KR20100121465A - Solid powder formulations for the preparation of resin-coated foils and their use in the manufacture of printed circuit boards - Google Patents

Solid powder formulations for the preparation of resin-coated foils and their use in the manufacture of printed circuit boards Download PDF

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Abstract

본 발명은 고형 열경화성 수지 조성물 및 상기 수지 조성물을 사용한 수지 코팅된 호일과 유리 직물로 강화된 수지 코팅된 호일, 그리고 상기 호일을 인쇄회로기판의 제조에 사용하는 용도에 관한 것이다.The present invention relates to a solid thermosetting resin composition and a resin coated foil using the resin composition, a resin coated foil reinforced with glass fabric, and the use of the foil in the manufacture of a printed circuit board.

Description

수지 코팅된 호일 제조용 고형 분체 제제 및 이를 인쇄회로기판 제조에 사용하는 용도{SOLID POWDER FORMULATIONS FOR THE PREPARATION OF RESIN-COATED FOILS AND THEIR USE IN THE MANUFACTURE OF PRINTED CIRCUIT BOARDS}Solid powder formulation for resin coated foil manufacture and use for printed circuit board manufacturing {SOLID POWDER FORMULATIONS FOR THE PREPARATION OF RESIN-COATED FOILS AND THEIR USE IN THE MANUFACTURE OF PRINTED CIRCUIT BOARDS}

본 발명은 고형 열가소성 수지 조성물을 포함하는 고형 분체 제제, 이와 같은 제제로부터 제조되고, 임의로 강화된, 수지 코팅된 호일(foil) 및 이를 인쇄회로기판의 제조에 사용하는 용도에 관한 것이다.FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to solid powder formulations comprising a solid thermoplastic resin composition, optionally reinforced, resin coated foils made from such formulations, and the use thereof in the manufacture of printed circuit boards.

인쇄회로기판(PCB)을 제조하기 위해서, 열경화성 에폭시 수지 제제가 널리 사용된다. 열경화성 에폭시 수지 제제는 가격이 적당하고 전반적인 기술적 특성이 우수하기 때문에, 대부분의 전자 용도에서 여전히 공업 표준이 되고 있다(Martin W. Jawitz (Ed.), Printed circuit board materials handbook, McGraw Hill, New York, 1997, chapter 6). 에폭시를 이처럼 다목적으로 만드는 중요한 특성은, 예를 들자면, 우수한 열 안정성, 우수한 구리 박리 강도 또는 낮은 흡수성이다. 완성된 전자 제품에 요구되는 난연성을 확보하기 위해서, 에폭시 수지 자체가 일반적으로 난연성을 갖도록 제제화된다. 이러한 제제화는, 예컨대 브롬화 에폭시 수지를 사용함으로써, 이루어질 수 있다. 그러나, 환경상의 문제 및 OEM(Original Equipment Manufacturer, 최초 장비 제조업자)으로부터의 요청에 따라 이러한 수지의 사용이 점차 제한되고 있는 실정이다. 이에 따라, 인 화합물 또는 금속 수산화물(예: Al 또는 Mg 수산화물)을 주성분으로 하는 다른 난연제를 사용한다.In order to manufacture printed circuit boards (PCBs), thermosetting epoxy resin formulations are widely used. Thermosetting epoxy resin formulations are still the industry standard for most electronic applications because of their reasonable price and good overall technical properties (Martin W. Jawitz (Ed.), Printed circuit board materials handbook, McGraw Hill, New York, 1997, chapter 6). Important properties that make the epoxy so versatile are, for example, good thermal stability, good copper peel strength or low water absorption. In order to ensure the flame retardance required for the finished electronic product, the epoxy resin itself is generally formulated to be flame retardant. Such formulations can be made, for example, by using brominated epoxy resins. However, due to environmental problems and requests from original equipment manufacturers (OEMs), the use of such resins is increasingly limited. Accordingly, other flame retardants based on phosphorus compounds or metal hydroxides (eg Al or Mg hydroxides) are used.

기계적 특성을 향상시키기 위해서, 에폭시 수지와 강화 재료를 병용하여 처리함으로써 프리프레그(prepreg) 및 적층체를 제조하는 경우가 많다(Martin W. Jawitz (Ed.), Printed circuit board materials handbook, McGraw Hill, New York, 1997, chapter 9). 현재 가장 많이 사용되는 강화 재료는 유리 직물이다. 예를 들면, 통상적으로 프리프레그는 직물이 에폭시 수지 제제의 용매계 용액에 침지되어 있는 소위 처리제에 유리 직물을 함침시킨 후에 용매를 서서히 증발시키고 동시에 수지를 반경화(b-staging)함으로써 제조된다. 상기 용액의 낮은 점도에 기인하여, 유리 직물의 우수한 습윤이 용이하게 달성된다.To improve mechanical properties, prepreg and laminates are often manufactured by treating epoxy resin and reinforcing materials in combination (Martin W. Jawitz (Ed.), Printed circuit board materials handbook, McGraw Hill, New York, 1997, chapter 9). The most used tempered material at present is glass fabric. For example, prepregs are typically prepared by impregnating a glass fabric in a so-called treatment agent in which the fabric is immersed in a solvent-based solution of an epoxy resin formulation and then slowly evaporating the solvent and simultaneously b-staging the resin. Due to the low viscosity of the solution, good wetting of the glass fabric is easily achieved.

본질적으로, 용매계 공정은 몇가지 심각한 단점을 갖는다. 용매 자체는 완제품의 일부분이 아니다. 즉, 용매는 단지 용질(예: 에폭시 수지 제제)에 대한 담체 매체로서만 작용한다. 이와 같은 용액은 일반적으로 약 50%의 고형분을 갖는다. 이것은 용매가 그 목적을 위해 사용된 후에는, 다량의 에너지를 필요로 하는 공정을 통해 용매를 증발시키야 하며, 주로 소각에 의해서 폐기되어야 한다는 것, 즉, 원료의 약 50%가 폐기물로서 소진됨을 의미한다. 이로 말미암아 투자 비용이 상당히 증가하게 되고, 해당하는 플랜트의 운영 비용도 증가하게 된다. 건강, 환경, 안전 문제 및 VOC 규제도 다른 관점에서 중요한 고려 사항이다. 또한, 용매가 하중된 폐기물 공기를 취급할 필요가 있는 장치 및 폭발성 대기를 방지해야 하는 검출기의 코팅 라인은 복잡해지고 비용이 많이 들게 된다. 용매를 방출한 후 표면을 다시 레벨링(re-levelling)하는 시간이 다소 많이 소비되는 공정은, 분체 매트릭스를 단순히 용융시키고 레벨링하는 경우에 비해서, 본질적으로 느리게 진행되고 효율이 더 낮다. 더욱이, 분체 코팅이 사용될 경우에는 신속 경화 시스템이 사용될 때조차도 중간체 및 최종 생성물의 무용매 상태가 보장된다. 이러한 견지에서, 높은 생산량과 비교적 소형의 코팅 라인이 달성될 수 있다. 그 반면에, 인쇄회로기판 산업에 사용되는 원료 물질은 엄격한 요구사항을 만족해야한다. 특히, 고밀도 배선(high density interconnect, HDI) 층을 제조하기 위한 초박형 프리프레그 또는 수지 코팅된 호일은 통상의 분체 코팅 용도로부터 요구되는 것보다 훨씬 광범위한 OEM 요건에 부합하여야 한다. 다수의 무연 땜납 리플로우(reflow) 사이클을 통과하는데 필수적인 우수한 땜납 충격 내성은 탁월한 열적 강성을 필요로 한다. 낮은 흡수성은 JEDEC(Koint Electron Device Engineering Council, 접합 전자 장치 공학 협회) 요건에 부합하는데 필요하다(JEDEC 요건에 대한 참고 문헌, 다수의 무연 땜납 충격 테스트 및 CAF 내성). 낮은 용융 점도는 재료가 컨덕티스 애노딕 필라멘트 성장(conductive anodic filament growth)에 대한 내성(CAF 내성)을 갖는데 필수적인 직물 유리 섬유의 완전한 함침을 가능하게 한다. 이러한 모든 특성들을 충분히 낮은 UL-V0 연소 시간에 도달하는데 필요한 무할로겐 난연제의 존재하에서 유지시켜야 한다.In essence, solvent-based processes have some serious drawbacks. The solvent itself is not part of the finished product. That is, the solvent only acts as a carrier medium for the solute (eg epoxy resin formulation). Such solutions generally have about 50% solids. This means that after the solvent has been used for that purpose, the solvent must be evaporated through a process that requires a large amount of energy, which must be disposed of mainly by incineration, ie about 50% of the raw material is used up as waste. do. This significantly increases investment costs and increases the operating costs of the plant in question. Health, environmental and safety issues and VOC regulations are also important considerations from another perspective. In addition, the coating lines of the devices that need to handle solvent-loaded waste air and the detectors that must prevent explosive atmospheres become complicated and expensive. The process, which takes some time to re-level the surface again after releasing the solvent, is inherently slower and less efficient than simply melting and leveling the powder matrix. Moreover, when a powder coating is used, the solvent-free state of the intermediate and the final product is ensured even when a rapid curing system is used. In view of this, high yields and relatively small coating lines can be achieved. On the other hand, raw materials used in the printed circuit board industry must meet stringent requirements. In particular, ultra-thin prepregs or resin coated foils for making high density interconnect (HDI) layers must meet a much wider range of OEM requirements than would be required from conventional powder coating applications. The excellent solder impact resistance necessary to pass through multiple lead-free solder reflow cycles requires excellent thermal stiffness. Low absorbency is required to meet the requirements of the Koint Electron Device Engineering Council (JEDEC) (see references to JEDEC requirements, numerous lead-free solder impact tests, and CAF immunity). The low melt viscosity allows for complete impregnation of the fabric glass fibers which is essential for the material to be resistant to conductive anodic filament growth (CAF resistance). All these properties must be maintained in the presence of halogen-free flame retardants required to reach sufficiently low UL-V0 burn times.

