KR20100090620A - Heat curable resin composition, dry film and printed wiring board and method for preparing the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A thermosetting resin composition, a dry film and a printed wiring board including thereof, and a manufacturing method thereof are provided to obtain a resin insulating layer with the desmear property and the desmear resistance. CONSTITUTION: A thermosetting resin composition contains a phenol resin, a mixture including an liquid epoxy resin at 20 deg C and a liquid epoxy resin at 40 deg C, and an inorganic filler. A phenolic -OH of the phenol resin and an epoxy group of the mixture has a combination rate of 0.3~1. A printed circuit board comprises a substrate including a circuit, a resin insulating layer formed with a hardened material of the thermosetting resin composition, and a via hole unit penetrating the resin insulating layer.

Description

열경화성 수지 조성물, 드라이 필름 및 인쇄 배선판과 그의 제조 방법 {HEAT CURABLE RESIN COMPOSITION, DRY FILM AND PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR PREPARING THE SAME}Thermosetting resin composition, dry film and printed wiring board and manufacturing method thereof {HEAT CURABLE RESIN COMPOSITION, DRY FILM AND PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR PREPARING THE SAME}

본 발명은 열경화성 수지 조성물과, 이것을 이용한 드라이 필름 및 인쇄 배선판과 그의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a thermosetting resin composition, a dry film and a printed wiring board using the same, and a method for producing the same.

전자 기기 등에 이용되는 인쇄 배선판에 전자 부품을 실장하는 때에는 이하의 목적으로부터, 회로가 형성된 기판의 접속 구멍을 제외한 영역에 수지 절연층, 예를 들면 솔더 레지스트층을 설치하는 것이 일반적이다. 즉, 그의 목적이란, 기판 또는 인쇄 배선판의 불필요한 부분에 땜납이 부착되는 것을 방지함과 동시에, 기판 또는 인쇄 배선판에 설치된 회로의 도체가 노출하여 해당 회로가 산화나 습도에 의해 부식되는 것을 막기 위해서이다.When mounting an electronic component on the printed wiring board used for an electronic device etc., it is common to provide a resin insulation layer, for example a soldering resist layer, in the area | region except the connection hole of the board | substrate with a circuit from the following objectives. That is, the purpose is to prevent solder from adhering to unnecessary portions of the board or printed wiring board, and to prevent the conductors of the circuit provided on the board or printed wiring board from being exposed and corroding the circuit by oxidation or humidity. .

그리고, 열경화성 수지 조성물을 이용하여 기판 상에 솔더 레지스트 패턴(솔더 레지스트층)을 형성하는 경우, 이 솔더 레지스트 패턴에 레이저광을 조사하여 실장용의 비어홀(via hole)을 형성한다. 여기서, 미세한 솔더 레지스트 패턴이 요구되는 경우에는 레이저 광원으로서 특히 탄산 가스 레이저, UV-YAG 레이저, 엑시 머 레이저 등이 이용된다.And when a soldering resist pattern (solder resist layer) is formed on a board | substrate using a thermosetting resin composition, a laser hole is irradiated to this soldering resist pattern, and the via hole for mounting is formed. In the case where a fine solder resist pattern is required, a carbon dioxide laser, a UV-YAG laser, an excimer laser, or the like is used as the laser light source.

또한, 본 명세서에 있어서는 회로는 형성되어 있지만 수지 절연층이 형성되어 있지 않은 판을 단순히 「기판」이라고 한다. 또한, 회로 및 수지 절연층의 양쪽이 형성되어 있는 판을 「인쇄 배선판」이라고 한다.In addition, in this specification, the board in which the circuit is formed but in which the resin insulating layer is not formed is simply called "substrate." In addition, the board in which both the circuit and the resin insulation layer are formed is called "printed wiring board."

레이저광에 의한 비어홀 형성시, 솔더 레지스트층의 성분(이하, 「스미어(smear)」라고 함)이 분해 제거되지 않고, 비어홀의 바닥부 또는 내부 등(이하, 「비어홀 내」라고 함)에 잔류하는 현상이 생긴다. 이와 같이 비어홀 내에 스미어가 잔류하면, 그 후 도금 처리에 있어서, 인쇄 배선판에 도금 미착 부분이 생기거나, 인쇄 배선판에 전자 부품을 실장할 때에 접합 불량을 일으키는 등의 문제점이 생긴다. 그 때문에, 이 스미어를 제거하는 이른바 디스미어(desmear) 처리가 필요하게 된다(이하, 디스미어 처리를 행하는 공정을 「디스미어 공정」이라고 함).When forming the via hole by laser light, the components of the solder resist layer (hereinafter referred to as "smear") are not decomposed and removed, and remain on the bottom or inside of the via hole (hereinafter referred to as "in the via hole"). The phenomenon occurs. In this way, if smears remain in the via holes, in the plating process thereafter, there are problems such as unplated portions on the printed wiring boards, or poor bonding when mounting electronic components on the printed wiring boards. Therefore, what is called a desmear process which removes this desmear is required (henceforth a process which performs a desmear process is called "a desmear process").

디스미어 공정에서는, 일반적으로 스미어를 진한 알칼리 용액으로 팽윤시킨 후, 이것을 과망간산염 용액에 의해 분해 제거하는 습식법이 이용되고 있다.Generally in the desmear process, the wet method which swells a smear with a concentrated alkali solution, and then dissolves and removes it with a permanganate solution is used.

그러나, 습식법을 이용하여 디스미어 처리를 행하는 경우, 비어홀 내에 잔존하는 스미어를 충분히 분해 제거하고자 하면, 진한 알칼리 용액이나 과망간염 용액 등의 약액에 의해서 비어홀을 형성하지 않은 부분의 솔더 레지스트층의 표면이 조화되거나, 이들 솔더 레지스트층이 인쇄 배선판으로부터 박리된다는 문제가 생긴다. 한편, 솔더 레지스트층의 조화 현상이나 박리 현상을 억제하고자 하면, 반대로 스미어를 충분히 제거할 수 없다(디스미어성이 저하된다)는 문제가 있다.However, in the case of performing the desmear process using the wet method, if the smear remaining in the via hole is to be sufficiently decomposed and removed, the surface of the solder resist layer in the portion where the via hole is not formed by a chemical solution such as a concentrated alkali solution or a permanganate solution is The problem arises that it matches, or that these solder resist layers peel from a printed wiring board. On the other hand, when trying to suppress the roughening phenomenon and peeling phenomenon of a soldering resist layer, there exists a problem that smear cannot fully be removed (desmear property falls) on the contrary.

이 문제를 해결하는 종래의 기술로서, 2층 구조의 수지 절연층을 기판에 형 성하는 수법이 제안되어 있다. 이것은 스미어로서 잔류하는 기판에 접하는 솔더 레지스트층(제1층)에 스미어가 분해 제거되기 쉬운(디스미어 처리되기 쉬운) 수지 조성물을 포함하는 층을 형성하고, 제1층에 접하는 표층(제2층)에 스미어가 분해 제거되기 어려운(디스미어되기 어려운) 수지 조성물을 포함하는 층을 형성하는 수법이다(예를 들면 특허 문헌 1 등을 참조).As a conventional technique to solve this problem, a method of forming a resin insulating layer having a two-layer structure on a substrate has been proposed. This forms a layer containing a resin composition in which the smear is easily decomposed and removed (easily desmeared) in the solder resist layer (first layer) in contact with the substrate remaining as a smear, and the surface layer (second layer) in contact with the first layer. ) Is a method of forming a layer containing a resin composition in which smear is hardly decomposed and removed (which is difficult to desmear) (for example, refer to Patent Document 1).

그러나, 해당 기술로서는 2층 구조의 수지 절연층을 형성하기 위해서, 공정 비용이 상승한다는 문제가 있다.However, there exists a problem that process cost goes up in order to form the resin insulation layer of a two-layer structure as this technique.

<선행 기술 문헌>Prior art literature

<특허 문헌><Patent Documents>

<특허 문헌 1> 일본 특허 공개 제2004-240233호 공보(단락 0008 등)<Patent Document 1> Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-240233 (paragraph 0008, etc.)

