KR20100085215A - Preparation of ag coated cu powder by electroless plating method - Google Patents
Preparation of ag coated cu powder by electroless plating method Download PDFInfo
- Publication number
- KR20100085215A KR20100085215A KR1020090004388A KR20090004388A KR20100085215A KR 20100085215 A KR20100085215 A KR 20100085215A KR 1020090004388 A KR1020090004388 A KR 1020090004388A KR 20090004388 A KR20090004388 A KR 20090004388A KR 20100085215 A KR20100085215 A KR 20100085215A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- solution
- copper powder
- silver
- coating layer
- silver coating
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2301/00—Metallic composition of the powder or its coating
- B22F2301/25—Noble metals, i.e. Ag Au, Ir, Os, Pd, Pt, Rh, Ru
- B22F2301/255—Silver or gold
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2304/00—Physical aspects of the powder
- B22F2304/10—Micron size particles, i.e. above 1 micrometer up to 500 micrometer
Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 구리분말의 은 코팅층 형성방법에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명은 은 정구체 용액의 환원반응을 이용한 무전해도금법으로 구리분말 표면에 균일한 은 코팅층을 형성하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for forming a silver coating layer of copper powder. Specifically, the present invention relates to a method of forming a uniform silver coating layer on the surface of copper powder by an electroless plating method using a reduction reaction of a silver sphere solution.
금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni) 등은 열적, 전기적 특성이 뛰어난 금속 재료로서, 그 중 금과 은(Ag)은 우수한 전기적 특성을 지니고 있지만 가격이 비싸다는 단점이 있고, 구리와 니켈 역시 우수한 전기적 특성을 지니고 있는 반면, 산화에 약하다는 단점을 가지고 있다. 이러한 금과 은, 구리와 니켈이 갖고 있는 단점을 극복하고자 코어-셸(core-shell) 구조를 갖는, 구리와 은의 우수한 열적, 전기적 특성을 모두 지닌 분말을 개발하고자 하는 연구가 전자산업 분야에서 활발히 진행되고 있다. Gold (Au), silver (Ag), copper (Cu) and nickel (Ni) are metal materials with excellent thermal and electrical properties. Among them, gold and silver (Ag) have excellent electrical properties but are expensive. Disadvantages, copper and nickel also have excellent electrical properties, while weak to oxidation. In order to overcome the shortcomings of gold, silver, copper and nickel, researches to develop powders having core-shell structure and excellent thermal and electrical properties of copper and silver have been actively conducted in the electronics industry. It's going on.
일반적으로 분말 코팅방법은 전기도금법, 무전해도금법, 기상반응법 등이 있지만, 전기도금과 기상반응법 등의 방법은 효율성면에서 떨어지기 때문에 산업화가 곤란한 경우가 많다. 이에 반해 무전해도금법은 다른 코팅방법에 비하여 코팅층이 치밀하고 균일한 두께를 가지며 자유 금속(free metal)이 생성되지 않는 효율적인 코팅이 가능하고 도체뿐만 아니라 플라스틱이나 유기체와 같은 다양한 기판에 대해서도 적용할 수 있다. 또한 산업적인 측면에서도 제조비용이 낮고 대량생산이 가능하여 현재 많은 연구가 활발히 진행 중이다. Generally, powder coating methods include electroplating, electroless plating, and gas phase reaction, but methods such as electroplating and gas phase reaction are difficult in industrialization because of poor efficiency. On the other hand, the electroless plating method has a more dense and uniform thickness of the coating layer compared to other coating methods, enables efficient coating without generating free metal, and can be applied to various substrates such as plastics or organic materials as well as conductors. have. In addition, in the industrial aspect, since the manufacturing cost is low and mass production is possible, many researches are actively underway.
한편, 한국공개특허 제 2007-0104802호에서는 질산은 수용액과 암모니아 수용액을 혼합한 후 분산제를 용해시켜 제 1용액을 제조하고, 암모니아 수용액 및 암모니아와 황산암모늄의 혼합 수용액으로 이루어진 군에서 선택되는 수용액에 모재 금속 분말과 환원제를 첨가하여 혼합한 후 산도(pH)를 7 내지 10으로 조절하여 제 2용액을 제조하고, 상기 제 1용액과 제 2용액을 혼합하는 단계를 포함하는 은 코팅층이 형성된 금속 분말의 제조방법을 제공하고 있다. 상기 문헌에서는 환원제로 아스코르브산(ascorbic acid), 로첼염(rochelle salt), 히드라진(hydrazine), 포름알데히드(formaldehyde), 포르말린(formalin) 또는 이들의 혼합물이 바람직하게 사용되었으며, 본 출원인들은 상기 문헌에 기재된 실시예에 따라 은 코팅층이 형성된 구리분말을 제조하였으나, 전체적으로 구리분말의 입자 크기와 입자 형상 면에서 불균일한 은 코팅층이 형성되어 만족할만한 것은 아니었다. Meanwhile, Korean Patent Publication No. 2007-0104802 discloses a first solution by mixing a silver nitrate solution with an aqueous ammonia solution and dissolving a dispersant to form a first solution. After adding and mixing the metal powder and the reducing agent, the acidity (pH) is adjusted to 7 to 10 to prepare a second solution, and mixing the first solution and the second solution of the metal powder with a silver coating layer comprising the step of mixing. It provides a manufacturing method. In this document, ascorbic acid, rochelle salt, hydrazine, formaldehyde, formalin or mixtures thereof are preferably used as reducing agents. Although the copper powder in which the silver coating layer was formed according to the Example described was manufactured, it was not satisfactory because the nonuniform silver coating layer was formed in the particle size and particle shape of the copper powder as a whole.
