KR20100100660A - Fan filter unit, semiconductor manufacturing apparatus, flat panel display manufacturing apparatus and method of manufacturing cleaned air - Google Patents

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KR20100100660A
KR20100100660A KR1020100019359A KR20100019359A KR20100100660A KR 20100100660 A KR20100100660 A KR 20100100660A KR 1020100019359 A KR1020100019359 A KR 1020100019359A KR 20100019359 A KR20100019359 A KR 20100019359A KR 20100100660 A KR20100100660 A KR 20100100660A
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아키라 조이치
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니치아스 가부시키가이샤
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Abstract

PURPOSE: A fan filter unit, a semiconductor manufacturing device, a flat panel display manufacturing device and a clean air producing method are provided to prevent impure gas from becoming emitted from the controller of an electric fan and to make the sucked air clean. CONSTITUTION: A fan filter unit comprises a casing, an electric fan for sucking the air, a flat filter and an air circulating and heat radiating path(15). The electric fan sucks the air into the casing. The flat filter is arranged in the casing, sends and purifies the air sucked by the electric fan from one major surface to the other major surface. The air circulating and heat radiating path is installed on the outer edge of the casing independently of the path through the air is sucked and purified. A controller forming the electric fan is arranged in the air circulating and heat radiating path.

Description

팬 필터 유닛, 반도체 제조 장치, 플랫 패널 디스플레이 제조 장치 및 청정화 공기의 제조 방법{FAN FILTER UNIT, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, FLAT PANEL DISPLAY MANUFACTURING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING CLEANED AIR}FAN FILTER UNIT, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, FLAT PANEL DISPLAY MANUFACTURING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING CLEANED AIR

본 발명은, 내부 온도의 상승을 억제하면서 흡입한 공기를 고도로 청정화할 수 있는 팬 필터 유닛, 상기 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치하여 이루어지는 반도체 제조 장치 또는 플랫 패널 디스플레이(Flat Panel Display, 이하, 적절히 「FPD」라고 한다) 제조 장치 및 상기 반도체 제조 장치 또는 플랫 패널 디스플레이 제조 장치를 이용한 청정화 공기의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention provides a fan filter unit capable of highly cleansing inhaled air while suppressing an increase in internal temperature, a semiconductor manufacturing apparatus or a flat panel display (hereinafter, suitably provided) provided on the outer wall surface of the fan filter unit. The manufacturing method of clean air | atmosphere using the manufacturing apparatus and the said semiconductor manufacturing apparatus, or the flat panel display manufacturing apparatus.

일반적으로, 반도체 장치나 액정 디스플레이라는 정밀 전자 기기를 제조하는 경우에는, 반도체 소자나 액정 소자 등을 제조하고, 조립, 검사 등을 하기 위한 다양한 공정을 필요로 한다.Generally, when manufacturing precision electronic devices, such as a semiconductor device and a liquid crystal display, various processes for manufacturing a semiconductor element, a liquid crystal element, etc., and performing assembly | assembly, an inspection, etc. are required.

상기 각 공정에 있어서는, 미세한 구조를 가지는 각종 소자를 취급하기 때문에, 분위기 중의 먼지나 화학 물질 등의 농도를 저감시키지 않으면 안되고, 이를 위해, 상기 공정의 대부분은, 일반적으로, 클린 룸, 즉 팬 필터 유닛에 의해 청정화된 공기를 공급하여 이루어지는 밀폐 공간 내에서 행해지도록 되어 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조).In each of the above steps, since various elements having a fine structure are handled, the concentration of dust, chemicals, etc. in the atmosphere must be reduced. For this purpose, most of the steps are generally in a clean room, that is, a fan filter. It is performed in the sealed space which supplies the air cleaned by the unit (for example, refer patent document 1).

또한, 클린 룸 내부에 있어서의 분위기 공기의 청정화도를 더욱 높이는 것을 목적으로 하여, 클린 룸 내에 팬 필터 유닛을 설치한 클린 벤치를 설치하고, 이 클린 벤치 내에서 반도체나 FPD를 제조하거나, 혹은, 클린 룸 내에 설치한 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치의 외벽면에 팬 필터 유닛을 직접 설치하고, 이들 장치 내부에서 반도체나 FPD를 제조하는 것이 행해지고 있다.In addition, for the purpose of further increasing the degree of cleanliness of the atmosphere air in the clean room, a clean bench having a fan filter unit is provided in the clean room to manufacture a semiconductor or FPD in the clean bench, or The fan filter unit is provided directly in the outer wall surface of the semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus installed in the clean room, and manufacturing a semiconductor and FPD in these apparatuses is performed.

예를 들면, 도 1에 개략 단면도로 도시하는 바와같이, 클린 룸(1)의 내부에, 상부 외벽면에 팬 필터 유닛(2)을 설치한 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치(3)를 배치하고, 클린 룸(1)의 천정에 배치된 팬 필터 유닛(4)으로 공기를 예비 청정화한 후, 상기 예비 청정화된 공기(5)를 팬 필터 유닛(2)을 구성하는 전동 팬(6)에 의해, 공기 도입구(7)를 통해 팬 필터 유닛(2) 내에 흡입하고, 흡입된 예비 청정화 공기를 필터(8)로 다시 청정화함으로써, 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치(3)의 내부에, 청정화도를 높인 분위기 공기(9)를 가지는 작업 공간(10)을 제공시키고 있다.For example, as shown in schematic sectional drawing in FIG. 1, inside the clean room 1, the semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus 3 which installed the fan filter unit 2 in the upper outer wall surface is arrange | positioned, After preliminary cleaning of the air with the fan filter unit 4 arranged on the ceiling of the clean room 1, the preliminary clean air 5 is driven by the electric fan 6 constituting the fan filter unit 2. In the inside of the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus 3, the degree of purification is performed by sucking in the fan filter unit 2 through the air inlet 7 and purifying the sucked preliminary purifying air back to the filter 8. The working space 10 which has the atmospheric air 9 which raised was provided.

도 2(a)에, 도 1에 도시하는 팬 필터 유닛(2)을 상면으로부터 보았을 때의 수평 단면도, 도 2(b)에, 도 1에 도시하는 팬 필터 유닛(2)의 양 주표면에 대한 수직 단면도를 도시한다.In Fig. 2 (a), the horizontal cross-sectional view when the fan filter unit 2 shown in Fig. 1 is seen from the top surface, and in Fig. 2 (b), on both main surfaces of the fan filter unit 2 shown in Fig. 1. Shows a vertical cross-sectional view.

도 2(a), 도 2(b)에 도시하는 것과 같은, 팬 필터 유닛(2)을 구성하는 전동 팬(6)은, 시로코 팬(sirocco fan) 등으로 이루어지는 팬부(61)나, 모터부(62)와 함께, 전원 기반, 제어 기반 등으로 이루어지는 제어부(63)를 가지고 있는데, 전동 팬(6)의 구동에 따라, 이 제어부(63)로부터 열이 발생하고, 제어부(63)를 구성하는 전자 부품이 열 열화(劣化) 등을 함으로써, 전동 팬(6)의 동작이 불안정하게 되거나, 제품 수명이 짧아지는 경우가 있다.The electric fan 6 which comprises the fan filter unit 2 as shown to FIG.2 (a), FIG.2 (b) is a fan part 61 which consists of a sirocco fan, etc., and a motor part. In addition to the control unit 62, the control unit 63 includes a power supply base, a control base, and the like. In accordance with the driving of the electric fan 6, heat is generated from the control unit 63, and the control unit 63 constitutes the control unit 63. When the electronic component undergoes thermal deterioration or the like, the operation of the electric fan 6 may become unstable or the product life may be shortened.

특히, 도 3에 도시하는 바와같이, 장치 내부의 청정도를 보다 높이기 위해서, 예비 청정화 공기(5)를 팬 필터 유닛(2) 내에 흡인하는 대신에, 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치(3)에 설치된 팬 필터 유닛(2)으로 일단 청정화된 공기를 공기 도입구(7)로부터 흡인하고, 다시 청정화하는 양태를 생각할 수 있는데, 이 양태에 있어서는, 전동 팬(6)에 의해 가온된 공기가, 다시 전동 팬(6)으로 순환하게 되므로, 전동 팬(6) 자신에의 열적 부하가 증대하게 된다.In particular, as shown in FIG. 3, in order to further increase the cleanliness of the inside of the apparatus, instead of sucking the preliminary clean air 5 into the fan filter unit 2, the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus 3 is provided. The aspect which sucks air once clean | cleaned by the fan filter unit 2 from the air inlet port 7, and cleans | cleans again can be considered. In this aspect, the air heated by the electric fan 6 is again powered. Since it circulates to the fan 6, the thermal load on the electric fan 6 itself increases.

