensed by the first and second baratlon gauges.

여기에서, 상기 고압 제공 장치는, 고압의 가스가 수용된 적어도 하나 이상의 가스 용기, 상기 가스 용기에서 공급되는 가스가 충진되는 제1 버퍼 챔버, 상기 가스 용기와 상기 제1 버퍼 챔버 사이를 연결하는 제1 배관 상에 형성되는 제1 밸브, 상기 제1 버퍼 챔버와 상기 고압 챔버 사이를 연결하는 제2 배관 상에 형성되는 제2 밸브, 상기 제1 버퍼 챔버에 설치되는 상기 제1 바라트론 게이지; 및 상기 제1 버퍼 챔버와 상기 제2 밸브 사이의 상기 제2 배관에 설치되는 제1 디지털 게이지를 포함하며, 상기 고압 챔버로 가스를 공급하기 위하여 상기 제1 및 제2 밸브가 열리고, 상기 센싱을 위하여 상기 제1 밸브는 닫히고 상기 제2 밸브는 열린 상태를 유지할 수 있다.The apparatus for providing high pressure may include at least one gas container containing a high pressure gas, a first buffer chamber filled with a gas supplied from the gas container, and a first connecting the gas container with the first buffer chamber. A first valve formed on a pipe, a second valve formed on a second pipe connecting between the first buffer chamber and the high pressure chamber, and the first baratrone gauge installed on the first buffer chamber; And a first digital gauge installed in the second pipe between the first buffer chamber and the second valve, wherein the first and second valves are opened to supply gas to the high pressure chamber, and the sensing is performed. In order to do so, the first valve may be closed and the second valve may remain open.

상기 가스 용기는 공기, 질소 가스, 아르곤 가스 및 수소 가스 중 어느 하나를 수용함이 바람직하다.The gas container preferably contains any one of air, nitrogen gas, argon gas and hydrogen gas.

그리고, 상기 가스 용기는 상기 제1 밸브에 대하여 병렬로 둘 이상 연결되 며, 각 가스 용기는 공기, 질소 가스, 아르곤 가스 및 수소 가스 중 어느 하나를 수용하며 서로 다른 가스를 수용할 수 있다.In addition, two or more gas containers may be connected in parallel with respect to the first valve, and each gas container may accommodate any one of air, nitrogen gas, argon gas, and hydrogen gas, and may receive different gases.

그리고, 상기 고압 제공 장치는 1000 Torr 내지 1100 Torr의 범위로 상기 고압 챔버에 상기 고압을 제공할 수 있다.In addition, the high pressure providing device may provide the high pressure to the high pressure chamber in the range of 1000 Torr to 1100 Torr.

그리고, 상기 진공 제공 장치는, 상기 가스를 펌핑하는 진공 펌프, 상기 진공 챔버에서 펌핑되는 가스가 충진되는 제2 버퍼 챔버, 상기 진공 펌프와 상기 제2 버퍼 챔버 사이를 연결하는 제3 배관 상에 형성되는 제3 밸브, 상기 제2 버퍼 챔버와 상기 진공 챔버 사이를 연결하는 제4 배관 상에 형성되는 제4 밸브, 상기 제2 버퍼 챔버에 설치되는 제2 바라트론 게이지 및 상기 제2 버퍼 챔버와 상기 제4 밸브 사이의 상기 제4 배관에 설치되는 제2 디지털 게이지를 포함하며, 상기 진공 챔버에서 가스를 펌핑하기 위하여 상기 제3 및 제4 밸브가 열리고 상기 센싱을 위하여 상기 제3 밸브는 닫히고 상기 제4 밸브는 열린 상태를 유지할 수 있다.The vacuum providing apparatus may be formed on a vacuum pump for pumping the gas, a second buffer chamber filled with the gas pumped in the vacuum chamber, and a third pipe connecting the vacuum pump and the second buffer chamber. A third valve, a fourth valve formed on a fourth pipe connecting between the second buffer chamber and the vacuum chamber, a second baratrone gauge installed in the second buffer chamber, and the second buffer chamber and the And a second digital gauge installed in the fourth pipe between the fourth valves, wherein the third and fourth valves are opened to pump gas in the vacuum chamber and the third valve is closed and the third valve is closed for sensing. 4 The valve can remain open.

여기에서, 상기 진공 제공 장치는 0.1 Torr 내지 0.05 Torr의 범위로 상기 진공을 형성할 수 있다.Here, the vacuum providing device may form the vacuum in the range of 0.1 Torr to 0.05 Torr.

그리고, 상기 고압 챔버는, 원통형상을 가지며 상기 제1 개방면이 형성되고 측면에 가스의 공급을 위한 제1 관통구가 형성되는 제1 챔버 및 링 형상을 가지며 상기 제1 챔버의 상기 제1 개방면의 입구에 삽입되고 상기 제1 챔버의 입구와 접하는 면과 상기 세라믹 시료와 접하는 이면에 각각 제1 오링들이 설치되는 제1 개스킷을 포함할 수 있다.The high pressure chamber has a cylindrical shape, a first chamber in which the first opening surface is formed, and a first through hole for supplying gas to a side surface thereof, and a ring shape, and the first dog of the first chamber. The first gasket may include a first gasket inserted into an inlet of the first surface and provided with first o-rings on a rear surface of the first chamber and a rear surface of the first chamber.

그리고, 상기 진공 챔버는, 원통형상을 가지며 상기 제2 개방면이 형성되고 측면에 진공 펌핑을 위한 제2 관통구가 형성되는 제2 챔버 및 링 형상을 가지며 상기 제2 챔버의 상기 제2 개방면의 입구에 삽입되고 상기 제2 챔버의 입구와 접하는 면과 상기 세라믹 시료와 접하는 이면에 각각 제2 오링들이 설치되는 제2 개스킷을 포함할 수 있다.The vacuum chamber has a cylindrical shape, a second chamber in which the second opening surface is formed, and a second through hole for vacuum pumping is formed on a side surface, and the second opening surface of the second chamber is formed. A second gasket may be inserted into an inlet of the second gasket and provided with second o-rings respectively provided on a surface of the second chamber and in contact with the inlet of the second chamber.

그리고, 상기 고정 장치는, 직선 방향으로 인출 및 수축 가능하고 일단이 상기 진공 챔버에 고정되며 상기 진공 챔버에 대하여 복수 개 설치되는 제1 유동 실린더들이 설치되는 제1 수직 패널, 직선 방향으로 인출 및 수축 가능하고 일단이 상기 고압 챔버에 고정되며 상기 고압 챔버에 대하여 복수 개 설치되는 제2 유동 실린더들이 설치되고 중앙에 나사가 형성된 제3 관통공이 형성되는 제2 수직 패널, 상기 제1 및 제2 수직 패널의 서로 대응되는 모서리들 사이에 배치되어서 길이 방향 양단이 상기 제1 및 제2 수직 패널과 결합되는 수평 빔들, 상기 제1 유동 실린더에 끼워져서 상기 진공 챔버에 탄성력을 제공하는 스프링들, 상기 고압 챔버와 접하는 쪽이 넓은 제4 관통공이 중앙에 형성되고 상기 제4 관통공에 베어링이 결합되며 상기 제2 유동 실린더들의 단부와 상기 고압 챔버 사이에 고정되는 회전지지판 및 측면에 상기 제3 관통구와 치합되는 나사가 형성되고 일단이 상기 베어링에 결합되어 상기 제2 수직패널의 상기 제3 관통공을 관통하여 소정 길이 돌출되는 샤프트 및 상기 샤프트의 타단에 구성되는 손잡이를 포함하며 상기 손잡이의 회전에 의하여 상기 샤프트와 상기 제2 수직 패널의 상기 제3 관통공 간의 치합에 의하여 상기 직선 방향 구동력이 발생하여 상기 고압 챔버를 구동하는 구동부를 포함할 수 있다.In addition, the fixing device is a first vertical panel which can be pulled out and shrunk in a linear direction, one end of which is fixed to the vacuum chamber and a plurality of first flow cylinders are installed with respect to the vacuum chamber, and withdraws and shrunks in a straight direction. A second vertical panel, the first and second vertical panels capable of being fixed in the high pressure chamber and having a plurality of second flow cylinders installed with respect to the high pressure chamber and having a third through-hole formed in the center thereof; Horizontal beams disposed between corresponding edges of the horizontal beams, the both ends of which are longitudinally coupled with the first and second vertical panels, springs fitted into the first flow cylinder to provide elastic force to the vacuum chamber, the high pressure chamber A fourth through hole having a wider side in contact with the bearing is coupled to the fourth through hole, and the second flow cylinders are coupled to the fourth through hole. A rotating support plate fixed between an end portion and the high pressure chamber and a screw to be engaged with the third through hole are formed at one side thereof, and one end thereof is coupled to the bearing to protrude a predetermined length through the third through hole of the second vertical panel. A shaft and a handle configured at the other end of the shaft, wherein the linear driving force is generated by the engagement between the shaft and the third through hole of the second vertical panel by rotation of the handle to drive the high pressure chamber. It may include a driving unit.

또한, 상기 세라믹 시료는 테두리에 에폭시 수지로 캡을 형성하여서 상기 고압 챔버의 상기 제1 개방면과 상기 진공 챔버의 상기 제2 개방면 사이에 배치될 수 있다.In addition, the ceramic sample may be disposed between the first opening surface of the high-pressure chamber and the second opening surface of the vacuum chamber by forming a cap with an epoxy resin on the rim.

따라서, 본 발명에 의하면 옹기나 장독과 같은 물품으로 제작되는 세라믹 시료에 대한 투과도를 측정함에 있어서, 세라믹 시료의 양면에 고압과 진공을 형성하여 세라믹 시료를 통한 기체의 투과에 따른 고압과 진공의 변화를 센싱하여 투과도를 측정함으로써 세라믹 시료에 대한 투과도를 손쉽게 구할 수 있다.Therefore, according to the present invention, in measuring the permeability of a ceramic sample made of an article such as onggi or long venom, high pressure and vacuum are formed on both sides of the ceramic sample to change the high pressure and vacuum according to the permeation of gas through the ceramic sample. By measuring the transmittance by sensing the transmittance to the ceramic sample can be easily obtained.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments are provided to those skilled in the art to fully understand the present invention, and may be modified in various forms, and the scope of the present invention is limited to the embodiments described below. It doesn't happen. Like numbers refer to like elements in the figures.

본 발명에 따른 투과도 측정 방법은 도 1 내지 도 12에 도시된 장치를 이용하여 수행되며, 세라믹 시료(100)의 양 면 중 고압이 형성된 면으로부터 진공이 형성된 면으로 기체가 투과함에 따라서 양 면의 압력이 변화되는 것을 센싱함으로써 투과도를 측정하는 방법을 제시한다.The method of measuring permeability according to the present invention is performed by using the apparatus shown in FIGS. 1 to 12, and both sides of the ceramic sample 100 are formed as the gas permeates from the surface where the high pressure is formed to the surface where the vacuum is formed. We present a method of measuring permeability by sensing changes in pressure.

이를 위하여 본 발명에 따른 실시예는 먼저 세라믹 시료(100)의 일 면에 고압을 형성하고 반대 면에 진공을 형성하는 단계와, 상기 고압과 진공이 형성된 후 상기 세라믹 시료(100)의 고압이 형성된 상기 일 면에서 진공이 형성된 상기 반대 면으로 가스가 투과함에 따라 변화되는 상기 세라믹 시료의 양면 쪽의 압력을 정해진 시간동안 센싱하는 단계를 포함한다.To this end, an embodiment according to the present invention first forms a high pressure on one surface of the ceramic sample 100 and a vacuum on the opposite surface, and after the high pressure and the vacuum is formed, the high pressure of the ceramic sample 100 is formed And sensing pressure on both sides of the ceramic sample for a predetermined time, which changes as gas passes through the opposite side where the vacuum is formed on the one side.

보다 구체적으로 본 발명에 따른 투과도 측정 방법을 설명한다.More specifically, the method of measuring transmittance according to the present invention will be described.

본 발명에 따른 실시예는 세라믹 시료(100)의 테두리에 에폭시 수지로 캡(102)을 형성한다. 그리고 캡(102)이 형성된 세라믹 시료는 개방된 면이 서로 바라보게 배치되는 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70) 사이에 배치된다.In the embodiment of the present invention, the cap 102 is formed of an epoxy resin on the edge of the ceramic sample 100. The ceramic sample on which the cap 102 is formed is disposed between the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70 in which the open surfaces face each other.

세라믹 시료(100)가 배치된 후 상기 고압 챔버(50)를 구동시켜서 직선 방향으로 이동시키고 고압 챔버(50)의 구동에 의하여 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70) 사이에 세라믹 시료(100)가 압착된다. 이때 기밀성을 높이기 위하여 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70)의 개방된 면은 세라믹 시료(100)와 직접 맞닿지 않고 캡(102)의 양쪽에 압착되며, 그에 따라 고압 챔버(50)의 개방된 면과 진공 챔버(70)의 개방된 면은 세라믹 시료(100)에 의하여 기밀 상태를 유지한다.After the ceramic sample 100 is disposed, the high pressure chamber 50 is driven to move in a linear direction, and the ceramic sample 100 is driven between the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70 by driving the high pressure chamber 50. Is compressed. At this time, in order to increase the airtightness, the open surfaces of the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70 are compressed on both sides of the cap 102 without directly contacting the ceramic sample 100, thereby opening the high pressure chamber 50. The opened surface and the open surface of the vacuum chamber 70 are kept airtight by the ceramic sample 100.

그 후, 세라믹 시료(100)의 일면 즉 고압 챔버(50)가 밀착된 면 쪽에 미리 정해진 수준의 고압이 형성되도록 고압 챔버(50) 내부에 가스가 공급된다. 이와 동시에 세라믹 시료(100)의 다른 일면 즉 진공 챔버(70)가 밀착된 면 쪽에 미리 정해진 수준의 진공이 형성되도록 진공 챔버(70) 내부의 가스가 펌핑된다.Thereafter, gas is supplied into the high pressure chamber 50 so that a predetermined level of high pressure is formed on one surface of the ceramic sample 100, that is, the surface on which the high pressure chamber 50 is in close contact. At the same time, the gas inside the vacuum chamber 70 is pumped so that a predetermined level of vacuum is formed on the other surface of the ceramic sample 100, that is, the surface on which the vacuum chamber 70 is in close contact.

고압 챔버(50)와 진공 챔버(70)가 미리 정해진 수준의 고압과 진공에 도달하면 가스의 공급과 펌핑이 중지되고, 고압 챔버(50) 내의 가스가 상기 세라믹 시료(100)를 투과하여 진공 챔버(70)로 이동함에 따른 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70) 내의 압력 변화를 정해진 시간동안 센싱한다.When the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70 reach a predetermined level of high pressure and vacuum, the supply and pumping of the gas is stopped, and the gas in the high pressure chamber 50 penetrates the ceramic sample 100 and the vacuum chamber The pressure change in the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70 as the movement to 70 is sensed for a predetermined time.

고압을 제공하기 위하여 공급되는 가스는 공기, 질소 가스, 아르곤 가스 및 수소 가스 중 적어도 하나 이상이 선택될 수 있으며, 고압을 이루는 압력은 1000 Torr 내지 1100 Torr의 범위로 형성될 수 있다.The gas supplied to provide the high pressure may be selected from at least one of air, nitrogen gas, argon gas, and hydrogen gas, and the pressure forming the high pressure may be in the range of 1000 Torr to 1100 Torr.

그리고, 진공은 0.1 Torr 내지 0.05 Torr의 범위의 압력으로 형성될 수 있다.And, the vacuum may be formed at a pressure in the range of 0.1 Torr to 0.05 Torr.

상술한 고압과 진공은 통상적으로 압력을 측정하는데 이용되는 바라트론 게이지(22, 42)를 이용하여 측정될 수 있다. 그리고, 바라트론 게이지의 정상적인 작동을 비교하기 위하여 디지털 게이지(24, 44)가 더 추가되어 이용될 수 있다.The high pressures and vacuums described above can be measured using baratron gauges 22 and 42 which are typically used to measure pressure. In addition, digital gauges 24 and 44 may be further used to compare the normal operation of the baratrone gauge.

상술한 방법으로 수행되는 투과도 측정 방법을 수행하기 위한 장치는 도 1 내지 도 12와 같이 구성될 수 있으며, 세라믹 시료(100)의 양면에 고압과 진공을 형성한 후 센싱은 도 13을 참조하여 설명될 수 있다.The apparatus for performing the method of measuring the transmittance performed by the above-described method may be configured as shown in FIGS. 1 to 12. After forming a high pressure and a vacuum on both surfaces of the ceramic sample 100, sensing is described with reference to FIG. 13. Can be.

먼저, 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 투과도 측정 장치는 고압 제공 장치(200), 진공 제공 장치(300), 고압 챔버(50), 진공 챔버(70) 및 고정 장치(400)를 포함한다.First, referring to FIG. 1, a device for measuring transmittance according to the present invention includes a high pressure providing device 200, a vacuum providing device 300, a high pressure chamber 50, a vacuum chamber 70, and a fixing device 400. .

고압 제공 장치(200)는 가스 용기(10), 밸브들(12 내지 18), 버퍼 챔버(20), 바라트론 게이지(22), 디지털 게이지(24), 및 이들 간을 연결하는 배관을 포함할 수 있다.The high pressure providing device 200 may include a gas container 10, valves 12 to 18, a buffer chamber 20, a baratrone gauge 22, a digital gauge 24, and a pipe connecting them. Can be.

먼저, 가스 용기(10)와 버퍼 챔버(20) 사이에는 각 가스 용기(10)에 설치되는 밸브(12, 14) 및 밸브(12, 14)가 연결된 배관이 병렬로 연결되는 밸브(16)가 구성된다. 여기에서, 밸브(12, 14)는 가스 용기(10)의 개폐를 위하여 동작하는 밸브이며, 밸브(16)는 가스 용기(10)로부터 공급되는 가스를 버퍼 챔버(20)로 공급하기 위하여 개폐되는 밸브이다. 여기에서, 밸브(16)는 솔레노이드 밸브로 구성될 수 있다.First, between the gas container 10 and the buffer chamber 20, the valves 12 and 14 installed in each gas container 10 and the valve 16 to which the pipes to which the valves 12 and 14 are connected are connected in parallel are provided. It is composed. Here, the valves 12 and 14 are valves that operate to open and close the gas container 10, and the valve 16 is opened and closed to supply gas supplied from the gas container 10 to the buffer chamber 20. Valve. Here, the valve 16 may be composed of a solenoid valve.

그리고, 버퍼 챔버(20)와 고압 챔버(50) 사이의 배관에는 밸브(18)가 구성되며, 밸브(18)는 솔레노이드 밸브로 구성될 수 있다.In addition, a valve 18 may be configured in the pipe between the buffer chamber 20 and the high pressure chamber 50, and the valve 18 may be configured as a solenoid valve.

그리고, 버퍼 챔버(20)에는 바라트론 게이지(22)가 구성될 수 있으며, 버퍼 챔버(20)와 밸브(18) 사이의 배관에는 디지털 게이지(24)가 구성될 수 있다. 여기에서 바라트론 게이지(22)는 하나 이상 구성될 수 있으며, 두 개의 바라트론 게이지(22)를 구성하는 경우 하나는 고압 측정을 위한 메인 게이지이며 다른 하나는 고장 및 측정 상태의 정확도를 평가하기 위한 백업용 게이지이다. 그리고, 디지털 게이지(24)는 바라트론 게이지(22)가 정상적으로 동작하는지 모니터링하기 위한 용도로 이용될 수 있으며, 고압 수치를 디지털로 디스플레이하기 위하여 이용되는 것이다.In addition, the baratron gauge 22 may be configured in the buffer chamber 20, and the digital gauge 24 may be configured in the piping between the buffer chamber 20 and the valve 18. Here, one or more baratron gauges 22 may be configured. When two baratron gauges 22 are configured, one is a main gauge for high pressure measurement and the other is for evaluating the accuracy of failure and measurement conditions. This is a backup gauge. In addition, the digital gauge 24 may be used to monitor whether the baratrone gauge 22 operates normally, and is used to digitally display a high pressure value.

상술한 바에서, 가스 용기(10)는 공기, 질소 가스, 아르곤 가스 및 수소 가스 중 어느 하나를 수용하는 것이 설치될 수 있으며, 서로 다른 가스를 수용하는 가스 용기(10)가 밸브(16)에 대하여 병렬로 둘 이상 연결될 수 있다. 둘 이상의 다 른 가스를 병렬로 연결하는 경우 밸브(12, 14)에 각각 가스 용기(10)가 연결될 수 있다.As described above, the gas container 10 may be installed to receive any one of air, nitrogen gas, argon gas, and hydrogen gas, and the gas container 10 containing different gases may be installed in the valve 16. More than one can be connected in parallel. When two or more different gases are connected in parallel, the gas containers 10 may be connected to the valves 12 and 14, respectively.

그리고, 가스 용기(10)는 가스를 고압 상태로 수용하는 것이며, 고압으로 수용된 가스를 공급함으로써 고압 챔버(50)에 1000 Torr 내지 1100 Torr의 범위로 고압을 제공할 수 있다.In addition, the gas container 10 accommodates the gas in a high pressure state, and may supply a high pressure to the high pressure chamber 50 in the range of 1000 Torr to 1100 Torr by supplying the gas contained at a high pressure.

한편, 진공 제공 장치(300)는 진공 펌프(30), 밸브들(32 내지 36), 버퍼 챔버(40), 바라트론 게이지(42), 디지털 게이지(44), 및 이들 간을 연결하는 배관을 포함할 수 있다.Meanwhile, the vacuum providing device 300 includes a vacuum pump 30, valves 32 to 36, a buffer chamber 40, a baratrone gauge 42, a digital gauge 44, and pipes connecting them. It may include.

먼저, 진공 펌프(30)와 버퍼 챔버(40) 사이에는 밸브들(32, 34)이 배관 상에 구성되며, 밸브(32)는 진공 펌프(30)로 배관을 개폐하는 메인 밸브이고, 밸브(34)는 버퍼 챔버(40)와 진공 펌프(30) 간을 개폐하는 밸브이다. 여기에서 밸브(34)는 솔레노이드 밸브로 구성될 수 있다.First, valves 32 and 34 are configured on the pipe between the vacuum pump 30 and the buffer chamber 40. The valve 32 is a main valve for opening and closing the pipe with the vacuum pump 30. 34 is a valve for opening and closing between the buffer chamber 40 and the vacuum pump 30. Here, the valve 34 may be configured as a solenoid valve.

그리고, 버퍼 챔버(40)와 진공 챔버(70) 사이의 배관에는 밸브(36)가 구성되며, 밸브(36)는 솔레노이드 밸브로 구성될 수 있다.In addition, a valve 36 may be configured in the pipe between the buffer chamber 40 and the vacuum chamber 70, and the valve 36 may be configured as a solenoid valve.

그리고, 버퍼 챔버(40)에는 바라트론 게이지(42)가 구성될 수 있으며, 버퍼 챔버(40)와 밸브(36) 사이의 배관에는 디지털 게이지(44)가 구성될 수 있다. 여기에서 바라트론 게이지(42)는 하나 이상 구성될 수 있으며, 두 개의 바라트론 게이지(42)를 구성하는 경우 하나는 진공 측정을 위한 메인 게이지이며 다른 하나는 고장 및 측정 상태의 정확도를 평가하기 위한 백업용 게이지이다. 그리고, 디지털 게이지(44)는 바라트론 게이지(42)가 정상적으로 동작하는지 모니터링하기 위한 용도 로 이용될 수 있으며, 진공 수치를 디지털로 디스플레이하기 위하여 이용되는 것이다.In addition, the baratron gauge 42 may be configured in the buffer chamber 40, and the digital gauge 44 may be configured in the piping between the buffer chamber 40 and the valve 36. Here, one or more baratrone gauges 42 may be configured. When two baratrone gauges 42 are configured, one is a main gauge for vacuum measurement and the other is for evaluating the accuracy of failure and measurement conditions. This is a backup gauge. In addition, the digital gauge 44 may be used to monitor whether the baratrone gauge 42 operates normally, and is used to digitally display a vacuum value.

상술한 구성에서 고압 챔버(50)로 가스를 공급하기 위해서는 밸브(12, 16, 18)가 모두 열린 상태가 유지되어야 하고, 고압 챔버(50)가 고압으로 설정된 상태에서 센싱을 위해서는 밸브(18)는 열리고 밸브(16)는 닫힌 상태가 유지되어야 한다.In the above-described configuration, all of the valves 12, 16, and 18 should be kept open to supply gas to the high pressure chamber 50, and the valve 18 may be used for sensing in a state where the high pressure chamber 50 is set to high pressure. Should open and valve 16 should remain closed.

그리고, 진공 챔버(70) 내의 가스를 펌핑하기 위해서는 밸브(32, 34, 25)가 모두 열린 상태가 유지되어야 하고, 진공 챔버(70)가 진공으로 설정된 상태에서 센싱을 위해서는 밸브(36)는 열리고 밸브(34)는 닫힌 상태가 유지되어야 한다.And, in order to pump the gas in the vacuum chamber 70, all the valves 32, 34, and 25 should be kept open, and the valve 36 is opened for sensing in the state where the vacuum chamber 70 is set to vacuum. The valve 34 must remain closed.

상술한 구성에 의하여 진공 펌프(30)는 0.1 Torr 내지 0.05 Torr의 범위로 진공을 형성할 수 있으며, 로터리 펌프가 이용될 수 있다.By the above-described configuration, the vacuum pump 30 may form a vacuum in the range of 0.1 Torr to 0.05 Torr, and a rotary pump may be used.

한편, 고압 챔버(50), 진공 챔버(70) 및 고정장치(400)는 도 2 및 도 3과 같은 구성으로 설치되며, 도 4와 같이 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70)는 고정 장치(400)에 의하여 서로 이격되게 구동될 수 있으며, 도 4와 같이 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70) 사이에 세라믹 시료(100)가 배치되고, 고압 챔버(50)가 도 2 및 도 3의 상태로 구동됨으로써 세라믹 시료(100)가 밀착될 수 있다. 도 2 및 도 3의 상태와 같이 세라믹 시료(100)가 밀착된 상태에서 본 발명에 따른 투과도 측정이 이루어질 수 있다.On the other hand, the high pressure chamber 50, the vacuum chamber 70 and the fixing device 400 is installed in the configuration as shown in Figures 2 and 3, the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70 as shown in FIG. 400, the ceramic sample 100 may be disposed between the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70 as shown in FIG. 4, and the high pressure chamber 50 is illustrated in FIGS. 2 and 3. The ceramic sample 100 may be in close contact by being driven in the state of. 2 and 3, the transmittance measurement according to the present invention may be performed in a state in which the ceramic sample 100 is in close contact.

도 5를 참조하면, 세라믹 시료(100)는 고압 챔버(50) 및 진공 챔버(70)와 같 거나 작은 직경의 원형으로 가공될 수 있으며, 가공된 세라믹 시료(100)의 측면 단부에는 에폭시 수지로 캡(102)을 형성할 수 있다. 도 5의 세라믹 시료(100)는 평평한 것과 굴곡된 것을 예시하고 있으며, 캡(102)은 세라믹 시료(100)의 측면에 형성되고, 캡(102)에 의하여 세라믹 시료(100)는 측면 아웃-가싱이 방지될 수 있다. Referring to FIG. 5, the ceramic sample 100 may be processed into a circle having a diameter equal to or smaller than that of the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70, and an epoxy resin may be formed at a side end of the processed ceramic sample 100. Cap 102 may be formed. The ceramic sample 100 of FIG. 5 illustrates a flat and curved, cap 102 is formed on the side of the ceramic sample 100, by the cap 102 the ceramic sample 100 is out-gassing This can be prevented.

그리고, 에폭시 수지로 형성되는 캡(102)은 세라믹 시료(100)의 형상의 차(굴곡 등)에 따라 발생할 수 있는 유격을 보상할 수 있다. 그리고, 에폭시 수지로 형성되는 캡(102)은 고압 챔버(50) 및 진공 챔버(70)가 밀착됨에 따라 세라믹 시료(100)가 파손되는 것을 방지한다. 또한, 에폭시 수지로 형성되는 캡(102)은 세라믹 표면이 매끄럽지 못하기 때문에 고압 챔버(50) 또는 진공 챔버(70)로 압착하여도 양호한 기밀 상태를 제공하지 못하는 것을 보완하기 위하여 형성되는 것으로 센싱을 위한 양호한 기밀 상태를 제공하기 위한 것이다.In addition, the cap 102 formed of an epoxy resin may compensate for a gap that may occur according to a difference (bending or the like) of the shape of the ceramic sample 100. The cap 102 formed of an epoxy resin prevents the ceramic sample 100 from being damaged as the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70 are in close contact with each other. In addition, since the ceramic surface is not smooth, the cap 102 formed of epoxy resin is formed to compensate for the failure to provide a good airtight state even when pressed into the high-pressure chamber 50 or the vacuum chamber 70. To provide good airtightness.

상술한 바와 같이 캡(102)이 형성된 세라믹 시료(100)는 도 4와 같이 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70) 사이에 배치된 후 도 2 및 도 3과 같이 진공 챔버가 구동됨에 따라서 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70) 사이에 압착된다.As described above, the ceramic sample 100 having the cap 102 is disposed between the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70 as shown in FIG. 4, and then the high pressure as the vacuum chamber is driven as shown in FIGS. 2 and 3. It is compressed between the chamber 50 and the vacuum chamber 70.

먼저, 도 2 내지 도 4에 구성된 진공 챔버(70)의 구성을 도 6을 참조하여 설명한다.First, the structure of the vacuum chamber 70 comprised in FIGS. 2-4 is demonstrated with reference to FIG.

진공 챔버(70)는 도 6과 같이 원통형상을 갖는 챔버(72)와 챔버(72)의 제2 개방면(72a)에 삽입되는 개스킷(74)을 포함한다. 챔버(72)는 측면에 관통구(72b)가 형성되고 제2 개방면(72a)의 입구에 개스킷(74)이 삽입되는 단차면(72c)이 형성되고 내부 공간(70d)은 제2 개방면(72a)과 연통된다. 그리고, 챔버(72)의 제2 개방 면(72a)이 형성된 반대쪽에는 유동 실린더(410)와 결합을 위한 다수의 체결구(72e)가 형성된다.The vacuum chamber 70 includes a chamber 72 having a cylindrical shape as shown in FIG. 6 and a gasket 74 inserted into the second opening surface 72a of the chamber 72. In the chamber 72, a through hole 72b is formed at a side surface, and a stepped surface 72c into which a gasket 74 is inserted is formed at an inlet of the second opening surface 72a, and the interior space 70d has a second opening surface. It communicates with 72a. A plurality of fasteners 72e for engaging with the flow cylinder 410 are formed on the opposite side where the second open surface 72a of the chamber 72 is formed.

상술한 챔버(72)의 체결구(72e)가 형성된 쪽 측면은 도 7a로 예시되고 제2 개방면(72a)이 형성된 측면은 도 7b로 예시된다.The side on which the fastener 72e of the chamber 72 described above is formed is illustrated in FIG. 7A, and the side on which the second opening surface 72a is formed is illustrated in FIG. 7B.

그리고, 챔버(72)의 제2 개방면(72a)의 입구에 삽입되는 개스킷(74)은 챔버(72)의 단차진 두께와 같거나 그 보다 큰 두께를 가지며 챔버(72)의 내부 공간(72d)과 동일한 직경의 관통공(74a)을 가지고 챔버(72)의 단차면(72c)과 접하는 면에 오링(76)이 형성된다. 그리고, 개스킷(74)의 챔버(72)와 접하는 면의 반대 면에는 세라믹 시료(100)가 삽입되는 요부(74b)가 형성되며 요부의 저면에도 오링(76)이 형성된다.In addition, the gasket 74 inserted into the inlet of the second opening surface 72a of the chamber 72 has a thickness equal to or greater than the stepped thickness of the chamber 72 and has an interior space 72d. An o-ring 76 is formed on a surface of the chamber 72 which has a through hole 74a having the same diameter as the) and is in contact with the step surface 72c of the chamber 72. In addition, a recess 74b in which the ceramic sample 100 is inserted is formed on the surface opposite to the surface in contact with the chamber 72 of the gasket 74, and an O-ring 76 is formed on the bottom of the recess.

상술한 개스킷(74)의 챔버(72)와 접하는 쪽 측면은 도 8a로 예시되고 요부(74b)가 형성된 쪽 측면은 도 8b로 예시된다.The side surface contacting the chamber 72 of the gasket 74 described above is illustrated in FIG. 8A and the side surface in which the recessed portion 74b is formed is illustrated in FIG. 8B.

상술한 진공 챔버(70)는 유동 실린더(410)에 결합되어서 수직 패널(420)에 지지되며, 유동 실린더(410)의 단부에 결합되는 스프링(430)에 의하여 탄성력을 제공받도록 지지된다. 따라서, 세라믹 시료(100)가 게재된 상태에서 고압 챔버(50)가 기밀을 유지하기 위하여 직선 방향으로 밀면, 유동 실린더(410)가 수축되면서 고압 챔버(50)가 구동되는 방향으로 진공 챔버(70)가 밀린다. 그러나, 스프링(430)의 탄성력에 의한 리액션이 진공 챔버(70)에 작용하여 세라믹 시료(100)를 밀게되고 결국 진공 챔버(70)는 세라믹 시료(100)와 기밀을 유지할 수 있는 압착 상태를 유지한다.The vacuum chamber 70 described above is coupled to the flow cylinder 410 and supported by the vertical panel 420, and is supported to receive elastic force by the spring 430 coupled to the end of the flow cylinder 410. Therefore, when the high pressure chamber 50 is pushed in a straight direction to maintain airtightness in the state where the ceramic sample 100 is placed, the vacuum chamber 70 is driven in the direction in which the high pressure chamber 50 is driven while the flow cylinder 410 is contracted. ) Is pushed. However, the reaction due to the elastic force of the spring 430 acts on the vacuum chamber 70 to push the ceramic sample 100, so that the vacuum chamber 70 maintains a compressed state in which airtightness with the ceramic sample 100 can be maintained. do.

한편, 도 2 내지 도 4에 구성된 고압 챔버(50)의 구성은 도 9를 참조하여 설명될 수 있으며, 고압 챔버(50)는 진공 챔버(70)와 동일한 구성을 갖는 챔버(52) 및 개스킷(54)을 포함한다. 고압 챔버(50)의 챔버(52)와 그의 제1 개방면(52a)에 삽입되는 개스킷(54)의 구성은 진공 챔버(70)를 참조하여 이해될 수 있으므로 중복된 설명은 생략한다.Meanwhile, the configuration of the high pressure chamber 50 illustrated in FIGS. 2 to 4 may be described with reference to FIG. 9, and the high pressure chamber 50 may include the chamber 52 and the gasket having the same configuration as the vacuum chamber 70. 54). The configuration of the gasket 54 inserted into the chamber 52 of the high pressure chamber 50 and the first opening surface 52a thereof can be understood with reference to the vacuum chamber 70, and thus redundant description thereof will be omitted.

고압 챔버(50)에는 고정 장치(400)에 포함되는 회전지지판(440)이 제1 개방면(52a)이 형성된 반대 면에 설치되며, 회전지지판(440)은 고압 챔버(50)와 접하는 쪽이 넓은 단차진 관통공(442)이 형성되고 고압 챔버(50)의 챔버(52)에 형성된 유동 실린더(410)와 결합을 위한 다수의 체결구(52e)에 대응되는 위치에 유동 실린더(410)의 단부가 관통되는 관통공(444)들이 형성된다. 관통공(442)에는 베어링(446)이 결합되며 베어링(446)은 후술되는 샤프트(448)의 단부와 결합되어서 샤프트(448)의 회전을 지지한다.In the high pressure chamber 50, the rotation support plate 440 included in the fixing device 400 is installed on the opposite side on which the first opening surface 52a is formed, and the rotation support plate 440 is in contact with the high pressure chamber 50. A wide stepped through hole 442 is formed and the flow cylinder 410 is positioned at a position corresponding to the plurality of fasteners 52e for engagement with the flow cylinder 410 formed in the chamber 52 of the high pressure chamber 50. Through holes 444 through which an end is formed are formed. A bearing 446 is coupled to the through hole 442, and the bearing 446 is coupled to an end of the shaft 448 to be described later to support rotation of the shaft 448.

상술한 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70)는 고정 장치(400)에 의하여 지지되며, 고정장치(400)는 제1 및 제2 개방면(52a, 72a)이 서로 마주하도록 이격 배치되는 고압 챔버(50) 및 진공 챔버(70)를 지지한다. 고정 장치(400)는 고압 챔버(50)를 밀어서 제1 및 상기 제2 개방면(52a, 72a) 사이에 배치되는 세라믹 시료(100)를 압착하여 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70)의 기밀 상태를 유지하는 구성을 갖는다.The high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70 described above are supported by the fixing device 400, and the fixing device 400 is spaced apart from each other so that the first and second opening surfaces 52a and 72a face each other. The chamber 50 and the vacuum chamber 70 are supported. The fixing device 400 presses the high pressure chamber 50 to compress the ceramic sample 100 disposed between the first and the second opening surfaces 52a and 72a, thereby compressing the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70. It has a structure which maintains a confidential state.

도 2 내지 도 4와 도 10 및 도 12을 참조하여 고정 장치(400)의 구성을 설명한다.The configuration of the fixing device 400 will be described with reference to FIGS. 2 to 4, 10, and 12.

고정 장치(400)는 이격된 위치에 수직 패널(420, 450)이 설치되고, 수직 패 널(420, 450)들은 베이스(422, 452)을 이용한 나사(도시되지 않음) 결합에 의하여 직립되면서 다수의 수평 빔(480)으로 지지된다. 수직 패널(420, 450)의 모서리에는 수평 빔(480)과 체결을 위하여 나사(도시되지 않음)가 삽입되는 관통공(424, 454)들이 형성되고, 유동 실린더(410)가 조립되는 위치에 각각 유동실린더(410)가 삽입되어서 고정되는 관통공(426, 456)들이 형성된다. 그리고, 수직 패널(450)의 중앙에는 샤프트(448)가 관통되는 관통공(458)이 형성되며, 관통공(458)은 나사가 형성되어서 측면에 나사가 형성된 샤프트(448)와 치합을 이룬다.The fixing device 400 is provided with vertical panels 420 and 450 at spaced apart positions, and the vertical panels 420 and 450 are upright by screw (not shown) coupling using the bases 422 and 452. Is supported by the horizontal beam 480. Through-holes 424 and 454 are formed at the corners of the vertical panels 420 and 450 in which screws (not shown) are inserted for fastening with the horizontal beam 480, respectively, at positions where the flow cylinder 410 is assembled. Through-holes 426 and 456 to which the flow cylinder 410 is inserted and fixed are formed. In addition, a through hole 458 through which the shaft 448 penetrates is formed at the center of the vertical panel 450, and the through hole 458 is engaged with the shaft 448 having a screw formed on the side thereof.

수평 빔(480)은 단부에 나사공(482)이 형성됨으로써 수직 패널(420, 450)의 관통공(424, 454)들을 관통하는 나사(도시되지 않음)에 의하여 고정될 수 있다.The horizontal beam 480 may be fixed by a screw (not shown) passing through the through holes 424 and 454 of the vertical panels 420 and 450 by forming a screw hole 482 at an end thereof.

유동 실린더(410)는 직선 방향으로 인출 및 수축 가능하고 일단이 수직 패널(420, 450)에 고정되고 인출 및 수축되는 타단이 고압 챔버(50) 또는 진공 챔버(70)에 고정되며, 고압 챔버(50) 또는 진공 챔버(70)에 대하여 복수 개 설치된다.The flow cylinder 410 can be pulled out and retracted in a linear direction, and one end of which is fixed to the vertical panels 420 and 450 and the other end of which is drawn out and retracted is fixed to the high pressure chamber 50 or the vacuum chamber 70. 50 or a plurality of vacuum chambers 70 are provided.

그리고, 회전지지판(440)의 베어링(446)에는 샤프트(448)의 일단이 결합되며, 샤프트(448)는 상술한 수직 패널(450)의 관통공(458)과 치합을 이루며 수직 패널(450)을 관통하여 소정 길이 노출되는 길이를 갖는다. 샤프트(448)의 타단에는 손잡이(470)가 구성되며, 손잡이(470)는 샤프트(448)에 고정되는 디스크와 레버를 포함한다. 상술한 구성에서 샤프트(448)와 손잡이(470)가 구동부에 포함된다.In addition, one end of the shaft 448 is coupled to the bearing 446 of the rotation support plate 440, and the shaft 448 meshes with the through hole 458 of the vertical panel 450 described above, and the vertical panel 450 It has a length through which a predetermined length is exposed. A handle 470 is configured at the other end of the shaft 448, and the handle 470 includes a disk and a lever fixed to the shaft 448. In the above configuration, the shaft 448 and the handle 470 are included in the drive unit.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 투과도 측정 장치가 구성됨으로써 도 4와 같이 위치하는 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70) 사이에 캡(102)이 형성된 세라믹 시 료(100)를 배치한다.As described above, the permeability measuring device according to the present invention is configured to arrange the ceramic sample 100 having the cap 102 formed between the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70 positioned as shown in FIG. 4.

세라믹 시료(100)가 배치된 상태에서 손잡이(470)를 돌리면 샤프트(448)가 회전하고, 샤프트(448)는 수직 패널(450)에 형성된 관통공(458)과 치합에 의하여 전진하여 고압 챔버(50)를 밀게 된다. 고압 챔버(50)가 직선 방향으로 전진하면 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70)의 제1 및 제2 개방면(52a, 72a) 사이에 세라믹 시료(100)가 압착된다. 캡(102)이 형성된 세라믹 시료(100)는 압착되는 상태에서 개스킷(54, 74)의 요부(74b)에 삽입되고, 캡(102)은 오링(76)과 밀착되어 기밀을 유지하는 상태가 된다.When the knob 470 is rotated while the ceramic sample 100 is disposed, the shaft 448 rotates, and the shaft 448 is advanced by engagement with the through hole 458 formed in the vertical panel 450, thereby increasing the pressure of the high pressure chamber ( 50) is pushed. When the high pressure chamber 50 is advanced in the linear direction, the ceramic sample 100 is compressed between the high pressure chamber 50 and the first and second open surfaces 52a and 72a of the vacuum chamber 70. The ceramic sample 100 on which the cap 102 is formed is inserted into the recessed portion 74b of the gaskets 54 and 74 in a compressed state, and the cap 102 is brought into close contact with the O-ring 76 to maintain airtightness. .

고압 챔버(50)가 전진하면 진공 챔버(70)는 초기에 고압 챔버(50)에 밀리다가 스프링(430)의 탄성력에 의한 리액션에 의하여 세라믹 시료(100)를 밀어서 기밀을 유지하는 상태가 된다.When the high pressure chamber 50 is advanced, the vacuum chamber 70 is initially pushed by the high pressure chamber 50 and pushes the ceramic sample 100 by the reaction by the elastic force of the spring 430 to maintain airtightness.

상술한 바와 같이 고압 챔버(50)와 진공 챔버(70) 사이에 세라믹 시료(100)를 압착한 후 고압 제공 장치(200)에 포함되는 밸브(12, 16, 18)와 진공 제공 장치에 포함되는 밸브(32, 34, 36)를 열면 가스 용기(10)에 저장된 고압의 가스가 버퍼 챔버(20)를 통하여 고압 챔버(50)로 공급되고 진공 펌프(30)의 펌핑에 의하여 진공 챔버(70) 내의 가스가 버퍼 챔버(40)를 통하여 배기된다.As described above, the ceramic sample 100 is compressed between the high pressure chamber 50 and the vacuum chamber 70, and then included in the valves 12, 16, and 18 included in the high pressure providing device 200 and the vacuum providing device. When the valves 32, 34, 36 are opened, the high pressure gas stored in the gas container 10 is supplied to the high pressure chamber 50 through the buffer chamber 20, and the vacuum chamber 70 is pumped by the vacuum pump 30. The gas inside is exhausted through the buffer chamber 40.

고압 챔버(50) 내의 고압이 실시예로서 설정되는 범위인 1000 Torr 이상이 되고, 진공 챔버(70) 내의 진공이 실시예로서 설정되는 범위인 0.1 Torr 이하가 되면, 고압 제공 장치(200)의 밸브(16)와 진공 제공 장치(300)의 밸브(34)를 잠그고 고압의 제공과 펌핑을 중단한다.When the high pressure in the high pressure chamber 50 becomes 1000 Torr or more which is the range set as an example, and the vacuum in the vacuum chamber 70 becomes 0.1 Torr or less which is the range set by the example, the valve of the high pressure providing device 200 The valve 34 of the 16 and the vacuum providing device 300 is closed and the supply of high pressure and the pumping are stopped.

그러면, 고압 챔버(50) 내에 고압으로 충진된 가스가 세라믹 시료(100)를 투과하여 진공 챔버(70)로 서서히 이동된다. 상술한 가스의 투과가 시작되면 고압 챔버(50)는 점차적으로 압력이 낮아지고 진공 챔버(70)는 점차적으로 압력이 높아진다.Then, the gas filled at high pressure in the high pressure chamber 50 passes through the ceramic sample 100 and gradually moves to the vacuum chamber 70. When the above-described gas permeation starts, the high pressure chamber 50 gradually lowers the pressure and the vacuum chamber 70 gradually increases the pressure.

즉, 도 13와 같은 그래프를 그리면서 상압인 760 Torr로 향하여 압력 변화가 발생된다. 이와 같은 압력 변화는 버퍼 챔버(20, 40)에 설치된 바라트론 게이지(22, 42)와 디지털 게이지(24, 44)에 의하여 센싱될 수 있다.That is, the pressure change is generated toward the normal pressure 760 Torr while drawing the graph as shown in FIG. The pressure change may be sensed by the baratron gauges 22 and 42 and the digital gauges 24 and 44 installed in the buffer chambers 20 and 40.

세라믹 시료의 상술한 투과도 측정은 3분 또는 4분과 같이 미리 정해진 측정 시간(T) 동안 진행될 수 있으며, 정해진 측정 시간(T)동안 압력 변화로써 투과도가 판단될 수 있다.The above-described transmittance measurement of the ceramic sample may be performed for a predetermined measurement time T, such as 3 minutes or 4 minutes, and the transmittance may be determined by the pressure change during the predetermined measurement time T.

상술한 실시예는 고압 챔버를 구동부인 손잡이를 회전시켜서 직선 방향으로 이동하는 것으로 예시하였으나, 이에 국한되지 않고 진공 챔버 또는 고압 챔버와 진공 챔버 모두에 구동부를 구성할 수 있다.In the above-described embodiment, the high pressure chamber is illustrated as being moved in a linear direction by rotating a knob, which is a driving unit, but the driving unit may be configured in both the vacuum chamber or the high pressure chamber and the vacuum chamber.

또한, 실시예는 스프링을 진공 챔버 쪽에 구성하는 것으로 예시하였으나, 이에 국한되지 않고 진공 챔버와 고압 챔버 모두에 구성할 수 있다.In addition, the embodiment is illustrated as configuring the spring on the vacuum chamber side, but may be configured in both the vacuum chamber and the high pressure chamber without being limited thereto.

또한, 고압 제공 장치와 진공 제공 장치에 각각 구성되는 밸브들은 전자 제어 시스템에 의하여 자동으로 개폐되도록 구성될 수 있으며, 이 경우 전자 제어 시스템에서 센싱 개시 신호 또는 센싱 종료 신호가 발생되면 그에 연동하여 자동으로 개폐되는 구성을 가짐이 바람직하다.In addition, the valves respectively configured in the high pressure providing device and the vacuum providing device may be configured to be opened and closed automatically by the electronic control system. In this case, when a sensing start signal or a sensing end signal is generated in the electronic control system, It is preferable to have a structure which opens and closes.

이상, 본 발명의 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상의 범위내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described in detail, this invention is not limited to the said embodiment, A various deformation | transformation by a person of ordinary skill in the art within the scope of the technical idea of this invention is carried out. This is possible.

도 1은 본 발명에 따른 투과도 측정 장치의 바람직한 실시예를 나타내는 계통도이다.1 is a system diagram showing a preferred embodiment of a transmittance measuring device according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 투과도 측정 장치의 고압 챔버, 진공 챔버 및 고정 장치의 평면에 대한 부분 단면도이다.2 is a partial cross-sectional view of the plane of the high pressure chamber, the vacuum chamber and the fixing device of the permeability measuring device according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 투과도 측정 장치의 고압 챔버, 진공 챔버 및 고정 장치의 측면에 대한 부분 단면도이다. 3 is a partial cross-sectional view of the side of the high pressure chamber, the vacuum chamber and the fixing device of the permeability measuring device according to the present invention.

도 4는 고압 챔버와 진공 챔버가 이격된 상태를 나타내는 평면에 대한 부분 단면도이다.4 is a partial cross-sectional view of a plane showing a state where the high pressure chamber and the vacuum chamber are spaced apart.

도 5는 세라믹 시료를 나타내는 단면도이다.5 is a cross-sectional view showing a ceramic sample.

도 6은 진공 챔버의 단면도이다.6 is a cross-sectional view of the vacuum chamber.

도 7a은 진공 챔버의 좌측 측면도이다.7A is a left side view of the vacuum chamber.

도 7b는 진공 챔버의 우측 측면도이다.7B is a right side view of the vacuum chamber.

도 8a는 개스킷의 좌측 측면도이다.8A is a left side view of the gasket.

도 8b는 개스킷의 우측 측면도이다.8B is a right side view of the gasket.

도 9는 고압 챔버의 단면도이다.9 is a cross-sectional view of the high pressure chamber.

도 10은 수직 패널(420)의 정면도이다.10 is a front view of the vertical panel 420.

도 11은 수평 빔의 정면도이다.11 is a front view of a horizontal beam.

도 12는 수직 패널(450)의 정면도이다.12 is a front view of vertical panel 450.

도 13은 기체가 세라믹 시료를 투과함에 따른 압력 변화를 나타내는 그래프 이다. 13 is a graph showing a change in pressure as gas passes through a ceramic sample.

Claims (18)

세라믹 시료의 테두리에 에폭시 수지로 캡을 형성하는 단계;Forming a cap with an epoxy resin on an edge of the ceramic sample; 개방된 면이 서로 바라보게 배치되는 고압 챔버와 진공 챔버 사이에 상기 세라믹 시료를 배치하는 단계;Disposing the ceramic sample between the high pressure chamber and the vacuum chamber in which the open faces face each other; 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 중 적어도 하나 이상을 이동시켜서 상기 세라믹 시료의 상기 캡의 양쪽에 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버의 개방된 면을 압착시킴으로써 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버에 대한 기밀 상태를 형성하는 단계;At least one of the high pressure chamber and the vacuum chamber is moved to compress the open surfaces of the high pressure chamber and the vacuum chamber on both sides of the cap of the ceramic sample to form an airtight state for the high pressure chamber and the vacuum chamber. Making; 상기 고압 챔버에 미리 정해진 수준의 고압을 이루도록 가스를 공급하는 단계;Supplying gas to the high pressure chamber to achieve a predetermined level of high pressure; 상기 진공 챔버에 미리 정해진 수준의 진공을 이루도록 가스를 펌핑하는 단계; 및Pumping gas into said vacuum chamber to achieve a predetermined level of vacuum; And 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버가 미리 정해진 수준의 상기 고압과 상기 진공에 도달하면 상기 가스의 공급과 펌핑을 중지하고 상기 고압 챔버 내의 가스가 상기 세라믹 시료를 투과하여 상기 진공 챔버로 이동함에 따른 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내의 압력 변화를 정해진 시간동안 센싱하는 단계를 포함하는 투과도 측정 방법.When the high pressure chamber and the vacuum chamber reach a predetermined level of the high pressure and the vacuum, the supply and pumping of the gas is stopped and the high pressure as the gas in the high pressure chamber passes through the ceramic sample and moves to the vacuum chamber. And sensing the pressure change in the chamber and the vacuum chamber for a predetermined time. 세라믹 시료의 일 면에 고압을 형성하고 반대 면에 진공을 형성하는 단계; 및Forming a high pressure on one side of the ceramic sample and a vacuum on the opposite side; And 상기 세라믹 시료의 고압이 형성된 상기 일 면에서 진공이 형성된 상기 반대 면으로 가스가 투과함에 따라 변화되는 상기 세라믹 시료의 양면 쪽의 압력을 정해진 시간동안 센싱하는 단계를 포함하는 투과도 측정 방법.And sensing pressure on both sides of the ceramic sample for a predetermined time, which is changed as gas is transmitted from the one surface where the high pressure of the ceramic sample is formed to the opposite surface where the vacuum is formed. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 고압은 공기, 질소 가스, 아르곤 가스 및 수소 가스 중 적어도 하나 이상이 공급되어 상기 고압을 형성하는 투과도 측정 방법.Wherein the high pressure is at least one or more of the air, nitrogen gas, argon gas and hydrogen gas is supplied to form the permeability measuring method. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 고압은 1000 Torr 내지 1100 Torr의 범위로 형성되는 투과도 측정 방법.The high pressure is permeability measuring method is formed in the range of 1000 Torr to 1100 Torr. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 진공은 0.1 Torr 내지 0.05 Torr의 범위로 형성되는 투과도 측정 방법.The vacuum is a method for measuring the transmittance is formed in the range of 0.1 Torr to 0.05 Torr. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 센싱은 바라트론(Baratron) 게이지를 이용하는 투과도 측정 방법.The sensing method is a transmittance measurement using a Baratron (Baratron) gauge. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 센싱은 압력 측정을 위한 디지털 게이지를 더 이용하는 투과도 측정 방법.The sensing method of measuring the transmittance further using a digital gauge for pressure measurement. 고압의 가스를 공급하여 고압을 제공하며 상기 가스를 공급하는 라인 중에 고압 센싱용 제1 바라트론(Baratron) 게이지를 구비하는 고압 제공 장치;A high pressure providing device providing a high pressure by supplying a high pressure gas and including a first Baratron gauge for high pressure sensing in a line for supplying the gas; 펌핑에 의하여 진공을 제공하며 펌핑 라인 중에 진공 센싱용 제2 바라트론 게이지를 구비하는 진공 제공 장치;A vacuum providing device providing a vacuum by pumping and having a second baratron gauge for vacuum sensing in the pumping line; 세라믹 시료의 일면과 밀착되는 제1 개방면을 가지며 상기 고압 제공 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 일면에 고압을 형성하는 고압 챔버;A high pressure chamber having a first open surface in close contact with one surface of a ceramic sample and forming a high pressure on one surface of the ceramic sample by the high pressure providing device; 상기 세라믹 시료가 배치되는 제2 개방면을 가지며 상기 진공 형성 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 다른 일면에 진공을 형성하는 진공 챔버; 및 A vacuum chamber having a second open surface on which the ceramic sample is disposed and forming a vacuum on the other surface of the ceramic sample by the vacuum forming apparatus; And 상기 제1 및 제2 개방면이 서로 마주하도록 이격 배치되는 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버를 지지하며 상기 제1 및 상기 제2 개방면이 이들 사이에 배치되 는 세라믹 시료와 접하여 기밀 상태가 유지되도록 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버 중 적어도 어느 하나를 직선 왕복시키는 고정 장치를 포함하고,The high pressure chamber and the vacuum chamber are spaced apart from each other so that the first and second opening surfaces face each other, and the first and second opening surfaces are in contact with a ceramic sample disposed therebetween so that the airtight state is maintained. A fixing device for linearly reciprocating at least one of the high pressure chamber and the vacuum chamber, 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력차에 의하여 상기 가스가 상기 세라믹 시료를 투과함에 따라 발생되는 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력 변화를 상기 제1 및 제2 바라트론 게이지로 센싱하는 투과도 측정 장치.Permeability for sensing the pressure changes in the high pressure chamber and the vacuum chamber generated as the gas penetrates the ceramic sample by the pressure difference between the high pressure chamber and the vacuum chamber. Measuring device. 제8항에 있어서, 상기 고압 제공 장치는,According to claim 8, The high pressure providing device, 고압의 가스가 수용된 적어도 하나 이상의 가스 용기;At least one gas vessel containing a high pressure gas; 상기 가스 용기에서 공급되는 가스가 충진되는 제1 버퍼 챔버;A first buffer chamber filled with a gas supplied from the gas container; 상기 가스 용기와 상기 제1 버퍼 챔버 사이를 연결하는 제1 배관 상에 형성되는 제1 밸브;A first valve formed on a first pipe connecting the gas container and the first buffer chamber; 상기 제1 버퍼 챔버와 상기 고압 챔버 사이를 연결하는 제2 배관 상에 형성되는 제2 밸브;A second valve formed on a second pipe connecting between the first buffer chamber and the high pressure chamber; 상기 제1 버퍼 챔버에 설치되는 상기 제1 바라트론 게이지; 및The first baratrone gauge installed in the first buffer chamber; And 상기 제1 버퍼 챔버와 상기 제2 밸브 사이의 상기 제2 배관에 설치되는 제1 디지털 게이지를 포함하며,A first digital gauge installed in the second pipe between the first buffer chamber and the second valve, 상기 고압 챔버로 가스를 공급하기 위하여 상기 제1 및 제2 밸브가 열리고, 상기 센싱을 위하여 상기 제1 밸브는 닫히고 상기 제2 밸브는 열린 상태를 유지하는 투과도 측정 장치.And the first and second valves are opened to supply gas to the high pressure chamber, the first valve is closed and the second valve is kept open for sensing. 제9항에 있어서, 10. The method of claim 9, 상기 가스 용기는 공기, 질소 가스, 아르곤 가스 및 수소 가스 중 어느 하나를 수용하는 투과도 측정 장치.The gas container is a permeability measuring device for receiving any one of air, nitrogen gas, argon gas and hydrogen gas. 제9항에 있어서, 10. The method of claim 9, 상기 가스 용기는 상기 제1 밸브에 대하여 병렬로 둘 이상 연결되며, 각 가스 용기는 공기, 질소 가스, 아르곤 가스 및 수소 가스 중 어느 하나를 수용하며 서로 다른 가스를 수용하는 투과도 측정 장치.Two or more gas containers are connected in parallel with respect to the first valve, and each gas container accommodates any one of air, nitrogen gas, argon gas, and hydrogen gas and receives different gases. 제8항에 있어서, 상기 고압 제공 장치는 1000 Torr 내지 1100 Torr의 범위로 상기 고압 챔버에 상기 고압을 제공하는 투과도 측정 장치.The apparatus of claim 8, wherein the high pressure providing device provides the high pressure to the high pressure chamber in a range of 1000 Torr to 1100 Torr. 제8항에 있어서, 상기 진공 제공 장치는,According to claim 8, The vacuum providing apparatus, 상기 가스를 펌핑하는 진공 펌프;A vacuum pump for pumping the gas; 상기 진공 챔버에서 펌핑되는 가스가 충진되는 제2 버퍼 챔버;A second buffer chamber filled with a gas pumped from the vacuum chamber; 상기 진공 펌프와 상기 제2 버퍼 챔버 사이를 연결하는 제3 배관 상에 형성되는 제3 밸브;A third valve formed on a third pipe connecting between the vacuum pump and the second buffer chamber; 상기 제2 버퍼 챔버와 상기 진공 챔버 사이를 연결하는 제4 배관 상에 형성되는 제4 밸브;A fourth valve formed on a fourth pipe connecting between the second buffer chamber and the vacuum chamber; 상기 제2 버퍼 챔버에 설치되는 제2 바라트론 게이지; 및A second baratrone gauge installed in the second buffer chamber; And 상기 제2 버퍼 챔버와 상기 제4 밸브 사이의 상기 제4 배관에 설치되는 제2 디지털 게이지를 포함하며,A second digital gauge installed in the fourth pipe between the second buffer chamber and the fourth valve, 상기 진공 챔버에서 가스를 펌핑하기 위하여 상기 제3 및 제4 밸브가 열리고 상기 센싱을 위하여 상기 제3 밸브는 닫히고 상기 제4 밸브는 열린 상태를 유지하는 투과도 측정 장치.And the third and fourth valves are opened to pump gas in the vacuum chamber, the third valve is closed and the fourth valve is kept open for sensing. 제8항에 있어서, 상기 진공 제공 장치는 0.1 Torr 내지 0.05 Torr의 범위로 상기 진공을 형성하는 투과도 측정 장치.The apparatus of claim 8, wherein the vacuum providing apparatus forms the vacuum in a range of 0.1 Torr to 0.05 Torr. 제8항에 있어서, 상기 고압 챔버는,The method of claim 8, wherein the high pressure chamber, 원통형상을 가지며 상기 제1 개방면이 형성되고 측면에 가스의 공급을 위한 제1 관통구가 형성되는 제1 챔버; 및A first chamber having a cylindrical shape and having a first opening surface and a first through hole for supplying gas to a side surface thereof; And 링 형상을 가지며 상기 제1 챔버의 상기 제1 개방면의 입구에 삽입되고 상기 제1 챔버의 입구와 접하는 면과 상기 세라믹 시료와 접하는 이면에 각각 제1 오링들이 설치되는 제1 개스킷을 포함하는 투과도 측정 장치.A permeability comprising a first gasket having a ring shape and inserted into an inlet of the first opening surface of the first chamber and having first o-rings respectively provided on a surface contacting the inlet of the first chamber and a back surface contacting the ceramic sample. Measuring device. 제8항에 있어서, 상기 진공 챔버는,The method of claim 8, wherein the vacuum chamber, 원통형상을 가지며 상기 제2 개방면이 형성되고 측면에 진공 펌핑을 위한 제2 관통구가 형성되는 제2 챔버; 및A second chamber having a cylindrical shape and having a second opening surface and a second through hole for vacuum pumping at a side thereof; And 링 형상을 가지며 상기 제2 챔버의 상기 제2 개방면의 입구에 삽입되고 상기 제2 챔버의 입구와 접하는 면과 상기 세라믹 시료와 접하는 이면에 각각 제2 오링들이 설치되는 제2 개스킷을 포함하는 투과도 측정 장치.A transmittance including a second gasket having a ring shape and inserted into an inlet of the second opening surface of the second chamber, and having second o-rings respectively provided on a surface of the second chamber and in contact with the inlet of the second chamber; Measuring device. 제8항에 있어서, 상기 고정 장치는,The method of claim 8, wherein the fixing device, 직선 방향으로 인출 및 수축 가능하고 일단이 상기 진공 챔버에 고정되며 상기 진공 챔버에 대하여 복수개 설치되는 제1 유동 실린더들이 설치되는 제1 수직 패널;A first vertical panel capable of being pulled out and retracted in a linear direction and having one end fixed to the vacuum chamber and having a plurality of first flow cylinders installed with respect to the vacuum chamber; 직선 방향으로 인출 및 수축 가능하고 일단이 상기 고압 챔버에 고정되며 상기 고압 챔버에 대하여 복수 개 설치되는 제2 유동 실린더들이 설치되고 중앙에 나사가 형성된 제3 관통공이 형성되는 제2 수직 패널;A second vertical panel capable of being pulled out and retracted in a linear direction and having one end fixed to the high pressure chamber and having a plurality of second flow cylinders installed with respect to the high pressure chamber, and having a third through hole formed with a screw in the center thereof; 상기 제1 및 제2 수직 패널의 서로 대응되는 모서리들 사이에 배치되어서 길 이 방향 양단이 상기 제1 및 제2 수직 패널과 결합되는 수평 빔들;Horizontal beams disposed between corners corresponding to each other of the first and second vertical panels so that both ends of the length direction are coupled to the first and second vertical panels; 상기 제1 유동 실린더에 끼워져서 상기 진공 챔버에 탄성력을 제공하는 스프링들;Springs fitted into the first flow cylinder to provide elastic force to the vacuum chamber; 상기 고압 챔버와 접하는 쪽이 넓은 제4 관통공이 중앙에 형성되고 상기 제4 관통공에 베어링이 결합되며 상기 제2 유동 실린더들의 단부와 상기 고압 챔버 사이에 고정되는 회전지지판; 및A rotating support plate having a fourth through hole having a wider side in contact with the high pressure chamber, a bearing coupled to the fourth through hole, and fixed between an end of the second flow cylinders and the high pressure chamber; And 측면에 상기 제3 관통구와 치합되는 나사가 형성되고 일단이 상기 베어링에 결합되어 상기 제2 수직패널의 상기 제3 관통공을 관통하여 소정 길이 돌출되는 샤프트 및 상기 샤프트의 타단에 구성되는 손잡이를 포함하며 상기 손잡이의 회전에 의하여 상기 샤프트와 상기 제2 수직 패널의 상기 제3 관통공 간의 치합에 의하여 직선 방향 구동력이 발생하여 상기 고압 챔버를 구동하는 구동부를 포함하는 투과도 측정 장치.A screw is formed on the side surface and is engaged with the third through hole, one end of which is coupled to the bearing and includes a shaft configured to protrude a predetermined length through the third through hole of the second vertical panel, and a handle configured at the other end of the shaft. And a driving part for driving the high pressure chamber by generating a linear driving force by the engagement between the shaft and the third through hole of the second vertical panel by the rotation of the handle. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 세라믹 시료는 테두리에 에폭시 수지로 캡을 형성하여서 상기 고압 챔버의 상기 제1 개방면과 상기 진공 챔버의 상기 제2 개방면 사이에 배치되는 투과도 측정 장치. And the ceramic sample is disposed between the first open surface of the high pressure chamber and the second open surface of the vacuum chamber by forming a cap with an epoxy resin on an edge thereof.
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