KR20100054087A - 전극내장형 마이크로니들 스탬프 및 그 시술방법 - Google Patents

전극내장형 마이크로니들 스탬프 및 그 시술방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 전극내장형 마이크로니들 스탬프 및 그 시술방법에 관한 것으로, 자루형 손잡이의 전단에 니들부가 형성되고, 상기 손잡이와 니들부에는 외부에 대해 절연처리된 양이온 전극이 형성되며, 상기 양이온 전극에 전기적으로 연결된 다수의 마이크로니들을 구비하여 피부에 미세구멍을 시술하면서 약물에 양이온을 인가시키고, 피부에 인가된 음이온과의 이온 결합력을 발생시켜서 피부의 미세구멍 내부로 약물을 침투시키도록 구성된 것이다.
본 발명에 의하면 이온결합력을 이용하여 미세구멍내에 약물 침투를 이루기 때문에, 약물 침투가 깊고, 효과적으로 이루어짐으로써 고가의 약물을 낭비하지 않고, 약물 치료효과를 우수하게 얻을 수 있다. 뿐만 아니라 반달형태와 같은 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프를 이용하게 되면 시술 부위에 미세구멍을 깊게 또는 얇게 형성시킬 수 있고, 얼굴과 같이 곡면부위가 많은 시술부위에 적합하게 사용될 수 있는 우수한 효과가 얻어진다.
전극내장형 마이크로니들 스탬프, MTS 마이크로니들 롤러, 더마 스탬프, 피부복원, 콜라겐

Description

전극내장형 마이크로니들 스탬프 및 그 시술방법{MICRONEEDLE STAMP HAVING AN IONIC TERMINAL THEREIN AND THE TREATMENT METHOD USING THE SAME}
본 발명은 피부에 미세구멍을 형성시키고, 약물을 침투시켜 피부 재생을 유도하는 의료용 마이크로 니들 스탬프 및 그 시술방법에 관한 것으로, 보다 상세히는 피부의 시술부위에 미세구멍을 형성하고 약물을 침투시키는 과정에서 양이온의 약물과 음이온의 피부 사이에서 일어나는 이온 결합력을 이용하여 피부에 약물 침투를 깊숙하고 효과적으로 이룰 수 있도록 된 전극내장형 마이크로니들 스탬프 및 그 시술방법에 관한 것이다.
일반적으로 피부손상에 대하여 피부에 미세한 구멍이 형성되도록 하고, 약물을 미세구멍에 침투시켜 피부의 미세상처를 세포가 복원(WOUND HEALING)하면서 상처 치료과정을 통해 콜라겐 자체 형성을 유도하는 시술방법이 알려져 있다.
이와 같은 피부복원 시술방법은 얼굴의 잔주름, 여드름 자국, 얕은 여드름 흉터, 넓은 모공, 기미, 주근깨, 잡티 같은 색소성 질환, 탄력 없고 노화된 피부, 화상흉터, 수술 후 흉터 및 튼살과 같은 다양한 피부 손상부위에 효과적으로 적용가능하다.
이와 같이 손상된 피부복원에 사용되는 종래의 마이크로니들 롤러(MICRONEEDLE THERAPY SYSTEM ROLLER)(1)가 도 1a 및 도 1b에 도시되어 있다.
이와 같은 종래의 마이크로니들 롤러(1)는 손잡이(10)의 전방에 회전가능하도록 롤러(20)를 장착하고, 상기 롤러(20)에는 마이크로니들(30)을 다수 장착한 구조이다.
이와 같은 종래의 마이크로니들 롤러(1)를 이용한 시술방법은 아래와 같다.
먼저, 피 시술자를 진단하고 시술할 부위를 클린징한다. 그리고 피부에 국소 마취제를 도포하고, 마취제의 흡수를 용이하게 하기 위해 밀봉 랩을 이용하여 시술부위를 감싼 다음, 40분 이상 경과하면 마취제로 닦아낸다.
이는 0.5 내지 1.0 롤러 기준이며, 2.0 롤러의 사용시 리도케인주사 마취 또는 신경마취를 하며, 2.0 롤러의 시술 시에는 수면 마취가 바람직하다.
그리고 다음으로는 피시술자의 피부타입에 맞는 약물을 피부에 도포한 후, 마이크로니들 롤러(1)를 가압하여 도 1b에 도시된 바와 같이, 롤러(20)를 시술부위(S)를 따라서 밀어서 롤러(20)를 회전시켜 가면서 마이크로니들(30)이 시술부위(S)에 미세구멍(40)을 형성하는 니들링(needling) 시술한다.
