KR20100078023A - Reticle changer unit of photolithography equipment - Google Patents

Reticle changer unit of photolithography equipment Download PDF

Info

Publication number
KR20100078023A
KR20100078023A KR1020080136154A KR20080136154A KR20100078023A KR 20100078023 A KR20100078023 A KR 20100078023A KR 1020080136154 A KR1020080136154 A KR 1020080136154A KR 20080136154 A KR20080136154 A KR 20080136154A KR 20100078023 A KR20100078023 A KR 20100078023A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
reticle
unit
rotation
cleaning
nitrogen
Prior art date
Application number
KR1020080136154A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
최창호
Original Assignee
주식회사 동부하이텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 동부하이텍 filed Critical 주식회사 동부하이텍
Priority to KR1020080136154A priority Critical patent/KR20100078023A/en
Publication of KR20100078023A publication Critical patent/KR20100078023A/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605—Workpiece metrology
    • G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
    • G03F7/7065—Defects, e.g. optical inspection of patterned layer for defects
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70933—Purge, e.g. exchanging fluid or gas to remove pollutants

Abstract

PURPOSE: A reticle changer unit of photolithography equipment is provided to simplify exposure equipment by performing a reticle rotation function and a reticle cleaning function at the same time. CONSTITUTION: A rotation cleaning unit(160) is arranged between first and second model case units(140,150). The rotation cleaning unit comprises a sprayed module, a rotation chuck, a motor, and a discharge system. The sprayed module sprays nitrogen on the top side of a reticle. A rotation chuck supports the reticle. The motor rotates the rotation chuck. The exhaust system prevents the particle from being scattered. A PPD(Pellicle Particle Detector) unit(170) confirms whether the reticle cleaning was normally completed or not.

Description

노광장비의 레티클 체인져 유닛{reticle changer unit of photolithography equipment}Reticle changer unit of photolithography equipment

본 발명은 노광장비의 레티클 체인져 유닛에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 노광설비중 레티클 교체를 담당하는 레티클 체인져 유닛에 관한 것이다.The present invention relates to a reticle changer unit of exposure equipment, and more particularly, to a reticle changer unit that is responsible for replacing the reticle in the exposure equipment.

포토공정에서는 현재 두개 회사의 노광장비를 사용하고 있으며 공정진행시에 필요한 레티클은 두회사 노공장비에서 동일하게 사용되고 있다. 두 회사의 레티클 케이스는 형태가 서로 다르기 때문에 레티클 체인져(레티클 체인져)라는 장비를 사용하여 레티클을 노광장비에 맞는 레티클 케이스로 옮기는 작업을 한다.The photo process is currently using two companies' exposure equipment, and the reticle needed for the process is used in the same way. Since the reticle cases of the two companies are different in shape, the reticle changer is used to move the reticle to the reticle case for the exposure equipment.

도 1은 종래 레티클 이송장치를 나타내는 간략도이다. 레티클 이송장치(100)는 모델별 케이스를 탑재하는 제1모델 케이스 유닛(140) 및 제2모델 케이스 유닛(150)가 있으며 각 유닛에 이동 전에 레티클을 180도 회전시켜 주는 로테이션 유닛(ROTATION STAGE : 120) 및 레티클을 이송하기 위한 로봇(110)이 위치한다. 1 is a simplified view showing a conventional reticle transfer device. The reticle transfer device 100 includes a first model case unit 140 and a second model case unit 150 for mounting a case for each model, and a rotation unit for rotating the reticle 180 degrees before moving to each unit. 120 and the robot 110 for transferring the reticle is located.

또한, 레티클 이송장치(100)에는 레티클의 상면(Glass면)을 클리닝 할 수 있는 질소 클리닝 유닛(N2 CLEANING STAGE :130)가 설치되어 있다.In addition, the reticle conveying apparatus 100 is provided with a nitrogen cleaning unit (N2 CLEANING STAGE: 130) capable of cleaning the upper surface (glass surface) of the reticle.

따라서 레티클 체인져의 또 하나 기능으로 노광장비에서 공정진행 전에 레티 클 상면에 파티클 검사를 실시하여 파티클 검사 불량인 경우에 노광장비에서 레티클을 언로딩(unload)하여 레티클 체인져에서 레티클 상면에 대해서 질소(N2)를 사용하여 레티클 상면을 클리닝하는 기능이 있다.Therefore, as a function of the reticle changer, particle inspection is performed on the upper surface of the reticle before the process is performed in the exposure equipment. If the particle inspection is defective, the reticle is unloaded from the exposure equipment and nitrogen (N2) is applied to the upper surface of the reticle changer. ) To clean the top of the reticle.