유리 직물의 함침 및 PCB 산업에 사용되는 기재의 코팅에 이용되는 대부분의 열경화성 수지 조성물은 유기 용매뿐만 아니라 적용된 대다수의 원자재에 희석된다. 모든 이용가능한 무할로겐 난연제는 희석되거나, 열경화성 에폭시 수지 매트릭스 내로 반응할 가능성이 없는 액상의 인 함유 성분 또는 고형 첨가제이다. 다른 한편으로는, 금속 수산화물을 사용할 수도 있지만, 이와 같은 충전제는 허용 불가능한 정도로 높은 하중량이 필요하다. 일반적으로, 이러한 충전제들은 모두 기계적 특성 및 다른 특성들을 현저한 정도로 열화시킨다. 또한, 높은 충전제 하중량은 용융 점도를 크게 증가시킴으로써 섬유의 습윤 능력을 저하시킨다. 그러므로, 유리 직물을 함침 및 습윤시킬 수 있는 능력을 갖는 100% 고형분을 주성분으로 하는 에폭시 수지 제제를 제공하는 것이 바람직할 것이다. 이러한 고형 수지 제제는 분체로서 제조되어 그 상태 그대로 이용될 수 있다.Most thermosetting resin compositions used for impregnation of glass fabrics and coating of substrates used in the PCB industry are diluted in the majority of the raw materials applied as well as organic solvents. All available halogen free flame retardants are liquid phosphorus containing components or solid additives that are not diluted or are unlikely to react into the thermosetting epoxy resin matrix. On the other hand, although metal hydroxides may be used, such fillers require an unacceptably high loading. In general, these fillers all degrade mechanically and other properties to a significant extent. In addition, high filler loadings greatly increase the melt viscosity, thereby lowering the wetting ability of the fibers. Therefore, it would be desirable to provide an epoxy resin formulation based primarily on 100% solids having the ability to impregnate and wet the glass fabric. Such a solid resin formulation can be prepared as a powder and used as it is.

상기 고형 수지 제제는 몇 가지 경계 조건을 충족하여야 한다. 미경화된 상태(A 단계)에서의 조성물의 Tg는 분체를 제조하는데 필요한 다양한 처리 단계들(압출, 분쇄, 분류, 체분류)을 수행할 수 있도록 충분히 높아야 한다. Tg가 너무 낮을 경우에는, 교착이 일어날 수 있다. 동시에, 고온에서의 조성물의 용융 점도는 수지에 의해 유리 직물이 적절하게 함침될 수 있도록 충분히 낮아야 한다. 또한, 탁월한 내열성, 할로겐화 성분을 사용하지 않는 UL-V0 연소 성능, 낮은 흡수성, 및 우수한 구리 접착력은 PCB 용도에 사용되는 기본 재료에 대한 전형적인 요건을 충족하는데 결정적인 파라미터이다.The solid resin formulation must meet several boundary conditions. The Tg of the composition in the uncured state (step A) must be high enough to carry out the various processing steps (extrusion, grinding, fractionation, sifting) necessary to prepare the powder. If the Tg is too low, deadlocks may occur. At the same time, the melt viscosity of the composition at high temperature should be low enough so that the glass fabric can be impregnated properly with the resin. In addition, excellent heat resistance, UL-V0 combustion performance without halogenated components, low water absorption, and good copper adhesion are critical parameters to meet typical requirements for base materials used in PCB applications.

WO 2004/085550 A2호는 분체 코팅, 상기 분체 코팅을 주성분으로 하는 수성 분산액, 이의 제조 방법 및 기재상에서 코팅층을 제조하는 방법, 특히 다층 구조물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 상기 방법은 유기 용매의 사용을 전혀 필요로 하지 않는다.WO 2004/085550 A2 relates to powder coatings, aqueous dispersions based on said powder coatings, methods for their preparation and methods for preparing coating layers on substrates, in particular for producing multilayer structures. The method does not require the use of organic solvents at all.

본 발명의 목적은 낮은 용융 점도에서, 그러나 여전히 높은 분체의 Tg(50℃ 초과)에서 신속 경화가 가능한 분체 코팅 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명의 조성물은 난연성 수지 코팅된 호일을 제조하는데 유용해야 하며, 여기서 난연제가 경화 메카니즘에 악영향을 미쳐서는 안된다. 또한, 본 발명의 목적은 높은 구리 박리 강도, 개선된 저장 수명 및 우수한 가공 특성, 예컨대 분쇄 공정에서의 높은 처리량을 나타내는 조성물을 제공하는 것이다. 상기 조성물은 후속하는 적층 단계에서 공극, 습윤 결함부, 기포 등을 형성하는 일 없이 유리 직물을 성공적으로 함침시킬 수 있어야 한다.It is an object of the present invention to provide a powder coating composition which is capable of rapid curing at low melt viscosity but still at high powder Tg (greater than 50 ° C.). The composition of the present invention should be useful for making flame retardant resin coated foils, wherein the flame retardant should not adversely affect the curing mechanism. It is also an object of the present invention to provide compositions which exhibit high copper peel strength, improved shelf life and good processing properties such as high throughput in the grinding process. The composition should be able to successfully impregnate the glass fabric without forming voids, wet defects, bubbles, etc. in subsequent lamination steps.

본 발명에 의하면, 상기 목적은 하기 성분들 (A) 내지 (D)를 함유하는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 분체 제제에 의해서 달성된다:According to the invention, the above object is achieved by a powder formulation comprising a thermosetting resin composition containing the following components (A) to (D):

(A) 20℃에서 고체인 에폭시 수지,(A) an epoxy resin which is solid at 20 ° C.,

(B) 평균 작용기수가 3보다 크고, 바람직하게는 5보다 크며, 더욱 바람직하게는 7보다 크고, 가장 바람직하게는 9 이상이며 20℃에서 고체인 페놀계 경화제,(B) a phenolic curing agent having an average functional group greater than 3, preferably greater than 5, more preferably greater than 7, most preferably greater than or equal to 9 and solid at 20 ° C,

(C) 20℃에서 고체인 인 개질 에폭시 수지, 및(C) phosphorus modified epoxy resin which is solid at 20 ° C, and

(D) 잠재성 촉매(latent catalyst). (D) latent catalyst.

발명의 상세한 설명Detailed description of the invention

상기 성분 (A)는 에폭시 당량(EEW)이 150 내지 1800 g/eq 범위인 화학적으로 개질된 에폭시 수지인 것이 바람직하다.The component (A) is preferably a chemically modified epoxy resin having an epoxy equivalent (EEW) in the range of 150 to 1800 g / eq.

"에폭시 당량(EEW)"이란 용어는 1 그램 당량의 에폭시를 함유하는 그램 단위의 수지 중량으로서 정의된다. 상기 수지의 사슬이 측쇄 곁가지가 없는 선형인 것으로 가정하고 에폭시기가 각 단부의 끝이라고 가정한다면, 에폭사이드 당량은 디에폭시 수지의 평균 분자량의 1/2이고, 트리에폭시의 평균 분자량의 1/3이다. 당해 기술 분야에서, "에폭시가"라는 용어도 사용되며 수지 100 g에 함유된 에폭시기의 분수를 나타낸다. 위의 두 가지 용어는 호환적으로 사용된다. 에폭시가를 100으로 나누면 에폭사이드 당량이 제공된다. 에폭사이드 당량을 결정하는 실제 방법은 할로겐화수소를 에폭시기에 첨가하는 것에 근거한다. 표준 염기를 사용한 적정법에 의해 결정된, 첨가된 산의 양과 소모되지 않은 양의 차이가 에폭시 함량의 척도가 된다. 실제로, 염화수소, 브롬화수소 또는 요오드화수소가 사용된다.The term "epoxy equivalent" (EEW) is defined as the weight of a resin in grams containing one gram equivalent of epoxy. If the chain of the resin is assumed to be linear with no branched side chains and the epoxy group is at the end of each end, the epoxide equivalent is 1/2 of the average molecular weight of the diepoxy resin and 1/3 of the average molecular weight of the triepoxy. . In the art, the term "epoxy value" is also used to denote the fraction of epoxy groups contained in 100 g of resin. The two terms are used interchangeably. Dividing the epoxy number by 100 gives the epoxide equivalent weight. The actual method of determining the epoxide equivalent weight is based on adding hydrogen halide to the epoxy group. The difference between the amount of acid added and the amount not consumed, determined by titration with a standard base, is a measure of the epoxy content. In practice, hydrogen chloride, hydrogen bromide or hydrogen iodide is used.

상기 화학적으로 개질된 에폭시 수지로서는, 이소시아네이트 개질된 에폭시 수지, 부타디엔-아크릴니트릴 고무 개질된 에폭시 수지, 다작용기 에폭시-페놀 노보락 수지 및 비스페놀-A계 또는 시클로지방족 에폭시 수지를 들 수 있다.Examples of the chemically modified epoxy resins include isocyanate modified epoxy resins, butadiene-acrylonitrile rubber modified epoxy resins, polyfunctional epoxy-phenol novolak resins, and bisphenol-A or cycloaliphatic epoxy resins.