이상으로부터, 열경화성 수지 조성물을 이용한 수지 절연층으로서는 디스미어 처리되기 쉬운 성질(이하, 「디스미어성」이라고 함)과 디스미어 처리되기 어려운 성질(이하, 「내디스미어성」이라고 함)을 양립시키는 것이 요구되고 있다.As mentioned above, as a resin insulating layer using a thermosetting resin composition, the property which is easy to desmear process (henceforth "desmear resistance"), and the property which is hard to desmear process (henceforth "desmear resistance") are made compatible. Is required.

본 발명의 목적은 디스미어성과 내디스미어성을 양립할 수 있는 수지 절연층을 얻는 것이 가능한 열경화성 수지 조성물과, 이것을 이용한 드라이 필름, 인쇄 배선판 및 그의 제조 방법을 제공하는 데에 있다.An object of the present invention is to provide a thermosetting resin composition capable of obtaining a resin insulating layer compatible with desmear and desmear resistance, a dry film, a printed wiring board, and a manufacturing method using the same.

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 페놀 수지와, 20 ℃에서 액상인 에폭시 수지와 40 ℃에서 고형인 에폭시 수지를 포함하는 혼합물과, 무기 충전제를 함유하고, 상기 페놀 수지의 페놀성 수산기와 상기 혼합물의 에폭시기의 배합비가 당량비로 0.3 내지 1.0인 것을 특징으로 한다.The thermosetting resin composition of this invention contains the mixture containing a phenol resin, a liquid epoxy resin at 20 degreeC, and an epoxy resin solid at 40 degreeC, an inorganic filler, The phenolic hydroxyl group of the said phenol resin, and the epoxy group of the said mixture The compounding ratio of is characterized in that 0.3 to 1.0 in equivalent ratio.

이와 같이, 페놀성 수산기와 에폭시기의 당량비에서의 배합비를 특정함으로써, 디스미어 공정에서 비어홀 내에 잔존하는 스미어를 충분히 분해 제거할 수 있고, 또한 수지 조성물층의 조화 현상이나 박리 현상을 억제할 수 있다고 하는 디스미어성과 내디스미어성을 양립할 수 있는 수지 절연층을 얻을 수 있다.Thus, by specifying the blending ratio in the equivalent ratio of the phenolic hydroxyl group and the epoxy group, the smear remaining in the via hole in the desmear step can be sufficiently decomposed and removed, and the roughening phenomenon and the peeling phenomenon of the resin composition layer can be suppressed. A resin insulating layer capable of achieving both desmear and desmear resistance can be obtained.

또한, 20 ℃에서 액상인 에폭시 수지와 40 ℃에서 고형인 에폭시 수지를 포함하는 혼합물을 이용함으로써, 디스미어성과 내디스미어성을 양립할 수 있고, 또한 양호한 필름 특성을 갖는 수지 절연층을 얻을 수 있다.Moreover, by using the mixture containing the epoxy resin which is a liquid at 20 degreeC, and the epoxy resin which is solid at 40 degreeC, desmear resistance and a desmear resistance are compatible, and the resin insulating layer which has favorable film characteristics can be obtained. .

이상으로부터, 본 발명의 열경화성 수지 조성물은 드라이 필름 레지스트 용도에 바람직하게 사용할 수 있다.As mentioned above, the thermosetting resin composition of this invention can be used suitably for a dry film resist use.

또한, 본 발명의 드라이 필름은 해당 열경화성 수지 조성물의 건조 도막을 갖는 것을 특징으로 한다.Moreover, the dry film of this invention has a dry coating film of the said thermosetting resin composition, It is characterized by the above-mentioned.

이러한 구성에 의해, 본 발명의 열경화성 수지 조성물 및 드라이 필름은 디스미어성과 내디스미어성을 양립할 수 있는 수지 절연층을 기판 상에 간이하게 형성할 수 있다.By such a configuration, the thermosetting resin composition and the dry film of the present invention can easily form a resin insulating layer capable of achieving both desmear and desmear resistance on a substrate.

또한, 본 발명의 인쇄 배선판은 회로가 형성되는 기판과, 이 기판에 설치되는 상술한 열경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 수지 절연층과, 이 수지 절연층에 뚫어 설치되는 비어홀부를 갖는 것을 특징으로 한다.Moreover, the printed wiring board of this invention has a board | substrate with which a circuit is formed, the resin insulating layer which consists of hardened | cured material of the above-mentioned thermosetting resin composition provided in this board | substrate, and the via-hole part provided in this resin insulating layer, It is characterized by the above-mentioned. .

또한, 본 발명의 인쇄 배선판은 회로가 형성되는 기판과, 이 기판에 설치되는 상술한 드라이 필름의 건조 도막의 경화물로 이루어지는 수지 절연층과, 이 수지 절연층에 뚫어 설치되는 비어홀부를 갖는 것을 특징으로 한다.Furthermore, the printed wiring board of this invention has a board | substrate with which a circuit is formed, the resin insulation layer which consists of hardened | cured material of the dry coating film of the dry film mentioned above provided in this board | substrate, and the via hole part provided in this resin insulation layer, It is characterized by the above-mentioned. It is done.

이러한 구성에 의해, 본 발명의 인쇄 배선판은 디스미어 공정에서 수지 절연층의 표면의 조화가 억제됨과 동시에, 전자 부품의 접속 부분에 있어서는 충분한 도통이 얻어지는 점에서, 신뢰성이 높은 인쇄 배선판을 안정적으로 간이하게 얻을 수 있다.By such a structure, since the roughening of the surface of the resin insulating layer is suppressed at the desmear process, sufficient conductive is obtained at the connection part of an electronic component, and the printed wiring board of this invention stably simplifies a highly reliable printed wiring board. You can get it.

또한, 본 발명의 인쇄 배선판의 제조 방법은 회로가 형성된 기판에 상술한 열경화성 수지 조성물을 도포하고, 이 도포한 열경화성 수지 조성물을 건조하고, 이 건조한 열경화성 수지 조성물을 경화시켜 수지 절연층을 설치하고, 이 수지 절연층에 레이저 조사하여 비어홀부를 뚫어 설치하여, 이 비어홀부의 스미어를 제거하는 것을 특징으로 한다.Moreover, the manufacturing method of the printed wiring board of this invention apply | coats the thermosetting resin composition mentioned above to the board | substrate with a circuit, dried this apply | coated thermosetting resin composition, hardens this dry thermosetting resin composition, and installs a resin insulating layer, The resin insulating layer is laser irradiated and drilled through the via hole portion to remove smear from the via hole portion.

또한, 본 발명의 인쇄 배선판의 제조 방법은 회로가 형성된 기판에 상술한 드라이 필름의 건조 도막을 압착하고, 이 압착한 건조 도막을 경화시켜 수지 절연층을 설치하고, 이 수지 절연층에 레이저 조사하여 비어홀부를 뚫어 설치하고, 이 비어홀부의 스미어를 제거하는 것을 특징으로 한다.Moreover, in the manufacturing method of the printed wiring board of this invention, the dry coating film of the dry film mentioned above was crimped | bonded to the board | substrate with a circuit, hardening this crimped dry coating film, a resin insulating layer is provided, and this resin insulating layer is laser-irradiated, It installs through a via hole part, It is characterized by removing the smear of this via hole part.

이러한 구성에 의해, 본 발명의 인쇄 배선판의 제조 방법에 따르면, 디스미어 공정에서, 수지 절연층의 표면의 조화가 억제됨과 동시에, 전자 부품의 접속 부분에 있어서 충분한 도통이 얻어져, 신뢰성이 높은 인쇄 배선판을 안정적으로 간이하게 제조할 수 있다. According to this structure, according to the manufacturing method of the printed wiring board of this invention, roughening of the surface of a resin insulating layer is suppressed at the desmear process, sufficient conduction is obtained in the connection part of an electronic component, and high reliability printing is carried out. A wiring board can be manufactured simply and stably.

본 발명의 열경화성 수지 조성물 및 드라이 필름을 이용함으로써, 디스미어성과 내디스미어성을 양립할 수 있는 수지 절연층을 얻을 수 있다.By using the thermosetting resin composition and the dry film of this invention, the resin insulating layer which can satisfy desmear and desmear resistance can be obtained.

또한, 본 발명의 인쇄 배선판은 디스미어 공정에서 수지 절연층의 표면의 조화가 억제됨과 동시에, 전자 부품의 접속 부분에 있어서는 충분한 도통이 얻어지는 점에서, 신뢰성이 높은 인쇄 배선판을 안정적으로 얻을 수 있다.In addition, since the roughness of the surface of the resin insulating layer is suppressed in the desmear process and sufficient conduction is obtained in the connection part of an electronic component, the printed wiring board of this invention can obtain a reliable printed wiring board stably.

또한, 본 발명의 인쇄 배선판의 제조 방법에 따르면, 디스미어 공정에서 수지 절연층의 표면의 조화가 억제됨과 동시에, 전자 부품의 접속 부분에 있어서는 충분한 도통이 얻어지는 점에서, 신뢰성이 높은 인쇄 배선판을 안정적으로 제조할 수 있다. Moreover, according to the manufacturing method of the printed wiring board of this invention, since the roughening of the surface of the resin insulating layer is suppressed at the desmear process, and sufficient conduction is obtained in the connection part of an electronic component, a highly reliable printed wiring board is stable. It can be prepared by.

이하, 본 발명의 실시 형태의 일례에 대해서 설명하지만, 본 발명은 이것으로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although an example of embodiment of this invention is described, this invention is not limited to this.

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 페놀 수지와, 20 ℃에서 액상인 에폭시 수지와 40 ℃에서 고형인 에폭시 수지를 포함하는 혼합물과, 무기 충전제를 함유하고, 상기 페놀 수지의 페놀성 수산기와 상기 혼합물의 에폭시기의 배합비가 당량비로 0.3 내지 1.0인 것을 특징으로 한다.The thermosetting resin composition of this invention contains the mixture containing a phenol resin, a liquid epoxy resin at 20 degreeC, and an epoxy resin solid at 40 degreeC, an inorganic filler, The phenolic hydroxyl group of the said phenol resin, and the epoxy group of the said mixture The compounding ratio of is characterized in that 0.3 to 1.0 in equivalent ratio.

또한, 20 ℃에서 액상인 에폭시 수지와 40 ℃에서 고형인 에폭시 수지를 포함하는 혼합물에 대해서는 20 ℃에서 액상인 에폭시 수지를 해당 혼합물에 포함되는 에폭시 수지 총량에 대하여 20 내지 80 질량%, 보다 바람직하게는 40 내지 60 질량%의 비율로 배합하는 것이 바람직하다. 20 ℃에서 액상인 에폭시 수지의 배합량이 해당 혼합물에 포함되는 에폭시 수지 총량에 대하여 20 질량% 미만이면, 열경화성 수지 조성물의 필름화가 곤란해져, 바람직하지 않다. 또한, 20 ℃에서 액상인 에폭시 수지의 배합량이 해당 혼합물에 포함되는 에폭시 수지 총량에 대하여 80 질량%를 초과하면, 열경화성 수지 조성물을 이용하여 형성한 절연층의 표면이 조화되기 쉬워지기 때문에, 바람직하지 않다.Moreover, about the mixture containing the epoxy resin which is liquid at 20 degreeC, and the epoxy resin which is solid at 40 degreeC, 20-80 mass% of liquid epoxy resin at 20 degreeC with respect to the total amount of epoxy resins contained in the said mixture, More preferably, It is preferable to mix | blend in the ratio of 40-60 mass%. When the compounding quantity of the epoxy resin which is liquid at 20 degreeC is less than 20 mass% with respect to the epoxy resin total amount contained in the said mixture, film forming of a thermosetting resin composition becomes difficult and it is unpreferable. Moreover, when the compounding quantity of the epoxy resin which is liquid at 20 degreeC exceeds 80 mass% with respect to the epoxy resin total amount contained in the said mixture, since the surface of the insulating layer formed using the thermosetting resin composition will become easy to harmonize, it is not preferable. not.

여기서, 본 명세서에서 말하는 「액상」의 판정 방법에 대해서 설명한다.Here, the determination method of the "liquid phase" as described in this specification is demonstrated.

액상의 판정은 위험물의 시험 및 성형에 관한 성령(평성 원년 자치 성령 제1호)의 별지 제2의 「액상의 확인 방법」에 준하여 행한다.The determination of the liquid phase is carried out in accordance with the second "Method for confirming the liquid phase" of the second attached sheet of the Holy Spirit (Pyeonghwa First Year Autonomous Spirit No. 1) concerning the testing and molding of dangerous goods.

(1) 장치(1) device

항온 수조: 교반기, 히터, 온도계, 자동 온도 조절기(±0.1 ℃에서 온도 제어가 가능한 것)를 구비한 것으로 깊이 150 mm 이상인 것을 이용한다.Constant temperature water bath: Agitator, heater, thermometer, thermostat (with temperature control at ± 0.1 ° C) and having a depth of 150 mm or more.

또한, 본 실시 형태 및 실시예에서는 에폭시 수지의 「액상」의 판정을 행하는 장치로서, 저온 항온 수조(형식 BU300: 야마토 가가꾸(주) 제조, 이하 동일.)와 투입식 항온 장치 서모메이트(형식 BF500: 야마토 가가꾸(주) 제조, 이하 동일.)의 조합을 이용하였지만, 이들과 동일한 조정이 가능한 장치이면 모두 사용할 수 있다.In addition, in this embodiment and the Example, it is an apparatus which judges the "liquid phase" of an epoxy resin, and it is a low temperature constant temperature water tank (model BU300: Yamato Chemical Co., Ltd. product, hereafter.) And an input-type thermostat thermomate (model). BF500: manufactured by Yamato Chemical Co., Ltd., the same as below.), But any apparatus capable of the same adjustment as these can be used.

본 실시예에서는 수돗물 약 22리터를 저온 항온 수조에 넣고, 이것에 조립된 서모메이트의 전원을 넣고 설정 온도(20 ℃ 또는 40 ℃)로 설정하였다. 그리고, 저온 항온 수조의 수온이 설정 온도±0.1 ℃가 되도록 서모메이트로 미조정하였다.In the present example, about 22 liters of tap water was put in a low temperature constant temperature water bath, and the power supply of the assembled thermomate was put into this, and it was set to set temperature (20 degreeC or 40 degreeC). And it adjusted finely with the thermomate so that the water temperature of the low temperature constant temperature water tank might become set temperature +/- 0.1 degreeC.

시험관:examiner:

시험관으로서는 도 1에 나타낸 바와 같이, 액상 판정용 시험관 (10a)와 온도 측정용 시험관 (10b)를 이용한다.As a test tube, as shown in FIG. 1, the test tube 10a for liquid phase determination and the test tube 10b for temperature measurement are used.

액상 판정용 시험관 (10a)는 내경 30 mm, 높이 120 mm의 밑바닥이 평평한 원통형의 투명 유리제의 시험관이며, 관 바닥에서 55 mm의 높이 부분 표선 (11)(이하, 「A선」이라고 함)이 관 바닥에서 85 mm의 높이 부분에 표선 (12)(이하, 「B선」이라고 함)가 첨부되어 있고, 시험관의 입구가 고무 마개 (13a)로 밀폐되어 있다.The liquid crystal test tube 10a is a cylindrical transparent glass test tube having a bottom diameter of 30 mm and a height of 120 mm, and a 55 mm height partial mark 11 (hereinafter referred to as "A line") at the bottom of the tube. A mark 12 (hereinafter referred to as "B line") is attached to a height of 85 mm from the bottom of the tube, and the entrance of the test tube is sealed with a rubber stopper 13a.

또한, 온도 측정용 시험관 (10b)는 액상 판정용 시험관 (10a)와 동일한 크기이며, 이것과 동일한 위치에 A선과 B선이 첨부되어 있다. 그리고, 온도 측정용 시험관 (10b)는 중앙에 온도계를 삽입ㆍ지지하기 위한 구멍이 열린 고무 마개 (13b)로 시험관의 입구가 밀폐되어 있고, 이 고무 마개 (13b)에 온도계 (14)가 삽입되어 있다.In addition, the test tube 10b for temperature measurement is the same size as the test tube 10a for liquid phase determination, and A-line and B-line are attached to the same position as this. The test tube 10b for temperature measurement is sealed with a rubber stopper 13b having an opening for inserting and supporting a thermometer in the center thereof, and the inlet of the test tube is sealed, and the thermometer 14 is inserted into the rubber stopper 13b. have.

온도계 (14)로서는 JIS B7410(1982) 「석유류 시험용 유리제 온도계」로 규정하는 응고점 측정용의 것(SOP-58 눈금 범위 20 내지 50 ℃)을 이용하지만, 0 내지 50 ℃의 온도 범위를 측정할 수 있는 것이면 온도계 (14)로서 사용할 수 있다.As the thermometer 14, although the thing for the freezing point measurement (SOP-58 scale range 20-50 degreeC) prescribed | regulated by JIS B7410 (1982) "glass thermometer for petroleum testing" can be used, the temperature range of 0-50 degreeC can be measured. If it exists, it can be used as the thermometer 14.

(2) 시험의 실시 절차(2) Procedure of conducting the test

시료가 되는 에폭시 수지를 온도 20±5 ℃의 대기압하에서 24시간 이상 방치한다. 그 후, 도 1(a)에 나타내는 액상 판정용 시험관 (10a)와 도 1(b)에 나타내는 온도 측정용 시험관 (10b)의 각각에 이 시료를 A선까지 넣는다. 그리고, 시험 관 (10a) 및 (10b)를 각각의 B선이 저온 항온 수조에 넣은 수돗물의 수면밑이 되도록, 저온 항온 수조에 직립시켜 정치한다. 또한 온도계 (14)는 그의 하단이 A선보다도 30 mm 밑이 되도록 고무 마개 (13b)에 삽입한다.The epoxy resin used as a sample is left to stand for 24 hours or more under atmospheric pressure of the temperature of 20 +/- 5 degreeC. Thereafter, this sample is placed up to the line A in each of the liquid crystal determination test tube 10a shown in FIG. 1 (a) and the temperature measurement test tube 10b shown in FIG. 1 (b). The test tubes 10a and 10b are erected in a low temperature constant temperature water tank so that each B line is under the water surface of the tap water put in the low temperature constant temperature water tank. In addition, the thermometer 14 is inserted in the rubber stopper 13b so that its lower end is 30 mm below the A line.

시료의 온도가 설정 온도±0.1 ℃에 달하고 나서는 그 상태를 10분간 유지한다. 그 후, 액상 판정용 시험관 (10a)를 저온 항온 수조로부터 취출함과 동시에, 즉시 수평인 시험대 위에 수평으로 넘어뜨린다. 그리고, 시험관 (10a) 내의 시료 액면의 선단(시험관의 입측)이 A선으로부터 B선까지 이동한 시간을 스톱 워치로 측정하여 기록한다. 이 측정한 시간이 90초 이내의 시료를 「액상」이라고 판정하고, 측정한 시간이 90초를 초과하는 시료를 「고체상(고형)」이라고 판정한다.After the temperature of the sample reaches the set temperature ± 0.1 ° C, the state is maintained for 10 minutes. Thereafter, the liquid phase determination test tube 10a is taken out from the low temperature constant temperature bath and immediately falls horizontally on a horizontal test bench. And the time which the front-end | tip (the entrance side of a test tube) of the sample liquid level in the test tube 10a moved from A line to B line is measured and recorded with a stopwatch. The sample within 90 seconds of this measured time is determined to be "liquid phase", and the sample with the measured time exceeding 90 seconds is determined as "solid state (solid)".

(20 ℃에서 액상인 에폭시 수지)(Epoxy Resin Liquid at 20 ° C)

20 ℃에서 액상인 에폭시 수지로서는 828(재팬 에폭시 레진(주) 제조), YD-128(도토 가세이(주) 제조), 840, 850(이상, DIC(주) 제조) 등의 비스페놀 A형 에폭시 수지, 806, 807(이상, 재팬 에폭시 레진(주) 제조), YDF-170(도토 가세이(주) 제조), 830, 835, N-730A(이상, DIC(주) 제조) 등의 비스페놀 F형 에폭시 수지, ZX-1059(도토 가세이(주) 제조) 등의 비스페놀 A와 비스페놀 F의 혼합물, YX-8000, 8034(이상, 재팬 에폭시 레진(주) 제조) ST-3000(도토 가세이(주) 제조) 등의 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Bisphenol A type epoxy resins, such as 828 (made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), YD-128 (made by Toto Kasei Co., Ltd.), 840, 850 (above, DIC Co., Ltd. make) as a liquid epoxy resin at 20 degreeC Bisphenol F-type epoxy such as 806, 807 (above, Japan epoxy resin), YDF-170 (Toto Kasei Co., Ltd.), 830, 835, N-730A (above, DIC Corporation) A mixture of bisphenol A and bisphenol F, such as resin and ZX-1059 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), YX-8000, 8034 (above, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) ST-3000 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) Hydrogenated bisphenol A epoxy resins, such as these, are mentioned.

(40 ℃에서 고형인 에폭시 수지)(Epoxy resin solid at 40 ° C)

40 ℃에서 고형인 에폭시 수지로서는 에피클론 1050, 동 3050(이상, DIC(주) 제조), 에피코트 1001, 동 1002, 동 1003(이상, 재팬 에폭시 레진(주) 제조), 에포 토토 YD-011, 동 YD-012(이상, 도토 가세이(주) 제조) 등의 비스페놀 A형 에폭시 수지, 에포토토 YDF-2001, 동 2004(이상, 도토 가세이(주) 제조) 등의 비스페놀 F형 에폭시 수지, YDB-400(도토 가세이(주) 제조), EPICLON 152, 153(DIC(주) 제조) 등의 브롬화 비스페놀 A형 에폭시 수지, EXA-1514(DIC(주) 제조) 등의 비스페놀 S형 에폭시 수지, N-770, 775(이상, DIC(주) 제조), EPPN-201H, RE-306(이상, 닛본 가야꾸(주) 제조), 152, 154(이상, 재팬 에폭시 레진(주) 제조) 등의 페놀 노볼락형 에폭시 수지, EOCN-102S, 103S, 104S(이상, 닛본 가야꾸(주) 제조), YDCN-701, 702, 703, 704(이상, 도토 가세이(주) 제조), N-660, 670, 680(이상, DIC(주) 제조) 등의 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 157S70(재팬 에폭시 레진(주) 제조), N-865(DIC(주) 제조) 등의 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, YX-4000(재팬 에폭시 레진(주) 제조), NC-3000(닛본 가야꾸(주) 제조) 등의 비페닐형 에폭시 수지, NC-7000L(닛본 가야꾸(주) 제조) 등의 나프탈렌형 에폭시 수지, HP-7200(DIC(주) 제조), XD-1000(닛본 가야꾸(주) 제조) 등의 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, EPPN-501H, 502H(이상, 닛본 가야꾸(주) 제조), 1031S(재팬 에폭시 레진(주) 제조) 등의 트리페닐메탄형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.As epoxy resin solid at 40 degreeC, Epiclone 1050, copper 3050 (above, DIC Corporation make), Epicoat 1001, copper 1002, copper 1003 (above, Japan Epoxy Resin Co., Ltd. make), Etototo YD-011 Bisphenol A type epoxy resins such as YD-012 (above, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), bisphenol F type epoxy resins such as Efototo YDF-2001, copper 2004 (above, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), Bisphenol S type epoxy resins such as brominated bisphenol A type epoxy resins such as YDB-400 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), EPICLON 152, and 153 (manufactured by DIC Corporation), and EXA-1514 (manufactured by DIC Corporation); N-770, 775 (above, manufactured by DIC Corporation), EPPN-201H, RE-306 (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 152, 154 (above, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) Phenolic novolac type epoxy resin, EOCN-102S, 103S, 104S (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.), YDCN-701, 702, 703, 704 (above, Toto Kasei Co., Ltd. product), N-660, Cresol novolac types such as 670, 680 (above, manufactured by DIC Corporation) Bisphenol A novolak-type epoxy resins, such as Foxy resin, 157S70 (made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), N-865 (made by DIC Co., Ltd.), YX-4000 (made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), NC-3000 Biphenyl type epoxy resins, such as (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), naphthalene type epoxy resins, such as NC-7000L (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), HP-7200 (made by DIC Corporation), XD-1000 Triphenyl such as dicyclopentadiene type epoxy resins, such as (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), EPPN-501H, 502H (above, Nippon Kayaku Co., Ltd. make), 1031S (Japan Epoxy Resin Co., Ltd. make) Methane type epoxy resin etc. are mentioned.

(페놀 수지)(Phenolic resin)

본 발명에 있어서의 페놀 수지로서는 구체적으로는 페놀라이트 TD-2090, 동 2131, 베스몰 CZ-256-A(이상, DIC(주) 제조), 시요우놀 BRG-555, 동 BRG-556(이상, 쇼와 고분시(주) 제조), 미렉스 XLC-4L, 동 XLC-LL(이상, 미쓰이 가가꾸(주) 제조), PP-700, 동 1000, DPP-M, 동 3H, DPA-145, 동 155(이상, 신닛본 세끼유 가가꾸 (주) 제조), SK-레진 HE100C, SK-레진 HE510, 동 900(이상, 에어 워터(주) 제조) 등을 들 수 있다. 그리고, 이들 페놀 수지는 단독으로 또는 복수의 종류를 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the phenol resin in the present invention include phenolite TD-2090, copper 2131, Vesmol CZ-256-A (above, manufactured by DIC Co., Ltd.), siounol BRG-555, copper BRG-556 (above, Showa Kobunshi Co., Ltd.), Mirex XLC-4L, East XLC-LL (above, Mitsui Chemical Industries, Ltd.), PP-700, East 1000, DPP-M, East 3H, DPA-145, Copper 155 (above, manufactured by Shin-Nipbon Sekiyu Chemical Co., Ltd.), SK-resin HE100C, SK-resin HE510, copper 900 (above, manufactured by Air Water Co., Ltd.), and the like. And these phenol resins can be used individually or in combination of several types.

이러한 페놀 수지는 페놀 수지의 페놀성 수산기와 20 ℃에서 액상인 에폭시 수지와 40 ℃에서 고형인 에폭시 수지를 포함하는 혼합물의 에폭시기가 당량비로 0.3 내지 1.0이 되는 비율로 배합할 필요가 있다. 이 배합비가 이 범위 외이면, 디스미어 공정에서 수지 절연층의 표면이 조화되어 버린다.It is necessary to mix | blend such phenol resin in the ratio which the epoxy group of the mixture containing the phenolic hydroxyl group of phenol resin and the epoxy resin which is liquid at 20 degreeC, and the epoxy resin which is solid at 40 degreeC will be 0.3-1.0 in equivalent ratio. If this compounding ratio is out of this range, the surface of a resin insulating layer will be roughened in a desmear process.

(무기 충전제)(Inorganic filler)

본 발명에 있어서의 무기 충전제로서는 황산바륨, 황산칼슘, 실리카, 클레이, 탈크, 수산화알루미늄 등을 사용할 수 있다. 이들은 FT-IR에 의한 적외선 흡수 스펙트럼에 있어서, 탄산 가스 레이저의 파장대인 파수 900 내지 1300 cm-1의 범위 내에 흡수 피크를 갖고, 레이저 가공시에 승화 또는 분해되기 때문에, 레이저 가공 후의 잔사를 억제할 수 있다.As the inorganic filler in the present invention, barium sulfate, calcium sulfate, silica, clay, talc, aluminum hydroxide and the like can be used. In the infrared absorption spectrum by FT-IR, they have an absorption peak in the range of the wave number 900 to 1300 cm -1 , which is the wavelength band of the carbon dioxide laser, and are sublimated or decomposed during laser processing, so that the residue after laser processing can be suppressed. Can be.

이들 무기 충전제 중, 특히 상술한 레이저 파장대의 범위 내(파수 900 내지 1300 cm-1)에서 강한 흡수 피크를 갖고, 비어홀 형성시에 무기 충전제의 잔사를 억제할 수 있는 것으로서, 황산바륨이나 황산칼슘을 들 수 있다. 이 중, 잔사 억제의 측면에서는 황산바륨이 보다 바람직하다. 그 밖에 마이커, 알루미나, 산화티탄이나 기타 금속 산화물, 수산화알루미늄 등의 금속 수산화물 등도 사용할 수 있다. 그리고, 이들 무기 충전제는 단독으로 또는 복수의 종류를 조합하여 사용할 수 있 다.Among these inorganic fillers, particularly those having a strong absorption peak within the above-described laser wavelength range (wavelengths 900 to 1300 cm −1 ) and capable of suppressing the residue of the inorganic filler during the formation of via holes, barium sulfate or calcium sulfate is used. Can be mentioned. Among these, barium sulfate is more preferable from a viewpoint of residue suppression. In addition, a metal hydroxide, such as a miter, alumina, titanium oxide, another metal oxide, and aluminum hydroxide, can also be used. And these inorganic fillers can be used individually or in combination of several types.

무기 충전제의 평균 입경은 5 μm 이하인 것이 바람직하다. 또한, 그의 배합량은 열경화성 수지 조성물의 고형분(에폭시 수지(20 ℃에서 액상인 에폭시 수지 및 40 ℃에서 고형인 에폭시 수지를 포함하는 혼합물을 포함함)와 페놀 수지)에 대하여 20 내지 100 질량%인 것이 바람직하다. 무기 충전제의 배합량이 열경화성 수지 조성물의 고형분에 대하여 20 질량% 미만이면, 해당 수지 조성물을 이용하여 제조한 수지 절연층의 경도 등의 도막 성능이 불충분하고, 또한 레이저 가공성도 좋지 않다.It is preferable that the average particle diameter of an inorganic filler is 5 micrometers or less. In addition, the compounding quantity is 20-100 mass% with respect to solid content (the mixture containing an epoxy resin which is a liquid at 20 degreeC, and an epoxy resin which is solid at 40 degreeC), and a phenol resin of a thermosetting resin composition). desirable. When the compounding quantity of an inorganic filler is less than 20 mass% with respect to solid content of a thermosetting resin composition, coating-film performances, such as hardness of the resin insulation layer manufactured using this resin composition, are inadequate, and laser workability is also bad.

한편, 무기 충전제의 배합량이 열경화성 수지 조성물의 고형분에 대하여 100 질량%를 초과하면, 무기 충전제와 수지와의 사이에서 계면 박리가 생겨, 균열을 초래하는 원인이 되는 우려가 있다. 또한 이 경우, 열경화성 수지 조성물의 레벨링성 등의 도포성이 열화되어, 레이저 가공 후의 디스미어 공정에서 비어홀의 측면이나 주위에서 무기 충전제가 탈립하여 비어홀의 형상이 불안정해진다. 무기 충전제의 보다 바람직한 배합량은 열경화성 수지 조성물의 고형분에 대하여 30 내지 50 질량%이다.On the other hand, when the compounding quantity of an inorganic filler exceeds 100 mass% with respect to solid content of a thermosetting resin composition, interface peeling may arise between an inorganic filler and resin, and there exists a possibility of causing a crack. In addition, in this case, applicability | paintability, such as the leveling property of a thermosetting resin composition, deteriorates, an inorganic filler detach | desorbs in the side surface and periphery of a via hole in the desmear process after laser processing, and the shape of a via hole becomes unstable. The more preferable compounding quantity of an inorganic filler is 30-50 mass% with respect to solid content of a thermosetting resin composition.

본 실시 형태의 열경화성 수지 조성물은 페녹시 수지, 경화 촉매, 첨가제, 용제 등을 함유할 수도 있다.The thermosetting resin composition of this embodiment may contain a phenoxy resin, a curing catalyst, an additive, a solvent, etc.

(페녹시 수지)(Phenoxy resin)

페녹시 수지는 열경화성 수지 조성물의 조막성을 개선하기 위해서 배합할 수 있다. 페녹시 수지로서는 1256, 4250, 4275, YX8100BH30, YX6954BH30(이상, 재팬 에폭시 레진(주) 제조), YP50, YP50S, YP55U, YP70, ZX-1356-2, FX-316, YPB-43C, ERF-001M30, YPS-007A30, FX-293AM40(이상, 도토 가세이(주) 제조) 등을 들 수 있다. 이들 페녹시 수지는 단독으로 또는 복수 종류를 조합하여 사용할 수 있다.Phenoxy resin can be mix | blended in order to improve the film forming property of a thermosetting resin composition. As phenoxy resin, 1256, 4250, 4275, YX8100BH30, YX6954BH30 (above, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), YP50, YP50S, YP55U, YP70, ZX-1356-2, FX-316, YPB-43C, ERF-001M30 YPS-007A30, FX-293AM40 (above, Toto Kasei Co., Ltd. product) etc. are mentioned. These phenoxy resins can be used individually or in combination of multiple types.