도 2는 질소 클리닝 유닛(130)에서 레티클(200)을 이송하는 로봇 암(111)에 고정된 상태에서 레티클 상면을 클리닝하는 공정을 보여주는 간략도로서, 레티클(200) 상면에 파티클이 있을 경우 질소노즐(131)을 출구로 질소를 분사하여 파티클을 제거한다. 2 is a simplified view showing a process of cleaning the upper surface of the reticle in a state fixed to the robot arm 111 for transporting the reticle 200 in the nitrogen cleaning unit 130, nitrogen when there is a particle on the upper surface of the reticle 200 Nitrogen is injected into the nozzle 131 to the outlet to remove particles.

그러나 상기의 레티클을 노광장비에 맞는 레티클 케이스로 옮기는 작업 또는 질소(N2)를 사용하여 레티클 상면을 클리닝하는 기능을 동시에 진행할 수 없으므로 각 기능별로 진행해야 하는 불편한 점이 있다.However, there is an inconvenience in that the function of moving the reticle to the reticle case suitable for the exposure apparatus or the function of cleaning the upper surface of the reticle using nitrogen (N2) cannot be performed at the same time.

또한 레티클 상면 클리닝시에 질소 노즐(130)에서 질소를 분사하여 레티클(200) 상면을 클리닝하지만 파티클을 배기할 수 있는 기능이 없음으로 재오염을 유발할 수 있다. 레티클 상면 중앙부분만 클리닝하기 때문에 레티클 상면 가장자리부분은 깨끗하게 클리닝되지 않는다는 문제점이 있다. 또한 클리닝 완료 후 클리닝이 정상적으로 완료되었는지 확인할 방법이 없으므로 노광장비의 PPD(Pellicle Particle Detector) 박스에서 파티클 검사를 실시하므로 많은 시간이 소요되는 문제점이 있다.In addition, the upper surface of the reticle 200 is cleaned by spraying nitrogen from the nitrogen nozzle 130 when the upper surface of the reticle is cleaned, but re-contamination may be caused because there is no function to exhaust the particles. Since only the center portion of the reticle upper surface is cleaned, there is a problem that the edge of the upper surface of the reticle surface is not cleaned. In addition, since there is no method of checking whether the cleaning is normally completed after the completion of cleaning, the particle inspection is performed in the PPD box of the exposure equipment, which causes a lot of time.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 레티클 이송 및 클리닝을 동시에 진행하는 레티클 체인져 유닛을 제공함에 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide a reticle changer unit that performs reticle transfer and cleaning at the same time.

본 발명의 또 다른 목적은 클리닝 후 파티클 날림을 방지할 수 있으며, 클리닝이 정상적으로 완료되었는지 확인 가능한 레티클 체인져 유닛을 제공함에 그 목적이 있다.Still another object of the present invention is to provide a reticle changer unit which can prevent particle blowing after cleaning and can check whether cleaning is completed normally.

상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 노광장비의 레티클 체인져 유닛은 레티클 교체 및 레티클 상면을 클리닝 기능을 갖는 노광장비의 레티클 체인져 유닛에 있어서, 제1모델 케이스 유닛, 제2모델 케이스 유닛, 상기 제1모델 과 제2모델 케이스 유닛 사이에 위치하여 레티클을 180도 회전시켜주기 위한 로테이션 기능과 질소 분사에 의하여 레티클을 클리닝하는 기능을 동시에 사용할 수 있도록 하는 로테이션 앤 클리닝 유닛, 및 레티클 클리닝이 정상적으로 되어 있는지 확인하는 PPD 유닛을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The reticle changer unit of the exposure apparatus of the present invention for realizing the object as described above, in the reticle changer unit of the exposure equipment having a reticle replacement and cleaning the upper surface of the reticle, the first model case unit, the second model case unit, A rotation and cleaning unit positioned between the first model and the second model case unit to simultaneously use a rotation function for rotating the reticle 180 degrees and a function for cleaning the reticle by nitrogen injection, and the reticle cleaning is normally performed. It is characterized in that it comprises a PPD unit for confirming that.