본 발명에 사용되는 적당한 고형 경화제(B)는 페놀 노보락 수지, 크레졸 노보락 수지 및 비스페놀 A 노보락 수지로 이루어진 군중에서 선택되며, 이들은 WO 2004/085550 A2호에 개시된 경화제처럼 에폭시기를 전혀 갖지 않는다.Suitable solid curing agents (B) for use in the present invention are selected from the group consisting of phenol novolak resins, cresol novolak resins and bisphenol A novolak resins, which do not have any epoxy groups as the curing agents disclosed in WO 2004/085550 A2. .

본 발명의 바람직한 실시양태에 의하면, 상기 고형 경화제(B)는 평균 작용기수가 9 이상인 페놀 노보락 수지이고, 여기서 평균 작용기수는 분자당 작용기(-OH)의 평균 수이다. 이와 같은 고형 경화제의 예로서는, TD2131(다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인코오포레이티드(Dainippon Ink & Chemicals Inc.)에서 시판함) 및 PF 0790 K04(헥시온(Hexion)에서 시판함)을 들 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention, the solid curing agent (B) is a phenol novolak resin having an average number of functional groups of 9 or more, wherein the average number of functional groups is the average number of functional groups (-OH) per molecule. Examples of such solid curing agents include TD2131 (commercially available from Dainippon Ink & Chemicals Inc.) and PF 0790 K04 (commercially available from Hexion).

성분 (C)는 예를 들면 DOPO(디-히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드) 개질된 다작용기 에폭시 페놀 또는 크레졸 노보락 수지 및 DOPO-HQ(2-(6-옥소-6H-6,5-디벤조[c,e] [1,2]옥사포스핀-6-일)벤젠-1,4-디올) 개질된 2작용기 에폭시 수지)로 이루어진 군중에서 선택된 고형의 인 개질 에폭시 수지이다. 또한, 스트럭톨(Struktol) VP 3752(쉴 앤 세일라커(Schill + Seilacher)에서 시판함) 및 엑사(EXA) 9726(다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인코오포레이티드에서 시판함)을 들 수 있다. 엑사 9726은 기본적으로 유기 용매(MEK, 아세톤) 중의 엑사 9726의 용액인 엑사 9710에 해당한다.Component (C) is, for example, DOPO (di-hydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide) modified multifunctional epoxy phenol or cresol novolak resin and DOPO-HQ (2- (6- Oxo-6H-6,5-dibenzo [c, e] [1,2] oxaphosphin-6-yl) benzene-1,4-diol) modified difunctional epoxy resin) Phosphorus modified epoxy resin. Stuktol VP 3752 (available from Schill + Seilacher) and EXA 9726 (available from Dainippon Ink and Chemicals, Inc.). Exa 9726 basically corresponds to Exa 9710, a solution of Exa 9726 in an organic solvent (MEK, acetone).

본 발명에 사용되는 또 다른 적당한 고형의 인 개질 에폭시 수지는 미국 특허 출원 공보 번호 US 2006/0223921 A1호에 개시되어 있다. 상기 특허 공보는 난연성 중합체용 프리폴리머를 개시하고 있으며, 이 프리폴리머는 하기 화학식 1로 표시되는 1종 이상의 포스핀산 유도체와 예를 들면 에폭시 수지를 반응시킴으로써 제조된다:Another suitable solid phosphorus modified epoxy resin for use in the present invention is disclosed in US Patent Application Publication No. US 2006/0223921 A1. This patent publication discloses a prepolymer for a flame retardant polymer, which is prepared by reacting, for example, an epoxy resin with at least one phosphinic acid derivative represented by the following general formula (1):

(화학식 1)(Formula 1)

(R1O)(R2)P(O)-R3 (R 1 O) (R 2 ) P (O) -R 3

상기 식에서, R1과 R2는 서로 독립적으로 탄소 원자 수가 1 내지 20개인 임의로 치환된 알킬, 아릴, 아릴알킬, 알킬아릴 또는 알킬아릴알킬기를 나타내고;Wherein R 1 and R 2 independently of each other represent an optionally substituted alkyl, aryl, arylalkyl, alkylaryl or alkylarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms;

R3은 수소 원자, 또는 탄소 원자 수가 1 내지 20개인 임의로 치환된 알킬, 아릴, 아릴알킬, 알킬아릴 또는 알킬아릴알킬기를 나타낸다.R 3 represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl, aryl, arylalkyl, alkylaryl or alkylarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

본 발명에 사용하는데 적당한 또 다른 인 개질 에폭시 수지가 일본 특허 출원 공보 번호 JP 2000080251호에 개시되어 있다.Another phosphorus modified epoxy resin suitable for use in the present invention is disclosed in Japanese Patent Application Publication No. JP 2000080251.

본 발명의 바람직한 실시양태에 의하면, 고형의 인 개질 에폭시 수지는 EEW가 500 g/eq 미만이고 인 함량이 2 중량%를 초과하는 2작용기 에폭시 수지이다.According to a preferred embodiment of the present invention, the solid phosphorus modified epoxy resin is a bifunctional epoxy resin having an EEW of less than 500 g / eq and a phosphorus content of more than 2% by weight.

상기 성분 (D)는 잠재성 촉매이다. 상기 잠재성 촉매는 주위 온도에서 화학적으로 보호되고, 촉매 활성 성분은 120℃보다 높은 고온에서 생성되며, 그 예로서는 디하드(Dyhard®) UR 300 및 디하드 UR 500(데구사(Degussa)에서 시판함)을 들 수 있다.Component (D) is a latent catalyst. The latent catalyst is chemically protected at ambient temperature, and the catalytically active component is produced at high temperatures above 120 ° C., examples of which are available from Dihard ® UR 300 and Dihard UR 500 (Degussa). ).

상기 잠재성 촉매(D)는 치환된 우레아 촉매 또는 우론형 촉매이다. 이러한 치환된 우레아 촉매는 하기 일반 화학 구조식으로 표시된다:The latent catalyst (D) is a substituted urea catalyst or ureon catalyst. Such substituted urea catalysts are represented by the following general chemical formula:

Figure pct00001
Figure pct00001

상기 식에서, R1은 치환 또는 미치환된 페닐기를 나타내고, R2와 R3는 동일하거나 상이할 수 있으며 탄소 원자 수가 1 내지 6개인 직쇄 또는 분지쇄 알킬기로부터 선택된다. Wherein R 1 represents a substituted or unsubstituted phenyl group and R 2 and R 3 may be the same or different and are selected from straight or branched chain alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms.

이와 같은 치환된 우레아 촉매를 4차 염화시키면 일반식 [R1R2N-C(OR3)=NR4R5]+X-(식중, R1 내지 R5는 수소 원자 또는 유기 잔기로부터 선택되고, X-는 산 음이온이다)로 표시되는 우론형 촉매가 형성된다.When such a substituted urea catalyst chloride quaternary general formula [R 1 R 2 NC (OR 3) = NR 4 R 5] + X - is selected from: (wherein, R 1 to R 5 is a hydrogen atom or an organic residue, X - is formed with a catalyst represented by the neurons is an acid anion).

본 발명에 사용하기에 적당한 우론형 촉매의 예로서는 URAcc43(데구사에서 시판함)을 들 수 있다.Examples of suitable uron type catalysts suitable for use in the present invention include URAcc43 (available from Degussa).

열경화성 수지 조성물은 임의로 무기 충전제(E)를 더 포함할 수 있다. 이와 같은 무기 충전제로는 SiO2, Al2O3, AlOOH, 카올린 및 탈크를 들 수 있다.The thermosetting resin composition may optionally further include an inorganic filler (E). Such inorganic fillers include SiO 2 , Al 2 O 3 , AlOOH, kaolin and talc.

상기 무기 충전제의 평균 입자 크기는 5 마이크로미터 미만인 것이 바람직하다.The average particle size of the inorganic filler is preferably less than 5 micrometers.

상기 분체 제제의 조성은 요구되는 물리적 특성에 따라 달라질 수 있지만, 일반적으로 성분들 (A) 내지 (D) 및 임의로 성분 (E)를 이하에 기재한 양으로 포함한다:The composition of the powder formulation may vary depending on the physical properties required, but generally comprises components (A) to (D) and optionally component (E) in the amounts described below:

(i) 성분 (A) 25-50 중량%, 바람직하게는 35-45 중량%,(i) 25-50% by weight of component (A), preferably 35-45% by weight,

(ii) 성분 (B) 15-25 중량%,(ii) 15-25% by weight of component (B),

(iii) 성분 (C) 15-25 중량%,(iii) 15-25% by weight of component (C),

(iv) 성분 (D) 0.05-1 중량%,(iv) 0.05-1% by weight of component (D),

(v) 성분 (E) 0-40 중량%, 바람직하게는 20-30 중량%.(v) 0-40% by weight of component (E), preferably 20-30% by weight.