이와 같은 니들링 시술은 동일 부위를 가로 + 세로 + 사선으로 시술하여 조밀한 형태의 미세구멍(40)이 형성되도록 한다. 또한 다시 약물(drug)을 도포하고, 상기와 같은 패턴으로 니들링 시술하기를 여러 번 약 3~4회 반복한다.
그리고 니들링 시술이 완료되면 피부 진정과 재생을 위해 재생 마스크를 사용하여 피부를 보호하게 된다.
또한 시술 후 빠른 각화주기로 인해, 재생 에센스 크림등을 사용하여 치료한다.
그리고, 이와는 다른 더마 스탬프(DERMASTAMP)(50) 방식이 도 2a에 도시된 바와 같이 제안되어 있다.
이와 같은 종래의 더마 스탬프(50) 방식은 자루형의 손잡이(60)가 구비된 평판형의 스탬프(70)에 다수의 마이크로니들(80)을 일정 간격으로 고정시킨 구조로서, 도 2b에 도시된 바와 같이, 피부의 시술부위(S)에 대하여 수직방향으로 누르듯이 시술하여 미세구멍(90)을 형성한다.
이와 같은 종래의 더마 스탬프(50) 방식을 이용한 시술방법은 아래와 같다.
먼저, 시술받을 피부 부위, 예를 들면 얼굴을 클린싱한다. 그리고 얼굴에 마취연고(5%, 리도카인)를 얼굴 전체에 15g정도 충분히 바른 후, 랩으로 20-30분간 덮는다. 이때 마취연고는 충분한 양을 도포해야 통증을 느끼지 않게 되며 많이 아파하는 부위인 이마, 턱라인, 헤어라인은 더욱더 꼼꼼히 발라주어야 한다.
다음으로는 마취연고를 해면 2장과 냉습포, 즉 차가운 타월로 닦아낸다. 그리고 시술 전에 보릭솜으로 가볍게 얼굴 전체를 닦아준다.
종래의 더마 스탬프(50)를 이용한 시술은 이마-> 눈옆 -> 바깥쪽 볼 -> 눈밑 -> 아랫쪽볼 턱 -> 반대쪽 이마 -> 눈옆 -> 바깥쪽 볼 -> 눈밑-> 아랫쪽 불 턱 -> 코 -> 인중과 같이 얼굴을 다수 영역으로 구획한 다음 차례차례 시술한다.
이때, 시술시 주의 사항으로는 종래의 더마 스탬프(50)를 쥔 반대편 손가락으로 피부를 팽팽하게 하고, 시술을 해야 스탬핑이 잘 되며, 스탬프를 너무 세게 누르면 통증을 느낄 수 있다. 특히, 이마 시술 시에는 가볍게 시술하여야 하며, 너무 세게 하면 통증과 함께 스탬프가 휘는 원인이 될 수 있다.
또한 기본적으로 2 회(pass)를 촘촘히 겹치도록 하여 시술하고, 여드름이 있는 부위, 흉터가 있는 부위, 모공이 넓은 부위, 주름이 있는 부위 등 집중치료가 필요한 부위는 수회 더 반복한다.
또한 시술시 맺히는 정도의 출혈이 있을 수 있으며, 출혈부위는 시술 중간중간에 보릭솜으로 닦아주고, 시술이 끝나고 다시 한번 전체적으로 닦아준다.
그리고 양쪽 입옆의 보조개 부위는 스탬핑이 잘 안되는 부위인데, 이 부위는 손가락 2개 사이로 피부를 밀어주면서 시술한다.
이와 같은 종래의 더마 스탬프(50)를 이용한 시술 방식은 스탬핑을 통해 피지 및 농의 배출이 이루어질 수 있고, 여드름의 원인이 되는 모공의 각질제거가 가능하다. 또한 스탬핑을 통해 각질순환이 빠르게 됨으로써 여드름의 치료 및 재발을 방지할 수 있으며, 스탬핑을 통해 각종 상처치유 과정에서 분비되는 성장팩터(Growth Factors) 및 씨토킨(Cytokines)에 의한 염증의 감소, 피지샘에서 피지생성의 감소와 같은 유익한 효과를 얻을 수 있다.
