KR20100002866A - Semiconductor package - Google Patents

Semiconductor package Download PDF

Info

Publication number
KR20100002866A
KR20100002866A KR1020080062915A KR20080062915A KR20100002866A KR 20100002866 A KR20100002866 A KR 20100002866A KR 1020080062915 A KR1020080062915 A KR 1020080062915A KR 20080062915 A KR20080062915 A KR 20080062915A KR 20100002866 A KR20100002866 A KR 20100002866A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
conductive
semiconductor chip
bonding pads
electrically connected
disposed
Prior art date
Application number
KR1020080062915A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101001636B1 (en
Inventor
강태민
Original Assignee
주식회사 하이닉스반도체
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 하이닉스반도체 filed Critical 주식회사 하이닉스반도체
Priority to KR1020080062915A priority Critical patent/KR101001636B1/en
Priority to US12/207,124 priority patent/US7786600B2/en
Priority to TW097135910A priority patent/TWI373116B/en
Priority to JP2008256789A priority patent/JP2010016330A/en
Priority to CN2008101886423A priority patent/CN101621045B/en
Publication of KR20100002866A publication Critical patent/KR20100002866A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101001636B1 publication Critical patent/KR101001636B1/en
Priority to JP2012194935A priority patent/JP2012235174A/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16135Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/16145Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06555Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
    • H01L2225/06565Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking the devices having the same size and there being no auxiliary carrier between the devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE: A semiconductor package with a penetration electrode is provided to form an electrode without a void on a semiconductor chip while passing through the semiconductor chip. CONSTITUTION: A semiconductor chip has a circuit unit, bonding pads electrically connected to the circuit unit, and penetration holes(140). Penetration electrode units(210) are arranged on each penetration hole, includes conductive polarization particles electrically connected to each other, and are electrically connected to each bonding pad. An insulation unit(220) insulates each penetration electrode unit. The conductive connection unit covers one end of the penetration electrode unit.

Description

반도체 패키지{SEMICONDUCTOR PACKAGE}Semiconductor Package {SEMICONDUCTOR PACKAGE}

본 발명은 반도체 패키지에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor package.

최근 들어, 방대한 데이터를 저장 및 방대한 데이터를 단시간 내 처리하는 것이 가능한 반도체 칩 및 반도체 칩을 포함하는 반도체 패키지가 개발되고 있다.Recently, semiconductor packages including semiconductor chips and semiconductor chips capable of storing massive data and processing massive data in a short time have been developed.

최근 데이터의 저장 용량을 향상 및 데이터 처리 속도를 보다 향상시키기 위하여 복수개의 반도체 칩들을 적층 한 적층 반도체 패키지가 개발되고 있다.Recently, in order to improve data storage capacity and improve data processing speed, a multilayer semiconductor package in which a plurality of semiconductor chips are stacked has been developed.

적층 반도체 패키지를 제조하기 위해서는 적층 된 복수개의 반도체 칩들을 전기적으로 연결해야 한다.In order to manufacture a multilayer semiconductor package, a plurality of stacked semiconductor chips must be electrically connected.

적층 반도체 패키지에서, 적층 된 복수개의 반도체 칩들은 도전성 와이어를 이용하여 전기적으로 연결될 수 있다. 그러나, 도전성 와이어를 이용하여 적층 된 반도체 칩들을 전기적으로 연결할 경우, 적층 반도체 패키지의 부피가 증가 되는 문제점을 갖는다.In the stacked semiconductor package, the plurality of stacked semiconductor chips may be electrically connected using conductive wires. However, when the stacked semiconductor chips are electrically connected using conductive wires, the volume of the stacked semiconductor package is increased.

최근에는 관통 전극을 갖는 반도체 칩을 복수개 적층 하여 적층 반도체 칩을 제조함으로써 부피가 감소 된 적층 반도체 패키지가 개발된 바 있다.Recently, a multilayer semiconductor package having a reduced volume by manufacturing a multilayer semiconductor chip by stacking a plurality of semiconductor chips having a through electrode has been developed.

그러나, 관통 전극을 이용한 적층 반도체 패키지의 경우, 관통홀을 형성하는 공정 및 관통홀 내에 금속을 채우는 공정을 필요로 하며, 특히 관통홀 내에 금속을 채우는 도중 관통홀 내에 보이드 등이 형성되는 문제점을 갖는다.However, in the case of a laminated semiconductor package using a through electrode, a process of forming a through hole and a process of filling a metal in the through hole are required, and in particular, a void or the like is formed in the through hole during filling of the metal in the through hole. .

본 발명의 하나의 목적은 보이드의 발생을 억제한 관통 전극을 갖는 반도체 패키지를 제공한다.One object of the present invention is to provide a semiconductor package having a through electrode which suppresses the generation of voids.

본 발명에 따른 반도체 패키지는 회로부 및 상기 회로부와 전기적으로 연결된 본딩 패드들 및 관통홀들을 갖는 반도체 칩 및 상기 각 관통홀들에 배치되고, 각각 제1 극성 및 상기 제1 극성과 반대인 제2 극성을 갖고 상호 전기적으로 연결된 도전성 분극 파티클들을 포함하며, 상기 각 본딩 패드들과 전기적으로 연결된 관통전극부들 및 상기 각 관통전극부를 절연하는 절연부를 포함한다.The semiconductor package according to the present invention is a semiconductor chip having a circuit portion, bonding pads and through holes electrically connected to the circuit portion, and a second polarity disposed in each of the through holes and opposite to the first polarity and the first polarity, respectively. And conductive polarization particles electrically connected to each other, the through electrode parts electrically connected to the respective bonding pads, and an insulating part to insulate the through electrode parts.

반도체 패키지의 상기 각 도전성 분극 파티클들은 도전성 리얼러지컬 물질(conductive rhelogical material)을 포함한다.Each of the conductive polarization particles of the semiconductor package includes a conductive rhelogical material.

반도체 패키지의 상기 각 본딩 패드들은 상기 각 관통홀들과 대응하는 위치에 배치된다.The bonding pads of the semiconductor package are disposed at positions corresponding to the through holes.

반도체 패키지의 상기 본딩 패드들은 상기 반도체 칩의 상면의 에지에 배치된다.The bonding pads of the semiconductor package are disposed at an edge of the top surface of the semiconductor chip.

반도체 패키지는 상기 관통전극부의 적어도 한쪽 단부를 덮는 도전성 접속 부재를 더 포함한다.The semiconductor package further includes a conductive connection member covering at least one end of the through electrode portion.

반도체 패키지의 상기 도전성 접속 부재는 레진 및 상기 레진 내에 정렬된 도전성 파티클들을 포함하는 이방성 도전 필름을 포함한다.The conductive connecting member of the semiconductor package includes an anisotropic conductive film comprising a resin and conductive particles aligned in the resin.

반도체 패키지의 상기 도전성 접속 부재는 도전막을 포함한다.The conductive connecting member of the semiconductor package includes a conductive film.

반도체 패키지의 상기 도전막은 솔더를 포함한다.The conductive film of the semiconductor package includes solder.

반도체 패키지의 상기 각 관통홀들 및 상기 각 관통홀들과 대응하는 상기 각 본딩 패드들은 상호 지정된 간격으로 이격 된다.The through holes and the bonding pads corresponding to the through holes of the semiconductor package are spaced apart from each other by a predetermined interval.

반도체 패키지는 상기 각 관통전극부들 및 상기 각 관통전극부들과 대응하는 상기 각 본딩 패드들을 전기적으로 연결하는 배선부들을 더 포함한다.The semiconductor package further includes wiring portions electrically connecting the through electrode portions and the bonding pads corresponding to the through electrode portions.

반도체 패키지의 상기 반도체 칩은 적어도 2 개가 적층 된다.At least two semiconductor chips of the semiconductor package are stacked.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 패키지에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명이 하기의 실시예들에 제한되는 것은 아니며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명에 따른 반도체 패키지를 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다.Hereinafter, a semiconductor package according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments, and those skilled in the art will appreciate The semiconductor package according to the present invention may be implemented in various other forms without departing from the spirit of the invention.

본 발명에 따른 반도체 패키지는 회로부 및 상기 회로부와 전기적으로 연결된 본딩 패드들 및 관통홀들을 갖는 반도체 칩, 상기 각 관통홀들에 배치되고 각각 제1 극성 및 상기 제1 극성과 반대인 제2 극성을 갖고 상호 전기적으로 연결된 도전성 분극 파티클들을 포함하며 상기 각 본딩 패드들과 전기적으로 연결된 관통전극부들 및 각 관통전극부를 감싸는 절연부를 갖는 관통 전극을 포함한다.A semiconductor package according to the present invention includes a semiconductor chip having a circuit portion, bonding pads and through holes electrically connected to the circuit portion, and a second polarity disposed in each of the through holes and opposite to the first polarity, respectively. And through-electrodes having conductive polarization particles electrically connected to each other, the through-electrodes having electrically connected to the respective bonding pads, and an insulating part surrounding each through-electrode.

이하, 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 반도체 패키지들을 설명하기로 한다.Hereinafter, semiconductor packages according to various embodiments of the present disclosure will be described.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 반도체 패키지(300)는 반도체 칩(100), 관통전극부(210) 및 절연부(220)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the semiconductor package 300 includes a semiconductor chip 100, a through electrode part 210, and an insulating part 220.

반도체 칩(100)은 반도체 칩 몸체(110), 회로부(120), 본딩 패드(130)들 및 관통홀(140)들을 포함한다.The semiconductor chip 100 includes a semiconductor chip body 110, a circuit unit 120, bonding pads 130, and through holes 140.

반도체 칩 몸체(110)는, 예를 들어, 직육면체 형상을 가질 수 있고, 직육면체 형상을 갖는 반도체 칩 몸체(110)는 제1 면(111) 및 제1 면(111)과 대향 하는 제2 면(112)을 포함한다. 본 실시예에서, 반도체 칩 몸체(110)의 제1 면(111) 상에는 본딩 패드(130) 및 관통홀(140)을 각각 노출하는 보호막(114)이 배치된다.The semiconductor chip body 110 may have, for example, a rectangular parallelepiped shape, and the semiconductor chip body 110 having a rectangular parallelepiped shape may include a first surface 111 and a second surface facing the first surface 111. 112). In the present exemplary embodiment, the passivation layer 114 exposing the bonding pad 130 and the through hole 140 is disposed on the first surface 111 of the semiconductor chip body 110.

회로부(120)는 반도체 칩 몸체(110) 내에 배치되며, 회로부(120)는, 예를 들어, 데이터를 저장하는 데이터 저장부(미도시) 및/또는 데이터를 처리하는 데이터 처리부(미도시)를 포함한다.The circuit unit 120 is disposed in the semiconductor chip body 110, and the circuit unit 120 may include, for example, a data storage unit (not shown) for storing data and / or a data processing unit (not shown) for processing data. Include.

본딩 패드(130)들은 반도체 칩 몸체(110)의 제1 면(111) 상에 배치되고, 복수개의 본딩 패드(130)들은 제1 면(111)의 에지를 따라 배치된다. 본 실시예에서, 각 본딩 패드(130)들은 회로부(120)와 전기적으로 연결된다. 본딩 패드(130)들에 의하여 외부에서 인가된 신호들은 회로부(120)로 입력 또는 본딩 패드(130)들에 의하여 회로부(120)로부터 발생 된 신호들은 외부 기기로 출력된다. 본 실시예에서, 각 본딩 패드(130)들은 개구(132)를 포함한다.The bonding pads 130 are disposed on the first surface 111 of the semiconductor chip body 110, and the plurality of bonding pads 130 are disposed along an edge of the first surface 111. In this embodiment, each of the bonding pads 130 is electrically connected to the circuit unit 120. Signals applied from the outside by the bonding pads 130 are input to the circuit unit 120 or signals generated from the circuit unit 120 by the bonding pads 130 are output to the external device. In this embodiment, each bonding pad 130 includes an opening 132.

관통홀(140)들은 반도체 칩 몸체(110)의 제1 면(111) 및 제2 면(112)을 관통한다. 본 실시예에서, 각 관통홀(140)들은 각 본딩 패드(130)의 개구(132)와 대응 하는 위치에 배치된다.The through holes 140 penetrate the first surface 111 and the second surface 112 of the semiconductor chip body 110. In the present embodiment, each through hole 140 is disposed at a position corresponding to the opening 132 of each bonding pad 130.

관통전극부(210)는 복수개가 전기적으로 연결된 도전성 분극 파티클(212)들을 포함한다. 각 도전성 분극 파티클(212)들은 제1 극성 및 제2 극성을 갖는 도전성 리얼러지컬 물질(conductive rhelogical material)을 포함한다. 본 실시예에서, 제1 극성은, 예를 들어, (+) 극성을 갖고, 제2 극성은, 예를 들어, (-) 극성을 갖는다. 복수개의 각 도전성 분극 파티클(212)들은 서로 다른 극성들끼리 전기적으로 연결된다.The through electrode part 210 includes a plurality of conductive polarization particles 212 electrically connected to each other. Each conductive polarized particle 212 comprises a conductive rhelogical material having a first polarity and a second polarity. In this embodiment, the first polarity has, for example, (+) polarity and the second polarity has, for example, (-) polarity. Each of the plurality of conductive polarization particles 212 may be electrically connected with different polarities.

절연부(220)는 복수개의 도전성 분극 파티클(212)들로 이루어진 관통전극부(210)를 관통홀(140)에 의하여 형성된 반도체 칩 몸체(110)의 내측면으로부터 절연한다. 절연부(220)는 관통전극부(210)를 절연할 뿐만 아니라 전기적으로 연결된 도전성 분극 파티클(212)들이 외부에서 인가된 외력 및/또는 진동 등에 의하여 단선 되는 것을 방지한다. The insulating part 220 insulates the through electrode part 210 formed of the plurality of conductive polarization particles 212 from the inner surface of the semiconductor chip body 110 formed by the through hole 140. The insulation unit 220 not only insulates the through electrode unit 210, but also prevents the electrically connected conductive polarization particles 212 from being disconnected by external force and / or vibration applied from the outside.

도전성 분극 파티클(212)들을 포함하는 관통전극부(210)는 본딩 패드(130)와 전기적으로 연결된다.The through electrode part 210 including the conductive polarization particles 212 is electrically connected to the bonding pad 130.

본 실시예에서, 관통전극부(210) 및 절연부(220)는, 예를 들어, 관통홀(140) 내에 배치된다.In the present exemplary embodiment, the through electrode part 210 and the insulating part 220 are disposed in, for example, the through hole 140.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다. 도 2에 도시된 반도체 패키지는 도전성 접속 부재를 제외하면 앞서 도 1에 도시 및 설명된 반도체 패키지와 실질적으로 동일한 구성 요소를 포함한다. 따라서, 동일한 구성 요소에 대한 중복된 설명은 생략하기로 하며, 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 명칭 및 동일한 참조 부호를 부여하기로 한다.2 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to another embodiment of the present invention. The semiconductor package shown in FIG. 2 includes substantially the same components as the semiconductor package shown and described above in FIG. 1 except for the conductive connection member. Therefore, duplicate descriptions of the same components will be omitted, and the same components and the same reference numerals will be given to the same components.

도 2를 참조하면, 반도체 패키지(300)는 반도체 칩 몸체(110), 회로부(120), 본딩 패드(130), 관통홀(140)들을 포함하는 반도체 칩(100), 관통전극부(210), 절연부(220) 및 도전성 접속 부재(240)들을 포함한다.Referring to FIG. 2, the semiconductor package 300 may include a semiconductor chip 100 including a semiconductor chip body 110, a circuit unit 120, a bonding pad 130, and through holes 140 and a through electrode portion 210. , The insulating part 220 and the conductive connection members 240.

도전성 접속 부재(230,240)는 관통홀(140) 내에 배치된 관통전극부(210)의 제1 단부(201) 및 제2 단부(202)들 중 적어도 하나의 단부에 배치된다. 본 실시예에서, 관통전극부(210)의 제1 단부(201)는 반도체 칩 몸체(110)의 제1 면(111)에 배치되고, 관통전극부(210)의 제2 단부(202)는 반도체 칩 몸체(110)의 제2 면(112)에 배치된다.The conductive connection members 230 and 240 are disposed at at least one of the first end 201 and the second end 202 of the through electrode part 210 disposed in the through hole 140. In the present exemplary embodiment, the first end 201 of the through electrode part 210 is disposed on the first surface 111 of the semiconductor chip body 110, and the second end 202 of the through electrode part 210 is formed. The second surface 112 of the semiconductor chip body 110 is disposed.

본 실시예에서, 도전성 접속 부재(230,240)는 관통전극부(210)의 제1 단부(201) 및 제2 단부(202) 상에 각각 배치되고, 관통전극부(210)는 각 도전성 접속 부재(230,240)들과 전기적으로 연결된다.In the present embodiment, the conductive connection members 230 and 240 are disposed on the first end 201 and the second end 202 of the through electrode part 210, respectively, and the through electrode part 210 is formed to each conductive connection member ( 230 and 240 are electrically connected to each other.

