KR20100000719A - X-ray irradiation system and x-ray irradiation apparatus - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An X-ray irradiation system and an X-ray irradiator are provided to improve sealing of a plate unit, a cylindrical unit, and a clamp unit using a first seal unit and a second seal unit. CONSTITUTION: An X-ray irradiator(1) includes an X-ray tube(8), a driver(35), a case, and a plate unit(36). The driver drives the X-ray tube. The case receives the X-ray tube and the driver. The plate unit has an opening corresponding to the opening of the case. A cable(42) has a connector(44) and a cylindrical unit(45). The connector is arranged in one side of the cable. The connector connects one side of the cable to the connection terminal detachably. The cylindrical unit surrounds the connector.

Description

X선 조사 시스템 및 X선 조사 장치{X-ray irradiation system and X-ray irradiation apparatus}X-ray irradiation system and X-ray irradiation apparatus}

본 발명은 X선 조사 시스템 및 X선 조사 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an X-ray irradiation system and an X-ray irradiation apparatus.

종래, X선 조사 장치가 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1, 2를 참조). 특허문헌 2에는, 예를 들어 특허문헌 1에 기재의 X선 조사 장치로부터의 연(軟)X선을 이용하여, 기판에 발생한 정전기를 제전(除電)하는 시스템에 대하여 기재되어 있다. 특히, 이 시스템에서는, 연X선이 기판에 소정 시간 이상 조사되지 않도록 제어하면서 기판을 제전함으로써, 예를 들어 현상 얼룩과 같은 기판 처리상의 문제를 억제하고 있다.Conventionally, the X-ray irradiation apparatus is known (for example, refer patent document 1, 2). Patent Literature 2 describes, for example, a system for eliminating static electricity generated on a substrate by using soft X-rays from the X-ray irradiation apparatus described in Patent Literature 1. In particular, in this system, by eliminating the substrate while controlling the soft X-rays not to be irradiated to the substrate for a predetermined time or more, problems in substrate processing such as development unevenness are suppressed.

[특허문헌 1] 일본국 특개2004-356056호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-356056

[특허문헌 2] 일본국 특개2000-21726호 공보[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-21726

상기와 같은 시스템에 있어서는, 예를 들어, 기판 위에 레지스트를 도포하는 장치 내에 X선 조사 장치가 배치되어 있고, 이 레지스트 도포 장치 내에서 X선 조사 장치와 그 이외의 부분이 공기의 이동 면에 있어서 격리되어 있는 것이 바람직하다. 즉, X선 조사 장치 내의 가스 등이 X선 조사 장치로부터 나와 레지스트 도포 장치 내에 대량으로 흘러가는 것이나, 레지스트 도포 장치 내의 가스(유기용제) 등이 X선 조사 장치 내에 들어오는 것은 바람직하지 않다. 왜냐하면, X선 조사 장치 내의 가스가 X선 조사 장치로부터 새어 레지스트 도포 장치 내에 대량으로 유입하면, 레지스트 도포 장치의 오염이나 클린도 저하의 원인이 될 수 있다. 또, 레지스트를 도포하는 공정 중에 존재하는 라디칼의 가스가 X선 조사 장치 내에 침입하면 가스에 의해 X선 조사 장치 내의 부품 등이 손상을 받게 된다. 또, 가연성의 예를 들어 유기용제가 충만해 경우에는, 이 가연성 용제가 X선 조사 장치에 혼입되면, X선 조사 장치 내에서 발생한 불꽃 등에 의해 X선 조사 장치 내에서 인화 또는 폭발이 발생할 우려가 있기 때문이다. 또, 이와 같이 가연성의 용제를 사용하는 것이나 장치가 오염되어 클린도가 저하하는 것은, 레지스트 도포 장치에 한정되지 않으며, 예를 들어 현상 처리 장치에 있어서도 마찬가지라고 할 수 있다.In such a system, for example, an X-ray irradiation apparatus is disposed in an apparatus for applying a resist on a substrate, and the X-ray irradiation apparatus and other portions of the resist coating apparatus are in terms of air movement. It is desirable to be isolated. That is, it is not preferable that the gas or the like in the X-ray irradiation apparatus flows out of the X-ray irradiation apparatus in a large amount into the resist coating apparatus, or that the gas (organic solvent) or the like in the resist coating apparatus enters the X-ray irradiation apparatus. This is because if the gas in the X-ray irradiation apparatus leaks out from the X-ray irradiation apparatus and flows in a large amount into the resist coating apparatus, it may cause contamination of the resist coating apparatus and deterioration of cleanliness. Moreover, when the gas of radical which exists in the process of apply | coating a resist enters into an X-ray irradiation apparatus, the components in an X-ray irradiation apparatus, etc. will be damaged by gas. In addition, in the case of flammable organic solvent, for example, when the flammable solvent is mixed with the X-ray irradiation apparatus, there is a possibility that ignition or explosion may occur in the X-ray irradiation apparatus due to a flame generated in the X-ray irradiation apparatus. Because there is. Moreover, the use of a flammable solvent and the apparatus being contaminated and the cleanliness fall are not limited to a resist coating apparatus, for example, It can be said also in a developing apparatus.

따라서, 본 발명은 상기를 감안하여 이루어진 것으로, X선 조사 장치의 밀폐성을 높이는 것이 가능한 X선 조사 시스템 및 X선 조사 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, this invention is made | formed in view of the above, and an object of this invention is to provide the X-ray irradiation system and X-ray irradiation apparatus which can improve the sealing property of an X-ray irradiation apparatus.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 X선 조사 시스템은, X선을 조사하는 X선 조사 장치와, 상기 X선 조사 장치를 제어하는 X선 제어 장치와, 상기 X선 조사 장치 및 상기 X선 제어 장치를 전기적으로 접속하는 케이블을 구비하는 X선 조사 시스템으로서, 상기 X선 조사 장치는 X선관과, 상기 X선관을 구동시키는 구동부와, 상기 X선관 및 상기 구동부를 수용하고 개구부를 가지는 케이스와, 상기 케이스에 마련되며 상기 개구부에 대응하는 위치에 개구를 가지는 판 모양의 부재를 구비하고, 상기 케이블은 해당 케이블의 일단(一端)에 마련되고, 해당 케이블의 일단과, 상기 구동부에 전기적으로 접속된 접속 단자를 착탈이 자유롭게 접속하기 위한 커넥터와, 상기 커넥터를 포위하는 통 모양의 부재를 구비하며, 상기 구동부와 상기 케이블은, 상기 접속 단자 및 상기 커넥터에 의해, 상기 케이스의 상기 개구부 및 상기 판 모양의 부재의 상기 개구를 통하여 착탈이 자유롭게 및 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 한다. 이 때, 상기 통 모양의 부재의 일단에서는, 상기 일단에 마련된 수나사부와, 상기 판 모양의 부재의 상기 개구에 마련된 암나사부가 나사 결합되고, 상기 통 모양의 부재의 타단에는 상기 케이블을 클램프하기 위한 클램프 부재가 설치되고, 상기 타단과 상기 클램프 부재가 나사 결합되는 것이 바람직하다.In order to solve the said subject, the X-ray irradiation system of this invention is an X-ray irradiation apparatus which irradiates X-rays, the X-ray control apparatus which controls the said X-ray irradiation apparatus, the said X-ray irradiation apparatus, and the said X-ray An X-ray irradiation system having a cable for electrically connecting a control device, the X-ray irradiation device comprising: an X-ray tube, a drive unit for driving the X-ray tube, a case accommodating the X-ray tube and the drive unit, and an opening; And a plate-shaped member provided in the case and having an opening at a position corresponding to the opening, wherein the cable is provided at one end of the cable, and electrically connected to one end of the cable and the drive unit. And a tubular member surrounding the connector, wherein the connector and the cable surround the connector. By the ruler and the said connector, attachment and detachment are freely and electrically connected through the said opening of the said case and the said opening of the said plate-shaped member. At this time, at one end of the tubular member, the male screw portion provided at the one end and the female screw portion provided at the opening of the plate member are screwed together, and the other end of the tubular member is used for clamping the cable. It is preferable that the clamp member is provided, and the other end and the clamp member are screwed together.

이와 같은 본 발명의 X선 조사 시스템에서는, 커넥터는 케이블과 X선 조사 장치를 착탈이 자유롭게 접속하는 것이다. 따라서, 예를 들어 클램프 부재를 통 모양의 부재로부터 느슨하게 하고 또한 통 모양의 부재를 판 모양의 부재로부터 느 슨하게 한 후에 케이블을 X선 조사 장치로부터 떼어낼 수 있으며, 이에 의해 X선 조사 시스템에 있어서 X선 조사 장치만을 교환할 수 있다. 이 결과, X선 조사 장치의 수명과 관계없이, X선 조사 장치 이외의 부분, 즉 예를 들어 케이블이나 X선 제어 장치를 X선 조사 장치의 수명이 다한 후에도 그대로 계속 사용할 수 있다. 또한, X선 조사 장치의 교환을 X선관의 관구(管球)의 수명에 따라 행해도 되며, 이 경우에는 X선 조사 시스템에 있어서 X선 조사 장치 이외의 부분을 X선관의 관구의 수명에 관계없이 계속 사용할 수 있다.In the X-ray irradiation system of the present invention as described above, the connector detachably connects the cable and the X-ray irradiation apparatus. Thus, for example, after the clamp member is loosened from the cylindrical member and the cylindrical member is loosened from the plate member, the cable can be detached from the X-ray irradiation apparatus, whereby Therefore, only the X-ray irradiation apparatus can be replaced. As a result, irrespective of the lifetime of the X-ray irradiation apparatus, parts other than the X-ray irradiation apparatus, that is, a cable or an X-ray control apparatus can be used as they are even after the lifetime of the X-ray irradiation apparatus is over. The X-ray irradiation apparatus may be replaced in accordance with the life of the tube of the X-ray tube. In this case, the part of the X-ray irradiation system other than the X-ray irradiation apparatus may be related to the life of the tube of the X-ray tube. You can continue to use without.

또한, 통 모양의 부재는 커넥터를 포위하고 있으며, 통 모양의 부재의 일단은 판 모양의 부재의 개구에서 나사 결합되고, 통 모양의 부재의 타단은 케이블을 클램프하는 클램프 부재와 나사 결합된다. 이상의 구성에 의해, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재에 있어서의 밀폐성을 유지할 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 억제할 수 있다.In addition, the tubular member surrounds the connector, one end of the tubular member is screwed in the opening of the plate-shaped member, and the other end of the tubular member is screwed with the clamp member for clamping the cable. With the above structure, the sealing property in a plate-shaped member, a cylindrical member, and a clamp member can be maintained, and as a result, the outflow of gas generate | occur | produces in the periphery of a plate-shaped member, a cylindrical member, and a clamp member. Can be suppressed.

본 발명의 X선 조사 시스템에 있어서는, 상기 통 모양의 부재의 일단에는, 상기 판 모양의 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제1 씰 부재가 구비되어 있고, 상기 통 모양의 부재의 타단에는, 상기 클램프 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제2 씰 부재가 구비되어 있는 것이 바람직하다.In the X-ray irradiation system of the present invention, one end of the cylindrical member is provided with a first seal member for sealing the plate member and the cylindrical member, and the other end of the cylindrical member. It is preferable that the 2nd seal member for sealing the said clamp member and the said cylindrical member is provided in it.

판 모양의 부재와 통 모양의 부재 사이에 제1 씰 부재를 구비하며, 또한 클램프 부재와 통 모양의 부재 사이에 제2 씰 부재를 구비함으로써, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재에 있어서의 밀폐성을 더욱 높일 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 보다 확실하게 억제할 수 있다.The first seal member is provided between the plate member and the cylindrical member, and the second seal member is provided between the clamp member and the cylindrical member, thereby providing a plate member, a cylindrical member, and a clamp member. It is possible to further increase the sealing property, and as a result, it is possible to more reliably suppress the outflow of gas from the periphery of the plate-shaped member, the cylindrical member, and the clamp member.

본 발명의 X선 조사 시스템에 있어서는, 상기 커넥터는 커넥터 본체부 및 상기 접속 단자와 접속하는 측에서 상기 커넥터 본체부의 일부를 덮고 있는 외주부를 구비하고, 작업자에 의해 상기 외주부가 상기 커넥터 본체부의 다른 부분을 향하여 소정의 부분만큼 인장된 상태에서, 상기 커넥터 본체부가 상기 접속 단자에 접속되며, 또한 해당 접속 상태에 있어서 상기 제1 씰 부재의 존재에 의해 상기 외주부의 해당 인장된 상태가 유지되는 것이 바람직하다.In the X-ray irradiation system of the present invention, the connector includes a connector body portion and an outer circumference portion covering a portion of the connector body portion at a side connecting with the connection terminal, and the outer circumference portion is another portion of the connector body portion by an operator. It is preferable that the said connector main body part is connected to the said connection terminal in the state tensioned by the predetermined | prescribed part toward, and the said tensioned state of the said outer peripheral part is maintained by the presence of the said 1st sealing member in the said connection state. .

커넥터 본체부와 접속 단자가 접속된 상태에 있어서 외주부의 해당 인장된 상태가 유지되면, 커넥터를 접속 단자로부터 빼낼 때에, 작업자는 커넥터의 외주부를 본체부의 상기 다른 부분을 향하여 일단 인장하지 않아도 되게 된다. 이에 의해, 커넥터를 접속 단자로부터 빼낼 때의 작업성을 높일 수 있다.If the corresponding tensioned state of the outer circumferential portion is maintained in the state in which the connector main body portion and the connection terminal are connected, the operator does not need to once tension the outer circumference of the connector toward the other portion of the main body portion when removing the connector from the connection terminal. Thereby, workability at the time of taking out a connector from a connection terminal can be improved.

또, 본 발명의 X선 조사 장치는 X선관과, 상기 X선관을 구동시키는 구동부와, 상기 X선관 및 상기 구동부를 수용하는 케이스와, 상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내에 가스를 도입하기 위한 가스 도입부와, 상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내의 가스를 배기하기 위한 가스 배기부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In addition, the X-ray irradiation apparatus of the present invention includes an X-ray tube, a drive unit for driving the X-ray tube, a case accommodating the X-ray tube and the drive unit, and a gas introduction unit provided in the case to introduce gas into the case. And a gas exhaust unit provided in the case to exhaust the gas in the case.

이와 같이 가스 도입부 및 가스 배기부를 마련함으로써, X선 조사 장치 내에 가스를 도입하며, 또한 X선 조사 장치 내의 가스를 외부로 배기할 수 있다. 여기서, 가스의 유량을 적절하게 컨트롤함으로써, X선 조사 장치 내의 압력을 X선 조사 장치 밖의 압력보다 높게 컨트롤할 수 있다. 이와 같이 X선 조사 장치 내를 양압(陽壓)으로 컨트롤함으로써, X선 조사 장치 밖의 가스가 X선 조사 장치 내에 침입하는 것을 방지하여 X선 조사 장치의 밀폐성을 높일 수 있다.By providing the gas introduction part and the gas exhaust part in this way, the gas can be introduced into the X-ray irradiation apparatus and the gas in the X-ray irradiation apparatus can be exhausted to the outside. Here, by appropriately controlling the flow rate of the gas, the pressure in the X-ray irradiation apparatus can be controlled higher than the pressure outside the X-ray irradiation apparatus. By controlling the inside of the X-ray irradiation apparatus with a positive pressure in this way, the gas outside the X-ray irradiation apparatus can be prevented from infiltrating into the X-ray irradiation apparatus and the sealing property of the X-ray irradiation apparatus can be improved.

또, 외부로부터의 가스가 가스 도입부를 통하여 X선 조사 장치 내에 도입되며, 또한 X선 조사 장치 내의 가스가 가스 배기부를 통하여 외부로 배기되기 때문에, 해당 가스가 X선 조사 장치 내를 냉각하는 역할을 할 수도 있다.In addition, since gas from the outside is introduced into the X-ray irradiation apparatus through the gas introduction portion, and the gas in the X-ray irradiation apparatus is exhausted to the outside through the gas exhaust portion, the gas serves to cool the inside of the X-ray irradiation apparatus. You may.