예를 들면, 바람직한 조성물은 다음 중에서 선택된 에폭시 수지 35-45%를 포함한다: XAC 4151(아사히 카세이(Asahi Kasei)에서 시판함), AER 4151(아사히 카세이에서 시판함), EPPN 502H(니폰 카야쿠(Nippon Kayaku)에서 시판함), 하이폭스(Hypox) RK84L(CVC에서 시판함) 및 이들의 혼합물. 성분 (A)의 바람직한 실시양태는 상기 에폭시 수지 네 가지 모두로 이루어진다.For example, preferred compositions include 35-45% of epoxy resins selected from: XAC 4151 (available from Asahi Kasei), AER 4151 (available from Asahi Kasei), EPPN 502H (Nippon Kayaku) (Available from Nippon Kayaku), Hypox RK84L (available from CVC) and mixtures thereof. Preferred embodiments of component (A) consist of all four of said epoxy resins.

이와 같은 에폭시 혼합물과 함께 사용하기에 적합한 경화제(B)는 PF 0790 K04(헥시온에서 시판함)이다.A suitable curing agent (B) for use with such epoxy mixtures is PF 0790 K04 (commercially available from hexion).

본 발명의 바람직한 실시양태에 의하면, 엑사 9726(다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인코오포레이티드에서 시판함)을 인 개질 에폭시 수지로서 사용한다.According to a preferred embodiment of the present invention, Exa 9726 (commercially available from Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) is used as the phosphorus modified epoxy resin.

URAcc43(데구사에서 시판함)을 상기 혼합물과 함께 잠재성 촉매로서 사용하는 것이 바람직하다.It is preferred to use URAcc43 (commercially available from Degussa) together with the mixture as a latent catalyst.

특히 바람직한 분체 제제는 XAC 4151(아사히 카세이에서 시판함), AER 4151(아사히 카세이에서 시판함), EPPN 502H(니폰 가야쿠에서 시판함), 하이폭스 RK84L(CVC에서 시판함), PF 0790 K04(헥시온에서 시판함), 엑사 9726(다이니폰 잉크 앤드 케미칼스 인코오포레이티드에서 시판함) 및 URAcc 43(데구사에서 시판함)을 앞에서 설명한 바와 같은 (i) 내지 (iv)의 양으로 포함한다.Particularly preferred powder formulations are XAC 4151 (available from Asahi Kasei), AER 4151 (available from Asahi Kasei), EPPN 502H (available from Nippon Kayaku), Hypox RK84L (available from CVC), PF 0790 K04 ( Commercially available from Hexion), Exa 9726 (available from Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and URAcc 43 (available from Degussa) in amounts of (i) to (iv) as previously described do.

본 발명에 의한 조성물은 높은 잠재도(latency)와 경화 후의 높은 유리 전이 온도를 갖는 것을 특징으로 한다.The composition according to the invention is characterized by having a high potential and a high glass transition temperature after curing.

본 발명에 있어서, 잠재도는 다음과 같이 정의된다:In the present invention, the potential is defined as follows:

잠재도[°K] = 발열 피이크 온도[℃] - 발열 개시 온도[℃] (시차 주사 열량분석(DSC)에 의해 측정함).Potential [° K] = Exothermic Peak Temperature [° C]-Exothermic Onset Temperature [° C] (measured by differential scanning calorimetry (DSC)).

따라서, 잠재도 값(개시 온도부터 피이크 온도까지의 범위)이 낮다는 것은, 특히 개시 온도가 150℃를 넘고 피이크 온도가 180℃보다 낮을 경우, 반응열 피이크의 폭이 좁고 잠재 경화 메카니즘이 더 많다는 것을 의미한다. 엔탈피 피이크가 보다 넓다는 것은 저장 수명이 저하되고 신속하게 경화되지 않음을 의미한다.Thus, the low latent value (range from initiation temperature to peak temperature) indicates that the reaction heat peak is narrower and more latent hardening mechanism, especially when the initiation temperature is higher than 150 ° C and the peak temperature is lower than 180 ° C. it means. A wider enthalpy peak means that the shelf life is reduced and does not cure quickly.

경화 후의 높은 유리 전이 온도(Tg)가 해당 용도에서 바람직한데, 그 이유는 다수의 물리적 특성이 유리 전이 온도 부근에서 열화되기 때문이다. 예를 들면, 유리 전이 온도 부근에서 강성이 감소되고 열 팽창률이 증가한다.High glass transition temperatures (Tg) after curing are preferred in this application because many physical properties deteriorate near the glass transition temperature. For example, near the glass transition temperature, the stiffness decreases and the thermal expansion rate increases.

이하에 설명하는 바와 같이, 본 발명에 의한 조성물은 촉매(D)와 경화제(B)를 병용함으로써 바람직한 높은 잠재도 및 경화 후의 높은 Tg를 달성한다. 다시 말해서, 경화제, 구체적으로 평균 작용기수가 3 초과, 바람직하게는 5 초과, 더욱 바람직하게는 7 초과, 가장 바람직하게는 9 이상인 경화제와 잠재성 촉매, 구체적으로 치환된 우레아 또는 우론형 촉매의 조합은 종래 기술의 열경화성 에폭시 수지 조성물보다 상당히 더 우수한 성능을 갖는다.As described below, the composition according to the present invention achieves high potential and high Tg after curing by using the catalyst (D) and the curing agent (B) in combination. In other words, the combination of a curing agent, in particular a curing agent with an average number of functional groups of more than 3, preferably more than 5, more preferably more than 7, most preferably at least 9, and a latent catalyst, specifically a substituted urea or uron type catalyst, It has significantly better performance than the thermosetting epoxy resin compositions of the prior art.

본 발명에 의한 조성물은 개시 온도로부터 피이크 온도까지의 범위로 측정되는 잠재도가 20K 미만인 것이 바람직하다. 개시 온도는 140-160℃ 범위이고, 피이크 온도는 180℃ 미만인 것이 바람직하다.The composition according to the present invention preferably has a potential of less than 20 K, which is measured in the range from the initiation temperature to the peak temperature. The onset temperature is in the range of 140-160 ° C., and the peak temperature is preferably less than 180 ° C.

경화 후에, 본 발명의 조성물은 150-160℃ 범위의 Tg를 갖는 것이 바람직하다.After curing, the compositions of the present invention preferably have a Tg in the range of 150-160 ° C.

본 발명에 의한 조성물의 또 다른 중요한 특징은 저장 수명이 개선되고 신속하게 경화된다는 점이다. 이 2가지 특징은 모두 수지 코팅된 호일(foil)을 제조하는데 사용된 수지 조성물의 취급 및 가공에 있어서 중요하다. 본 발명에 의한 조성물에서, 120℃ 미만에서는 유의한 경화가 발생하지 않고, 150℃를 넘는 고온에서는 신속한 경화가 일어난다. 160℃의 온도에서, 제제는 20분 이내에 완전히 경화될 수 있으며, 170℃에서는 단 15분의 소성 시간이면 완전 경화를 달성하는데 충분하다.Another important feature of the compositions according to the invention is that the shelf life is improved and that they cure quickly. Both of these features are important in the handling and processing of the resin compositions used to make resin coated foils. In the composition according to the invention, no significant curing occurs below 120 ° C., and rapid curing occurs at high temperatures above 150 ° C. At a temperature of 160 ° C., the formulation can be fully cured within 20 minutes, and at 170 ° C., only 15 minutes of firing time is sufficient to achieve complete curing.

본 발명에 의한 조성물의 저장 수명은 그것의 반응 엔탈피 손실이 15% 미만이라는 사실에 의해서 입증된다. 용융 점도 및 유동 특성과 관련하여 현저한 변화가 발생하지 않는다. 본 발명에 의한 조성물을 6℃ 미만의 온도에서 보관할 경우, 반응열에 전혀 변화가 없는 것으로 관찰되었다.The shelf life of the composition according to the invention is evidenced by the fact that its reaction enthalpy loss is less than 15%. No significant changes occur with regard to melt viscosity and flow characteristics. When the composition according to the invention was stored at a temperature below 6 ° C., no change in the heat of reaction was observed.

개선된 저장 수명의 측면에서, 본 발명에 의한 분체 제제를 6개월 넘게 보관할 수 있다.In view of improved shelf life, the powder formulations according to the invention can be stored for over 6 months.

또한, 본 발명에 의한 조성물은, 난연제의 양과 난연제가 경화 메카니즘에 미치는 영향과 관련하여, 개선된 난연성을 나타낸다. 따라서, 난연제는 추가적 구성 요소로서 인을 포함하는 것을 제외하고는, 본 발명에 의한 조성물에서 성분 (A)로서 사용된 에폭시 수지와 유사한 화학 구조를 갖는다. 그러므로, 난연제를 열경화성 수지 조성물의 경화에 의해서 얻은 골격 구조 내로 혼입시키며, 이러한 혼입으로 인해 종래 기술에서 알려진 통상의 난연제를 사용할 경우에 비해서 VO 등급을 달성하기 위해 필요한 난연제의 농도가 더 낮아질 수 있다. 또한, 이러한 구조적 유사성의 측면에서, 난연제는 조성물을 열경화시키는 경화 메카니즘에 악영향을 미치지 않는데, 그 이유는 난연제가 가교된 생성물의 일부분이 되기 때문이다.In addition, the compositions according to the invention exhibit improved flame retardancy with respect to the amount of flame retardant and the effect of the flame retardant on the curing mechanism. Thus, the flame retardant has a similar chemical structure to the epoxy resin used as component (A) in the composition according to the invention, except that it comprises phosphorus as an additional component. Therefore, the flame retardant is incorporated into the skeletal structure obtained by curing the thermosetting resin composition, and this incorporation may result in a lower concentration of the flame retardant required to achieve the VO grade as compared to the use of conventional flame retardants known in the art. In addition, in terms of this structural similarity, the flame retardant does not adversely affect the curing mechanism for thermosetting the composition, since the flame retardant becomes part of the crosslinked product.

