KR20090126066A - Apparatus for illuminating for inspection of printed circuit board and apparatus for inspecting the same - Google Patents

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KR20090126066A KR1020080052226A KR20080052226A KR20090126066A KR 20090126066 A KR20090126066 A KR 20090126066A KR 1020080052226 A KR1020080052226 A KR 1020080052226A KR 20080052226 A KR20080052226 A KR 20080052226A KR 20090126066 A KR20090126066 A KR 20090126066A
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Abstract

PURPOSE: An apparatus for illuminating for inspection of a printed circuit board and an apparatus for inspecting the same are provided to increase test speed by detecting a defect and a foreign material by taking a picture of a target one time. CONSTITUTION: In an apparatus for illuminating for inspection of a printed circuit board and an apparatus for inspecting the same, a first lighting part(30) radiates a light within 0~45 degrees around a first axis on the surface of a device under test. The first lighting part radiates a light within 45~90 degrees around a first axis on the surface of a device under test. A first reflecting mirror(32) reflects the light on the surface of the device under test by a first angle. A second reflecting mirror(42) reflects the light on the surface of the device under test by a second angle.

Description

회로기판 검사용 조명 장치 및 이를 구비한 회로기판 검사 장치{Apparatus for illuminating for inspection of printed circuit board and apparatus for inspecting the same}Apparatus for illuminating for inspection of printed circuit board and apparatus for inspecting the same}

본 발명은 조명 장치 및 이를 구비한 회로기판 검사 장치에 관한 것으로서, 더 상세하게는 검사 대상 물질 표면의 불량 여부를 검사할 때 각종 인쇄회로기판의 패턴 검사와 이물질 검사를 한번에 수행하기에 적합한 광을 조사하는 조명 장치 및 이를 구비한 회로기판 검사 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a lighting device and a circuit board inspection device having the same, and more particularly, to check light on a surface of a material to be inspected for defects. The present invention relates to a lighting device to be irradiated and a circuit board inspection device having the same.

인쇄회로기판(PCB)은 전자부품을 전기적으로 연결하고 전원 등을 공급하는 배선의 역할과 전자부품을 기계적으로 고정시켜주는 역할을 하는 전자부품이다. COF(chip on film), TAB(tape automatic bonding), BOC(board on chip) 등도 PCB의 일종이다. 이와 같은 COF, TAB, BOC, 또는 디스플레이 등의 각종 연성(flexible) 또는 강성(rigid) 회로기판 분야의 PCB 패턴의 검사는 대단히 중요하다. 왜냐하면 전자정보기기들이 소형화됨에 따라 기기의 내부에 있는 강성 또는 연성 PCB에 미세하고 복잡한 회로패턴이 많이 형성되는데, 불량 패턴이 존재하면 기기가 오작동을 일으키기 되기 때문이다.A printed circuit board (PCB) is an electronic component that serves to electrically connect electronic components, supply power, and the like, and mechanically fix the electronic components. Chip on film (COF), tape automatic bonding (TAB), and board on chip (BOC) are also types of PCBs. The inspection of PCB patterns in various flexible or rigid circuit board fields such as COF, TAB, BOC, or displays is very important. Because of the miniaturization of electronic information devices, a lot of fine and complex circuit patterns are formed on the rigid or flexible PCB inside the device, because a defective pattern causes the device to malfunction.

따라서 PCB에 회로패턴을 형성한 이후에는 PCB 패턴의 표면 상태의 불량 여부를 판정하기 위하여 PCB 패턴 검사가 수행한다. 최근에는 머신 비전 기술을 이용하여 PCB 패턴의 표면 상태를 카메라로 촬영하고 촬영된 이미지를 처리 및 분석하여 패텅의 불량 여부를 판단한다. Therefore, after the circuit pattern is formed on the PCB, the PCB pattern inspection is performed to determine whether the surface state of the PCB pattern is defective. In recent years, machine vision technology is used to photograph the surface state of a PCB pattern with a camera, and process and analyze the captured image to determine whether a patch is defective.