그러나 이와 같은 MTS 마이크로니들 롤러(1)와 더마 스탬프(50)를 이용한 시술방법에서 미세구멍(40)(90)을 형성한 니들링 시술 다음에는 약물도포 및 주입이 이루어지는데, 이때에는 공기가 최대한 안들어가게 3CC 주사기를 이용하여, 약물 예를 들면 MGF 2CC를 뽑아 준비한 후, 이마의 반 정도 크기만큼 스탬핑하고 보릭솜으로 피를 닦아낸 후 도포해주며 손으로 문질러서 미세구멍(40)(90)에 흡수시키며, 다시 같은 크기만큼 스탬핑하고 약물을 도포함으로써 흡수율을 높이고자 하는 것이었다.
그러나 이와 같은 종래의 약물 도포및 주입방식은 여전히 시술부위의 미세구멍 내부에 깊숙히 약물이 침투하지 못하여서 고가의 약물이 낭비되는 문제점과 더불어 약물 치료효과가 낮아지는 문제점을 갖는 것이었다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위한 것으로서, 그 목적은 피부의 시술부위에 미세구멍을 형성하고 약물을 침투시키는 과정에서 약물과 피부 사이의 이온결합력을 이용하여 미세구멍내에 약물의 침투가 깊고, 효과적으로 이루어짐으로써 고가의 약물을 낭비하지 않고, 약물 치료효과를 우수하게 얻을 수 있도록 된 전극내장형 마이크로니들 스탬프 및 그 시술방법을 제공함에 있다.
그리고 본 발명의 다른 목적은 피부를 기준으로 스탬프를 롤링하면서 누룰 수 있게 되어 필요한 부위에 미세구멍을 깊게 또는 얇게 형성시킬 수 있고, 동시에 약물과 피부 사이의 이온결합력을 이용하여 미세구멍으로 효과적으로 약물을 주입할 수 있으며, 얼굴과 같이 곡면부위가 많은 시술부위에 적합하게 사용될 수 있는 전극내장형 마이크로니들 스탬프 및 그 시술방법을 제공함에 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 전극내장형 마이크로니들 스탬프는, 피부에 미세구멍을 형성시키고, 약물을 침투시켜 피부 재생을 유도하는 의료용 마이크로 니들 스탬프에 있어서, 자루형 손잡이; 상기 손잡이의 전단에 형성된 니들부; 상기 손잡이와 니들부에 내장되고 외부에 대해 절연처리된 양이온 전극; 및 상기 니들부에 형성되고, 상기 양이온 전극에 전기적으로 연결된 다수의 마이크로니들;을 포함하여 피부에 미세구멍을 시술하면서 약물에 양이온을 인가시키고, 피부에 인가된 음이온과의 이온 결합력을 발생시켜서 피부의 미세구멍 내부로 이온결합력에 의해서 약물을 침투시키도록 구성된 것이다.
따라서 본 발명은 미세구멍내에 약물의 침투가 깊고, 효과적으로 이루어짐으로써 고가의 약물을 낭비하지 않고, 약물 치료효과를 우수하게 얻을 수 있다.
그리고 본 발명은 바람직하게는 상기 니들부는 더마 스탬프 형상의 사각 평판형 전극내장형 마이크로니들 스탬프인 것이다.
또한 본 발명은 바람직하게는 상기 니들부는 반달형태와 같은 반달형태와 같은 호형 단면의 마이크로니들 스탬프인 것이다.
그리고 본 발명은 바람직하게는 상기 니들부는 그 표면에 대해서 마이크로니들이 각각 직각으로 형성된 것이다.
또한 본 발명은 바람직하게는 상기 양이온 전극은 그 후단부가 모노단자를 통하여 이온도입장치에 전기적으로 연결되어 양이온을 마이크로니들에 인가시키는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 전극내장형 마이크로니들 스탬프의 시술방법은, 피부에 미세구멍을 형성시키고, 약물을 침투시켜 피부 재생을 유도하는 의료용 마이크로 니들 스탬프의 시술방법에 있어서, 시술부위를 클린싱하는 단계; 시술부위에 마취연고를 도포하여 마취하는 단계; 시술부위로부터 마취연고를 닦아 제거하는 단계; 시술부위에 치료약물을 도포하는 단계; 환자의 피부에 음이온을 인가하고, 전극내장형 마이크로니들 스탬프에 양이온을 인가하여 시술부위의 미세구멍으로 이온결합력에 의해서 약물의 침투를 이루면서 니들링 시술하는 단계; 및 시술부위에 마무리 재생크림을 도포하고, 마무리하는 단계;를 포함하는 것이다.
따라서 본 발명은 약물과 피부 사이의 이온결합력을 이용하기 때문에 미세구멍내에 약물의 침투가 깊고, 효과적으로 이루어지며, 고가의 약물을 낭비하지 않고, 약물 치료효과를 우수하게 얻을 수 있다.
그리고 본 발명은 바람직하게는 상기 니들링 시술하는 단계는 사각 평판형의 전극내장형 마이크로니들 스탬프를 시술부위에 수직으로 가압시켜 미세구멍을 형성하면서 미세구멍의 내부에 이온결합력에 의해서 약물의 침투를 이루는 것이다.
또한 본 발명은 바람직하게는 상기 니들링 시술하는 단계는 반달형태와 같은 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프의 니들부 일측 단부를 시술부위에 먼저 접촉시켜 미세구멍을 가압 형성시킨 다음, 니들부가 점차 시술부위를 따라서 눌려지도록 회전시키면서 가압하고, 니들부의 타측 단부가 시술부위에 최종 접촉하여 미세구멍을 가압 형성시키는 롤링방식으로 이루어지면서 미세구멍의 내부에 이온결합력에 의해서 약물의 침투를 이루는 것이다.
그리고 본 발명은 바람직하게는 상기 니들링 시술하는 단계는 반달형태와 같은 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프를 시술부위의 오목한 부위 또는 굴곡진 부위에 일치시켜서 균일하게 가압하여 오목하거나 또는 굴곡진 시술부위에 균일한 미세구멍을 형성시키면서 미세구멍의 내부에 이온결합력에 의해서 약물의 침투를 이루는 것이다.
또한 본 발명은 바람직하게는 상기 니들링 시술하는 단계는 반달형태와 같은 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프를 시술부위의 볼록한 부위에 밀착시켜서 니 들부 일측 단부를 시술부위에 먼저 접촉시킨 다음, 니들부가 점차 시술부위를 따라서 눌려지도록 회전시키면서 가압하고, 니들부의 타측 단부가 시술부위에 최종 접촉하는 롤링방식으로 이루어지면서 미세구멍의 내부에 이온결합력에 의해서 약물의 침투를 이루는 것이다.
본 발명에 따른 전극내장형 마이크로니들 스탬프 및 그 시술방법에 의하면 피부의 시술부위에 미세구멍을 형성하고 약물을 침투시키는 과정에서 약물에는 양이온을 인가하고, 피부에는 음이온을 인가시켜서 이온결합력을 이용하여 미세구멍내에 약물 침투를 이루기 때문에, 약물 침투가 깊고, 효과적으로 이루어짐으로써 고가의 약물을 낭비하지 않고, 약물 치료효과를 우수하게 얻을 수 있다.
그리고 본 발명에 의하면 반달형태와 같은 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프를 이용하게 되면 피부를 기준으로 스탬프를 롤링하면서 누룰 수 있게 되어 필요한 부위에 미세구멍을 깊게 또는 얇게 형성시킬 수 있고, 동시에 약물과 피부 사이의 이온결합력을 이용하여 미세구멍으로 효과적으로 약물을 주입할 수 있으며, 얼굴과 같이 곡면부위가 많은 시술부위에 적합하게 사용될 수 있는 우수한 효과가 얻어진다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 도면을 참조하여 보다 상세히 설명하기로 한다.
본 발명에 따른 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100)는 도 3에 전체적으로 도시된 바와 같이, 자루형 손잡이(110)를 구비하고, 그 손잡이(110)의 전단에는 니들부(120)가 형성된다.
이와 같은 손잡이(110)와 니들부(120)는 예를 들면 각각 플라스틱 성형 제품 또는 실리콘 제품으로 이루어질 수 있다.
또한 상기 손잡이(110)와 니들부(120)의 내부에는 외부에 대해서 절연처리된 양이온 전극(130)이 내장된 구조이다. 그리고 상기 니들부(120)의 표면에는 양이온 전극(130)에 전기적으로 연결된 다수의 마이크로니들(140)들이 돌출하여 형성된 구조이다. 이와 같은 양이온 전극(130)은 전기적 도전성이 우수한 금속재료로 이루어진다.
이와 같은 본 발명에 따른 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100)는 바람직하게는 도 4a에 도시된 바와 같이, 상기 니들부(120)가 더마 스탬프 형상의 사각 평판형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100a)로 이루어질 수 있다.
또한 다르게는 상기 니들부(120)는 도 4b에 도시된 바와 같이, 반달형태와 같은 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)로 이루어질 수 있다.
그리고 상기 사각 평판형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100a)의 니들부(120) 또는 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)의 니들부(120)는 각각 는 그 표면에 대해서 마이크로니들(140)이 직각으로 형성된 것이다.
이와 같은 구조에서 상기 니들부(120)는 바람직하게는 2cm x 1.8cm의 크기에 마이크로니들(140)의 깊이는 8mm로 이루어진다. 이와 같은 마이크로니들(140)은 얼굴 시술부위(S)의 피부 두께에 해당하는 길이로 형성된 것이다. 즉 마이크로니 들(140)은 얼굴 시술부위(S)의 피부와 진피의 평균 경계에 해당하는 대략 8mm의 깊이로 이루어짐으로써 니들링 시술시 진피손상에 의한 부작용을 최소화할 수 있도록 되어 있다.
한편 상기와 같은 본 발명에 따른 전극내장형 마이크로니들 스탬프의 구조에서 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)는 다음과 같은 특징을 갖는다.
즉 반달형태와 같은 호형 단면의 니들부(120)는 그 횡단면상에서 하단부 정점(122)으로부터 양측부(124)까지 10 내지 20°의 각도(θ)로 균일한 호형을 이루도록 형성된 것이다.
여기서 상기 각도(θ)가 20°보다 높을 경우, 니들링 시술시 시술부위(S)가 과도하게 손상될 수가 있고, 10°미만으로 너무 각도(θ)가 낮을 경우, 입출 경사로 인한 시술부위(S) 조직의 여드름 흉터 등의 흉터조직(Fibrotic Scar Tissue)를 짤라주는 효과가 낮아질 수 있어서 바람직하지 못하다.
또한 이와 같은 각도(θ)는 가장 바람직하게는 15°가 좋다.
한편 상기 양이온 전극(130)은 그 후단부가 도 3에 도시된 바와 같이, 모노단자(132)를 통하여 이온도입장치(150)에 전기적으로 연결되는데, 이온도입장치(150), 즉 이온토포레시스 장비로부터 양이온을 인가받아서 마이크로니들(140)을 양이온으로 대전시킨다.
한편 상기 이온도입장치(150)로부터 음이온 단자(152)가 인출되는데, 이와 같은 음이온 단자(152)는 흡착판의 형태로 이루어져서 환자(P)의 어께에 흡착식으로 부착되어 환자(P)의 시술부위(S)에 음이온을 인가시키거나, 환자(P)가 손으로 쥐는 일자형 단자봉의 형태로 이루어져서 환자(P)는 니들링 시술도중에 음이온이 시술부위(S)에 대전되는 상태로 된다.
이하, 본 발명에 따른 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100)의 시술방법에 대해서 얼굴을 예를 들어서 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100)의 시술방법은 먼저 시술부위(S)인 얼굴을 클린싱하는 단계가 이루어진다.
이때에는 시술받을 피부 부위, 예를 들면 얼굴을 클린싱한다.
그리고 다음으로는 시술부위(S)에 마취연고를 도포하여 마취하는 단계가 이루어진다, 이와 같은 단계에서는 마취연고(5%, 리도카인)를 얼굴 전체에 충분히 바른 후, 랩으로 20-30분간 덮는다. 다음으로는 시술부위(S)로부터 해면, 냉습포, 보릭솜 등으로 마취연고를 닦아 제거하는 단계가 이루어진다.
그리고 다음으로는 시술부위(S)에 치료약물(160)을 도포하는 단계가 이루어진다.
이때 사용되는 피부 재생약물(160)은 Epihelial Growth Factor(EGF)를 사용하는 것이 바람직한데, 이와 같은 EGF외에도 각종 펩타이드, 기타 다양한 성분의 블랜드로 광노화 및 여러가지 요인으로 손상된 피부를 젊게 해주고 개선시키는 효과를 나타낸다.
그리고 다음으로는 환자(P)의 시술부위(S)에 음이온을 인가하고, 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100)에 양이온을 인가하여 시술부위(S)의 미세구멍(170)으로 이온결합력에 의해서 약물(160)의 침투를 이루면서 니들링 시술하는 단계가 이루어 진다.
이와 같은 니들링 단계에서는 이온도입장치(150)로부터 인출된 흡착판 형태의 음이온 단자(152)를 환자(P)의 어께에 흡착식으로 부착시키거나, 환자(P)가 손으로 일자형 단자봉을 쥐도록 하여 환자(P)의 시술부위(S)에 음이온이 대전되도록 한다.
그리고 이온도입장치(150)에는 양이온 전극(130)에 연결된 모노단자(132)를 연결시켜서 마이크로니들(140)이 양이온으로 대전도록 한다.
이 상태에서 니들링 시술을 하게 되는데, 이때에는 도 4a에 도시된 바와 같이, 사각 평판형의 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100a)를 사용할 수 있다.
이때에는 니들부(120)의 마이크로니들(140)을 도 5a에 도시된 바와 같이, 시술부위(S)에 수직으로 가압시켜 니들링 시술을 하게 되는데, 이와 같이 니들링 시술시 미세구멍(170)의 형성과 함께 약물(160)은 양이온으로 대전되면서 마이크로니들(140)을 따라서 미세구멍(170)의 내부로 침투하고, 도 5b에 도시된 바와 같이, 미세구멍(170) 내에서 시술부위(S)의 음이온과의 이온결합력에 의해서 시술부위(S) 내로 깊숙히 침투된다.
또한 상기와 같은 니들링 시술단계에서는 도 4b에 도시된 바와 같은 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)가 사용될 수 있는데, 이와 같은 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)는 도 6a에 도시된 바와 같이, 니들부(120) 일측 단부(120a)를 시술부위(S)에 먼저 접촉시켜 미세구멍(170)을 가압 형성시킨 다음, 도 6b에 도시된 바와 같이, 니들부(120)가 점차 시술부위(S)를 따라서 눌려지도록 회전시키면서 가압하고, 도 6c에 도시된 바와 같이, 니들부(120)의 타측 단부(120b)가 시술부위(S)에 최종 접촉하여 미세구멍(170)을 가압 형성시키는 롤링방식으로 이루어지면서 도 6d에 도시된 바와 같이, 최종 니들링 시술이 종료되면 미세구멍(170)의 내부에 이온결합력에 의해서 약물(160)의 침투가 효과적으로 이루어지도록 한다.
한편 이와 같이 니들링 시술단계에서 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)를 사용하게 되면 얼굴등의 시술부위(S)에 특히 효과적으로 이루어질 수 있다.
예를 들면 니들링 시술시, 상기와 같은 롤링방식이 아니어도 효과적으로 얼굴의 오목한 부위(Sa) 또는 굴곡진 부위(Sc)에 미세구멍(170)을 균일하게 형성시킬 수 있다.
즉, 도 7a 및 도 7c에 도시된 바와 같이, 얼굴의 코, 입술 또는 턱 주위와 같이 오목한 부위(Sa) 또는 굴곡진 부위(Sc)에 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)를 배치한 다음, 균일하게 가압하면 오목하거나 굴곡진 시술부위(S)에 균일한 미세구멍(170)을 형성시킬 수 있다.
또한 코, 광대뼈 또는 이마와 같이 볼록한 부위(Sb)에는 도 7b에 도시된 바와 같이, 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)를 볼록한 부위(Sb)에 밀착시켜서 니들부(120)의 일측 단부(120a)를 시술부위(S)에 먼저 접촉시킨 다음, 니들부(120)의 호형면이 점차 시술부위(S)를 따라서 눌려지도록 회전시키면서 가압하고, 니들부(120)의 타측 단부(120b)가 시술부위(S)에 최종 접촉하는 롤링방식으로 미세구멍(170)을 형성시킬 수 있다.
이와 같이 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)는 시술부위(S)를 기준으로 호형 단면의 니들부(120)를 롤링하면서 누룰 수 있게 되어 필요한 부위에 미세구멍(170)을 깊게 또는 얇게 형성시킬 수 있고, 특히 얼굴과 같이 곡면부위가 많은 시술부위(S)에 적합하게 사용될 수 있다.
이와 같은 니들링 시술은 2 회(pass)를 촘촘히 겹치도록 하여 시술하고, 여드름이 있는 부위, 흉터가 있는 부위, 모공이 넓은 부위, 주름이 있는 부위 등 집중치료가 필요한 부위는 수회 더 반복한다. 이때 니들링 시술전에 약물(160)을 시술부위(S)에 도포하여야 함은 물론이다.
그리고 이와 같이 니들링 시술이 완료되면 시술부위(S)에 마무리 재생크림을 도포하고, 마무리하는 단계가 이루어진다.
이와 같은 마무리 단계에서는 종래와 같이 보습마스크와 같은 진정팩을 해주고, 재생크림 및 썬크림 등을 발라주고 마무리한다.
상기와 같이 본 발명은 피부의 시술부위(S)에 미세구멍(170)을 형성하고 약물(160)을 침투시키는 과정에서 약물(160)에는 양이온을 인가하고, 시술부위(S)에는 음이온을 인가시킨 상태에서 니들링 시술을 통해서 약물(160)을 미세구멍(170)을 통해 시술부위(S)에 침투시킨다.
이때 약물(160)과 시술부위(S)사이에서는 이온 결합력이 발생하게 되며, 본 발명은 이와 같은 이온결합력을 이용하여 미세구멍(170) 내에 약물(160) 침투를 이루기 때문에, 약물(160) 침투깊이가 깊고, 효과적으로 이루어짐으로써 고가의 약 물(160)을 낭비하지 않으며 약물(160) 치료효과가 탁월하게 된다.
또한 본 발명에 의하면 니들링 시술시, 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)를 사용하게 되면, 피부를 기준으로 스탬프를 롤링하면서 누룰 수 있게 되어 얼굴과 같이 곡면부위가 많은 시술부위(S)에 미세구멍(170)을 깊게 또는 얇게 형성시킬 수 있고, 동시에 약물(160)과 시술부위(S) 사이의 이온결합력을 이용하여 미세구멍(170)으로 효과적으로 약물(160)을 주입할 수 있어서 매우 치료효과가 높게 된다.
앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 일 실시예는 본 발명의 기술적사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 된다.
도 1a는 종래의 기술에 따른 MTS 마이크로니들 롤러를 도시한 사시도이다.
도 1b는 종래의 기술에 따른 MTS 마이크로니들 롤러를 이용하여 시술하는 과정을 도시한 설명도이다.
도 2a는 종래의 기술에 따른 더마 스탬프를 도시한 사시도이다.
도 2b는 종래의 기술에 따른 더마 스탬프를 이용하여 평편한 부위를 시술하는 과정을 도시한 설명도이다.
도 3은 본 발명에 따른 전극내장형 마이크로니들 스탬프가 이온도입장치에 연결되어 양이온으로 대전되고, 환자에는 음이온이 대전된 상태를 도시한 설명도이다.
도 4a는 본 발명에 따른 사각 평판형 전극내장형 마이크로니들 스탬프를 도시한 단면도이다.
도 4b는 본 발명에 따른 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프를 도시한 단면도이다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명에 따른 사각 평판형 전극내장형 마이크로니들 스탬프를 이용하여 평편한 부위를 시술하는 과정을 차례로 도시한 설명도이다.
도 6a 내지 도 6d는 본 발명에 따른 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프를 이용하여 평편한 부위를 시술하는 과정을 차례로 도시한 설명도이다.
도 7a 내지 도 7c는 본 발명에 따른 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프를 이용하여 얼굴을 쉽게 시술하는 과정을 부위별로 각각 도시한 설명도이다.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >
1...... 마이크로니들 롤러 20...... 롤러
30..... 마이크로니들 40,90..... 미세구멍
50..... 더마 스탬프(DERMASTAMP) 60..... 손잡이
70..... 스탬프 80..... 마이크로니들
100.... 전극내장형 마이크로니들 스탬프
100a....사각 평판형 전극내장형 마이크로니들 스탬프
100b....호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프
110.....손잡이 120.... 니들부
120a... 일측 단부 120b..... 타측 단부
122.... 하단부 정점 124..... 양측부
130.... 양이온 전극 132..... 모노단자
140.... 마이크로니들 150..... 이온도입장치
152.... 음이온 단자 160..... 약물
170.... 미세구멍 P..... 환자
θ..... 각도 S...... 시술부위
Sa..... 오목한 부위 Sb..... 볼록한 부위
Sc..... 굴곡진 부위

Claims (10)

  1. 시술부위에 미세구멍을 형성시키고, 약물을 침투시켜 시술부위 재생을 유도하는 의료용 마이크로 니들 스탬프에 있어서,
    자루형 손잡이(110);
    상기 손잡이(110)의 전단에 형성된 니들부(120);
    상기 손잡이(110)와 니들부(120)에 내장되고 외부에 대해 절연처리된 양이온 전극(130); 및
    상기 니들부(120)에 형성되고, 상기 양이온 전극(130)에 전기적으로 연결된 다수의 마이크로니들(140);을 포함하여 시술부위(S)에 미세구멍(170)을 시술하면서 약물(160)에 양이온을 인가시키고, 시술부위(S)에 인가된 음이온과의 이온 결합력을 발생시켜서 시술부위(S)의 미세구멍(170) 내부로 이온결합력에 의해서 약물(160)을 침투시키도록 구성된 것임을 특징으로 하는 전극내장형 마이크로니들 스탬프.
  2. 제1항에 있어서, 상기 니들부(120)는 더마 스탬프 형상의 사각 평판형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100a)인 것임을 특징으로 하는 전극내장형 마이크로니들 스탬프.
  3. 제1항에 있어서, 상기 니들부(120)는 반달형태와 같은 호형 전극내장형 마이 크로니들 스탬프(100b)인 것임을 특징으로 하는 전극내장형 마이크로니들 스탬프.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 니들부(120)는 그 표면에 대해서 마이크로니들(140)이 각각 직각으로 형성된 것임을 특징으로 하는 전극내장형 마이크로니들 스탬프.
  5. 제1항에 있어서, 상기 양이온 전극(130)은 그 후단부가 모노단자(132)를 통하여 이온도입장치(150)에 전기적으로 연결되어 양이온을 마이크로니들(140)에 인가시키는 것임을 특징으로 하는 전극내장형 마이크로니들 스탬프.
  6. 시술부위에 미세구멍을 형성시키고, 약물을 침투시켜 시술부위 재생을 유도하는 의료용 마이크로 니들 스탬프의 시술방법에 있어서,
    시술부위(S)를 클린싱하는 단계;
    시술부위(S)에 마취연고를 도포하여 마취하는 단계;
    시술부위(S)로부터 마취연고를 닦아 제거하는 단계;
    시술부위(S)에 치료약물(160)을 도포하는 단계;
    이온도입장치(150)를 이용하여 환자(P)의 시술부위(S)에 음이온을 인가하고, 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100)에 양이온을 인가하여 시술부위(S)의 미세구멍(170)으로 이온결합력에 의해서 약물(160)의 침투를 이루면서 니들링 시술하는 단계; 및
    시술부위(S)에 마무리 재생크림을 도포하고, 마무리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전극내장형 마이크로니들 스탬프의 시술방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 니들링 시술하는 단계는 사각 평판형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100a)를 시술부위(S)에 수직으로 가압시켜 미세구멍(170)을 형성하면서 미세구멍(170)의 내부에 이온결합력에 의해서 약물(160)의 침투를 이루는 것임을 특징으로 하는 전극내장형 마이크로니들 스탬프의 시술방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 니들링 시술하는 단계는 반달 형태와 같은 호형 마이크로니들 스탬프(100b)의 니들부(120) 일측 단부(120a)를 시술부위(S)에 먼저 접촉시켜 미세구멍(170)을 가압 형성시킨 다음, 니들부(120)가 점차 시술부위(S)를 따라서 눌려지도록 회전시키면서 가압하고, 니들부(120)의 타측 단부(120b)가 시술부위(S)에 최종 접촉하여 미세구멍(170)을 가압 형성시키는 롤링방식으로 이루어지면서 미세구멍(170)의 내부에 이온결합력에 의해서 약물(160)의 침투를 이루는 것임을 특징으로 하는 전극내장형 마이크로니들 스탬프의 시술방법.
  9. 제6항에 있어서, 상기 니들링 시술하는 단계는 반달형태와 같은 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)를 시술부위(S)의 오목한 부위(Sa) 또는 굴곡진 부위(Sc)에 일치시켜서 균일하게 가압하여 오목하거나 또는 굴곡진 시술부위에 균일한 미세구멍(170)을 형성시키면서 미세구멍(170)의 내부에 이온결합력에 의해서 약 물(160)의 침투를 이루는 것임을 특징으로 하는 전극내장형 마이크로니들 스탬프의 시술방법.
  10. 제6항에 있어서, 상기 니들링 시술하는 단계는 반달형태와 같은 호형 전극내장형 마이크로니들 스탬프(100b)를 시술부위(S)의 볼록한 부위(Sb)에 밀착시켜서 니들부(120) 일측 단부(120a)를 시술부위(S)에 먼저 접촉시킨 다음, 니들부(120)가 점차 시술부위(S)를 따라서 눌려지도록 회전시키면서 가압하고, 니들부(120)의 타측 단부(120b)가 시술부위(S)에 최종 접촉하는 롤링방식으로 이루어지면서 미세구멍(170)의 내부에 이온결합력에 의해서 약물(160)의 침투를 이루는 것임을 특징으로 하는 전극내장형 마이크로니들 스탬프의 시술방법.
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