상기 문헌에 기재된 비교예 중 환원제로 하이드로퀴논(hydroquinone)을 사용한 예가 있었으나, 환원제로 하이드로퀴논(hydroquinone) 사용 시 모재 금속 분말 표면에 코팅층이 형성되지 못하였고, 모재 금속 분말들이 서로 엉켜 있는 것을 확인 할 수 있다고 기재되어있다. Among the comparative examples described in the literature, there was an example of using hydroquinone as a reducing agent, but when using hydroquinone as a reducing agent, a coating layer was not formed on the surface of the base metal powder, and the base metal powders were entangled with each other. It is stated that it can.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 상기 개시된 기술에 의하면, 환원제로 하이드로퀴논(hydroquinone)의 사용 시 모재 금속 분말 표면에 코팅층 형성이 불가능하다고 하였으나, 구리분말의 은 코팅층 형성방법에 있어서 환원제로 하이드로퀴논(hydroquinone) 사용 시 구리분말의 첨가량, 반응온도, 코팅 용액의 몰 농도를 조정함으로써 상기 문헌에 기재된 아스코르브산(ascorbic acid), 로첼염(rochelle salt), 히드라진(hydrazine), 포름알데히드(formaldehyde), 포르말린(formalin) 또는 이들의 혼합물로 이루어진 환원제를 사용한 것에 비해 균일한 은 코팅층이 형성된 구리분말 제조와 균일한 입자크기를 갖는 열적, 전기적 특성이 우수한 구리분말의 은 코팅층 형성방법을 제공하는 것이다. The present invention is to solve the problems of the prior art as described above, according to the disclosed technology, when using a hydroquinone (hydroquinone) as a reducing agent to form a coating layer on the surface of the base metal powder, it is possible to form a silver coating layer of copper powder Ascorbic acid, rochelle salt, hydrazine described in the literature by adjusting the addition amount of copper powder, reaction temperature and molar concentration of coating solution when using hydroquinone as a reducing agent in the process Compared to the use of a reducing agent consisting of formaldehyde, formalin, or a mixture thereof, forming a copper powder having a uniform silver coating layer and forming a silver coating layer of copper powder having excellent thermal and electrical properties having a uniform particle size. To provide a way.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 구리분말의 은 코팅층 형성을 위하여 질산은 수용액을 원료로 사용하였고, 환원제로는 하이드로퀴논(hydroquinone)을 사용하여 새로운 환원시스템을 개발하였다. 구체적으로 본 발명은,In order to achieve the above object, in the present invention, a silver nitrate aqueous solution was used as a raw material to form a silver coating layer of copper powder, and a new reducing system was developed using hydroquinone as a reducing agent. Specifically, the present invention,
a) 증류수에 산화층이 제거된 구리분말 및 환원제로 하이드로퀴논(hydroquinone)을 첨가하여 제 1용액을 제조하고, 질산은 수용액과 암모니아 수용액을 혼합하여 제 2용액을 제조하는 단계;a) preparing a first solution by adding hydroquinone to copper powder and a reducing agent in which the oxide layer is removed from distilled water, and preparing a second solution by mixing an aqueous solution of silver nitrate and an aqueous ammonia solution;
b) 하이드로퀴논(hydroquinone)의 농도는 0.06 내지 0.18 M(mol/L), 질산은 수용액의 농도는 0.11 내지 0.19 M(mol/L), 암모니아 수용액의 농도는 1.1 내지 1.7 M(mol/L)이 되도록 상기 제 1용액과 상기 제 2용액을 혼합하여 반응시키는 단계;b) The concentration of hydroquinone is 0.06 to 0.18 M (mol / L), the concentration of silver nitrate is 0.11 to 0.19 M (mol / L), and the concentration of aqueous ammonia is 1.1 to 1.7 M (mol / L). Reacting the first solution and the second solution by mixing the second solution;
c) 상기 제 1용액과 상기 제 2용액을 혼합하여 반응시킨 후 생성된 은 코팅층이 형성된 구리분말을 건조시키는 단계;c) drying the copper powder having the silver coating layer formed after mixing and reacting the first solution and the second solution;
를 포함하는 구리분말의 은 코팅층 형성방법을 제공한다.It provides a method for forming a silver coating layer of copper powder comprising a.
이하 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
본 발명은 무전해 도금법을 이용한 것으로 구리분말의 입자 표면에 은 코팅층을 형성하여 구리의 산화를 억제시키며 구리와 은의 우수한 열적, 전기적 특성을 모두 지닌 분말제조를 가능하게 할 뿐만 아니라 은 분말의 고가격 문제 또한 해결할 수 있는 코어 셸 구조의 은 코팅층이 형성된 구리분말의 은 코팅층 형성방법에 관한 것이다. The present invention uses an electroless plating method to form a silver coating layer on the surface of the copper powder to suppress the oxidation of copper and to enable the production of powders having both excellent thermal and electrical properties of copper and silver as well as high price of silver powder. The present invention also relates to a method for forming a silver coating layer of copper powder having a silver coating layer having a core shell structure.
구리와 은은 열적, 전기적 특성이 뛰어난 금속 재료이다. 하지만 은은 가격이 비싸다는 단점이 있으며, 구리는 산화에 약하다는 단점이 있다. 이러한 구리와 은의 단점을 극복하고자 구리분말의 입자 표면에 은을 코팅하게 되면 은은 구리의 산화를 억제시키며 구리와 은의 우수한 열적, 전기적 특성을 모두 지닌 분말 제조가 가능해지고, 은 분말의 고가격 문제 또한 해결할 수 있게 된다. 이렇게 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말은 전자파 차폐용 분말로 사용될 수 있다.Copper and silver are metal materials with excellent thermal and electrical properties. However, silver has the disadvantage of being expensive and copper has a disadvantage of being vulnerable to oxidation. In order to overcome the disadvantages of copper and silver, coating silver on the surface of the particles of copper powder inhibits the oxidation of copper and enables the production of powders having both excellent thermal and electrical properties of copper and silver, and also solves the high price problem of silver powder. It becomes possible. The copper powder formed with the silver coating layer thus prepared may be used as an electromagnetic shielding powder.
상기 구리분말의 입자 크기는 5 내지 40 μm의 범위인 것이 바람직하며, 10 내지 30 μm인 것이 더욱 바람직하다.The particle size of the copper powder is preferably in the range of 5 to 40 μm, more preferably 10 to 30 μm.
본 발명에서 구리분말의 은 코팅층 형성방법은,In the present invention, the method for forming a silver coating layer of copper powder,
a) 증류수에 산화층이 제거된 구리분말 및 환원제로 하이드로퀴논(hydroquinone)을 첨가하여 제 1용액을 제조하고, 질산은 수용액과 암모니아 수용액을 혼합하여 제 2용액을 제조하는 단계;a) preparing a first solution by adding hydroquinone to copper powder and a reducing agent in which the oxide layer is removed from distilled water, and preparing a second solution by mixing an aqueous solution of silver nitrate and an aqueous ammonia solution;
b) 하이드로퀴논(hydroquinone)의 농도는 0.06 내지 0.18 M(mol/L), 질산은 수용액의 농도는 0.11 내지 0.19 M(mol/L), 암모니아 수용액의 농도는 1.1 내지 1.7 M(mol/L)이 되도록 상기 제 1용액과 상기 제 2용액을 혼합하여 반응시키는 단계;b) The concentration of hydroquinone is 0.06 to 0.18 M (mol / L), the concentration of silver nitrate is 0.11 to 0.19 M (mol / L), and the concentration of aqueous ammonia is 1.1 to 1.7 M (mol / L). Reacting the first solution and the second solution by mixing the second solution;
c) 상기 제 1용액과 상기 제 2용액을 혼합하여 반응시킨 후 생성된 은 코팅층이 형성된 구리분말을 건조시키는 단계;c) drying the copper powder having the silver coating layer formed after mixing and reacting the first solution and the second solution;
를 포함한다.It includes.