PCB 패턴의 불량은 패턴의 끊김(open), 단락(short), 일부 파임(mouse bit, pit), 돌출 등의 불량일 수 있다. PCB 패턴 검사는 이러한 불량을 양품으로 오인하는 미검(under kill)이 발생하지 않도록 수행되어야 한다. 또한, 실제 PCB 패턴의 불량은 아니지만, 이물질로 인하여 양품을 불량으로 오인하는 경우가 있다. 그러므로 PCB 패턴 검사는 양품을 불량품으로 오인하는 과검(over kill)이 발생하지 않도록 수행되어야 한다. 또한 최대한 빠른 시간안에 PCB 패턴의 검사가 이루어져야 한다.The defect of the PCB pattern may be a defect of the pattern (open), short (short), some bit (pit), protrusion, etc. of the pattern. PCB pattern checks should be performed to avoid under kills that mislead these defects as good. In addition, the actual PCB pattern is not defective, due to foreign matters may be mistaken for good products. Therefore, PCB pattern inspection should be performed to avoid over killing of a good product as a defective product. In addition, PCB patterns should be inspected as soon as possible.

이를 위해서는 검사를 위한 조명 장치의 역할이 중요하다. 종래에는 대부분의 검사 장치에서 첫번째 구성의 조명하에서 촬영한 이미지와 두번째 구성의 조명하에서 촬영한 이미지를 처리하였으므로 검사 시간이 오래 걸리고 검사 장치가 복잡해지는 문제점이 있었다. For this purpose, the role of the lighting device for inspection is important. In the past, most inspection apparatuses processed images photographed under the illumination of the first configuration and images photographed under the illumination of the second configuration, so that the inspection time was long and the inspection apparatus became complicated.

본 발명은 PCB 패턴의 검사에 소요되는 시간을 줄이고, 과검과 미검을 방지하여 정확한 PCB 패턴 검사를 수행하기 위하여, 검사 대상면에 나타난 회로 패턴 영역, 불량 영역, 이물질 영역, 및 스페이스 영역들이 구별 가능하게 고유한 밝기 영역을 갖도록 하는 회로기판 검사용 조명 장치 및 이를 구비하는 회로기판 검사 장치를 제공하고자 한다.The present invention can distinguish circuit pattern areas, defective areas, foreign material areas, and space areas shown on the inspection target surface in order to reduce the time required for inspection of the PCB pattern, and to perform accurate PCB pattern inspection by preventing overcheck and unchecked. To provide a circuit board inspection lighting device having a unique brightness range and a circuit board inspection device having the same.

상기한 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 검사 대상의 이미지를 촬영하는 촬영 수단측에 배치되며, 상기 촬영수단에 입사되는 피사체 광의 축인 제1 축을 기준으로 0°보다 크고 45°보다 작은 제1 각도로 상기 검사 대상의 표면에 조사되는 광을 방사하도록 구성된 제1 조명 수단; 및 상기 검사 대상을 기준으로 상기 촬영 수단측에 배치되며, 상기 제1 축을 기준으로 45°보다 크고 90°보다 작은 제2 각도로 상기 검사 대상의 표면에 조사되는 광을 방사하도록 구성된 제2 조명 수단;을 포함하는 회로기판 검사용 조명 장치를 개시한다.In order to solve the above problems, the present invention is disposed on the photographing means side for taking an image of the inspection object, the first angle greater than 0 ° and less than 45 ° with respect to the first axis which is the axis of the subject light incident on the imaging means First illumination means configured to emit light irradiated onto the surface of the inspection object; And second illumination means disposed on the photographing means side with respect to the inspection object and configured to emit light irradiated onto the surface of the inspection object at a second angle greater than 45 ° and less than 90 ° with respect to the first axis. Disclosed is a lighting device for inspecting a circuit board including;

제1 조명 수단과 제2 조명 수단을 모두 전방 조명으로 구성함으로써 전체 조명 장치가 차지하는 공간의 크기를 최소화할 수 있고, 그럼으로써 검사 대상과 조명 장치 사이의 작업 공간을 증가시켜서 작업성을 개선할 수 있다. By configuring both the first lighting means and the second lighting means as front lights, it is possible to minimize the size of the space occupied by the entire lighting device, thereby improving workability by increasing the working space between the inspection object and the lighting device. have.

또한, 제1 조명 수단에 의해 밝은 필드 전방 조명을 제공함과 동시에 제2 조명 수단에 의해 어두운 필드 전방 조명을 제공함으로써, 회로 패턴 영역(P)의 밝 기, 불량 영역의 밝기, 이물질 영역(D)의 밝기, 및 스페이스 영역(S)의 밝기 등이 각각 고유한 밝기로 구분되므로 검사 장치에 사용되는 검사 알고리즘의 난이도를 낮출 수 있는 장점도 있다.Further, by providing the bright field front lighting by the first lighting means and the dark field front lighting by the second lighting means, the brightness of the circuit pattern region P, the brightness of the defective region, and the foreign matter region D are provided. Since the brightness of the, and the brightness of the space area (S) and the like are each distinguished by a unique brightness, there is an advantage that can reduce the difficulty of the inspection algorithm used in the inspection apparatus.

상기 제1 조명 수단은 제1 광원 및 상기 제1 광원에서 나온 광이 상기 제1 축을 기준으로 상기 제1 각도로 검사 대상의 표면에 조사되도록 상기 광을 반사하는 제1 반사 미러를 포함하며, 상기 제2 조명 수단은 제2 광원 및 상기 제2 광원에서 나온 광이 상기 제1 축을 기준으로 상기 제2 각도로 검사 대상의 표면에 조사되도록 상기 광을 반사하는 제2 반사 미러를 포함할 수 있다. The first lighting means includes a first reflecting mirror reflecting the light such that the light emitted from the first light source and the first light source is irradiated onto the surface of the inspection object at the first angle with respect to the first axis. The second lighting means may include a second reflecting mirror reflecting the light so that the light emitted from the second light source and the second light source is irradiated onto the surface of the inspection object at the second angle with respect to the first axis.

상기 제1 조명 수단은 두 개의 상기 제1 광원과 두 개의 상기 제1 반사 미러를 구비하고, 제1 광원과 제1 반사 미러의 어느 한 쌍과 다른 쌍은 상기 제1 축을 기준으로 서로 대칭적으로 배치되며, 상기 제2 조명 수단은 두 개의 상기 제2 광원과 두 개의 상기 제2 반사 미러를 구비하고, 제2 광원과 제2 반사 미러의 어느 한 쌍과 다른 쌍은 상기 제1 축을 기준으로 서로 대칭적으로 배치된다.The first lighting means comprises two said first light sources and two said first reflecting mirrors, wherein one pair and the other pair of the first light source and the first reflecting mirror are symmetrically with respect to said first axis. And the second lighting means comprises two said second light sources and two said second reflecting mirrors, wherein one pair and the other of said second light source and said second reflecting mirror are mutually relative to said first axis. It is arranged symmetrically.

상기 제1 각도는 1°내지 5°사이의 각도이며, 상기 제2 각도는 50°내지 80°사이의 각도일 수 있다.The first angle may be an angle between 1 ° and 5 °, and the second angle may be an angle between 50 ° and 80 °.

상기 제1 및 제2 조명 수단에서 나온 광량이 상기 촬영 수단의 렌즈 초점 거리에서 최대가 되도록, 상기 제1 및 제2 조명 수단의 배치가 조절될 수 있다.The arrangement of the first and second illumination means may be adjusted such that the amount of light from the first and second illumination means is maximum at the lens focal length of the imaging means.

상기 검사 대상은 COF(chip on film)일 수 있다.The test object may be a chip on film (COF).

또한, 본 발명의 다른 측면에 의하면, 본 발명은 상기한 회로기판 검사용 조명 장치; 및 상기 조명 장치를 기준으로 검사 대상의 반대측에 배치되며, 상기 조 명 장치에서 나와 검사 대상의 표면에 조사된 피사체의 이미지를 나타내는 광이 입사되는 촬영 수단;을 포함하는 회로기판 검사 장치를 개시한다.In addition, according to another aspect of the present invention, the present invention is a circuit board inspection lighting device; And photographing means disposed on an opposite side of the object to be inspected based on the lighting device and having light incident on the surface of the object to be emitted from the illumination device and indicating an image of the subject irradiated to the surface of the object to be inspected. .

본 발명의 일 실시예에 따른 회로기판 검사용 조명 장치는 검사 대상면에 나타난 회로 패턴 영역, 불량 영역, 이물질 영역, 및 스페이스 영역들이 구별 가능하게 고유한 밝기 영역을 갖도록 광을 조사할 수 있다. In the lighting apparatus for inspecting a circuit board according to an embodiment of the present invention, the circuit pattern region, the defective region, the foreign substance region, and the space region shown on the inspection target surface may be irradiated with light so as to have a unique brightness region.

따라서 1회의 이미지 촬영으로 회로 패턴의 불량 및 이물질의 존재 여부를 검출할 수 있고, 그럼으로써 검사 속도를 증가시킬 수 있다. 또한, 과검과 미검을 방지하여 정확한 PCB 패턴 검사를 수행할 수 있다. 뿐만 아니라, 조명 장치의 부피를 최소화하여 조명 장치와 검사 대상 사이의 작업 공간을 증대시킬 수 있다. Therefore, it is possible to detect defects in the circuit pattern and the presence of foreign matters by one imaging, thereby increasing the inspection speed. In addition, it is possible to perform accurate PCB pattern inspection by preventing overcheck and unchecked. In addition, the volume of the lighting device can be minimized to increase the working space between the lighting device and the inspection object.

이하에서는 첨부된 도면들을 참고하여 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명한다. 도 1은 검사 대상의 일부를 보여주는 사시도이다. 검사 대상은 불량 검사가 필요한 제품으로써 COF와 같은 연성회로기판(FPCB)을 포함한 인쇄회로기판(PCB)일 수 있다. COF는 PET 층(에 PI(polyimide) 층이 적층된 형태이며, 일측 회로 패턴(4b)에는 끊김(open)(6) 불량이 존재하며, 다른 측 회로 패턴(4a)위에는 먼지와 같은 이물질(5)이 존재한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail an embodiment of the present invention. 1 is a perspective view showing a part of an inspection object. The object to be inspected may be a printed circuit board (PCB) including a flexible circuit board (FPCB) such as a COF as a product requiring a defect inspection. COF is a form in which a layer of PI (polyimide) is laminated on a PET layer, and there is a defect of open (6) in one circuit pattern (4b), and foreign matter (5) such as dust on the other circuit pattern (4a). ) Exists.

도 2a는 카메라(10)에 입사되는 피사체광의 축(이하에서는 '카메라 광축이라고 함)과 동축의 전방면에서 광이 조사되도록 구성된 조명(이하에서는 동축(coaxial) 조명이라고 함) 장치를 보여주며, 도 2b는 동축 조명하에서 보이는 도 1의 PCB 패턴의 표면 이미지이다. 도 2a를 참조하면, 카메라 광축 상에 하프 미러(half mirror)(13)가 배치된다. 광원(15)에서 방사된 광선은 하프 미러(13)를 통하여 반사된 뒤, 카메라 광축(L)을 따라 검사 대상(1)의 표면에 조사된다. 즉, 동축 조명하에서 검사 대상은 카메라 광축(L)과 동일선상에서 조명을 받는다. 한편, 피사체인 검사 대상(1)의 이미지를 나타내는 광(이하에서는 피사체 광이라고 함)은 하프 미러를 통과하여 그대로 카메라의 렌즈(11)에 입사된다. FIG. 2A shows an apparatus (hereinafter, referred to as coaxial illumination) configured to irradiate light from an axis of the subject light incident on the camera 10 (hereinafter referred to as a camera optical axis) and a front surface of the coaxial, 2B is a surface image of the PCB pattern of FIG. 1 seen under coaxial illumination. Referring to FIG. 2A, a half mirror 13 is disposed on the camera optical axis. The light rays emitted from the light source 15 are reflected through the half mirror 13 and then irradiated onto the surface of the inspection object 1 along the camera optical axis L. That is, under coaxial illumination, the inspection object is illuminated on the same line as the camera optical axis L. FIG. On the other hand, the light (hereinafter referred to as the subject light) representing the image of the inspection subject 1 as the subject passes through the half mirror and is incident on the lens 11 of the camera as it is.