이러한 경우, 도 4에 개략도로 도시하는 바와같이, 통상, 전동 팬(6)을 수용하는 케이싱(11)의 외측(팬 필터 유닛(2)의 외측) 표면의 제어부(63)에 인접하는 위치에 메시(mesh) 등에 의해 개방 부분(12)을 형성하고, 자연 대류에 의한 방열에 의해 냉각시키는 방법이 채용되고 있는데, 애초부터 팬 필터 유닛(2)이, 공기 도입구(7)로부터 공기를 흡입하고, 필터(8)에 의해 청정화된 공기를 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치(3)의 내부 공간(10)으로 배출하는 공기류를 가지는 것이므로, 팬 필터 유닛(2) 내에서 가온된 공기를, 개방 부분(12)으로부터 자연 대류에 의해 외부로 방출하는 것은 곤란하다.In this case, as shown schematically in FIG. 4, it is usually located at a position adjacent to the control section 63 of the outer surface (outer side of the fan filter unit 2) of the casing 11 that accommodates the electric fan 6. A method of forming the open portion 12 by a mesh or the like and cooling by heat dissipation by natural convection has been adopted. From the beginning, the fan filter unit 2 sucks air from the air inlet 7. And the air flow that discharges the air cleaned by the filter 8 to the internal space 10 of the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus 3, therefore, the air heated in the fan filter unit 2, It is difficult to release to the outside by natural convection from the open part 12.

여기서, 도 5에 개략도로 도시하는 바와같이, 개방 부분(12)에 인접하는 위치에 별도 냉각 팬(13)을 설치하고, 개방 부분(12)으로부터 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치(3)의 외부로 강제적으로 방열하는 방법을 생각할 수 있는데, 전동 팬(6)을 구성하는 기반 등의 제어부로부터 발생한 미립자나 불순물 가스가 클린 룸(1)의 내부 공간(14)에 확산되기 쉬워져, 클린 룸(1)의 내부 공간(14)에 있어서 별도로 행해지는 공정에 영향을 주게 된다.Here, as shown schematically in FIG. 5, a separate cooling fan 13 is provided at a position adjacent to the open portion 12, and the outside of the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus 3 is opened from the open portion 12. Although a method of forcibly dissipating heat can be considered, particulates and impurity gas generated from a control unit such as a foundation constituting the electric fan 6 are easily diffused into the interior space 14 of the clean room 1, It affects the process performed separately in the internal space 14 of 1).

일본국 실용공개 평 2－17220호 공보Japanese Utility Model Publication No. 2-17220

이러한 상황 하에, 본 발명은, 내부 온도의 상승을 억제하면서 흡입한 공기를 고도로 청정화할 수 있는 팬 필터 유닛를 제공하는 것으로서, 상기 팬 필터 유닛을 설치하여 이루어지는 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치를 제공하는 것 및 상기 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치를 이용한 청정화 공기의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.Under such circumstances, the present invention provides a fan filter unit capable of highly cleansing inhaled air while suppressing an increase in internal temperature, and providing a semiconductor manufacturing apparatus or an FPD manufacturing apparatus provided with the fan filter unit. And a method for producing purified air using the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus.

상기 기술 과제를 해결하기 위하여, 본 발명자 등이 예의 검토를 행한 바, 팬 필터 유닛으로서, 케이싱과, 상기 케이싱의 내부에 공기를 도입하는 공기 흡입용 전동 팬과, 상기 케이싱의 내부에 배치되어 이루어지고, 상기 공기 흡입용 전동 팬에 의해 흡입한 공기를 한쪽의 주 표면으로부터 다른쪽의 주 표면으로 통과시켜 청정화 처리하는 평판 형상 필터와, 상기 공기를 흡입하여 청정화 처리하는 경로와는 독립적으로, 상기 케이싱의 외측 가장자리부에 설치되어 이루어지는 공기 순환 방열 경로를 적어도 가지고, 상기 공기 순환 방열 경로 내에 공기 흡입용 전동 팬을 구성하는 제어부가 배치되어 이루어지는 것을 이용함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said technical subject, the present inventors etc. earnestly examined, As a fan filter unit, it is arrange | positioned inside a casing, the air suction electric fan which introduces air into the said casing, and the said casing. And a flat filter which passes through the air sucked by the air suction electric fan from one main surface to the other main surface and purifies the filter, and is independent of the path for sucking and purifying the air. By discovering that the said subject can be solved by using what has the air circulation heat dissipation path provided in the outer edge part of a casing, the control part which comprises the electric fan for air suction is arrange | positioned in the said air circulation heat dissipation path, The present invention has been completed.

즉, 본 발명은,That is, the present invention,

(1) 팬 필터 유닛으로서,(1) As a fan filter unit,

케이싱과,Casing,

상기 케이싱의 내부에 공기를 도입하는 공기 흡입용 전동 팬과,An electric suction fan for introducing air into the casing;

상기 케이싱의 내부에 배치되어 이루어지고, 상기 공기 흡입용 전동 팬에 의해 흡입한 공기를 한쪽의 주 표면으로부터 다른쪽의 주 표면으로 통과시켜 청정화 처리하는 평판 형상 필터와,A flat filter disposed in the casing and passing through the air sucked by the air suction electric fan from one main surface to the other main surface to be cleaned;

상기 공기를 흡입하여 청정화 처리하는 경로와는 독립적으로, 상기 케이싱의 외측 가장자리부에 설치되어 이루어지는 공기 순환 방열 경로를 적어도 가지고,At least an air circulation heat dissipation path provided at an outer edge of the casing, independent of a path for suctioning and purifying the air,

상기 공기 순환 방열 경로 내에 공기 흡입용 전동 팬을 구성하는 제어부가 배치되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛,A fan filter unit, wherein a control unit constituting the electric fan for air intake is disposed in the air circulation heat radiation path;

(2) 상기 공기 순환 방열 경로가, 상기 케이싱의 측부 전체 둘레에 프레임 형상으로 설치되어 이루어지는 상기(1)에 기재된 팬 필터 유닛,(2) The fan filter unit according to the above (1), wherein the air circulation heat dissipation path is provided in a frame shape around the entire side of the casing;

(3) 상기 공기 순환 방열 경로가, 상기 평판 형상 필터의 공기 유입측에 위치하는 케이싱벽의 내벽면 또는 외벽면 상에 설치되어 이루어지는 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 팬 필터 유닛,(3) The fan filter unit according to the above (1) or (2), wherein the air circulation heat dissipation path is provided on the inner wall surface or the outer wall surface of the casing wall located on the air inflow side of the flat filter;

(4) 상기 공기 순환 방열 경로 내에 공기 순환용 전동 팬을 더 가지는 상기 (1)∼(3)중 어느 1항에 기재된 팬 필터 유닛,(4) The fan filter unit according to any one of (1) to (3), further comprising an electric fan for air circulation in the air circulation heat dissipation path;

(5) 전체 형상이 도어형상으로 형성되어 이루어지는 상기 (1)∼(4)중 어느 1항에 기재된 팬 필터 유닛,(5) The fan filter unit according to any one of (1) to (4), wherein the overall shape is formed in a door shape,

(6) 상기 (1)∼(5)중 어느 1항에 기재된 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치,(6) A semiconductor manufacturing apparatus comprising the fan filter unit according to any one of (1) to (5) provided on an outer wall surface,

(7) 팬 필터 유닛에 의해 공기를 흡인하는 공간과, 청정화된 공기를 배출하는 공간이, 반도체 제조 장치 내에 형성되는 동일한 공간인 상기 (6)에 기재된 반도체 제조장치,(7) The semiconductor manufacturing apparatus according to (6), wherein the space for sucking air by the fan filter unit and the space for discharging the purified air are the same spaces formed in the semiconductor manufacturing apparatus;

(8) 상기 (1)∼(5)중 어느 1항에 기재된 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 FPD 제조 장치,(8) An FPD manufacturing apparatus comprising the fan filter unit according to any one of (1) to (5) provided on an outer wall surface,

(9) 팬 필터 유닛에 의해 공기를 흡인하는 공간과, 청정화된 공기를 배출하는 공간이, FPD 제조 장치 내에 형성되는 동일한 공간인 상기 (8)에 기재된 FPD 제조 장치,(9) The FPD manufacturing apparatus according to (8), wherein the space for sucking air by the fan filter unit and the space for discharging the purified air are the same spaces formed in the FPD manufacturing apparatus.

(10) 클린 룸 내에 배치한 상기 (6)∼(9)중 어느 하나에 기재된 반도체 제조장치 또는 FPD 제조 장치에 의해 공기를 청정화 처리하는 것을 특징으로 하는 청정화 공기의 제조 방법을 제공하는 것이다.(10) The present invention provides a method for producing purified air, wherein the air is purified by the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus according to any one of (6) to (9) disposed in a clean room.

본 발명에 의하면, 팬 필터 유닛에 있어서, 공기를 흡입하여 청정화 처리하는 경로와는 독립적으로, 케이싱의 외측 가장자리부에 공기 순환 방열 경로를 설치하고, 상기 경로 내에 공기 순환용 전동 팬의 제어부를 배치하면서, 상기 순환 경로 내를 따라 내부의 공기를 순환, 냉각시킴으로써, 내부 온도의 상승을 억제하고, 또한 전동 팬의 제어부로부터 발생하는 불순물 가스의 방출을 방지하고, 도입된 예비 청정화 공기를 고도로 청정화할 수 있는 팬 필터 유닛을 제공할 수 있다.According to the present invention, in the fan filter unit, an air circulation heat dissipation path is provided at the outer edge of the casing independently of a path for inhaling and purifying air, and a control unit of the electric fan for air circulation is disposed in the path. By circulating and cooling the air inside the circulation path, it is possible to suppress the rise of the internal temperature, to prevent the release of the impurity gas generated from the control unit of the electric fan, and to clean the introduced preliminary clean air highly. Can provide a fan filter unit.

또한, 본 발명에 의하면, 상기 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치하여 이루어지는 반도체 제조장치 또는 FPD 제조 장치를 제공하는 것 및 상기 반도체 제조장치 또는 FPD 제조 장치를 이용한 청정화 공기의 제조 방법을 제공할 수 있다.Moreover, according to this invention, the semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus provided by providing the said fan filter unit in the outer wall surface, and the manufacturing method of the clean air using the said semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus can be provided. .

도 1은 일반적인 반도체 제조장치 또는 FPD 제조 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 일반적인 팬 필터 유닛의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 일반적인 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 4는 개방부를 가지는 팬 필터 유닛부를 설치한 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치를 나타내는 도면이다.
도 5는 개방부와 냉각 팬을 가지는 팬 필터 유닛을 설치한 반도체 제조장치 또는 FPD 제조 장치를 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 팬 필터 유닛의 일예를 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 팬 필터 유닛의 일예를 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 팬 필터 유닛의 일예를 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 팬 필터 유닛의 일예를 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 팬 필터 유닛의 일예를 나타내는 도면이다.
도 11은 본 발명의 팬 필터 유닛의 일예를 나타내는 도면이다.
도 12는 본 발명의 팬 필터 유닛의 일예를 나타내는 도면이다.
도 13은 본 발명의 팬 필터 유닛의 일예를 나타내는 도면이다.
도 14는 본 발명의 팬 필터 유닛의 일예를 나타내는 도면이다.
도 15는 본 발명의 반도체 제조장치 또는 FPD 제조 장치의 일예를 나타내는 도면이다.
도 16은 본 발명의 청정화 공기의 제조 방법을 나타내는 도면이다.1 is a view showing the configuration of a general semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus.
2 is a diagram illustrating a configuration of a general fan filter unit.
3 is a diagram illustrating a configuration of a general semiconductor manufacturing apparatus or an FPD manufacturing apparatus.
It is a figure which shows the semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus which provided the fan filter unit part which has an opening part.
5 is a view showing a semiconductor manufacturing apparatus or an FPD manufacturing apparatus provided with a fan filter unit having an opening and a cooling fan.
6 is a view showing an example of the fan filter unit of the present invention.
7 is a view showing an example of the fan filter unit of the present invention.
8 is a diagram illustrating an example of a fan filter unit of the present invention.
9 is a view showing an example of the fan filter unit of the present invention.
10 is a diagram illustrating an example of a fan filter unit of the present invention.
11 is a view showing an example of the fan filter unit of the present invention.
It is a figure which shows an example of the fan filter unit of this invention.
It is a figure which shows an example of the fan filter unit of this invention.
14 is a diagram illustrating an example of a fan filter unit of the present invention.
15 is a diagram illustrating an example of a semiconductor manufacturing apparatus or an FPD manufacturing apparatus of the present invention.
It is a figure which shows the manufacturing method of the purifying air of this invention.

먼저, 본 발명의 팬 필터 유닛에 대해서 설명한다.First, the fan filter unit of this invention is demonstrated.

본 발명의 팬 필터 유닛은, 케이싱과, 상기 케이싱의 내부에 공기를 도입하는 공기 흡입용 전동 팬과, 상기 케이싱의 내부에 배치되어 이루어지고, 상기 공기 흡입용 전동 팬에 의해 흡입한 공기를 한쪽의 주 표면으로부터 다른쪽의 주 표면으로 통과시켜 청정화 처리하는 평판 형상 필터와, 상기 공기를 흡입하여 청정화 처리하는 경로와는 독립적으로, 상기 케이싱의 외측 가장자리부에 설치되어 이루어지는 공기 순환 방열 경로를 적어도 가지고, 상기 공기 순환 방열 경로 내에 상기 공기 흡입용 전동 팬을 구성하는 제어부가 배치되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 것이다.The fan filter unit of the present invention comprises a casing, an air suction electric fan for introducing air into the casing, and an air sucked by the air suction electric fan. At least an air circulation heat dissipation path provided at an outer edge of the casing, independent of a flat filter passing through the main surface of the casing from the main surface of the casing to the other main surface, and a path for sucking and purifying the air. And a control unit constituting the air suction electric fan in the air circulation heat dissipation path.

이하, 본 발명의 팬 필터 유닛의 실시 형태를, 도면에 의거하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of the fan filter unit of this invention is described based on drawing.

도 6∼도 10은, 본 발명의 팬 필터 유닛의 제1의 양태(이하, 본 발명의 FFU의 양태 Ⅰ라고 한다)를 나타내는 도면이고, 도 11∼도 13은, 본 발명의 팬 필터 유닛의 제2의 양태(이하, 본 발명의 FFU의 양태 Ⅱ라고 한다)를 나타내는 도면이다.6-10 is a figure which shows the 1st aspect of the fan filter unit of this invention (Hereinafter, it is called aspect I of FFU of this invention), and FIG. 11-13 is a figure of the fan filter unit of this invention. It is a figure which shows 2nd aspect (hereinafter, it is called aspect II of FFU of this invention).

도 6(a)에, 케이싱(11)의 양 주표면에 대한 수직 단면도로 나타내는 바와같이, 본 발명의 FFU의 양태 Ⅰ는, 전동 팬(6)을 구성하는 팬부(61)와 평판 형상 필터(8)가, 케이싱(11)의 주 표면에 대해서 수평 방향으로 병렬되도록 케이싱(11) 내에 배치되어 이루어지는 것이고, 또한, 도 11(a)에 케이싱(11)의 양 주표면에 대한 수직 단면도로 나타내는 바와같이, 본 발명의 FFU의 양태 Ⅱ는, 전동 팬(6)을 구성하는 팬부(61)와 평판 형상 필터(8)가, 케이싱(11)의 양 주표면에 대해 수직 방향으로 병렬되도록 케이싱(11) 내에 배치되어 이루어지는 것이다. 본 발명의 FFU의 양태 Ⅰ와 FFU의 양태 Ⅱ는, 팬부(61)와 평판 형상 필터(8)의 배치가 다를 뿐이고, 그 이외의 주요한 구성은 공통되므로, 이하, 본 발명의 팬 필터 유닛에 대해서, 주로 본 발명의 FFU의 양태 Ⅰ에 의거하여 설명하는 것으로 한다.As shown in Fig. 6 (a) as a vertical cross sectional view with respect to both main surfaces of the casing 11, the aspect I of the FFU of the present invention includes a fan portion 61 and a flat plate filter (constituting the electric fan 6). 8) is disposed in the casing 11 so as to be parallel to the main surface of the casing 11 in the horizontal direction, and is shown in Fig. 11 (a) in a vertical cross-sectional view with respect to both major surfaces of the casing 11. As described above, in the aspect II of the FFU of the present invention, the casing (such that the fan 61 and the flat filter 8 constituting the electric fan 6 are parallel to both main surfaces of the casing 11 in parallel to the main surface) is employed. 11) is arranged inside. Since the arrangement | positioning of the fan part 61 and the flat plate filter 8 differs only in the aspect I of the FFU of this invention, and the aspect II of FFU, since the main structure other than that is common hereafter, about the fan filter unit of this invention, It will mainly be described based on the aspect I of the FFU of the present invention.

