KR20100025366A - 나노와이어의 제조 방법 - Google Patents

나노와이어의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

다조성 나노와이어 및 이의 제조방법이 제공된다. 미세 유체 채널(microfluidic channel)로 복수의 수지들을 공급하고, 공급된 수지들을 광에 노출시켜 나노 와이어를 형성한다.

Description

나노와이어의 제조 방법{METHOD OF FABRICATING NANOWIRES}
본 개시(disclosure)는 대체로 나노와이어(nanowire)의 제조 방법에 관한 것이다.
최근 반도체 기술의 발달로 인하여 전자 부품 소자들은 그 크기가 매우 집적화 되어가고 있다. 특히 전자 부품 소자들의 집적화가 진행됨에 따라 소자들의 선폭은 미세하게 줄어들고 있는 추세이며, 동일한 면적 내에 집적도가 높은 회로를 구성하는 것이 필요하다. 집적화된 회로 내에서는 하나의 와이어가 복수의 구성요소 간을 접속하거나 하나의 와이어로 복수의 기능을 수행할 필요가 있으며, 이를 달성하기 위해서는 와이어가 복수의 조성을 갖는 것이 필요하다.
이하에는 복수의 조성을 갖는 나노와이어를 제조하는 기술이 개시된다.
일 실시예에 따르면, 나노와이어 제조 방법이 제공된다. 이러한 나노와이어 제조 방법에 의하면, 미세 유체 채널(microfluidic channel) 내로 복수의 수지들이 공급되고, 수지들이 상기 미세 유체 채널을 통해 흐르는 동안 상기 수지들을 광에 노출시켜, 상기 수지들로부터 이광자 흡수(two-photon absorption; TPA)에 의해 중합된 나노와이어가 제조된다.
다른 실시예에 따라, 나노와이어(multi-compositional nanostructure)를 제조하는 다른 방법이 제공된다. 이 방법에 의하면, 미세 유체 채널을 통해 복수의 수지들이 계속적으로 흘러 들어가고, 이광자 흡수(TPA)에 의해 상기 수지들 중 적어도 일부를 경화시켜 나노와이어를 제조하기 위하여 상기 유체 채널을 통해 흐르는 수지들이 광으로 조사된다.
상술한 내용은 본 개시의 사상으로부터 선택된 사항을 간략화된 형태로 제시하기 위해 기재된 것이며, 아래의 발명의 실시를 위한 구체적인 내용에서 이러한 구성을 더욱 상세히 기술한다. 또한, 이들 기재 내용은 본 개시의 특허청구범위에 기재된 주요 구성 또는 필수적 구성을 식별하기 위한 목적으로 기재된 것이 아니며, 또한 특허청구범위의 청구대상의 범위를 한정하기 위한 것이 아니다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 개시의 실시예들을 상세히 설명한다. 그러나 본 개시는 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명 하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 개시를 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분의 “위에” 있다고 할 때, 이는 다른 부분의 “바로 위에” 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로, 어떤 부분이 다른 부분의 “바로 위에” 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.
이제 본원의 실시예에 따른 나노 와이어 제조 방법에 대하여 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 개시의 일 실시예에 따른 나노와이어(nanowire)의 제조장치를 개략적으로 도시하는 개략도이다. 도 1에 도시된 나노와이어 제조장치(100)는 유체가 입력되는 유체 입력 제어부(110)와, 이 유체 입력 제어부(110)에 연결되며 유체 입력 제어부(110)를 통해 입력된 유체가 흐르는 복수의 미세 유체 채널(10)들을 갖는 채널부(120)와, 이 채널부(120)의 위에 위치하며 광을 공급하는 광원(130)을 포함한다.