본 발명에 사용하는데 특히 바람직한 고형의 인 개질 에폭시 수지는 2-(6-옥소-6H-6,5-디벤조[c,e][1,2] 옥사포스핀-6-일)벤젠-1,4-디올)과 (페놀/포름알데히드 중축합 생성물 및 1-클로로-2,3-에폭시프로판의 에테르화 생성물)과의 중부가 생성물이다. 이와 같은 DOPO 개질 다작용기 에폭시 페놀 노보락 수지의 구조는 이하에 나타낸 바와 같다:Particularly preferred solid phosphorus modified epoxy resins for use in the present invention are 2- (6-oxo-6H-6,5-dibenzo [c, e] [1,2] oxaphosphin-6-yl) benzene-1 , 4-diol) and a polyaddition product of (phenol / formaldehyde polycondensation product and etherification product of 1-chloro-2,3-epoxypropane). The structure of such a DOPO modified multifunctional epoxy phenol novolak resin is as shown below:

Figure pct00002
Figure pct00002

본 발명에 사용하는데 특히 바람직한 다른 고형의 인 개질 에폭시 수지는 이하에 나타낸 바와 같은 HCA-HQ 개질 2작용기 비스페놀 A 에폭시 수지이다:Another solid phosphorus modified epoxy resin particularly preferred for use in the present invention is an HCA-HQ modified bifunctional bisphenol A epoxy resin as shown below:

Figure pct00003
Figure pct00003

상기 에폭시 수지의 제조 방법이 일본 특허 출원 공보 번호 JP 2000080251호 및 미국 특허 출원 공보 번호 US 2006/0223921 A1호에 개시되어 있다.Methods for producing such epoxy resins are disclosed in Japanese Patent Application Publication No. JP 2000080251 and US Patent Application Publication No. US 2006/0223921 A1.

상기 고형의 인 개질 에폭시 수지는 테스트한 샘플의 총 연소 시간을 현저하게 감소시킨다. 동시에, 상기 샘플은 통상의 인 난연제를 포함하는 샘플에 비해서 탁월한 구리 박리 강도를 나타낸다.The solid phosphorus modified epoxy resin significantly reduces the total burn time of the sample tested. At the same time, the sample exhibits superior copper peel strength compared to a sample comprising conventional phosphorus flame retardant.

요컨대, 본 발명에 의한 조성물은 인쇄회로기판의 제조에 사용될 수 있는 수지 코팅된 호일의 제조에 사용되기에 적합한 개선된 물리적 특성을 갖는다. 구체적으로, 전술한 바와 같은 열경화성 수지 조성물을 포함하는 분체 제제는 다음과 같은 물리적 특성을 갖는다:In short, the composition according to the present invention has improved physical properties suitable for use in the manufacture of resin coated foils that can be used in the manufacture of printed circuit boards. Specifically, the powder formulation comprising the thermosetting resin composition as described above has the following physical properties:

(i) IPM 650 2.4.25 C에 의거하여 DSC에 의해 측정하였을 때, 미전환된 A-단계에서 50℃를 넘는 유리 전이 온도,(i) a glass transition temperature above 50 ° C. in unconverted A-stage, measured by DSC according to IPM 650 2.4.25 C,

(ii) 각도가 2°이고 회전 속도가 5 rpm인 원추판(cone plate) 형상을 사용해서 측정하였을 때, 140℃에서 20 Pas 미만의 용융 점도,(ii) a melt viscosity of less than 20 Pas at 140 ° C., measured using a cone plate shape with an angle of 2 ° and a rotational speed of 5 rpm,

(iii) IPM 650 2.4.25C에 의거하여 DSC에 의해 측정하였을 때, 190℃에서 20분 동안 경화한 후 150℃를 넘는 유리 전이 온도,(iii) a glass transition temperature above 150 ° C. after curing at 190 ° C. for 20 minutes, as measured by DSC according to IPM 650 2.4.25 C,

(iv) 열중량 분석(TGA)에 의해 측정하였을 때, 1 중량% 손실하에서 390℃를 넘는 분해 온도, 및(iv) a decomposition temperature of greater than 390 ° C. under 1 wt% loss, as measured by thermogravimetric analysis (TGA), and

(v) ASTM D 150-98(2004)에 의해 측정하고 1 GHz에서 측정하였을 때, 3.4 미만의 유전율(Dk) 및 0.018 미만의 소멸 계수(Df).(v) Dielectric constant (Dk) less than 3.4 and extinction coefficient (Df) less than 0.018, as measured by ASTM D 150-98 (2004) and measured at 1 GHz.

위에서 언급한 열중량 분석(TGA)은 온도에 따른 샘플의 중량 변화를 측정하는데 사용할 수 있는 것으로 당해 기술 분야에 잘 알려져 있으므로, TGA는 물질의 열분해 양상 또는 프로파일을 분석할 수 있는 도구이다.Since the above-mentioned thermogravimetric analysis (TGA) is well known in the art that can be used to measure the weight change of a sample with temperature, TGA is a tool that can analyze the pyrolysis pattern or profile of a material.

또한, 본 발명은 전술한 바와 같이 기재를 분체 제제로 코팅하여 코팅된 기재를 얻고, 상기 분체 제제를 150℃ 이상의 온도와 같은 고온에서 상기 기재에 열 고정시켜 수지 코팅된 호일을 제조함으로써 얻을 수 있는 수지 코팅된 호일을 제공한다.In addition, the present invention can be obtained by coating a substrate with a powder formulation as described above to obtain a coated substrate, and heat-fixing the powder formulation to the substrate at a high temperature such as a temperature of 150 ℃ or more to produce a resin coated foil. It provides a resin coated foil.

이와 같은 코팅 방법에 사용하는데 적합한 기재는 바람직한 수준에서 상기 열경화성 수지 조성물을 용융시키기 위한 고온 노출을 견디는 중합체 호일뿐만 아니라 금속 호일, 예를 들면 구리, 알루미늄 또는 니켈 호일로부터 선택된다.Suitable substrates for use in such coating methods are selected from metal foils, such as copper, aluminum or nickel foils, as well as polymer foils that withstand high temperature exposure to melt the thermosetting resin composition at desired levels.

상기 수지 코팅된 호일은 강화제, 바람직하게는 프리프레그 또는 적층체를 제조하는데 사용되는 강화제를 포함하는 것이 바람직하다. 이와 같은 강화제로서는 직물 및 유리 직물을 들 수 있다.The resin coated foil preferably comprises a reinforcing agent, preferably a reinforcing agent used to prepare the prepreg or laminate. Such reinforcing agents include cloth and glass cloth.

따라서, 본 발명은 예컨대 E-유리 직물 및 전착 구리와 같은 금속을 갖는 클래드(clad)로 강화된 수지 코팅된 호일을 제공한다.Thus, the present invention provides a resin coated foil reinforced with clads having metals such as, for example, E-glass fabrics and electrodeposited copper.

이와 같은 강화된 수지 코팅된 호일은 IPC TM 650 2.4.24.1에 의한 박리 테스트로 시험하였을 때 30분을 넘는 시간 동안 박리 시험을 견뎌낸다. 또한, 상기 강화된 수지 코팅된 호일은 IPC TM 650 2.4.8 C에 의한 테스트에서 35 마이크로미터 구리 두께 하에 17 N/cm를 넘는 구리 박리 강도를 나타낸다.This reinforced resin coated foil withstands the peel test for more than 30 minutes when tested by the peel test according to IPC ™ 650 2.4.24.1. In addition, the reinforced resin coated foil exhibited a copper peel strength of greater than 17 N / cm under 35 micron copper thickness in a test by IPC ™ 650 2.4.8 C.

구리 클래드를 제거한 후에, 전술한 바와 같은 적층체 구조물은 2.6 바아(bar) 하에 30분 동안 고압 조리 용기에서 끓인 후에(140℃에 해당함) 20초 동안 288℃에서 솔더 침지 테스트를 견뎌내므로, IPC TM 650 2.6.16에 의한 테스트에서 낮은 박리 또는 표면 기포 발생이 관찰된다. 40 마이크로미터 두께의 필름은 IPC TM 650 2.6.2 C에 의한 테스트에서 1% 미만의 흡수성을 나타낸다.After removing the copper clad, the laminate structure as described above withstands solder immersion test at 288 ° C. for 20 seconds after boiling in a high pressure cooking vessel for 30 minutes under 2.6 bar (corresponding to 140 ° C.). Low delamination or surface foaming is observed in the test according to 650 2.6.16. The 40 micrometer thick film exhibits less than 1% absorbency in tests by IPC ™ 650 2.6.2 C.

수직 UL-연소 테스트로 시험하였을 때, 유리 직물 강화 필름은 할로겐화 성분의 부재 하에서 200 마이크로미터 두께의 FR4 코어 상에 240 마이크로미터의 추가 두께(6겹에 해당함)까지 압축하든지, 적층체 자체로서 160 마이크로미터의 두께(4겹에 해당함)까지 압축하든지 V0 등급을 얻는다.When tested by the vertical UL-combustion test, the glass fabric reinforcement film compresses to an additional thickness of 240 micrometers (corresponding to six plies) on a 200 micrometer thick FR4 core in the absence of halogenated components, or 160 as the laminate itself. Compress up to a micrometer thickness (corresponding to 4 layers) or obtain a V0 rating.

