KR20100059264A - 가스 배기 장치 - Google Patents
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Abstract
가스 배기 장치는 공정 챔버, 약액 공급부, 배기부를 포함한다. 공정 챔버는 그 내부에 기판을 수용하고, 적어도 하나의 약액을 이용하여 기판에 대하여 공정을 수행하기 위한 공간을 제공하며, 약액 공급부는 공정 챔버에 약액을 공급한다. 배기부는 공정 챔버의 일 측과 연결되어 기판을 대상으로 공정을 수행할 때 약액의 반응에 의하여 발생한 가스를 공정 챔버로부터 배기하기 위한 경로를 제공하며, 그 내부에 가스를 액화시키기 위한 냉각관을 구비한다.
Description
본 발명은 가스 배기 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 공정에 사용된 약액들 간의 반응에 의해 발생된 가스를 배기하기 위한 가스 배기 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자, 평판 표시 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조 공정은 다양한 공정들을 포함한다. 상기 공정들은 식각액을 이용하여 상기 반도체 소자 등을 식각하는 식각 공정, 세정액을 이용하여 상기 반도체 소자 등을 세정하는 세정 공정 등을 포함한다. 한편, 여러 종류의 식각액, 세정액들을 사용하여 상기 공정들이 수행되는 경우, 상기 약액들이 서로 반응하여 흄(fume)과 같은 가스들이 발생된다. 이에 상기 발생된 가스에 의하여 공정의 효율성이 저하된다.
따라서, 반도체 소자의 제조 장치는 상기 발생된 가스를 외부로 배기하기 위한 가스 배기 장치를 포함한다. 상기 가스 배기 장치는 상기 기판에 대한 공정이 이루어지는 공정 챔버의 하부 또는 상기 공정 챔버와 인접하게 위치하여, 상기 가스를 외부로 배기한다.
그러나, 상기 가스 배기 장치에 의해서 상기 공정 챔버 내부의 가스가 배기 로 모두 방출되는 경우, 공정에 사용된 약액의 손실을 초래하여 그만큼 새로운 약액을 약액 공급 장치에 보충해야 하는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 공정 과정에서 발생한 약액 가스를 배기 과정에서 액화시켜 약액 손실을 최소화하기 위한 가스 배기 장치를 제공하는데 있다.
상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 바람직한 실시예에 따른 가스 배기 장치는 공정 챔버, 약액 공급부, 배기부를 포함한다. 상기 공정 챔버는 그 내부에 기판을 수용하고, 적어도 하나의 약액을 이용하여 상기 기판에 대하여 공정을 수행하기 위한 공간을 제공한다. 상기 약액 공급부는 상기 공정 챔버로 약액을 공급한다. 상기 배기부는 상기 공정 챔버의 일 측과 연결되어 상기 기판을 대상으로 공정을 수행할 때 상기 약액의 반응에 의하여 발생한 가스를 상기 공정 챔버로부터 배기하기 위한 경로를 제공하며, 그 내부에 상기 가스를 액화시키기 위한 냉각관을 구비한다.
한편, 상기 기판에 대하여 수행하는 공정은 상기 기판 상에 식각액을 분사하는 식각 공정 또는 상기 기판 상에 세정액을 공급하는 세정 공정일 수 있다.
언급한 바와 같이, 공정에 사용된 약액의 반응에 의하여 발생한 가스를 배기부를 통하여 외부로 배기하는 과정에서 상기 가스를 냉각시켜 약액 공급부로 회수함으로써 약액 손실을 최소화할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 가스 배기 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 이해하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다.
또한, 제1 및 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
실시예
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 배기 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 배기 장치는 공정 챔버(100), 약액 공급부(200) 및 배기부(300)를 포함한다.
상기 공정 챔버(100)는 내부에 기판(500)을 수용하고, 상기 기판(500)을 가공하기 위한 공간을 제공한다. 예를 들어, 약액을 이용한 식각 공정, 세정액을 이용한 세정 공정 등이 상기 공정 챔버(100) 내에서 수행될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 공정 챔버(100) 내에서 약액 등을 사용하는 공정이 수행되는 경우, 둘 이상의 종류를 갖는 약액들이 사용될 수 있다.
상기 약액 공급부(200)는 상기 공정 챔버(100)로 상기 약액을 공급한다. 본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 약액 공급부(200)는 상기 공정 챔버(100)의 일면 과 면접하면서 배치될 수 있다. 상기 약액 공급부(200)는 여러 종류의 약액을 공급하기 위한 복수개의 약액 공급관(210) 및 약액 저장부(220)를 구비할 수 있다. 이 때, 상기 약액 공급부(200)로부터 서로 다른 둘 이상의 약액들이 동시에 또는 순차적으로 공급되는 경우, 상기 약액들이 서로 반응하여 가스가 발생될 수 있다. 따라서, 상기 발생된 가스를 외부로 배출시키기 위하여, 상기 배기부(300)가 구비된다.
상기 배기부(300)는 상기 약액 공급부(200)와 인접하게 배치될 수 있고 배기관을 구비할 수 있다. 상기 배기부(300)는 상기 공정 챔버(100)의 일 측과 연결되어 상기 기판(500)을 대상으로 공정을 수행할 때 상기 약액의 반응에 의하여 발생한 가스를 상기 공정 챔버(100)로부터 배기하기 위한 경로를 제공한다. 상기 배기부(300)는 그 내부에 상기 가스를 액화시키기 위한 냉각관(310)을 구비한다. 상기 냉각관(310)은 코일 형상의 관으로 이루어질 수 있다. 상기 코일 형상의 관 내부로 냉각수를 순환시켜 냉각관(310)을 냉각시킬 수 있다. 냉각된 상기 냉각관(310)은 상기 약액 가스를 액화시킨다.
한편, 상기 냉각관(310)에 의해 액화된 약액은 상기 배기부(300)에 연결 설치된 약액 회수관(400)에 의해 상기 약액 공급부(200)로 회수된다.
이와 같이, 상기 공정 챔버(100)에서 발생한 약액 가스를 상기 배기부(300)의 내부에 설치된 냉각관(310)에 의해 액화시켜 상기 약액 공급부(200)로 회수하고 이를 재사용함으로써, 상기 약액의 손실을 최소화할 수 있다. 따라서, 전체적인 공정의 효율성을 향상시킬 수 있다.
이와 같은 가스 배기 장치에 따르면, 공정 챔버에서 약액의 반응에 의하여 생성된 가스를 배기부 내부에 설치된 냉각관을 이용하여 약액 가스를 액화시켜 약액 공급부로 회수함으로써 약액의 손실을 최소화할 수 있다. 따라서, 전체적인 공정의 효율성을 향상시킬 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 배기 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 공정 챔버 200 : 약액 공급부
210 : 약액 공급관 220 : 약액 저장부
300 : 배기부 310 : 냉각관
400 : 약액 회수관 500 : 기판
Claims (2)
- 그 내부에 기판을 수용하고, 적어도 하나의 약액을 이용하여 상기 기판에 대하여 공정을 수행하기 위한 공정 챔버;상기 공정 챔버로 상기 약액을 공급하기 위한 약액 공급부; 및상기 공정 챔버의 일 측과 연결되어 상기 기판을 대상으로 공정을 수행할 때 상기 약액의 반응에 의하여 발생한 가스를 상기 공정 챔버로부터 배기하기 위한 경로를 제공하며, 그 내부에 상기 가스를 액화시키기 위한 냉각관을 구비하는 배기부를 포함하는 가스 배기 장치.
- 제1 항에 있어서,상기 기판에 대하여 수행하는 공정은 상기 기판 상에 식각액을 분사하는 식각 공정 또는 상기 기판 상에 세정액을 공급하는 세정 공정인 것을 특징으로 하는 가스 배기 장치.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020080117968A KR20100059264A (ko) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 가스 배기 장치 |
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KR1020080117968A KR20100059264A (ko) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 가스 배기 장치 |
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KR1020080117968A KR20100059264A (ko) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 가스 배기 장치 |
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KR (1) | KR20100059264A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20150073681A (ko) * | 2013-12-23 | 2015-07-01 | 세메스 주식회사 | 처리액공급유닛 |
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2008
- 2008-11-26 KR KR1020080117968A patent/KR20100059264A/ko not_active Application Discontinuation
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