유체 입력 제어부(110)에는 유체 공급부(200)로부터 유체 입력 제어부(110)로의 유체의 공급을 제어하기 위한 밸브(미도시)가 포함될 수 있다. 유체 공급부(200)에서 공급하는 유체는 액체 상태의 수지이며, 유체 입력 제어부(110)로 공급되는 액체 상태의 수지의 양과 속도를 이 밸브를 이용하여 조절할 수 있다. 아울러, 유체 입력 제어부(110)에는 후술되는 바와 같이 유체 채널(10) 내에 농도 구 배를 갖는 층류(laminar flow)가 형성되도록 하기 위한 유체 네트워크(fluidic network)(112)가 포함될 수도 있다. 도 1에서는 유체 입력 제어부(110)가 세 개의 유체 네트워크(112)를 포함하는 것으로 도시하였으나, 유체 네트워크의 수는 이에 한정되지 않는다. 아울러, 유체 네트워크(112)들은 각각 분리된 세 개의 유체 공급부(200)로부터 수지를 공급받는 것으로 도시되어 있으나, 연결되는 유체 공급부(200)의 수는 이에 한정되지 않으며, 또한 하나의 유체 공급부(200)가 복수의 유체 네트워크(112)에 연결될 수도 있다.
채널부(120)는 복수의 미세 유체 채널(10)들을 포함하는 것으로서, 각각의 미세 유체 채널(10)은 유체 입력 제어부(110)로부터 유체를 공급받는 입구(inlet)(미도시)를 적어도 하나 이상 포함할 수 있다. 도 1에서는 채널부(120)가 유체 입력 제어부(110)로부터 분리되어 별도의 연결 통로를 통해 유체를 공급받는 것으로 도시되어 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 예를 들어, 채널부(120)는 유체 입력 제어부(110)와 일체로 형성될 수도 있으며, 이 경우 채널부(120)와 유체 입력 제어부(110) 간에 도시된 연결 통로들은 필요하지 않게 될 것이다.
도면의 간략화를 위하여, 도 1에서는 유체 공급부(200)와 유체 입력 제어부(110) 간의 연결 통로와, 유체 입력 제어부(110)와 채널부(120) 간의 연결 통로가 실선의 형태로 표현되어 있으나, 이러한 연결 통로들은 내부에서 유체가 흐를 수 있는 어떠한 형태도 가능하다.
광원(130)은 유체 채널(10) 내의 수지를 광으로 조사하여, 수지 내의 분자들이 이 광으로부터 이광자(two-photon)를 흡수하도록 한다. 이광자 흡수에 대해서 는 이하의 도 4에 대한 설명 부분에서 상세히 설명한다. 광원(130)은 수지가 이광자를 흡수하여 광중합(photopolymerization)을 일으킬 수 있도록 할 수 있는 것이면 어떤 종류의 광원도 될 수 있으며, 예를 들어 UV 레이저를 포함할 수 있다. 도 1에서는 광원(130)을 분리된 두 개의 서브-광원의 형태로 도시하였으나, 광원(130)의 구성 및 형태는 이에 한정되지 않는다. 도 1에서는 광원(130)이 하나의 유체 채널(10)에 대해서만 광을 조사하는 것으로 도시되어 있으나, 광원(130)은 모든 유체 채널(10)에 대해 한 번에 광을 조사할 수도 있고, 한 번에 하나의 채널(10)씩 순차적으로 광을 조사할 수도 있다. 또한, 광원(130)은 광학 결정 구조, 센서, 소스 및 파장 가이드 등을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
도 2는 본 개시의 일 실시예에 따른 나노와이어 제조장치의 유체 채널을 모식적으로 도시한다.
먼저, 유체 입력 제어부(110)를 통해 유체 공급부(200)로부터 미세 유체 채널(10)로 복수의 수지(32, 34, 36)가 공급된다. 미세 유체 채널(10)의 일단에는 미세 유체 채널(10)로 유체 입력 제어부(110)로부터 수지를 공급하기 위한 복수의 입구(inlet)(미도시)가 연결될 수 있으며, 복수의 입구 각각으로부터 수지가 공급될 수 있다. 도 2에서는 수지의 수가 3가지인 것으로 도시하였지만, 이에 한정되지 않는다. 이들 수지는 동일한 조성의 수지일 수도 있고, 서로 다른 조성의 수지일 수도 있다. 수지들 중 일부가 동일한 조성을 갖는 것도 가능하다.
유체 채널(10) 내에서는 복수의 수지(32, 34, 36)가 서브 채널들 없이도 층류(laminar flow)를 이루면서 흐른다. 층류를 만드는 방법의 일례는, 하나의 미세 유체 채널(10) 내의 복수의 수지(32, 34, 36)의 흐름이 낮은 레이놀즈 수(Reynolds number)를 갖도록 하는 것이다. 레이놀즈 수는 아래의 수학식 1로서 표현되며, 난류(turbulent flow)와 층류(laminar flow)의 경계가 되는 임계값보다 높은 값을 갖는 경우 전체 유체의 흐름은 난류가 되고, 임계값보다 낮은 값을 갖는 경우 전체 유체의 흐름은 층류가 된다.
R=ρlv/υ
위 식에서 υ는 유체의 점성률, ρ는 유체의 밀도, v는 유체의 속도, l은 유체 채널의 수력학적 직경(hydraulic diameter)을 나타낸다.
즉, 수지들의 점성률을 높게, 수지들의 밀도와 속도를 작게, 유체 채널(10)의 너비 또는 폭을 작게 제어함으로써, 낮은 레이놀즈 수를 달성하여 층류가 형성되도록 할 수 있다.
본 개시의 일 실시예에서는, 유체 채널(10) 내에서 수지들(32, 34, 36)의 레이놀즈 수를 낮게 조정함으로써 층류를 이루는 동시에, 농도 구배(gradient)가 존재하도록 할 수도 있다. 도 3은 이러한 농도 구배를 형성하기 위한 유체 네트워크(112)를 개략적으로 도시하는 도면이다. 유체 네트워크(112)는 유체 입력 제어부(110) 내에 포함될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
도 3에는 유체 네트워크(112)가 유체 공급부(200)에 연결되어 수지를 공급받는 세 개의 입구(114, 115, 116)와, 낮은 레이놀즈수에 의해 층류를 형성한 수지를 유체 채널(10)로 공급하는 출구(119)를 포함하는 것으로 나타내었으나, 이러한 배 치 방식에 한정되는 것은 아니다. 또한, 도 3에는 세 개의 입구 중 두 입구(114 및 116)를 통해 동일한 농도의 수지가 주입되고, 나머지 입구(115)를 통해 그와 상이한 농도의 수지가 주입되는 것으로 도시하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 도 3에 표시된 도면부호 114 내지 117의 음영표시가 서로 다른 것은, 이들을 통해 흐르는 수지의 농도가 서로 다른 것임을 표시하기 위한 것이다.
유체 네트워크(112)는, 입구(114, 115, 116)와 출구(119)의 사이에, 각 입구(114, 115, 116)로부터 공급된 수지가 분리되는 복수의 가지점(118)들을 갖는 네트워크부(117)를 포함한다. 가지점은 입구(114, 115, 116)로부터 네트워크부(117) 내로 유입된 유체 상태의 수지들이 일정한 비율로 분리되어 흐르도록 형성되어 있으며, 복수의 수지들이 이와 같이 형성된 복수의 가지점들을 거치면서 서로 일정 비율로 혼합되어 일정한 농도 구배를 갖는 수지의 흐름이 형성된다. 네트워크부(117)는 구부러진 지점을 많이 가짐으로써 유체의 속도를 낮게 유지하고 통로의 폭을 작게 함으로써 수력학적 직경을 작게 하여, 레이놀즈수가 낮게 유지되도록 구성될 수 있다. 이러한 구조적 특징상, 네트워크부(117)를 거쳐 나온 복수의 수지가 출구(119) 내에서 서로 섞이지 않고 층류를 형성할 수 있다. 층류의 농도 구배는 입구(114, 115, 116)로부터 유입되는 수지들의 흐름 속도가 빠를수록 더욱 명확(distinct)해진다. 도 3에 도시된 유체 네트워크(112)의 토폴로지(topology)는 예시의 목적으로 제시된 것일 뿐이며, 이에 한정되지 않는다.