도전성 접속 부재(230,240)들은, 예를 들어, 플레이트 형상을 갖고, 레진 및 레진 내에 정렬된 도전성 파티클들을 포함하는 이방성 도전 필름(ACF)일 수 있다. 이와 다르게, 도전성 접속 부재(230,240)들은 플레이트 형상을 갖는 금속막일 수 있다. 본 실시예에서, 금속막은 저융점 금속인 솔더를 포함할 수 있다. 도전성 접속 부재(230,240)들은 적어도 2 개의 반도체 패키지를 적층 한 적층 반도체 패키지를 제조할 때 특히 유용하게 사용될 수 있다.The conductive connection members 230 and 240 may be, for example, an anisotropic conductive film (ACF) having a plate shape and including resin and conductive particles aligned in the resin. Alternatively, the conductive connection members 230 and 240 may be metal films having a plate shape. In this embodiment, the metal film may include a solder that is a low melting point metal. The conductive connection members 230 and 240 may be particularly useful when manufacturing a laminated semiconductor package in which at least two semiconductor packages are stacked.

도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다. 도 3에 도시된 반도체 패키지는 본딩 패드들의 위치 및 배선부를 제외하면 앞 서 도 1에 도시 및 설명된 반도체 패키지와 실질적으로 동일한 구성 요소를 포함한다. 따라서, 동일한 구성 요소에 대한 중복된 설명은 생략하기로 하며, 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 명칭 및 동일한 참조 부호를 부여하기로 한다.3 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to still another embodiment of the present invention. The semiconductor package illustrated in FIG. 3 includes substantially the same components as the semiconductor package illustrated and described with reference to FIG. 1 except for the locations and the wiring portions of the bonding pads. Therefore, duplicate descriptions of the same components will be omitted, and the same components and the same reference numerals will be given to the same components.

반도체 패키지(300)는 반도체 칩 몸체(110), 회로부(120), 본딩 패드(134)들, 관통홀(140)들을 포함하는 반도체 칩(100), 관통전극부(210), 절연부(220) 및 배선부(400)들을 포함한다.The semiconductor package 300 includes the semiconductor chip body 110, the circuit unit 120, the bonding pads 134, and the semiconductor chip 100 including the through holes 140, the through electrode unit 210, and the insulation unit 220. ) And the wiring units 400.

본 실시예에서, 본딩 패드(134)들은 반도체 칩 몸체(110)의 제1 면(111)의 중앙 부분에 1열 또는 2열로 배치될 수 있다. 본 실시예에서, 본딩 패드(134)들은 반도체 칩 몸체(110)의 제1 면(111) 상에, 예를 들어, 1열로 배치된다.In the present exemplary embodiment, the bonding pads 134 may be disposed in one row or two rows at a central portion of the first surface 111 of the semiconductor chip body 110. In the present embodiment, the bonding pads 134 are disposed on, for example, one row on the first surface 111 of the semiconductor chip body 110.

본딩 패드(134)가 제1 면(111)의 중앙 부분에 배치될 경우, 본딩 패드(134) 는 제1 반도체 칩 몸체(110)의 에지에 배치된 관통전극부(210) 및 절연부(220)로부터 소정 간격 이격 된다.When the bonding pads 134 are disposed at the center portion of the first surface 111, the bonding pads 134 may include the through electrode portion 210 and the insulation portion 220 disposed at the edge of the first semiconductor chip body 110. ) Is spaced apart from the predetermined interval.

배선부(400)는 반도체 칩 몸체(110)의 제1 면(111) 상에 배치된다. 배선부(400)는 각 본딩 패드(124)들 및 각 본딩 패드(124)들과 대응하는 각 관통전극부(210)들을 전기적으로 연결한다. 본 실시예에서, 배선부(400)는 우수한 전기적 특성을 갖는 구리를 포함할 수 있고, 배선부(400)는, 평면상에서 보았을 때, 라인 형상을 갖는다.The wiring unit 400 is disposed on the first surface 111 of the semiconductor chip body 110. The wiring unit 400 electrically connects each of the bonding pads 124 and each of the through electrodes 210 corresponding to the bonding pads 124. In the present embodiment, the wiring unit 400 may include copper having excellent electrical characteristics, and the wiring unit 400 has a line shape when viewed in plan view.

도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다. 도 4에 도시된 반도체 패키지는 본딩 패드들의 위치 및 관통전극부를 제외하면 앞서 도 1에 도시 및 설명된 반도체 패키지와 실질적으로 동일한 구성 요소를 포함 한다. 따라서, 동일한 구성 요소에 대한 중복된 설명은 생략하기로 하며, 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 명칭 및 동일한 참조 부호를 부여하기로 한다.4 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to still another embodiment of the present invention. The semiconductor package illustrated in FIG. 4 includes substantially the same components as the semiconductor package illustrated and described above with reference to FIG. 1 except for the positions of the bonding pads and the through electrode portion. Therefore, duplicate descriptions of the same components will be omitted, and the same components and the same reference numerals will be given to the same components.

도 4를 참조하면, 반도체 패키지(300)는 반도체 칩 몸체(110), 회로부(120), 본딩 패드(134)들, 관통홀(140)들을 포함하는 반도체 칩(100), 관통전극부(210), 절연부(220)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the semiconductor package 300 may include a semiconductor chip 100 including a semiconductor chip body 110, a circuit unit 120, bonding pads 134, and through holes 140, and a through electrode unit 210. ), And an insulation unit 220.

본딩 패드(134)들은 반도체 칩 몸체(110)의 제1 면(111)의 중앙부에 배치된다. 각 본딩 패드(134)들은 회로부(120)와 전기적으로 연결된다.The bonding pads 134 are disposed at the center portion of the first surface 111 of the semiconductor chip body 110. Each bonding pad 134 is electrically connected to the circuit unit 120.

관통전극부(210)는 관통부(214) 및 연장부(216)를 포함한다. 관통부(214)는 관통홀(140) 내에 배치되고, 연장부(216)는 관통부(214)로부터 반도체 칩(100)의 제1 면(111)을 따라 연장되어 각 본딩 패드(134)들과 전기적으로 연결된다.The through electrode part 210 includes a through part 214 and an extension part 216. The through part 214 is disposed in the through hole 140, and the extension part 216 extends from the through part 214 along the first surface 111 of the semiconductor chip 100 so that the respective bonding pads 134 may be formed. Is electrically connected to the

관통전극부(210)의 관통부(214) 및 연장부(216)는 일체로 형성되며, 관통부(214) 및 연장부(216)는 각각 제1 극성 및 제2 극성을 갖는 도전성 분극 파티클(212)들을 포함하고, 인접한 도전성 분극 파티클(212)들은 서로 다른 극성끼리 접촉되어 전기적으로 연결된다.The through part 214 and the extension part 216 of the through electrode part 210 are integrally formed, and the through part 214 and the extension part 216 have conductive polarization particles having a first polarity and a second polarity, respectively. 212, and adjacent conductive polarization particles 212 are electrically connected in contact with each other with different polarities.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to still another embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 반도체 패키지(800)는 제1 반도체 칩(500), 제2 반도체 칩(600) 및 기판(700)을 포함한다.Referring to FIG. 5, the semiconductor package 800 includes a first semiconductor chip 500, a second semiconductor chip 600, and a substrate 700.

본 실시예에서, 기판(700) 상에는 제1 반도체 칩(500)이 배치되고, 제1 반도체 칩(500) 상에는 제2 반도체 칩(600)이 배치된다.In the present exemplary embodiment, the first semiconductor chip 500 is disposed on the substrate 700, and the second semiconductor chip 600 is disposed on the first semiconductor chip 500.

제1 반도체 칩(500)은 제1 반도체 칩 몸체(515), 제1 회로부(517), 제1 본딩 패드(530)들, 제1 관통홀(540)들, 제1 관통전극부(510) 및 제1 절연부(520)를 포함한다.The first semiconductor chip 500 may include a first semiconductor chip body 515, a first circuit part 517, first bonding pads 530, first through holes 540, and a first through electrode part 510. And a first insulation unit 520.

제1 반도체 칩 몸체(515)는, 예를 들어, 직육면체 형상을 가질 수 있고, 직육면체 형상을 갖는 제1 반도체 칩 몸체(515)는 제1 면(511) 및 제1 면(511)과 대향 하는 제2 면(512)을 포함한다. 본 실시예에서, 제1 반도체 칩 몸체(515)의 제1 면(111) 상에는 제1 본딩 패드(130)들 및 제1 관통홀(140)을 각각 노출하는 보호막(514)이 배치된다.The first semiconductor chip body 515 may have, for example, a rectangular parallelepiped shape, and the first semiconductor chip body 515 having a rectangular parallelepiped shape faces the first surface 511 and the first surface 511. A second face 512. In the present exemplary embodiment, the passivation layer 514 exposing the first bonding pads 130 and the first through hole 140 are disposed on the first surface 111 of the first semiconductor chip body 515.

제1 회로부(517)는 제1 반도체 칩 몸체(515) 내에 배치되며, 제1 회로부(517)는, 예를 들어, 데이터를 저장하는 데이터 저장부(미도시) 및/또는 데이터를 처리하는 데이터 처리부(미도시)를 포함한다.The first circuit unit 517 is disposed in the first semiconductor chip body 515, and the first circuit unit 517 may be, for example, a data storage unit (not shown) for storing data and / or data for processing data. It includes a processing unit (not shown).

제1 본딩 패드(530)들은 제1 반도체 칩 몸체(515)의 제1 면(511) 상에 배치되고, 복수개의 제1 본딩 패드(530)들은 제1 면(511)의 에지를 따라 배치된다. 본 실시예에서, 각 제1 본딩 패드(530)들은 제1 회로부(517)와 전기적으로 연결된다. 제1 본딩 패드(530)들에 의하여 외부에서 인가된 신호들은 제1 회로부(517)로 입력 또는 제1 본딩 패드(530)들에 의하여 제1 회로부(517)로부터 발생 된 신호들은 외부 기기로 출력된다. 본 실시예에서, 각 제1 본딩 패드(530)들은 제1 개구(532)를 포함한다.The first bonding pads 530 are disposed on the first surface 511 of the first semiconductor chip body 515, and the plurality of first bonding pads 530 are disposed along an edge of the first surface 511. . In this embodiment, each of the first bonding pads 530 is electrically connected to the first circuit portion 517. Signals externally applied by the first bonding pads 530 are input to the first circuit portion 517 or signals generated from the first circuit portion 517 by the first bonding pads 530 are output to the external device. do. In this embodiment, each of the first bonding pads 530 includes a first opening 532.

제1 관통홀(540)들은 제1 반도체 칩 몸체(515)의 제1 면(511) 및 제2 면(512)을 관통한다. 본 실시예에서, 각 제1 관통홀(540)들은 각 제1 본딩 패 드(530)의 제1 개구(532)와 대응하는 위치에 배치된다.The first through holes 540 pass through the first surface 511 and the second surface 512 of the first semiconductor chip body 515. In this embodiment, each of the first through holes 540 is disposed at a position corresponding to the first opening 532 of each of the first bonding pads 530.

제1 관통전극부(510)는 복수개가 전기적으로 연결된 도전성 분극 파티클(512)들을 포함한다. 각 도전성 분극 파티클(512)들은 제1 극성 및 제2 극성을 갖는 도전성 리얼러지컬 물질을 포함한다. 본 실시예에서, 제1 극성은, 예를 들어, (+) 극성을 갖고, 제2 극성은, 예를 들어, (-) 극성을 갖는다. 복수개의 각 도전성 분극 파티클(512)들은 서로 다른 극성들끼리 전기적으로 연결된다.The first through electrode part 510 includes conductive polarization particles 512 that are electrically connected to each other. Each conductive polarized particle 512 comprises a conductive realizable material having a first polarity and a second polarity. In this embodiment, the first polarity has, for example, (+) polarity and the second polarity has, for example, (-) polarity. Each of the plurality of conductive polarization particles 512 is electrically connected with different polarities.

제1 절연부(520)는 복수개의 도전성 분극 파티클(512)들로 이루어진 제1 관통전극부(510)를 제1 관통홀(540)에 의하여 형성된 제1 반도체 칩 몸체(515)의 내측면으로부터 절연한다. 제1 절연부(520)는 제1 관통전극부(510)를 절연할 뿐만 아니라 전기적으로 연결된 도전성 분극 파티클(212)들이 외부에서 인가된 외력 및/또는 진동 등에 의하여 단선 되는 것을 방지한다. The first insulating part 520 is formed from the inner surface of the first semiconductor chip body 515 formed by the first through hole 540 by forming the first through electrode part 510 including the plurality of conductive polarization particles 512. Insulate. The first insulating part 520 not only insulates the first through electrode part 510 but also prevents the electrically connected conductive polarization particles 212 from being disconnected by external force and / or vibration applied from the outside.

도전성 분극 파티클(212)들을 포함하는 제1 관통전극부(510)는 제1 본딩 패드(530)와 전기적으로 연결된다.The first through electrode part 510 including the conductive polarization particles 212 is electrically connected to the first bonding pad 530.

본 실시예에서, 제1 관통전극부(510) 및 제1 절연부(520)는, 예를 들어, 제1 관통홀(540) 내에 배치된다.In the present exemplary embodiment, the first through electrode part 510 and the first insulating part 520 are disposed in, for example, the first through hole 540.

제1 반도체 칩(500) 상에 배치된 제2 반도체 칩(600)은 제2 반도체 칩 몸체(615), 제2 회로부(617), 제2 본딩 패드(630)들, 제2 관통홀(640)들, 제2 관통전극부(610) 및 제2 절연부(620)를 포함한다.The second semiconductor chip 600 disposed on the first semiconductor chip 500 may include a second semiconductor chip body 615, a second circuit part 617, second bonding pads 630, and a second through hole 640. ), A second through electrode part 610, and a second insulating part 620.

제2 반도체 칩 몸체(615)는, 예를 들어, 직육면체 형상을 가질 수 있고, 직육면체 형상을 갖는 제2 반도체 칩 몸체(615)는 제3 면(611) 및 제3 면(611)과 대 향 하는 제4 면(612)을 포함한다. 본 실시예에서, 제1 반도체 칩 몸체(515)의 제1 면(511)은 제2 반도체 칩 몸체(615)의 제3 면(611)과 상호 마주한다. 본 실시예에서, 제2 반도체 칩 몸체(615)의 제3 면(611) 상에는 제2 본딩 패드(630)들 및 제2 관통홀(640)을 각각 노출하는 보호막(614)이 배치된다.The second semiconductor chip body 615 may have, for example, a rectangular parallelepiped shape, and the second semiconductor chip body 615 having a rectangular parallelepiped shape faces the third side 611 and the third side 611. And a fourth side 612. In this embodiment, the first surface 511 of the first semiconductor chip body 515 is opposite to the third surface 611 of the second semiconductor chip body 615. In the present exemplary embodiment, a passivation layer 614 exposing the second bonding pads 630 and the second through hole 640 is disposed on the third surface 611 of the second semiconductor chip body 615.

제2 회로부(617)는 제2 반도체 칩 몸체(615) 내에 배치되며, 제2 회로부(617)는, 예를 들어, 데이터를 저장하는 데이터 저장부(미도시) 및/또는 데이터를 처리하는 데이터 처리부(미도시)를 포함한다.The second circuit unit 617 is disposed in the second semiconductor chip body 615, and the second circuit unit 617 may be, for example, a data storage unit (not shown) for storing data and / or data for processing data. It includes a processing unit (not shown).

제2 본딩 패드(630)들은 제2 반도체 칩 몸체(615)의 제3 면(611) 상에 배치되고, 복수개의 제2 본딩 패드(630)들은 제3 면(611)의 에지를 따라 배치된다. 본 실시예에서, 각 제2 본딩 패드(630)들은 제2 회로부(617)와 전기적으로 연결된다. 제2 본딩 패드(630)들에 의하여 외부에서 인가된 신호들은 제2 회로부(617)로 입력 또는 제2 본딩 패드(630)들에 의하여 제2 회로부(617)로부터 발생 된 신호들은 외부 기기로 출력된다. 본 실시예에서, 각 제2 본딩 패드(630)들은 제2 개구(632)를 포함한다.The second bonding pads 630 are disposed on the third surface 611 of the second semiconductor chip body 615, and the plurality of second bonding pads 630 are disposed along the edge of the third surface 611. . In the present embodiment, each of the second bonding pads 630 is electrically connected to the second circuit portion 617. Signals externally applied by the second bonding pads 630 are input to the second circuit portion 617 or signals generated from the second circuit portion 617 by the second bonding pads 630 are output to the external device. do. In this embodiment, each second bonding pad 630 includes a second opening 632.

제2 관통홀(640)들은 제2 반도체 칩 몸체(615)의 제3 면(611) 및 제4 면(612)을 관통한다. 본 실시예에서, 각 제2 관통홀(640)들은 각 제2 본딩 패드(630)의 제2 개구(632)와 대응하는 위치에 배치된다.The second through holes 640 pass through the third surface 611 and the fourth surface 612 of the second semiconductor chip body 615. In the present embodiment, each of the second through holes 640 is disposed at a position corresponding to the second opening 632 of each second bonding pad 630.

제2 관통전극부(610)는 복수개가 전기적으로 연결된 도전성 분극 파티클(612)들을 포함한다. 각 도전성 분극 파티클(612)들은 제1 극성 및 제2 극성을 갖는 도전성 리얼러지컬 물질을 포함한다. 본 실시예에서, 제1 극성은, 예를 들어, (+) 극성을 갖고, 제2 극성은, 예를 들어, (-) 극성을 갖는다. 복수개의 각 도전성 분극 파티클(612)들은 서로 다른 극성들끼리 전기적으로 연결된다.The second through electrode part 610 includes conductive polarization particles 612 that are electrically connected to each other. Each conductive polarization particle 612 includes a conductive reale material having a first polarity and a second polarity. In this embodiment, the first polarity has, for example, (+) polarity and the second polarity has, for example, (-) polarity. Each of the plurality of conductive polarization particles 612 may be electrically connected with different polarities.

제2 절연부(620)는 복수개의 도전성 분극 파티클(612)들로 이루어진 제2 관통전극부(610)를 제2 관통홀(640)에 의하여 형성된 제2 반도체 칩 몸체(615)의 내측면으로부터 절연한다. 제2 절연부(620)는 제2 관통전극부(610)를 절연할 뿐만 아니라 전기적으로 연결된 도전성 분극 파티클(612)들이 외부에서 인가된 외력 및/또는 진동 등에 의하여 단선 되는 것을 방지한다. The second insulating part 620 is formed from the inner surface of the second semiconductor chip body 615 formed by the second through hole 640 by forming the second through electrode part 610 including the plurality of conductive polarization particles 612. Insulate. The second insulating part 620 not only insulates the second through electrode part 610 but also prevents the electrically connected conductive polarization particles 612 from being disconnected by external force and / or vibration applied from the outside.

도전성 분극 파티클(612)들을 포함하는 제2 관통전극부(610)는 제2 본딩 패드(630)와 전기적으로 연결된다.The second through electrode part 610 including the conductive polarization particles 612 is electrically connected to the second bonding pad 630.

본 실시예에서, 제2 관통전극부(610) 및 제2 절연부(620)는, 예를 들어, 제2 관통홀(640) 내에 배치된다.In the present exemplary embodiment, the second through electrode part 610 and the second insulating part 620 are disposed in, for example, the second through hole 640.

한편, 제1 반도체 칩(500)의 제1 관통전극부(510) 및 제2 반도체 칩(600)의 제2 관통전극부(610)의 단부에는 각각 도전성 접속 부재(550,650)가 배치될 수 있고, 도전성 접속 부재(550,560)에 의하여 제1 및 제2 반도체 칩(500,600)들은 전기적으로 연결된다.Meanwhile, conductive connection members 550 and 650 may be disposed at ends of the first through electrode part 510 of the first semiconductor chip 500 and the second through electrode part 610 of the second semiconductor chip 600, respectively. The first and second semiconductor chips 500 and 600 are electrically connected to each other by the conductive connection members 550 and 560.

기판(700)은 기판 몸체(710), 접속 패드(720), 볼 랜드 패턴(730) 및 도전볼(740)을 포함한다.The substrate 700 includes a substrate body 710, a connection pad 720, a ball land pattern 730, and a conductive ball 740.

기판 몸체(710)는, 예를 들어, 플레이트 형상을 갖는 인쇄회로기판일 수 있다.The substrate body 710 may be, for example, a printed circuit board having a plate shape.

접속 패드(720)는 제1 반도체 칩(500)의 제2 면(512)과 마주하는 기판 몸 체(710)의 상면 상에 배치된다. 접속 패드(720)는 제1 반도체 칩(500)의 관통전극부(510)와 전기적으로 연결된다. 접속 패드(720)에는 제1 반도체 칩(500)의 관통전극부(510)가 도전성 접속 부재(550)에 의하여 전기적으로 연결된다.The connection pad 720 is disposed on an upper surface of the substrate body 710 facing the second surface 512 of the first semiconductor chip 500. The connection pad 720 is electrically connected to the through electrode part 510 of the first semiconductor chip 500. The through electrode part 510 of the first semiconductor chip 500 is electrically connected to the connection pad 720 by the conductive connection member 550.

볼 랜드 패턴(730)은 기판 몸체(710)의 상면과 대향 하는 하면 상에 배치되고, 볼 랜드 패턴(730)은 도전성 비아 등을 통해 접속 패드(720)와 전기적으로 연결된다.The ball land pattern 730 is disposed on a bottom surface facing the top surface of the substrate body 710, and the ball land pattern 730 is electrically connected to the connection pad 720 through conductive vias or the like.

도전볼(740)은 볼 랜드 패턴(730) 상에 배치되며, 도전볼(740)은 낮은 용융 온도를 갖는 솔더를 포함할 수 있다.The conductive balls 740 are disposed on the ball land patterns 730, and the conductive balls 740 may include solder having a low melting temperature.

이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 반도체 칩을 관통하는 보이드 없는 전극을 반도체 칩에 형성할 수 있는 효과를 갖는다.According to the above description, it has the effect that a voidless electrode which penetrates a semiconductor chip can be formed in a semiconductor chip.

앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술 될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the detailed description of the present invention described above with reference to the embodiments of the present invention, those skilled in the art or those skilled in the art having ordinary knowledge in the scope of the present invention described in the claims and It will be appreciated that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the scope of the art.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to another embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to still another embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to still another embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to still another embodiment of the present invention.

Claims (11)

회로부 및 상기 회로부와 전기적으로 연결된 본딩 패드들 및 관통홀들을 갖는 반도체 칩; 및A semiconductor chip having a circuit portion and bonding pads and through holes electrically connected to the circuit portion; And 상기 각 관통홀들에 배치되고, 각각 제1 극성 및 상기 제1 극성과 반대인 제2 극성을 갖고 상호 전기적으로 연결된 도전성 분극 파티클들을 포함하며, 상기 각 본딩 패드들과 전기적으로 연결된 관통전극부들; 및Through-electrode portions disposed in the through-holes, each of the conductive polarization particles having a first polarity and a second polarity opposite to the first polarity, and electrically connected to each other, and electrically connected to the respective bonding pads; And 상기 각 관통전극부를 절연하는 절연부를 포함하는 반도체 패키지.A semiconductor package including an insulating portion for insulating each through electrode portion. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 각 도전성 분극 파티클들은 도전성 리얼러지컬 물질(conductive rhelogical material)을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And wherein each of the conductive polarized particles comprises a conductive rhelogical material. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 각 본딩 패드들은 상기 각 관통홀들과 대응하는 위치에 배치된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And the bonding pads are disposed at positions corresponding to the through holes. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 본딩 패드들은 상기 반도체 칩의 상면의 에지에 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The bonding pads are disposed on the edge of the upper surface of the semiconductor chip. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 관통전극부의 적어도 한쪽 단부를 덮는 도전성 접속 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And a conductive connection member covering at least one end of the through electrode portion. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 도전성 접속 부재는 레진 및 상기 레진 내에 정렬된 도전성 파티클들을 포함하는 이방성 도전 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And the conductive connecting member comprises an anisotropic conductive film comprising a resin and conductive particles aligned in the resin. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 도전성 접속 부재는 도전막을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The conductive connecting member includes a conductive film. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 도전막은 솔더를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The conductive film comprises a solder, characterized in that the semiconductor package. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 각 관통홀들 및 상기 각 관통홀들과 대응하는 상기 각 본딩 패드들은 상호 지정된 간격으로 이격 된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And the bonding pads corresponding to the through holes and the through holes are spaced apart from each other by a predetermined interval. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 각 관통전극부들 및 상기 각 관통전극부들과 대응하는 상기 각 본딩 패드들을 전기적으로 연결하는 배선부들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And wiring lines electrically connecting the through electrode portions and the bonding pads corresponding to the through electrode portions. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 반도체 칩은 적어도 2 개가 적층 된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.At least two semiconductor chips are stacked.
KR1020080062915A 2008-06-30 2008-06-30 Semiconductor package KR101001636B1 (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080062915A KR101001636B1 (en) 2008-06-30 2008-06-30 Semiconductor package
US12/207,124 US7786600B2 (en) 2008-06-30 2008-09-09 Circuit substrate having circuit wire formed of conductive polarization particles, method of manufacturing the circuit substrate and semiconductor package having the circuit wire
TW097135910A TWI373116B (en) 2008-06-30 2008-09-19 Circuit substrate having circuit wire formed of conductive polarization particles, method of manufacturing the circuit substrate and semiconductor package having the circuit wire
JP2008256789A JP2010016330A (en) 2008-06-30 2008-10-01 Circuit board with circuit wiring and method of manufacturing the same, and semiconductor package with circuit wiring
CN2008101886423A CN101621045B (en) 2008-06-30 2008-12-25 Circuit substrate and its formation method and semiconductor encapsulation
JP2012194935A JP2012235174A (en) 2008-06-30 2012-09-05 Method for manufacturing circuit board with circuit wiring and semiconductor package with circuit wiring

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080062915A KR101001636B1 (en) 2008-06-30 2008-06-30 Semiconductor package

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100002866A true KR20100002866A (en) 2010-01-07
KR101001636B1 KR101001636B1 (en) 2010-12-17

Family

ID=41812844

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080062915A KR101001636B1 (en) 2008-06-30 2008-06-30 Semiconductor package

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101001636B1 (en)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100676039B1 (en) * 2005-04-22 2007-01-30 스텝시스템주식회사 The fabrication of wafer level chip scale package with solder bumps located on the back side of wafer through vertical interconnection

Also Published As

Publication number Publication date
KR101001636B1 (en) 2010-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101013562B1 (en) Cube semiconductor package
US20190259733A1 (en) Semiconductor package
KR101078740B1 (en) Stack package and method for fabricating the same
JP5222509B2 (en) Semiconductor device
US8536462B1 (en) Flex circuit package and method
JP2002076057A5 (en)
US7786600B2 (en) Circuit substrate having circuit wire formed of conductive polarization particles, method of manufacturing the circuit substrate and semiconductor package having the circuit wire
KR101207882B1 (en) package module
KR101060936B1 (en) Methods of manufacturing interconnect structures, interposers, semiconductor packages, and interconnect structures
KR100900236B1 (en) Semiconductor chip and stacked semiconductor package having the same
KR101046388B1 (en) Semiconductor package
KR100990942B1 (en) Substrate for semiconductor package, and semiconductor package having the substrate
KR20100002860A (en) Circuit substrate having circuit wire, method of manufacturing the circuit substrate, and semiconductor package having the circuit wire
KR101078744B1 (en) Stacked semiconductor package
US20090108430A1 (en) Stacked semiconductor package in which semiconductor packages are connected using a connector
KR20110006525A (en) Printed circuit board having an electro-component and manufacturing method thereof
KR101026489B1 (en) Semiconductor package and method of manufacturing the same
KR101001636B1 (en) Semiconductor package
KR102578797B1 (en) Semiconductor package
KR100895815B1 (en) Semiconductor package and method of manufacturing theereof
KR20050027384A (en) Chip size package having rerouting pad and stack thereof
KR100876896B1 (en) Stacked semiconductor package
KR102666151B1 (en) Semiconductor package
KR100914980B1 (en) Stacked semiconductor package
JP2012243800A (en) Semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee