KR20100038859A - Via hole forming device using laser beam - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 기판 등의 비아홀 가공장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 종래의 레이저 가공장치에 비하여 가공 정도, 가공 속도 및 가공 생산성이 향상되고 장치의 경량화 및 소형화가 가능하도록 그 구조가 개선된 레이저를 이용한 비아홀 가공장치에 관한 것이다. The present invention relates to a via hole processing apparatus such as a substrate, and more particularly, compared to the conventional laser processing apparatus, a laser having an improved structure to improve processing accuracy, processing speed and processing productivity, and to reduce the weight and size of the apparatus. It relates to a via hole processing apparatus used.
종래 유연성 기판에 비아홀(via hole)을 형성하기 위하여 드릴을 사용하여 가공하였으나, 드릴날의 물리적 크기 제한으로 인하여 비아홀의 크기가 100 ㎛ 이하인 미세 가공의 경우에는 문제점이 있었다. 또한, 드릴날의 경우에는 오랜 시간의 가공 작업으로 인하여 그 수명이 길지 않다는 단점도 있었다. 따라서, 최근에는 이를 대체하기 위하여 레이저를 이용한 드릴링 방식이 채용되고 있다. Conventionally, a drill is used to form a via hole in a flexible substrate, but there is a problem in the case of fine machining having a via hole of 100 μm or less due to the physical size limitation of the drill blade. In addition, in the case of the drill blade has a disadvantage that its life is not long due to the long working time. Therefore, recently, a drilling method using a laser has been adopted to replace this.
레이저에 의한 드릴링은 레이저를 가공 대상 기판의 표면에 조사하여 미세한 구멍인 비아홀을 형성하는 방법으로서 최근에는 유연성 기판의 가공 외에도 반도체 웨이퍼 드릴링에도 응용되고 있는 실정이다. Drilling by laser is a method of forming a via hole, which is a minute hole, by irradiating a laser onto a surface of a substrate to be processed. Recently, in addition to processing a flexible substrate, it is also applied to drilling a semiconductor wafer.
도 4는 종래의 비아홀 가공장치의 정면도이고, 도 5는 도 4의 측면도이며, 도 6은 도 4의 부분 확대도이다. 4 is a front view of a conventional via hole processing apparatus, FIG. 5 is a side view of FIG. 4, and FIG. 6 is a partially enlarged view of FIG. 4.
레이저에 의한 드릴링 방식은 레이저 발진기(30)에서 나오는 빔이 미러(36)에서 반사되어 스켄헤드(31a,31b)에 입력되면 스켄헤드 (31a,31b)에서 빔의 경로를 조절하여 유연성 기판의 가공 위치로 빔을 조사함으로써 드릴링 작업을 하게 된다. In the drilling method by the laser, when the beam from the
종래에는 스켄헤드가 하나인 것으로 하였으나, 최근에는 가공 속도를 향상시키고 생산성을 배가하기 위하여 도시한 것처럼 스켄헤드(31a,31b)를 2개의 라인에 각각 설치함과 동시에 유연성 기판 공급장치(32a,32b)를 2열로 배치하여 동시에 2개 라인에 유연성 기판이 공급되도록 하고 있다. 이러한 종래의 비아홀 가공장치의 경우 동시에 두 개의 라인에 공급되는 유연성 기판(33)에 드릴링 작업을 한꺼번에 수행하게 됨으로써 한 개의 스켄헤드가 배치된 단일 라인의 방식보다 생산성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다. Conventionally, a single scan head is used, but recently, in order to increase the processing speed and increase productivity, the
레이저 발진기(30)에서 나오는 빔은 미러(36)와 빔 분할기(beam splitter)에 의하여 두 개의 스켄헤드(31a,31b)로 입사되고 스켄헤드를 통과한 빔은 스켄헤드에 의해서 제어된 위치로 빔을 조사하게 된다. The beam from the