또한 상기 로테이션 앤 클리닝 유닛은 레티클 상면 전부분에 걸쳐 질소를 분사하기 위한 분사모듈, 상기 레티클을 지지하는 로테이션 척, 상기 로테이션 척을 회전시키기기 위한 세타모터, 상기 분사모듈, 로테이션 척 및 세타모터를 제어하기 위한 제어부 및 파티클 날림을 방지하기 위한 배기 시스템을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. The rotation and cleaning unit may further include an injection module for injecting nitrogen over the entire upper surface of the reticle, a rotation chuck supporting the reticle, a theta motor for rotating the rotation chuck, the injection module, the rotation chuck and theta motor. It characterized in that it comprises a control unit for controlling and an exhaust system for preventing particle blowing.

또한 상기 배기 시스템은 상기 로테이션 앤 클리닝 유닛의 하부에 위치하며 파티클을 외부로 배출하기 위한 배기덕 및 배기 시스템의 동작 또는 정지시킬 수 있도록 하기 위한 배기 시스템 컨트롤부를 이루어지는 것을 특징으로 한다. In addition, the exhaust system is located under the rotation and cleaning unit, it characterized in that the exhaust duct for discharging the particles to the outside and the exhaust system control unit for enabling the operation or stop of the exhaust system.

본 발명에 따른 노광장비의 레티클 체인져 유닛에 의하면, 레티클 로테이션기능과 클리닝기능을 동시에 진행할 수 있음으로 장비의 구성이 단순해지며, 노광장비에서 파티클 검사를 실시하지 않고 스킵이 가능하기 때문에 생산성 향상에 도움이 된다.According to the reticle changer unit of the exposure apparatus according to the present invention, since the reticle rotation function and the cleaning function can be performed at the same time, the configuration of the equipment is simplified, and the exposure equipment can be skipped without performing particle inspection, thereby improving productivity. It helps.

또한 질소 노즐변경으로 레티클 상면 전부에 질소가스를 분사함으로써 클리닝능력이 향상되며, 레티클 체인져 유닛 내에 PPD 유닛을 장착하여 클리닝 정도를 확인함으로써 노광장비에서 레티클상의 파티클 검사시 소요되는 시간을 단축하는 장점이 있다.In addition, by changing the nitrogen nozzle, the cleaning ability is improved by spraying nitrogen gas on the entire surface of the reticle, and the PPD unit is installed in the reticle changer unit to check the cleaning degree, which reduces the time required for particle inspection on the reticle in the exposure equipment. have.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the configuration and operation of the preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 로테이션 기능과 클리닝 기능을 동시에 사용할 수 있는 노광장비의 레티클 체인져 유닛을 나타내는 간략도이다. 3 is a simplified diagram illustrating a reticle changer unit of an exposure apparatus capable of simultaneously using a rotation function and a cleaning function according to the present invention.

본 발명은 제1모델 케이스 유닛(140), 제2모델 케이스 유닛(150), 상기 제1모델 과 제2모델 케이스 유닛 사이에 위치하여 레티클(200)을 180도 회전시켜주기 위한 로테이션 기능과 질소 분사에 의하여 레티클을 클리닝하는 기능을 동시에 사용할 수 있도록 하는 로테이션 앤 클리닝 유닛(160), 및 레티클 클리닝이 정상적으로 되어 있는지 확인하는 PPD 유닛(170)을 포함한다.The present invention is located between the first model case unit 140, the second model case unit 150, the first model and the second model case unit is a rotation function and nitrogen for rotating the reticle 200 180 degrees Rotation and cleaning unit 160 to enable the function of cleaning the reticle by spraying at the same time, and PPD unit 170 to check whether the reticle cleaning is normal.

레티클을 180도 회전시켜주기 위한 로테이션 기능과 질소 분사에 의하여 레티클을 클리닝하는 기능을 동시에 사용할 수 있도록 제1모델 케이스 유닛(140) 및 제2모델 케이스 유닛(150) 중간에 로테이션 앤 클리닝 유닛(ROTATION & CLEAN UNIT : 160)이 위치하도록 만들어서 상기 두 가지 기능을 한번에 사용할 수 있도록 하였다. 또한 PPD 유닛(170)을 본 발명의 레티클 체인져 유닛을 장착하여 클리닝이 정상적으로 완료되었는지 확인이 가능하다. Rotation and cleaning unit (ROTATION) between the first model case unit 140 and the second model case unit 150 so that a rotation function for rotating the reticle 180 degrees and a function for cleaning the reticle by nitrogen injection can be used simultaneously. & CLEAN UNIT: 160) so that both functions can be used at once. In addition, it is possible to check whether the cleaning is normally completed by mounting the PPD unit 170 to the reticle changer unit of the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 로테이션 앤 클리닝 유닛(160)을 나타내는 상면도이며, 도 5는 로테이션 앤 클리닝 유닛(160)을 나타내는 측면도이다.4 is a top view showing a rotation and cleaning unit 160 according to the present invention, Figure 5 is a side view showing a rotation and cleaning unit 160.

본 발명의 로테이션 앤 클리닝 유닛은 레티클 상면 전부분에 걸쳐 질소를 분사하기 위한 분사모듈, 레티클(200)을 지지하는 로테이션 척(164), 로테이션 척을 회전시키기기 위한 세타모타(165), 상기 분사모듈, 로테이션 척 및 세타모터를 제어하기 위한 제어부(도시하지는 않음) 및 파티클 날림을 방지하기 위한 배기 시스템을 포함한다. The rotation and cleaning unit of the present invention is an injection module for injecting nitrogen over the entire reticle upper surface, a rotation chuck 164 for supporting the reticle 200, theta motor 165 for rotating the rotation chuck, the injection A control unit (not shown) for controlling the module, the rotation chuck and theta motor, and an exhaust system for preventing particle blowing.

도 4에서 도시한 바와 같이 중앙에 레티클(200)이 위치하며 상기 레티클(200) 상면 전부분에 걸쳐 질소를 분사하기 위하여 질소노즐(161)의 구동방향을 결정하는 질소 노즐가이드(162a,162b)가 상기 레티클 주변 좌,우에 위치한다. As shown in FIG. 4, the reticle 200 is positioned at the center and nitrogen nozzle guides 162a and 162b for determining the driving direction of the nitrogen nozzle 161 to inject nitrogen over the entire upper surface of the reticle 200. Is located on the left and right around the reticle.

상기 질소노즐(161)은 레티클 상면에 질소를 분사하기 위하여 레티클 크기에 따른 복수의 분사구를 가지고 있다. 질소노즐 포스트는(163)은 상기 질소노즐가이드와 상기 질소노즐을 연결하는 역할을 한다.The nitrogen nozzle 161 has a plurality of injection holes according to the size of the reticle in order to inject nitrogen to the upper surface of the reticle. The nitrogen nozzle post 163 serves to connect the nitrogen nozzle guide and the nitrogen nozzle.

또한 도 5에서 보듯이 레티클(200) 하면에는 로테이션 척(164)이 위치하며 상기 로테이션 척(164)은 세타모타(165)에 의하여 180도 회전함으로써 상기 레티클(200)을 로테이션하게 된다. In addition, as shown in FIG. 5, the rotation chuck 164 is positioned on the bottom surface of the reticle 200, and the rotation chuck 164 rotates by 180 degrees by the theta motor 165 to rotate the reticle 200.

로테이션 앤 클리닝 유닛(160)은 상기 레티클(200) 하부에 배기 시스템을 장착하여 레티클 이송시 발생하는 파티클을 진공으로 흡입하여 외부로 배출한다. 상기 배기 시스템은 파티클을 외부로 배출하기 위한 배기덕(166) 및 배기 시스템의 동작 또는 정지시킬 수 있도록 하기 위한 배기 시스템 컨트롤부(167)을 포함하여 이루어져 있다.The rotation and cleaning unit 160 mounts an exhaust system under the reticle 200 to suck particles generated during reticle transfer into a vacuum and discharge them to the outside. The exhaust system includes an exhaust duct 166 for discharging particles to the outside and an exhaust system control unit 167 for enabling the operation or stopping of the exhaust system.

따라서 레티클 로테이션기능과 클리닝기능을 동시에 진행할 수 있음으로 장비의 구성이 단순해지며, 노광장비에서 파티클 검사를 실시하지 않고 스킵이 가능하기 때문에 생산성 향상에 도움이 된다.Therefore, the reticle rotation function and the cleaning function can be performed at the same time, thereby simplifying the configuration of the equipment, and it is possible to improve the productivity since the skip can be performed without performing particle inspection on the exposure equipment.

또한 질소 노즐변경으로 레티클 상면 전부에 질소가스를 분사함으로써 클리닝 능력이 향상되며, 레티클 체인져 유닛 내에 PPD 유닛을 장착하여 클리닝 정도를 확인함으로써 노광장비에서 레티클상의 파티클 검사시 소요되는 시간을 단축하는 장점이 있다.Also, by changing the nitrogen nozzle, the cleaning ability is improved by spraying nitrogen gas on the entire surface of the reticle, and the PPD unit is installed in the reticle changer unit to check the cleaning degree, which reduces the time required for particle inspection on the reticle in the exposure equipment. have.

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 아니하는 범위 내에서 다양하게 수정·변형되어 실시될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명한 것이다.It is apparent to those skilled in the art that the present invention is not limited to the above embodiments and can be practiced in various ways without departing from the technical spirit of the present invention. will be.

도 1은 종래 레티클 이송장치를 나타내는 간략도이다.1 is a simplified view showing a conventional reticle transfer device.

도 2는 종래 질소 클리닝 유닛에서 레티클을 이송하는 로봇 암에 고정된 상태에서 레티클 상면을 클리닝하는 공정을 보여주는 간략도이다.2 is a simplified view showing a process of cleaning the upper surface of the reticle in a state fixed to the robot arm for transporting the reticle in the conventional nitrogen cleaning unit.

도 3은 본 발명에 따른 로테이션 기능과 클리닝 기능을 동시에 사용할 수 있는 노광장비의 레티클 체인져 유닛을 나타내는 간략도이다. 3 is a simplified diagram illustrating a reticle changer unit of an exposure apparatus capable of simultaneously using a rotation function and a cleaning function according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 로테이션 앤 클리닝 유닛(160)을 나타내는 상면도이며, 도 5는 로테이션 앤 클리닝 유닛(160)을 나타내는 측면도이다.4 is a top view showing a rotation and cleaning unit 160 according to the present invention, Figure 5 is a side view showing a rotation and cleaning unit 160.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100:레티클 체인져 유닛 110:로봇100: reticle changer unit 110: robot

140,150:모델 케이스 유닛 160:로테이션 앤 클리닝 유닛140,150: Model case unit 160: Rotation and cleaning unit

161:질소노즐 162:질소노즐가이드161: nitrogen nozzle 162: nitrogen nozzle guide

163:질소노즐 포스트 164:웨이퍼 척163: Nitrogen nozzle post 164: Wafer chuck

165:세타모타 166:배기 덕165: Setamoto 166: Exhaust Duck

167:배기 시스템 컨트롤러부 170:PPD 유닛167: Exhaust system controller 170: PPD unit

Claims (4)

레티클 교체 및 레티클 상면을 클리닝 기능을 갖는 노광장비의 레티클 체인져 유닛에 있어서,In the reticle changer unit of the exposure equipment having a reticle replacement and cleaning the upper surface of the reticle, 제1모델 케이스 유닛, 제2모델 케이스 유닛,The first model case unit, the second model case unit, 상기 제1모델 과 제2모델 케이스 유닛 사이에 위치하여 레티클을 180도 회전시켜주기 위한 로테이션 기능과 질소 분사에 의하여 레티클을 클리닝하는 기능을 동시에 사용할 수 있도록 하는 로테이션 앤 클리닝 유닛, 및A rotation and cleaning unit positioned between the first model and the second model case unit to simultaneously use a rotation function for rotating the reticle 180 degrees and a function for cleaning the reticle by nitrogen injection; 레티클 클리닝이 정상적으로 되어 있는지 확인하는 PPD 유닛을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광장비의 레티클 체인져 유닛.Reticle changer unit of the exposure equipment, characterized in that it comprises a PPD unit for checking whether the reticle cleaning is normal. 제 1항에 있어서, 상기 로테이션 앤 클리닝 유닛은 The method of claim 1, wherein the rotation and cleaning unit 레티클 상면 전부분에 걸쳐 질소를 분사하기 위한 분사모듈,Injection module for injecting nitrogen over the entire surface of the reticle, 상기 레티클을 지지하는 로테이션 척,A rotation chuck supporting the reticle, 상기 로테이션 척을 회전시키기기 위한 세타모터,Theta motor for rotating the rotation chuck, 상기 분사모듈, 로테이션 척 및 세타모터를 제어하기 위한 제어부 및A control unit for controlling the injection module, the rotation chuck and theta motor; 파티클 날림을 방지하기 위한 배기 시스템을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광장비의 레티클 체인져 유닛.Reticle changer unit of the exposure equipment, characterized in that comprises an exhaust system for preventing particle blowing. 제 2항에 있어서, 상기 분사모듈은The method of claim 2, wherein the injection module 레티클 상면에 질소를 분사하기 위하여 레티클 크기에 따른 복수의 분사구가 있는 질소노즐,Nitrogen nozzle with a plurality of injection holes according to the reticle size to inject nitrogen to the reticle upper surface, 상기 분사노즐을 레티클 길이방향으로 이송시키기 위한 질소노즐가이드 및Nitrogen nozzle guide for transferring the injection nozzle in the reticle longitudinal direction and 상기 질소노즐가이드와 상기 질소노즐을 연결하는 질소노즐 포스트를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광장비의 레티클 체인져 유닛. And a nitrogen nozzle post connecting the nitrogen nozzle guide and the nitrogen nozzle to the reticle changer unit of the exposure apparatus. 제 2항에 있어서, 상기 배기 시스템은 The system of claim 2, wherein the exhaust system is 상기 로테이션 앤 클리닝 유닛의 하부에 위치하며 파티클을 외부로 배출하기 위한 배기덕 및 배기 시스템의 동작 또는 정지시킬 수 있도록 하기 위한 배기 시스템 컨트롤부를 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광장비의 레티클 체인져 유닛. Reticle changer unit of the exposure equipment, characterized in that located in the lower portion of the rotation and cleaning unit and the exhaust duct for discharging the particles to the outside and the exhaust system control unit for operating or stopping the exhaust system.
KR1020080136154A 2008-12-30 2008-12-30 Reticle changer unit of photolithography equipment KR20100078023A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080136154A KR20100078023A (en) 2008-12-30 2008-12-30 Reticle changer unit of photolithography equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080136154A KR20100078023A (en) 2008-12-30 2008-12-30 Reticle changer unit of photolithography equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20100078023A true KR20100078023A (en) 2010-07-08

Family

ID=42639306

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080136154A KR20100078023A (en) 2008-12-30 2008-12-30 Reticle changer unit of photolithography equipment

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20100078023A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101332664B1 (en) * 2011-12-28 2013-11-25 엘아이지에이디피 주식회사 Apparatus for cleaning of gas distribution unit

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101332664B1 (en) * 2011-12-28 2013-11-25 엘아이지에이디피 주식회사 Apparatus for cleaning of gas distribution unit

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100886021B1 (en) Solution treatment method and solution treatment unit
JP4398786B2 (en) Coating method and coating apparatus
JP5478586B2 (en) Cleaning device, peeling system, cleaning method, program, and computer storage medium
JP5058848B2 (en) Transport arm cleaning apparatus, transport arm cleaning method, program, and computer storage medium
JP5580806B2 (en) Peeling apparatus, peeling system, peeling method, program, and computer storage medium
JP5829171B2 (en) Peeling system, peeling method, program, and computer storage medium
JP2013033925A (en) Cleaning method, program, computer storage medium, cleaning device, and peeling system
CN102974500B (en) Substrate board treatment and substrate processing method using same
US9165758B2 (en) Peeling system, peeling method, and computer storage medium
JP5726686B2 (en) Liquid processing apparatus and method for controlling liquid processing apparatus
KR20130141616A (en) Release device, release system, release method, and computer storage medium
KR102011519B1 (en) Nozzle cleaning apparatus, coating apparatus, nozzle cleaning method, coating method, and computer storage medium
KR20130064691A (en) Separation apparatus, separation system, separation method and computer storage medium
US7641406B2 (en) Bevel inspection apparatus for substrate processing
CN210270509U (en) Light shield conveying device
JP2012044086A (en) Peeling system, peeling method, program, and computer storage medium
JP5830440B2 (en) Peeling system, peeling method, program, and computer storage medium
JP2013004845A (en) Separation system, separation method, program and computer storage medium
KR20100078023A (en) Reticle changer unit of photolithography equipment
JPH1126547A (en) Wet treatment device
KR100292322B1 (en) Substrate treatment device and substrate transporting method
JP5717803B2 (en) Peeling system, peeling method, program, and computer storage medium
KR20080000084A (en) Device for cleaning of wafer chuck and method for cleaning in the exposure device
CN112346304A (en) Light shield conveying device
JP2014003237A (en) Detachment system, detachment method, program and computer storage medium

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination