KR20090132282A - Scrubber sysyem for high temperature gas - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 한국환경기술진흥원 지원 차세대핵심환경기술 개발사업의 연구 개발 결과물이다(과제번호 2007-01001-0028-0, 과제명 '소각시설에서 발생되는 먼지,가스, 백연 동시 제거용 100,000 m3/hr 규모의 하이브리드 시스템의 실증화').The present invention is the result of R & D of the next generation core environmental technology development project supported by Korea Environmental Technology Agency (Task No. 2007-01001-0028-0, title of the project '100,000 m 3 / hr scale hybrid system ').
본 발명은 습식 가스 정화 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 냉각 타워 및 열교환기를 이용하여 고온 가스의 냉각과 동시에 가스를 정화할 수 있는 고온 가스용 습식 정화 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a wet gas purification system, and more particularly to a wet gas purification system for hot gas that can purify the gas simultaneously with the cooling of the hot gas using a cooling tower and a heat exchanger.
도시의 생활 쓰레기나 산업폐기물을 소각하는 소각로로부터 발생되는 배출가스에는 분진, 산성가스(HCL, SOx, NOx, HF 등), 중금속(Hg, Cd, Pb, As, Zn 등) 및 다이옥신과 같은 유해물질이 포함되어 있다. 또한, 음식물 찌꺼기나 유해 물질의 건조시 배출되는 배출가스에도 다량의 분진이나 유해가스 및 악취를 발생하는 미세분진 및 가스가 포함되어 있다. 특히 음식물 찌거기나 유해물질의 건조시 발생하는 배출가스에는 광화학적 반응을 일으켜서 스모그를 발생시키고 악취의 원인이 되는 휘발성유기탄소(Volitale Organic Compounds; 이하 VOC)가 포함되어 있다.Emissions from incinerators that burn municipal and industrial wastes in cities include hazardous materials such as dust, acid gases (HCL, SOx, NOx, HF, etc.), heavy metals (Hg, Cd, Pb, As, Zn, etc.) and dioxins. Contains substance. In addition, the exhaust gas discharged during the drying of food waste or harmful substances also contains a large amount of dust or harmful gas and fine dust and gas generating odor. In particular, the exhaust gases generated during the drying of food residues or harmful substances contain volatile organic carbons (VOCs), which cause photochemical reactions to generate smog and cause odors.
상기와 같은 유해한 배출가스를 처리하는 방법으로, 배출가스에 알카리성 용액을 분사하여 습식으로 분진을 제거하거나 중화 처리하고 탈취로에서 소각후 수분을 제거한 후에 배출시키거나, 반건식으로 소석회 슬러리를 공급하여 중화 처리한 후에 백필터를 통과하도록 하여 분진을 제거하고 배출시키는 방법이 알려져 있다. 또한, VOC를 제거하여 악취와 백연을 방지하기 위하여 정화장치의 후단에 촉매를 이용하여 VOC를 연소시키기 위한 설비가 별도로 설치되기도 한다.As a method of treating the harmful exhaust gas as described above, by spraying alkaline solution to the exhaust gas to remove the dust or neutralized by wet treatment, and then discharged after removing the moisture after incineration in the deodorizing furnace, or neutralized by supplying the lime lime slurry semi-dry It is known to remove dust and discharge dust by passing it through a bag filter after treatment. In addition, in order to remove VOCs and prevent odors and white smoke, a facility for burning VOCs using a catalyst may be separately installed at the rear of the purification apparatus.
한편, 본 발명의 발명자가 대한민국에 출원번호 제10-2004-0093768호로 특허 출원한 발명의 명칭이 '하이브리드식 배출가스 정화장치'의 명세서에는 분진을 포함하는 산성의 배출가스를 습식으로 정화 처리한 후에 직접 백필터를 통과하도록 하여 처리하는 방법 및 장치가 제시되어 있다(이하 배출가스를 습식으로 정화처리한 후에 직접 백필터를 통과하도록 하여 처리하는 방식을 '하이브리드식 배출가스 처리방식'이라고 한다). 또한, 본 발명의 발명자가 대한민국에 출원번호 제10-2005-26074호로 특허 출원한 발명의 명칭이 '배출가스 습식정화장치'의 명세서에는 배출가스로부터 분진, 미스트, 수분, 응축수 등의 제거효율을 높일 수 있고, 폐수의 발생과 정화처리챔버의 분사노즐의 막힘을 방지할 수 있는 습식 정화장치가 제시되어 있다. 또한, 본 발명의 발명자가 대한민국에 출원번호 제10-2005-0036503호로 특허 출원한 발명의 명칭이 '응축기를 구비한 하이브리드식 배출가스 장치'의 명세서에는 별도의 촉매 연소장치를 설치하지 않고서 VOC나 악취를 제거하고, 백연을 방지할 수 있는 응축기를 구비한 배출가스 정화장치가 제시되어 있다.On the other hand, the inventor of the present invention has a patent application to the Republic of Korea Patent Application No. 10-2004-0093768, the name of the 'hybrid-type exhaust gas purification apparatus' in the specification of the wet purifying acidic exhaust gas containing dust Later, a method and a device for treating by passing through the bag filter have been proposed (hereinafter, a method of treating the exhaust gas through a bag filter after directly purifying the exhaust gas is called a 'hybrid discharge gas treatment method'). . In addition, the inventor of the present invention, the patent of the invention patent application No. 10-2005-26074 in the Republic of Korea, the specification of the 'exhaust gas wet purifier' in the specification of the removal efficiency of dust, mist, water, condensate, etc. from the exhaust gas A wet purifier is proposed that can be increased and prevent the generation of waste water and the blockage of injection nozzles in the purge chamber. In addition, the inventors of the present invention patented in the Republic of Korea Patent Application No. 10-2005-0036503 in the specification of the 'hybrid type exhaust gas device with a condenser' in the specification of VOC or without a separate catalytic combustion device An exhaust gas purifying apparatus having a condenser capable of removing odors and preventing white smoke is proposed.
한편, 고온 가스를 습식정화시설에 인입시켜 가스를 정화하기 위해서는 먼저 가스를 냉각해야 한다. 고온 가스를 냉각하는 시스템과 관련해서는 다음과 같은 냉각법이 사용되고 있다.Meanwhile, in order to purify the gas by introducing the hot gas into the wet purification facility, the gas must first be cooled. Regarding the system for cooling the hot gas, the following cooling method is used.
공기희석법은 가장 간단한 냉각방법이며, 이는 일정온도와 용적의 가스를 공기로 희석하여 방지시설 연계에 적합한 저온으로 냉각시키는 방법이다. 이러한 시설을 설계할 때에는 첫째로, 제시된 오염물배출원에서 오염공기를 포함하여 이송시키는데 필요로 하는 공기량과 온도를 결정하고 다음에 이 온도를 냉각시키는데 소요되는 추가공기량을 산정한다. 이 방법은, 오염물질을 포집하기 위하여 외부 후드를 설치하는 경우에 사용하는데 외부공기를 희석하기 때문에 방지시설의 용량을 가스배출량보다 훨씬 크게 설계하여야 한다.The air dilution method is the simplest cooling method, which dilutes a certain temperature and volume of gas with air and cools it to a low temperature suitable for prevention facility connection. When designing such a facility, first, determine the amount of air and temperature required to transport contaminated air from the proposed pollutant source, and then estimate the amount of additional air required to cool this temperature. This method is used in the case of installing an external hood to collect pollutants, and the capacity of the prevention facility should be designed to be much larger than the amount of gas discharged since the external air is diluted.
다음으로 물의 직접접촉증발에 의한 냉각법이 있다. 다량의 고온가스를 냉각시켜야 하고 냉각추가 공기량이 소량인 경우에는 공기 희석이 아닌 다른 방법을 채택해야한다. 물의 증발에는 다량의 열을 필요로 하기 때문에 소량의 물을 가스에 분무 증발시키면 가스를 용이하게 냉각시킬 수 있으며, 이 냉각법은 보통 냉각 후 배출가스의 온도를 100℃이상으로 설계한다.Next, there is a cooling method by direct contact evaporation of water. If a large amount of hot gas has to be cooled and a small amount of air is added, a method other than air dilution should be adopted. Water evaporation requires a large amount of heat, so spraying and evaporating a small amount of water into the gas can easily cool the gas. This cooling method usually designs the temperature of the exhaust gas after cooling to 100 ° C or higher.
다음으로 자연대류 및 복사에 의한 냉각법이 있다. 고온가스가 덕트를 통과하면 덕트는 가열되고 또한 주위의 공기도 가열된다. 주위의 공기가 가열되면 자연통풍이 이루어져서 덕트주위의 열을 분산시킨다. 이 현상을 자연대류라 칭한다. 또한 고온덕트에서 복사열에 의해서 열이 주위로 방출되기도 하며, 이 방식은 덕트가 길어져서 설치면적이나 압력손실이 많이 소요된다.Next, there is a cooling method by natural convection and radiation. When hot gas passes through the duct, the duct is heated and the surrounding air is also heated. When the surrounding air is heated, natural ventilation occurs to dissipate heat around the duct. This phenomenon is called natural convection. In addition, heat is radiated to the surrounding area by radiant heat in the high temperature duct, and this method requires a lot of installation area and pressure loss due to a long duct.
다음으로 공냉에 의한 강제 송풍식 냉각법이 있다. 고온가스가 덕트 외부에 송풍기를 설치하여 덕트 주위의 외기를 송풍기에 의해서 강제로 덕트에 접촉시켜 냉각시키는 방법이며, 이방법은 덕트가 길어져야하며 또한, 별도의 냉각용 송풍기가 필요하다.Next, there is a forced air cooling method by air cooling. Hot gas is a method of installing a blower outside the duct to force the outside air around the duct by contact with the duct for cooling, this method requires a long duct and a separate cooling blower is required.
마지막으로 수냉에 의한 강제냉각법이 있다. 고온가스가 닥트외부에 물이통과할 수 있는 이중배관을 만들어 펌프로 이중배관에 용수를 순환시켜 냉각하는 방법으로, 또 다른 방법은 보일러의 냉각방식과 같이 공기를 물로 냉각하는 방법이다.Finally, there is a forced cooling method by water cooling. By making a double pipe through which hot gas can pass water outside the duct, the water is circulated in the double pipe by a pump and cooled. Another method is to cool the air with water like the boiler cooling method.
고온 가스 정화용으로 사용되는 시스템의 경우, 냉각수나 세정액을 순환시키기 위한 순환 펌프 성능을 유지하고, 가스에 포함된 유해물질의 세정액에 대한 용해도를 높이기 위해서 고온 가스의 온도를 70℃ 이하로 낮출 필요가 있다. 종래에는 고온 가스를 정화처리 장치로 투입하기 전에 고온 가스를 냉각하기 위해서, 정화 장치의 전단에서 고온가스를 냉각하기 위한 별도의 냉각 장치를 설치하여 사용하고 있다. 별도의 냉각장치는 가스를 원하는 온도까지 냉각시키기 위하여는 고가이며, 설비의 규모가 대단히 커져서 공간을 많이 차지한다는 문제점이 있다.In the case of the system used for the purification of hot gas, it is necessary to lower the temperature of the hot gas to 70 ° C. or lower in order to maintain the circulation pump performance for circulating the cooling water or the cleaning liquid and to increase the solubility of the harmful substances contained in the gas in the cleaning liquid. have. Conventionally, in order to cool a hot gas before putting a hot gas into a purification | cleaning apparatus, the separate cooling apparatus for cooling a hot gas in the front of a purification apparatus is provided and used. The separate cooling device is expensive to cool the gas to a desired temperature, and there is a problem in that a large size of the facility takes up a lot of space.
본 발명은 고온 가스를 원하는 온도로 냉각하면서 동시에 정화할 수 있는 저렴하고 콤팩트한 고온 가스용 습식 정화 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다. 즉, 본 발명이 이루고자 하는 과제는 습식정화장치 전단에 고온의 가스를 냉각시키는 별도의 열교환기 등의 설치 없이 고온의 유해가스를 냉각하면서 동시에 정화할 수 있는 저렴한 고온 가스용 습식 정화 시스템을 제공하고자 하는 것이다. It is an object of the present invention to provide an inexpensive and compact wet purge system for hot gas that can simultaneously purify hot gas to a desired temperature. That is, an object of the present invention is to provide an inexpensive wet purification system for high temperature gas that can simultaneously purify the harmful gases at high temperature without installing a separate heat exchanger for cooling the high temperature gas in front of the wet purification apparatus. It is.
본 발명에 따른 고온 가스용 습식 정화 시스템은, 오염된 가스가 유입되는 인입덕트, 세정된 가스가 방출되는 출구, 상기 인입덕트로 유입된 가스가 상기 출구방향으로 흐르도록 안내하는 세정케이스 및 습식세정을 위한 세정액을 분사하도록 상기 세정케이스의 내부에 설치되는 세정액 분사노즐을 포함하는 습식정화장치와, 상기 습식정화장치의 세정케이스 내부의 세정액을 회귀시켜서 세정액 분사 노 즐로 공급하기 위한 세정용 순환배관 및 상기 세정용 순환배관에 설치된 세정용 순환펌프와, 가열된 냉각수의 온도를 낮추기 위해 상부에 설치되는 냉각팬과 냉각수를 분사하도록 냉각팬의 하부에 설치되는 냉각 타워용 분사노즐을 포함하는 냉각 타워와, 상기 냉각타워의 내부의 냉각수를 회귀시켜서 냉각타워용 분사노즐로 공급하기 위한 냉각용 순환배관 및 냉각용 순환펌프와, 상기 세정용 순환배관 내부의 세정액을 냉각용 순환배관의 냉각수로 간접 냉각시키기 위한 열교환기를 포함하는 것을 특징으로 한다.The wet purifying system for hot gas according to the present invention includes an inlet duct through which contaminated gas is introduced, an outlet through which clean gas is discharged, and a cleaning case and wet cleaning for guiding the gas introduced into the inlet duct to flow in the outlet direction. A wet purifying apparatus including a cleaning liquid spray nozzle installed inside the cleaning case to spray the cleaning liquid for cleaning, and a circulating piping for supplying the cleaning liquid inside the cleaning case of the wet cleaning apparatus to the cleaning liquid spray nozzle, A cooling tower including a cleaning circulation pump installed in the cleaning circulation pipe, a cooling fan installed at an upper portion to lower the temperature of the heated cooling water, and a cooling tower injection nozzle installed at a lower portion of the cooling fan to inject the cooling water; Cooling for supplying the cooling nozzle to the cooling tower by returning the cooling water inside the cooling tower And a heat exchanger for indirectly cooling the circulating pipe and the cooling circulation pump and the cleaning liquid inside the cleaning circulation pipe with the cooling water of the cooling circulation pipe.
본 발명에 따르면, 습식정화장치에 세정액을 다량 분사하여 유해가스의 온도를 분사된 세정액으로 급격히 낮추어서 유해가스에 포함된 오염물질의 세정액에 대한 용해도를 높인다. 세정액을 연속적으로 회귀시켜서 사용함에 따라서 세정액의 온도가 높아지는 것은, 열교환기와 냉각수를 이용하여 간접 냉각방식으로 효과적으로 냉각시킨다. 따라서, 순환되는 세정액의 온도를 적정 온도로 유지할 수 있게 되어 세정효과를 극대화하고, 세정액 순환펌프를 안정적으로 사용할 수 있게 된다.According to the present invention, by spraying a large amount of the cleaning liquid to the wet purifier, the temperature of the harmful gas is drastically lowered by the injected cleaning liquid to increase the solubility of the cleaning solution of the contaminants contained in the harmful gas. As the cleaning liquid is continuously returned and used, the temperature of the cleaning liquid is effectively cooled by an indirect cooling method using a heat exchanger and cooling water. Therefore, it is possible to maintain the temperature of the circulating cleaning liquid at an appropriate temperature to maximize the cleaning effect, it is possible to stably use the cleaning liquid circulation pump.
본 발명에 의한 고온 가스용 습식 정화 시스템의 경우에는 습식정화시설 전단에 고온의 가스를 냉각시키는 별도의 열교환기 등의 설치 없이 고온의 유해가스를 저렴한 비용으로 가스 냉각 및 가스 정화할 수 있다. 또한 온도를 낮춤으로써 순환펌프의 성능을 유지하고, 가스에 포함된 유해물질의 세정액에 대한 용해도를 높여서 정화 효율을 증대시킬 수 있는 효과가 있다.In the case of the wet purifying system for hot gas according to the present invention, high temperature harmful gas can be cooled and gas-purified at low cost without installing a separate heat exchanger for cooling the hot gas in front of the wet purifying facility. In addition, it is possible to increase the purification efficiency by lowering the temperature to maintain the performance of the circulation pump, increase the solubility of the cleaning liquid of the harmful substances contained in the gas.
이하에서는 첨부의 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.
도 1은 본 발명에 따른 고온 가스용 습식 정화 시스템의 실시예의 개략도이다. 도 1을 참고하면, 고온 가스용 습식 정화 시스템은 습식정화장치(101), 세정용 순환배관(104) 및 순환펌프(103)로 이루어진 가스정화부와, 냉각 타워(201), 냉각용 펌프(204) 및 냉각용 순환배관(205)으로 이루어진 냉각부와, 세정용 순환배관(104)과 냉각용 순환배관(205) 사이에 위치하는 열교환기(207)를 포함한다. 1 is a schematic diagram of an embodiment of a wet purge system for hot gas according to the present invention. Referring to FIG. 1, the wet purifying system for hot gas includes a gas purifying unit including a wet purifying
냉각 타워(201)는 냉각팬(203), 냉각 타워용 엘리미네이터(206), 냉각 타워용 분사노즐(209) 및 냉각 타워용 충진층(208)을 포함한다. The
냉각팬(203)은 냉각 타워(201)의 상부에 위치하며, 연결된 모터에 전원이 공급되면 회전하면서 냉각 타워(201) 내부에 외기를 공급하여 열교환에 의해서 온도가 상승한 냉각수를 냉각한다.The
냉각 타워용 엘리미네이터(206)는 냉각팬(203)의 하부에 위치하며 냉각 타워(201)에서 외부로 배출되는 가스에 포함되는 수분을 제거한다. 외기가 들어와 냉각수와 접촉을 하면서 냉각수 중의 일부가 증발하면서 냉각수의 온도가 낮아지는 것이므로 냉각 타워(201)로 들어온 외기가 다시 나갈 때는 상당량의 수분을 포함하게 된다. 수분이 함유된 상태로 외부에 배출되면 냉각 타워(201) 상부에 백연이 발생할 가능성이 있으므로 냉각 타워용 엘리미네이터(206)에서 수분을 제거하게 된다. 냉각 타워용 엘리미네이터(206)는 WIRE MESH PAD, PACKED BED, ZIGZAG BAFFLE PLATE 등 여러 가지 형식이 이용된다.The
냉각 타워용 분사노즐(209)은 냉각 타워용 엘리미네이터(206)의 하부에 위치하며, 냉각용 순환배관(205)의 끝단에 연결되어 열교환기(207)에서의 열교환으로 온도가 상승한 냉각수를 분사한다.The cooling
냉각 타워용 충진층(208)은 냉각 타워용 분사노즐(209)과 냉각 타워(201)에 채워져 있는 냉각수 표면 사이에 위치한다. 냉각 타워용 충진층(208)은 냉각팬(203)에 의해서 공급되는 외기와 냉각수의 접촉면적 및 시간을 증대시켜서 냉각효율을 높이기 위해 설치된다. 냉각 타워용 충진층(208)은 다양한 기하학적 형태의 충진물과 충진물을 지지하는 충진물 지지대로 이루어져 있다. The packed
열교환기(207)는 복수의 열 교환용 플레이트를 기밀되도록 서로 중첩시켜 복수의 세정용 순환배관(104) 유로와 냉각용 순환배관(205) 유로가 교대로 반복적으로 배열되어 있는 판형 열교환기를 사용하였다. The
이하, 상술한 바와 같이 구성된 본 실시예의 고온 가스용 습식 정화 시스템의 작동방법에 대해 설명한다.Hereinafter, the operation method of the wet purifying system for hot gas of this embodiment comprised as mentioned above is demonstrated.
습식정화장치(101)의 인입덕트(100)로 고온의 유해가스가 인입되면 순환펌프(103)가 작동되면서 세정용 순환배관(104)을 통해서 세정액이 세정용 분사노즐(105)로 공급된다.When a high temperature harmful gas is introduced into the
세정용 분사노즐(105)에서 세정액이 분사되면 유해가스를 흡수하거나, 유해가스와 반응하여 오염물질이 제거된다. When the cleaning liquid is injected from the
냉각 타워(201)의 냉각용 펌프(204)와 냉각팬(203)은 순환펌프(103)와 동시에 작동하고, 냉각 타워(201) 내의 냉각수가 냉각용 순환배관(205)을 따라서 열교 환기(207)로 공급된다.The
열교환기(207)에서는 전도에 의한 열교환이 일어나며, 고온의 유해가스에 의해서 올라간 세정액의 온도가 순환펌프(103)의 적절한 사용 온도인 70℃이하의 온도로 떨어지게 된다.In the
열교환기(207)에서의 열교환에 의해서 온도가 올라간 냉각수는 냉각용 순환배관(205)을 통해서 냉각 타워(201)에 공급되고 냉각 타워(201) 내부의 냉각수 분사노즐을 통해서 분사된다. 분사된 냉각수는 냉각 타워(201) 내부의 냉각 타워용 충진층(208)을 적시게 되며, 냉각팬(203)을 통해서 공급되는 외기와 접촉되어 냉각된다. 냉각 타워(201)로 들어온 외기가 냉각 타워(201)외부로 배출될 때에는 냉각 타워용 엘리미네이터를 통해서 수분이 제거된다. Cooling water whose temperature is increased by heat exchange in the
냉각 타워(201)에서 냉각된 냉각수는 다시 냉각용 순환배관(205)을 거쳐서 열교환기(207)에 공급되어 세정용 순환배관(104)과의 열교환을 통해 세정액의 온도를 적절한 사용 온도인 70℃이하의 온도로 낮추게 된다. 본 실시예에 있어서 세정용 순환펌프(103)는 열교환기(207)의 상류 측에 설치되어 있으나, 열교환기(207)와 세정액 분사 노즐(105) 사이의 세정용 순환배관(104)에 설치하는 것이 고온으로부터 세정용 순환펌프를 보호함에 있어서 바람직하다.The cooling water cooled in the
이러한 과정을 반복하게 되면 고온의 유해가스에 의해 가열된 세정액은 열교환기(207)를 통해서 냉각되어 순환펌프(103)의 적절한 사용 온도인 70℃이하의 온도가 유지된다. 따라서 순환펌프의 성능이 유지될 수 있으며, 유해가스의 세정액에 대한 용해도는 세정액의 온도가 낮을수록 높아지므로 습식정화장치(101)에서 가스 정화 효율도 올라가게 된다.When this process is repeated, the cleaning liquid heated by the high temperature harmful gas is cooled through the
도 2 내지 4는 본 발명에 따른 고온 가스용 습식 정화 시스템의 다른 실시예들의 개략도이다. 동일한 기능을 하는 부재에 대해서는 형태가 다르더라도 동일한 부재번호를 부여하였다. 2-4 are schematic diagrams of other embodiments of a wet purge system for hot gas according to the present invention. Members having the same function are assigned the same member numbers even if they differ in form.
<제2 실시예>Second Embodiment
도 2를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 고온 가스용 습식 정화 시스템은 유해가스가 수평방향으로 흐르도록 습식정화장치(101)가 배치되어 있는 것을 제외하고는 제1 실시예와 동일하다. 2, the wet purifying system for hot gas according to the second embodiment of the present invention is the same as the first embodiment except that the
<제3 실시예>Third Embodiment
도 3를 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 고온 가스용 습식 정화 시스템은 세정용 분사노즐 사이와 세정용 분사노즐과 세정액저장탱크 사이에 충진층(107)이 설치되어 있는 것을 제외하고는 제1 실시예와 동일하다. 충진층(107)은 다양한 기하학적 형태를 지닌 충진물과 충진물 지지대로 구성되며 세정액과 가스의 접촉면적을 높이고, 압력손실이 낮추는 효과가 있다.Referring to FIG. 3, the wet purifying system for hot gas according to the third exemplary embodiment of the present invention is provided that the
<제4 실시예>Fourth Example
도 4를 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 고온 가스용 습식 정화 시스템은 습식정화장치(101)가 수직으로 설치되어 있는 두 개의 세정케이스와 수평으로 설치되어 있는 두 개의 세정케이스로 이루어져 있으며, 수직으로 설치되어 있는 세정케이스의 내부에는 와류를 형성할 수 있는 믹싱 부재(108)가 설치되어 있는 것을 제외하고는 제1 실시예와 동일하다.Referring to FIG. 4, the wet purification system for hot gas according to the third embodiment of the present invention includes two cleaning cases in which the
제2 내지 제4 실시예에서 알 수 있듯이 다양한 형태의 습식정화장치(101)를 구비한 습식 가스 정화 시스템에 냉각용 펌프(204) 및 냉각용 순환배관(205)으로 이루어진 냉각부와 세정용 순환배관(104)과 냉각용 순환배관(205) 사이에 위치하는 열교환기(207)를 설치하여 고온 가스용 습식 정화 시스템을 제조할 수 있다. As can be seen in the second to fourth embodiments, the cooling unit and the cleaning circulation comprising a
이상, 바람직한 실시예를 들어 본 발명에 따른 고온 가스용 습식 정화 시스템를 설명하였으나, 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.As described above, the wet purifying system for hot gas according to the present invention has been described with reference to preferred embodiments, but the protection scope of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and the person skilled in the art of the present invention It is possible to improve and change the technical idea of the invention in various forms. Therefore, such improvements and modifications will fall within the protection scope of the present invention, as will be apparent to those skilled in the art.
도 1은 본 발명에 따른 고온 가스용 습식 정화 시스템의 실시예의 개략도이다.1 is a schematic diagram of an embodiment of a wet purge system for hot gas according to the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 고온 가스용 습식 정화 시스템의 다른 실시예의 개략도이다.2 is a schematic diagram of another embodiment of a wet purge system for hot gas according to the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 고온 가스용 습식 정화 시스템의 또 다른 실시예의 개략도이다.3 is a schematic diagram of another embodiment of a wet purge system for hot gas according to the present invention.
도 4는 본 발명에 따른 고온 가스용 습식 정화 시스템의 또 다른 실시예의 개략도이다.4 is a schematic diagram of another embodiment of a wet purge system for hot gas according to the present invention.
<도면 부호의 간단한 설명><Short description of drawing symbols>
100....인입덕트 101....습식정화장치100 ....
102....출구 103....순환펌프102 .... Exit 103 .... Circulation pump
104....세정용 순환배관 105....세정용 분사노즐104..
106....엘리미네이터 107....충진층106 .... eliminator 107 .... filled floor
108....믹싱 부재 201....냉각 타워108..Mixing
203....냉각팬 204....냉각용 펌프203 .... cooling
205....냉각용 순환배관 206....냉각 타워용 엘리미네이터 205 .... cooling
207....열교환기 208....냉각 타워용 충진층207 ....
209....냉각 타워용 분사노즐209 .... jet nozzle for cooling tower
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