또, 본 발명의 X선 조사 시스템은, 제1 기판에 레지스트 도포 처리를 실시하는 레지스트 도포 처리 장치와, 제2 기판에 현상 처리를 실시하는 현상 처리 장치와, 상기 레지스트 도포 처리 장치 및 상기 현상 처리 장치 중 적어도 한쪽 내에 마련되고 또한 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중 적어도 한쪽에 X선을 조사함으로써 해당 적어도 한쪽의 기판을 제전하는 X선 조사 장치와, 상기 X선 조사 장치를 제어하는 X선 제어 장치와, 상기 X선 조사 장치 및 상기 X선 제어 장치를 전기적으로 접속하는 케이블을 구비하는 X선 조사 시스템으로서, 상기 X선 조사 장치는, 상기 제1 기판 또는 상기 제2 기판에 X선을 조사하기 위한 X선관과, 상기 X선관을 구동시키는 구동부와, 상기 X선관 및 상기 구동부를 수용하고 개구부를 가지는 케이스와, 상기 케이스에 마련되고 상기 개구부에 대응하는 위치에 개구를 가지는 판 모양의 부재와, 상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내에 가스를 도입하기 위한 가스 도입부와, 상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내의 가스를 배기하기 위한 가스 배기부를 구비하고, 상기 케이블은, 해당 케이블의 일단에 마련되고, 해당 케이블의 일단과, 상기 구동부에 전기적으로 접속된 접속 단자를 착탈이 자유롭게 접 속하기 위한 커넥터와, 상기 커넥터를 포위하는 통 모양의 부재를 구비하며, 상기 구동부와 상기 케이블은, 상기 접속 단자 및 상기 커넥터에 의해, 상기 케이스의 상기 개구부 및 상기 판 모양의 부재의 상기 개구를 통하여 착탈이 자유롭게 및 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 한다.Moreover, the X-ray irradiation system of this invention is the resist coating processing apparatus which performs a resist coating process to a 1st board | substrate, the developing processing apparatus which performs a developing process to a 2nd board | substrate, the said resist coating processing apparatus, and the said developing process An X-ray irradiation apparatus provided in at least one of the apparatuses and statically radiating the at least one substrate by radiating X-rays to at least one of the first substrate and the second substrate, and an X-ray for controlling the X-ray irradiation apparatus. An X-ray irradiation system including a control device and a cable for electrically connecting the X-ray irradiation device and the X-ray control device, wherein the X-ray irradiation device applies X-rays to the first substrate or the second substrate. An X-ray tube for irradiation, a drive unit for driving the X-ray tube, a case accommodating the X-ray tube and the drive unit, and having an opening, and provided in the case A plate-shaped member having an opening at a position corresponding to the opening, a gas introduction portion provided in the case and introducing gas into the case, and a gas exhaust portion provided in the case and exhausting gas in the case. The cable is provided at one end of the cable, and includes a connector for detachably connecting one end of the cable, a connection terminal electrically connected to the drive unit, and a tubular member surrounding the connector. It is provided, The said drive part and the cable are characterized in that attachment and detachment are freely and electrically connected by the said connection terminal and the said connector through the said opening of the said case and the said opening of the said plate-shaped member.

이와 같은 본 발명의 X선 조사 시스템에 의하면, 가스 도입부 및 가스 배기부를 마련함으로써, X선 조사 장치 내에 가스를 도입하고 또한 X선 조사 장치 내의 가스를 외부로 배기할 수 있다. 여기서, 가스의 유량을 적절하게 컨트롤함으로써, X선 조사 장치 내의 압력을 X선 조사 장치 밖의 압력, 즉 예를 들어 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내의 압력보다 높게 컨트롤할 수 있다. 이와 같이 X선 조사 장치 내를 양압으로 컨트롤함으로써, 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내의 가스가 X선 조사 장치 내에 침입하는 것을 방지하여 X선 조사 장치의 밀폐성을 높일 수 있다.According to such an X-ray irradiation system of the present invention, by providing a gas introduction portion and a gas exhaust portion, it is possible to introduce gas into the X-ray irradiation apparatus and exhaust the gas in the X-ray irradiation apparatus to the outside. Here, by appropriately controlling the flow rate of the gas, the pressure in the X-ray irradiation apparatus can be controlled to be higher than the pressure outside the X-ray irradiation apparatus, that is, for example, the pressure in the resist coating apparatus or the developing processing apparatus. By controlling the inside of the X-ray irradiation apparatus with a positive pressure in this manner, the gas in the resist coating apparatus or the developing apparatus can be prevented from infiltrating into the X-ray irradiation apparatus and the sealing property of the X-ray irradiation apparatus can be improved.

또한, 커넥터는 케이블과 X선 조사 장치를 착탈이 자유롭게 접속하는 것이다. 따라서, 예를 들어 클램프 부재를 통 모양의 부재로부터 느슨하게 하고 또한 통 모양의 부재를 판 모양의 부재로부터 느슨하게 한 후에 케이블을 X선 조사 장치로부터 떼어낼 수 있으며, 이에 의해 X선 조사 시스템에 있어서 X선 조사 장치만을 교환할 수 있다. 이 결과, X선 조사 장치의 수명과 관계없이, X선 조사 장치 이외의 부분, 즉 예를 들어 케이블, X선 제어 장치, 레지스트 도포 장치, 현상 처리 장치 등을 X선 조사 장치의 수명이 다한 후에도 그대로 계속 사용할 수 있다. 또한, X선 조사 장치의 교환을 X선관의 관구(管球)의 수명에 따라 행해도 되며, 이 경우 에는 X선 조사 시스템에 있어서 X선 조사 장치 이외의 부분을 X선관의 관구의 수명에 관계없이 계속 사용할 수 있다.In addition, the connector detachably connects a cable and an X-ray irradiation apparatus. Thus, for example, after the clamp member is loosened from the cylindrical member and the cylindrical member is loosened from the plate member, the cable can be detached from the X-ray irradiation apparatus, whereby X in the X-ray irradiation system Only the line irradiation device can be replaced. As a result, irrespective of the lifetime of the X-ray irradiation apparatus, even after the X-ray irradiation apparatus has reached the end of the X-ray irradiation apparatus, a portion other than the X-ray irradiation apparatus, that is, for example, a cable, an X-ray control apparatus, a resist coating apparatus, a developing treatment apparatus, or the like, is used. You can continue to use it. The X-ray irradiation apparatus may be replaced in accordance with the life of the tube of the X-ray tube. In this case, a portion other than the X-ray irradiation apparatus of the X-ray tube may be related to the life of the tube of the X-ray tube. You can continue to use without.

또, 본 발명의 X선 조사 시스템에 있어서는, 상기 통 모양의 부재의 일단에서는, 상기 일단에 마련된 수나사부와, 상기 판 모양의 부재의 상기 개구에 마련된 암나사부가 나사 결합되고, 상기 통 모양의 부재의 타단에는 상기 케이블을 클램프하기 위한 클램프 부재가 마련되고, 상기 타단과 상기 클램프 부재가 나사 결합되는 것을 구비하는 것이 바람직하다.Moreover, in the X-ray irradiation system of this invention, the male screw part provided in the said one end and the female screw part provided in the said opening of the said plate-shaped member are screwed together at the one end of the said cylindrical member, and the said cylindrical member It is preferable that the other end of the clamp member for clamping the cable is provided, the other end and the clamp member is screwed.

이 경우에는, 통 모양의 부재는 커넥터를 포위하고 있으며, 통 모양의 부재의 일단은 판 모양의 부재의 개구에서 나사 결합되고, 통 모양의 부재의 타단은 케이블을 클램프하는 클램프 부재와 나사 결합된다. 이상의 구성에 의해, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재에 있어서의 밀폐성을 유지할 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, X선 조사 장치 내의 가스가 X선 조사 장치로부터 나와 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내에 흘러가는 것이나, 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내의 가스가 X선 조사 장치 내에 들어오는 것을 억제할 수 있다.In this case, the tubular member surrounds the connector, one end of the tubular member is screwed in the opening of the plate member, and the other end of the tubular member is screwed with the clamp member for clamping the cable. . With the above structure, the sealing property in a plate-shaped member, a cylindrical member, and a clamp member can be maintained, and as a result, the outflow of gas generate | occur | produces in the periphery of a plate-shaped member, a cylindrical member, and a clamp member. Can be suppressed. Therefore, it is possible to suppress that gas in the X-ray irradiation apparatus flows out of the X-ray irradiation apparatus and flows into the resist coating apparatus or the developing processing apparatus, and that gas in the resist coating apparatus or the developing processing apparatus enters the X-ray irradiation apparatus.

또, 외부로부터의 가스가 가스 도입부를 통하여 X선 조사 장치 내에 도입되며, 또한 X선 조사 장치 내의 가스가 가스 배기부를 통하여 외부로 배기되기 때문에, 해당 가스가 X선 조사 장치 내를 냉각하는 역할을 할 수도 있다.In addition, since gas from the outside is introduced into the X-ray irradiation apparatus through the gas introduction portion, and the gas in the X-ray irradiation apparatus is exhausted to the outside through the gas exhaust portion, the gas serves to cool the inside of the X-ray irradiation apparatus. You may.

본 발명의 X선 조사 시스템에 있어서는, 상기 통 모양의 부재의 일단에는, 상기 판 모양의 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제1 씰 부재가 구비되어 있고, 상기 통 모양의 부재의 타단에는, 상기 클램프 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제2 씰 부재가 구비되어 있는 것이 바람직하다.In the X-ray irradiation system of the present invention, one end of the cylindrical member is provided with a first seal member for sealing the plate member and the cylindrical member, and the other end of the cylindrical member. It is preferable that the 2nd seal member for sealing the said clamp member and the said cylindrical member is provided in it.

판 모양의 부재와 통 모양의 부재 사이에 제1 씰 부재를 구비하고, 또한 클램프 부재와 통 모양의 부재 사이에 제2 씰 부재를 구비함으로써, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재에 있어서의 밀폐성을 더욱 높일 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재, 통 모양의 부재, 클램프 부재의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 보다 확실히 억제할 수 있다. 따라서, X선 조사 장치 내의 가스가 X선 조사 장치로부터 나와 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내에 흘러가는 것이나, 레지스트 도포 장치나 현상 처리 장치 내의 가스가 X선 조사 장치 내에 들어오는 것을 보다 확실히 억제할 수 있다.The first seal member is provided between the plate member and the tubular member, and the second seal member is provided between the clamp member and the tubular member, thereby providing a plate member, a tubular member, and a clamp member. It is possible to further increase the sealing property, and as a result, it is possible to more reliably suppress the outflow of gas from the periphery of the plate-shaped member, the cylindrical member, and the clamp member. Therefore, it is possible to more reliably suppress that the gas in the X-ray irradiation apparatus flows out of the X-ray irradiation apparatus and flows into the resist coating apparatus or the developing processing apparatus, and that the gas in the resist coating apparatus or the developing processing apparatus enters the X-ray irradiation apparatus. .

본 발명의 X선 조사 시스템에 있어서는, 외부의 장치로부터의 상기 가스를 상기 가스 도입부를 통하여 상기 케이스 내에 도입하기 위한 가스 도입관과, 상기 케이스 내의 상기 가스를 상기 가스 배기부를 통하여 외부로 배기하기 위한 가스 배기관을 추가로 구비하는 것이 바람직하다.In the X-ray irradiation system of the present invention, a gas introduction tube for introducing the gas from an external device into the case through the gas introduction unit, and for exhausting the gas in the case to the outside through the gas exhaust unit It is preferable to further provide a gas exhaust pipe.

가스 도입관은 예를 들어 외부의 가스 공급 수단으로부터의 가스를 가스 도입부를 통하여 X선 조사 장치 내에 도입하기 위한 것이며, 가스 배기관은 X선 조사 장치 내의 가스를 가스 배기부를 통하여 예를 들어 외부의 가스 회수 수단으로 배기하기 위한 것이다. 이들 가스 도입관 및 가스 배기관은 가스 도입부 및 가스 배기부와 함께, 해당 가스를 이용한 공랭(空冷)을 위한 수단으로도 이용될 수 있다.The gas introduction pipe is for introducing gas from an external gas supply means into the X-ray irradiation apparatus through the gas introduction section, and the gas exhaust pipe is configured to introduce gas in the X-ray irradiation apparatus through the gas exhaust section, for example, external gas. It is for exhausting by a recovery means. These gas introduction pipes and gas exhaust pipes, together with the gas introduction part and the gas exhaust part, can also be used as means for air cooling using the gas.

본 발명에 의하면, X선 조사 장치의 밀폐성을 높이는 것이 가능한 X선 조사 시스템 및 X선 조사 장치를 제공할 수 있다.According to this invention, the X-ray irradiation system and X-ray irradiation apparatus which can improve the sealing property of an X-ray irradiation apparatus can be provided.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명에 관한 X선 조사 장치 및 X선 조사 시스템의 바람직한 실시형태를 상세하게 설명한다. 또한, 도면의 설명에 있어서 동일한 요소에는 동일한 부호를 부여하고, 중복되는 설명을 생략한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, with reference to an accompanying drawing, preferable embodiment of the X-ray irradiation apparatus and X-ray irradiation system which concerns on this invention is described in detail. In addition, in description of drawing, the same code | symbol is attached | subjected to the same element, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

[제1 실시형태: X선 조사 장치(1) 및 X선 조사 시스템(100)][First embodiment: X-ray irradiation apparatus 1 and X-ray irradiation system 100]

우선, 본 발명의 제1 실시형태에 관련된 X선 조사 장치(1) 및 X선 조사 시스템(100)에 대하여, 도면을 참조하면서 설명한다.First, the X-ray irradiation apparatus 1 and X-ray irradiation system 100 which concern on 1st Embodiment of this invention are demonstrated, referring drawings.

도 1~도 3에 나타내는 바와 같이, X선 조사 장치(1)는 박스 타입으로 이루어진 보호 케이스(2)(케이스)를 가지며, 이 보호 케이스(2)는 열전도성이 양호한 재료로 이루어져 3 분할되어 있다. 즉, 보호 케이스(2)는 스테인리스로 이루어진 사각기둥 형상의 케이스 본체부(4)와, 알루미늄으로 이루어진 평판 모양의 전면 패널(5)과, 알루미늄으로 이루어진 평판 모양의 배면 패널(6)로 이루어져 3 분할형의 박스를 구성하고 있다. 그리고, 이 보호 케이스(2)에 있어서, 그 전체 길이가 약 100㎜이며, 전면(前面) 패널(5)의 두께는 약 10㎜ 정도로 설정되어 있다. 따라서, 전면 패널(5)의 두께는 전체 길이의 약 1/10에 이르고 있어, 전면 패널(5)의 두께를 크게 함으로써 높은 방열성을 기대할 수 있다. 또한, 보호 케이스(2)에는 알루미늄으로 이루어진 장착용 베이스(7)가 나사 고정되어 있다.As shown in FIGS. 1-3, the X-ray irradiation apparatus 1 has the protective case 2 (case) which consists of a box type, This protective case 2 consists of a material with good thermal conductivity, and is divided into three, have. That is, the protective case 2 is composed of a square pillar-shaped case body portion 4 made of stainless steel, a flat front panel 5 made of aluminum, and a flat back panel 6 made of aluminum. It consists of a split type box. And in this protective case 2, the total length is about 100 mm, and the thickness of the front panel 5 is set to about 10 mm. Therefore, the thickness of the front panel 5 reaches about 1/10 of the total length, and high heat dissipation can be expected by increasing the thickness of the front panel 5. In addition, a mounting base 7 made of aluminum is screwed to the protective case 2.

이와 같은 보호 케이스(2) 내에는, 연X선을 발생시켜 정전기의 제거 등에 이용되는 X선관(8)이 배치되어 있다. 이 X선관(8)은, 도 4에 나타내는 바와 같이, 코바(kovar) 글라스제의 원통모양 밸브(9)를 가지며, 이 밸브(9)의 말단에는 배기관(10)을 가진 스템(11)이 형성되고, 밸브(9)의 개방단에는 원통모양을 이루는 코바 금속제의 출력창 유지부(12)가 융착 접속되어 있다. 또, 이 출력창 유지부(12)에는 그 중앙 개구(12a)를 막도록 원판 모양의 출력창(13)이 Ag 납땜에 의해 고정되고, 출력창(13)의 내면측에는 전자빔의 충돌에 의해 X선을 발생시키는 타깃(14)이 증착되어 있다.In such a protective case 2, an X-ray tube 8 for generating soft X-rays and removing static electricity is arranged. As shown in Fig. 4, the X-ray tube 8 has a cylindrical valve 9 made of kovar glass, and a stem 11 having an exhaust pipe 10 at the end of the valve 9 is provided. The output window holding part 12 made from the KOVA metal, which is formed in a cylindrical shape, is fused and connected to the open end of the valve 9. In addition, a disk-shaped output window 13 is fixed to the output window holding part 12 by Ag soldering so as to close the center opening 12a, and an X beam is collided on the inner surface side of the output window 13 by an electron beam. The target 14 which produces a line is deposited.

또한, 스템(11)에는 2개의 스템 핀(15, 15)이 고정되고, 밸브(9) 내에는 소정의 전압으로 전자빔을 방출하는 캐소드로서의 필라멘트(16)가 마련되며, 이 필라멘트(16)는 스템 핀(15)의 선단에 고정되어 있다. 또, 한쪽의 스템 핀(15)에는, 원통모양을 이루는 스테인리스제의 포커스(17)가 고정되어 있다. 그리고, 이 출력창 유지부(12)는 코바 금속에 의해 형성되어 있기 때문에 열전도성 및 도전성이 양호한 동시에, 어스(earth)된 보호 케이스(2)에 전기적으로 접속되기 때문에 접지 전위로 되어 있어, 그 결과로서, 타깃(14)도 접지 전위로 유지되고 있다.In addition, two stem pins 15 and 15 are fixed to the stem 11, and a filament 16 as a cathode for emitting an electron beam at a predetermined voltage is provided in the valve 9. It is fixed to the tip of the stem pin 15. In addition, a stainless steel focus 17 having a cylindrical shape is fixed to one stem pin 15. Since the output window holding part 12 is made of a coba metal, the thermal conductivity and conductivity are good, and at the same time, the output window holding part 12 is electrically connected to the earthed protective case 2, which is at ground potential. As a result, the target 14 is also maintained at the ground potential.

따라서, X선관(8)의 스템 핀(15)에, 후술하는 전압 발생부(21)로부터 -9.5kV의 고전위를 공급하고, 접지 전위의 타깃(14)을 향하여 필라멘트(16)로부터 전자빔을 조사한다. 이 때, 전자빔의 충돌에 의해 타깃(14)으로부터 연X선이 방사되고, 이 X선이 출력창(13)으로부터 외부로 방출된다. X선관(8)을 이와 같이 구성함으로써, 밸브(9)를 직경 15㎜, 길이 30㎜ 정도의 크기로 할 수 있어, 전체 길이가 40㎜ 정도인 소형의 X선관(8)을 가능하게 하고 있다. 또한, 사용시에 있어서, 소형의 X선관(8)의 타깃(14)은 고온으로 되어 있어, X선의 발생 효율의 유지나 타깃(14)의 파손 방지를 위해서 타깃(14)의 열을 외부로 적절히 내보낼 필요가 있다.Therefore, a high potential of -9.5 kV is supplied to the stem pin 15 of the X-ray tube 8 from the voltage generator 21 described later, and the electron beam is discharged from the filament 16 toward the target 14 at ground potential. Investigate. At this time, soft X-rays are radiated from the target 14 by the collision of electron beams, and these X-rays are emitted from the output window 13 to the outside. By configuring the X-ray tube 8 in this manner, the valve 9 can be made into a size of about 15 mm in diameter and about 30 mm in length, thereby enabling a compact X-ray tube 8 having a total length of about 40 mm. . At the time of use, the target 14 of the small X-ray tube 8 is at a high temperature, and the heat of the target 14 is appropriately exported to the outside for maintaining the generation efficiency of X-rays and preventing the target 14 from being damaged. There is a need.

또한, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 보호 케이스(2) 내에는 구동부(35)가 수용되어 있다. 구동부(35)는 회로 기판(20), 회로 기판(20) 위에 탑재된 전압 발생부(21), 접속 단자(23) 등을 포함한다. 전압 발생부(21)는 -9.5kV의 고전위를 스템 핀(15)에 공급하여 X선관(8)을 구동시키기 위한 것이다. 먼저, 전압 발생부(21) 내의 저전압 발생 부위에서 -1kV까지 전위를 올리고, 다음에 고전압 발생 부위에서 -9.5kV까지 전위를 올리고 있다. 회로 기판(20)은, 나사를 통하여 강철제의 베이스 플레이트(22)에 고정되어 있다. 그리고, 전압 발생부(21)의 고전압 발생 부위로부터 연장된 배선(21a)은 X선관(8)의 스템 핀(15)에 선으로 연결되고, X선관(8)의 밸브(9)에는 스템 핀(15)을 덮는 원통모양의 캡(19)이 고정되어 있다. 또한, 캡(19) 내에는 배선(21a)과 스템 핀(15)의 결합 후, 실리콘 수지(P)가 충전된다(도 6 참조). 또한, 회로 기판(20) 위에는, CPU(61)(도 7 참조)를 내장한 헤드 회로(60)(도 7 참조)가 마련되어 있어, 헤드 회로(60)로부터의 제어 신호는 소정의 배선을 통하여 전압 발생부(21)로 출력된다.1 and 2, the driving unit 35 is accommodated in the protective case 2. The driver 35 includes a circuit board 20, a voltage generator 21 mounted on the circuit board 20, a connection terminal 23, and the like. The voltage generator 21 supplies the high potential of -9.5 kV to the stem pin 15 to drive the X-ray tube 8. First, the potential is raised to -1 kV at the low voltage generation site in the voltage generation unit 21, and then the potential is increased to -9.5 kV at the high voltage generation site. The circuit board 20 is fixed to the steel base plate 22 through a screw. The wiring 21a extending from the high voltage generating portion of the voltage generator 21 is connected to the stem pin 15 of the X-ray tube 8 by a line, and the stem pin is connected to the valve 9 of the X-ray tube 8. A cylindrical cap 19 covering 15 is fixed. In the cap 19, the silicone resin P is filled after the wiring 21a and the stem pin 15 are joined together (see Fig. 6). In addition, on the circuit board 20, a head circuit 60 (see Fig. 7) incorporating a CPU 61 (see Fig. 7) is provided, so that the control signal from the head circuit 60 is routed through a predetermined wiring. It is output to the voltage generator 21.

이 베이스 플레이트(22)의 전단에는 L자 모양으로 만들어진 제1 장착편(22a)이 일체적으로 마련되고, 베이스 플레이트(22)의 후단에도 L자 모양으로 만들어진 제2 장착편(22b)이 일체적으로 마련되어 있다. 그리고, 제1 장착편(22a)은 전압 발생부(21)를 보호 케이스(2)에 고정하기 위해서 이용되며, 제2 장착편(22b)은 회 로 기판(20) 위의 저전압 발생 부위에 선으로 연결된 접속 단자(23)의 장착에 이용된다. 예를 들어, 제1 장착편(22a)은, 멈춤 나사(25)를 통하여 전면 패널(5)에 압착시키도록 고정되고, 접속 단자(23)는 조임 너트(24)를 통하여 제2 장착편(22b)에 고정되며, 배면 패널(6)은 나사(28)를 통하여 제2 장착편(22b)에 압착시키도록 고정되어 있다. 이와 같이, 열전도성이 양호한 알루미늄으로 이루어진 평판 모양의 전면 패널(5)과 배면 패널(6)은 강철제의 베이스 플레이트(22)를 통하여 연결되어 있기 때문에, 배면 패널(6)에서도 방열을 가능하게 하여 보호 케이스(2)에 의한 높은 방열성을 실현하고 있다.An L-shaped first mounting piece 22a is integrally provided at the front end of the base plate 22, and a second mounting piece 22b made of an L shape is also integrated at the rear end of the base plate 22. It is provided as an enemy. In addition, the first mounting piece 22a is used to fix the voltage generator 21 to the protective case 2, and the second mounting piece 22b is connected to the low voltage generation site on the circuit board 20. It is used for the mounting of the connection terminal 23 connected by the. For example, the first mounting piece 22a is fixed to be pressed onto the front panel 5 via the set screw 25, and the connecting terminal 23 is attached to the second mounting piece via the tightening nut 24. It is fixed to 22b), and the back panel 6 is fixed so that it may be crimped | bonded to the 2nd mounting piece 22b through the screw 28. As shown in FIG. As described above, since the flat front panel 5 and the back panel 6 made of aluminum having good thermal conductivity are connected through the base plate 22 made of steel, the rear panel 6 can also radiate heat. Therefore, high heat dissipation by the protective case 2 is realized.

또한, 전술한 X선관(8)을 보호 케이스(2)에 고정할 때에, X선관(8)은 알루미늄으로 이루어진 전면 패널(5)에 고정된다. 도 1 및 도 5에 나타내는 바와 같이, 이 전면 패널(5)에는 X선관(8)의 출력창 유지부(12)가 삽입되는 원주모양의 개구부(26)가 형성되고, 이 개구부(26)를 만들어 내는 벽면(26a)에는 안쪽을 향하여 환상(環狀)의 돌기부(27)가 형성되어 있다. 그리고, 이 돌기부(27)에는, 출력창 유지부(12)의 선단에 일체적으로 마련된 환상의 플랜지부(18)가 맞부딪힌다.In addition, when fixing the X-ray tube 8 mentioned above to the protective case 2, the X-ray tube 8 is fixed to the front panel 5 which consists of aluminum. As shown in FIG. 1 and FIG. 5, the front panel 5 is formed with a circumferential opening 26 into which the output window holding part 12 of the X-ray tube 8 is inserted. An annular projection 27 is formed on the wall surface 26a to be formed inward. And the projection part 27 abuts against the annular flange part 18 integrally provided in the front-end | tip of the output window holding part 12. As shown in FIG.

또한, 개구부(26)의 벽면(26a)에 암나사부(29)가 형성되고, 이 암나사부(29)에는 외(外)나사(30a)를 가진 고정 너트(30)가 나사 결합된다. 이 고정 너트(30)는 열전도성이 양호한 황동으로 이루어진 동시에, 개구부(26) 내에 삽입되는 대략 원통 형상의 동부(31)와, 육각 너트를 형성하는 육각 헤드부(32)로 이루어진다.In addition, a female screw portion 29 is formed on the wall surface 26a of the opening portion 26, and a fixing nut 30 having an external screw 30a is screwed into the female screw portion 29. The fixing nut 30 is made of brass having good thermal conductivity, and is composed of a substantially cylindrical eastern portion 31 inserted into the opening 26 and a hexagonal head portion 32 forming a hexagon nut.

따라서, 전면 패널(5)의 개구부(26) 내에 X선관(8)의 출력창 유지부(12)를 삽입한 상태에서, 암나사부(29)에 고정 너트(30)의 외나사부(30a)를 나사 결합시키 도록 고정 너트(30)를 단단히 조여 간다. 그리고, 고정 너트(30)를 충분히 조임으로써, X선관(8)의 출력창 유지부(12)에 마련된 환상의 플랜지부(18)가, 전면 패널(5)의 돌기부(27)에 맞부딪힌다. 그 결과로서, 고정 너트(30)의 선단(30b)에 의해 플랜지부(18)가 돌기부(27)를 향하여 압압되어 전면 패널(5)에 X선관(8)이 고정되게 된다(도 6 참조). 따라서, 이와 같은 고정 너트(30)를 이용함으로써, X선관(8)을 보호 케이스(2) 내에서 간단하고 또한 확실하게 고정시킬 수 있다. 게다가, 고정 너트(30)는 열전도성이 좋은 재질로 형성되어 있기 때문에, X선관(8)의 출력창 유지부(12)로부터 전면 패널(5)로의 열의 전달성을 높일 수 있어, 섭씨 100도 가까워진 출력창 유지부(12)의 열을 내보내기 쉽게 함으로써 X선의 발생 효율의 유지나 타깃(14)의 파손이 방지된다.Therefore, while the output window holding part 12 of the X-ray tube 8 is inserted in the opening part 26 of the front panel 5, the external thread part 30a of the fixing nut 30 is attached to the female thread part 29. FIG. Tighten the fixing nut 30 firmly to screw it. And by fully tightening the fixing nut 30, the annular flange part 18 provided in the output window holding part 12 of the X-ray tube 8 will collide with the protrusion part 27 of the front panel 5. As shown in FIG. As a result, the flange portion 18 is pressed toward the projection portion 27 by the tip end 30b of the fixing nut 30 so that the X-ray tube 8 is fixed to the front panel 5 (see FIG. 6). . Therefore, by using such a fixing nut 30, the X-ray tube 8 can be fixed simply and reliably in the protective case 2. In addition, since the fixing nut 30 is made of a material having good thermal conductivity, the transfer of heat from the output window holding part 12 of the X-ray tube 8 to the front panel 5 can be improved, and thus 100 degrees Celsius. By keeping the heat of the output window holding part 12 close to be easy, the maintenance of the generation efficiency of X-rays and the damage of the target 14 are prevented.

또, 고정 너트(30)의 내벽면에는 안쪽을 향하여 돌출하는 위치 결정면(30c)이 형성되고, 이 위치 결정면(30c)이 출력창 유지부(12)의 외면(外面)(12a)에 접촉한다. 이에 의해, 고정 너트(30)에 의한 X선관(8)의 위치 결정이 간단하고 또한 확실하게 달성되며, 게다가 X선관(8)에 마련한 출력창 유지부(12)로부터 전면 패널(5)로의 열의 전달성을 더욱 높일 수 있다. 따라서, X선의 발생 효율의 유지나 X선관(8)에 있어서의 타깃(14)의 파손 방지를 더욱 높일 수 있게 된다.Moreover, the positioning surface 30c which protrudes inward is formed in the inner wall surface of the fixing nut 30, and this positioning surface 30c contacts the outer surface 12a of the output window holding part 12. Moreover, as shown in FIG. . Thereby, the positioning of the X-ray tube 8 by the fixing nut 30 is easily and reliably achieved, and furthermore, the heat from the output window holding part 12 provided in the X-ray tube 8 to the front panel 5 is maintained. Deliver more. Therefore, maintenance of the generation efficiency of X-rays and prevention of the damage of the target 14 in the X-ray tube 8 can further be improved.

또, 고정 너트(30)의 선단(30b)과 출력창 유지부(12)의 플랜지부(18)에서 고무 링(34)을 끼워 넣으면, 고정 너트(30)의 조임에 의해 플랜지부(18)는 돌기부(27)에 대하여 적절한 압압력(押壓力)을 가지고 확실하게 고정된다. 또, 전술한 고정 너트(30)를 채용하면, 전면 패널(5)의 두께는 필연적으로 커지지만, 그에 따 라, 전면 패널(5)에서의 높은 방열성을 기대할 수 있다. 또한, 강철제의 베이스 플레이트(22)를 중개로 하여, 열전도성이 양호한 알루미늄으로 이루어진 전면 패널(5)과 배면 패널(6)을 열적으로 연결시키고 있기 때문에, 배면 패널(6)에서도 방열을 가능하게 하여 보호 케이스(2)에 의한 높은 방열성이 실현된다.In addition, when the rubber ring 34 is inserted in the tip portion 30b of the fixing nut 30 and the flange portion 18 of the output window holding portion 12, the flange portion 18 is tightened by tightening the fixing nut 30. Is firmly fixed to the protrusion 27 with an appropriate pressing force. In addition, if the above-mentioned fixing nut 30 is adopted, the thickness of the front panel 5 will inevitably become large, and accordingly, high heat dissipation in the front panel 5 can be expected. In addition, since the front panel 5 made of aluminum having good thermal conductivity and the back panel 6 are thermally connected with the base plate 22 made of steel as an intermediary, heat dissipation is also possible in the back panel 6. In this way, high heat dissipation by the protective case 2 is realized.

도 1~도 3을 다시 참조하면, 알루미늄제의 판 모양의 부재(36)가 배면 패널(6)에 복수의 나사(37)로 나사 고정되어 있다. 배면 패널(6) 및 판 모양의 부재(36)는 각각 대응하는 위치에 개구부(6a) 및 개구(36a)를 가지고 있으며, 접속 단자(23)가 이들 개구부(6a) 및 개구(36a)에 임하는 위치에서 고정되어 있다.Referring again to FIGS. 1 to 3, an aluminum plate-like member 36 is screwed to the rear panel 6 with a plurality of screws 37. The back panel 6 and the plate-shaped member 36 each have an opening 6a and an opening 36a at corresponding positions, and the connecting terminal 23 faces the opening 6a and the opening 36a. It is fixed in position.

배면 패널(6)은 개구부(6b)를 추가로 가지고 있으며, 가스 도입부(38)가 이 개구부(6b)에 위치된다. 가스 도입부(38)는 대략 통 모양의 형상을 하고 있으며, 보호 케이스(2) 내에 가스를 도입하기 위한 것이다. 또, 배면 패널(6)은 개구부(6c)를 추가로 가지고 있으며, 가스 배기부(39)가 이 개구부(6c)에 위치된다. 가스 배기부(39)는 대략 통 모양의 형상을 하고 있으며, 보호 케이스(2) 내의 가스를 외부로 배기하기 위한 것이다. 본 실시형태에서는, 개구부(6b, 6c)에 각각 암나사부(6d, 6e)가 형성되어 있으며, 가스 도입부(38) 및 가스 배기부(39)의 각각의 외주면의 일단에 형성된 수나사부(38a, 39a)가 각각 암나사부(6d, 6e)에 나사 결합된다. 이에 의해, 가스 도입부(38) 및 가스 배기부(39)가 개구부(6b, 6c)에서 각각 배면 패널(6)에 고정된다. 또, 가스 도입 튜브(40)로부터의 예를 들어 질소 가스는 가스 도입부(38)를 통하여 보호 케이스(2) 내에 도입되고, 또한 보호 케이스(2) 내의 해당 질소 가스는 가스 배기부(39) 및 가스 배기 튜브(41)를 통하여 외 부로 배기된다.The rear panel 6 further has an opening 6b, and a gas introduction portion 38 is located in this opening 6b. The gas introduction part 38 has a substantially cylindrical shape, and is for introducing gas into the protective case 2. In addition, the rear panel 6 further has an opening 6c, and the gas exhaust section 39 is located in this opening 6c. The gas exhaust part 39 has a substantially cylindrical shape, and is for exhausting the gas in the protective case 2 to the outside. In the present embodiment, the female screw portions 6d and 6e are formed in the opening portions 6b and 6c, respectively, and the male screw portions 38a, which are formed at one end of each outer peripheral surface of the gas introduction portion 38 and the gas exhaust portion 39, respectively. 39a) are screwed to the female screw portions 6d and 6e, respectively. Thereby, the gas introduction part 38 and the gas exhaust part 39 are fixed to the back panel 6 in the opening part 6b, 6c, respectively. In addition, for example, nitrogen gas from the gas introduction tube 40 is introduced into the protective case 2 through the gas introduction unit 38, and the nitrogen gas in the protective case 2 is supplied to the gas exhaust unit 39. Exhaust is exhausted through the gas exhaust tube 41.