도 6은, 본 발명의 FFU의 양태 Ⅰ를 설명하는 도면으로서, 도 6(a)는, 팬 필터 유닛(2)을 구성하는 케이싱(11)의 양 주표면에 대한 수직 단면도, 도 6(b)는, 팬 필터 유닛(2)의 하면(청정화 공기의 배출면)측의 도면, 도 6(c)는, 팬 필터 유닛(2)의 상면측 수평 단면도, 도 6(d)는, 팬 필터 유닛(2)의 사시도(투시도)를 나타내는 것이다.Fig. 6 is a view for explaining the aspect I of the FFU of the present invention, and Fig. 6 (a) is a vertical sectional view of both main surfaces of the casing 11 constituting the fan filter unit 2, and Fig. 6 (b). ) Is a view of the bottom surface of the fan filter unit 2 (the discharge surface of the purified air), FIG. 6 (c) is a horizontal cross-sectional view of the fan filter unit 2, and FIG. 6 (d) is a fan filter. The perspective view (perspective view) of the unit 2 is shown.

케이싱(11)의 형상은, 그 내부에 후술하는 평판 형상 필터(8)를 적어도 수납할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 직방체 형상 등을 들 수 있다. 케이싱이 직방체의 형상을 가지는 경우, 그 크기는, 세로 500㎜∼2000㎜, 가로 500㎜∼2000㎜, 높이 50㎜∼200㎜ 정도인 것이 바람직하다.The shape of the casing 11 is not specifically limited as long as it can accommodate the flat-plate filter 8 mentioned later in its inside, for example, a rectangular parallelepiped shape etc. are mentioned. When the casing has a rectangular parallelepiped shape, the size thereof is preferably 500 mm to 2000 mm in length, 500 mm to 2000 mm in width, and about 50 mm to 200 mm in height.

공기 흡입용 전동 팬(6)은, 케이싱(11) 내에 공기를 흡인하고, 후술하는 평판 형상 필터(8)를 통과시켜, 배출시키는 것이며, 도 6(c)에 도시하는 바와같이, 적어도 팬부(61), 모터부(62)와 함께 제어부(63)을 가지는 것이다.The electric fan 6 for air suction sucks air in the casing 11, passes the flat-shaped filter 8 mentioned later, and discharges it, and as shown to FIG. 6 (c), at least a fan part ( 61 and the motor unit 62 together with the control unit 63.

여기서, 팬부(61)는, 공기를 흡인하고, 흡인한 공기를 평판 형상 필터(8)에 공급하고, 통과시킬 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, 시로코 팬이나, 프로펠라 팬 등을 들 수 있다.The fan unit 61 is not particularly limited as long as it sucks air and supplies the sucked air to the flat filter 8 and allows it to pass therethrough, but for example, a sirocco fan, a propeller fan, and the like are exemplified. Can be.

또한, 제어부(63)은, 팬을 구동시켜, 정지시키는 기능을 가지는 것으로서, 구체적으로는, 전원 기반, 제어 기판 등에 의해 구성시키는 것이다.The control unit 63 has a function of driving and stopping the fan. Specifically, the control unit 63 is configured by a power supply base, a control board, or the like.

한편, 평판 형상 필터(8)는, 전동 팬(6)에 의해 흡인한 공기를 고도로 청정화할 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않고, 집진 필터인 HEPA 필터(High Efficiency Particulate Air Filter), ULPA 필터(Ultra Low Penetration Air Filter)나, 내부에 활성탄이나 이온 교환 수지 등을 충전하여 이루어지는 케미컬 필터 등을 들 수 있다. 상기 각종 필터를 적층시키거나, 병렬 설치하여 이용해도 되고, 이 경우, 평판 형상 필터(8)로는, 상기 각종 필터 중에서 1종 또는 2종 이상을 선택할 수 있다.On the other hand, the flat plate filter 8 is not particularly limited as long as the air drawn by the electric fan 6 can be highly purified, and the HEPA filter (High Efficiency Particulate Air Filter) and the ULPA filter (Ultra Low), which are dust collecting filters, are not particularly limited. Penetration Air Filter) and the chemical filter etc. which fill inside with activated carbon, an ion exchange resin, etc. are mentioned. The various filters may be laminated or used in parallel. In this case, one or two or more of the various filters may be selected as the flat filter 8.

도 6(a)∼(d)에 도시하는 바와같이, 케이싱(11)의 외측 가장자리부에는, 공기 순환 방열 경로(15)가 설치된다.As shown to Fig.6 (a)-(d), the air circulation heat dissipation path 15 is provided in the outer edge part of the casing 11.

이 공기 순환 방열 경로(15)는, 그 내부 분위기가, 케이싱(11)의 내부 분위기나 팬 필터 유닛(2)의 외부 분위기와 접촉하지 않도록, 기밀 상태를 유지할 수 있는 구조로 되어 있고, 도 6에 도시하는 바와같이, 케이싱(11)의 측부 전체 둘레에 프레임 형상으로 설치할 수 있다.The air circulation heat dissipation path 15 has a structure in which an airtight state can be maintained so that the internal atmosphere does not contact the internal atmosphere of the casing 11 or the external atmosphere of the fan filter unit 2, and FIG. 6. As shown in the figure, the entire periphery of the side of the casing 11 can be provided in a frame shape.

또한, 본 발명의 FFU의 양태 Ⅰ에 있어서는, 도 7에 도시하는 바와같이, 공기 순환 방열 경로(15)를, 평판 형상 필터(8)의 공기 유입측에 위치하는 케이싱벽(18)의 외벽면 상에 설치해도 된다. 여기서, 도 7(a)는, 팬 필터 유닛(2)을 구성하는 케이싱(11)의 양 주표면에 대한 수직 단면도, 도 7(b)는, 팬 필터 유닛(2)의 하면(청정화 공기의 배출면)측의 도면, 도 7(c)는, 팬 필터 유닛(2)의 상면측의 도면, 도 7(d)는, 팬 필터 유닛(2)의 사시도(투시도)이다.Moreover, in the aspect I of FFU of this invention, as shown in FIG. 7, the outer wall surface of the casing wall 18 in which the air circulation heat dissipation path 15 is located in the air inflow side of the flat filter 8 is shown. You may install on the top. Here, FIG. 7A is a vertical sectional view of both main surfaces of the casing 11 constituting the fan filter unit 2, and FIG. 7B is a bottom surface of the fan filter unit 2 (the 7C is a view on the upper surface side of the fan filter unit 2, and FIG. 7D is a perspective view (perspective view) of the fan filter unit 2.

또한, 본 발명의 FFU의 양태 Ⅰ에 있어서는, 도 8에 도시하는 바와같이, 공기 순환 방열 경로(15)를, 평판 형상 필터(8)의 공기 유입측에 위치하는 케이싱벽(18)의 내벽면 상에 설치해도 된다. 여기서, 도 8(a)는, 팬 필터 유닛(2)을 구성하는 케이싱(11)의 양 주표면에 대한 수직 단면도, 도 8(b)는, 팬 필터 유닛(2)의 하면(청정화 공기의 배출면)측의 도면, 도 8(c)는, 팬 필터 유닛(2)의 상면측의 도면, 도 8(d)는, 팬 필터 유닛(2)의 사시도(투시도)이다.In addition, in the aspect I of FFU of this invention, as shown in FIG. 8, the inner wall surface of the casing wall 18 in which the air circulation heat dissipation path 15 is located in the air inflow side of the flat filter 8 is shown. You may install on the top. Here, FIG. 8 (a) is a vertical sectional view of both main surfaces of the casing 11 constituting the fan filter unit 2, and FIG. 8 (b) shows the bottom surface of the fan filter unit 2 (the 8 (c) is a view on the upper surface side of the fan filter unit 2, and FIG. 8 (d) is a perspective view (perspective view) of the fan filter unit 2.

도 6, 도 7, 도 8에 있어서는, 경로(15)의 각 모퉁이부가 직각으로 되어 있는데, 경로 내의 공기의 순환성(압력 손실)을 고려하면, 경로(15)의 각 모퉁이부가 완만한 커브형상으로 되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 경로(15)의 모퉁이부의 수가 적을수록, 경로 내의 공기의 순환성(압력 손실)이 향상하기 때문에, 도 6, 도 7, 도 8에 도시하는 바와같이, 모퉁이부를 4개소로 하거나, 모퉁이부를 제로로 하는 (경로(15)를 원형으로 한다) 것이 바람직하다. 도 6에 도시하는 양태에 있어서는, 경로(15)를 케이싱(11)의 측부에 설치하므로, 도 6에 도시하는 양태에 있어서, 경로(15)의 모퉁이부를 완만한 커브형상으로 하거나 경로(15)를 원형으로 하는 경우에는, 케이싱(11)의 모퉁이부도 완만한 커브형상으로 하거나 전체를 원형으로 하는 것이 바람직하다.6, 7, and 8, the corners of the path 15 are at right angles. In consideration of the circulation (pressure loss) of air in the path, each corner of the path 15 has a gentle curved shape. It is preferable to become. In addition, as the number of corner portions of the path 15 decreases, the circulation property (pressure loss) of the air in the path improves. Thus, as shown in Figs. 6, 7 and 8, the corner parts are arranged at four locations or the corners. It is preferable to make the portion zero (the path 15 is circular). In the aspect shown in FIG. 6, since the path 15 is provided in the side of the casing 11, in the aspect shown in FIG. 6, the corner part of the path 15 is made into a smooth curve or the path 15 In the case of forming a circle, it is preferable that the corner portion of the casing 11 also has a gentle curved shape or the whole circle.