이처럼 종래의 비아홀 가공장치에서는 두 개의 스켄헤드(31a,31b)와 2열의 유연성 기판 공급장치(32a,32b)를 가지는데, 스켄헤드(31a,31b)는 상부 프레임(51) 상에 고정되어 있으며, 유연성 기판 공급장치(32a,32b)는 x축-스테이지(55)에 고정되어 x축-스테이지와 함께 이동한다. 상기 x축-스테이지(55)는 별도의 y축-스테이지(54) 위에 놓여져 있고, y축-스테이지(54) 상에서 도시한 x축 방향으로 직선운동한다. y축-스테이지(54)는 프레임(53) 상에서 y축 방향으로 이동하도록 구성된다. 상기와 같이 스켄헤드(31a,31b)는 고정된 채로 유연성 기판 고정장치(34a,34b)와 유연성 기판 공급장치(32a,32b)가 결합하는 x축-스테이지(55)와 y축-스테이지(54)가 각각 x축 및 y축 방향으로 이동하면서 가공하고자 하는 비아홀 형성 위치로 이동하여 빔을 조사하게 되는 것이다. As described above, the conventional via hole processing apparatus has two
도 6에 도시한 바와 같이, 종래의 비아홀 가공장치의 경우에는 유연성 기판 공급장치(32a,32b)에서 공급되는 유연성 기판(33)은 x축-스테이지(55)와 함께 이동하고 스켄헤드(31a,31b)는 고정된 채로 빔을 조사하게 된다. 두 개의 라인으로 공급되는 유연성 기판(33)은 두 개의 스켄헤드(31a,31b)에 의하여 조사되는 레이저 빔에 의하여 비아홀 가공이 된다. 즉, 하나의 기판(33)은 하나의 스켄헤드에 의하여 가공이 되는 구조이다. 유연성 기판(33)은 롤 형태로 유연성 기판 공급장치(32a,32b)에 감겨져 있고, 공급장치에서 롤을 회전시키면서 유연성 기판(33)을 공급하게 된다. 따라서, 전체 x-y축 스테이지(54,55)가 x축 및 y축 방향의 임의의 작업위치로 이동하게 되면 스켄헤드(31a,31b)가 레이저 빔을 조사하여 유연성 기판(33)의 작업영역에서 천공 작업을 하게 되는 것이다. As shown in FIG. 6, in the case of the conventional via hole processing apparatus, the
이러한 종래의 비아홀 가공장치는 도 5에 도시한 바와 같이 유연성 기판 공급장치(32a,32b)가 x축-스테이지(55) 위에서 고정된 채로 x-y 방향으로 이동하면서 작업을 하게 된다. 이렇게 될 경우에 기판 공급장치(32a,32b)의 무게 및 스테이지 자체의 무게로 인하여 구동 시에 진동이 발생하여 고속 구동을 할 수 없게 되는 문제가 있으며, 비아홀 가공 정도를 향상시키는데 어려움이 발생한다는 문제가 있다. 결국 가공 정도를 좋게 하기 위해서는 저속으로 구동해야 하는데 이럴 경우 장치의 생산성이 현격히 줄어들게 되는 문제가 발생한다. 또한, 두 개의 라인에 각각 한 깨씩 모두 두 개의 기판 공급장치(32a,32b)를 설치해야 하므로 장비의 크기 및 중량이 대단히 커지게 되는 문제가 있다. 즉, 종래의 비아홀 가공장치의 경우에는 가공 생산성(가공 속도)를 향상시키기 위해서 두 개의 스켄헤드와 두 개의 유연성 기판 공급장치를 설치함으로써 한 개의 스켄헤드 및 기판 공급장치를 채택한 경우보다 두 배의 생산성을 확보하고자 하였다. 그러나, 이와 같은 시스템은 기판 공급장치의 무게가 두 배로 증가함과 아울러 기판 고정장치 및 스테이지의 무게 또한 두 배로 증가하게 됨으로써 x-y 축 방향의 이동을 위한 구동시에 진동을 유발하게 되고 스테이지의 이송 정밀도를 확보하기가 곤란하게 된다. 그 결과 가공 정도를 확보하기 위해서는 저속으로 구동할 수밖에 없는 문제가 발생하는 것이다. 장비의 크기 또는 거의 두 배 이상으로 커지기 때문에 설치장소를 많이 필요로 하며, 중량 또한 커서 설치 및 변경이 용이하지 않다는 문제가 있다. In the conventional via hole processing apparatus, as shown in FIG. 5, the flexible
본 발명의 목적은 종래의 비아홀 가공장치의 문제점인 가공 정도, 가공 속도, 진동의 발생 및 장치의 사이즈 등의 문제점을 해결하는 것으로서, 제품이 경량화되어 가공 속도 및 정도가 우수하고, 가공 중 이송장치의 중량으로 인한 진동의 발생이 적으며, 생산성을 두 배로 할 수 있도록 최적화된 레이저를 이용한 비아홀 가공장치를 제공하는 것이다. An object of the present invention is to solve the problems such as the processing accuracy, processing speed, the generation of vibration and the size of the device, which is a problem of the conventional via hole processing apparatus, the product is lighter, the processing speed and accuracy is excellent, the transfer device during processing It provides a via hole processing device using laser optimized to double the productivity and less vibration caused by the weight of the.