본 발명의 열경화성 수지 조성물의 배합은 압출기에 의해 수행할 수 있으며, 여기서 촉매 C를 서서히 혼입하는 것이 상기 잠재도를 유지하기 위한 중요한 파라미터이다. 냉온 벨트 및 냉각 로울러로 냉각시켜서 용융물의 온도를 저하시킴으로써 궁극적으로 용융물이 박편으로 분쇄될 수 있도록 한다.The formulation of the thermosetting resin composition of the present invention can be carried out by an extruder, wherein the slow incorporation of the catalyst C is an important parameter for maintaining this potential. Cooling with a cold belt and a cooling roller lowers the temperature of the melt, ultimately allowing the melt to break up into flakes.

상기 박편으로부터 분쇄 과정에 의해, 예를 들면 임팩트 밀(impact mill) 또는 에어젯 밀(air jet mill)을 사용해서 분체를 제조한다. 후속하는 코팅 과정에 필요할 경우에는, 분류기를 사용해서 분체로부터 미립자를 제거할 수 있다. 이와 같이 하여 평균 입자 크기를 소정의 값으로 조정할 수 있다.The powder is prepared by the grinding process from the flakes, for example using an impact mill or an air jet mill. If necessary for the subsequent coating process, a classifier can be used to remove particulates from the powder. In this way, the average particle size can be adjusted to a predetermined value.

상기 분체를 기재, 예컨대 전술한 바와 같은 금속 호일 상에 도포하여 고온에서 상기 기재 상에 열 고정시킬 수 있다.The powder may be applied onto a substrate, such as a metal foil as described above, to be thermally fixed on the substrate at high temperature.

도 1은 본 발명에 의한 분체 제제와 비교예의 제제의 DSC 스캔을 도시한 것이다.
도 2는 다양한 온도에서 본 발명에 의한 조성물의 전환율(%)로 나타낸 경화 속도를 도시한 것이다.
1 shows a DSC scan of the powder formulation of the present invention and the formulation of the comparative example.
2 shows the cure rate, expressed as% conversion of the composition according to the invention at various temperatures.

이하에서는 실시예에 의거하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 한다. 후술하는 실시예에서, 수행한 테스트 방법의 대부분은 IPC TM 650(전자회로접속 협회)과 관련된 것이다. 상기 매뉴얼은 기본 환경, 물리 및 전기 테스트를 비롯한 전자 및 전기 부품을 시험하기 위한 통일된 방법을 확립한 것이다. 이러한 테스트는 IPC 표준 및 요건을 뒷받침하기 위해 개발된 것이다(IPC TM 650(전자회로접속 협회) 2215 샌더스 로드, 노스브룩, 일리노이 60062-6135).Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. In the examples described below, most of the test methods performed are related to IPC ™ 650 (Electronic Circuit Connection Association). The manual establishes a unified method for testing electronic and electrical components, including basic environmental, physical and electrical tests. These tests were developed to support IPC standards and requirements (IPC ™ 650 (Electronic Circuit Connection Association) 2215 Sanders Road, Northbrook, Illinois 60062-6135).

더욱 구체적으로, 다음과 같은 파라미터들을 후술하는 바와 같이 테스트하였다:More specifically, the following parameters were tested as described below:

(a) 경화 후의 유리 전이 온도(Tg)는 IPC TM 650 2.4.25 C에 따라 측정하였다.(a) Glass transition temperature (Tg) after curing was measured according to IPC ™ 650 2.4.25 C.

(b) 겔화 시간은 IPC TM 650 2.3.18 A에 따라 측정하였다.(b) Gelation time was measured according to IPC ™ 650 2.3.18 A.

(c) 박리 시간(TMA 방법)은 IPC TM 650 2.4.24.1에 따라 측정하였다.(c) Peel time (TMA method) was measured according to IPC ™ 650 2.4.24.1.

(d) 점도는 각도가 2°이고 회전 속도가 5 rpm인 원추판 형상을 사용해서 측정하였다. 온도는 140℃(±0.5K)로 설정하였다.(d) The viscosity was measured using a conical plate shape having an angle of 2 ° and a rotational speed of 5 rpm. The temperature was set at 140 ° C. (± 0.5K).

(e) HPCT는 테스트 방법 IPC TM 650 2.6.16에 따라 측정하였다.(e) HPCT was measured according to test method IPC ™ 650 2.6.16.

(f) 박리 강도는 IPC TM 650 2.4.9에 따라 측정하였다.(f) Peel strength was measured according to IPC ™ 650 2.4.9.

(g) 총 연소 시간(샘플당)은 IPC TM 650 UL에 따라 측정하였다.(g) Total burn time (per sample) was measured according to IPC ™ 650 UL.

(h) 흡수성은 IPC TM 650 2.6.2.1에 따라 측정하였다.(h) Absorbency was measured according to IPC ™ 650 2.6.2.1.

실시예 1Example 1

다음과 같은 성분들을 사용하여 열경화성 수지 조성물을 제조하였다:A thermosetting resin composition was prepared using the following ingredients:

경화제 A: 평균 작용기수 ≥ 9인 페놀 노보락 수지(성분 B)Curing Agent A: Phenolic Novolak Resin (Average B) with an Average Number of Functional Groups ≥ 9

경화제 B: 평균 작용기수 < 3인 페놀 노보락 수지Curing Agent B: Phenol Novolac Resin with Average Functional Group <3

촉매 1: 이미다졸 유도체(예: 2-페닐이미다졸 큐어졸(Curezol) 2-PZ, 시코쿠 컴패니 리미티드(Shikoku Co., Ltd.)에서 시판함)Catalyst 1: imidazole derivatives such as 2-phenylimidazole curzol 2-PZ, sold by Shikoku Co., Ltd.

촉매 2: 치환된 우레아 촉매(성분 D)Catalyst 2: Substituted Urea Catalyst (Component D)

하기 표 1에 제시된 제제를 고온에서 혼합한 후에, -30℃ 내지 300℃ 범위의 온도에서 시차 주사 열량분석(DSC)에 의해 조사하여 반응 엔탈피 및 경화 후의 유리 전이 온도를 측정하였다. 전형적인 DSC 스캔을 도 1에 도시하였다.After the formulations shown in Table 1 were mixed at high temperature, they were examined by differential scanning calorimetry (DSC) at temperatures ranging from -30 ° C to 300 ° C to determine reaction enthalpy and glass transition temperature after curing. A typical DSC scan is shown in FIG.

(표 1)(Table 1)

Figure pct00004
Figure pct00004

* DSC에 의해 측정한 경화 후의 Tg → IPC TM 650 2.4.25 C* Tg after curing measured by DSC → IPC TM 650 2.4.25 C

** 겔화 시간 → IPC TM 650 2.3.18 A** Gelation time → IPC TM 650 2.3.18 A

*** 박리 시간(TMA 방법) → IPC TM 650 2.4.24.1*** Peel time (TMA method) → IPC TM 650 2.4.24.1

이와 같은 조사에서 상기 이소시아네이트 개질 에폭시 수지가 주쇄를 이루었다. 경화제의 양은 화학양론적 비율로 설정하였다. 촉매 함량은 모든 제제에서 0.8 중량%이었다.In this investigation, the isocyanate-modified epoxy resin formed a main chain. The amount of curing agent was set at stoichiometric ratio. The catalyst content was 0.8% by weight in all formulations.

Figure pct00005
Figure pct00005

Figure pct00006
Figure pct00006

상기 표 1의 값들은 촉매와 경화제의 올바른 조합만으로도 바람직한 낮은 잠재도와 높은 경화 후의 Tg를 모두 달성함을 입증한다. 작용기수가 높은 경화제와 우론형 촉매의 조합(제제 ST00034-2)은 다른 비교예들(제제 ST00034-1, ST00034-3 및 ST00034-4)에 비해서 현저하게 성능이 우수하다.The values in Table 1 above demonstrate that even the right combination of catalyst and curing agent achieves both the desired low potential and high post Tg curing. The combination of a hardener having a high functional group and a uron type catalyst (Formulation ST00034-2) is remarkably superior to other comparative examples (Formulations ST00034-1, ST00034-3, and ST00034-4).

실시예 2Example 2

하기 제제의 저장 수명과 경화성을 다음과 같이 테스트하였다:The shelf life and curability of the following formulations were tested as follows:

반응 엔탈피 손실을 사용해서 완전히 제제화된 분체의 저장 수명을 확인하였다. 제조 직후의 반응 엔탈피를 측정하여 기준으로 삼았다. 이어서, 분체를 <23℃의 주위 온도에서 보관하여 3개월 및 6개월 후에 다시 테스트하였다. 경화 상태는 DSC를 통해서 테스트하였다. DSC 측정 셀 내부에서 표본을 다양한 온도 및 시간에 노출시켰다. 노출 후에, 잔여 반응 엔탈피를 검출하여 전환도로 삼았다.The reaction enthalpy loss was used to confirm the shelf life of the fully formulated powder. The reaction enthalpy immediately after preparation was measured and used as a reference. The powders were then stored at ambient temperature of <23 ° C. and tested again after 3 and 6 months. Curing status was tested via DSC. Samples were exposed to various temperatures and times inside the DSC measurement cell. After exposure, the residual reaction enthalpy was detected and used as the degree of conversion.

도 2에 도시된 바와 같이, 120℃ 미만에서 유의한 경화가 일어나지 않고 오히려 150℃를 넘는 고온에서 신속한 경화가 일어난다. 160℃의 온도에서 제제는 20분 이내에 완전히 경화될 수 있으며, 170℃에서는 단 15분의 소성 시간이면 완전 경화를 달성하는데 충분하다.As shown in FIG. 2, no significant curing occurs below 120 ° C., but rather rapid curing at high temperatures above 150 ° C. At a temperature of 160 ° C. the formulation can be fully cured within 20 minutes, and at 170 ° C., only 15 minutes of firing time is sufficient to achieve complete curing.

본 발명의 페놀계 경화제와 보호된 촉매의 조합을 사용해서 경화시킨 몇 가지 제제들(에폭시 수지 조합이 상이함) 모두의 저장 수명을 입증하기 위해, 반응 엔탈피 손실을 하기 표 2에 제시하였다. 일반적으로, 15% 미만의 반응 엔탈피 감소가 허용되며, 이는 용융 점도 및 유동 특성에 현저한 변화를 유발하지 않는다. 제제를 6℃ 이하의 온도에서 보관할 경우, 반응열에 변화는 전혀 관찰되지 않았다.To demonstrate the shelf life of all of the several formulations (different epoxy resin combinations) cured using the combination of the phenolic curing agent and protected catalyst of the present invention, the reaction enthalpy loss is shown in Table 2 below. In general, a decrease in reaction enthalpy of less than 15% is allowed, which does not cause significant changes in melt viscosity and flow properties. When the formulation was stored at temperatures below 6 ° C., no change in heat of reaction was observed.

(표 2)(Table 2)

Figure pct00007
Figure pct00007

* 주위 온도에서 6개월 넘게 보관한 분체* Powder stored for more than 6 months at ambient temperature

** 주위 온도에서 3개월 넘게 보관한 분체** Powders stored for more than 3 months at ambient temperature

제제 세부 사항Formulation Details

ST00036: 상기 이소시아네이트 개질 에폭시 수지, 페놀 노보락 경화제(B), 무기 충전제(E) 및 치환된 우레아 촉매(D) 포함ST00036: contains the above isocyanate modified epoxy resin, phenol novolak curing agent (B), inorganic filler (E) and substituted urea catalyst (D)

Figure pct00008
Figure pct00008

* 실본드는 쿼르츠베르크(Quarzwerke)에서 시판하는 SiO2 충전제이다.Silbond is a SiO 2 filler available from Quarzwerke.

** 에폰 1031은 헥시온에서 시판하는 고형 다작용기 에피클로로히드린/테트라페닐올 에탄 에폭시 수지이다(부분적으로 UV 차단)** EPON 1031 is a solid multifunctional epichlorohydrin / tetraphenylol ethane epoxy resin available from Hexion (partially UV-blocked)

실시예 3Example 3

상기 실시예 2에 기재된 제제 ST00036을 표준 물질로 사용하고, 다음과 같은 인 제공원을 총 인 함량이 1 중량%가 되는데 필요한 비율로 첨가하였다.Formulation ST00036 described in Example 2 above was used as a reference material and the following phosphorus sources were added in the proportions necessary for the total phosphorus content to be 1% by weight.

인 함량, 융점 및 사용된 난연제의 화학 구조를 하기 표 3에 나타내었다.The phosphorus content, melting point and chemical structure of the flame retardants used are shown in Table 3 below.

하기 목록은 예를 들어 50℃를 넘는 융점을 갖는 분체 제제에서 고유하게 얻을 가능성이 있는 인 제공원만을 포함하고 있다.The list below contains only phosphorus sources which are inherently likely to be obtained, for example, in powder formulations having a melting point above 50 ° C.

(표 3)(Table 3)

Figure pct00009
Figure pct00009

테스트한 인 제공원 모두가 효율적이었으며 총 연소 시간을 현저하게 감소시켰다. 성분 C를 사용할 경우에 가장 우수한 제반 성능을 얻을 수 있었다. 유리된 DOPO 함유 제제는 T288 내성 및 구리 박리 강도와 관련하여 매우 열등한 성능을 나타내었다. DOPO 유도체 HCA-HQ가 보다 우수하지만, 잔류(미전환) 입자들이 관찰되었다. 이는 주로 당해 성분의 높은 융점에 기인하는 것으로 여겨진다. 또한, 성분 XZ 92588은 구리 박리 강도를 상당히 감소시켰다. 이에 관해서는 하기 표 4의 결과를 참조할 수 있다. 표준 물질인 ST00036은 어떠한 난연제도 함유하지 않는다.All of the phosphorus sources tested were efficient and significantly reduced the total burn time. When using component C, the best overall performance was obtained. Free DOPO containing formulations showed very poor performance with respect to T288 resistance and copper peel strength. The DOPO derivative HCA-HQ is better, but residual (unconverted) particles were observed. It is believed that this is mainly due to the high melting point of the component. In addition, component XZ 92588 significantly reduced the copper peel strength. Reference may be made to the results in Table 4 below. The standard material ST00036 does not contain any flame retardants.

(표 4)(Table 4)

Figure pct00010
Figure pct00010

* 유리 직물 강화된 수지 코팅된 구리 호일로서 압축한 표본(R-RCF)* Samples compressed with glass fabric reinforced resin coated copper foil (R-RCF)

요컨대, 본 발명은 에폭시 수지, 고형 경화제, 상기 에폭시 수지와 유사한 구조를 갖는 인 함유 2작용기 난연제, 잠재성 촉매, 구체적으로 우레아 촉매 및 임의로 무기 충전제를 포함하는 분체 코팅 조성물을 제공한다. 이와 같은 경화제와 촉매의 조합에 의하면 용융 점도가 낮으나 여전히 높은 분체의 Tg(50℃ 초과) 하에서 신속 경화가 가능하다. 상기 인 함유 난연제는 수지 주쇄의 일부가 된다. 상기 난연제는 종래 사용된 난연제에 비해서 소량으로 사용될 수 있으며, 경화 메카니즘에 악영향을 미치지 않는다.In short, the present invention provides a powder coating composition comprising an epoxy resin, a solid curing agent, a phosphorus containing bifunctional flame retardant having a structure similar to the epoxy resin, a latent catalyst, in particular a urea catalyst and optionally an inorganic filler. Such a combination of a curing agent and a catalyst allows for rapid curing under low Tg (greater than 50 ° C.) of a low melt viscosity. The phosphorus-containing flame retardant becomes part of the resin main chain. The flame retardant may be used in a small amount compared to conventionally used flame retardants, and does not adversely affect the curing mechanism.

본 발명에 의한 조성물은 높은 구리 박리 강도, 개선된 저장 수명, 및 분쇄 공정에서의 높은 처리량과 같은 우수한 가공 특성을 나타낸다.The compositions according to the invention exhibit good processing properties such as high copper peel strength, improved shelf life, and high throughput in the grinding process.

Claims (24)

(A) 20℃에서 고체인 에폭시 수지,
(B) 평균 작용기수가 3보다 큰 20℃에서 고체인 페놀계 경화제,
(C) 20℃에서 고체인 인 개질 에폭시 수지, 및
(D) 잠재성 촉매
를 함유하는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 분체 제제.
(A) an epoxy resin which is solid at 20 ° C.,
(B) a phenolic curing agent that is solid at 20 ° C. with an average number of functional groups greater than 3,
(C) phosphorus modified epoxy resin which is solid at 20 ° C, and
(D) latent catalyst
Powder formulation containing the thermosetting resin composition containing these.
제 1 항에 있어서, 상기 에폭시 수지(A)가 에폭시 당량이 150 내지 1800 g/eq 범위인 화학적으로 개질된 에폭시 수지인 분체 제제.The powder formulation of claim 1, wherein the epoxy resin (A) is a chemically modified epoxy resin having an epoxy equivalent in the range of 150 to 1800 g / eq. 제 1 항에 있어서, 상기 고체 페놀계 경화제(B)가 평균 작용기 수가 9 이상인 페놀 노보락 수지인 분체 제제.The powder formulation according to claim 1, wherein the solid phenolic curing agent (B) is a phenol novolak resin having an average number of functional groups of 9 or more. 제 1 항에 있어서, 상기 고체의 인 개질 에폭시 수지(C)가 에폭시 당량이 500 g/eq 미만이고 인 함량이 2 중량%를 초과하는 2작용기 에폭시 수지인 분체 제제.The powder formulation of claim 1, wherein the solid phosphorus modified epoxy resin (C) is a difunctional epoxy resin having an epoxy equivalent of less than 500 g / eq and a phosphorus content of more than 2 wt%. 제 1 항에 있어서, 상기 잠재성 촉매(D)가 치환된 우레아 또는 우론형 촉매인 분체 제제.The powder formulation of claim 1, wherein the latent catalyst (D) is a substituted urea or uron type catalyst. 제 1 항에 있어서, 무기 충전제(E)를 더 포함하는 분체 제제.The powder formulation of claim 1 further comprising an inorganic filler (E). 제 6 항에 있어서, 상기 무기 충전제(E)의 평균 입자 크기가 5 마이크로미터 미만인 분체 제제.7. Powder formulation according to claim 6, wherein the average particle size of said inorganic filler (E) is less than 5 micrometers. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
(i) 성분 (A) 25-50 중량%,
(ii) 성분 (B) 15-25 중량%,
(iii) 성분 (C) 15-25 중량%,
(iv) 성분 (D) 0.05-1 중량%,
(v) 성분 (E) 0-40 중량%
를 주성분으로 하는 분체 제제.
The method according to any one of claims 1 to 7,
(i) 25-50% by weight of component (A),
(ii) 15-25% by weight of component (B),
(iii) 15-25% by weight of component (C),
(iv) 0.05-1% by weight of component (D),
(v) component (E) 0-40% by weight
Powder formulation containing as a main component.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
(i) 성분 (A) 35-45 중량%,
(ii) 성분 (B) 15-25 중량%,
(iii) 성분 (C) 15-25 중량%,
(iv) 성분 (D) 0.05-1 중량%,
(v) 성분 (E) 20-30 중량%
를 주성분으로 하는 분체 제제.
The method according to any one of claims 1 to 7,
(i) 35-45 wt% of component (A),
(ii) 15-25% by weight of component (B),
(iii) 15-25% by weight of component (C),
(iv) 0.05-1% by weight of component (D),
(v) 20-30% by weight of component (E)
Powder formulation containing as a main component.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 에폭시 수지(A)가 이소시아네이트 개질된 에폭시 수지, 부타디엔-아크릴니트릴 고무 개질된 에폭시 수지, 다작용기 에폭시-페놀 노보락 수지 및 비스페놀-A계 또는 시클로지방족 에폭시 수지로 이루어진 군중에서 선택된 것인 분체 제제.The epoxy resin (A) according to claim 1 or 2, wherein the epoxy resin (A) isocyanate-modified epoxy resin, butadiene-acrylonitrile rubber-modified epoxy resin, polyfunctional epoxy-phenol novolak resin and bisphenol-A or cycloaliphatic epoxy Powder formulation selected from the group consisting of resins. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 고체 페놀계 경화제(B)가 페놀 노보락 수지, 크레졸 노보락 수지 및 비스페놀 A 노보락 수지로 이루어진 군중에서 선택된 것인 분체 제제.
The method according to claim 1 or 3,
The powder formulation of the solid phenolic curing agent (B) is selected from the group consisting of phenol novolak resin, cresol novolak resin and bisphenol A novolak resin.
제 1 항 또는 제 4 항에 있어서, 상기 고체의 인 개질 에폭시 수지가 2-(6-옥소-6H-6,5-디벤조[c,e][1,2] 옥사포스핀-6-일)벤젠-1,4-디올)과 (페놀/포름알데히드 중축합 생성물 및 1-클로로-2,3-에폭시프로판의 에테르화 생성물)과의 중부가 생성물인 분체 제제.5. The method of claim 1 or 4, wherein the solid phosphorus modified epoxy resin is 2- (6-oxo-6H-6,5-dibenzo [c, e] [1,2] oxaphosphin-6-yl. ) Is a polyaddition product of benzene-1,4-diol) with (phenol / formaldehyde polycondensation product and etherification product of 1-chloro-2,3-epoxypropane). 제 1 항 또는 제 5 항에 있어서, 상기 잠재성 촉매가 하기 화학식 1로 표시되는 화합물의 군으로부터 선택되는 것인 분체 제제:
(화학식 1)
Figure pct00011

(상기 화학식 1에서, R1은 치환 또는 미치환된 페닐기를 나타내고, R2와 R3는 동일하거나 상이할 수 있으며 탄소 원자 수가 1 내지 6개인 직쇄 또는 분지쇄 알킬기로부터 선택된다.)
The powder formulation according to claim 1 or 5, wherein the latent catalyst is selected from the group of compounds represented by the following general formula (1):
(Formula 1)
Figure pct00011

(In Formula 1, R1 represents a substituted or unsubstituted phenyl group, and R2 and R3 may be the same or different and are selected from straight or branched chain alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms.)
제 1 항, 제 6 항 및 제 7 항 중 선택된 어느 한 항에 있어서, 상기 충전제가 SiO2, Al2O3, AlOOH, 카올린 및 탈크로 이루어진 군중에서 선택된 것인 분체 제제.8. Powder formulation according to any one of claims 1, 6 and 7, wherein said filler is selected from the group consisting of SiO 2 , Al 2 O 3 , AlOOH, kaolin and talc. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
(i) IPM 650 2.4.25 C에 의거하여 DSC에 의해 측정하였을 때, 미전환된 A- 단계(A-stage)에서 50℃를 넘는 유리 전이 온도,
(ii) 각도가 2°이고 회전 속도가 5 rpm인 원추판 형상을 사용해서 측정하였을 때, 140℃에서 20 Pas 미만의 용융 점도,
(iii) IPM 650 2.4.25 C에 의거하여 DSC에 의해 측정하였을 때, 190℃에서 20분 동안 경화한 후 150℃를 넘는 유리 전이 온도,
(iv) 열중량 분석(TGA)에 의해 측정하였을 때, 1 중량% 손실 하에서 390℃를 넘는 분해 온도, 및
(v) ASTM D 150-98(2004)에 의해 측정하고 1 GHz에서 측정하였을 때, 3.4 미만의 유전율(Dk) 및 0.018 미만의 소멸 계수(Df)
를 갖는 분체 제제.
The method according to any one of claims 1 to 14,
(i) a glass transition temperature above 50 ° C. in unconverted A-stage, as measured by DSC according to IPM 650 2.4.25 C,
(ii) a melt viscosity of less than 20 Pas at 140 ° C., measured using a cone plate shape with an angle of 2 ° and a rotational speed of 5 rpm,
(iii) a glass transition temperature above 150 ° C. after curing at 190 ° C. for 20 minutes as measured by DSC in accordance with IPM 650 2.4.25 C,
(iv) a decomposition temperature of greater than 390 ° C. under 1 wt% loss, as measured by thermogravimetric analysis (TGA), and
(v) Dielectric constant (Dk) of less than 3.4 and extinction coefficient (Df) of less than 0.018, as measured by ASTM D 150-98 (2004) and measured at 1 GHz
Powder formulation having a.
제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 따른 분체 제제로 기재를 코팅하여 코팅된 기재를 제조하고, 상기 분체 제제를 150℃ 이상의 고온에서 상기 기재에 열 고정시켜서 수지 코팅된 호일을 제조함으로써 얻을 수 있는 수지 코팅된 호일.A coated substrate is prepared by coating the substrate with the powder formulation according to any one of claims 1 to 15, and obtained by producing a resin coated foil by thermally fixing the powder formulation to the substrate at a high temperature of 150 ° C or higher. Resin coated foil. 제 16 항에 있어서, 프리프레그 또는 적층체를 형성하기 위한 강화제를 포함하는 수지 코팅된 호일.The resin coated foil of claim 16 comprising a reinforcing agent for forming the prepreg or laminate. 제 17 항에 있어서, 상기 강화제가 직물(fabric cloth) 및 유리 직물(glass cloth)로 이루어진 군중에서 선택된 것인 수지 코팅된 호일.18. The resin coated foil of claim 17 wherein said reinforcing agent is selected from the group consisting of fabric cloth and glass cloth. 제 18 항에 있어서, E-유리 직물 및 전착된 구리를 갖는 클래드로 강화된 수지 코팅된 호일.19. The resin coated foil of claim 18, wherein the clad reinforced foil has an E-glass fabric and electrodeposited copper. 제 19 항에 있어서, 35 마이크로미터 구리 두께 하에서 17 N/cm를 넘는 구리 박리 강도를 나타내고, 300℃에서 30분 넘게 박리에 견디는 수지 코팅된 호일.20. The resin coated foil of claim 19 having a copper peel strength of greater than 17 N / cm under 35 micron copper thickness and withstanding peeling at 300 ° C. for more than 30 minutes. 제 20 항에 있어서, 구리 클래드를 제거하고 30분 동안 오토클레이브에서 끓인 후에, 20초 동안 288℃에서 솔더 침지 테스트를 견디는 수지 코팅된 호일.The resin-coated foil of claim 20 which withstands the solder dip test at 288 ° C. for 20 seconds after removing the copper clad and boiling in an autoclave for 30 minutes. 제 21 항에 있어서, 할로겐화 화합물을 함유하지 않으며, 200 마이크로미터 두께의 FR4 코어 상에서 6겹에 해당하는 240 마이크로미터의 추가 두께까지 압축하든지, 각기 적층체 자체로서 4겹에 해당하는 160 마이크로미터의 두께까지 압축하든지 수직 UL-연소 테스트를 V0 등급으로 통과하는 수지 코팅된 호일.22. The method of claim 21, which does not contain halogenated compounds and is compressed to an additional thickness of 240 micrometers equal to six ply on a 200 micrometer thick FR4 core, or 160 micrometers each corresponding to four ply as the laminate itself. Resin coated foil that compresses to thickness or passes the vertical UL-burn test to a V0 rating. (i) 성분 (A) 내지 (D) 및 임의로 성분 (E)를 혼합하는 단계;
(ii) 상기 단계 (i)에서 얻은 혼합물을 용융 압출하는 단계; 및
(iii) 상기 압출된 혼합물을 분쇄하고 체분류하는 단계를 포함하는, 제 1 항 내지 제 15 항 중 선택된 어느 한 항에 따른 분체 제제의 제조 방법.
(i) mixing components (A) to (D) and optionally component (E);
(ii) melt extruding the mixture obtained in step (i); And
(iii) pulverizing and sifting the extruded mixture, wherein the powder preparation according to any one of claims 1 to 15 is prepared.
제 16 항 내지 제 22 항 중 선택된 어느 한 항에 따른 수지 코팅된 호일을 인쇄회로기판을 제조하는데 사용하는 용도.23. Use of a resin coated foil according to any one of claims 16 to 22 for the manufacture of a printed circuit board.
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