(경화 촉매)(Curing catalyst)

경화 촉매로서는 디시안디아미드, 방향족 아민, 이미다졸류, 산 무수물 등을 사용할 수 있다. 구체적으로는 이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 4-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸 유도체; 디시안디아미드, 벤질디메틸아민, 4-(디메틸아미노)-N,N-디메틸벤질아민, 4-메톡시-N,N-디메틸벤질아민, 4-메틸-N,N-디메틸벤질아민 등의 아민 화합물, 아디프산 디히드라지드, 세박산 디히드라지드 등의 히드라진 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물 등, 또한 시판되어 있는 것으로서는 시꼬꾸 가세이 고교(주) 제조의 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4MHZ(모두 이미다졸계 화합물의 상품명), 산아프로(주) 제조의 U-CAT3503N, U-CAT3502T(모두 디메틸아민의 블록이소시아네이트 화합물의 상품명), DBU, DBN, U-CATSA102, U-CAT5002(모두 이환식 아미딘 화합물 및 그의 염) 등을 들 수 있다. 이들 경화 촉매는 단독으로 또는 복수 종류를 조합하여 사용할 수 있다.Dicyandiamide, aromatic amine, imidazole, acid anhydride, etc. can be used as a curing catalyst. Specifically, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-phenylimidazole, 1-cyanoethyl Imidazole derivatives such as 2-phenylimidazole and 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole; Amines such as dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4- (dimethylamino) -N, N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N, N-dimethylbenzylamine, 4-methyl-N, N-dimethylbenzylamine Hydrazine compounds such as compounds, adipic dihydrazide and sebacic acid dihydrazide; As commercially available phosphorus compounds such as triphenylphosphine, 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, and 2P4MHZ (all are brand names of imidazole compounds) manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., and San Apro Co., Ltd. U-CAT3503N, U-CAT3502T (all are brand names of block isocyanate compounds of dimethylamine), DBU, DBN, U-CATSA102, U-CAT5002 (both bicyclic amidine compounds and salts thereof) and the like. These curing catalysts can be used individually or in combination of multiple types.

(밀착성 부여제)(Adhesion imparting agent)

본 발명의 열경화성 수지 조성물에는 구아나민, 아세토구아나민, 벤조구아나민, 멜라민, 2,4-디아미노-6-메타크릴로일옥시에틸-S-트리아진, 2-비닐-4,6-디아미노-S-트리아진, 2-비닐-4,6-디아미노-S-트리아진ㆍ이소시아누르산 부가물, 2,4-디 아미노-6-메타크릴로일옥시에틸-S-트리아진ㆍ이소시아누르산 부가물 등의 S-트리아진 유도체를 배합할 수도 있다. 이들 밀착성 부여제로서도 기능하는 화합물은 열경화 촉매와 병용하는 것이 바람직하다.The thermosetting resin composition of the present invention includes guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melamine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine, 2-vinyl-4,6-dia Mino-S-triazine, 2-vinyl-4,6-diamino-S-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine S-triazine derivatives, such as isocyanuric acid adduct, can also be mix | blended. It is preferable to use together the compound which functions also as these adhesive imparting agents with a thermosetting catalyst.

(첨가제)(additive)

첨가제로서는 프탈로시아닌ㆍ블루, 프탈로시아닌ㆍ그린, 아이오딘ㆍ그린, 디스아조 옐로우, 크리스탈 바이올렛, 산화티탄, 카본 블랙, 나프탈렌 블랙 등의 착색제(안료, 염료, 색소의 어느 것일 수도 있음), 소포제, 레올로지 조정제 등을 사용할 수 있다.Examples of the additive include colorants such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodine green, disazo yellow, crystal violet, titanium oxide, carbon black, and naphthalene black (foaming agents, dyes, and pigments), antifoaming agents, and rheology. A modifier etc. can be used.

(용제)(solvent)

용제로서는 케톤류, 방향족 탄화수소류, 글리콜에테르류, 글리콜에테르아세테이트류, 에스테르류, 알코올류, 지방족 탄화수소, 석유계 용제 등을 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 카르비톨, 메틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜부틸에테르아세테이트, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산부틸 등의 에스테르류; 에탄올, 프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알코올류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소; 석유 에테르, 석유 나프타, 수소 첨가 석유 나프타, 용매 나프타 등의 석유계 용제 등을 들 수 있다. 이들 용제는 단독으로 또는 복수 종류를 조합하여 사용할 수 있다.As the solvent, ketones, aromatic hydrocarbons, glycol ethers, glycol ether acetates, esters, alcohols, aliphatic hydrocarbons, petroleum solvents and the like can be used. More specifically, ketones, such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; Cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether Glycol ethers such as these; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol butyl ether acetate, methyl lactate, ethyl lactate, and butyl lactate; Alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol and propylene glycol; Aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; Petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, solvent naphtha and the like. These solvents can be used individually or in combination of multiple types.

또한 용제는 열경화성 수지 조성물의 인쇄성이나 필름 형성성에 적합한 배합량으로 할 수 있다.Moreover, a solvent can be made into the compounding quantity suitable for the printability and film formation property of a thermosetting resin composition.

본 실시 형태의 열경화성 수지 조성물은 캐리어 필름 상에 도포하고, 이것을 건조시켜 필름으로서 권취한 드라이 필름으로 할 수 있다.The thermosetting resin composition of this embodiment is apply | coated on a carrier film, it can be set as the dry film wound up and wound as a film.

다음으로, 본 실시 형태의 열경화성 수지 조성물 또는 드라이 필름을 이용한 인쇄 배선판의 제조 방법에 대해서 설명한다.Next, the manufacturing method of the printed wiring board using the thermosetting resin composition or dry film of this embodiment is demonstrated.

우선, 회로 형성된 기판에 탈지, 소프트 에칭 등의 전 처리를 행한 후, 해당 기판에 대하여, 도포 방법에 적합한 점도로 용제로 조정한 열경화성 수지 조성물을 건조막 두께로 10 내지 50 μm가 되도록 도포한다. 이어서, 해당 기판(도포 도막)에 40 내지 100 ℃의 온도를 가하여 도막에 포함되는 용제를 휘발 건조(가건조)시킴으로써, 태크 프리의 도막(수지층)을 형성한다.First, after pretreatment, such as degreasing, soft etching, etc., is performed to the board | substrate formed with a circuit, the thermosetting resin composition adjusted with the solvent with the viscosity suitable for the application | coating method is apply | coated to this board | substrate so that it may become 10-50 micrometers in dry film thickness. Next, a tack free coating film (resin layer) is formed by applying a temperature of 40 to 100 ° C. to the substrate (coating film) to volatilize (temporarily dry) the solvent contained in the coating film.

도포 방법으로서는 침지 코팅법, 플로우 코팅법, 롤 코팅법, 바코터법, 스크린 인쇄법, 커튼 코팅법 등의 방법을 사용할 수 있다.As the coating method, methods such as dip coating, flow coating, roll coating, bar coater, screen printing and curtain coating can be used.

용제의 휘발 건조 방법으로서는 열풍 순환식 건조로, IR로, 핫 플레이트, 컨벡션 오븐 등의 증기에 의한 공기 가열 방식의 열원을 구비한 것을 이용하여, 건조기 내의 열풍을 기판(도포 도막)에 향류 접촉시키는 방법, 및 건조기 내의 열풍을 노즐에 의해 기판(도포 도막)에 분무하는 방법을 사용할 수 있다.As the volatilization drying method of the solvent, hot air in the dryer is countercurrently contacted with a substrate (coated coating film) by using a hot air circulation drying furnace, an IR furnace, and a heat source of an air heating system such as a hot plate or a convection oven. The method and the method of spraying the hot air in a dryer to a board | substrate (coating coating film) with a nozzle can be used.

이 공정에서는 본 발명의 열경화성 수지 조성물을 이용하여 제조한 드라이 필름을 기판 상에 라미네이트함으로써, 도막(수지층)을 형성할 수도 있다.In this process, a coating film (resin layer) can also be formed by laminating the dry film manufactured using the thermosetting resin composition of this invention on a board | substrate.

다음으로, 도막(수지층)을 형성한 기판을 150 내지 180 ℃에서 30 내지 120분간 가열하고, 도막(수지층)을 열경화시켜 수지 절연층을 형성한다.Next, the board | substrate with which the coating film (resin layer) was formed is heated at 150-180 degreeC for 30 to 120 minutes, and a resin insulating layer is formed by thermosetting a coating film (resin layer).

다음으로, 해당 수지 절연층의 미리 정해진 위치(인쇄 배선판의 회로를 노출시키는 부분에 대응하는 위치)에 레이저를 조사하여 비어홀을 형성하고, 인쇄 배선판의 회로를 노출시킨다. 이 때, 비어홀 내에는 다 제거되지 않고 잔류한 성분(스미어)이 존재한다.Next, a via hole is formed by irradiating a laser to a predetermined position (a position corresponding to a portion of the printed wiring board to expose the circuit) of the resin insulating layer to expose the circuit of the printed wiring board. At this time, there is a component (smear) remaining in the via hole and not removed.

그리고, 그 스미어를 과망간산염 용액 등의 디스미어 처리의 약액을 이용하여 분해 제거하는 디스미어 처리를 행하고, 본 발명의 실시 형태의 열경화성 수지 조성물 또는 드라이 필름을 이용한 인쇄 배선판을 제조한다.And the desmear process which decomposes | disassembles this smear using chemical liquids of desmear processes, such as a permanganate solution, is performed, and the printed wiring board using the thermosetting resin composition or dry film of embodiment of this invention is manufactured.

또한, 본 실시 형태는 한쪽면에만 회로가 있는 기판(한쪽면 기판)을 이용하여 인쇄 배선판을 형성하였지만, 양면 기판, 다층 기판에 있어서도, 동일하게 하여 열경화성 수지 조성물을 이용하고 수지 절연층을 형성하여, 레이저에 의해 비어홀을 형성 후, 디스미어 처리를 행한다.In addition, in this embodiment, although the printed wiring board was formed using the board | substrate (one side board | substrate) which has a circuit only on one side, also in a double-sided board | substrate and a multilayer board | substrate, the resin insulating layer was formed using the thermosetting resin composition similarly, After forming a via hole with a laser, a desmear process is performed.

이와 같이 하여 제조한 인쇄 배선판은 회로에 금 도금을 실시하거나, 또는 프리플럭스 처리가 행해진다. 그리고 그 후, 실장되는 반도체칩 등의 전자 부품이 인쇄 배선판에 금 범프나 땜납 범프에 의해 접합되어 탑재된다.The printed wiring board thus produced is subjected to gold plating on the circuit or preflux treatment. After that, electronic components such as semiconductor chips to be mounted are bonded to the printed wiring board by gold bumps or solder bumps and mounted thereon.

<실시예><Examples>

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, an Example demonstrates this invention concretely.

(열경화성 수지 조성물의 제조)(Preparation of thermosetting resin composition)

표 1에 나타내는 각 성분을 배합하고, 교반기로 예비 혼합한 후, 3축 롤밀을 이용하여 혼련하고, 실시예 1 내지 5, 비교예 1 내지 7의 열경화성 수지 조성물을 제조하였다.Each component shown in Table 1 was mix | blended, and it premixed with the stirrer, and knead | mixed using the triaxial roll mill, and produced the thermosetting resin composition of Examples 1-5 and Comparative Examples 1-7.

Figure 112009046816435-PAT00001
Figure 112009046816435-PAT00001

*1: 비스페놀 A형 에폭시 수지: 20 ℃에서 액상의 에폭시 수지(재팬 에폭시 레진(주) 제조)* 1: Bisphenol A epoxy resin: Liquid epoxy resin (made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) at 20 degreeC.

*2: 트리히드록시페닐메탄형 에폭시 수지(40 ℃에서 고형인 에폭시 수지)를 불휘발분 80%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트로 녹인 바니시(닛본 가야꾸(주) 제조)* 2: Varnish (The Nippon Kayaku Co., Ltd. product) which melt | dissolved trihydroxy phenylmethane type epoxy resin (epoxy resin solid at 40 degreeC) to volatile matter 80%.

*3: 페녹시 수지(재팬 에폭시 레진(주) 제조)* 3: phenoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)

*4: 1-벤질-2-페닐이미다졸: 경화 촉매(시코쿠 가세이 고교(주) 제조)* 4: 1-benzyl-2-phenylimidazole: curing catalyst (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)

*5: 페놀 노볼락 수지(페놀 수지)를 불휘발분 65%가 되도록 디에틸렌글리콜모노에틸에테르로 녹인 바니시(메이와 가세이(주) 제조)* 5: Varnish which melt | dissolved phenol novolak resin (phenol resin) with diethylene glycol monoethyl ether so that it might be 65% of non volatile matter (made by Meiwa Kasei Co., Ltd.).

(평가용 샘플의 제조)Preparation of Samples for Evaluation

이와 같이 하여 제조한 실시예 1 내지 5, 비교예 1 내지 7의 열경화성 수지 조성물을 어플리케이터를 이용하여, 각각 건조 후의 막 두께가 30 μm가 되도록 두께 38 μm의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름에 도포하였다. 그리고, 해당 각 필름(도포 도막)을 40 내지 100 ℃로 건조시켜, 실시예 1 내지 5, 비교예 1 내지 7의 평가용 드라이 필름을 제조하였다.The thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 7 thus prepared were applied to a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the film thickness after drying was 30 μm, respectively, using an applicator. And each said film (coating coating film) was dried at 40-100 degreeC, and the dry films for evaluation of Examples 1-5 and Comparative Examples 1-7 were manufactured.

그리고, 제조한 각 시험용 드라이 필름을 진공 라미네이터((주)메이끼 세이사꾸쇼 제조 MVLP-500)를 이용하여, 0.8 MPa, 110 ℃, 1분, 133.3 Pa의 조건으로 회로 형성되어 화학 연마 처리한 FR-4 기판에 가열 라미네이트하였다. 그 후, 해당 기판을 170 ℃에서 1시간 가열하고, 도포 도막을 경화하여 수지 절연층을 형성함으로써, 실시예 1 내지 5, 비교예 1 내지 7의 평가용 배선판을 제조하였다.And each test dry film manufactured was formed into a circuit under the conditions of 0.8 MPa, 110 degreeC, 1 minute, and 133.3 Pa using the vacuum laminator (MVLP-500 by Meisei Seisakusho Co., Ltd.), and the chemical polishing process was carried out. Heat laminated to FR-4 substrate. Then, the board | substrate for evaluation of Examples 1-5 and Comparative Examples 1-7 was manufactured by heating this board | substrate at 170 degreeC for 1 hour, hardening a coating film, and forming a resin insulating layer.

(성능 평가)(Performance evaluation)

(필름성 시험)(Film test)

실시예 1 내지 5, 비교예 1 내지 7의 평가용 드라이 필름에 대해서, 90도의 절곡을 행하고, 필름의 가요성을 이하의 기준으로 평가하였다.About the dry films for evaluation of Examples 1-5 and Comparative Examples 1-7, 90 degree | times were bent and the flexibility of the film was evaluated on the following references | standards.

○: 수지부에 균열 등의 이상은 전혀 없었음(Circle): There was no abnormality, such as a crack, in a resin part.

△: 약간의 균열이 발생△: some crack occurs

×: 수지부에 균열 발생X: crack generate | occur | produced in a resin part

그의 평가 결과를 표 1에 나타내었다. 이 표 1에 나타내는 결과로부터 분명한 바와 같이, 실시예 1 내지 5에 대해서는 수지부에 균열 등의 이상은 보이지 않았지만, 비교예 1 내지 4, 비교예 7에 있어서는 균열이 발생하였다.The evaluation results are shown in Table 1. As apparent from the results shown in Table 1, no abnormalities such as cracks were observed in the resin portions in Examples 1 to 5, but cracks occurred in Comparative Examples 1 to 4 and Comparative Example 7.

(내디스미어성 시험)(Measuring resistance test)

실시예 1 내지 5, 비교예 1 내지 7의 평가용 배선판을 서큐포지트 MLB 컨디셔너 211(롬 앤드 하스사 제조, 첨가제를 포함하는 유기 용제) 및 서큐포지트 Z(롬 앤드 하스사 제조, 수산화나트륨을 주성분으로 한 용액)와 증류수와의 혼합액에 60 내지 80 ℃에서 3 내지 10분 침지하였다. 그리고 추가로, 해당 각 평가용 배선판을 서큐포지트 MLB 프로모터 213A(롬 앤드 하스사 제조, 과망간산나트륨을 주성분으로 한 용액) 및 서큐포지트 MLB 프로모터 213B(롬 앤드 하스사 제조, 수산화나트륨을 주성분으로 한 용액)와 증류수와의 혼합액에 65 내지 85 ℃에서 3 내지 15분 침지하여, 각 평가용 배선판의 팽윤한 스미어를 분해하고 제거하였다.Examples 1 to 5 and the wiring boards for evaluation of Comparative Examples 1 to 7 were used for the Succuit MLB Conditioner 211 (an organic solvent containing an additive made by Rohm and Haas Co., Ltd.) and Succuit Z (manufactured by Rohm and Haas Co., sodium hydroxide). 3 to 10 minutes was immersed in the mixed liquid of the solution containing a main component) and distilled water at 60-80 degreeC. In addition, each of the evaluation wiring boards was mainly composed of the Succuit MLB promoter 213A (manufactured by Rohm and Haas, main solution of sodium permanganate) and the Succuit MLB promoter 213B (manufactured by Rohm and Haas company, sodium hydroxide as the main component. Immersed smear of each evaluation wiring board was decomposed and removed by immersing it in a mixed solution of one solution) and distilled water at 65 to 85 ° C for 3 to 15 minutes.

또한, 상기 각 평가용 배선판을 서큐포지트 MLB 뉴트라라이저 216-2(롬 앤드 하스사 제조, 황산을 주성분으로 한 용액)와 증류수와의 혼합액에 43 내지 51 ℃에서 5 내지 7분간 침지하고, 중화 처리하였다.In addition, each said wiring board for evaluation was immersed for 5 to 7 minutes at 43-51 degreeC in the liquid mixture of the Succuit MLB Neutralizer 216-2 (Rom & Haas Co., Ltd., the sulfuric acid based solution), and distilled water, and neutralized. Treated.

이들 처리 후, 각 평가용 배선판의 경화 도막(수지 절연층)의 표면 상태를 육안 및 SEM(주사형 전자 현미경)에 의해 관찰하여, 이하의 기준에 따라서 평가하였다.After these treatments, the surface state of the cured coating film (resin insulation layer) of each evaluation wiring board was observed by visual observation and SEM (scanning electron microscope), and the evaluation was made according to the following criteria.

○: 전혀 변화가 보이지 않음○: no change at all

△: 간신히 변화가 보임△: barely visible change

×: 도막이 조화 내지 박리되어 있음×: The coating film is roughened or peeled off

평가 결과를 표 1에 나타내었다. 이 표 1에 나타내는 결과로부터 분명한 바와 같이, 실시예 1 내지 5에 있어서는 전혀 변화는 나타나지 않았지만, 비교예 4, 5에 있어서는 간신히 변화가 나타났고, 비교예 1 내지 3, 6에 있어서는 도막이 조화 내지 박리되어 버리는 것을 알 수 있었다.The evaluation results are shown in Table 1. As apparent from the results shown in Table 1, no change was observed in Examples 1 to 5, but barely changed in Comparative Examples 4 and 5, and in Comparative Examples 1 to 3 and 6, the coating was roughened or peeled off. It was found to be.

또한, 본 발명은 상술한 실시예로 한정되는 것은 아니다.In addition, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment.

도 1은 에폭시 수지의 액상 판정에 이용한 2개의 시험관을 나타내는 개략 측면도이다.1 is a schematic side view showing two test tubes used for liquid phase determination of an epoxy resin.

<도면의 주요 부분에 대한 기호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>

10a…액상 판정용 시험관10a... Test tube for liquid phase determination

10b…온도 측정용 시험관10b... Test tube for temperature measurement

11…표선(A선)11... Mark (A line)

12…표선(B선)12... Mark line (B line)

13a, 13b…고무 마개13a, 13b... Rubber stopper

14…온도계 14... thermometer

Claims (6)

페놀 수지와,Phenolic resin, 20 ℃에서 액상인 에폭시 수지와 40 ℃에서 고형인 에폭시 수지를 포함하는 혼합물과,A mixture comprising an epoxy resin liquid at 20 ° C. and an epoxy resin solid at 40 ° C., 무기 충전제를 함유하고,Contains inorganic fillers, 상기 페놀 수지의 페놀성 수산기와 상기 혼합물의 에폭시기의 배합비가 당량비로 0.3 내지 1.0인 것을 특징으로 하는 열경화성 수지 조성물.The compounding ratio of the phenolic hydroxyl group of the said phenol resin and the epoxy group of the said mixture is 0.3-1.0 in equivalence ratio, The thermosetting resin composition characterized by the above-mentioned. 제1항에 기재된 열경화성 수지 조성물을 건조시켜 얻어지는 건조 도막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 드라이 필름. It consists of a dry coating film obtained by drying the thermosetting resin composition of Claim 1, The dry film characterized by the above-mentioned. 회로가 형성되는 기판과,A substrate on which a circuit is formed, 이 기판에 설치되는 제1항에 기재된 열경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 수지 절연층과,The resin insulating layer which consists of hardened | cured material of the thermosetting resin composition of Claim 1 provided in this board | substrate, 이 수지 절연층에 뚫어 설치되는 비어홀부(via hole)를 갖는 것을 특징으로 하는 인쇄 배선판. A printed wiring board having a via hole provided in the resin insulating layer. 회로가 형성되는 기판과,A substrate on which a circuit is formed, 이 기판에 설치되는 제2항에 기재된 드라이 필름의 건조 도막의 경화물로 이 루어지는 수지 절연층과,Resin insulation layer which consists of hardened | cured material of the dry coating film of the dry film of Claim 2 provided in this board | substrate, 이 수지 절연층에 뚫어 설치되는 비어홀부를 갖는 것을 특징으로 하는 인쇄 배선판. The printed wiring board which has a via-hole part provided in this resin insulating layer. 회로가 형성된 기판에 제1항에 기재된 열경화성 수지 조성물을 도포하고,The thermosetting resin composition of Claim 1 is apply | coated to the board | substrate with a circuit, 이 도포한 열경화성 수지 조성물을 건조하고,This coated thermosetting resin composition is dried, 이 건조한 열경화성 수지 조성물을 경화시켜 수지 절연층을 설치하고,Curing this dry thermosetting resin composition, and providing a resin insulating layer, 이 수지 절연층에 레이저 조사하여 비어홀부를 뚫어 설치하고,The resin insulating layer was laser irradiated to drill through holes, and 이 비어홀부의 스미어(smear)를 제거하는 것을 특징으로 하는 인쇄 배선판의 제조 방법. The smear of this via-hole part is removed, The manufacturing method of the printed wiring board characterized by the above-mentioned. 회로가 형성된 기판에 제2항에 기재된 드라이 필름의 건조 도막을 압착하고,The dry coating film of the dry film of Claim 2 is crimped | bonded to the board | substrate with a circuit, 이 압착한 건조 도막을 경화시켜 수지 절연층을 설치하고,The compressed dry coating film is cured to provide a resin insulating layer, 이 수지 절연층에 레이저 조사하여 비어홀부를 뚫어 설치하고,The resin insulating layer was laser irradiated to drill through holes, and 이 비어홀부의 스미어를 제거하는 것을 특징으로 하는 인쇄 배선판의 제조 방법. The smear of this via-hole part is removed, The manufacturing method of the printed wiring board characterized by the above-mentioned.
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