공기 순환 방열 경로(15)를, 도 6에 도시하는 바와같이, 케이싱(11)의 측부 전체 둘레에 프레임 형상으로 설치한 경우나, 도 8에 도시하는 바와같이, 평판 형상 필터(8)의 공기 유입측에 위치하는 케이싱벽(18)의 내벽면 상에 설치한 경우에는, 팬 필터 유닛(2)을 구성하는 케이싱(11)의 양 주표면에 대해서 수직 방향의 두께를 증가시키지 않으므로, 반도체 제조장치 또는 FPD 제조 장치의 벽면 등에 대해서, 여분의 두께(볼록부)를 형성하지 않고 팬 필터 유닛(2)을 설치할 수 있어, 공간 절약화를 도모하는 것이 가능해진다.As shown in FIG. 6, when the air circulation heat dissipation path 15 is provided in the shape of a frame around the entire side of the casing 11 or as shown in FIG. 8, the air of the flat filter 8 is shown. In the case of being installed on the inner wall surface of the casing wall 18 located on the inflow side, the thickness of the vertical direction is not increased with respect to both main surfaces of the casing 11 constituting the fan filter unit 2, so that semiconductor manufacturing is performed. The fan filter unit 2 can be provided without forming extra thickness (convex part) with respect to the wall surface of an apparatus or a FPD manufacturing apparatus, and it becomes possible to save space.

공기 순환 방열 경로(15) 내의 제어부(63) 근방에 있어서의 공기의 순환 속도는, 1.0∼1.5m/초인 것이 바람직하고, 1.5∼2.0m/초인 것이 보다 바람직하며, 2.0∼2.5m/초인 것이 더욱 바람직하다. 본 발명의 팬 필터 유닛에 있어서는, 공기의 순환 속도가 상기 범위 내에 있으므로, 제어부(63)를 공냉하여 온도 상승을 억제하는 것이 가능해진다.It is preferable that the circulation velocity of the air in the vicinity of the control part 63 in the air circulation heat dissipation path 15 is 1.0-1.5 m / sec, It is more preferable that it is 1.5-2.0 m / sec, It is 2.0-2.5 m / sec More preferred. In the fan filter unit of the present invention, since the circulation rate of air is within the above range, the control unit 63 can be cooled by air to suppress the temperature rise.

공기 순환 방열 경로(15) 내에 충전되는 공기는, 특별히 제한되지 않지만, 클린 룸 등에 의해 예비 청정화된 공기인 것이 바람직하다.The air filled in the air circulation heat radiation path 15 is not particularly limited, but is preferably air preliminarily cleaned by a clean room or the like.

본 발명의 FFU의 양태 Ⅰ에 있어서는, 도 6(a), 도 6(c)에 도시하는 바와같이, 공기 흡입용 전동 팬(6)을 구성하는 팬부(61)와 평판 형상 필터(8)는, 어느것이나 케이싱(11)의 양 주표면에 수평이 되도록, 케이싱 내에 병렬로 배치, 수용된다. 이와 같이, 팬부(61)와 평판 형상 필터(8)를 병렬로 배치함으로써, 팬 필터 유닛(2)을 구성하는 케이싱(11)의 양 주표면에 대해서 수직 방향의 두께를 저감할 수 있으므로, 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치 등의 벽면에 대해서, 여분의 두께(볼록부)를 형성하지 않고 설치할 수 있어, 공간 절약화를 도모하는 것이 가능해진다.In the aspect I of FFU of this invention, as shown to FIG. 6 (a), FIG. 6 (c), the fan part 61 and the flat plate filter 8 which comprise the air suction electric fan 6 are Both are arranged in parallel and accommodated in a casing so that they may be horizontal to both main surfaces of the casing 11. In this way, by arranging the fan portion 61 and the flat plate filter 8 in parallel, the thickness in the vertical direction with respect to both main surfaces of the casing 11 constituting the fan filter unit 2 can be reduced. The wall surface of a manufacturing apparatus or a FPD manufacturing apparatus can be installed without forming an extra thickness (convex part), and it becomes possible to save space.

한편, 도 6(c)에 도시하는 바와같이, 공기 흡입용 전동 팬(6)을 구성하는 제어부(63)는, 공기 순환 방열 경로(15) 내에 수용된다. 이 때, 상기 공간 절약화의 관점에서, 도 6(c) 등에 도시하는 바와같이, 제어부(63)도 팬부(61)나 평판 형상 필터(8)에 대해서, 케이싱(11)의 양 주표면에 대해서 수평 방향으로 병렬로 배치하는 것이 바람직하다.On the other hand, the control part 63 which comprises the air suction electric fan 6 is accommodated in the air circulation heat dissipation path 15, as shown to FIG. 6 (c). At this time, from the viewpoint of space saving, as shown in Fig. 6 (c) and the like, the control unit 63 also has both main surfaces of the casing 11 with respect to the fan portion 61 and the flat plate filter 8. It is preferable to arrange | position in parallel with respect to a horizontal direction.

본 발명의 FFU의 양태 Ⅰ에 있어서는, 도 6(a)∼(d)에 도시하는 바와같이, 공기 도입구(7)를 통하여 팬부(61)에 의해 케이싱(11) 내에 흡인된 공기는, 평판 형상 필터(8)를 통과하여 청정화 처리됨으로써, 청정화도를 높인 분위기 공기(9)를 팬 필터 유닛(2)의 외부(반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치 등의 내부 공간 등)로 배출한다.In Embodiment I of the FFU of the present invention, as shown in FIGS. 6A to 6D, the air sucked into the casing 11 by the fan portion 61 through the air inlet 7 is a flat plate. By carrying out the purification process through the shape filter 8, the atmospheric air 9 which raised the cleaning degree is discharged | emitted to the exterior of the fan filter unit 2 (internal space, such as a semiconductor manufacturing apparatus or a FPD manufacturing apparatus, etc.).

도 6(a), (b), (d) 등에 도시하는 바와같이, 공기 도입구(7)를 설치하는 면을, 평판 형상 필터(8)의 청정화 공기 배출면과 동일한 면으로 함으로써, 팬 필터 유닛(2)을 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치 등에 설치하였을 때, 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치 등의 장치 내부의 공기를 순환시키는 것이 용이해진다. 한편, 도 9(a)∼(d)에, 도 6(a)∼(d)와 각각 대비할 수 있도록 나타내는 바와같이, 공기 도입구(7)를, 평판 형상 필터(8)의 공기 유입측에 위치하는 케이싱벽의 외벽면에 설치해도 되고, 이 경우, 본 발명의 팬 필터 유닛을 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치 등의 외벽면에 부착했을 시에, 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치 등 외부의 공기를 팬 필터 유닛 내에 용이하게 도입할 수 있다.As shown in FIG. 6 (a), (b), (d) and the like, the fan filter is formed by setting the surface on which the air inlet 7 is provided to be the same surface as the clean air discharge surface of the flat filter 8. When the unit 2 is installed in a semiconductor manufacturing apparatus, an FPD manufacturing apparatus, or the like, it becomes easy to circulate air in an apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus or an FPD manufacturing apparatus. On the other hand, as shown in Figs. 9A to 9D so as to be contrasted with Figs. 6A to 6D, the air inlet 7 is placed on the air inlet side of the flat filter 8. In the case where the fan filter unit of the present invention is attached to an outer wall surface such as a semiconductor manufacturing apparatus or an FPD manufacturing apparatus, external air such as a semiconductor manufacturing apparatus or an FPD manufacturing apparatus may be provided. Can be easily introduced into the fan filter unit.

도 10(a)∼(d)는, 도 6(a)∼(d)에 각각 대응하는 도면이고, 도 6에 도시하는 팬 필터 유닛(2)에 있어서, 순환 방열 경로(15) 내의 공기의 흐름을 나타내는 도면이다.(A)-(d) is a figure corresponding to FIGS. 6 (a)-(d), respectively, and in the fan filter unit 2 shown in FIG. It is a figure which shows a flow.