전술한 기술적 과제의 해결을 위하여 본 발명에서는, 레이저를 이용하여 기판에 구멍을 형성하는 가공장치에 있어서, 기판(13)을 로딩 및 언로딩 하기 위한 기판 공급장치(12a,12b)가 결합하는 프레임(23), 상기 프레임(23) 상에 직선이동 가능하게 설치되며 기판(13)을 고정할 수 있도록 클램핑 장치(19)가 마련되는 고정 테이블(14), 상기 고정 테이블(14)의 상부에 상기 고정 테이블의 이동방향과 직교하는 방향으로 직선이동 가능하도록 상기 프레임에 부착 설치되는 것으로서, 적어도 둘 이상의 스켄헤드(11a,11b)가 장착된 스켄헤드 모듈(27) 및 상기 스켄헤드(11a,11b)에 레이저 빔을 전달하기 위한 것으로서, 레이저 발진기(10), 미러(16) 및 빔 분할기(17)로 이루어지는 레이저 모듈을 포함하여 구성되는 것으로서, 상기 고정 테이블(14)과 상기 스켄헤드 모듈(27)이 서로 직교하는 방향으로 이동하면서 고정 테이블(14) 상의 기판에 비아홀을 형성하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 비아홀 가공장치가 제공된다. In order to solve the above technical problem, in the present invention, in the processing apparatus for forming a hole in the substrate using a laser, the frame coupled to the substrate supply device (12a, 12b) for loading and unloading the
여기서, 상기 각 스켄헤드(11a,11b) 간의 간격은 상기 스켄헤드 모듈(27) 상에 설치되는 리니어가이드(24)와 볼스크류(25)에 의하여 조절되도록 할 수 있다. Here, the spacing between the
상기 고정 테이블(14)은 모터에 의하여 리니어가이드(20a) 상에서 직선이동하는 스테이지(20)의 상면에 결합하여 직선이동한다. The fixed table 14 is linearly coupled to an upper surface of the
상기 스켄헤드 모듈(27)은 리니어가이드(15) 및 볼스크류(26)에 의하여 상기 고정 테이블(14)과 직교하는 방향으로 직선이동한다. The
본 발명에 의하면 종래 기계적 드릴에 의한 경우에 비하여 초미세 비아홀을 정교하게 가공할 수 있으며, 기계적 드릴날의 마모에 의하여 드릴날을 자주 교체할 필요가 없어 매우 편리하다. According to the present invention, it is possible to precisely process the ultra-fine via holes as compared to the case of the conventional mechanical drill, and it is very convenient because the drill blade does not need to be frequently replaced by the wear of the mechanical drill blade.
본 발명에서는 기판 공급장치가 기판이 로딩되는 스테이지와 함께 이송되는 것이 아니라 기판 공급장치는 프레임에 고정 부착되고 고정 테이블과 스켄헤드 모듈이 서로 직교하는 방향으로 이동하는 구조이며, 한 개의 라인에 두 개 이상의 스켄헤드를 배치하므로, 종래에 비하여 고속 작업이 용이하며, 고속 작업으로 인한 진동의 발생이 적다는 장점이 있다. 또한, 생산효율을 두 배 이상으로 향상시키면서도 장치의 경량화 및 소형화가 가능하며 고정밀도의 작업이 가능하고 설치장소에 구애되지 않는다는 장점이 있다. In the present invention, the substrate feeder is not transported together with the stage on which the substrate is loaded, but the substrate feeder is fixedly attached to the frame and the fixed table and the scanhead module move in a direction perpendicular to each other. Since the scan head is disposed above, the high speed operation is easy and the vibration generated due to the high speed operation is less than that of the conventional art. In addition, while improving the production efficiency more than twice, it is possible to reduce the weight and size of the device, it is possible to work with high precision, and does not matter in the installation place.
이하에서는 본 발명의 구성과 작동원리를 첨부한 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the configuration and operation principle of the present invention will be described in more detail.
도 1은 본 발명의 비아홀 가공장치의 정면도이고, 도 2는 도 1의 측면도이며, 도 3은 도 1의 부분 확대도이다. 1 is a front view of a via hole processing apparatus of the present invention, FIG. 2 is a side view of FIG. 1, and FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG. 1.
도시한 바와 같이, 본 발명의 비아홀 가공장치는 뼈대가 되는 프레임(23), 상기 프레임 상에 결합하는 고정 테이블(14), 스켄헤드 모듈(27) 및 레이저 모듈을 포함하여 구성된다. 상기 프레임(23)은 하단부의 메인 프레임(23a), 측면부의 지지 프레임(23b) 및 상단부의 상부 프레임(23c)으로 구성된다. 상기 메인 프레임(23a)의 양측에는 비아홀 가공 대상 기판인 유연성 기판(13)을 공급하기 위한 유연성 기판 공급장치(12a,12b)가 고정 결합한다. 상기 유연성 기판 공급장치는 유연성 기판을 고정 테이블(14)에 공급하는 로딩장치(12a)와 가공이 종료된 유연성 기판(13)을 회수하는 언로딩 장치(12b)로 구성된다. 상기 로딩 및 언로딩 장치(12a,12b)는 유연성 기판(13)이 감긴 롤러가 회전하면서 로딩 또는 언로딩 작업을 수행하게 된다. As shown in the drawing, the via hole processing apparatus of the present invention includes a frame 23 serving as a skeleton, a fixing table 14 coupled to the frame, a
상기 고정 테이블(14)은 공급된 기판(13)이 로딩되어 안착되는 것으로서 로딩된 기판을 고정하기 위한 클램핑 장치(19)가 형성된다. 상기 고정 테이블(14)은 x축 방향으로 직선이동하는 스테이지(20)의 상면에 결합하여 함께 직선이동하게 된다. 상기 스테이지(20)는 모터(미도시)에 의하여 리니어가이드(20a) 상에서 x축 방향으로 직선이동하도록 상기 메인 프레임(23a) 상에 설치된다. The fixing table 14 is formed with a
상기 레이저 모듈은 후술할 스켄헤드(11a,11b)에 레이저 빔을 전달하기 위한 구성으로서 상부 프레임(23c) 상에 마련되는 레이저 발진기(10), 상기 레이저 발진 기(10)로부터의 빔을 분할하기 위한 빔 분할기(17) 및 빔을 반사하기 위한 미러(16a,16b)로 이루어진다. The laser module is configured to deliver a laser beam to the
상기 스켄헤드 모듈(27)은 두 개의 스켄헤드(11a,11b)가 일정간격 이격하여 일렬로 배치된 것으로서, 상부 프레임(23c)에 x축 방향과 직교하는 방향인 y축 방향으로 직선이동하도록 설치된다. 즉, 스켄헤드 모듈(27)은 리니어가이드(15) 및 볼스크류(26)에 의하여 상기 볼스크류가 회전함에 따라 상기 리니어가이드(15) 상에서 직선이동할 수 있도록 구성된다. 상기 스켄헤드(11a,11b) 간의 간격은 도 2에 도시한 것처럼, 리니어가이드(24) 및 볼스크류(25)에 의하여 조절될 수 있도록 한다. 즉, 볼스크류(25)를 회전시켜 각 스켄헤드(11a,11b)가 리니어가이드(24) 상에서 이동하게 함으로써 그 간격을 조절할 수 있다. The
본 발명에서는 유연성 기판(13) 공급방식이 종래에서처럼, y축 방향으로 이동하는 y축 스테이지 상에 결합하여 x축 방향으로 이동하는 x축 스테이지로 공급되는 것이 아니라, 유연성 기판 공급장치(12a,12b) 자체는 프레임(23) 상에 고정하여 설치된다. 따라서, 종래처럼 무거운 유연성 기판 공급장치가 x축 스테이지 상에 결합하여 x축 및 y축 스테이지와 함께 이동하면서 가공하는 것이 아니라, 유연성 기판 공급장치(12a,12b)는 고정되어 있고, 고정 테이블(14)만이 프레임 상에서 x축 방향으로 직선운동하게 되는 것이다. 또한 종래와 달리 한 개의 유연성 기판 공급장치(12a,12b)만이 설치되므로 제품의 사이즈가 작아진다. In the present invention, the
본 실시예에서 스켄헤드(11a,11b)는 두 개가 일렬로 설치되며, 각각의 스켄헤드(11a,11b)가 작업하는 일정한 거리만큼 떨어져서 조립되어 있다. 스켄헤드 (11a,11b) 간의 상대 거리는 가공하고자 하는 유연성 기판(13)의 사이즈나 공정에 따라서 달라질 수 있기 때문에 스켄헤드 간의 거리를 조절할 수 있도록 한 것이다. 스켄헤드 간의 거리 조정은 리니어가이드(24) 및 볼스크류(25)를 사용할 수 있으며, 조정이 완료되면 움직이지 않도록 고정한다. In the present embodiment, two
이렇게 일정한 거리를 두고 위치하는 스켄헤드(11a,11b)는 한 개의 조립체 모듈로 구성되며, 이 조립체 모듈은 y축 방향으로 이동할 수 있게 된다. y축 방향으로의 이동은 모터(미도시) 및 이 모터에 의하여 회전하는 볼스크류(26)와 스켄헤드 모듈(27)을 가이드 하는 리니어가이드(15)에 의하여 수행된다. The scan heads 11a and 11b positioned at such a distance are composed of one assembly module, which can move in the y-axis direction. Movement in the y-axis direction is performed by a motor (not shown) and a
유연성 기판 공급장치의 로딩장치(12a)에서 기판이 감긴 롤을 풀어주고 언로딩장치(12b)에서 롤을 감아주면서 유연성 기판(13)을 고정 테이블(14)의 가공위치로 이송시키며, 이송되어온 기판은 클램핑 장치(19)에 의하여 고정 테이블(14) 상에 고정된다. 상기 고정 테이블(14)은 모터(미도시)에 의하여 구동되는 스테이지(20) 상에 설치되며 상기 모터의 구동에 의하여 x축 방향으로 이동한다. 상기 고정 테이블(14)이 x축 방향으로 이동할 때 유연성 기판(13)이 고정 테이블(14)의 클램핑 장치(19)에 의하여 고정되어 있기 때문에 롤의 좌우가 팽팽하게 되어 있으면 고정 테이블(14)의 이동에 장애가 되므로 고정 테이블(14)의 이동이 자유롭도록 롤의 좌우는 느슨한 상태로 여유있게 풀려있어야 한다. 즉, 로딩장치(12a)에서는 롤을 충분히 풀어주어야 하고, 언로딩장치(12b)에서도 롤이 느슨하게 풀려있는 상태가 되어야 한다. Release the roll on which the substrate is wound in the
상기와 같이 작업준비 상태를 갖추면, 고정 테이블(14)의 x축 이동 및 스켄 헤드 모듈(27)의 y축 이동에 의하여 가공하고자 하는 임의의 위치로 이동하게 된다. 그리고 두 개의 스켄헤드(11a,11b)에 의해서 기판에 레이저 빔이 조사되면 기판에 비아홀이 형성되는 것이다. When the work ready state is provided as described above, the fixed table 14 is moved to an arbitrary position to be processed by the x-axis movement of the fixed table 14 and the y-axis movement of the
이와 같은 구성의 장치를 사용하게 되면, 한 개의 라인에 한 개의 기판 공급장치(12a,12b)만이 필요한 반면 동시에 두 개의 스켄헤드에 의하여 한 개의 라인에 비아홀 가공이 되므로 한 개의 라인 당 1개의 스켄헤드를 사용하는 경우에 비하여 두 배의 생산성을 이룩할 수 있는 장점이 있게 된다. 그리고 두 개의 기판 공급장치를 x축 스테이지에 부착하여 스테이지와 함께 이동하는 종래의 가공장치에 비하여 장치가 간단하고, 장치의 사이즈가 작아지며, 스테이지의 무게로 인한 진동 및 가공 정밀도가 저하되는 현상을 줄일 수 있다. With this type of device, only one
본 발명의 작동원리를 도 3을 참조하여 상술하면 다음과 같다. 먼저, 스켄헤드(11a,11b)는 일정한 거리를 두고 설치되어 있으며 스켄헤드 간의 거리는 필요에 따라 조정할 수 있다. 스켄헤드 모듈(27)은 y축 방향으로 이동할 수 있으며, 유연성 기판(13)은 롤의 형태로 공급이 되며, 고정 테이블(14)에 고정이 된 채로 x축 방향으로 이동할 수 있다. 기판(13)의 가공하고자 부분을 x축, y축 방향으로의 이동에 의하여 스켄헤드(11a,11b)의 하방에 위치시키고 나면 각각의 스켄헤드 (11a,11b)는 할당된 작업영역(A,B)의 기판에 레이저 빔을 조사하여 비아홀을 가공하게 되는 것이다. 즉, 하나의 스켄헤드(11a)는 하나의 작업영역(A)에 비아홀을 형성하고, 나머지 스켄헤드(11b)는 다른 작업영역(B)에 비아홀을 형성하는 작업을 하게 되는 것이다. 이 경우 한 개의 라인에서 동시에 두 개의 작업영역(A,B)에 비아 홀을 형성하는 작업을 하게 되므로 종래에 비하여 두 배의 생산성을 달성할 수 있게 되는 것이다. 