KR20100021771A - 스피닝 디스크 반응 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 디스크 내부에 반응을 위한 또 하나의 디스크를 포함하는 스피닝 디스크 반응 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명의 스피닝 디스크 반응 장치는 1종 이상의 반응물 공급부; 소정의 회전축을 기준으로 회전 가능하게 이루어져 있고, 상기 반응물 공급부로부터 공급된 반응물의 반응이 진행되는 제 1 디스크; 상기 반응물 공급부로부터 반응물을 이동시켜 상기 제 1 디스크 상에 공급 가능하도록 형성된 반응물 공급로; 상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있으며, 열매체가 형성되어 있는 제 2 디스크; 상기 제 1 디스크 상에서 반응된 생성물을 수집하는 생성물 수집부; 및 상기 회전축 및 제 1 디스크를 회전시키기 위한 구동부를 포함한다.

중합반응, 에테르화 반응, 스피닝 디스크, 제1디스크, 제2 디스크

Description

스피닝 디스크 반응 장치{Spinning disc reactor}

본 발명은 스피닝 디스크 반응 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반응물이 디스크 표면에 고루 분포되어 반응속도가 빠르고, 반응이 일어나는 디스크 전체 면적을 균일한 온도로 만들 수 있는 스피닝 디스크 반응 장치에 관한 것이다.

일반적으로 화학반응을 통해 생성물을 얻기 위해서는 반응장치가 필요하다. 이러한 반응장치로는 일반적으로 하나의 반응기에 반응물을 첨가한 후 교반 등을 통해 이루어지는 회분식 반응기가 이용된다. 하지만, 회분식 반응기는 연속반응을 위한 공정에는 응용될 수 없으며, 촉매를 사용하는 반응의 경우, 촉매의 분리공정이 필수적이여서 대용량이 될수록 비용이 상승되는 문제가 있다.

따라서, 이러한 문제 해결을 위한 반응기로 고속 스피닝 디스크 반응장치(spinning disc reactor)가 알려져 있다. 상기 스피닝 디스크 반응장치의 일반적인 구조는 도 1에 도시된 바와 같이, 내부로 냉각수의 공급 및 배출이 이루어지는 스피닝 디스크, 반응물 투입을 위한 액체 공급부 및 생성물을 수집하기 위한 생성물 수집탱크를 기본적으로 포함한다. 상기 반응장치는 회전하는 디스크 표면에 반응물을 공급한 후 표면에 생긴 강한 원심력으로 반응을 진행시켜 생성물을 얻을 수 있도록 한다. 유기 합성반응에 상기 반응장치를 이용할 경우 디스크 표면에 촉매를 코팅한 후 필름형태로 적용하여 반응을 진행하고 있다. 상기 스피닝 디스크 반응장치는 기존 회분식 반응기와 비교하여, 디스크 위에 촉매를 고정시킬 수 있어 별도의 촉매 분리공정이 필요없고, 원심력에 의한 혼합 및 열전달 효과 때문에 촉매의 활성이 높아지고 부반응을 줄일 수 있는 장점이 있다.

한편, 도 1에서 보면, 종래 스피닝 디스크 반응장치는 내부로 냉각수의 공급 및 배출이 이루어지는 1개의 스피닝 디스크로 액체를 공급한 후, 이를 회전시켜 생성물을 얻은 후 수집하고 있다. 하지만, 상기 방법의 경우 스피닝 디스크 표면에 적하된 액체 반응물의 일부가 회전에 의한 원심력으로 스피닝 디스크 외부로 튀어나가 생성물에 다량 섞이게 되는 문제가 있고, 다량의 액체가 투입될 경우 반응물의 전환율이 떨어지고 반응속도도 저하되어 반응수율을 저하시킬 수 있다. 또한, 온도 제어가 필요한 반응의 경우 도 1에서 보는 바와 같이 냉각수 등을 디스크 내부를 통해 흘러주어, 온도를 제어하지만, 냉각수가 좁은 유로를 따라 흐르면서 온도가 변할 수 밖에 없기 때문에 반응이 일어나는 디스크 전체 면적을 균일한 온도로 만들어주기가 어려운 문제점이 있다.

이에, 본 발명의 목적은 반응이 일어나는 디스크 표면에 반응물을 고루 분포시켜 물질전달속도를 높이고 반응속도를 빠르게 할 수 있으며, 반응이 일어나는 디스크 표면의 전체 면적을 균일한 온도로 만들어 줄 수 있는 스피닝 디스크 반응 장치를 제공하는 것이다.

본 발명은 1종 이상의 반응물 공급부; 소정의 회전축을 기준으로 회전 가능하게 이루어져 있고, 상기 반응물 공급부로부터 공급된 반응물의 반응이 진행되는 제 1 디스크; 상기 반응물 공급부로부터 반응물을 이동시켜 상기 제 1 디스크 상에 공급 가능하도록 형성된 반응물 공급로; 상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있으며, 열매체가 형성되어 있는 제 2 디스크; 상기 제 1 디스크 상에서 반응된 생성물을 수집하는 생성물 수집부; 및 상기 회전축 및 제 1 디스크를 회전시키기 위한 구동부를 포함하는 스피닝 디스크 반응 장치를 제공한다.

또한, 본 발명은 1종 이상의 반응물 공급부; 소정의 회전축을 기준으로 회전 가능하게 이루어져 있고, 상기 반응물 공급부로부터 공급된 반응물의 반응이 진행되는 제 1 디스크; 상기 반응물 공급부로부터 반응물을 이동시켜 상기 제 1 디스크 상에 공급 가능하도록 형성된 반응물 공급로; 상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있는 제 2 디스크; 상기 제 2 디스크 상에 열매체를 공급 가능하도록 형성되어 있는 열매체 공급부; 상기 제 1 디스크 상에서 반응된 생성물을 수집하는 생성물 수집 부; 및 상기 회전축 및 제 1 디스크를 회전시키기 위한 구동부를 포함하는 스피닝 디스크 반응 장치를 제공한다.

본 발명의 스피닝 디스크 반응 장치는 제 1 디스크 즉, 내부 디스크 상에 반응물을 고루 분포시켜, 물질전달속도를 크게 함으로서, 반응속도를 증가시키고, 아울러 제 2 디스크(외부디스크)도 다른 반응에 이용하거나, 열매체를 공급하여 반응온도제어를 통해 생산성을 높일 수 있다. 따라서, 본 발명의 스피닝 디스크 반응 장치는 여러 가지 단량체를 이용한 중합반응이나 에테르 반응에 경제적으로 유용하게 사용될 수 있다.

이하, 본 발명의 구체적인 구현예 및 실시예를 통하여 발명의 구성 및 효과를 보다 상세히 설명하기로 한다. 그러나 하기의 구현예 및 실시예는 발명을 보다 명확하게 이해시키기 위한 것일 뿐이며, 발명의 권리범위가 하기 구현예 및 실시예에 한정되는 것은 아니다.

도 2는 본 발명의 제 1 구현예에 따른 스피닝 반응 장치의 전체 개략도이고, 도 3은 상기 스피닝 디스크 장치의 제 2 디스크(20) 내부의 종단면을 간략히 도시한 것이다.

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 1구현예에 따른 스피닝 디스크 반응 장치는 1종 이상의 반응물 공급부(24); 소정의 회전축(22, 32)을 기준으로 회전 가능하게 이루어져 있고, 상기 반응물 공급부로부터 공급된 반응물의 반응이 진행되는 제 1 디스크(30); 상기 반응물 공급부로부터 반응물을 이동시켜 상기 제 1 디스크 상에 공급 가능하도록 형성된 반응물 공급로(34); 상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있으며, 열매체가 형성되어 있는 제 2 디스크(20); 상기 제 1 디스크 상에서 반응된 생성물을 수집하는 생성물 수집부(50); 및 상기 회전축 및 제 1 디스크를 회전시키기 위한 구동부(60; 예를 들어 모터, 이하 같다.)를 포함한다.

또한, 상기 제 1 구현예에 따른 스피닝 디스크 장치에 있어서, 상기 열매체(42)는 제 2디스크(20) 주위를 감싸도록 설계된 형태일 수도 있다. 열매체가 제 2 디스크 주위를 감싸도록 형성된 스피닝 디스크 반응 장치는 도 5에 간략히 도시되었다. 열매체가 제 2 디스크 주위를 감싸도록 형성되는 경우에도 제 2 디스크 전체를 감싸는 열매체로 인해, 냉각수가 내부로 흐르는 종래의 디스크 장치에 비해 제 2 디스크 전체 면적을 통해 온도가 균일하게 되고, 이에 따라, 반응이 일어나는 제 1디스크(30)의 표면 역시 균일한 온도 분포를 갖을 수 있다. 열매체가 제2 디스크(20) 주위를 감싸도록 형성된 디스크 반응 장치의 경우, 추가적으로 열매체를 반응기(10) 내부로 주입하기 위한 열매체 투입부(70) 및 반응이 끝난 후 혹은 반응 도중 열매체를 반응기 밖으로 배출하기 위한 열매체 배출부(72)를 포함하도록 설계될 수 있다.

한편, 상기 제 1 구현예에 따른 스피닝 디스크 장치에 있어서, 상기 열매 체(42)는 제 1 디스크(30) 표면에서 일어나는 반응의 종류에 따라 냉각 매체 또는 가열 매체를 선택하여 구비될 수 있다. 제 1 디스크 표면에서 일어나는 반응의 종류가 발열 반응인 경우, 열매체는 냉각매체가 구비되고, 반대로 제 1디스크 표면에서 일어나는 반응의 종류가 흡열 반응인 경우, 열매체는 가열 매체가 구비된다.

또한, 상기 제 1 구현예에 따른 스피닝 디스크 반응 장치에 있어서, 상기 제 2디스크(20)는 제 1 디스크(30) 상에 공급되는 반응물의 공급량에 대응하는 공간만큼 이격되어 설계될 수 있다. 이 때, 제1디스크와 제 2 디스크 간의 이격 간격은 공급되는 반응물의 물성이나 반응물의 유입유량 등을 고려하여 설계할 수 있다. 반응물 공급부(24)를 통해 공급된 반응물은 제 1디스크(30) 회전과 동시에 제1디스크 표면에서 상기 제 2디스크(20) 내부와의 이격 공간 내에서 반응을 하게 된다. 종래의 스피닝 디스크 반응 장치를 사용하는 경우에 비해, 상기 제 1 구현예에 따라 제 1디스크를 설계하여 사용하는 경우, 제 1 디스크 표면과 제 2디스크 내벽 사이의 공간으로 인해 반응물이 외부로 튀어나가는 일이 적고, 또한 제 2 디스크 내벽으로 튀어나간 반응물은 상기 내벽과 부딪친 후, 다시 제 1디스크 표면으로 돌아와 제 1 디스크 표면에 반응물 필름층을 얇게 형성한다. 반응물이 디스크 표면에 얇고, 고르게 필름층을 형성하는 경우 물질전달속도가 커져, 반응속도가 증가하며, 따라서 궁극적으로 공정의 생산성을 높일 수 있다.

제 1 구현예에 따른 스피닝 디스크 반응 장치에 있어서, 실시예에 따라 제 2 디스크는 제 1 디스크와 동일한 속도로 회전 가능하게 이루어질 수도 있고, 또는 제 2디스크는 고정된 채, 제 1 디스크만 회전 가능하게 설계될 수 있다. 제 2 디스 크와 제 1디스크가 동일한 속도로 회전 가능하게 이루어진 스피닝 반응 장치는 반응물이 전단속도에 따라 점도가 증가하는(shear-thickening) 물질인 경우에 유용하게 사용될 수 있다. 한편, 또 다른 실시예에 따라 제 2 디스크가 고정된 채, 제 1 디스크만 회전 가능하게 설계된 스피닝 디스크 반응 장치의 경우, 서로 혼합이 극히 어러운 두 물질간의 반응 또는 반응물이 전단속도에 따라 점도가 감소하는(shear-thinning) 물질인 경우에 유용하게 사용될 수 있다.

한편, 본 발명의 제 2구현예에 따른 스피닝 디스크 반응 장치는 1종 이상의 반응물 공급부(24); 소정의 회전축(32)을 기준으로 회전 가능하게 이루어져 있고, 상기 반응물 공급부로부터 공급된 반응물의 반응이 진행되는 제 1 디스크(30); 상기 반응물 공급부로부터 반응물을 이동시켜 상기 제 1 디스크 상에 공급 가능하도록 형성된 반응물 공급로(34); 상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있는 제 2 디스크(20); 상기 제 2 디스크 상에 열매체를 공급 가능하도록 형성되어 있는 열매체 공급부(40); 상기 제1디스크상에서 반응된 생성물을 수집하는 생성물 수집부(50); 및 상기 회전축 및 제1 디스크를 회전시키기 위한 구동부(60;예를 들어, 모터)를 포함한다. 상기 제 2 구현예에 따른 스피닝 디스크 반응 장치의 제 2 디스크 내부의 종단면은 간략히 도 4에 개시되어 있다.

상기 구현예에 따른 스피닝 디스크 반응 장치에 있어서, 상기 열매체 공급부(40)는 상기 제 1디스크(30)를 둘러싼 제 2 디스크(20) 상에 균일한 양으로 열매체를 공급 할 수 있도록 두 개 이상 형성될 수 있다. 상기 열매체 공급부는 제 2 디스크의 중심을 기준으로 일정 반경을 기준으로 동심원을 그리며 형성될 수 있다. 또한, 내부 디스크 상에서 일어나는 반응의 종류를 고려하여, 제 2 디스크 상에서 방사상 형태 또는 나선 형태로 배열될 수 있다. 상기 열매체 공급부의 개수 및 배열형태는 내부 디스크 상에서 일어나는 반응의 종류에 따른 반응열을 고려하여 설계될 수 있다. 이때, 상기 열매체 공급부로 공급되는 열매체는 제 1 디스크 표면에서 일어나는 반응의 종류에 따라 냉각 매체 또는 가열 매체에서 선택될 수 있다. 즉, 제 1 디스크 표면에서 일어나는 반응이 발열 반응인 경우 상기 열매체는 냉각 매체가 되고, 제 1 디스크 표면에서 일어나는 반응이 흡열 반응인 경우 열매체는 가열 매체가 된다. 상기와 같이 제 2 디스크 상에 열매체 공급부가 형성됨으로서, 반응이 일어나는 제 2 디스크 표면의 전체 면적을 균일한 온도로 할 수 있다.

본 발명의 제 2 구현예에 따른 스피닝 디스크 반응 장치의 경우에도, 제 2 디스크는 상기 제 1 디스크 상에 공급되는 반응물의 공급량에 대응하는 공간만큼 이격되어 상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있는 형태로 설계될 수 있다. 이미 상술한 바와 같이, 상기 이격 공간에 의해 제 1 디스크 상에 공급된 반응물이 튀어나가는 일 없이 제 1디스크 표면에 고루 분포되어 유효반응면적을 넓힐 수 있어, 반응 속도도 빠르게 할 수 있어 전체적으로 공정 생산성을 높일 수 있다.

본 발명의 제 2 구현예에 따른 스피닝 디스크 반응 장치의 경우, 제 2 디스크는 제 1디스크와 동일한 속도로 회전 가능하게 설계될 수 있다. 이 때, 각각의 디스크 표면에서는 서로 다른 반응이 진행될 수 있다. 구체적인 실시예에 따라, 상기 제 1 디스크 상에서 발열 반응이 일어나고, 열매체 공급부를 통해서는 흡열 반 응을 위한 반응물이 공급되어, 제 2 디스크 표면에서는 흡열 반응이 상기 발열 반응과 동시에 일어나는 형태로 설계될 수 있다.

또 다른 실시예에 따라서는 상기 제 1 디스크 상에서 흡열 반응이 일어나고, 열매체 공급부를 통해서는 발열 반응을 위한 반응물이 공급되어, 제 2 디스크 표면에서는 발열 반응이 상기 흡열 반응과 동시에 일어나는 형태로 설계될 수 있다.

상기와 같이 제 1 및 제 2 디스크 모두를 반응에 활용하는 경우, 별도의 온도제어 수단을 구비하지 않고도 반응의 온도제어가 가능하며, 하나의 반응장치로 동시에 두 가지 반응을 진행할 수 있어 전체 공정 효율을 높일 수 있다.

상술한 바와 같은, 제 1 또는 제 2 구현예의 스피닝 디스크 반응 장치는 제 1디스크(30) 또는 제 1 디스크 표면에 촉매 또는 개시제가 코팅되는 형태로 설계될 수 있다. 이때, 촉매 또는 개시제가 코팅되는 디스크는 바람직하게는 제 1디스크가 되며, 제 1 구현예에 있어서, 제 2디스크도 회전시켜 제 1 디스크와 달리 또 다른 반응을 진행시키는 경우이거나, 제 2 구현예에 따른 반응 장치인 경우 제 2디스크도 함께 코팅될 수 있다. 상기 코팅되는 촉매 또는 개시제는 스피닝 디스크 장치가 적용되는 반응에 따라 선택한다. 상기 촉매는 중합반응의 경우 통상의 금속촉매, 금속담지 촉매, 또는 비활성 촉매 등을 포함할 수 있고, 그 종류가 특별히 한정되지 않는다. 한편, 개시제일 경우, 중합반응에 사용되는 통상의 중합반응 개시제가 사용될 수 있다. 또한 코팅두께는 반응을 진행할 수 있는 정도면 특별히 한정되지 않는다.

상기 스피닝 디스크 반응장치는 반응기 외벽 또는 내벽에 반응을 진행시키기 위한 가열수단 및 온도조절수단을 추가로 구비할 수 있다. 제 1 디스크 표면에서 일어나는 반응의 온도조건을 제어하기 위해서, 반응기 외벽 또는 내벽의 가열수단 및 온도조절수단을 활용한다.

상기 스피닝 디스크 반응장치의 사용시 반응물의 투입은 디스크 표면에서의 체류시간을 고려하여 결정하며, 반응물의 디스크 표면 체류시간은 0.1 내지 1초가 바람직하다. 또한, 상기 스피닝 디스크는 중력가속도의 1 내지 100배가 되도록 하며(G = 1 내지 100), 디스크의 반지름에 따라 다음 식에 따른 회전 속도로 모터를 이용하여 회전되는 것이 바람직하다.

[식 1]

상술한 제 1 또는 제 2 구현예의 반응장치를 이용한 반응은 기-액 반응, 액-액 반응을 포함할 수 있으며, 바람직하게 중합반응 및 에테르화 반응을 포함한다. 상기 중합반응은 액상중합반응, 기상중합반응 또는 자유라디칼 중합반응을 포함할 수 있고, 그 반응 종류가 특별히 한정되지는 않는다. 예를 들면, 에테르화 반응의 경우 적어도 하나의 올레핀과 알코올을 반응물질로 하여 상기 반응물 투입부 수단을 이용하여, 첫 번째 단의 스피닝 디스크 장치로 투입하고, 모터를 이용하여 동일 회전축을 중심으로 스피닝 디스크를 회전시켜 반응을 진행시킴으로써, 에테르 또는 에테르 혼합물을 제조할 수 있다. 이때 상기 스피닝 디스크 표면은 제올라이트 촉매가 코팅된 형태일 수 있다. 또한, 상기 올레핀은 탄소수 2 내지 4의 알켄 또는 알킨일 수 있고, 알코올은 탄소수 1 내지 8의 저급알코올일 수 있다.

또한, 자유라디칼 중합반응을 진행하는 경우, UV 광원을 제공하기 위한 램프가 더 구비될 수 있다. 상기 반응장치는 선택적으로 기-액 반응을 진행하는 경우 기체 공급부 및 잔여기체 배출부를 더 포함할 수 있다. 즉, 본 발명의 반응장치는 선택적으로 반응기 외벽에 반응기 내부로 기체를 공급할 수 있는 기체투입부가 설치될 수 있다. 이러한 경우 기체는 반응기 내벽의 턱 바로 아래에 투입구를 설치하여 투입하는 것이 보다 바람직하다. 또한 반응 후 생성된 잔여 기체는 반응기 상단에 별도로 설치된 배출부를 통해 배출시킬 수 있다.

상기 반응장치의 반응기는 스테인레스 재질로 이루어진 것을 사용할 수 있지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.

도 1은 종래 스피닝 디스크 반응 장치의 구성도를 간략히 나타낸 것이다.

도 2는 본 발명의 제 1 구현예에 따른 스피닝 디스크 반응 장치의 구성을 간략히 도시하여 나타낸 것이다.

도 3는 본 발명의 제 1구현예에 따른 스피닝 디스크 반응 장치의 제2디스크의 내부의 종단면을 간략히 도시하여 나타낸 것이다.

도 4는 본 발명의 제 2 구현예에 따른 제2디스크 상에 열매체 공급부가 있는 스피닝 디스크 반응 장치의 종단면을 간략히 도시하여 나타낸 것이다.

도 5 은 본 발명의 일 실시예에 따른 열매체가 제2디스크 주위를 감싸도록 형성되어 있는 스피닝 디스크 반응 장치를 간략히 도시하여 나타낸 것이다.

<도면의 간단한 설명>

10 : 반응기 20 : 제 2 디스크

22 : 제 2 디스크 회전축 24 : 반응물 공급부

30 : 제 1 디스크 32 : 제1 디스크 회전축

34 : 반응물 공급로

40 : 열매체 공급부 42 : 열매체

50 : 생성물 수집부 60 : 구동부(모터)

70 : 열매체 투입부 72 : 열매체 배출부

Claims (17)

1종 이상의 반응물 공급부;

소정의 회전축을 기준으로 회전 가능하게 이루어져 있고, 상기 반응물 공급부로부터 공급된 반응물의 반응이 진행되는 제 1 디스크;

상기 반응물 공급부로부터 반응물을 이동시켜 상기 제 1 디스크 상에 공급 가능하도록 형성된 반응물 공급로;

상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있으며, 열매체가 형성되어 있는 제 2 디스크;

상기 제 1 디스크 상에서 반응된 생성물을 수집하는 생성물 수집부; 및

상기 회전축 및 제 1 디스크를 회전시키기 위한 구동부를 포함하는 스피닝 디스크 반응 장치.

제 1 항에 있어서, 상기 열매체는 상기 제 2 디스크 주위를 감싸도록 형성되어 있는 스피닝 디스크 반응 장치.

제 1 항에 있어서, 상기 열매체는 냉각 매체 또는 가열 매체를 포함하는 스피닝 디스크 반응 장치

제 1 항에 있어서, 상기 제 2 디스크는 상기 제 1 디스크 상에 공급되는 반응물의 공급량에 대응하는 공간만큼 이격되어 상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있는 스피닝 디스크 반응 장치.

제 1 항에 있어서, 상기 제 2 디스크는 상기 제 1 디스크와 동일한 속도로 회전 가능하게 이루어져 있는 스피닝 디스크 반응 장치.

제 1 항에 있어서, 상기 제 2 디스크는 고정되고, 상기 제 1 디스크만 회전 가능하게 이루어져 있는 스피닝 디스크 반응 장치.

1종 이상의 반응물 공급부;

소정의 회전축을 기준으로 회전 가능하게 이루어져 있고, 상기 반응물 공급부로부터 공급된 반응물의 반응이 진행되는 제 1 디스크;

상기 반응물 공급부로부터 반응물을 이동시켜 상기 제 1 디스크 상에 공급 가능하도록 형성된 반응물 공급로;

상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있는 제 2 디스크;

상기 제 2 디스크 상에 열매체를 공급 가능하도록 형성되어 있는 열매체 공급부;

상기 제 1 디스크 상에서 반응된 생성물을 수집하는 생성물 수집부; 및

상기 회전축 및 제 1 디스크를 회전시키기 위한 구동부를 포함하는 스피닝 디스크 반응 장치.

제 7 항에 있어서, 상기 열매체 공급로는 상기 제 1 디스크를 둘러싼 제 2 디스크 상에 균일한 양으로 열매체를 공급 가능하도록 두 개 이상 형성되어 있는 스피닝 디스크 반응 장치.

제 7 항에 있어서, 상기 열매체는 냉각 매체 또는 가열 매체를 포함하는 스피닝 디스크 반응 장치.

제 7 항에 있어서, 상기 제 2 디스크는 상기 제 1 디스크 상에 공급되는 반응물의 공급량에 대응하는 공간만큼 이격되어 상기 제 1 디스크를 둘러싸고 있는 스피닝 디스크 반응 장치.

제 7항에 있어서, 상기 제 2 디스크는 상기 제 1 디스크와 동일한 속도로 회전 가능하게 이루어져 있는 스피닝 디스크 반응 장치.

제 11 항에 있어서, 상기 제 1 디스크 상에서 발열 반응이 일어나고, 상기 열매체는 흡열 반응을 위한 반응물을 포함하여 상기 제 2 디스크 상에서 흡열 반응이 상기 발열 반응과 동시에 일어나는 스피닝 디스크 반응 장치.

제 11 항에 있어서, 상기 제 1 디스크 상에서 흡열 반응이 일어나고, 상기 열매체는 발열 반응을 위한 반응물을 포함하여 상기 제 2 디스크 상에서 발열 반응 이 상기 흡열 반응과 동시에 일어나는 스피닝 디스크 반응 장치.

제 1항 또는 제7 항에 있어서, 상기 제 1 디스크 또는 제 2디스크 표면에 촉매 또는 개시제가 코팅된 스피닝 디스크 반응 장치.

제 1항 또는 제7항에 있어서, 반응 장치의 반응기 외벽 또는 내벽에 반응을 진행시키기 위한 가열수단 및 온도조절수단이 구비되어 있는 반응 장치.

제 1 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 반응 장치는 중합반응 및 에테르화 반응에 사용하는 반응 장치.

제 16 항에 있어서, 상기 중합반응은 액상중합반응, 기상중합반응 또는 자유라디칼 중합반응을 포함하는 반응 장치.

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