먼저, 증류수에 산화층이 제거된 구리분말 및 환원제로 하이드로퀴논(hydroquinone)을 첨가하여 제 1용액을 제조한다. First, a first solution is prepared by adding hydroquinone as a copper powder and a reducing agent in which an oxide layer is removed from distilled water.
상기 a)단계의 구리분말은 산성용액에 의하여 산화층이 제거된 것을 사용하는 것이 바람직하며, 구리분말의 산화층 제거를 통해 구리분말의 표면을 활성화 시켜 은 코팅층 형성을 가능하게 한다.The copper powder of step a) is preferably used to remove the oxide layer by the acidic solution, and enables the formation of a silver coating layer by activating the surface of the copper powder by removing the oxide layer of the copper powder.
상기 a)단계에서 사용되는 산성 용액은 질산용액 또는 황산용액이 바람직하게 사용될 수 있는데, 그 중 황산 용액이 구리분말의 산화층 제거를 위해 가장 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 산성용액은 수분이 포함되지 않은 강산용액을 사용하는 것이 바람직하며, 수분이 함유되어 있을 경우 구리분말 표면 전체의 산화층 제거에 어려움이 있다. The acidic solution used in step a) may be preferably a nitric acid solution or a sulfuric acid solution, of which sulfuric acid solution may be most preferably used for removing the oxide layer of the copper powder. The acidic solution is preferably to use a strong acid solution that does not contain water, it is difficult to remove the oxide layer on the entire surface of the copper powder when water.
상기 a) 단계에서 제 1용액 제조 시 사용되는 환원제는 반응성 및 반응속도에 영향을 주기 때문에 최종적으로 제조되는 은 코팅층이 형성된 구리분말의 입자 형태 및 입자 크기를 결정하는데 중요한 역할을 하게 된다. 상기 환원제로는 하이드로퀴논(hydroquinone)이 바람직하게 사용될 수 있다. In the step a), the reducing agent used in the preparation of the first solution affects the reactivity and the reaction rate, and thus plays an important role in determining the particle shape and particle size of the copper powder finally formed with the silver coating layer. Hydroquinone may be preferably used as the reducing agent.
상기 a)단계의 구리분말 첨가량은 증류수 총 중량에 대하여 10 내지 20 중량%로 첨가되는 것이 바람직하며 그 중 구리분말이 12 내지 16 중량%로 첨가되는 것이 더 바람직하다. 상기 구리분말의 첨가량이 10 중량% 미만일 경우에는 구리분말의 입자 표면에 흡착되지 못한 은이 과량으로 석출되며, 20 중량%를 초과할 경우에는 은 코팅층의 두께가 감소하여 열적, 전기적 특성이 저하되는 문제가 있다.The amount of copper powder added in step a) is preferably added in an amount of 10 to 20% by weight based on the total weight of distilled water, more preferably 12 to 16% by weight of copper powder. When the amount of the copper powder added is less than 10% by weight, silver that is not adsorbed on the surface of the particles of the copper powder is precipitated in excess, and when the amount of the copper powder exceeds 20% by weight, the thickness of the silver coating layer decreases, thereby reducing thermal and electrical properties. There is.
상기 a) 단계의 제 2용액 제조에 있어서, 질산은 수용액과 암모니아 수용액을 혼합하는 것은 수용액 내에 친화력이 높은 은 착이온이 형성되어 은의 분산이 잘 일어나 균일한 코팅이 잘 일어나도록 하기 위함이다. In the preparation of the second solution of step a), the mixing of the silver nitrate solution and the aqueous ammonia solution is intended to form a silver complex ion having a high affinity in the aqueous solution so that the dispersion of the silver occurs well and uniform coating occurs well.
상기 a) 단계의 제 2용액 제조 시 사용되는 암모니아 수용액은 구리분말의 표면 활성제로 사용되는 것으로, 구리 표면의 활성을 높이고, 구리 표면에 잔존할 수 있는 불순물을 제거하며, 구리분말의 분산이 잘 일어나도록 한다. The aqueous ammonia solution used in the preparation of the second solution of step a) is used as a surface active agent of the copper powder, to enhance the activity of the copper surface, to remove impurities remaining on the copper surface, and to disperse the copper powder well. Get up.
상기 b) 단계에 있어서, 하이드로퀴논(hydroquinone)의 농도는 0.06 내지 0.18 M(mol/L), 질산은 수용액의 농도는 0.11 내지 0.19 M(mol/L), 암모니아 수용액의 농도는 1.1 내지 1.7 M(mol/L)이 되도록 상기 제 1용액과 상기 제 2용액을 혼합하여 반응시킨다. In step b), the concentration of hydroquinone is 0.06 to 0.18 M (mol / L), the concentration of silver nitrate is 0.11 to 0.19 M (mol / L), and the concentration of aqueous ammonia is 1.1 to 1.7 M ( mol / L) to react the first solution and the second solution by mixing.
상기 b) 단계의 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 하이드로퀴논(hydroquinone)의 농도는 0.06 내지 0.18 M(mol/L)인 것이 바람직하며, 0.1 내지 0.15 M(mol/L)인 것이 더 바람직하다. 상기 하이드로퀴논(hydroquinone)의 농도가 0.06 M(mol/L)보다 낮은 경우에는 하이드로퀴논(hydroquinone)의 환원력이 떨어지고, 0.18 M(mol/L)보다 높은 경우에는 제조된 구리분말의 입자 크기가 감소하여 구리분말에 은 코팅층을 형성하는데 문제가 있다. The concentration of hydroquinone in the mixed solution of the first solution and the second solution of step b) is preferably 0.06 to 0.18 M (mol / L), more preferably 0.1 to 0.15 M (mol / L). desirable. When the concentration of the hydroquinone is lower than 0.06 M (mol / L), the reducing power of the hydroquinone is reduced, and when the concentration of the hydroquinone is higher than 0.18 M (mol / L), the particle size of the manufactured copper powder is reduced. There is a problem in forming a silver coating layer on the copper powder.
상기 b) 단계에서 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 질산은 수용액의 농도는 0.11 내지 0.19 M(mol/L)인 것이 바람직하며, 0.14 내지 0.16 M(mol/L)인 것이 더 바람직하다. 상기 질산은 수용액의 농도가 0.11 M(mol/L)보다 낮은 경우에는 은 코팅층이 충분하게 형성되지 못하였으며, 0.19 M(mol/L)보다 높은 경우에는 은의 과도한 석출로 인하여 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 입자 표면의 코팅층이 두껍게 형성되는 문제가 있다. In the step b), the concentration of the silver nitrate solution in the mixed solution of the first solution and the second solution is preferably 0.11 to 0.19 M (mol / L), more preferably 0.14 to 0.16 M (mol / L). When the concentration of the silver nitrate solution was lower than 0.11 M (mol / L), the silver coating layer was not sufficiently formed. When the concentration of the silver nitrate was higher than 0.19 M (mol / L), the copper with the silver coating layer prepared due to excessive precipitation of silver was formed. There is a problem that the coating layer on the surface of the particles of the powder is formed thick.
상기 b) 단계에서 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 암모니아 수용액의 농도는 1.1 내지 1.7 M(mol/L)인 것이 바람직하며, 1.3 내지 1.5 M(mol/L)인 것이 더 바람직하다. 상기 암모니아 수용액의 농도가 1.1 M(mol/L)보다 낮은 경우에 는 구리분말의 입자 표면에 흡착되지 못한 은이 존재하며, 1.7 M(mol/L)보다 높은 경우에는 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 입자 표면의 거칠기가 상승되는 문제가 있다.In step b), the concentration of the aqueous ammonia solution in the mixed solution of the first solution and the second solution is preferably 1.1 to 1.7 M (mol / L), more preferably 1.3 to 1.5 M (mol / L). When the concentration of the aqueous ammonia is lower than 1.1 M (mol / L), the silver is not adsorbed on the surface of the particles of the copper powder, when higher than 1.7 M (mol / L) copper powder with a silver coating layer prepared There is a problem that the roughness of the particle surface is increased.
상기 b)단계의 제 1용액과 상기 제 2용액을 혼합하여 반응시키는 단계의 반응온도는 1 내지 10℃인 것이 바람직하며, 3 내지 6℃인 것이 더 바람직하다. 상기 반응온도가 1℃보다 낮은 경우에는 구리분말의 입자 표면에 은 코팅층이 불균일하게 생성되며, 10℃보다 높은 경우에는 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 입자 표면의 거칠기가 상승되는 문제가 있다.The reaction temperature of the step of reacting the first solution and the second solution of step b) by mixing is preferably 1 to 10 ℃, more preferably 3 to 6 ℃. When the reaction temperature is lower than 1 ° C, the silver coating layer is unevenly generated on the surface of the copper powder. If the reaction temperature is higher than 10 ° C, the roughness of the surface of the copper powder having the silver coating layer prepared is increased.
상기 구리분말의 은 코팅층 형성방법에 있어서 화학식 1에 의하여 질산은 수 용액에 암모니아 수용액을 첨가하게 되면 용액이 점점 노란색에서 진한 갈색으로 변하게 된다. 그리고 다시 화학식 2와 화학식 3의 반응을 거치게 되면 상기 용액의 색은 투명하게 변하게 된다. 화학식 3에 의하여 전환된 용액을 구리분말이 첨가된 산성 용액에 첨가하게 되면 화학식 4에서와 같이 표준 산화·환원 전위차(ΔE0)가 양의 값을 갖는 것에 따라 반응은 자발적으로 일어나게 되고, 구리보다 표준 환원전위가 높은 Ag+가 Ag0으로 석출되게 된다. In the method of forming a silver coating layer of the copper powder, when the aqueous solution of ammonia is added to the silver nitrate aqueous solution according to Formula 1, the solution gradually changes from yellow to dark brown. When the reaction of Formula 2 and Formula 3 is performed again, the color of the solution changes to transparent. When the solution converted by Chemical Formula 3 is added to an acidic solution containing copper powder, the reaction occurs spontaneously as the standard oxidation / reduction potential difference (ΔE 0 ) has a positive value as in Chemical Formula 4, Ag + having a high standard reduction potential is precipitated as Ag 0 .
화학식 5는 환원제에 의한 은의 석출반응이며, 암모니아수에 의해 생성된 Ag(NH3)2 + 착이온은 환원제인 하이드로퀴논(hydroquinone)에 의해 결정이 성장하면서 은으로 석출된다. 이러한 반응이 성공적으로 진행될 경우 구리분말의 입자 표면에 균일한 형태의 은 코팅층이 형성되게 된다.Formula 5 is a precipitation reaction of silver by a reducing agent, and Ag (NH 3 ) 2 + complex ions produced by ammonia water are precipitated as silver as crystals grow by hydroquinone, a reducing agent. When this reaction is successful, a uniform silver coating layer is formed on the surface of the copper powder.
본 발명에서 구리분말의 은 코팅층 형성방법은 구리분말의 입자 표면에 은 코팅층을 형성하여 구리분말의 산화를 억제시켜 구리와 은의 우수한 열적, 전기적 특성을 모두 지닌 은 코팅층이 형성된 구리분말 제조를 가능하게 할 뿐만 아니라 균일한 은 코팅층이 형성된 구리분말을 제조할 수 있다. In the present invention, the method of forming a silver coating layer of copper powder forms a silver coating layer on the surface of the copper powder to suppress oxidation of the copper powder, thereby making it possible to manufacture a copper powder having a silver coating layer having both excellent thermal and electrical properties of copper and silver. In addition, a copper powder having a uniform silver coating layer may be prepared.
이와 같은 본 발명을 실시예 및 비교예에 의거하여 설명하면 다음과 같은 바, 본 발명이 실시예 및 비교예에 의하여 한정되는 것은 아니다.When explaining this invention based on an Example and a comparative example as follows, this invention is not limited by an Example and a comparative example.
본 발명의 실시예 1 및 실시예 2와 비교예 1 내지 비교예 12에 의하여 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 단면을 분석하기위하여, JEOL사의 모델명 JSM-5410인 주사전자현미경(SEM, scanning electron microscopy)을 사용하였고, 상기 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 정량분석을 위하여 HORIBA 사의 모델명 EX-250인 에너지 분산형 X선 분광기(EDX: energy dispersive x-ray spectrometer)를 이용하여 분석하였다.In order to analyze the cross-section of the copper powder with a silver coating layer prepared according to Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 12 of the present invention, JEOL's model name JSM-5410 scanning electron microscope (SEM, scanning electron) microscopy) was used, and was analyzed using an energy dispersive x-ray spectrometer (EDX) of HORIBA's model name EX-250 for quantitative analysis of the copper powder having the silver coating layer.
[실시예 1] Example 1
구리분말의 산화층 제거를 위해 황산 용액에 입자 크기가 25 μm인 구리분말을 첨가하여 20 분간 교반시켜 세척한 후, 증류수에 산화층이 제거된 구리분말을 증류수 총 중량에 대하여 12 중량%로 첨가하고, 질산은 환원을 위한 환원제로 하이드로퀴논(hydroquinone)을 첨가하여 제 1용액을 제조하였다. 질산은 수용액과 암모니아 수용액을 혼합하여 제 2용액을 제조한 후 하이드로퀴논(hydroquinone)의 농도는 0.1 M(mol/L), 질산은 수용액의 농도는 0.15 M(mol/L), 암모니아 수용액의 농도는 1.4 M(mol/L)이 되도록 상기 제 1용액과 상기 제 2용액을 4 ℃의 반응온도에서 20 분간 교반시키면서 혼합하여 반응시켰다. 반응이 종결된 후 생성된 은 코팅층이 형성된 구리분말을 채취하여 증류수와 에탄올(ethanol)을 이용하여 수차례 세척하고, 60 ℃에서 24 시간동안 건조하여 은 코팅층이 형성된 구리분말을 제조하였다. In order to remove the oxide layer of copper powder, a copper powder having a particle size of 25 μm was added to the sulfuric acid solution, followed by stirring for 20 minutes to wash. The first solution was prepared by adding hydroquinone as a reducing agent for reducing silver nitrate. The second solution was prepared by mixing a silver nitrate solution with an aqueous ammonia solution, and the hydroquinone concentration was 0.1 M (mol / L), the silver nitrate solution was 0.15 M (mol / L), and the ammonia solution was 1.4. The first solution and the second solution were mixed and reacted while stirring for 20 minutes at a reaction temperature of 4 ° C. such that M (mol / L). After completion of the reaction, the copper powder formed with the silver coating layer was collected, washed several times with distilled water and ethanol, and dried at 60 ° C. for 24 hours to prepare a copper powder having a silver coating layer.
[실시예 2][Example 2]
상기 구리분말의 첨가량이 16 중량%인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. It carried out similarly to Example 1 except the addition amount of the said copper powder is 16 weight%.
[비교예 1]Comparative Example 1
상기 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 하이드로퀴논(hydroquinone)의 농도가 0.01 M(mol/L)인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. The same procedure as in Example 1 was carried out except that the concentration of hydroquinone in the mixed solution of the first solution and the second solution was 0.01 M (mol / L).
[비교예 2]Comparative Example 2
상기 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 하이드로퀴논(hydroquinone)의 농도가 0.05 M(mol/L)인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. Except that the concentration of hydroquinone (hydroquinone) in the mixed solution of the first solution and the second solution was 0.05 M (mol / L) was carried out in the same manner as in Example 1.
[비교예 3]Comparative Example 3
상기 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 하이드로퀴논(hydroquinone)의 농도가 0.20 M(mol/L)인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. The same procedure as in Example 1 was performed except that the concentration of hydroquinone in the mixed solution of the first solution and the second solution was 0.20 M (mol / L).
[비교예 4][Comparative Example 4]
상기 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 질산은 수용액의 농도가 0.25 M(mol/L)인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.In the mixed solution of the first solution and the second solution was carried out in the same manner as in Example 1 except that the concentration of the silver nitrate solution is 0.25 M (mol / L).
[비교예 5][Comparative Example 5]
상기 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 암모니아 수용액의 농도가 1.0 M(mol/L)인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. The same process as in Example 1 was carried out except that the concentration of the aqueous ammonia solution in the mixed solution of the first solution and the second solution was 1.0 M (mol / L).
[비교예 6][Comparative Example 6]
상기 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 암모니아 수용액의 농도가 1.8 M(mol/L)인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. The same process as in Example 1 was carried out except that the concentration of the aqueous ammonia solution in the mixed solution of the first solution and the second solution was 1.8 M (mol / L).
[비교예 7]Comparative Example 7
상기 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 암모니아 수용액의 농도가 2.2 M(mol/L)인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. The same process as in Example 1 was carried out except that the concentration of the aqueous ammonia solution in the mixed solution of the first solution and the second solution was 2.2 M (mol / L).
[비교예 8]Comparative Example 8
상기 제 1용액과 상기 제 2용액을 혼합하여 반응시키는 단계의 반응온도가 상온인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that the reaction temperature of the step of reacting the first solution and the second solution by mixing was room temperature.
[비교예 9][Comparative Example 9]
상기 제 1용액과 상기 제 2용액을 혼합하여 반응시키는 단계의 반응온도가 50 ℃인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that the reaction temperature of the step of reacting the first solution and the second solution by mixing was 50 ° C.
[비교예 10][Comparative Example 10]
상기 제 1용액과 상기 제 2용액을 혼합하여 반응시키는 단계의 반응온도가 80 ℃인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. The reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that the reaction temperature of the step of reacting the first solution and the second solution by mixing was 80 ° C.
[비교예 11]Comparative Example 11
상기 구리분말의 첨가량이 4 중량%인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.It carried out similarly to Example 1 except the addition amount of the said copper powder is 4 weight%.
[비교예 12]Comparative Example 12
상기 구리분말의 첨가량이 8 중량%인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다. It carried out similarly to Example 1 except the addition amount of the said copper powder is 8 weight%.
하기 표 1은 실시예 1 및 실시예 2와 비교예 1 내지 비교예 12에서 첨가된 각 조성 및 반응조건을 나타낸 것이다.Table 1 shows each composition and reaction conditions added in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 12.
도 1은 상기 실시예 1 및 비교예 1 내지 비교예 3에 따라 제조된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진으로, 도 1(a)는 비교예 1, 도 1(b)는 비교예 2, 도 1(c)는 실시예 1, 도 1(d)는 비교예 3에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말을 나타낸 것이다.1 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of the copper powder prepared according to Example 1 and Comparative Examples 1 to 3, Figure 1 (a) is Comparative Example 1, Figure 1 (b) is Comparative Example 2 FIG. 1 (c) shows Example 1 and FIG. 1 (d) shows a copper powder having a silver coating layer prepared according to Comparative Example 3. FIG.
도 1(a)와 도 1(b)는 하이드로퀴논(hydroquinone)의 환원력이 떨어져 AgO와 AgO2 등의 미 반응물이 일부 검출된 것을 확인 할 수 있었고, 도 1(d)는 입자크기가 도 1(a) 내지 도 1(c)에 비해 작아진 것을 확인할 수 있었다. 반면, 도 1(c)에서는 분산성이 우수하고 구리분말의 입자크기가 동일한 은 코팅층이 형성된 구리분말을 확인할 수 있었고, 구리분말 표면에 은 코팅층이 균일하게 형성되었음을 확인할 수 있었다.1 (a) and 1 (b) show that some of the unreacted substances such as AgO and AgO 2 were detected due to the reduced reducing power of hydroquinone, and FIG. 1 (d) shows the particle size of FIG. 1. It confirmed that it became small compared with (a)-FIG. 1 (c). On the other hand, in Figure 1 (c) it was confirmed that the copper powder formed with a silver coating layer having excellent dispersibility and the same particle size of the copper powder, it was confirmed that the silver coating layer is uniformly formed on the surface of the copper powder.
도 2는 상기 실시예 1 및 비교예 4에 따라 제조된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진으로, 도 2(a)는 실시예 1 및 도 2(b)는 비교예 4에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말을 나타낸 것이다.2 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of the copper powder prepared according to Example 1 and Comparative Example 4, Figure 2 (a) is Example 1 and Figure 2 (b) is prepared according to Comparative Example 4 It shows the copper powder in which the silver coating layer was formed.
상기 비교예 4는 상기 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 질산은 수용액의 농도가 0.25 M(mol/L)인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시한 것으로, 비교예 4로 제조된 구리분말은 도 2(b)를 통하여 은이 과도하게 석출되어 구리분말 입자 표면에 코팅층이 두껍게 형성된 것을 확인할 수 있었고, 반면, 실시예 1로 제조된 구리분말은 도 2(a)를 통하여 구리분말 표면에 은 코팅층이 균일하게 형성되었음을 확인할 수 있었다. Comparative Example 4 was carried out in the same manner as in Example 1 except that the concentration of the silver nitrate aqueous solution in the mixed solution of the first solution and the second solution is 0.25 M (mol / L), copper prepared in Comparative Example 4 The powder was excessively precipitated silver through Figure 2 (b) was confirmed that the coating layer was formed on the surface of the copper powder thick, while the copper powder prepared in Example 1 is on the surface of the copper powder through Figure 2 (a) It was confirmed that the silver coating layer was formed uniformly.
도 3은 상기 실시예 1 및 비교예 5 내지 비교예 7에 따라 제조된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진으로, 도 3(a)는 비교예 5, 도 3(b)는 실시예 1, 도 3(c)는 비교예 6, 도 3(d)는 비교예 7에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말을 나타낸 것이다.3 is a scanning electron microscope (SEM) image of the copper powder prepared according to Example 1 and Comparative Examples 5 to 7, Figure 3 (a) is Comparative Example 5, Figure 3 (b) is Example 1 3 (c) shows a comparative example 6 and FIG. 3 (d) shows a copper powder having a silver coating layer prepared according to Comparative Example 7. FIG.
도 3(a)는 구리분말 입자 표면에 흡작 되지 못한 은이 존재하는 것을 확인할 수 있었고, 도 3(c)와 도 3(d)는 구리분말 입자 표면에 불균일하게 형성된 은 코팅층과 구리분말 표면의 거칠기가 상승하는 것을 확인할 수 있었다. 반면 도 3(b)는 구리분말의 입자 표면에 대부분의 은이 흡착되어 균일한 은 코팅층이 형성되었음을 확인할 수 있었다. Figure 3 (a) was confirmed that the silver was not absorbed on the surface of the copper powder particles, Figure 3 (c) and Figure 3 (d) is a roughness of the silver coating layer and the copper powder surface formed non-uniformly on the surface of the copper powder particles Was confirmed to rise. On the other hand, Figure 3 (b) it was confirmed that the most silver is adsorbed on the surface of the particles of the copper powder to form a uniform silver coating layer.
더욱 상세하게는 도 4는 상기 실시예 1 및 비교예 5 내지 비교예 7에 따라 제조된 구리분말의 에너지 분산형 X선 분광기(EDX) 측정 결과로, 도 4(a)는 비교예 5, 도 4(b)는 실시예 1, 도 4(c)는 비교예 6, 도 4(d)는 비교예 7에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 에너지 분산형 X선 분광기(EDX) 측정 결과이다. 도 4(a)에서는 입자 내부의 구리분말 피크는 확인할 수 있지만 입자 표면의 은 피크는 소량으로 분석되었다. 도 4(c)와 도 4(d)에서도 구리분말의 입자 표면에 불균일한 은 코팅층이 과도하게 성장하여 입자 표면의 은 피크가 두껍게 나타나는 것을 확인할 수 있었다. 반면, 도 4(b)에서는 구리분말 입자 표면에 균일한 은 코팅층이 형성되었음을 확인할 수 있었다.More specifically, FIG. 4 is an energy dispersive X-ray spectrometer (EDX) measurement result of copper powder prepared according to Example 1 and Comparative Examples 5 to 7, and FIG. 4 (a) is Comparative Example 5, FIG. 4 (b) is Example 1, FIG. 4 (c) is Comparative Example 6, and FIG. 4 (d) is an energy dispersive X-ray spectrometer (EDX) measurement result of a copper powder having a silver coating layer prepared according to Comparative Example 7. to be. In FIG. 4A, the copper powder peak inside the particles can be confirmed, but the silver peak on the surface of the particles was analyzed in a small amount. 4 (c) and 4 (d), it was confirmed that the non-uniform silver coating layer grew excessively on the surface of the particles of copper powder, resulting in thick silver peaks on the surface of the particles. On the other hand, in Figure 4 (b) it was confirmed that a uniform silver coating layer was formed on the surface of the copper powder particles.
도 5는 상기 실시예 1 및 비교예 8 내지 비교예 10에 따라 제조된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진으로, 도 5(a)는 실시예 1, 도 5(b)는 비교예 8, 도 5(c)는 비교예 9, 도 5(d)는 비교예 10에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말을 나타낸 것이다.5 is a scanning electron microscope (SEM) image of the copper powder prepared according to Example 1 and Comparative Examples 8 to 10, Figure 5 (a) is Example 1, Figure 5 (b) is Comparative Example 8 5 (c) shows a comparative example 9 and FIG. 5 (d) shows a copper powder having a silver coating layer prepared according to Comparative Example 10.
도 5(a) 내지 도 5(d)를 통해 상기 제 1용액과 상기 제 2용액을 혼합하여 반응시키는데 있어서, 반응온도가 상승할수록 석출되는 은의 양이 증가하고, 구리분말 입자 표면의 은 코팅층이 거칠어지는 것을 확인할 수 있었다. 도 5(b)에서는 은 코팅층이 비교적 균일하였으나 구리분말에 흡착되지 못한 은이 소량 검출되었고, 도 5(c)에서는 구리분말 입자 표면의 은 코팅층이 불균일하게 형성되었음을 확인할 수 있었다. 도 5(d)에서도 온도가 상승할수록 석출 반응의 가속화를 가져와 은 코팅층이 불균일하게 형성되었음을 확인할 수 있었다. 반면, 도 5(a)에서는 구리분말 입자 표면에 균일한 은 코팅층이 형성되었음을 확인할 수 있었다. 5 (a) to 5 (d), in the reaction of mixing the first solution and the second solution, the amount of silver precipitated increases as the reaction temperature increases, and the silver coating layer on the surface of the copper powder particles The roughening was confirmed. In FIG. 5 (b), a small amount of silver that was relatively uniform but was not adsorbed onto the copper powder was detected. In FIG. 5 (c), it was confirmed that the silver coating layer on the surface of the copper powder particles was formed unevenly. Also in FIG. 5 (d), as the temperature was increased, the precipitation reaction was accelerated to confirm that the silver coating layer was unevenly formed. On the other hand, in Figure 5 (a) it was confirmed that a uniform silver coating layer was formed on the surface of the copper powder particles.
도 6은 상기 실시예 1 및 실시예 2와 비교예 11 및 비교예 12에 따라 제조된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진으로, 도 6(a)는 비교예 11, 도 6(b)는 비교예 12, 도 6(c)는 실시예 1, 도 5(d)는 실시예 2에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말을 나타낸 것이다.6 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of the copper powder prepared according to Examples 1 and 2, Comparative Examples 11 and 12, and FIG. 6 (a) is Comparative Example 11 and FIG. 6 (b). Comparative Example 12, Figure 6 (c) is Example 1, Figure 5 (d) shows a copper powder formed with a silver coating layer prepared according to Example 2.
도 6(a) 내지 도 6(d)를 통해 상기 제 1용액과 상기 제 2용액의 혼합액에서 구리분말의 첨가량이 4 중량%인 도 6(a)와 구리분말의 첨가량이 8 중량%인 도 6(b)에서는 상대적으로 많은 비율의 질산은 수용액으로 인하여 구리분말 입자 표면에 코팅되고 남은 은이 용액 중에 과량으로 석출되었다. 반면, 구리분말의 첨가량이 12 중량%인 도 6(c)와 구리분말의 첨가량이 16 중량%인 도 6(d)에서는 구리분말 입자 표면에 코팅층이 균일하게 형성되었음을 확인할 수 있었다. 6 (a) to 6 (d), the addition amount of copper powder in the mixed solution of the first solution and the second solution is 4% by weight. In 6 (b), a relatively large proportion of silver nitrate was coated on the surface of the copper powder particles due to the aqueous solution, and the remaining silver was precipitated in the solution. On the other hand, in Figure 6 (c) of the addition amount of the copper powder and Figure 6 (d) of the addition amount of the copper powder was found that the coating layer was uniformly formed on the surface of the copper powder particles.
도 1은 본 발명에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진으로, 도 1(a)는 비교예 1, 도 1(b)는 비교예 2, 도 1(c)는 실시예 1, 도 1(d)는 비교예 3에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진이다.1 is a scanning electron microscope (SEM) image of a copper powder formed with a silver coating layer prepared according to the present invention, Figure 1 (a) is Comparative Example 1, Figure 1 (b) is Comparative Example 2, Figure 1 (c) Example 1, Figure 1 (d) is a scanning electron microscope (SEM) photograph of the copper powder is formed silver coating layer prepared according to Comparative Example 3.
도 2는 본 발명에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진으로, 도 2(a)는 실시예 1, 도 2(b)는 비교예 4에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진이다.FIG. 2 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of a copper powder having a silver coating layer prepared according to the present invention. FIG. 2 (a) is Example 1 and FIG. 2 (b) is a silver coating layer prepared according to Comparative Example 4. It is a scanning electron microscope (SEM) photograph of this formed copper powder.
도 3은 본 발명에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진으로, 도 3(a)는 비교예 5, 도 3(b)는 실시예 1, 도 3(c)는 비교예 6, 도 3(d)는 비교예 7에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진이다.3 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of a copper powder having a silver coating layer prepared according to the present invention. FIG. 3 (a) is Comparative Example 5 and FIG. 3 (b) is Example 1 and FIG. 3 (c). Figure 6 (d), Figure 3 (d) is a scanning electron microscope (SEM) photograph of the copper powder is formed silver coating layer prepared according to Comparative Example 7.
도 4는 본 발명에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 에너지 분산형 X선 분광기(EDX) 측정 결과로, 도 4(a)는 비교예 5, 도 4(b)는 실시예 1, 도 4(c)는 비교예 6, 도 4(d)는 비교예 7에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 에너지 분산형 X선 분광기(EDX) 측정 결과이다.FIG. 4 is an energy dispersive X-ray spectrometer (EDX) measurement result of a copper powder having a silver coating layer prepared according to the present invention. FIG. 4 (a) is Comparative Example 5 and FIG. 4 (c) is a comparative example 6, Figure 4 (d) is an energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX) measurement results of the copper powder with a silver coating layer prepared according to Comparative Example 7.
도 5는 본 발명에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진으로, 도 5(a)는 실시예 1, 도 5(b)는 비교예 8, 도 5(c)는 비교예 9, 도 5(d)는 비교예 10에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진이다.FIG. 5 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of a copper powder having a silver coating layer prepared according to the present invention. FIG. 5 (a) is Example 1, and FIG. 5 (b) is Comparative Example 8 and FIG. 5 (c). 5 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of a copper powder having a silver coating layer prepared according to Comparative Example 10. FIG.
도 6은 본 발명에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진으로, 도 6(a)는 비교예 11, 도 6(b)는 비교예 12, 도 6(c)는 실시예 1, 도 6(d)는 실시예 2에 따라 제조된 은 코팅층이 형성된 구리분말의 주사전자현미경(SEM) 사진이다.FIG. 6 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of a copper powder having a silver coating layer prepared according to the present invention. FIG. 6 (a) is Comparative Example 11 and FIG. 6 (b) is Comparative Example 12 and FIG. 6 (c). 6 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of a copper powder having a silver coating layer prepared according to Example 2. FIG.
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090004388A KR101078253B1 (en) | 2009-01-20 | 2009-01-20 | Preparation of Ag coated Cu powder by electroless plating method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090004388A KR101078253B1 (en) | 2009-01-20 | 2009-01-20 | Preparation of Ag coated Cu powder by electroless plating method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100085215A true KR20100085215A (en) | 2010-07-29 |
KR101078253B1 KR101078253B1 (en) | 2011-10-31 |
Family
ID=42644156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090004388A KR101078253B1 (en) | 2009-01-20 | 2009-01-20 | Preparation of Ag coated Cu powder by electroless plating method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101078253B1 (en) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140147579A (en) * | 2013-06-20 | 2014-12-30 | 주식회사 엘지화학 | Metal particles of core-shell structure and method for manufacturing the same |
KR101499141B1 (en) * | 2013-09-06 | 2015-03-11 | 동아대학교 산학협력단 | Conductive Powder, Method for Manufacturing the Same, and Conductive Paste Using the Conductive Powder |
WO2015194850A1 (en) * | 2014-06-19 | 2015-12-23 | (주)바이오니아 | Silver-coated copper nanowire and preparation method therefor |
CN111922356A (en) * | 2020-08-21 | 2020-11-13 | 山东建邦胶体材料有限公司 | Microcrystalline silver powder with nano-silver surface structure and preparation method thereof |
WO2021010741A1 (en) * | 2019-07-15 | 2021-01-21 | 파워팩 주식회사 | Method for preparing silver-copper mixed powder having core-shell structure by using wet process |
KR102271692B1 (en) * | 2020-08-10 | 2021-07-02 | 엑시노 주식회사 | Method for fabricating Ag-coated Cu powder |
WO2021180029A1 (en) * | 2020-03-10 | 2021-09-16 | 哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院) | Silver-coated copper powder, preparation method therefor, and electronic paste |
WO2021221202A1 (en) * | 2020-04-29 | 2021-11-04 | 주식회사 씨앤씨머티리얼즈 | Metal particles comprising silver coating layer |
CN114433839A (en) * | 2022-01-20 | 2022-05-06 | 安徽壹石通材料科技股份有限公司 | Method for preparing silver-coated copper powder by electroplating |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101483733B1 (en) | 2012-09-26 | 2015-01-16 | 김상호 | Conductive powder and menufacturing method of thereof |
KR101462865B1 (en) * | 2012-09-26 | 2014-11-18 | 성균관대학교산학협력단 | Method for making silver coated copper powder by galvanic displacement reaction |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100564036B1 (en) | 2003-12-23 | 2006-03-24 | (주)창성 | Method for Manufacturing of silver powder using co-reducing agent |
-
2009
- 2009-01-20 KR KR1020090004388A patent/KR101078253B1/en active IP Right Grant
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140147579A (en) * | 2013-06-20 | 2014-12-30 | 주식회사 엘지화학 | Metal particles of core-shell structure and method for manufacturing the same |
KR101499141B1 (en) * | 2013-09-06 | 2015-03-11 | 동아대학교 산학협력단 | Conductive Powder, Method for Manufacturing the Same, and Conductive Paste Using the Conductive Powder |
WO2015194850A1 (en) * | 2014-06-19 | 2015-12-23 | (주)바이오니아 | Silver-coated copper nanowire and preparation method therefor |
CN106536094A (en) * | 2014-06-19 | 2017-03-22 | 柏业公司 | Silver-coated copper nanowire and preparation method therefor |
CN112543686A (en) * | 2019-07-15 | 2021-03-23 | 帕沃派株式会社 | Preparation method of silver-copper mixed powder with core-shell structure by using wet process |
WO2021010741A1 (en) * | 2019-07-15 | 2021-01-21 | 파워팩 주식회사 | Method for preparing silver-copper mixed powder having core-shell structure by using wet process |
EP3789138A4 (en) * | 2019-07-15 | 2021-08-18 | Powerpack Co., Ltd | Method for preparing silver-copper mixed powder having core-shell structure by using wet process |
WO2021180029A1 (en) * | 2020-03-10 | 2021-09-16 | 哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院) | Silver-coated copper powder, preparation method therefor, and electronic paste |
WO2021221202A1 (en) * | 2020-04-29 | 2021-11-04 | 주식회사 씨앤씨머티리얼즈 | Metal particles comprising silver coating layer |
KR102271692B1 (en) * | 2020-08-10 | 2021-07-02 | 엑시노 주식회사 | Method for fabricating Ag-coated Cu powder |
CN111922356A (en) * | 2020-08-21 | 2020-11-13 | 山东建邦胶体材料有限公司 | Microcrystalline silver powder with nano-silver surface structure and preparation method thereof |
CN111922356B (en) * | 2020-08-21 | 2021-09-14 | 山东建邦胶体材料有限公司 | Microcrystalline silver powder with nano-silver surface structure and preparation method thereof |
CN114433839A (en) * | 2022-01-20 | 2022-05-06 | 安徽壹石通材料科技股份有限公司 | Method for preparing silver-coated copper powder by electroplating |
CN114433839B (en) * | 2022-01-20 | 2024-03-19 | 安徽壹石通材料科技股份有限公司 | Method for preparing silver-coated copper powder by electroplating |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101078253B1 (en) | 2011-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101078253B1 (en) | Preparation of Ag coated Cu powder by electroless plating method | |
JP2022116130A (en) | Method for manufacturing silver-coated copper nanowire having core-shell structure by using chemical reduction method | |
CN103128308B (en) | Method for preparing compact silver-coated copper powder by using one pot method | |
WO2014084021A1 (en) | Silver-coated copper powder, and method for producing same | |
CN109423637B (en) | Preparation method of high-conductivity material | |
US20170140846A1 (en) | Silver-coated copper nanowire and preparation method therefor | |
CN100467169C (en) | Prepn process of composite Cu-Ag metal powder in core-shell structure | |
CN110997198B (en) | Silver particles and method for producing same | |
CN108610015B (en) | Preparation method of microwave absorbing material based on coal gangue | |
CN107498064A (en) | A kind of preparation method of high temperature electric slurry ultra-fine copper galactic nucleus shell composite powder | |
JP6210723B2 (en) | Silver-coated nickel particles and method for producing the same | |
CN108675765B (en) | Preparation method of microwave absorbing material based on coal gangue | |
TW201210944A (en) | Silver particles and a process for making them | |
JP5142891B2 (en) | Cuprous oxide powder and method for producing the same | |
CN105290419B (en) | Herring-bone form nuclear shell structure nano monel powder and preparation method thereof | |
CN104439271A (en) | Method for preparing multilayer metal complex having excellent surface properties | |
KR101061841B1 (en) | Method for producing monodisperse spherical silver powder by chemical reduction method | |
CN101974740B (en) | Preparation method of zinc oxide whisker loaded copper and silver | |
JP6549924B2 (en) | Silver-coated copper powder and method for producing the same | |
CN108213415B (en) | Production method of corrosion-resistant high-temperature-resistant silver-copper coated powder | |
Kim et al. | Fabrication of Electrically Conductive Nickel–Silver Bimetallic Particles via Polydopamine Coating | |
KR20160099513A (en) | Method of Preapring Silver Coated Copper Nanowire | |
US20180264548A1 (en) | Silver Coated Copper Flakes and Methods of Their Manufacture | |
CN110385444B (en) | Nano copper wire and method for preparing nano copper wire by wet chemical method | |
KR20100100210A (en) | Preparation method of silver powder by using sodium hypophosphite |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140930 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151001 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160928 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170927 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180921 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190926 Year of fee payment: 9 |