이상과 같이 A,B 작업영역에서의 작업이 종료하면 유연성 기판 공급장치(12a,12b)에 의해서 기판의 롤이 로딩 및 언로딩 되면서 후속의 작업영역이고정 테이블(14)에 위치하도록 한 후 상기와 동일한 공정을 반복하게 된다. The operation principle of the present invention will be described with reference to FIG. 3 as follows. First, the scan heads 11a and 11b are provided at a predetermined distance, and the distance between the scan heads can be adjusted as necessary. The
전술한 본 발명의 실시예에서는 스켄헤드(11a,11b)를 일렬로 두 개를 배치한 것을 예로 들어 설명하였으나, 본 발명의 기술적 범위가 이에 한정되는 것은 아니며 스켄헤드(11a,11b)의 개수는 레이저 빔의 출력 및 기타의 사정 등을 감안하여 두 개 이상이 배치되도록 설계할 수 있다. In the above-described embodiment of the present invention, the scan heads 11a and 11b are arranged in two as an example, but the technical scope of the present invention is not limited thereto, and the number of the scan heads 11a and 11b is not limited thereto. Two or more may be designed in consideration of the output of the laser beam and other circumstances.
또한, 본 발명에서는 유연성 기판의 가공을 주요한 예로 들어 설명하였으나, 본 발명의 장치는 반도체 웨이퍼의 제조공정에도 동일하게 적용할 수 있을 것이며, 관통전극(Through silicon via)형 칩 접속방식을 이용한 차세대 패키징(packaging)기술에도 필수적으로 응용될 수 있을 것이다. In the present invention, the processing of the flexible substrate has been described as a main example, but the apparatus of the present invention may be similarly applied to the manufacturing process of the semiconductor wafer, and the next-generation packaging using the through-silicon via chip connection method It may be applied to packaging technology.
도 1은 본 발명의 비아홀 가공장치의 정면도. 1 is a front view of the via hole processing apparatus of the present invention.
도 2는 도 1의 측면도. 2 is a side view of FIG. 1;
도 3은 도 1의 부분 확대도. 3 is a partially enlarged view of FIG. 1;
도 4는 종래의 비아홀 가공장치의 정면도. 4 is a front view of a conventional via hole processing apparatus.
도 5는 도 4의 측면도. 5 is a side view of FIG. 4.
도 6은 도 4의 부분 확대도. 6 is a partially enlarged view of FIG. 4.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
10: 레이저 발진기 11a,11b: 스켄헤드10:
12a,12b: 기판 공급장치 13: 기판12a, 12b: substrate supply unit 13: substrate
14: 고정 테이블 15,20a,24: 리니어가이드14: fixed table 15, 20a, 24: linear guide
25,26: 볼스크류 16a,16b: 미러25, 26: ballscrew 16a, 16b: mirror
17: 빔 분할기 19: 클램핑 장치17: beam splitter 19: clamping device
23a,23b,23c: 프레임23a, 23b, 23c: frames
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