도 10(a)∼(d)에 도시하는 바와같이, 전동 팬(6)의 제어부(63)가 배치된 공기 순환 방열 경로(15) 내에 있어서는, 제어부(63)로부터 배출되는 열에 의해 가온된 순환 공기(17)가, 자연 대류에 의해 경로(15) 내를 순환한다. 이 때, 도 10(c)에 도시하는 바와같이, 경로(15) 내에 프로펠러 팬이나 시로코 팬 등으로 이루어지는 공기 순환용 전동 팬(16)을 설치함으로써, 경로(15) 내에 있어서의 공기(17)의 순환 속도를 향상시켜도 된다.As shown in FIGS. 10A to 10D, in the air circulation heat dissipation path 15 in which the control unit 63 of the electric fan 6 is disposed, the circulation heated by the heat discharged from the control unit 63. Air 17 circulates in the path 15 by natural convection. At this time, as shown in FIG.10 (c), the air 17 in the path 15 is provided by installing the electric fan 16 for air circulation which consists of a propeller fan, a sirocco fan, etc. in the path | route 15. FIG. The circulation rate of may be improved.

또한, 도 7에 도시하는 팬 필터 유닛(2)을 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치 등의 외벽에 부착하고, 클린 룸 내에 설치한 경우, 상기 케이싱벽(18)의 외벽면측이 클린 룸의 내부 분위기와 접하는 면이 되므로, 공기 순환 방열 경로(15)가 클린 룸의 내부 분위기와 접하는 면적도 증가하게 된다. 그리고, 일반적으로 클린 룸 내는, 공기 조절에 의해 온도 관리되고 있으므로, 공기 순환 방열 경로(15) 내를 순환하는 공기의 냉각 효율을 더욱 향상시키는 것이 가능해진다.In addition, when the fan filter unit 2 shown in FIG. 7 is attached to the outer wall of a semiconductor manufacturing apparatus, an FPD manufacturing apparatus, etc., and it is installed in a clean room, the outer wall surface side of the said casing wall 18 is an internal atmosphere of a clean room. Since the surface is in contact with the surface, the area in which the air circulation heat dissipation path 15 is in contact with the internal atmosphere of the clean room is also increased. And since the inside of a clean room is generally temperature-controlled by air regulation, it becomes possible to further improve the cooling efficiency of the air circulating in the air circulation heat dissipation path 15.

도 11∼도 13은, 본 발명의 FFU의 양태 Ⅱ를 나타내는 도면이다.11-13 is a figure which shows Embodiment II of FFU of this invention.

상술한 것처럼, 본 발명의 FFU의 양태 Ⅱ는, 전동 팬(6)을 구성하는 팬부(61)와 평판 형상 필터(8)가, 팬 필터 유닛(2)을 구성하는 케이싱(11)의 양 주표면에 대해서 수직 방향으로 병렬되어, 케이싱(11) 내에 배치되어 이루어지는 것이다.As described above, in the aspect II of the FFU of the present invention, both the casing 11 of the fan portion 61 and the flat plate filter 8 constituting the electric fan 6 constitute the fan filter unit 2 are described. It is arranged in parallel with the surface in the casing 11.

도 11은, 공기 순환 방열 경로(15)가 케이싱(11)의 측부 전체 둘레에 프레임 형상으로 설치되어 이루어지는 팬 필터 유닛을 나타내는 것이고, 도 11(a)는, 팬 필터 유닛(2)의 양 주표면에 대한 수직 단면도이며, 도 11(b)는, 팬 필터 유닛(2)의 상면측 수평 단면도이고, 도 11(c)는, 팬 필터 유닛(2)의 사시도(투시도)이다.FIG. 11: shows the fan filter unit by which the air circulation heat dissipation path 15 is provided in frame shape around the whole side part of the casing 11, and FIG. 11 (a) shows both main parts of the fan filter unit 2, FIG. It is a vertical sectional view with respect to the surface, FIG. 11 (b) is a horizontal cross-sectional view of the upper surface side of the fan filter unit 2, and FIG. 11 (c) is a perspective view (perspective view) of the fan filter unit 2.

또한, 도 12는, 공기 순환 방열 경로(15)가, 평판 형상 필터(8)의 공기 유입측에 위치하는 케이싱벽(18)의 외벽면 상에 설치되어 이루어지는 팬 필터 유닛을 나타내는 것이고, 도 12(a)∼도 12(c)는, 공기 순환 방열 경로(15)의 설치 위치를 제외하고, 도 11(a)∼도 11(c)에 각각 대응하는 도면이다.12 shows the fan filter unit in which the air circulation heat dissipation path 15 is provided on the outer wall surface of the casing wall 18 located in the air inflow side of the flat filter 8, FIG. (a)-FIG. 12 (c) is a figure corresponding to FIGS. 11 (a)-11 (c) except the installation position of the air circulation heat dissipation path 15, respectively.

도 13은, 공기 순환 방열 경로(15)가, 평판 형상 필터(8)의 공기 유입측에 위치하는 케이싱벽(18)의 내벽면 상에 설치되어 이루어지는 것을 나타내는 것이고, 도 13(a)∼도 13(c)는, 공기 순환 방열 경로(15)의 설치 위치를 제외하고, 도 11(a)∼도 11(c)에 각각 대응하는 도면이다.FIG. 13 shows that the air circulation heat dissipation path 15 is provided on the inner wall surface of the casing wall 18 located on the air inflow side of the flat filter 8, and FIGS. 13 (c) is a diagram corresponding to FIGS. 11A to 11C, except for the installation position of the air circulation heat radiation path 15.

본 발명의 FFU의 양태 Ⅱ에 있어서, 케이싱(11)의 형상은, 그 내부에 평판 형상 필터(8)를 적어도 수납할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 직방체 형상 등을 들 수 있다. 케이싱이 직방체의 형상을 가지는 경우, 그 크기는, 세로 500㎜∼2000㎜, 가로 500㎜∼2000㎜, 높이 50㎜∼200㎜정도인 것이 바람직하다.In aspect II of FFU of this invention, the shape of the casing 11 will not be specifically limited if the flat filter 8 can be accommodated at least inside, For example, a rectangular parallelepiped shape etc. are mentioned. . When the casing has a rectangular parallelepiped shape, the size thereof is preferably 500 mm to 2000 mm in length, 500 mm to 2000 mm in width, and about 50 mm to 200 mm in height.

팬부(61)를 구성하는 팬의 종류, 제어부(63)의 구성, 평판 형상 필터(8)의 양태, 케이싱 내에 공기를 흡인하여 청정화하는 양태, 공기 순환 방열 경로(15)에 있어서의 공기 순환의 양태, 공기 순환 방열 경로(15) 내의 공기의 순환 속도 등에 대해서는, 상기 본 발명의 FFU의 양태 Ⅰ에서 설명한 내용과 동일하다.Types of the fan constituting the fan portion 61, the configuration of the control unit 63, the aspect of the flat filter 8, the aspect in which air is sucked and cleaned in the casing, the air circulation in the air circulation heat radiation path 15 The aspect, the circulation rate of the air in the air circulation heat dissipation path 15, and the like are the same as those described in the aspect I of the FFU of the present invention.

상기 양태 Ⅰ나 양태 Ⅱ로 예시되는 본 발명의 팬 필터 유닛은, 도 14에 도시하는 바와같이, 그 전체 형상을 도어 형상으로 형성해도 된다. 이 경우, 팬 필터 유닛에 파지부(19) 등을 설치하고, 도어로서의 기능도 겸비하게 함으로써, 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치 등의 외벽에 설치했을 시에, 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치 등의 구성 부품수를 삭감할 수 있고, 또한, 외부로의 개구수를 줄여, 장치 내부의 공기 청정성을 높일 수 있다. 특히, 본 발명의 FFU의 양태 Ⅰ에 관한 팬 필터 유닛의 전체 형상을 도어 형상으로 함으로써, 보다 박형의 도어형상 팬 필터 유닛을 제공하는 것이 가능해진다.As shown in FIG. 14, the fan filter unit of this invention illustrated by the said aspect I and the aspect II may form the whole shape in door shape. In this case, by holding the gripping portion 19 or the like in the fan filter unit and having a function as a door, when it is installed on the outer wall of the semiconductor manufacturing apparatus, the FPD manufacturing apparatus, or the like, The number of components can be reduced, the numerical aperture to the outside can be reduced, and the air cleanliness inside the apparatus can be improved. In particular, by making the overall shape of the fan filter unit according to the aspect I of the FFU of the present invention into a door shape, it becomes possible to provide a thinner door-shaped fan filter unit.