다시 도 2를 참조하면, 유체 채널(10)은 광원(130)으로부터 공급되는 광을 투과시킬 수 있는 어떠한 재료로도 구성될 수 있다. 수지(32, 34, 36)는 UV 광의 조사에 의해 이광자 흡수(TPA)가 발생할 수 있는 수지라면 어느 것이라도 가능하며, 이러한 수지의 예로는 우레탄 아크릴산 모노머(monomer)와 우레탄 아크릴산 올리고머(oligomer)와 광 개시제로 구성되는 SCR500(JSR, 일본)과 같은 상업적으로 이용 가능한 수지가 있다. 그러나, 수지(32, 34, 36)는 광 개시제와 함께 우레탄 아크릴산 모노머나 우레탄 아크릴산 올리고머 중 어느 하나만을 포함할 수도 있다. 또 다른 예로서, 수지들은 이광자 흡수가 발생할 수 있는 p형 실리콘 및 n형 실리콘의 모노머 또는 올리고머와 광 개시제를 포함할 수도 있다.
유체 채널(10)에 공급되는 수지(32, 34, 36)는 액체 상태이며, 이들 수지가 유체 채널을 통하여 흐르는 동안 광을 받아 이광자 흡수에 의해 광중합(고체화)되어, 나노와이어가 형성된다. 이광자 흡수에 의한 광중합은 전자의 여기, 래디컬 생성, 연쇄적인 광중합의 세 단계로 구성된다.
도 4는 이광자 흡수에 따른 전자의 여기와 래디컬의 생성을 설명하는 개념도이다. 유체 채널(10)을 흐르는 액체 상태의 수지(32, 34, 36)는 광원(130)으로부터의 광에 노출된다. 대부분의 모노머 또는 올리고머는 통상적으로 광 노출에 반응하여 충분한 퀀텀 수율(yield)을 갖는 종들의 광중합을 개시하는 성질을 갖지 않는다. 따라서, 수지(32, 34, 36)는 광 노출에 따라 중합을 개시하게 하는 광 개시제를 포함한다. 이러한 광 개시제는, 예를 들어, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토 페논(2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone)을 포함할 수 있으나, 이것으로 한정되는 것은 아니다. 광에 노출된 광 개시제의 원자가 전자(valence electron)는 두 개의 광자를 동시에 흡수함(즉, 이광자 흡수; TPA)으로써 그라운드(So) 상태에서 제1 여기 단일항(singlet)(S1) 상태로 여기된다. 그 후, 여기된 전자는 인터시스템 크로싱(intersystem crossing)에 의해 삼중항(triplet) 상태(T1)로 천이된다. S1 상태에서 T1 상태로 천이하는 도중에 광 개시제는 결합 절단(bond cleavage)을 겪게 되고, 이에 의해 광중합을 위한 래디컬들이 생성된다.
이 생성된 래디컬들은 모노머들과 높은 반응성을 가진다. 래디컬은 모노머와 반응하여 결합되고, 이에 의해 래디컬 모노머가 생성된다. 이 래디컬 모노머는 중합 종료시(예를 들어, 래디컬 소멸(radical quenching)시나 두 개의 래디컬 모노머 중합시)까지 새로운 모노머 분자들과 계속하여 반응하여 연장된다. 이러한 반응은 모노머들 간에만 발생하는 것이 아니며, 모노머들과 올리고머들 간 또는 올리고머들 간에도 발생할 수 있다. 이러한 연쇄적인 반응에 의해, 유체 채널(10)을 통하여 흐르는 수지(32, 34, 36) 내의 모노머 및 올리고머가 중합됨으로써, 액체 상태의 수지(32, 34, 36)가 광이 조사된 부분에서 경화되며, 이 경화된 부분이 나노와이어를 구성하게 된다.
이와 같이, 수지에서 두 개의 광자를 흡수할 수 있도록 액체 상태의 수지(32, 34, 36)를 광원(130)으로부터의 광에 노출시킴으로써, 고체 상태의 나노 구조를 얻을 수 있다. 본원의 일 실시예에서는, 이와 같이 복수의 수지(32, 34, 36) 상에서의 광의 노출을 제어함으로써 복수의 조성을 갖는 나노와이어를 제조한다.
이하 광의 노출을 제어하는 방법을 도 5를 참조로 하여 설명한다. 도 5는 본 개시의 일 실시예에 따른 다조성 나노와이어의 제조 방법을 설명하기 위한 개략도이다. 도 5에서 수지(32, 34, 36)는, 유체 채널을 통해 흘러가는 동안, 소정의 시간 동안 연속적으로 특정한 노출 패턴(20)을 갖는 광에 노출된다. 연속적으로 소정의 노출 패턴(20)의 광에 노출됨으로써, 수지(32, 34, 36)가 선의 형태로 경화되어, 나노와이어가 생성될 수 있다. 도 5에는 광원(130)에 의해 수지(32, 34, 36) 상에 조사되는 광의 노출 패턴(20)이 수지(32, 34, 36)의 흐름 방향에 대해 수직의 방향에서 상하로 이동하는 경우를 나타내었다. 수지(32, 34, 36)가 유체 채널(10)을 통해 흐르는 동안 노출 패턴(20)이 상하로 움직이는 경우, 수지(32, 34, 36) 상에 조사되는 광의 노출 패턴(20)의 궤적은 도 5에 도시된 바와 같이, 대략 사인 곡선의 형태를 갖게 된다. 수지(32, 34, 36)의 흐름이 느리고, 노출 패턴(20)의 상하 왕복 주기가 짧을 경우, 노출 패턴(20)은 층류를 이루는 수지(32, 34, 36)의 대부분의 영역을 지나게 되어, 수지(32, 34, 36)들은 일체로 중합될 수 있다.
도 5에서는 광원의 제어가 노출 패턴(20)의 상하 운동에 의해 행해지고, 노출 패턴의 궤적이 수지(32, 34, 36)의 대부분의 영역을 커버하는 것으로 도시되었으나, 본 개시는 이에 한정되지는 않으며, 복수의 수지가 일체로서 경화될 수 있는 제어 방식은 무엇이든 포함할 수 있다. 예를 들어, 유체 속도를 감소시켜 노출 패턴(20)의 주변 영역의 수지까지도 경화할 충분한 시간적 여유를 허용할 수도 있다. 이 경우, 노출 패턴(20)의 궤적이 수지의 일부 영역만을 지나가더라도, 그 주변 영역까지 함께 경화되기 때문에, 노출 패턴(20)의 궤적이 수지의 대부분의 영역을 지 나가는 경우와 마찬가지로, 일체형의 다조성 나노와이어가 제조될 수 있다.
아울러, 수지(32, 34, 36)에 조사되는 노출 패턴(20)을 조절함으로써, 이 노출 패턴(20)에 대응하는 모양 및 크기를 갖는 나노와이어를 얻을 수 있다. 도 5에서 노출 패턴(20)은 원의 형태를 갖는 것으로 도시되었으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 노출 패턴(20)은 삼각형, 사각형, 또는 어떤 임의의 모양도 포함할 수 있다. 또한, 도 5에서는 세 종류의 수지(32, 34, 36)만이 유체 채널(10)을 통해 흐르는 것으로 도시되어 있으나, 본 개시는 이에 한정되지 않으며, 원하는 수의 수지를 공급할 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다.
이상에서 설명된 나노와이어 제조 방법들에 의해 제조된 나노와이어는 전자 소자, 태양광 전지(solar cell), 직물(textile), 바이오 센서(bio sensor)와 같은 작은 크기의 구조를 갖는 응용들에 이용될 수 있다. 전자 소자는, p형 실리콘과 n형 실리콘의 조성을 갖는 나노와이어의 p형 실리콘 종단(terminal)과 n형 실리콘 종단(terminal)에 접속되는 회로를 구성함으로써 제작될 수도 있다. 태양광 전지는 나노와이어를 이용하여 플라스틱 덮개의 형태나 페인트의 형태로 제작될 수 있다. 이러한 태양광 전지는 코팅제의 형태로 제작되어, 태양광이 있는 곳이면 어디든 코팅될 수도 있다. 또한, 나노와이어는 직물(textile)을 제작하는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 나노와이어를 거미줄과 같은 형태로 함으로써, 얇으면서도 강도 높은 직물이 제작될 수 있다. 아울러, 센싱 대상 내에 직접 삽입되어 센싱을 수행하는 나노 바이오 센서에도 나노와이어가 사용될 수 있다. 이상에서는 이와 같은 응용들만이 소개되었으나, 본 개시는 이에 한정되지 않는다.
상기 사항들로부터, 본 개시의 특정 실시예들이 여기에서 예시의 목적으로 설명되었고, 본 개시의 사상 및 범위로부터 벗어남 없이 다양한 변경들이 행해질 수 있음이 이해될 것이다. 따라서, 설명된 실시예들은 모든 점에서 예시적인 것으로서, 그리고 제한적이지 않은 것으로서, 고려된다. 그러므로, 본 개시의 범위는, 상기 설명에 의해서가 아니라, 첨부된 청구항들에 의해서만 지정된다. 첨부된 청구항들의 균등의 의미와 범위 내의 모든 변형들이 첨부된 청구항들의 범위 내에 포함될 수 있다.
도 1은 본원의 일 실시예에 따른 나노와이어(nanowire)의 제조장치의 개략도이다.
도 2는 본원의 일 실시예에 따른 나노와이어 제조장치의 유체 채널의 개략도이다.
도 3은 본원의 일 실시예에 따른 수지의 농도 구배를 형성하기 위한 유체 네트워크(fluidic network)의 개략도이다.
도 4는 이광자 흡수에 따른 전자의 여기와 래디컬의 생성을 설명하는 개념도이다.
도 5는 본원의 일 실시예에 따른 다조성 나노와이어의 제작 방법을 설명하기 위한 개략도이다.

Claims (12)

  1. 나노와이어(polymeric nanostructure)를 제조하는 방법으로서,
    유체 채널(microfluidic channel) 내로 복수의 수지들을 공급하는 단계;
    상기 복수의 수지들이 상기 유체 채널을 통해 흐르는 동안 상기 복수의 수지들을 광에 노출시켜, 상기 수지들로부터 이광자 흡수(TPA)에 의해 중합된 나노와이어를 제조하는 단계
    를 포함하는, 나노와이어 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 수지들은 서로 다른 조성을 갖는, 나노와이어 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 서로 다른 조성은 p형 실리콘 및 n형 실리콘을 포함하는, 나노와이어 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 수지들을 공급하는 단계는, 우레탄 아크릴산 모노머, 또는 우레탄 아크릴산 올리고머, 또는 이들 모두를 광 개시제(photo-initiator)와 함께 상기 유체 채널 내로 공급하는 단계를 포함하는, 나노와이어 제조 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 나노와이어를 제조하는 단계는, 상기 광의 소정의 노출 패턴에 상기 수지들을 노출시키는 단계를 포함하는, 나노와이어 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 나노와이어를 제조하는 단계는, 상기 유체 채널의 폭 내에서 상기 소정의 노출 패턴을 상하로 이동시키는 단계를 더 포함하는, 나노와이어 제조 방법.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 수지들을 공급하는 단계는, 서로 다른 물질들을 공급하는 복수의 입구(inlet)로부터 상기 유체 채널로 상기 복수의 수지들을 제공하는 단계를 포함하는, 나노와이어 제조 방법.
  8. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 수지들을 공급하는 단계는, 상기 복수의 수지들을 소정의 비율로 혼합시켜 농도 구배를 갖도록 하는 단계를 포함하는, 나노와이어 제조 방법.
  9. 나노와이어(multi-compositional nanostructure)를 제조하는 방법으로서,
    유체 채널을 통해 복수의 수지들을 계속적으로 흘려주는 단계; 및
    이광자 흡수(two-photon absorption; TPA)에 의해 상기 복수의 수지들 중 적어도 일부분을 경화시켜 나노와이어를 제조하기 위하여 상기 유체 채널을 통해 흐르는 수지들을 광으로 조사하는 단계
    를 포함하는, 나노와이어 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 유체 채널을 통해 흐르는 상기 복수의 수지들의 적어도 일부분은 소정의 노출 패턴을 갖는 상기 광으로 조사되는, 나노와이어 제조 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 소정의 노출 패턴은 점 모양의 패턴을 갖는, 나노와이어 제조 방법.
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서,
    상기 소정의 노출 패턴의 상기 광은 상기 유체 채널의 폭 내에서 상하로 이동하는, 나노와이어 제조 방법.
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