도 1~도 3을 다시 참조하면, 케이블(42)은 케이블 본체(43), 커넥터(44), 통 모양의 부재(45), 제1 개스킷(46)(제1 씰 부재), 제2 개스킷(47)(제2 씰 부재), 캡 콘(48)(클램프 부재)을 구비한다. 커넥터(44)는 케이블 본체(43)의 X선 조사 장치(1)측의 일단에 마련되어, 케이블 본체(43)의 일단과 접속 단자(23)를 개구부(6a) 및 개구 (36a)의 위치에서 착탈이 자유롭게 접속하기 위한 것이다. 커넥터(44)를 통하여 케이블 본체(43)와 접속 단자(23)가 접속됨으로써, X선 조사 장치(1)와 후술하는 제어부(70)(도 7 참조)가 전기적으로 접속되게 된다.Referring again to FIGS. 1 to 3, the cable 42 includes a cable body 43, a connector 44, a cylindrical member 45, a first gasket 46 (first seal member), and a second gasket. 47 (2nd seal member) and the cap cone 48 (clamp member) are provided. The connector 44 is provided at one end of the X-ray irradiation apparatus 1 side of the cable main body 43, so that one end of the cable main body 43 and the connection terminal 23 are positioned at the positions of the opening 6a and the opening 36a. Desorption is for free connection. By connecting the cable main body 43 and the connection terminal 23 via the connector 44, the X-ray irradiation apparatus 1 and the control part 70 (refer FIG. 7) mentioned later are electrically connected.

알루미늄제의 통 모양의 부재(45)는 통 모양의 형상을 함으로써 커넥터(44)를 포위하고 있다. 이 때문에, 통 모양의 부재(45)는 커넥터(44)를 보호하기 위한 부재로서의 역할을 다할 수 있다. 통 모양의 부재(45)의 일단에는 수나사부(45a)가 마련되어 있으며, 이 수나사부(45a)는 판 모양의 부재(36)의 개구(36a)를 만들어 내는 벽면(36b)에 형성된 암나사부(36c)와 나사 결합된다. 또, 이 벽면(36b)에는 안쪽을 향하여 돌기부(36d)가 마련되어 있으며, 통 모양의 부재(45)의 단부(端部)(45b)가 후술하는 제1 개스킷(46)을 통하여 이 돌기부(36d)에 맞부딪히게 될 때까지, 수나사부(45a)와 암나사부(36c)가 나사 결합되는 것에 의해, 판 모양의 부재(36)와 통 모양의 부재(45) 사이에 있어서의 밀폐성을 유지할 수 있다.The tubular member 45 made of aluminum surrounds the connector 44 by having a tubular shape. For this reason, the cylindrical member 45 can play a role as a member for protecting the connector 44. A male screw portion 45a is provided at one end of the cylindrical member 45, and the male screw portion 45a is a female screw portion formed in the wall surface 36b which forms the opening 36a of the plate-shaped member 36 ( Screwed with 36c). Moreover, the projection part 36d is provided in this wall surface 36b inward, and this projection part 36d is provided through the 1st gasket 46 which the end part 45b of the cylindrical member 45 mentions later. ), The male threaded portion 45a and the female threaded portion 36c are screwed together to maintain the sealing property between the plate-shaped member 36 and the cylindrical member 45. .

여기서, 제1 개스킷(46)을 판 모양의 부재(36)와 통 모양의 부재(45) 사이, 즉 판 모양의 부재(36)의 돌기부(36d)와 통 모양의 부재(45)의 단부(45b) 사이에 추가로 마련함으로써, 판 모양의 부재(36)와 통 모양의 부재(45) 사이에 있어서의 밀폐성을 더욱 높일 수 있다. 이 제1 개스킷(46)은 예를 들어 합성고무로 이루어진 것이다.Here, the first gasket 46 is placed between the plate-shaped member 36 and the cylindrical member 45, that is, the projection 36d of the plate-shaped member 36 and the end portion of the cylindrical member 45 ( By providing further between 45b), the sealing property between the plate-shaped member 36 and the cylindrical member 45 can further be improved. This first gasket 46 is made of, for example, synthetic rubber.

또, 커넥터(44)로서, 도 1에 나타내는 바와 같이, 커넥터 본체부(44b) 및 접속 단자(23)와 접속하는 측에서 커넥터 본체부(44b)의 일부를 덮고 있는 외주부(44a)를 구비하고 있는 것을 이용할 수 있다. 이와 같은 커넥터(44)를 이용하여, 작업자는 외주부(44a)를 손가락으로 집고 커넥터 본체부(44b)의 다른 부분(외주부(44a)로 덮여있지 않은 부분)을 향하여 예를 들어 거리 d1만큼 조금 인장하고 나서 접속 단자(23)에 대한 착탈을 실시할 수 있다. 이 경우에는, 도 2, 도 3, 도 6에 나타내는 바와 같이, 커넥터(44)가 접속 단자(23)에 접속된 상태에 있어서, 제1 개스킷(46)의 존재에 의해, 커넥터(44)의 외주부(44a)가 항상 커넥터 본체부(44b)의 다른 부분을 향하여 해당 거리 d1만큼 인장되어 있는 상태로 되어 있다. 이것은, 커넥터(44)가 접속 단자(23)에 접속할 때에, 예를 들어, 외주부(44a)의 선단 부분(44c)이 제1 개스킷(46)에 맞닿지만, 외주부(44a)가 인장된 정도(상기 거리 d1)와 제1 개스킷(46)의 두께의 정도(도 1에 나타내는 d2)가 예를 들어 거의 일치할 경우에는, 선단 부분(44c)이 제1 개스킷(46)에 맞닿은 후에, 상기 인장된 외주부(44a)가 작업자의 손으로부터 떨어진 후에도 해당 제 1 개스킷(46)의 존재에 의해 원래대로 돌아가지 않게 되기 때문이다. 이 때문에, 커넥터(44)를 접속 단자(23)로부터 빼낼 때에, 작업자는 커넥터(44)의 외주부(44a)를 커넥터 본체부(44b)의 다른 부분을 향하여 일단 인장시키지 않아도 되게 된다. 이에 의해, 커넥터(44)를 접속 단자(23)로부터 빼낼 때의 작업성을 높일 수 있다.Moreover, as the connector 44, as shown in FIG. 1, the outer peripheral part 44a which covers a part of connector main body part 44b by the side which connects with the connector main body part 44b and the connection terminal 23 is provided. It is available. Using such a connector 44, the operator picks up the outer circumferential portion 44a with a finger and slightly tensions it toward another portion of the connector body portion 44b (a portion not covered by the outer circumferential portion 44a), for example, by a distance d1. After that, attachment and detachment to the connection terminal 23 can be performed. In this case, as shown in FIG. 2, FIG. 3, FIG. 6, in the state where the connector 44 was connected to the connection terminal 23, by the presence of the 1st gasket 46, The outer circumferential portion 44a is always in a state in which the outer peripheral portion 44a is tensioned by the distance d1 toward the other portion of the connector main body portion 44b. When the connector 44 connects to the connection terminal 23, for example, the tip portion 44c of the outer circumferential portion 44a abuts against the first gasket 46, but the outer circumferential portion 44a is stretched. (When the distance d1 and the degree (d2 shown in FIG. 1) of the thickness of the first gasket 46 substantially match, for example, after the tip portion 44c abuts on the first gasket 46, This is because the tensioned outer circumferential portion 44a does not return to its original state due to the presence of the first gasket 46 even after being detached from the operator's hand. For this reason, when pulling out the connector 44 from the connection terminal 23, an operator does not need to tension the outer peripheral part 44a of the connector 44 once toward the other part of the connector main-body part 44b. Thereby, workability at the time of pulling out the connector 44 from the connection terminal 23 can be improved.

통 모양의 부재(45)의 타단측에는, 케이블 본체(43)를 클램프하기 위한 캡 콘(48)이 구비되어 있다. 캡 콘(48)은 본체 부재(49), 슬리브(부시)(50), 조임부(51)의 3개의 부재로 이루어진다. 캡 콘(48)의 일례로서, 예를 들어 일본 에이브이시 주식회사의 「단족형(短足型) 나일론 슈퍼 그랜드(A형) 70-015」를 사용할 수 있다.On the other end side of the cylindrical member 45, a cap cone 48 for clamping the cable main body 43 is provided. The cap cone 48 consists of three members, the main body member 49, the sleeve (bush) 50, and the fastening portion 51. As an example of the cap cone 48, "A short-foot type nylon super grand (type A) 70-015" of Japan Avishi Co., Ltd. can be used, for example.

캡 콘(48)의 본체 부재(49)는 양단에 수나사(49a, 49b)가 각각 형성되어 있으며, 이 중 수나사(49a)가 통 모양의 부재(45)의 타단에 마련된 암나사(45c)와 나사 결합된다. 이에 의해, 캡 콘(48)과 통 모양의 부재(45) 사이에 있어서의 밀폐성을 유지할 수 있다. 여기서, 제2 개스킷(47)을 캡 콘(48)의 본체 부재(49)와 통 모양의 부재(45) 사이에 추가로 마련함으로써, 캡 콘(48)과 통 모양의 부재(45) 사이에 있어서의 밀폐성을 더욱 높일 수 있다. 이 제2 개스킷(47)은 예를 들어 합성고무로 이루어진 것이다.In the main body member 49 of the cap cone 48, male threads 49a and 49b are formed at both ends, of which the male screw 45c and the screw are provided at the other end of the cylindrical member 45. Combined. Thereby, the sealing property between the cap cone 48 and the cylindrical member 45 can be maintained. Here, the second gasket 47 is further provided between the body member 49 of the cap cone 48 and the tubular member 45, thereby providing a gap between the cap cone 48 and the tubular member 45. The sealing property in it can further be improved. The second gasket 47 is made of synthetic rubber, for example.

또, 슬리브(50)는 내부에 마련된 공동(空洞)에 케이블 본체(43)를 통과시킨 상태에서 본체 부재(49)의 공동에 넣어진다. 그리고, 조임부(51)가 슬리브(50)를 통하여 본체 부재(49)와 나사 결합되고, 슬리브(50)는 케이블(42)에 껴들어가서 고정된다. 또한, 조임부(51)에는 암나사(51a)가 형성되어 있으며, 이 암나사(51a)가 본체 부재(49)의 수나사(49b)와 나사 결합된다.Moreover, the sleeve 50 is put in the cavity of the main body member 49 in the state which let the cable main body 43 pass through the cavity provided in the inside. And the fastening part 51 is screwed with the main-body member 49 via the sleeve 50, and the sleeve 50 is received by the cable 42 and is fixed. Moreover, the female screw 51a is formed in the tightening part 51, and this female screw 51a is screwed with the male screw 49b of the main body member 49. As shown in FIG.

이상에서 설명한 바와 같이, 커넥터(44)를 포위하고 있는 통 모양의 부재(45)가 판 모양의 부재(36)와 제1 개스킷(46)을 통하여 나사 결합되고, 또한 통 모양의 부재(45)가 캡 콘(48)과 제2 개스킷(47)을 통하여 나사 결합되며, 또한 슬 리브(50)가 케이블 본체(43)에 반경 방향으로 껴들어가서, 판 모양의 부재(36), 통 모양의 부재(45), 캡 콘(48)에 있어서의 밀봉 상태를 만들어 내고 있어, X선 조사 장치(1)의 내부에 도입한 가스(예를 들어 질소 가스)가 커넥터 부분으로부터 외부로 누출되기 어려워진다.As described above, the cylindrical member 45 surrounding the connector 44 is screwed through the plate-shaped member 36 and the first gasket 46, and the cylindrical member 45 is also provided. Is screwed through the cap cone 48 and the second gasket 47, and the sleeve 50 is radially impregnated in the cable body 43, so that the plate-like member 36 and the cylindrical member are 45, the sealing state in the cap cone 48 is produced | generated, and the gas (for example, nitrogen gas) introduce | transduced inside the X-ray irradiation apparatus 1 becomes difficult to leak out from a connector part.

또, 캡 콘(48)을 느슨하게 하고 나서 통 모양의 부재(45)를 판 모양의 부재(36)로부터 때어냄으로써, 커넥터(44)를 접속 단자(23)로부터 뺄 수 있다. 이에 의해, X선 조사 장치(1)를 포함하는 장치(예를 들어 도 7을 참조하면서 후술하는 X선 조사 시스템(100)이나, 도 8 및 도 9를 참조하면서 후술하는 코터/디벨로퍼 장치(200))에 있어서, X선 조사 장치(1)만을 교환할 수 있다. 이 결과, X선 조사 장치(1)의 수명과 관계없이 X선 조사 장치(1) 이외의 부분을 그대로 계속 사용할 수 있다. 또한, X선 조사 장치(1)의 교환을 X선관(8)의 관구의 수명에 따라 행해도 되며, 이 경우에는 X선관(8)의 관구의 수명에 관계없이 X선 조사 장치(1) 이외의 부분을 그대로 계속 사용할 수 있다.Moreover, the connector 44 can be pulled out from the connection terminal 23 by loosening the cap cone 48 and then squeezing the cylindrical member 45 from the plate-shaped member 36. Thereby, the apparatus containing the X-ray irradiation apparatus 1 (for example, the X-ray irradiation system 100 mentioned later, referring FIG. 7, and the coater / developer apparatus 200 mentioned later, referring FIG. 8 and FIG. 9). In)), only the X-ray irradiation apparatus 1 can be replaced. As a result, irrespective of the lifetime of the X-ray irradiation apparatus 1, portions other than the X-ray irradiation apparatus 1 can be used as it is. In addition, the X-ray irradiation apparatus 1 may be replaced in accordance with the life of the tube of the X-ray tube 8, in which case, other than the X-ray irradiation apparatus 1 regardless of the life of the tube of the X-ray tube 8. You can continue to use the part of.

또, 본 실시형태에 있어서는, 전면 패널(5)과 케이스 본체(4) 사이, 배면 패널(6)과 케이스 본체(4) 사이, 배면 패널(6)과 판 모양의 부재(36) 사이, 케이스 본체(4)에 전원부를 고정하기 위한 나사부(52)와 케이스 본체(4) 사이에는, 코킹재를 도포함으로써 밀봉성을 유지하고 있다. 또한, 도 2에서는, 코킹재를 도포하는 부분을 부분 A라고 표시하고 있다.Moreover, in this embodiment, between the front panel 5 and the case main body 4, between the back panel 6 and the case main body 4, between the back panel 6 and the plate-shaped member 36, a case The sealing property is maintained by apply | coating a caulking material between the screw part 52 for fixing a power supply part to the main body 4, and the case main body 4. As shown in FIG. In addition, in FIG. 2, the part which apply | coats a caulking material is shown as the part A. In addition, in FIG.

도 7에는, X선 조사 장치(1) 및 그 주변 장치의 구성을 나타낸다. 이 도 7에 나타내는 바와 같이, X선 조사 장치(1)는 접속 단자(23)(도 1~도 3 참조) 및 케 이블(42)(도 1~도 3 참조)을 통하여 제어부(70)(X선 제어 장치)에 접속되고, 제어부(70)는 액세서리(80)에 접속된다. 제어부(70)는, X선 조사 장치(1)의 제어를 위해서 X선 조사 장치(1)의 유저에 의해 사용되는 것이다. 또, 액세서리(80)는 X선 조사 장치(1) 및 제어부(70)의 관리회사에 의해 사용된다. 이들 X선 조사 장치(1), 케이블(42), 제어부(70), 액세서리(80)는 X선 조사 시스템(100)을 구성한다.In FIG. 7, the structure of the X-ray irradiation apparatus 1 and its peripheral apparatus is shown. As shown in FIG. 7, the X-ray irradiation apparatus 1 controls the control unit 70 (see the connecting terminal 23 (see FIGS. 1 to 3) and the cable 42 (see FIGS. 1 to 3). X-ray control device), and the control unit 70 is connected to the accessory (80). The control part 70 is used by the user of the X-ray irradiation apparatus 1 for the control of the X-ray irradiation apparatus 1. The accessory 80 is used by the management company of the X-ray irradiation apparatus 1 and the control unit 70. These X-ray irradiation apparatus 1, the cable 42, the control part 70, and the accessory 80 comprise the X-ray irradiation system 100. FIG.

X선 조사 장치(1)에서는 전압 발생부(21)를 통하여(도 2 참조) X선관(8)에 헤드 회로(60)의 CPU(61)가 접속되어 있고, 이 CPU(61)는 전압 발생부(21)에 의한 X선관(8)에 대한 통전 시간을 감시하는 것으로, X선관(8)에 있어서의 X선의 조사 시간(즉, X선관(8)의 동작시간)을 계측하는 적산(積算)한다. 적산된 X선관 동작 적산 시간은 X선 조사 장치(1)의 제조번호, 제조연월일, 검사자명, X선 조사 장치(1)에 고유의 코드 등의 정보와 함께, CPU(61)에 의해서 헤드 회로(60) 내의 도시하지 않는 EEPROM(Electrically Erasable and Progra㎜able ROM)에 기억된다.In the X-ray irradiation apparatus 1, the CPU 61 of the head circuit 60 is connected to the X-ray tube 8 via the voltage generator 21 (see FIG. 2), and the CPU 61 generates a voltage. By monitoring the energization time of the X-ray tube 8 by the unit 21, the integration which measures the irradiation time of the X-ray in the X-ray tube 8 (that is, the operating time of the X-ray tube 8) )do. The integrated X-ray tube operation integration time is the head circuit by the CPU 61 together with information such as the manufacture number, the date of manufacture of the X-ray irradiation apparatus 1, the name of the inspector, the code unique to the X-ray irradiation apparatus 1, and the like. It is stored in 60 not shown EEPROM (Electrically Erasable and Programmable ROM).

제어부(70)에는 CPU(71)와 X선관(8)의 동작 상태를 나타내는 모니터 등(72)이 설치되어 있다. CPU(71)는 제어부(70)의 동작 시간을 계측하여 적산한다. 적산된 제어부 동작 적산 시간은, X선 조사 장치(1)의 제조번호, 제조연월일, 검사자명, X선 조사 장치(1)에 고유의 코드 등의 정보와 함께, CPU(71)에 의해서 제어부(70) 내의 도시하지 않는 EEPROM에 기억된다.The control part 70 is provided with the monitor 72 etc. which show the operating state of the CPU 71 and the X-ray tube 8. The CPU 71 measures and integrates the operating time of the control unit 70. The integrated controller operation integration time is controlled by the CPU 71 with information such as the manufacturing number, the date of manufacture of the X-ray irradiation apparatus 1, the name of the inspector, the code unique to the X-ray irradiation apparatus 1, and the like. 70 is stored in an EEPROM (not shown).

액세서리(80)에는, 헤드 회로(60)의 CPU(61) 및 제어부(70)의 CPU(71)를 일괄 관리하는 CPU(81)와, 정보를 표시하는 표시부(82)와, 정보를 입력하기 위한 키 보드 등으로 구성된 입력부(83)가 마련되어 있다. 도 7과 같이, X선 조사 장치(1), 제어부(70) 및 액세서리(80)를 접속함으로써, 관리회사의 작업원은, X선 조사 장치(1)의 EEPROM에 기억된 정보 및 제어부(70)의 EEPROM에 기억된 정보를 표시부(82)에 표시시킬 수 있으며, 이들 정보를 입력부(83)로부터 입력한 정보에 의해 고쳐 쓸 수 있다.In the accessory 80, a CPU 81 for collectively managing the CPU 61 of the head circuit 60 and the CPU 71 of the control unit 70, a display unit 82 for displaying information, and inputting information An input unit 83 composed of a key board or the like is provided. As shown in FIG. 7, by connecting the X-ray irradiation apparatus 1, the control unit 70, and the accessory 80, the operator of the management company stores the information and the control unit 70 stored in the EEPROM of the X-ray irradiation apparatus 1. The information stored in the EEPROM at ") can be displayed on the display unit 82, and these information can be rewritten by the information input from the input unit 83.

예를 들어, X선 조사 장치(1) 만을 교환하는 경우, 관리회사의 작업원은 제어부(70)의 EEPROM에 기억된 교환 전의 X선 조사 장치(1)의 제조번호, 제조연월일, 검사자명 및 교환 전의 X선 조사 장치(1)의 고유 코드의 정보를 새로운 X선 조사 장치(1)의 제조번호, 제조연월일, 검사자명 및 새로운 X선 조사 장치(1)의 고유 코드의 정보로 고쳐 쓸 수 있다.For example, in the case of replacing only the X-ray irradiation apparatus 1, the worker of the management company may include the manufacturing number, the date of manufacture, the name of the inspector and the name of the X-ray irradiation apparatus 1 before the exchange stored in the EEPROM of the control unit 70. The information of the unique code of the X-ray irradiation apparatus 1 before the exchange can be rewritten with the information of the serial number of the new X-ray irradiation apparatus 1, the date of manufacture, the name of the inspector, and the unique code of the new X-ray irradiation apparatus 1. have.

또, 관리회사의 작업원은, 헤드 회로(60)의 CPU(61)에 의해 적산된 X선관(8)의 동작 적산 시간 및 제어부(70)의 CPU(71)에 의해 적산된 제어부(70)의 동작 적산 시간을 표시부(82)에 표시시킬 수 있어 X선관(8) 및 제어부(70)의 동작 적산 시간을 정확하게 파악할 수 있다. 특히, X선관(8)은 수명을 가지는 제품이기 때문에, X선관(8)의 동작 적산 시간을 정확하게 파악함으로써, X선 조사 장치(1)의 제품 관리를 적절하게 할 수 있다고 하는 이점이 있다.In addition, the worker of the management company is integrated with the operation integration time of the X-ray tube 8 accumulated by the CPU 61 of the head circuit 60 and the CPU 71 of the control unit 70. The operation integration time can be displayed on the display unit 82, so that the operation integration time of the X-ray tube 8 and the control unit 70 can be accurately determined. In particular, since the X-ray tube 8 is a product having a lifetime, there is an advantage that the product management of the X-ray irradiation apparatus 1 can be properly performed by accurately grasping the operation integration time of the X-ray tube 8.

[제2 실시형태: 코터/디벨로퍼 장치(200)][Second Embodiment: Coater / Developer Device 200]

계속해서, 본 발명의 제2 실시형태에 관련되는 코터/디벨로퍼 장치(200)(X선 조사 시스템)에 대하여 설명한다.Then, the coater / developer apparatus 200 (X-ray irradiation system) which concerns on 2nd Embodiment of this invention is demonstrated.

<코터/디벨로퍼 장치(200)의 구성><Configuration of Coater / Developer 200>

본 발명의 제2 실시형태에 관련된 코터/디벨로퍼 장치(200)를 도 8에 나타낸다. 코터/디벨로퍼 장치(200)는 복수의 처리 유니트를 접속하여 일관된 처리를 가능하게 한 장치로서, 노광기(250), 타이틀러(260) 및 엣지 노광기(270)와 접속하고, 포토리소그래피 공정에 있어서 레지스트 도포전 세정으로부터 레지스트 도포· 노광· 현상까지를 연속하여 실시할 수 있도록 하는 것이다. 또한, 여기서는 복수의 처리 유니트를 접속한 전체의 시스템을 본 발명의 X선 조사 시스템과 관련된 코터/디벨로퍼 장치(200)로 하고 있으나, 각 처리 유니트를 각각 본 발명의 X선 조사 시스템이라고 인식해도 되며, 또, 각 처리 유니트의 주요한 처리부를 각각 본 발명의 X선 조사 시스템이라고 인식할 수도 있다. 또, 노광기(250) 등도 각각 본 발명의 X선 조사 시스템이다.The coater / developer apparatus 200 which concerns on 2nd Embodiment of this invention is shown in FIG. The coater / developer device 200 is a device that connects a plurality of processing units to enable consistent processing. The coater / developer device 200 is connected to an exposure machine 250, a titler 260, and an edge exposure machine 270, and resists in a photolithography process. It is to make it possible to carry out continuously from washing before application | coating to resist application | coating, exposure, and image development. In addition, although the whole system which connected several processing units here is the coater / developer apparatus 200 which concerns on the X-ray irradiation system of this invention, you may recognize each processing unit as the X-ray irradiation system of this invention, respectively. In addition, the main processing part of each processing unit can also be recognized as the X-ray irradiation system of this invention, respectively. Moreover, the exposure machine 250 etc. are each the X-ray irradiation system of this invention.

코터/디벨로퍼 장치(200)는 주로 인덱서부(202), 세정 유니트(210), 탈수 베이크 유니트(220a, 220b), 레지스트 도포 유니트(230), 프리베이크 유니트(240a, 240b), 현상 유니트(280) 및 포스트베이크 유니트(290a, 290b), 공랭 유니트(299)의 각 처리부와, 선회 로봇(204a~204e)을 구비하고 있다. 인덱서부(202)로부터 노광기(250)까지의 가는 라인에는, 세정 유니트(210), 포스트베이크 유니트(290b), 탈수 베이크 유니트(220a), 레지스트 도포 유니트(230), 프리베이크 유니트(240a) 등이 배치된다. 노광기(250)로부터의 돌아오는 라인에는, 프리베이크 유니트(240b), 현상 유니트(280), 탈수 베이크 유니트(220b), 포스트베이크 유니트(290a), 공랭 유니트(299) 등이 배치된다. 또, 선회 로봇(204e)의 근방에는, 노광기(250)에 대하여 기판을 주고받을 때의 수수(授受) 장소 혹은 일시적인 대피 장 소가 되는 버퍼부(208a~208c)가 마련되어 있다. 이 코터/디벨로퍼 장치(200)는 유니 카세트 방식이며, 인덱서부(202)에 얹어 놓여진 카세트(203)로부터 유리 기판(이하, 「기판」이라고 한다.)을 꺼내 각 처리부로 보내고, 각 처리 공정을 끝낸 기판을 같은 카세트(203)에 수납한다. 카세트(203)로부터의 꺼냄 및 카세트(203)에 대한 수납은, 기판을 유지하여 선회 가능한 암을 구비하여 카세트(203)의 열을 따라서 이동 가능한 인덱서 로봇(202a)에 의해서 실시한다.The coater / developer device 200 mainly comprises an indexer portion 202, a cleaning unit 210, a dehydration baking unit 220a and 220b, a resist coating unit 230, a prebaking unit 240a and 240b, and a developing unit 280. ), Post-baking units 290a and 290b, and processing units of the air cooling unit 299, and swing robots 204a to 204e. The thin line from the indexer 202 to the exposure machine 250 includes a cleaning unit 210, a postbaking unit 290b, a dehydration baking unit 220a, a resist coating unit 230, a prebaking unit 240a, and the like. Is placed. The prebaking unit 240b, the developing unit 280, the dehydration baking unit 220b, the postbaking unit 290a, the air cooling unit 299, etc. are arrange | positioned at the return line from the exposure machine 250. As shown in FIG. In the vicinity of the swinging robot 204e, buffer portions 208a to 208c serving as a transfer place or a temporary evacuation place when exchanging a substrate with the exposure machine 250 are provided. This coater / developer apparatus 200 is a uni-cassette system, takes out a glass substrate (hereinafter referred to as a "substrate") from the cassette 203 placed on the indexer portion 202, and sends it to each processing unit, and carries out each processing step. The finished substrate is stored in the same cassette 203. The removal from the cassette 203 and the storage of the cassette 203 are performed by the indexer robot 202a having an arm that can hold a substrate and moveable along the rows of the cassette 203.

세정 유니트(210)는 연속매엽식의 처리부으로서, 반입부(212), 세정부(213), 물방울 제거부(214) 및 반출부(215)로 이루어진다. 또, 반입부(212)의 상부에는 UV 오존 세정실(211)이 마련되어 있다. 즉, 세정 유니트(210)의 위에 UV 오존 세정실(211)이 겹쳐져 있다. UV 오존 세정실(211)로부터 반입부(212)까지는 인덱서 로봇(202a)에 의해 기판을 반송한다. 반입부(212)로부터 반출부(215)까지는, 컨베이어에 의해서 기판을 반송하면서, 세정이나 물방울 제거 등의 처리를 실시한다. 세정부(213)에서는, 순수한 물 혹은 약액을 이용한 브러시, 초음파, 고압 스프레이 등에 의한 세정이 이루어진다. 또한, 컨베이어는 클린 룸 내에 대응한 발진성이 적은 롤러 컨베이어를 채용하고 있다.The cleaning unit 210 is a continuous sheet processing unit, and includes a carrying-in unit 212, a washing unit 213, a water drop removing unit 214, and a carrying-out unit 215. In addition, a UV ozone cleaning chamber 211 is provided above the carrying-in part 212. That is, the UV ozone cleaning chamber 211 is superimposed on the cleaning unit 210. The substrate is conveyed from the UV ozone cleaning chamber 211 to the carrying-in part 212 by the indexer robot 202a. From the carrying in part 212 to the carrying out part 215, while conveying a board | substrate with a conveyor, processes, such as washing | cleaning and water droplet removal, are performed. In the cleaning section 213, cleaning using a brush, ultrasonic waves, high pressure spray, or the like using pure water or a chemical liquid is performed. Moreover, the conveyor employ | adopts the roller conveyor with the small oscillation property corresponding to in the clean room.

탈수 베이크 유니트(220a, 20b)는, 정지식의 가열 처리실 및 냉각 처리실, 밀착 강화실, 컨베이어실, 버퍼실, 통과실이 다단으로 쌓아 올려진 유니트이다. 레지스트 도포 유니트(230)는 매엽식의 처리부로서, 반입부(231), 스핀 코터부(232), 레벨링 처리부(233), 엣지 린스부(234) 및 반출부(235)로 구성된다. 반입부(231)로부터 반출부(235)까지는, 기판을 인접하는 처리부에 차례차례로 보내 가는 슬라이더(205a~205d)에 의해서 기판을 반송한다.The dewatering bake units 220a and 20b are units in which a stationary heat treatment chamber, a cooling treatment chamber, an adhesion reinforcement chamber, a conveyor chamber, a buffer chamber, and a passage chamber are stacked in multiple stages. The resist coating unit 230 is a sheet type processing unit, and is composed of an import unit 231, a spin coater unit 232, a leveling processing unit 233, an edge rinse unit 234, and an export unit 235. From the carrying in part 231 to the carrying out part 235, a board | substrate is conveyed by the sliders 205a-205d which in turn send a board | substrate to the adjacent process part.

프리베이크 유니트(240a, 240b)는 정지식의 가열 처리실 및 냉각 처리실, 컨베이어실, 통과실이 다단으로 쌓아 올려진 것이다. 현상 유니트(280)는 연속매엽식의 처리부이며, 반입부(281), 현상부(282), 수세부(水洗部)(283), 건조부(284) 및 반출부(285)로 이루어진다. 반입부(281)로부터 반출부(285)까지는, 컨베이어에 의해서 기판을 수평 방향으로 반송한다. 포스트베이크 유니트(290a, 290b)는, 정지식의 가열 처리실 및 냉각 처리실, 컨베이어실, 버퍼실, 통과실이 다단으로 쌓아 올려진 유니트이다.The prebaking units 240a and 240b are stacks of stationary heating and cooling chambers, conveyor chambers, and passage chambers stacked in multiple stages. The developing unit 280 is a continuous sheet processing unit, and includes a carrying-in unit 281, a developing unit 282, a water washing unit 283, a drying unit 284, and a carrying-out unit 285. From the carry-in part 281 to the carry-out part 285, a board | substrate is conveyed in a horizontal direction by a conveyor. The postbaking units 290a and 290b are units in which a stationary heating chamber, a cooling chamber, a conveyor chamber, a buffer chamber, and a passage chamber are stacked in multiple stages.

선회 로봇(204a~204e)은 선회할 수는 있으나 수평 방향으로 이동하는 기구는 가지고 있지 않는, 이른바 클러스터 타입의 로봇이다. 슬라이더(205a~205d)는 직사각형 운동에 의해 기판의 위치를 한 방향에 대하여 소정 거리만큼 슬라이드시키는 것이며, 레지스트 도포 유니트(230)의 각부 사이에 마련되어 있다.The swinging robots 204a to 204e are so-called cluster type robots that can swing but do not have a mechanism moving in the horizontal direction. The sliders 205a to 205d slide the position of the substrate by a predetermined distance with respect to one direction by the rectangular motion, and are provided between the respective portions of the resist coating unit 230.

<코터/디벨로퍼 장치(200)의 기판 처리><Substrate Processing of Coater / Developer 200>

다음에, 코터/디벨로퍼 장치(200)에 의한 기판의 처리에 대하여, 순서대로 설명한다. 인덱서부(202)에 있어서 인덱서 로봇(202a)에 의해 카세트(203)로부터 꺼내진 기판은, 우선, UV 오존 세정실(211)에 옮겨져서 자외선의 조사에 의해서 표면의 유기 오염물이 산화 분해된다. 이 처리를 끝낸 기판은, 인덱서 로봇(202a)에 의해서 반입부(212)로 옮겨진다. 기판은 반입부(212)로부터 세정부(213)로 옮겨져 롤 브러시에 의한 스크러브 세정, 초음파 스프레이 세정 및 고압 제트 스프레이에 의한 순수한 물로의 세정이 이루어진다. 여기서의 세정은, 예를 들어 알칼리 세정 액 등을 이용하여 처리하는 것이어도 된다. 이 후, 기판은, 물방울 제거부(214)에 있어서, 에어 나이프에 의해 표면에 잔류하는 순수한 물의 물방울이 제거된다.Next, the process of the board | substrate by the coater / developer apparatus 200 is demonstrated in order. The substrate taken out of the cassette 203 by the indexer robot 202a in the indexer 202 is first moved to the UV ozone cleaning chamber 211, and the organic contaminants on the surface are oxidatively decomposed by irradiation with ultraviolet rays. The board | substrate which finished this process is moved to the loading part 212 by the indexer robot 202a. The substrate is transferred from the loading section 212 to the cleaning section 213 to perform scrub cleaning with a roll brush, ultrasonic spray cleaning and pure water with high pressure jet spray. For example, the washing may be performed using an alkali cleaning liquid or the like. Thereafter, in the water droplet removing unit 214, the water droplet of pure water remaining on the surface of the substrate is removed by the air knife.

세정 유니트(210)에서의 처리를 끝내 반출부(215)로 옮겨진 기판은, 도시하지 않는 컨베이어에 의해 포스트베이크 유니트(290b) 중을 통과하여 탈수 베이크 유니트(220a)에 들어간다. 탈수 베이크 유니트(220a, 220b)에 있어서는, 기판은 선회 로봇(204a)에 의해서 각 처리실로 옮겨진다. 탈수 베이크 유니트(220a)의 컨베이어실로 반송되어 온 기판은 가열실로 옮겨진다. 여기서 기판은, 핫 플레이트에 의해서 가열되어 수분이 제거된다. 또한, 이 때, 후단의 노광기(250)에 있어서의 마스크 체인지나 스핀 코터부(232)의 장치 세정 등을 실시할 때 등에 있어서는, 기판은 적절히 버퍼실에서 일시 보관된 후, 가열실로 옮겨진다. 다음에 기판은 밀착 강화실로 옮겨진다. 밀착 강화실에서는, 레지스트막과 기판의 밀착성 향상을 목적으로 하여, 기판에 대하여 가열을 실시하면서 HMDS를 증기상으로 하여 도포한다. 이 후, 기판은, 다시 냉각실에 옮겨져서 쿨 플레이트에 의해서 냉각된다. 이와 같이 레지스트 도포 처리의 사전 처리로서 탈수 베이크를 한 기판은, 레지스트 도포 유니트(230)의 반입부(231)로 옮겨진다.The substrate transferred to the carry-out unit 215 after the processing in the cleaning unit 210 passes through the post bake unit 290b by a conveyor (not shown) and enters the dewatering bake unit 220a. In the dehydration bake units 220a and 220b, the substrate is transferred to each processing chamber by the swinging robot 204a. The substrate conveyed to the conveyor chamber of the dehydration bake unit 220a is transferred to the heating chamber. Here, the board | substrate is heated by a hot plate, and moisture is removed. In this case, the substrate is temporarily stored in a buffer chamber and then transferred to a heating chamber in the case of performing mask change in the subsequent exposure machine 250, cleaning of the spin coater 232, or the like. The substrate is then transferred to the tight reinforcement chamber. In the adhesion reinforcement chamber, for the purpose of improving the adhesion between the resist film and the substrate, HMDS is applied in vapor form while heating the substrate. Thereafter, the substrate is transferred to the cooling chamber again and cooled by the cool plate. Thus, the board | substrate which performed dehydration baking as a preprocess of a resist coating process is moved to the loading part 231 of the resist coating unit 230. As shown in FIG.

레지스트 도포 유니트(230)에서는, 우선 슬라이더(205a)에 의해서 기판이 스핀 코터부(232)로 옮겨져 기판에 대하여 레지스트의 도포를 한다. 스핀 코터부(232)는 레지스트 공급계, 스핀 모터, 컵 등에 의해 구성되어 있으며, 수평으로 한 기판 위에 레지스트를 적하하여 기판을 회전시킴으로써 기판 위에 균일한 레지스트막을 형성시킨다. 레지스트막이 형성된 기판은, 슬라이더(205b)에 의해 레벨 링 처리부(233)로 옮겨져서 레지스트막의 레벨링 및 건조 처리가 이루어진다. 이 후, 기판은 슬라이더(205c)에 의해서 엣지 린스부(234)로 옮겨진다. 엣지 린스부(234)에서는, 기판 단면의 레지스트막이 벗겨져 발진(發塵)해 버리는 것을 방지하기 위해서, 기판 표면의 주변이나 단면 부분의 레지스트를 용제에 의해 제거하는 처리가 이루어진다. 이러한 레지스트 도포에 관한 각 처리를 끝낸 기판은, 슬라이더(205d)에 의해서 반출부(235)로 옮겨진다.In the resist coating unit 230, the substrate is first moved to the spin coater section 232 by the slider 205a to apply the resist to the substrate. The spin coater section 232 is constituted by a resist supply system, a spin motor, a cup, or the like. The resist is dropped on a horizontal substrate to rotate the substrate to form a uniform resist film on the substrate. The substrate on which the resist film is formed is transferred to the leveling processing section 233 by the slider 205b to perform the leveling and drying processing of the resist film. Thereafter, the substrate is moved to the edge rinse portion 234 by the slider 205c. In the edge rinse portion 234, a treatment is performed to remove the resist around the substrate surface or the end surface portion with a solvent in order to prevent the resist film on the end surface of the substrate from peeling off and oscillating. The board | substrate which finished each process regarding this resist application | coating is moved to the carrying out part 235 by the slider 205d.

반출부(235)로부터 반출부(235)에 인접하는 프리베이크 유니트(240a)로 옮겨진 기판은, 선회 로봇(204c)에 의해서 가열실로 옮겨진다. 여기서는, 기판 위의 레지스트막 중의 잔류 용제의 증발과 기판의 밀착성 강화를 목적으로 하여 가열 처리가 이루어진다. 그 후 기판은 냉각실에서 냉각되어 선회 로봇(204c)에 의해 다단 인도부(209)로 옮겨진다.The board | substrate moved from the carrying out part 235 to the prebaking unit 240a adjacent to the carrying out part 235 is moved to the heating chamber by the turning robot 204c. Here, heat treatment is performed for the purpose of evaporating the residual solvent in the resist film on the substrate and enhancing the adhesion of the substrate. Subsequently, the substrate is cooled in the cooling chamber and transferred to the multi-stage delivery section 209 by the swinging robot 204c.

또한 기판은, 선회 로봇(204d, 204e)에 의해 노광기(250)로 옮겨져 노광 처리가 실시된다. 구체적으로는, 기판 위의 레지스트에 대하여 원화(原畵) 위에 있는 패턴을 감광시키는 처리가 실시된다. 노광된 기판은, 노광기(250)로부터 선회 로봇(204e)에 의해 꺼내져서 버퍼부(208c)를 통하여 선회 로봇(204d)에 유지된다. 또한, 노광기(250)로의 반입, 반출시에는, 기판은 만일 필요가 있으면 버퍼부(208a, 208b, 208c)에 있어서 일시적으로 보관된다.Moreover, the board | substrate is moved to the exposure machine 250 by the turning robot 204d, 204e, and an exposure process is performed. Specifically, a process of exposing the pattern on the original with respect to the resist on the substrate is performed. The exposed board | substrate is taken out from the exposure machine 250 by the turning robot 204e, and is hold | maintained by the turning robot 204d via the buffer part 208c. At the time of carrying in and out of the exposure apparatus 250, the substrate is temporarily stored in the buffer portions 208a, 208b, and 208c if necessary.

다음에 기판은, 선회 로봇(204d)으로부터 타이틀러(260) 및 엣지 노광기(270)로 옮겨져서, 각각 인자(印字)를 새기고 엣지 노광이 이루어진다. 엣지 노광에서는, 기판 위의 디스플레이부를 제외한 기판 주변의 레지스트를 제거하기 위 하여 노광 처리된다. 여기서는, 엣지 노광기(270)를 이 위치에 배치하고 있지만, 필요에 따라서, 여기에 이면 노광 유니트를 배치해도 된다. 또, 타이틀러(260) 대신에 이면 노광 유니트를 배치해도 된다. 이들 처리를 끝낸 기판은, 선회 로봇(204d)에 의해서 다단 인도부(209)로 옮겨져서, 도시하지 않은 슬라이더에 의해서 컨베이어부(279)에 실린다. 그리고, 기판은 컨베이어부(279)로부터 프리베이크 유니트(240b)를 통과하여 현상 유니트(280)의 반입부(281)로 반송된다.Subsequently, the substrate is moved from the swinging robot 204d to the titler 260 and the edge exposure machine 270, and the edge exposure is performed by engraving the printed characters. In edge exposure, exposure processing is performed to remove resist around the substrate except for the display portion on the substrate. Although the edge exposure machine 270 is arrange | positioned in this position here, you may arrange | position a back surface exposure unit here as needed. In addition, the backside exposure unit may be disposed instead of the titler 260. The board | substrate which completed these processes is moved to the multistage guide part 209 by the turning robot 204d, and is loaded on the conveyor part 279 by the slider which is not shown in figure. And the board | substrate is conveyed from the conveyor part 279 to the carrying-in part 281 of the developing unit 280 through the prebaking unit 240b.

현상 유니트(280)에 있어서, 기판은 반입부(281)로부터 반출부(285)로 컨베이어에 의해서 반송된다. 그리고, 현상부(282)에 있어서는, 노즐로부터 분무상(噴霧狀)의 현상액을 기판 표면에 샤워상으로 뿌리는 스프레이 현상, 또는 기판 위에 현상액 집합소를 형성하는 패들 현상이 행해진다. 수세부(283), 건조부(284)에 있어서는, 현상 후의 기판에 대하여 순수한 물 등의 린스액에 의한 세정 및 건조가 행해진다. 이들 처리를 끝낸 기판은, 반출부(285)로부터 프리베이크 유니트(220b)를 통과하는 도시하지 않는 컨베이어에 의해 포스트베이크 유니트(290a)로 옮겨진다.In the developing unit 280, the substrate is conveyed by the conveyor from the carrying in portion 281 to the carrying out portion 285. And in the developing part 282, the spray development which sprays a spray image developing solution from a nozzle on a surface of a board | substrate in a shower form, or the paddle development which forms a developer assembly on a board | substrate is performed. In the water washing part 283 and the drying part 284, washing and drying with a rinse liquid such as pure water are performed on the substrate after development. The board | substrate which completed these processes is moved to the post-baking unit 290a by the conveyer which is not shown in figure from the carrying out part 285 through the prebaking unit 220b.

포스트베이크 유니트(290a, 290b)에서는, 기판 위의 레지스트막 중 또는 표면에 잔류한 린스액을 증발 제거하여, 레지스트의 경화 및 기판과의 밀착성 강화를 목적으로 한 열처리를 실시한다. 구체적으로는, 가열실의 핫 플레이트에 의해서 기판을 가열하고, 냉각실의 쿨 플레이트에 의해서 기판을 냉각한다. 또, 적절히 버퍼실에 기판이 일시적으로 보관된다. 이들 처리가 실시된 기판은 공랭 유니트(299)로 옮겨진다. 그리고, 공랭 유니트(299)에서 공랭된 기판은, 인덱서 로 봇(202a)에 의해서 원래의 카세트(203)에 수용된다.In the post-baking units 290a and 290b, the rinse liquid remaining in or on the surface of the resist film on the substrate is evaporated to remove the rinse liquid, and heat treatment for the purpose of curing the resist and enhancing adhesion to the substrate is performed. Specifically, the substrate is heated by the hot plate of the heating chamber, and the substrate is cooled by the cool plate of the cooling chamber. In addition, the substrate is temporarily stored in the buffer chamber as appropriate. The substrate on which these treatments have been carried is transferred to the air cooling unit 299. The substrate cooled by the air cooling unit 299 is accommodated in the original cassette 203 by the indexer robot 202a.

<코터/디벨로퍼 장치(200)에 있어서의 X선 조사 장치(1)><X-ray irradiation apparatus 1 in coater / developer apparatus 200>

상기의 각 처리 유니트의 각 처리부 혹은 각 실, 노광기(250), 타이틀러(260), 엣지 노광기(270), 버퍼부(208a, 208b, 208c)에는, 각각 제1 실시형태에서 설명한 X선 조사 장치(1)가 배치되어 있다. 이들 X선 조사 장치(1)는 연X선을 이용한 정전기 제거 장치이며, 연X선이 가지는 전리(電離) 작용에 의해 조사 범위의 공간에 고농도의 이온을 생성하여 순식간에 대전 물체의 정전기를 제거하는 것이 가능한 것이다. 또, 광조사 방식의 장치로서, 미립자, 오존, 유전 전압 등의 발생이 없는 것이다.X-ray irradiation described in the first embodiment to each processing unit or each chamber, the exposure machine 250, the titler 260, the edge exposure machine 270, and the buffer units 208a, 208b, and 208c of the above processing units, respectively. The device 1 is arranged. These X-ray irradiation apparatuses 1 are static elimination devices using soft X-rays, and generate high concentrations of ions in the space of the irradiation range by ionizing action of the soft X-rays to remove static electricity of a charged object in an instant. It is possible to do that. In addition, as a device of the light irradiation method, there is no generation of fine particles, ozone, dielectric voltage and the like.

도 9는 코터/디벨로퍼 장치(200)의 각 처리 유니트에 제1 실시형태의 X선 조사 장치(1)를 적용한 예를 나타내는 도면이다. 제1 실시형태의 X선 조사 장치(1)가 적용되는 장소로는, 레지스트 도포 유니트(230)(레지스트 도포 처리 장치)나 현상 유니트(280)(현상 처리 장치) 등의 각 처리 유니트의 각 처리부 혹은 각 실, 노광기(250), 타이틀러(260), 엣지 노광기(270), 버퍼부(208a, 208b, 208c) 등을 들 수 있다. 이하, X선 조사 장치(1)가 적용되는 부분을 총칭하여 「각 처리 유니트(300)」라고 한다.FIG. 9: is a figure which shows the example which applied the X-ray irradiation apparatus 1 of 1st Embodiment to each processing unit of the coater / developer apparatus 200. As shown in FIG. As a place to which the X-ray irradiation apparatus 1 of 1st Embodiment is applied, each processing part of each processing unit, such as the resist coating unit 230 (resist coating apparatus) and the developing unit 280 (developing processing apparatus), etc. Or each thread, the exposure machine 250, the titler 260, the edge exposure machine 270, the buffer part 208a, 208b, 208c, etc. are mentioned. Hereinafter, the part to which the X-ray irradiation apparatus 1 is applied is named generically "each processing unit 300."

도 9에 나타내는 바와 같이, 가대(301) 위에 스테이지(302)가 배치되고, 이 스테이지(302) 위에 기판(303)(제1 기판, 제2 기판)이 위치하고 있다. 기판(303)은 도시하지 않는 자동 반송 장치에 의해 각 처리 유니트(300) 내에 반입된다. 기판으로의 레지스트의 공급은 디스펜서(304)에 의해 행해진다. 또, X선 조사 장 치(1)가 각 처리 유니트(300) 내에 있어서 기판(303)에 연X선을 조사 가능한 위치에 배치되어 있다. X선 조사 장치(1)는, X선 조사 장치(1)에 장착된 지지봉(305)과, 가대(301) 위에 장착된 지주(支柱)(306)를 연결 지그(307)를 이용하여 고정시킴으로써 소정의 위치에 배치시킬 수 있다. 이상과 같은 구성에 의해, X선 조사 장치(1)는, 예를 들어 레지스트 도포 처리 전후나 레지스트 도포 처리 중에 있어서, 연X선 조사에 의해 기판(303)의 제전을 실시할 수 있다. 또한, 도 9에서는 X선 조사 장치(1)로부터 기판(303)에 조사되는 연X선을 X로 표시하고 있다.As shown in FIG. 9, the stage 302 is arrange | positioned on the mount 301, and the board | substrate 303 (1st board | substrate, 2nd board | substrate) is located on this stage 302. As shown in FIG. The board | substrate 303 is carried in each processing unit 300 by the automatic conveyance apparatus which is not shown in figure. Supply of the resist to the substrate is performed by the dispenser 304. Moreover, the X-ray irradiation apparatus 1 is arrange | positioned in the position which can irradiate soft X-ray to the board | substrate 303 in each processing unit 300. As shown in FIG. The X-ray irradiation apparatus 1 fixes the support rod 305 attached to the X-ray irradiation apparatus 1 and the support post 306 mounted on the mount 301 by using the connecting jig 307. It can be arrange | positioned at a predetermined position. With the above configuration, the X-ray irradiation apparatus 1 can perform static elimination of the substrate 303 by soft X-ray irradiation, for example, before and after the resist coating process or during the resist coating process. In addition, in FIG. 9, the soft X-ray irradiated to the board | substrate 303 from the X-ray irradiation apparatus 1 is represented by X. In FIG.

또, X선 조사 장치(1)는 케이블(42)을 통하여 제어부(70)와 전기적으로 접속되고 있다. X선 조사 장치(1)와 케이블(42) 사이의 접속 구조는 제1 실시 형태에 있어서 도 1~도 3을 참조하면서 설명한 대로이다. 이에 의해, X선 조사 장치(1)와 케이블(42) 사이에 있어서의 밀봉성이 유지되어, X선 조사 장치(1) 내의 가스(예를 들어 질소 가스)가 X선 조사 장치(1)의 외부, 즉 예를 들어 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 등의 각 처리 유니트(300) 내로 새지 않는다.In addition, the X-ray irradiation apparatus 1 is electrically connected to the control unit 70 through the cable 42. The connection structure between the X-ray irradiation apparatus 1 and the cable 42 is as having described with reference to FIGS. 1-3 in 1st Embodiment. Thereby, the sealing property between the X-ray irradiation apparatus 1 and the cable 42 is maintained, and the gas (for example, nitrogen gas) in the X-ray irradiation apparatus 1 is It does not leak outside, ie, into each processing unit 300, such as, for example, the resist coating unit 230 or the developing unit 280.

또, 캡 콘(48)(도 1~도 3 참조)을 느슨하게 하고 나서 통 모양의 부재(45)(도 1~도 3 참조)를 판 모양의 부재(36)로부터 떼어냄으로써 커넥터(44)를 접속 단자(23)로부터 뺄 수 있다. 이에 의해, 예를 들어 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 등의 각 처리 유니트(300)에 있어서, X선 조사 장치(1)만을 바꿀 수 있다. 이 결과, X선 조사 장치(1)의 수명과 관계없이 X선 조사 장치(1) 이외의 부분을 그대로 계속 사용할 수 있다. 또한, X선 조사 장치(1)의 교체를 X선관(8)의 관구의 수명에 따라 행해도 되며, 이 경우에는 X선관(8)의 관구의 수명 에 관계없이 X선 조사 장치(1) 이외의 부분을 그대로 계속 사용할 수 있다.In addition, after loosening the cap cone 48 (see FIGS. 1 to 3), the connector 44 is removed by removing the cylindrical member 45 (see FIGS. 1 to 3) from the plate-shaped member 36. It can be pulled out from the connection terminal 23. Thereby, for example, in each processing unit 300, such as the resist coating unit 230 and the developing unit 280, only the X-ray irradiation apparatus 1 can be changed. As a result, irrespective of the lifetime of the X-ray irradiation apparatus 1, portions other than the X-ray irradiation apparatus 1 can be used as it is. In addition, the X-ray irradiation apparatus 1 may be replaced in accordance with the life of the tube of the X-ray tube 8, in which case, other than the X-ray irradiation apparatus 1 regardless of the life of the tube of the X-ray tube 8. You can continue to use the part of.

또, X선 조사 장치(1)는 가스 도입 튜브(40)(가스 도입관)을 통하여 가스 도입 수단(308)과 접속되어 있다. 가스 도입 수단(309)은 예를 들어 질소 가스를 공급하는 수단이다. 또, X선 조사 장치(1)는 가스 배기 튜브(41)(가스 배기관)를 통하여 가스 배기 수단(309)과 접속되어 있다. 가스 배기 수단(309)은 가스 배기 튜브(41)로부터의 질소 가스를 회수하는 장치로서, 예를 들어 배기 펌프이다. 또, 가스 도입 튜브(40) 및 가스 배기 튜브(41)는 각각 X선 조사 장치(1)의 가스 도입부(38) 및 가스 배기부(39)에 착탈이 가능하게 장착되어 있다. 가스 도입 튜브(40) 및 가스 배기 튜브(41)로는 예를 들어 테플론제의 튜브가 사용된다. 이상의 구성에 의해, 질소 가스가 가스 도입 수단(309)으로부터 X선 조사 장치(1)내에 도입되고, 또한 X선 조사 장치(1) 내의 질소 가스가 가스 배기 수단(309)으로 배기된다. 이 구성은, X선 조사 장치(1) 내의 압력을 X선 조사 장치(1) 밖의 압력, 즉 각 처리 유니트(300) 내의 압력보다 높게 유지하기 위한 구성이다.Moreover, the X-ray irradiation apparatus 1 is connected with the gas introduction means 308 through the gas introduction tube 40 (gas introduction tube). The gas introduction means 309 is a means for supplying nitrogen gas, for example. Moreover, the X-ray irradiation apparatus 1 is connected with the gas exhaust means 309 via the gas exhaust tube 41 (gas exhaust pipe). The gas exhaust means 309 is an apparatus for recovering nitrogen gas from the gas exhaust tube 41 and is, for example, an exhaust pump. In addition, the gas introduction tube 40 and the gas exhaust tube 41 are attached to the gas introduction part 38 and the gas exhaust part 39 of the X-ray irradiation apparatus 1 so that attachment and detachment are possible, respectively. As the gas introduction tube 40 and the gas exhaust tube 41, for example, a tube made of Teflon is used. By the above structure, nitrogen gas is introduce | transduced into the X-ray irradiation apparatus 1 from the gas introduction means 309, and nitrogen gas in the X-ray irradiation apparatus 1 is exhausted to the gas exhaust means 309. This configuration is a configuration for maintaining the pressure in the X-ray irradiation apparatus 1 higher than the pressure outside the X-ray irradiation apparatus 1, that is, the pressure in each processing unit 300.

이상과 같이, X선 조사 장치(1) 내의 압력을 예를 들어 레지스트 도포 유니트(230) 내의 압력이나 현상 유니트(280) 내의 압력보다 조금이라도 높게 함으로써, 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내의 분위기 가스가 X선 조사 장치(1) 내에 침입하는 것을 방지할 수 있다. 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 등으로는 예를 들어 유기용제가 사용되고 있으며, 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 등에 있어서의 각 공정의 분위기 중에는 이 유기계의 가스가 충만해 있다. X선 조사 장치(1)는 이와 같은 분위기 중에 배치되어서 사용 되는 것이며, 레지스트를 도포하는 공정 중 등에 분위기 중에 존재하는 라디칼의 가스가 X선 조사 장치 내에 침입하면 라디칼의 가스에 의해 X선 조사 장치 내의 부품 등이 손상을 받게 된다. 또, 가스가 가연성인 경우, X선 조사 장치(1) 내에 들어 왔을 경우에는, X선 조사 장치는 고전압을 사용하고 있기 때문에 X선 조사 장치(1) 내에서 인화나 폭발의 위험성이 있다. 이것은, X선 조사 장치의 밀봉성을 높임으로써 위험도를 저감하는 것은 가능해지지만, X선 조사 장치를 완전하게 밀봉하는 것은 구조상 곤란하다. 따라서, 본 실시형태에서는, 레지스트 도포 유니트(230) 내의 가스나 현상 유니트(280) 내의 가스가 X선 조사 장치(1) 내에 들어오는 것을 방지함으로써, X선 조사 장치(1) 내의 부품의 손상이나 X선 조사 장치 내에서의 인화나 폭발의 위험성을 줄일 수 있다. 또, 완전한 밀봉으로 할 필요가 없어지므로, X선 조사 장치의 구조를 복잡하게 하지 않고 간략화할 수 있어 소형의 X선 조사 장치로 할 수 있다.As described above, the pressure in the X-ray irradiation apparatus 1 is slightly higher than, for example, the pressure in the resist coating unit 230 or the pressure in the developing unit 280. It is possible to prevent the atmosphere gas in the infiltration into the X-ray irradiation apparatus 1. As the resist coating unit 230, the developing unit 280, or the like, for example, an organic solvent is used, and the organic gas is filled in the atmosphere of each process in the resist coating unit 230, the developing unit 280, or the like. Do it. The X-ray irradiation apparatus 1 is disposed and used in such an atmosphere, and when a gas of radicals existing in the atmosphere enters the X-ray irradiation apparatus during the process of applying the resist, the X-ray irradiation apparatus 1 The parts may be damaged. Moreover, when gas is combustible, when it enters into the X-ray irradiation apparatus 1, since the X-ray irradiation apparatus uses a high voltage, there exists a danger of a ignition or explosion in the X-ray irradiation apparatus 1. This makes it possible to reduce the risk by increasing the sealing property of the X-ray irradiation apparatus, but it is difficult in structure to completely seal the X-ray irradiation apparatus. Therefore, in the present embodiment, the gas in the resist coating unit 230 and the gas in the developing unit 280 are prevented from entering the X-ray irradiation apparatus 1, thereby causing damage to the components in the X-ray irradiation apparatus 1 or X. The risk of ignition or explosion in the radiation system can be reduced. Moreover, since it is not necessary to make a complete sealing, it can be simplified without complicating the structure of an X-ray irradiation apparatus, and it can be set as a compact X-ray irradiation apparatus.

또, X선 조사 장치(1) 내를 양압으로 유지하기 위해서 큰 개구를 갖는 커넥터(44) 부분의 밀봉성은 중요하며, 본 발명의 커넥터 부분의 구조에 의해 X선 조사 장치(1) 내를 바람직하게 유지하는 것이 가능하게 되어 있다. 이 커넥터 부분의 밀봉성이 높으면, 다른 부분에 존재하는 틈새는 작기 때문에, X선 조사 장치 내로부터 새어 나오는 가스에 의한 각 처리 유니트에 대한 영향을 작게 할 수 있다. 또, 작은 틈새에 대해서는 가스 방출이 적으며, 분위기 가스에 내성을 갖는 수지 재료 등으로 틈새를 막아도 된다.In addition, in order to maintain the inside of the X-ray irradiation apparatus 1 at a positive pressure, the sealing property of the part of the connector 44 which has a big opening is important, and the inside of the X-ray irradiation apparatus 1 is preferable by the structure of the connector part of this invention. It is possible to keep it. When the sealing property of this connector part is high, since the clearance gap which exists in another part is small, the influence on each processing unit by the gas leaking out from inside an X-ray irradiation apparatus can be made small. In addition, the small gap is less gas discharged, and the gap may be closed with a resin material or the like that is resistant to the atmosphere gas.

또한, 본 실시형태에서는, X선 조사 장치(1) 내를 양압으로 유지하기 위해서 질소 가스를 이용하고 있으나, 이에 한정되지 않고, 불활성인 가스이면 질소에 한하지 않고, 예를 들어 아르곤이나 헬륨 등의 희가스를 사용해도 된다.In addition, in this embodiment, although nitrogen gas is used in order to hold the inside of the X-ray irradiation apparatus 1 at positive pressure, it is not limited to this, If it is an inert gas, it is not limited to nitrogen, For example, argon, helium, etc. You can also use rare gas.

또, 본 실시형태에서는 가스 도입 수단(309)에 있어서의 질소 가스의 유량 및 가스 배기 수단(309)에 있어서의 질소 가스의 유량의 양쪽 모두를 조절하여 X선 조사 장치(1) 내의 압력을 양압으로 컨트롤하고 있지만, 이에 한정되지 않고, 가스 도입 수단(309) 및 가스 배기 수단(309) 중 어느 한쪽인가를 조절하여 X선 조사 장치(1) 내부의 압력을 양압으로 컨트롤해도 된다. 이 때, 예를 들어 환경적으로 문제가 되지 않는 경우에는, 가스 배기 튜브(41)로부터의 가스를 가스 배기 수단(309)을 이용하지 않고 그대로 외부로 방출시켜도 된다.Moreover, in this embodiment, both the flow volume of nitrogen gas in the gas introduction means 309 and the flow volume of nitrogen gas in the gas exhaust means 309 are adjusted, and the pressure in the X-ray irradiation apparatus 1 is positively pressured. Although control is carried out by the above, not only this but any one of the gas introduction means 309 and the gas exhaust means 309 may be adjusted, and the pressure in the X-ray irradiation apparatus 1 may be controlled by positive pressure. At this time, for example, when it is not an environmental problem, the gas from the gas exhaust tube 41 may be discharged to the outside as it is without using the gas exhaust means 309.

[제1 실시형태 및 제2 실시형태의 작용 및 효과][Operations and Effects of the First Embodiment and the Second Embodiment]

계속해서, 본 발명의 제1 실시형태에 관련된 X선 조사 장치(1) 및 X선 조사 시스템(100), 제2 실시형태와 관련된 코터/디벨로퍼 장치(200)의 작용 및 효과에 대하여 설명한다.Subsequently, the operation and effects of the X-ray irradiation apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention, the X-ray irradiation system 100 and the coater / developer apparatus 200 according to the second embodiment will be described.

본 발명의 상기 실시형태에 의하면, 통 모양의 부재(45)는 커넥터(44)를 포위하고 있으며, 통 모양의 부재(45)의 일단은 판 모양의 부재(36)의 개구 (36a)에서 나사 결합되고, 통 모양의 부재(45)의 타단은 케이블 본체(43)를 클램프하는 캡 콘(48)으로 나사 결합된다. 이상의 구성에 의해, 판 모양의 부재(36), 통 모양의 부재(45), 캡 콘(48)에 있어서의 밀폐성을 유지할 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재(36), 통 모양의 부재(45), 캡 콘(48)의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, X선 조사 장치(1) 내의 가스가 X선 조사 장치(1)로 부터 나와 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내에 흘러가는 것이나, 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내의 가스가 X선 조사 장치(1)내에 들어오는 것을 억제할 수 있다.According to the above embodiment of the present invention, the cylindrical member 45 surrounds the connector 44, and one end of the cylindrical member 45 is screwed in the opening 36a of the plate-shaped member 36. The other end of the tubular member 45 is screwed into a cap cone 48 that clamps the cable body 43. By the above structure, the sealing property in the plate-shaped member 36, the cylindrical member 45, and the cap cone 48 can be maintained, As a result, the plate-shaped member 36 and the cylindrical member 45, it can suppress that gas outflow and inflow generate | occur | produces around the cap cone 48. FIG. Therefore, the gas in the X-ray irradiation apparatus 1 flows out of the X-ray irradiation apparatus 1 into the resist coating unit 230 or the developing unit 280, or the resist coating unit 230 or the developing unit 280 It is possible to suppress the gas inside the) from entering the X-ray irradiation apparatus 1.

또한, 커넥터(44)는 케이블(42)과 X선 조사 장치(1)를 착탈이 자유롭게 접속하는 것이다. 따라서, 예를 들어 캡 콘(48)을 통 모양의 부재(45)로부터 느슨하게 또한 통 모양의 부재(45)를 판 모양의 부재(36)로부터 느슨하게 한 후에 케이블(42)을 X선 조사 장치(1)로부터 떼어낼 수 있어, 이에 의해 X선 조사 시스템에 있어서 X선 조사 장치(1)만을 바꿀 수 있다. 이 결과, X선 조사 장치(1)의 수명과 관계없이, X선 조사 장치(1) 이외의 부분, 즉 예를 들어 케이블(42), 제어부(70), 레지스트 도포 유니트(23), 현상 유니트(280) 등을 X선 조사 장치(1)의 수명이 다한 다음에도 그대로 계속 사용할 수 있다. 또한, X선 조사 장치(1)의 교체를 X선관(8)의 관구의 수명에 따라 행해도 되며, 이 경우에는 코터/디벨로퍼 장치(200)에 있어서 X선 조사 장치(1) 이외의 부분을 X선관(8)의 관구의 수명에 관계없이 계속 사용할 수 있다. 이상에 의해, 코터/디벨로퍼 장치(200)의 메인터넌스가 용이해진다.In addition, the connector 44 detachably connects the cable 42 and the X-ray irradiation apparatus 1 to each other. Thus, for example, after the cap cone 48 is loosened from the tubular member 45 and the tubular member 45 is loosened from the plate-shaped member 36, the cable 42 is connected to the X-ray irradiation apparatus ( 1), and only X-ray irradiation apparatus 1 can be changed in an X-ray irradiation system by this. As a result, irrespective of the lifetime of the X-ray irradiation apparatus 1, parts other than the X-ray irradiation apparatus 1, ie, the cable 42, the control part 70, the resist coating unit 23, the developing unit, for example 280 and the like can be used as it is even after the life of the X-ray irradiation apparatus 1 has expired. In addition, the X-ray irradiation apparatus 1 may be replaced in accordance with the life of the tube of the X-ray tube 8, in which case, the portion other than the X-ray irradiation apparatus 1 in the coater / developer apparatus 200 may be replaced. Regardless of the lifetime of the tube of the X-ray tube 8, it can continue to be used. By the above, maintenance of the coater / developer apparatus 200 becomes easy.

또, 가스 도입부(38) 및 가스 배기부(39)를 마련함으로써, X선 조사 장치(1) 내에 가스를 도입하고 또한 X선 조사 장치(1) 내의 가스를 외부로 배기할 수 있다. 여기서, 가스의 유량을 적절하게 컨트롤함으로써, X선 조사 장치(1) 내의 압력을 X선 조사 장치(1) 밖의 압력, 즉 예를 들어 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내의 압력보다 높게 컨트롤 할 수 있다. 이와 같이 X선 조사 장치(1) 내 를 양압으로 컨트롤함으로써, 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내의 가스가 X선 조사 장치(1) 내에 침입하는 것을 방지하여 X선 조사 장치(1)의 밀폐성을 높일 수 있다.Moreover, by providing the gas introduction part 38 and the gas exhaust part 39, gas can be introduced into the X-ray irradiation apparatus 1 and the gas in the X-ray irradiation apparatus 1 can be exhausted to the outside. Here, by appropriately controlling the flow rate of the gas, the pressure in the X-ray irradiation apparatus 1 is lower than the pressure outside the X-ray irradiation apparatus 1, that is, for example, the pressure in the resist coating unit 230 or the developing unit 280. I can control it high. By controlling the inside of the X-ray irradiation apparatus 1 with positive pressure in this manner, the gas in the resist coating unit 230 or the developing unit 280 is prevented from invading the X-ray irradiation apparatus 1 and the X-ray irradiation apparatus 1 ) Can improve the sealability.

또, 외부로부터의 가스가 가스 도입부(38)를 통하여 X선 조사 장치(1) 내에 도입되고, 또한 X선 조사 장치(1) 내의 가스가 가스 배기부(39)를 통하여 외부로 배기되기 되는 것으로 인하여, 해당 가스가 X선 조사 장치(1) 내를 냉각하는 역할을 달성할 수도 있다.In addition, gas from the outside is introduced into the X-ray irradiation apparatus 1 through the gas introduction unit 38, and the gas in the X-ray irradiation apparatus 1 is exhausted to the outside through the gas exhaust unit 39. Therefore, the gas may achieve the role of cooling the inside of the X-ray irradiation apparatus 1.

또, 판 모양의 부재(36)와 통 모양의 부재(45) 사이에 제1 개스킷(46)을 구비하고, 또한 캡 콘(48)과 통 모양의 부재(45) 사이에 제2 개스킷(47)을 구비함으로써, 판 모양의 부재(36), 통 모양의 부재(45), 캡 콘(48)에 있어서의 밀폐성을 더욱 높일 수 있으며, 그 결과, 판 모양의 부재(36), 통 모양의 부재(45), 캡 콘(48)의 주변에서 가스의 유출입이 발생하는 것을 보다 확실히 억제할 수 있다. 따라서, X선 조사 장치(1) 내의 가스가 X선 조사 장치(1)로부터 나와 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내에 흘러가는 것이나, 레지스트 도포 유니트(230)나 현상 유니트(280) 내의 가스가 X선 조사 장치(1) 내에 들어오는 것을 보다 확실하게 억제할 수 있다.Moreover, the 1st gasket 46 is provided between the plate-shaped member 36 and the cylindrical member 45, and the 2nd gasket 47 is provided between the cap cone 48 and the cylindrical member 45. Moreover, as shown in FIG. ), The sealing property in the plate-shaped member 36, the cylindrical member 45, and the cap cone 48 can be further improved. As a result, the plate-shaped member 36 and the cylindrical shape are obtained. It is possible to more reliably suppress the outflow and outflow of gas around the member 45 and the cap cone 48. Therefore, the gas in the X-ray irradiation apparatus 1 flows out of the X-ray irradiation apparatus 1 and flows in the resist coating unit 230 or the developing unit 280, or the resist coating unit 230 or the developing unit 280. The gas inside can be suppressed more reliably from entering the X-ray irradiation apparatus 1.

도 1은 제1 실시형태의 X선 조사 장치(1)를 나타내는 분해 사시도이다.1 is an exploded perspective view showing the X-ray irradiation apparatus 1 of the first embodiment.

도 2는 도 1에 나타낸 X선 조사 장치(1)의 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of the X-ray irradiation apparatus 1 shown in FIG. 1.

도 3은 도 2의 III-III선에 따르는 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. 2.

도 4는 X선관(8)을 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing the X-ray tube 8.

도 5는 도 2에 나타낸 X선 조사 장치(1)의 주요부 확대 단면도이다.FIG. 5 is an enlarged sectional view of an essential part of the X-ray irradiation apparatus 1 shown in FIG. 2.

도 6은 전면 패널(5)에 X선관(8)을 조립한 상태를 나타내는 사시도이다.6 is a perspective view showing a state in which the X-ray tube 8 is assembled to the front panel 5.

도 7은 제1 실시형태의 X선 조사 시스템(100)의 구성을 나타내는 블록도이다.FIG. 7: is a block diagram which shows the structure of the X-ray irradiation system 100 of 1st Embodiment.

도 8은 제2 실시형태의 코터/디벨로퍼 장치(200)를 나타내는 평면 개략도이다.8 is a plan schematic view showing the coater / developer device 200 of the second embodiment.

도 9는 코터/디벨로퍼 장치(200)의 각 처리 유니트(300)에 X선 조사 장치(1)가 설치된 것을 나타내는 도면이다.FIG. 9: is a figure which shows the X-ray irradiation apparatus 1 in each processing unit 300 of the coater / developer apparatus 200. In FIG.

(부호의 설명)(Explanation of the sign)

1…X선 조사 장치, 2…보호 케이스, 6…배면 패널, 8…X선관, 23…접속 단자, 35…구동부, 36…판 모양의 부재, 38…가스 도입부, 39…가스 배기부, 40…가스 도입 튜브, 41…가스 배기 튜브, 42…케이블, 43…케이블 본체, 44…커넥터, 45…통 모양의 부재, 46…제1 개스킷, 47…제2 개스킷, 48…캡콘, 70…제어부, 80…액세서리, 100…X선 조사 시스템, 200…코터/디벨로퍼 장치, 230…레지스트 도포 유니트, 280…현상 유니트, 308…가스 도입 수단, 309…가스 배기 수단.One… X-ray irradiation apparatus, 2... Protective case, 6.. Back panel, 8... X-ray tube, 23... Connection terminal, 35.. 36, drive unit; Plate-shaped member, 38... Gas inlet, 39... Gas exhaust, 40... Gas introduction tube, 41... Gas exhaust tube, 42... Cable, 43.. Cable body 44... Connector, 45.. Cylindrical member, 46.. First gasket, 47... Second gasket, 48... Capcon, 70... Control unit, 80... Accessories, 100... X-ray irradiation system, 200... Coater / developer device, 230... Resist application unit, 280... Developing unit, 308... Gas introduction means, 309. Gas exhaust means.

Claims (10)

X선을 조사하는 X선 조사 장치와, 상기 X선 조사 장치를 제어하는 X선 제어장치와, 상기 X선 조사 장치 및 상기 X선 제어 장치를 전기적으로 접속하는 케이블을 구비하는 X선 조사 시스템으로서,An X-ray irradiation system comprising an X-ray irradiation apparatus for irradiating X-rays, an X-ray control apparatus for controlling the X-ray irradiation apparatus, and a cable electrically connecting the X-ray irradiation apparatus and the X-ray control apparatus. , 상기 X선 조사 장치는,The X-ray irradiation apparatus, X선관과,X-ray tube, 상기 X선관을 구동시키는 구동부와,A driving unit for driving the X-ray tube; 상기 X선관 및 상기 구동부를 수용하며 개구부를 가지는 케이스와,A case accommodating the X-ray tube and the driving unit and having an opening; 상기 케이스에 마련되고, 상기 개구부에 대응하는 위치에 개구를 가지는 판 모양의 부재를 구비하고,A plate-shaped member provided in the case and having an opening at a position corresponding to the opening; 상기 케이블은,The cable, 해당 케이블의 일단(一端)에 마련되고, 해당 케이블의 일단과, 상기 구동부에 전기적으로 접속된 접속 단자를 착탈이 자유롭게 접속하기 위한 커넥터와,A connector which is provided at one end of the cable and detachably connects one end of the cable and a connection terminal electrically connected to the drive unit; 상기 커넥터를 포위하는 통 모양의 부재를 구비하며,A cylindrical member surrounding the connector, 상기 구동부와 상기 케이블은, 상기 접속 단자 및 상기 커넥터에 의해, 상기 케이스의 상기 개구부 및 상기 판 모양의 부재의 상기 개구를 통하여, 착탈이 자유롭게 및 전기적으로 접속되는 특징으로 하는 X선 조사 시스템.The drive unit and the cable are detachable and electrically connected to each other by the connection terminal and the connector via the opening of the case and the opening of the plate member. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 통 모양의 부재의 일단에서는, 상기 일단에 마련된 수나사부와, 상기 판 모양의 부재의 상기 개구에 마련된 암나사부가 나사 결합되고,At one end of the tubular member, a male screw portion provided at the one end and a female screw portion provided at the opening of the plate member are screwed together, 상기 통 모양의 부재의 타단에는 상기 케이블을 클램프하기 위한 클램프 부재가 마련되어, 상기 타단과 상기 클램프 부재가 나사 결합하는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.A clamp member for clamping the cable is provided at the other end of the tubular member, and the other end and the clamp member are screwed to each other. 청구항 1 또는 2에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 통 모양의 부재의 일단에는, 상기 판 모양의 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제1 씰 부재가 구비되어 있고,One end of the cylindrical member is provided with a first seal member for sealing the plate member and the cylindrical member, 상기 통 모양의 부재의 타단에는, 상기 클램프 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제2 씰 부재가 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.The other end of the said cylindrical member is equipped with the 2nd sealing member for sealing the said clamp member and the said cylindrical member, The x-ray irradiation system characterized by the above-mentioned. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 커넥터는 커넥터 본체부 및 상기 접속 단자와 접속하는 측에서 상기 커넥터 본체부의 일부를 덮고 있는 외주부를 구비하고,The connector has a connector body portion and an outer circumference portion covering a part of the connector body portion at a side connecting with the connection terminal, 작업자에 의해 상기 외주부가 상기 커넥터 본체부의 다른 부분을 향하여 소정의 부분만큼 인장된 상태에서, 상기 커넥터 본체부가 상기 접속 단자에 접속되고, 또한 해당 접속 상태에 있어서 상기 제1 씰 부재의 존재에 의해 상기 외주부의 해당 인장된 상태가 유지되는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.The connector body part is connected to the connection terminal in a state where the outer circumferential portion is tensioned by a predetermined portion toward another part of the connector body part by an operator, and the presence of the first seal member in the connection state causes the X-ray irradiation system, characterized in that the tensioned state of the outer peripheral portion is maintained. X선관과,X-ray tube, 상기 X선관을 구동시키는 구동부와,A driving unit for driving the X-ray tube; 상기 X선관 및 상기 구동부를 수용하는 케이스와,A case accommodating the X-ray tube and the driving unit; 상기 케이스에 마련되고, 상기 케이스 내에 가스를 도입하기 위한 가스 도입부와,A gas introduction part provided in the case and for introducing gas into the case; 상기 케이스에 마련되고, 상기 케이스 내의 가스를 배기하기 위한 가스 배기부를 구비하는 것을 특징으로 하는 X선 조사 장치.An X-ray irradiation apparatus, provided in the case, comprising a gas exhaust unit for exhausting the gas in the case. 제1 기판에 레지스트 도포 처리를 실시하는 레지스트 도포 처리 장치와, 제2 기판에 현상 처리를 실시하는 현상 처리 장치와, 상기 레지스트 도포 처리 장치 및 상기 현상 처리 장치 중 적어도 한쪽 내에 마련되고 또한 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중 적어도 한쪽에 X선을 조사함으로써 해당 적어도 한쪽의 기판을 제전(除電)하는 X선 조사 장치와, 상기 X선 조사 장치를 제어하는 X선 제어 장치와, 상기 X선 조사 장치 및 상기 X선 제어 장치를 전기적으로 접속하는 케이블을 구비하는 X선 조사 시스템으로서,A resist coating apparatus for applying a resist coating treatment to a first substrate, a developing apparatus for developing a second substrate, and at least one of the resist coating apparatus and the developing apparatus, wherein the first substrate is provided. An X-ray irradiation apparatus for static eliminating the at least one substrate by irradiating X-rays to at least one of the substrate and the second substrate, an X-ray control apparatus for controlling the X-ray irradiation apparatus, and the X-ray irradiation An X-ray irradiation system having a cable for electrically connecting a device and the X-ray control device, 상기 X선 조사 장치는,The X-ray irradiation apparatus, 상기 제1 기판 또는 상기 제2 기판에 X선을 조사하기 위한 X선관과,An X-ray tube for irradiating X-rays to the first substrate or the second substrate, 상기 X선관을 구동시키는 구동부와,A driving unit for driving the X-ray tube; 상기 X선관 및 상기 구동부를 수용하며 개구부를 가지는 케이스와,A case accommodating the X-ray tube and the driving unit and having an opening; 상기 케이스에 마련되고 상기 개구부에 대응하는 위치에 개구를 가지는 판 모양의 부재와,A plate-shaped member provided in the case and having an opening at a position corresponding to the opening; 상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내에 가스를 도입하기 위한 가스 도입부와,A gas introduction part provided in the case and for introducing gas into the case; 상기 케이스에 마련되고 상기 케이스 내의 가스를 배기하기 위한 가스 배기부를 구비하고,A gas exhaust unit provided in the case and configured to exhaust the gas in the case; 상기 케이블은,The cable, 해당 케이블의 일단에 마련되고, 해당 케이블의 일단과, 상기 구동부에 전기적으로 접속된 접속 단자를 착탈이 자유롭게 접속하기 위한 커넥터와,A connector provided at one end of the cable, for detachably connecting one end of the cable and a connection terminal electrically connected to the drive unit; 상기 커넥터를 포위하는 통 모양의 부재를 구비하며,A cylindrical member surrounding the connector, 상기 구동부와 상기 케이블은, 상기 접속 단자 및 상기 커넥터에 의해, 상기 케이스의 상기 개구부 및 상기 판 모양의 부재의 상기 개구를 통하여 착탈이 자유롭게 및 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.The drive unit and the cable are detachably and electrically connected to each other by the connection terminal and the connector via the opening of the case and the opening of the plate member. 청구항 6에 있어서,The method according to claim 6, 상기 통 모양의 부재의 일단에서는, 상기 일단에 마련된 수나사부와, 상기 판 모양의 부재의 상기 개구에 마련된 암나사부가 나사 결합되고,At one end of the tubular member, a male screw portion provided at the one end and a female screw portion provided at the opening of the plate member are screwed together, 상기 통 모양의 부재의 타단에는 상기 케이블을 클램프하기 위한 클램프 부재가 마련되어, 상기 타단과 상기 클램프 부재가 나사 결합되는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.A clamp member for clamping the cable is provided at the other end of the tubular member, and the other end and the clamp member are screwed to each other. 청구항 6 또는 7에 있어서,The method according to claim 6 or 7, 상기 통 모양의 부재의 일단에는, 상기 판 모양의 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제1 씰 부재가 구비되어 있으며,One end of the cylindrical member is provided with a first seal member for sealing the plate member and the cylindrical member, 상기 통 모양의 부재의 타단에는, 상기 클램프 부재와 해당 통 모양의 부재를 밀폐하기 위한 제2 씰 부재가 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.The other end of the said cylindrical member is equipped with the 2nd sealing member for sealing the said clamp member and the said cylindrical member, The x-ray irradiation system characterized by the above-mentioned. 청구항 6 또는 7에 있어서,The method according to claim 6 or 7, 외부의 장치로부터의 상기 가스를 상기 가스 도입부를 통하여 상기 케이스 내에 도입하기 위한 가스 도입관과,A gas introduction pipe for introducing the gas from an external device into the case through the gas introduction unit; 상기 케이스 내의 상기 가스를 상기 가스 배기부를 통하여 외부로 배기하기 위한 가스 배기관을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.And a gas exhaust pipe for exhausting the gas in the case to the outside through the gas exhaust unit. 청구항 8에 있어서,The method according to claim 8, 외부의 장치로부터의 상기 가스를 상기 가스 도입부를 통하여 상기 케이스 내에 도입하기 위한 가스 도입관과,A gas introduction pipe for introducing the gas from an external device into the case through the gas introduction unit; 상기 케이스 내의 상기 가스를 상기 가스 배기부를 통하여 외부로 배기하기 위한 가스 배기관을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 X선 조사 시스템.And a gas exhaust pipe for exhausting the gas in the case to the outside through the gas exhaust unit.
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