KR20110025410A - Method for manufacturing display device substrate - Google Patents

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KR20110025410A KR1020090083463A KR20090083463A KR20110025410A KR 20110025410 A KR20110025410 A KR 20110025410A KR 1020090083463 A KR1020090083463 A KR 1020090083463A KR 20090083463 A KR20090083463 A KR 20090083463A KR 20110025410 A KR20110025410 A KR 20110025410A
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Abstract

PURPOSE: A manufacturing method of a substrate for a display device is provided to accurately perform the installation arrangement of a thin film transistor by easily forming ITO or carbon nano tube electrode on a substrate. CONSTITUTION: An electrode is formed in one side of a release film(S110). A surface is attached on a surface on which the electrode of the release film is formed(S120). The electrode is separated from the substrate(S130). The formed electrode is ITO or carbon nano tube electrode. The ITO or the carbon nano tube electrode is formed on the release film. The transparent electrode is easily formed in a substrate.

Description

디스플레이 장치용 기판의 제조방법{Method for Manufacturing Display Device Substrate}Method for manufacturing substrate for display device {Method for Manufacturing Display Device Substrate}

본 발명은 디스플레이 장치용 기판의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 이형필름을 이용하여 기판에 도전성의 ITO 또는 탄소나노튜브의 투명 전극 패턴을 형성할 수 있는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a substrate for a display device, and more particularly, to a method for manufacturing a substrate for a display device that can form a transparent electrode pattern of conductive ITO or carbon nanotubes on a substrate using a release film. will be.

정보화 사회에서 표시장치(Display Device)는 시각정보 전달매체로서 그 중요성이 한층 강조되고 있으며, 향후 중요한 위치를 선점하기 위해서는 저소비전력화, 박형화, 경량화, 고화질화 등의 요건을 충족시킬 것이 요구되고 있다.In the information society, display devices are being emphasized as visual information transmission media, and in order to preempt important positions in the future, it is required to satisfy requirements such as low power consumption, thinness, light weight, and high quality.

이러한 디스플레이장치로서 액정표시장치(LCD), 플라즈마 표시장치(PDP), 유기발광다이오드(OLED; Organic Light Emitting Diodes) 등이 개발되어 사용되고 있다.As such display devices, liquid crystal displays (LCDs), plasma display devices (PDPs), organic light emitting diodes (OLEDs), and the like have been developed and used.

유기발광다이오드는 유기물 박막에 양극과 음극을 통하여 주입된 전자와 정공이 재결합하여 여기자(excition)를 형성하고, 형성된 여기자로부터의 에너지에 의해 특정한 파장의 빛이 발생하는 현상을 이용한 자체 발광형 디스플레이 소자로서, TFT 기판의 투명전극으로서 기판 위에 스퍼터링된 산화인듐주석(ITO: Indium Tin Oxide) 또는 탄소나노튜브(CNT: Carbon Nanotube)를 주로 사용하고 있다.The organic light emitting diode is a self-luminous display device using a phenomenon in which electrons and holes injected through an anode and a cathode are recombined into an organic thin film to form an exciton, and light of a specific wavelength is generated by energy from the formed exciton. As the transparent electrode of the TFT substrate, indium tin oxide (ITO) or carbon nanotube (CNT) sputtered on the substrate is mainly used.

종래에는 TFT 기판을 제조하기 위하여 적층식으로 회로를 형성시켜 나가며 각각의 층을 적층하고(masking 공정), 각 마스크 별로 필요한 패턴을 실제 기판으로 도포(coating), 노광(photolithography), 현상(developing) 공정을 통하여 모양을 만드는 작업을 행하였다.Conventionally, in order to manufacture a TFT substrate, a circuit is formed in a stacked manner, and each layer is laminated (masking process), and a pattern necessary for each mask is coated onto the actual substrate, photolithography, and developing. The process of making a shape was performed through the process.

노광공정에서는 광식각법(Photo-Lithography)을 이용하였는데, 식각 공정 중 하나인 건식 식각(Dry etching)에 있어서 육불화황(SF6)를 주로 사용하였다. SF6는 지구온난화를 유발하는 가스의 일종으로 환경위해요소로 구분되어 그 사용을 제한하기 위하여 롤러방식을 사용하여 TFT 기판을 제조하였다.Photo-lithography was used in the exposure process, and sulfur hexafluoride (SF6) was mainly used in dry etching, one of etching processes. SF6 is a kind of gas that causes global warming. It is classified as an environmental hazard and manufactured a TFT substrate using a roller method to limit its use.

하기 도 1은 종래의 롤러를 이용한 전극 형성 방법을 나타낸 도면이다. 1 is a view showing an electrode forming method using a conventional roller.

기판(10)의 상부에 전극모양의 패턴홈(25)이 형성된 패턴롤러(20)를 접촉하여 회전시킴으로써 패턴홈(25)내에 수용된 전극 수지가 기판(10)에 전사되도록 함으로써 TFT의 전극(30)을 형성하였다. 하지만, 전극(30)의 형성과정에서 정확도가 떨어지고 패턴롤러(20)와 기판(10) 사이의 압력과 패턴롤러(20)의 미끄럼(slipping) 작용에 의하여 전극 형상이 변경되어 전극 인쇄 정밀도가 불량해진다는 문제점이 있다(A 참조).The electrode 30 contained in the pattern groove 25 is transferred to the substrate 10 by contacting and rotating the pattern roller 20 in which the electrode-shaped pattern groove 25 is formed on the substrate 10. ) Was formed. However, the accuracy of the electrode 30 is reduced during the formation of the electrode 30 and the shape of the electrode is changed due to the sliding action of the pattern roller 20 and the pressure between the pattern roller 20 and the substrate 10. There is a problem (see A).

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 이형필름을 이용하여 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 용이하게 기판에 형성함으로써 제작이 용이하고, 비용의 절감 및 생산효율성이 높으며 박막트랜지스터의 설치배열을 정확하게 수행할 수 있는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, it is easy to manufacture by forming the ITO or carbon nanotube electrode on the substrate using a release film, easy to manufacture, high cost and high production efficiency, installation of a thin film transistor It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a substrate for a display device that can accurately perform an arrangement.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 제공되는 본 발명에 따른 디스플레이 장치용 기판의 제조방법은 이형필름의 일면에 전극을 형성하는 단계(S110); 상기 이형필름의 전극이 형성된 면을 기판에 부착시키는 단계(S120); 상기 전극이 기판에 전사된 상태로 이형필름만 기판에서 분리하는 단계(S130); 상기 기판을 UV 경화 처리하는 단계(S140); 및, 상기 기판을 소성 처리하는 단계(S150);를 포함하며, 상기 전극은 ITO 또는 탄소나노튜브 전극인 것을 특징으로 한다.Method of manufacturing a substrate for a display device according to the present invention provided to achieve the above object comprises the steps of forming an electrode on one surface of the release film (S110); Attaching a surface on which the electrode of the release film is formed to a substrate (S120); Separating only the release film from the substrate while the electrode is transferred to the substrate (S130); UV curing the substrate (S140); And firing the substrate (S150); wherein the electrode is an ITO or carbon nanotube electrode.

여기서, 상기 S110 단계는, 수지공급롤러에 전극 수지를 공급하는 단계; 상기 수지공급롤러가 회전하면서 수지공급롤러와 연접하여 회전하는 패턴형성롤러의 패턴홈으로 상기 전극 수지를 전달하는 단계; 상기 패턴형성롤러가 회전하면서 상기 패턴형성롤러와 연접하여 회전하는 블랭킷롤러의 외주면에 패턴홈 내에 수용되어 있는 상기 전극 수지를 전달하는 단계; 및, 상기 블랭킷롤러가 회전하면서 상기 블랭킷롤러와 연접하여 회전하는 가압롤러 사이를 통과하는 이형필름의 일면에 패터닝된 전극 수지를 전달하여 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것이 좋다.Here, the step S110, the step of supplying the electrode resin to the resin supply roller; Transferring the electrode resin to the pattern groove of the pattern forming roller which is rotated in contact with the resin supply roller while the resin supply roller rotates; Transferring the electrode resin accommodated in the pattern groove to the outer circumferential surface of the blanket roller which is rotated in contact with the pattern forming roller while the pattern forming roller rotates; And transferring the patterned electrode resin to one surface of the release film passing between the pressing rollers which rotate in contact with the blanket roller while the blanket roller rotates to form an electrode.

상기 제조방법은 상기 블랭킷롤러의 외주면에 상기 패턴홈 내에 수용되어 있는 전극 수지를 전달하는 단계 이후, 상기 블랭킷롤러에 자외선(UV)을 조사하여 전극 수지 패턴을 경화시키는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.The manufacturing method may further include curing the electrode resin pattern by irradiating ultraviolet (UV) to the blanket roller after the step of delivering the electrode resin contained in the pattern groove to the outer peripheral surface of the blanket roller. .

또한, 상기 S110 단계는, 상기 전극과 대응하는 패턴의 성형홈이 형성된 성형롤러에 상기 전극 수지를 공급하고, 상기 성형롤러의 양측에 연접한 한 쌍의 가압롤러와 성형롤러의 외주면 사이로 상기 이형필름을 통과시켜 상기 이형필름이 상기 성형롤러의 외주면에 밀착되면서 이동하는 과정에서 상기 성형롤러의 성형홈 내의 상기 전극 수지가 상기 이형필름에 전달되도록 하는 공정을 연속적으로 수행하여, 상기 이형필름에 상기 전극을 연속적으로 형성하는 것이 바람직하다.In addition, in the step S110, the electrode resin is supplied to a forming roller in which a forming groove of a pattern corresponding to the electrode is formed, and the release film is formed between a pair of pressure rollers connected to both sides of the forming roller and an outer circumferential surface of the forming roller. In the process of moving the release film while being in close contact with the outer peripheral surface of the molding roller to pass through the electrode resin in the molding groove of the molding roller to be continuously transferred to the release film, the electrode on the release film It is preferable to form continuously.

아울러, 상기 패턴형성롤러의 일측에는 상기 전극 수지가 상기 패턴홈 이외의 부분에 잔류하지 않도록 긁어내는 스크라이버가 추가로 구비되는 것이 좋다.In addition, one side of the pattern forming roller is preferably provided with a scriber to scrape so that the electrode resin does not remain in the portion other than the pattern groove.

또한, 상기 ITO 또는 탄소나노튜브 전극은 UV경화수지 도는 열경화성 수지와 혼합 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the ITO or carbon nanotube electrode is preferably formed by mixing with the UV curable resin or thermosetting resin.

본 발명에 따른 디스플레이 장치용 기판의 제조방법에 의하면, 이형필름에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 형성하여 기판에 전사시켜 접합하는 방식으로 투명전극을 용이하게 형성할 수 있으며, 이에 따라 생산효율성이 높고, 공정용 마스크 사용을 감소시켜 비용을 절감하며, 박막트랜지스터의 설치배열을 정확하게 수행할 수 있다. 또한, 인쇄 형상이 안정되고 전극의 높이 오차가 줄어드는 효과가 있다.According to the method for manufacturing a substrate for a display device according to the present invention, a transparent electrode can be easily formed by forming an ITO or carbon nanotube electrode on a release film and transferring the resultant to a substrate, thereby achieving high production efficiency. In addition, the use of process masks can be reduced to reduce costs, and the arrangement of thin film transistors can be accurately performed. In addition, there is an effect that the printing shape is stabilized and the height error of the electrode is reduced.

본 발명의 상기와 같은 목적, 특징 및 다른 장점들은 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명함으로써 더욱 명백해질 것이다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 구비한 디스플레이 장치용 기판의 제조방법을 상세히 설명하기로 한다.The above objects, features and other advantages of the present invention will become more apparent by describing the preferred embodiments of the present invention in detail with reference to the accompanying drawings. Hereinafter, a method of manufacturing a substrate for a display device having an ITO or carbon nanotube electrode according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 구비한 디스플레이 장치용 기판의 일 실시 예로서 유기발광다이오드(OLED) 기판의 구조를 나타낸 단면도이다. 2 is a cross-sectional view illustrating a structure of an organic light emitting diode (OLED) substrate as an example of a substrate for a display device having an ITO or carbon nanotube electrode according to the present invention.

도 2를 살펴보면, 본 발명의 디스플레이 장치용 기판(1)은 기판(1)에 수지층(2)(resin layer)이 도포되고, 이 수지층(2) 위에 소정의 패턴을 갖는 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)이 형성된 구조로 이루어진다. 기판(1)은 유리 또는 플라스틱 기판과 같은 단단한 성질을 갖는 것을 이용할 수도 있으나, 휨이나 접힘 등의 성질이 있는 유연한 필름 재질로 이루어짐이 바람직하다. 상기 수지층(2)은 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 부착시키기 위한 것으로, 수지층(2) 자체가 접착성을 가지고 있는 접착제로 이루어질 수도 있다.2, the display device substrate 1 of the present invention is coated with a resin layer 2 (resin layer) on the substrate 1, ITO or carbon nano having a predetermined pattern on the resin layer (2) The tube electrode 4 is formed. The substrate 1 may be one having a rigid property such as a glass or plastic substrate, but is preferably made of a flexible film material having properties such as bending and folding. The resin layer 2 is for attaching the ITO or carbon nanotube electrode 4, and may be made of an adhesive having the adhesiveness of the resin layer 2 itself.

도 2의 유기발광다이오드(OLED)에 있어서, 발광한 빛을 외부로 방출하기 위한 투명 전극 재료로써 ITO가 많이 사용되는데, ITO는 일반 금속보다 저항이 높지 만 투명하고 정공의 주입효율, 표면저항이 낮은 성질을 갖기 때문이다.In the organic light emitting diode (OLED) of FIG. 2, ITO is widely used as a transparent electrode material for emitting emitted light to the outside. Although ITO has higher resistance than ordinary metals, ITO is transparent and has high hole injection efficiency and surface resistance. This is because it has a low property.

또한, 상기 탄소나노튜브 전극은 단중벽 나노튜브(single-walled nanotube; SWNT) 또는 다중벽 나노튜브(multiwalled nanotube; MWNT)의 금속성 성질을 갖는 탄소나노튜브를 도포함으로써 형성된다.In addition, the carbon nanotube electrode is formed by applying carbon nanotubes having metallic properties of single-walled nanotubes (SWNTs) or multiwalled nanotubes (MWNTs).

잘 알려진 바와 같이, 탄소나노튜브는 탄소로 이루어진 탄소동소체로서 하나의 탄소가 다른 탄소원자와 육각형 벌집무늬로 결합되어 튜브형태를 이루고 있는 물질이며, 튜브의 직경이 나노미터(nm=10억분의 1미터) 수준으로 극히 작은 영역의 물질이다. 이러한 탄소나노튜브는 전도성이 구리(Cu)의 약 1000배이고, 강도는 강철보다 100배나 뛰어나다. 또한, 탄소섬유는 1%만 변형시켜도 끊어지는 반면 탄소나노튜브는 15%가 변형되어도 견디는 특성이 있는 것으로 알려져 있다.As is well known, carbon nanotubes are carbon allotrope made of carbon, and carbon is formed in the shape of tube by combining one carbon atom with hexagonal honeycomb pattern with other carbon atoms. Is a very small area of matter. These carbon nanotubes are about 1000 times more conductive than copper (Cu) and are 100 times stronger than steel. In addition, the carbon fiber is broken even when only 1% deformation, it is known that the carbon nanotubes have a characteristic to withstand 15% deformation.

탄소나노튜브는 이러한 우수한 전기적, 열적, 기계적 특성을 가지고 있기 때문에 리튬이온전지, 수소저장 연료전지, 나노 와이어, 나노 캡슐, 나노 핀셋 등의 매우 다양한 분야에 응용되고 있으며, 특히 최근에는 전계방출 디스플레이장치(FED: Field Emission Display)와 같은 디스플레이장치에도 적용되고 있다.Since carbon nanotubes have such excellent electrical, thermal, and mechanical properties, they are applied to a wide variety of fields such as lithium ion batteries, hydrogen storage fuel cells, nanowires, nanocapsules, and nano tweezers. It is also applied to display devices such as (FED: Field Emission Display).

본 발명에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 구비한 디스플레이 장치용 기판(1)은 이형필름을 이용하여 유기발광다이오드(OLED)의 기판(1) 상에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 도포하는 작업에 의해 원하는 패턴으로 제조된다.The substrate 1 for a display device having the ITO or carbon nanotube electrode 4 according to the present invention is coated with an ITO or carbon nanotube electrode on the substrate 1 of the organic light emitting diode (OLED) using a release film. It is produced in a desired pattern by the work.

이하, 본 발명에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 구비한 디스플레이 장치용 기판(1)을 제조하는 방법의 실시 예들에 대해 구체적으로 설명한다.Hereinafter, embodiments of the method of manufacturing the substrate 1 for a display device having the ITO or carbon nanotube electrode 4 according to the present invention will be described in detail.

도 3은 도 2의 유기발광다이오드 기판(1)의 제조방법의 일 실시 예를 설명하 는 순서도, 도 4는 본 발명에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 구비한 디스플레이 장치용 기판(1)의 제조방법 중 이형필름(F)에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 형성하는 방법의 일 실시 예를 개략적으로 나타내는 구성도, 도 5는 본 발명에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 구비한 디스플레이 장치용 기판(1)의 제조방법 중 이형필름(F)에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 형성하는 방법의 다른 실시 예를 개략적으로 나타내는 구성도, 및 도 6은 본 발명에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 구비한 디스플레이 장치용 기판(1)의 제조방법 중 이형필름(F)에 형성된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 기판(1)에 전사하는 방법의 일 실시 예를 개략적으로 나타내는 구성도이다.3 is a flowchart illustrating an embodiment of a method of manufacturing the organic light emitting diode substrate 1 of FIG. 2, and FIG. 4 is a substrate for a display device having an ITO or carbon nanotube electrode 4 according to the present invention. 1) schematically showing an embodiment of the method for forming the ITO or carbon nanotube electrode 4 on the release film (F) of the manufacturing method of Figure 5, Figure 5 is an ITO or carbon nanotube electrode according to the present invention ( FIG. 6 schematically shows another embodiment of the method for forming the ITO or carbon nanotube electrode 4 on the release film F in the method of manufacturing the substrate 1 for display device having the display device 4. Transfer of the ITO or carbon nanotube electrode 4 formed on the release film (F) to the substrate 1 in the manufacturing method of the substrate 1 for display device having the ITO or carbon nanotube electrode 4 according to the present invention It is a schematic diagram showing an embodiment of a method.

도 3에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 구비한 디스플레이 장치용 기판(1)의 제조방법은 이형필름(F)의 일면에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 형성하는 단계(S110), 이형필름(F)의 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)이 형성된 면을 기판(1)에 부착시키는 단계(S120), ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)이 기판(1)에 전사된 상태로 이형필름(F)만 기판(1)에서 분리하는 단계(S130), 기판(1)을 UV 경화 처리하는 단계(S140), 및 기판(1)을 히팅 장치에 의해 소성 처리하는 단계(S150)로 이루어진다.As shown in FIG. 3, in the method of manufacturing the substrate 1 for a display device having the ITO or carbon nanotube electrode 4 according to the present invention, the ITO or carbon nanotube electrode 4 is formed on one surface of the release film F. FIG. ) (S110), the step of attaching the surface on which the ITO or carbon nanotube electrode 4 of the release film (F) is formed (S120), the ITO or carbon nanotube electrode (4) Separating only the release film F from the substrate 1 in a state transferred to the substrate 1 (S130), UV-curing the substrate 1 (S140), and the substrate 1 to the heating apparatus. It consists of the step of baking (S150).

상기 제1단계(S110)는 도 4에서 도시된 것과 같은 오프셋(off-set) 기술과 롤러 스크라이빙(roller scribing) 기술을 혼합한 방식의 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 성형장치(110)를 이용하여 이루어질 수 있다.The first step (S110) uses an ITO or carbon nanotube electrode forming apparatus 110 that combines an offset technique and a roller scribing technique as shown in FIG. 4. It can be done by.

구체적으로 설명하면, 이형필름(F)에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 형성 하기 위한 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 성형장치(110)는, ITO 또는 탄소나노튜브 전극 수지(4a)가 담겨진 수지공급부(111), 수지공급부(111)의 상측에 회전가능하게 설치되며 하단부 외주면이 수지공급부(111)에 담겨진 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 수지(4a)에 잠겨지는 수지공급롤러(112), 수지공급롤러(112)의 상측에 연접하게 설치되며 외주면에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)과 대응하는 패턴의 패턴홈(114)들이 형성되어 수지공급롤러(112)의 외주면으로부터 패턴홈(114) 내측으로 수지를 전달받는 패턴형성롤러(113), 패턴형성롤러(113)의 상측에 연접하게 설치되어 패턴형성롤러(113)의 패턴홈(114)으로부터 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 수지(4a)를 전달받는 블랭킷롤러(115), 블랭킷롤러(115)의 상측에 연접하게 설치되어 블랭킷롤러(115)의 외주면을 통과하는 이형필름(F)을 블랭킷롤러(115)에 대해 가압하여 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 수지(4a)를 이형필름(F)에 접합시키는 가압롤러(116)를 포함하여 구성된다.Specifically, the ITO or carbon nanotube electrode forming apparatus 110 for forming the ITO or carbon nanotube electrode 4 on the release film F is a resin containing ITO or carbon nanotube electrode resin 4a. Resin supply roller 112, the resin supply roller 112 is rotatably installed on the upper side of the supply unit 111, the resin supply unit 111, and the outer peripheral surface of the lower end is immersed in the ITO or carbon nanotube electrode resin 4a contained in the resin supply unit 111, resin supply It is installed in contact with the upper side of the roller 112 and the pattern groove 114 of the pattern corresponding to the ITO or carbon nanotube electrode 4 is formed on the outer peripheral surface to the inside of the pattern groove 114 from the outer peripheral surface of the resin supply roller 112 It is installed in the pattern forming roller 113, the upper side of the pattern forming roller 113 to receive the resin to transfer the ITO or carbon nanotube electrode resin (4a) from the pattern groove 114 of the pattern forming roller 113 The image of the receiving blanket roller 115 and the blanket roller 115 Pressure to release the release film (F) which is installed in contact with and passes through the outer circumferential surface of the blanket roller (115) against the blanket roller (115) to bond the ITO or carbon nanotube electrode resin (4a) to the release film (F). And a roller 116.

패턴형성롤러(113)의 일측에는 패턴형성롤러(113)의 외면에 도포된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 수지(4a)가 패턴홈(114) 이외의 부분에 잔류하지 않도록 긁어내는 스크라이버(117)가 설치된다. 그리고 블랭킷롤러(115)의 외주면으로 자외선(UV)을 조사하여 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 수지(4a)를 경화시키는 UV 경화장치(118)가 설치된다.On one side of the pattern forming roller 113, the scriber 117 scraping off so that the ITO or carbon nanotube electrode resin 4a applied to the outer surface of the pattern forming roller 113 does not remain in portions other than the pattern groove 114. Is installed. A UV curing apparatus 118 is provided to cure ITO or carbon nanotube electrode resin 4a by irradiating ultraviolet (UV) to the outer circumferential surface of the blanket roller 115.

상기와 같이 구성된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 성형장치(110)에 의해 이형필름(F)에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)이 형성되는 과정을 설명하면 다음과 같다.The process of forming the ITO or carbon nanotube electrode 4 on the release film F by the ITO or carbon nanotube electrode forming apparatus 110 configured as described above is as follows.

수지공급롤러(112)가 회전하면 수지공급롤러(112)의 외주면에 수지공급부(111) 내측에 마련된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지(4a)가 도포된다. 이때, 패턴형성롤러(113)는 수지공급롤러(112)와 반대 방향으로 회전하면서 수지공급롤러(112)에 도포된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 수지(4a)를 전달받는다.When the resin feed roller 112 rotates, ITO or carbon nanotube electrode resin 4a provided inside the resin feed part 111 is coated on the outer circumferential surface of the resin feed roller 112. At this time, the pattern forming roller 113 is rotated in the opposite direction to the resin supply roller 112 receives the ITO or carbon nanotube electrode resin (4a) applied to the resin supply roller 112.

패턴형성롤러(113)로 전달된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지(4a)는 스크라이버(117)를 지나면서 패턴홈(114) 외측에 도포된 부분들은 제거되고 패턴홈(114) 내측에 수용된 부분들만 잔류하게 된다. 패턴형성롤러(113)의 패턴홈(114) 내측에 수용되어 있던 ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지(4a)는 블랭킷롤러(115)와 연접하는 부분에서 표면 에너지가 패턴형성롤러(113)에 비하여 상대적으로 높은 블랭킷롤러(115)의 외주면으로 옮겨지게 된다.The ITO or carbon nanotube electrode resin 4a transferred to the pattern forming roller 113 passes through the scriber 117, and portions coated on the outside of the pattern groove 114 are removed and accommodated inside the pattern groove 114. Only will remain. The surface energy of the ITO or carbon nanotube electrode resin 4a housed inside the pattern groove 114 of the pattern forming roller 113 is in contact with the blanket roller 115 relative to the pattern forming roller 113. As a result, it is moved to the outer circumferential surface of the high blanket roller 115.

블랭킷롤러(115)에 옮겨진 ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지(4a)는 UV 경화장치(118)에 의해 경화되어 어느 정도의 점성을 갖게 되며, 이후 가압롤러(116)와 블랭킷롤러(115) 사이를 통과하는 이형필름(F)의 일면에 접합된다.The ITO or carbon nanotube electrode resin 4a transferred to the blanket roller 115 is cured by the UV curing apparatus 118 to have a certain viscosity, and then, between the pressure roller 116 and the blanket roller 115. It is bonded to one surface of the release film (F) passing through.

전술한 것과 같이 오프셋 기술과 롤러 스크라이빙 기술을 혼합한 방식으로 이형필름(F)에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 도포할 경우 정확한 패턴으로 인쇄가 이루어질 수 있는 이점이 있다. 여기서 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)은 다양한 형상일 수 있는데, 이에 맞도록 패턴홈(114)을 형성할 수 있음은 물론이다.As described above, when the ITO or carbon nanotube electrode 4 is applied to the release film F in a manner in which an offset technique and a roller scribing technique are mixed, printing may be performed in an accurate pattern. In this case, the ITO or carbon nanotube electrode 4 may have various shapes, and the pattern groove 114 may be formed to suit this.

또한, 도 5에서 도시한 것과 같이 롤프린팅 방식을 적용한 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 성형장치(210)를 이용하여 이형필름(F)에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 연속하여 형성할 수 있다.In addition, the ITO or carbon nanotube electrode 4 may be continuously formed on the release film F by using the ITO or carbon nanotube electrode forming apparatus 210 to which the roll printing method is applied as shown in FIG. 5. .

도 5에 도시된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 성형장치(210)는 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)과 대응하는 패턴의 성형홈(214)이 형성된 성형롤러(213), 성형롤러(213)의 상측에서 ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지(4a)를 공급하는 수지공급부(211), 성형롤러(213)의 양측에 연접하게 설치된 한 쌍의 가압롤러(216), 성형롤러(213)의 외주면에 도포된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지(4a)를 긁어 성형롤러(213)의 성형홈(214)에만 ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지(4a)가 잔류하도록 하는 스크라이버(217), 성형롤러(213)의 일측에서 ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지(4a)를 경화시키기 위한 자외선(UV)을 조사하는 UV 경화장치(218)를 포함하여 구성된다.The ITO or carbon nanotube electrode forming apparatus 210 shown in FIG. 5 includes a forming roller 213 and a forming roller 213 in which forming grooves 214 of a pattern corresponding to the ITO or carbon nanotube electrodes 4 are formed. It is applied to the outer circumferential surface of the pair of pressure rollers 216 and the forming rollers 213 which are connected to both sides of the resin supply unit 211 and the forming roller 213 to supply the ITO or carbon nanotube electrode resin 4a from the upper side. The scriber 217 and the forming roller 213 which scrape the ITO or carbon nanotube electrode resin 4a so that the ITO or carbon nanotube electrode resin 4a remains only in the forming groove 214 of the forming roller 213. On one side of the ITO or carbon nanotube electrode resin 4a is configured to include a UV curing device 218 for irradiating ultraviolet (UV) for curing.

상기와 같이 구성된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 성형장치(210)를 이용하여 이형필름(F)에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 형성하는 공정은 다음과 같이 이루어진다.The ITO or carbon nanotube electrode 4 is formed on the release film F by using the ITO or carbon nanotube electrode forming apparatus 210 configured as described above.

도 5에서 도시된 바와 같이, 이형필름(F)이 성형롤러(213) 및 가압롤러(216) 사이를 통과하면서 성형롤러(213)에 밀착되어 진행하도록 한 상태에서 ITO 또는 탄소나노튜브 전극 성형장치(210)의 성형롤러(213) 상측에서 일방향으로 회전하는 성형롤러(213)의 외면에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지(4a)를 공급한다.As shown in FIG. 5, the ITO or carbon nanotube electrode forming apparatus in a state where the release film F is brought into close contact with the forming roller 213 while passing between the forming roller 213 and the pressure roller 216. ITO or carbon nanotube electrode resin 4a is supplied to the outer surface of the forming roller 213 which rotates in one direction from above the forming roller 213 of (210).

성형롤러(213)의 외면에 공급된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지(4a)는 스크라이버(217)에 의해 긁히면서 성형홈(214) 내측에만 잔류하게 된다. 상기 성형롤러(213)의 성형홈(214) 내측에 수용된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지(4a)는 성형롤러(213)와 이형필름(F)이 박리되는 지점에서 이형필름(F)에 옮겨져 접착되고, 이 로써 이형필름(F)에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)이 일정한 패턴으로 형성된다. 여기서 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)은 다양한 형상일 수 있는데, 이에 맞도록 성형홈(214)을 형성할 수 있음은 물론이다.The ITO or carbon nanotube electrode resin 4a supplied to the outer surface of the forming roller 213 remains only in the forming groove 214 while being scratched by the scriber 217. The ITO or carbon nanotube electrode resin 4a accommodated inside the forming groove 214 of the forming roller 213 is transferred to the release film F at the point where the forming roller 213 and the release film F are peeled off and adhered thereto. Thus, the ITO or carbon nanotube electrode 4 is formed in the release film F in a predetermined pattern. Here, the ITO or carbon nanotube electrode 4 may have various shapes, and of course, the forming groove 214 may be formed to fit thereto.

도 4과 도 5를 참조하여 설명한 방식 중 어느 하나의 방식을 선택하여 이형필름(F)에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)이 형성되면, 이형필름(F)의 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 기판(1)에 전사하는 공정을 수행한다.When the ITO or carbon nanotube electrode 4 is formed on the release film F by selecting any of the methods described with reference to FIGS. 4 and 5, the ITO or carbon nanotube electrode of the release film F ( 4) is transferred to the substrate 1.

예를 들어, 도 6에 도시한 것과 같이, 기판(1)을 일 방향으로 수평 이동하도록 구성하고, 기판(1)의 상측에 복수개의 가압롤러(316)를 구성하며, 이형필름(F)이 기판(1)과 가압롤러(316) 사이를 지나면서 가압롤러(316)에 의해 가압되도록 구성하여, 이형필름(F)이 가압롤러(316)에 의해 가압되면서 이형필름(F)의 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)이 기판(1)의 면에 그대로 전사되도록 한 다음, 이형필름(F)을 분리하여 기판(1) 면에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 적층시킨다.For example, as shown in FIG. 6, the substrate 1 is configured to move horizontally in one direction, and a plurality of pressure rollers 316 are formed on the substrate 1, and the release film F is formed. It is configured to be pressed by the pressure roller 316 while passing between the substrate 1 and the pressure roller 316, the release film (F) is pressed by the pressure roller 316, ITO or carbon of the release film (F) After the nanotube electrode 4 is transferred to the surface of the substrate 1 as it is, the release film F is separated and the ITO or carbon nanotube electrode 4 is laminated on the surface of the substrate 1.

이후, UV 경화장치(318) 및/또는 히팅장치(320)를 이용하여 기판(1)에 자외선을 조사하거나 열을 가하여 소성공정을 수행함으로써 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)과 기판(1) 면 간의 계면 접착력을 증대시키는 작업을 수행하는 것이 바람직하다.Subsequently, the ITO or carbon nanotube electrode 4 and the substrate 1 are subjected to the firing process by irradiating ultraviolet rays or applying heat to the substrate 1 using the UV curing apparatus 318 and / or the heating apparatus 320. It is desirable to perform an operation to increase the interfacial adhesion between the faces.

여기서, ITO 또는 탄소나노튜브 전극은 UV경화수지나 열경화성수지와 혼합된 상태로 존재하다가 히팅장치(320)에 의해 열이 가해져 소성처리되고, 이로써 두께가 감소함으로써 사용자가 원하는 두께를 획득할 수 있다. 물론 ITO와 탄소나노튜브의 녹는점 등의 한계온도를 고려하여 재료마다 가열온도를 다르게 설정하여 소성 공정을 행하여야 할 것이다.Here, the ITO or carbon nanotube electrode is present in a mixed state with the UV curable resin or the thermosetting resin, and is heated by the heating apparatus 320 to be calcined, thereby reducing the thickness, thereby obtaining a desired thickness. . Of course, in consideration of the limit temperature such as melting point of ITO and carbon nanotubes, the firing process should be performed by setting the heating temperature differently for each material.

이와 같이 본 발명에 따르면, 이형필름(F)에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 정확한 패턴으로 형성한 다음, 이형필름(F)에 형성된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 디스플레이 장치의 기판(1) 면에 그대로 전사하여 접착시킴으로써 기판(1) 면에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)이 형성된다. 따라서, 기판(1) 면에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 형성하는 공정이 매우 단순화되고, 기판(1) 면에 정확한 패턴으로 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)을 형성할 수 있게 되어 고품질의 디스플레이 장치를 구현할 수 있게 된다. 여기서 ITO 또는 탄소나노튜브 전극(4)이 기판(1)에 용이하게 부착될 수 있도록 접착성의 수지층(2)이 추가로 구비될 수 있다.As described above, according to the present invention, the ITO or carbon nanotube electrode 4 is formed on the release film F in an accurate pattern, and then the ITO or carbon nanotube electrode 4 formed on the release film F is formed on the display device. The ITO or carbon nanotube electrode 4 is formed on the surface of the substrate 1 by transferring the adhesive onto the surface of the substrate 1 as it is. Accordingly, the process of forming the ITO or carbon nanotube electrode 4 on the surface of the substrate 1 is greatly simplified, and the ITO or carbon nanotube electrode 4 can be formed on the surface of the substrate 1 in an accurate pattern. A high quality display device can be realized. Here, the adhesive resin layer 2 may be further provided so that the ITO or carbon nanotube electrode 4 may be easily attached to the substrate 1.

본 발명에 따른 탄소나노튜브 전극(4)을 구비한 디스플레이 장치용 기판(1)의 제조방법에 의하면, 이형필름(F)에 탄소나노튜브 전극(4)을 형성하여 기판(1)에 전사시켜 접합하는 방식으로 투명전극을 용이하게 형성할 수 있으며, 이에 따라 생산효율성이 높고, 공정용 마스크 사용을 감소시켜 비용을 절감하며, 박막트랜지스터의 설치배열을 정확하게 수행할 수 있는 효과가 있다.According to the manufacturing method of the substrate 1 for a display apparatus provided with the carbon nanotube electrode 4 according to the present invention, the carbon nanotube electrode 4 is formed on the release film F and transferred to the substrate 1. The transparent electrode can be easily formed by bonding, thereby increasing production efficiency, reducing the use of process masks, and reducing costs, and accurately installing the thin film transistors.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니한다. 즉, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자라면 첨부된 특허청구범위의 사상 및 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능하며, 그러한 모든 적절한 변경 및 수정의 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.While preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described specific embodiments. That is, those skilled in the art to which the present invention pertains can make many changes and modifications to the present invention without departing from the spirit and scope of the appended claims, and all such appropriate changes and modifications are possible. Equivalents should be considered to be within the scope of the present invention.

도 1은 종래의 롤러를 이용한 전극 형성 방법을 나타낸 도면,1 is a view showing an electrode forming method using a conventional roller,

도 2는 본 발명에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 구비한 디스플레이 장치용 기판의 일 실시 예로서 유기발광다이오드(OLED) 기판의 구조를 나타낸 단면도,2 is a cross-sectional view illustrating a structure of an organic light emitting diode (OLED) substrate as an example of a substrate for a display device having an ITO or carbon nanotube electrode according to the present invention;

도 3은 도 2의 유기발광다이오드 기판의 제조방법의 일 실시 예를 설명하는 순서도,3 is a flowchart illustrating an embodiment of a method of manufacturing an organic light emitting diode substrate of FIG. 2.

도 4는 본 발명에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 구비한 디스플레이 장치용 기판의 제조방법 중 이형필름에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 형성하는 방법의 일 실시 예를 개략적으로 나타내는 구성도,4 is a configuration diagram schematically showing an embodiment of a method of forming an ITO or carbon nanotube electrode on a release film of the method for manufacturing a substrate for a display device having an ITO or carbon nanotube electrode according to the present invention;

도 5는 본 발명에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 구비한 디스플레이 장치용 기판의 제조방법 중 이형필름에 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 형성하는 방법의 다른 실시 예를 개략적으로 나타내는 구성도, 및5 is a configuration diagram schematically showing another embodiment of a method of forming an ITO or carbon nanotube electrode on a release film in a method of manufacturing a substrate for a display device having an ITO or carbon nanotube electrode according to the present invention; and

도 6은 본 발명에 따른 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 구비한 디스플레이 장치용 기판의 제조방법 중 이형필름에 형성된 ITO 또는 탄소나노튜브 전극을 기판에 전사하는 방법의 일 실시 예를 개략적으로 나타내는 구성도이다.6 is a schematic view showing an embodiment of a method of transferring an ITO or carbon nanotube electrode formed on a release film to a substrate in a method of manufacturing a substrate for a display device having an ITO or carbon nanotube electrode according to the present invention; to be.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1 : 기판 2 : 수지층1 substrate 2 resin layer

4 : ITO 또는 탄소나노튜브 전극 4a : ITO 또는 탄소나노튜브 전극수지4: ITO or carbon nanotube electrode 4a: ITO or carbon nanotube electrode resin

110, 210 : ITO 또는 탄소나노튜브 전극 성형장치 111, 211 : 수지공급부110, 210: ITO or carbon nanotube electrode forming apparatus 111, 211: resin supply unit

112 : 수지공급롤러 113 : 패턴형성롤러112: resin supply roller 113: pattern forming roller

114 : 패턴홈 115 : 블랭킷롤러114: pattern groove 115: blanket roller

116, 216, 316 : 가압롤러 117, 217 : 스크라이버116, 216, 316: pressure roller 117, 217: scriber

118, 218, 318 : UV 경화장치 213 : 성형롤러118, 218, 318: UV curing apparatus 213: forming roller

214 : 성형홈 320 : 히팅장치 214: forming groove 320: heating device

Claims (6)

이형필름의 일면에 전극을 형성하는 단계(S110);Forming an electrode on one surface of the release film (S110); 상기 이형필름의 전극이 형성된 면을 기판에 부착시키는 단계(S120);Attaching a surface on which the electrode of the release film is formed to a substrate (S120); 상기 전극이 기판에 전사된 상태로 이형필름만 기판에서 분리하는 단계(S130);Separating only the release film from the substrate while the electrode is transferred to the substrate (S130); 상기 기판을 UV 경화 처리하는 단계(S140); 및,UV curing the substrate (S140); And, 상기 기판을 소성 처리하는 단계(S150);를 포함하며, 상기 전극은 ITO 또는 탄소나노튜브 전극인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법.And firing the substrate (S150); wherein the electrode is an ITO or carbon nanotube electrode. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 S110 단계는, 수지공급롤러에 전극 수지를 공급하는 단계;The step S110, supplying an electrode resin to the resin supply roller; 상기 수지공급롤러가 회전하면서 수지공급롤러와 연접하여 회전하는 패턴형성롤러의 패턴홈으로 상기 전극 수지를 전달하는 단계;Transferring the electrode resin to the pattern groove of the pattern forming roller which is rotated in contact with the resin supply roller while the resin supply roller rotates; 상기 패턴형성롤러가 회전하면서 상기 패턴형성롤러와 연접하여 회전하는 블랭킷롤러의 외주면에 패턴홈 내에 수용되어 있는 상기 전극 수지를 전달하는 단계; 및,Transferring the electrode resin accommodated in the pattern groove to the outer circumferential surface of the blanket roller which is rotated in contact with the pattern forming roller while the pattern forming roller rotates; And, 상기 블랭킷롤러가 회전하면서 상기 블랭킷롤러와 연접하여 회전하는 가압롤러 사이를 통과하는 이형필름의 일면에 패터닝된 전극 수지를 전달하여 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법.And transferring the patterned electrode resin to one surface of the release film passing between the pressing rollers rotating in contact with the blanket roller while the blanket roller rotates to form an electrode. Manufacturing method. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제조방법은 상기 블랭킷롤러의 외주면에 상기 패턴홈 내에 수용되어 있는 전극 수지를 전달하는 단계 이후, 상기 블랭킷롤러에 자외선(UV)을 조사하여 전극 수지 패턴을 경화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법.The manufacturing method further comprises the step of curing the electrode resin pattern by irradiating ultraviolet (UV) to the blanket roller after the step of delivering the electrode resin contained in the pattern groove to the outer peripheral surface of the blanket roller. The manufacturing method of the board | substrate for display apparatuses. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 S110 단계는, 상기 전극과 대응하는 패턴의 성형홈이 형성된 성형롤러에 상기 전극 수지를 공급하고, 상기 성형롤러의 양측에 연접한 한 쌍의 가압롤러와 성형롤러의 외주면 사이로 상기 이형필름을 통과시켜 상기 이형필름이 상기 성형롤러의 외주면에 밀착되면서 이동하는 과정에서 상기 성형롤러의 성형홈 내의 상기 전극 수지가 상기 이형필름에 전달되도록 하는 공정을 연속적으로 수행하여, 상기 이형필름에 상기 전극을 연속적으로 형성하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법.In the step S110, the electrode resin is supplied to a forming roller in which a forming groove of a pattern corresponding to the electrode is formed, and passes through the release film between a pair of pressure rollers connected to both sides of the forming roller and an outer circumferential surface of the forming roller. In the process of moving while the release film is in close contact with the outer peripheral surface of the forming roller to perform the process to continuously transfer the electrode resin in the forming groove of the forming roller to the release film, the electrode continuously on the release film The manufacturing method of the board | substrate for display apparatuses characterized by the above-mentioned. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 패턴형성롤러의 일측에는 상기 전극 수지가 상기 패턴홈 이외의 부분에 잔류하지 않도록 긁어내는 스크라이버가 추가로 구비되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법.One side of the pattern forming roller is a manufacturing method for a display device substrate, characterized in that further provided with a scriber scraping so that the electrode resin does not remain in the portion other than the pattern groove. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 ITO 또는 탄소나노튜브 전극은 UV경화수지 또는 열경화성수지와 혼합형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치용 기판의 제조방법.The ITO or carbon nanotube electrode is a method of manufacturing a substrate for a display device, characterized in that the mixture is formed with a UV curable resin or a thermosetting resin.
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