본 발명의 팬 필터 유닛(2)에 있어서는, 도 6(a)∼(d)나 도 11(a)∼(c)에 예시하는 것처럼, 공기 흡입용 전동 팬(6)에 의해 도입된 공기를, 평판 형상 필터(8)에 의해 청정화하는 경로와는 독립적으로, 케이싱(11)의 외측 가장자리부에 공기 순환 방열 경로(15)를 설치하고, 상기 공기 순환 방열 경로(15) 내에 전동 팬(6)을 구성하는 제어부(63)를 배치함으로써, 상기 청정화되는 공기류의 영향을 받지 않고, 제어부(63)의 분위기 가스를 순환시켜, 효율적으로 방열, 냉각시키는 것이 가능해진다. 또한, 전동 팬(6)을 구성하는 기반 등의 제어부(63)로부터 발생한 미립자나 불순물 가스가, 팬 필터 유닛(2)의 외부 공간(클린 룸의 내부 공간 등)으로 확산되는 것을 방지할 수 있다.In the fan filter unit 2 of the present invention, as illustrated in FIGS. 6A to 11D and 11A to 11C, air introduced by the air suction electric fan 6 is used. Independent of the path cleaned by the flat filter 8, an air circulation heat dissipation path 15 is provided at the outer edge of the casing 11, and the electric fan 6 is provided in the air circulation heat dissipation path 15. By arranging the control unit 63 constituting), it is possible to circulate the atmosphere gas of the control unit 63 to efficiently radiate and cool the heat without being affected by the air flow to be cleaned. In addition, it is possible to prevent the particulates and impurity gas generated from the control unit 63 such as the foundation constituting the electric fan 6 from being diffused into the external space (such as the internal space of the clean room) of the fan filter unit 2. .

이와 같이, 본 발명의 팬 필터 유닛은, 내부 온도의 상승을 억제하면서 흡입한 공기를 고도로 청정화할 수 있는 것이므로, 예를 들면, 본 발명의 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치함으로써, 적합한 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치를 제공할 수 있고, 또한, 본 발명의 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치함으로써, 적합한 클린 벤치를 제공할 수도 있다.As described above, since the fan filter unit of the present invention can highly clean the air sucked while suppressing the increase in the internal temperature, for example, the fan filter unit of the present invention is provided on the outer wall surface, thereby providing a suitable semiconductor manufacturing apparatus. The FPD manufacturing apparatus can be provided, and the suitable clean bench can also be provided by providing the fan filter unit of this invention to an outer wall surface.

다음에, 본 발명의 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치에 대해서 설명한다.Next, the semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus of this invention is demonstrated.

본 발명의 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치는, 본 발명의 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 것이다.The semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus of this invention is provided by providing the fan filter unit of this invention to an outer wall surface, It is characterized by the above-mentioned.

도 15는, 본 발명의 팬 필터 유닛(2)을 측면에 설치하여 이루어지는 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치(3)를 나타내는 것이고, 팬 필터 유닛(2)의 설치 위치는, 도 15에 도시하는 바와같이, 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치(3)의 측면이어도 되고, 상면이어도 된다.FIG. 15 shows a semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus 3 in which the fan filter unit 2 of the present invention is provided on the side surface, and the installation position of the fan filter unit 2 is shown in FIG. 15. Similarly, the side surface of the semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus 3 may be sufficient, and an upper surface may be sufficient as it.

또한, 도 15에 도시하는 바와같이, 팬 필터 유닛(2)의 전체 형상을 도어형상으로 하고, 도어로서의 기능도 겸비하게 함으로써, 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치에 설치했을 시에, 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치의 구성 부품수를 삭감하면서, 외부로의 개구수를 줄여, 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치 내부의 공기 청정성을 높일 수 있다.In addition, as shown in FIG. 15, when the whole shape of the fan filter unit 2 is made into the door shape, and also has a function as a door, when it is installed in a semiconductor manufacturing apparatus or an FPD manufacturing apparatus, a semiconductor manufacturing apparatus or While reducing the number of components of the FPD manufacturing apparatus, the numerical aperture to the outside can be reduced to improve air cleanliness in the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus.

본 발명의 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치에 있어서, 팬 필터 유닛의 운전 조건은, 상술한 것과 동일하다.In the semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus of this invention, the operating conditions of a fan filter unit are the same as that mentioned above.

도 15에 도시하는 바와같이, 본 발명의 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치는, 그 내부에 형성되는 공간이, 팬 필터 유닛에 의해 공기를 흡인하는 공간임과 더불어, 청정화된 공기를 배출하는 공간이므로, 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치 내부의 공기를 순환시켜, 분위기 공기를 보다 청정화하는 것이 가능해진다.As shown in Fig. 15, in the semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus of the present invention, the space formed therein is a space for sucking air by the fan filter unit and a space for discharging clean air. The air inside the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus can be circulated to clean the atmospheric air more.

본 발명의 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치는, 본 발명의 팬 필터 유닛를 이용하고 있으므로, 팬 필터 유닛 내부의 온도 상승을 억제하면서, 고도로 청정화된 공기 분위기 하, 반도체나 FPD 등을 안정되게 제조할 수 있다.Since the semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus of this invention uses the fan filter unit of this invention, it can manufacture a semiconductor, FPD, etc. stably in a highly clean air atmosphere, suppressing the temperature rise inside a fan filter unit. have.

또한, 본 발명의 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치함으로써, 적합한 클린 벤치를 제공할 수도 있다. 이 경우, 팬 필터 유닛의 외벽면에의 설치 양태 등은, 상기 본 발명의 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치와 동일하다. 본 발명의 팬 필터를 외벽면에 설치하여 이루어지는 클린 벤치를 클린 룸 내에 설치하면서 클린 벤치 내부에 기존의 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치 등을 수용하거나, 본 발명의 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치 등을 수용함으로써, 고도로 청정화된 공기 분위기 하에서 반도체나 FPD 등을 안정되게 제조할 수 있다.Furthermore, by providing the fan filter unit of the present invention on the outer wall surface, a suitable clean bench can be provided. In this case, the installation aspect etc. to the outer wall surface of a fan filter unit are the same as the semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus of the said this invention. While installing the clean bench formed by installing the fan filter of the present invention on the outer wall in a clean room, the existing semiconductor manufacturing apparatus, FPD manufacturing apparatus, etc. can be accommodated inside the clean bench, or the semiconductor manufacturing apparatus, FPD manufacturing apparatus, etc. of the present invention can be used. By accommodating, a semiconductor, a FPD, etc. can be manufactured stably in a highly clean air atmosphere.

도 15에 나타내는 형태를 가지는 팬 필터 유닛(케이싱이, 세로 1630㎜, 가로 770㎜, 내부 길이 160㎜인 직방체 형상으로서, 공기 순환 방열 경로의 공기 흐름 방향의 길이(공기 순환 방열 경로 내를 공기가 순환하는 한주기당 거리)가 4810㎜, 공기 흐름 방향에 대한 수직 단면적(공기 순환 방열 경로의 단면적)이 1500㎟인 것)을 외벽면에 설치한 반도체 제조장치에 있어서, 팬 필터 유닛을 가동시켜, 평판 형상 필터로부터 배출되는 청정화 공기의 배출 속도가 0.3m/초, 공기 순환 방열 경로의 제어부 근방에 있어서의 공기의 유속이 1.6m/초가 되도록 운전한 바, 주위의 분위기 온도가 50℃의 환경 하, 공기 순환 방열 경로 중의 제어 기판 직상(直上) 공간의 온도는 56.5℃까지밖에 상승하지 않았다. 이에 대해서, 상기 공기 순환 방열 경로를 갖지 않는 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치한 동일한 반도체 제조 장치를 이용하여, 동일하게 운전한 바, 주위의 분위기 온도가 50℃의 환경 하, 제어 기판 직상 공간의 온도는 75.1℃까지 상승했다.The fan filter unit (the casing has a rectangular parallelepiped shape having a length of 1630 mm, a width of 770 mm, and an internal length of 160 mm, having the form shown in FIG. 15, and having a length in the air flow direction of the air circulation heat radiation path ( In the semiconductor manufacturing apparatus which installed the distance per cycle to circulate (4810 mm) and the vertical cross-sectional area (cross-sectional area of the air circulation heat dissipation path | pass) to the air flow direction) on the outer wall surface, a fan filter unit is operated, When the discharge rate of the purified air discharged from the flat plate filter was 0.3 m / sec and the air flow rate in the vicinity of the control unit of the air circulation heat dissipation path was 1.6 m / sec, the ambient ambient temperature was 50 ° C. The temperature of the space immediately above the control substrate in the air circulation heat dissipation path only increased to 56.5 ° C. On the other hand, the same operation was carried out using the same semiconductor manufacturing apparatus in which the fan filter unit having no air circulation heat dissipation path was provided on the outer wall surface. The temperature rose to 75.1 ° C.

다음에, 본 발명의 청정화 공기의 제조 방법에 대해서 설명한다.Next, the manufacturing method of the purifying air of this invention is demonstrated.

본 발명의 청정화 공기의 제조 방법은, 클린 룸 내에 배치한 본 발명의 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치에 의해 공기를 청정화 처리하는 것을 특징으로 하는 것이다.The method for producing purified air of the present invention is characterized in that the air is cleaned by the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus of the present invention disposed in a clean room.

도 16에 도시하는 바와같이, 클린 룸(1) 내부의 외벽면에 팬 필터 유닛(2)을 설치한 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치(3)를 설치하고, 클린 룸(1)의 천정에 배치된 팬 필터 유닛(4)으로 공기를 예비 청정화한 공간 내에 있어서, 반도체 제조장치 또는 FPD 제조 장치(3)에 설치된 팬 필터 유닛(2)을 가동시켜, 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치(3) 내의 공기를 청정화 처리함으로써, 반도체 제조장치 또는 FPD 제조 장치(3) 내에 청정화 공기를 공급할 수 있다.As shown in FIG. 16, the semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus 3 which provided the fan filter unit 2 in the outer wall surface of the inside of the clean room 1 is installed, and is arrange | positioned at the ceiling of the clean room 1 In the space in which air was preliminarily cleaned by the fan filter unit 4, the fan filter unit 2 installed in the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus 3 is operated to operate in the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus 3. By purifying air, the purifying air can be supplied to the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD manufacturing apparatus 3.

또한, 본 발명의 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치하여 이루어지는 클린 벤치를 클린 룸 내에 배치하면서, 클린 벤치 내부에 기존의 반도체 제조장치나 FPD 제조 장치 등을 수용하거나, 본 발명의 반도체 제조 장치나 FPD 제조 장치 등을 수용하고, 이들 장치에 설치된 팬 필터 유닛을 가동시켜, 장치 내부의 공기를 청정화 처리함으로써, 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치 내부에 청정화 공기를 공급할 수도 있다.In addition, while the clean bench formed by installing the fan filter unit of the present invention on the outer wall surface is disposed in a clean room, an existing semiconductor manufacturing apparatus, an FPD manufacturing apparatus, or the like is accommodated in the clean bench, or the semiconductor manufacturing apparatus or the FPD of the present invention. Purification air can also be supplied to a semiconductor manufacturing apparatus or an FPD manufacturing apparatus by accommodating a manufacturing apparatus etc. and operating the fan filter unit provided in these apparatus, and purifying the air in an apparatus.

본 발명에 의하면, 내부 온도의 상승을 억제하면서 흡입한 공기를 고도로 청정화할 수 있는 팬 필터 유닛을 제공할 수 있고, 또한, 상기 팬 필터 유닛을 설치하여 이루어지거나 또는 FPD 제조 장치 및 상기 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치를 이용한 청정화 공기의 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a fan filter unit capable of highly cleansing inhaled air while suppressing an increase in internal temperature, and further comprising the fan filter unit or an FPD manufacturing apparatus and the semiconductor manufacturing apparatus. Alternatively, a method of manufacturing clean air using an FPD manufacturing apparatus can be provided.

1 : 클린 룸 2 : 팬 필터 유닛
3 : 반도체 제조 장치 또는 FPD 제조 장치
4 : 팬 필터 유닛 5 : 예비 청정화된 공기
6 : 전동 팬 61 : 팬부
62 : 모터부 63 : 제어부
7 : 공기 도입구 8 : 필터
9 : 청정화도 공기 10 : 작업 공간
11 : 케이싱 12 : 개방 부분
13 : 냉각 팬 14 : 클린 룸의 내부 공간
15 : 공기 순환 방열 경로 16 : 공기 순환용 전동 팬
17 : 순환 공기 18 : 케이싱벽
19 : 파지부1: clean room 2: fan filter unit
3: semiconductor manufacturing apparatus or FPD manufacturing apparatus
4: fan filter unit 5: preliminary clean air
6: electric fan 61: fan part
62: motor unit 63: control unit
7: air inlet 8: filter
9: air purifying degree 10: working space
11: casing 12: opening part
13: cooling fan 14: internal space of the clean room
15: air circulation heat dissipation path 16: electric fan for air circulation
17: circulating air 18: casing wall
19: holding part

Claims (10)

팬 필터 유닛으로서,
케이싱과,
상기 케이싱의 내부에 공기를 도입하는 공기 흡입용 전동 팬과,
상기 케이싱의 내부에 배치되어 이루어지고, 상기 공기 흡입용 전동 팬에 의해 흡입한 공기를 한쪽의 주 표면으로부터 다른쪽의 주 표면으로 통과시켜 청정화 처리하는 평판 형상 필터와,
상기 공기를 흡입하여 청정화 처리하는 경로와는 독립적으로, 상기 케이싱의 외측 가장자리부에 설치되어 이루어지는 공기 순환 방열 경로를 적어도 가지고,
상기 공기 순환 방열 경로 내에 상기 공기 흡입용 전동 팬을 구성하는 제어부가 배치되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.As a fan filter unit,
Casing,
An electric suction fan for introducing air into the casing;
A flat filter disposed in the casing and passing through the air sucked by the air suction electric fan from one main surface to the other main surface to be cleaned;
At least an air circulation heat dissipation path provided at an outer edge of the casing, independent of a path for suctioning and purifying the air,
And a control unit constituting the air suction electric fan in the air circulation heat dissipation path. 청구항 1에 있어서,
상기 공기 순환 방열 경로가, 상기 케이싱의 측부 전체 둘레에 프레임 형상으로 설치되어 이루어지는, 팬 필터 유닛.The method according to claim 1,
The air circulation heat dissipation path is provided in a frame shape around the entire side of the casing in a fan filter unit. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 공기 순환 방열 경로가, 상기 평판 형상 필터의 공기 유입측에 위치하는 케이싱벽의 내벽면 상 또는 외벽면 상에 설치되어 이루어지는, 팬 필터 유닛.The method according to claim 1 or 2,
And the air circulation heat dissipation path is provided on the inner wall surface or the outer wall surface of the casing wall located on the air inflow side of the flat filter. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 공기 순환 방열 경로 내에 공기 순환용 전동 팬을 더 가지는, 팬 필터 유닛.The method according to any one of claims 1 to 3,
And an electric fan for air circulation in the air circulation heat dissipation path. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
전체 형상이 도어(door) 형상으로 형성되어 이루어지는, 팬 필터 유닛.The method according to any one of claims 1 to 4,
The fan filter unit in which the whole shape is formed in the door shape. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치.A semiconductor manufacturing apparatus comprising the fan filter unit according to any one of claims 1 to 5 provided on an outer wall surface. 청구항 6에 있어서,
팬 필터 유닛에 의해 공기를 흡인하는 공간과, 청정화된 공기를 배출하는 공간이, 반도체 제조 장치 내에 형성되는 동일한 공간인, 반도체 제조 장치.The method of claim 6,
A semiconductor manufacturing apparatus, wherein the space for sucking air by the fan filter unit and the space for discharging clean air are the same spaces formed in the semiconductor manufacturing apparatus. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 팬 필터 유닛을 외벽면에 설치하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플랫 패널 디스플레이 제조 장치.The fan filter unit as described in any one of Claims 1-5 is provided in an outer wall surface, The flat panel display manufacturing apparatus characterized by the above-mentioned. 청구항 8에 있어서,
팬 필터 유닛에 의해 공기를 흡인하는 공간과, 청정화된 공기를 배출하는 공간이, 플랫 패널 디스플레이 제조 장치 내에 형성되는 동일한 공간인, 플랫 패널 디스플레이 제조 장치.The method according to claim 8,
A flat panel display manufacturing apparatus, wherein the space for sucking air by the fan filter unit and the space for discharging clean air are the same spaces formed in the flat panel display manufacturing apparatus. 클린 룸 내에 배치한 청구항 6 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 기재된 반도체 제조 장치 또는 플랫 패널 디스플레이 제조 장치에 의해 공기를 청정화 처리하는 것을 특징으로 하는 청정화 공기의 제조 방법.An air purification process is performed by the semiconductor manufacturing apparatus or flat panel display manufacturing apparatus of any one of Claims 6-9 arrange | positioned in a clean room, The manufacturing method of the purifying air characterized by the above-mentioned.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101616274B1 (en) * 2015-10-15 2016-04-28 서현교 Turbo blower with waterproofing and dampproofing function
JP7485963B2 (en) * 2021-10-28 2024-05-17 ダイキン工業株式会社 Ceiling-mounted air conditioner
CN114472363B (en) * 2022-02-15 2023-06-02 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） Gas bath system for semiconductor equipment

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0544216U (en) * 1991-11-26 1993-06-15 松下電器産業株式会社 Automotive air purifier
JP3342531B2 (en) * 1993-04-13 2002-11-11 東京エレクトロン株式会社 Semiconductor manufacturing air filter device and semiconductor processing apparatus provided with air filter device
JP4166359B2 (en) * 1999-03-25 2008-10-15 松下エコシステムズ株式会社 Fan filter unit
JP4260588B2 (en) * 2003-09-22 2009-04-30 ウシオ電機株式会社 High voltage pulse generator and discharge excitation gas laser apparatus equipped with high voltage pulse generator

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