이와 같이 동축 조명을 사용하면 도 1의 검사 대상의 표면이 도 2b와 같이 보여진다. 동축 조명을 사용하면 회로 패턴 영역(P)과 이물질 영역(D)은 밝게 보이고 스페이스 영역(S)은 어둡게 보인다. 회로 패턴 영역(P)의 끊긴 부분(O)은 스페이스 영역(S)과 비슷한 밝기로 보이기 때문에 패턴의 끊김 현상을 검출하는 것이 용이하지만, 이물질 영역(D)은 회로 패턴 영역(P)과 비슷한 밝기로 보이기 때문에 회로 패턴(3)상의 이물질(5)을 검출하는 것이 용이하지 않다. 즉, 회로 패턴(3)상의 이물질(5)에 대해서는 미검(under kill)이 발생할 수 있다. 또한, 이물질(5)이 회로 패턴(3)을 벗어나 걸쳐진 경우에는 회로 패턴(3)의 일부가 돌출된 것처럼 보이는 과검(over kill)이 발생할 수 있다. 또한, 이러한 조명 장치의 경우, 하프 미러(13)의 성능, 예를 들면 하프 미러(13)의 품질과 두께에 따라 조명의 밝기 및 초점의 정확도가 낮아진다. 뿐만 아니라 검사 대상(1)의 표면 상태에 따라 반사가 심한 경우에는 적용하기가 어렵다.When the coaxial illumination is used in this way, the surface of the inspection object of FIG. 1 is viewed as shown in FIG. 2B. When the coaxial illumination is used, the circuit pattern region P and the foreign substance region D are bright and the space region S is dark. Since the broken portion O of the circuit pattern region P is shown to have a brightness similar to that of the space region S, it is easy to detect a breakage of the pattern, but the foreign material region D has a brightness similar to that of the circuit pattern region P. It is not easy to detect the foreign matter 5 on the circuit pattern 3 because it appears. That is, under kill may occur with respect to the foreign matter 5 on the circuit pattern 3. In addition, when the foreign matter 5 extends beyond the circuit pattern 3, overkill may occur in which a part of the circuit pattern 3 appears to protrude. In addition, in the case of such an illumination device, the brightness of the illumination and the accuracy of focus are lowered according to the performance of the half mirror 13, for example, the quality and thickness of the half mirror 13. In addition, it is difficult to apply when the reflection is severe depending on the surface state of the inspection object (1).

도 3a는 카메라 광축과 소정의 각도를 이루는 측부 전방면에서 광이 조사되도록 구성된 조명(이하에서는 반사 조명이라고 함) 장치를 보여주며, 도 3b는 반사 조명 장치하에서 보이는 도 1의 PCB 패턴의 표면 이미지이다. 도 3a를 참조하면, 카메라 광축(L)을 기준으로 양 측부에 광원(15)이 각각 배치된다. 광원(15)에서 방사된 광선은 검사 대상(1)의 표면에 비스듬히 조사된다. 이러한 반사 조명하에서는, 검사 대상(1)의 표면 반사가 동축 조명에서의 검사 대상(1)의 표면 반사에 비하여 적다. 검사 대상(1)의 표면에 조사되어 나온 피사체 광은 카메라(10)의 렌즈(11)에 입사된다. FIG. 3A shows an illumination device (hereinafter referred to as reflective illumination) configured to irradiate light from the side front face at an angle with the camera optical axis, and FIG. 3B is a surface image of the PCB pattern of FIG. 1 seen under a reflective illumination device. to be. Referring to FIG. 3A, light sources 15 are disposed at both sides of the camera optical axis L, respectively. Light rays emitted from the light source 15 are irradiated obliquely on the surface of the inspection object 1. Under such reflected illumination, the surface reflection of the inspection object 1 is less than the surface reflection of the inspection object 1 in coaxial illumination. The subject light irradiated onto the surface of the inspection object 1 is incident on the lens 11 of the camera 10.

이와 같이 반사 조명을 사용하면 도 1의 검사 대상의 표면이 도 3b와 같이 보여진다. 반사 조명하에서, 회로 패턴 영역(P)은 밝게 보이고 스페이스 영역(S)과 이물질 영역(D)은 어둡게 보인다. 회로 패턴 영역(P)의 끊긴 부분(O)은 스페이스 영역(S)과 비슷한 밝기로 보이기 때문에 회로 패턴 영역(P)의 끊김 현상을 검출하는 것이 용이하지만, 이물질 영역(D) 역시 스페이스 영역(S)과 비슷한 밝기로 보이기 때문에 패턴의 끊김 불량으로 오인할 경우가 많다. 즉, 회로 패턴(3)상의 이물질(5)에 대해서는 과검이 발생할 수 있다. When the reflected light is used in this way, the surface of the inspection object of FIG. 1 is viewed as shown in FIG. 3B. Under the reflected illumination, the circuit pattern region P looks bright and the space region S and the foreign matter region D look dark. Since the broken portion O of the circuit pattern region P is shown to have a brightness similar to that of the space region S, it is easy to detect the breakage of the circuit pattern region P, but the foreign matter region D is also the space region S. Because it looks similar to), it is often mistaken for a broken pattern. That is, overchecking may occur with respect to the foreign matter 5 on the circuit pattern 3.

도 4a는 PCB 패턴의 후방면에서 광이 조사되도록 구성된 조명(이하에서는 투과 조명이라고 함) 장치를 보여주며, 도 4b는 투과 조명하에서 보이는 도 1의 PCB 패턴의 표면 이미지를 보여준다. 도 4a를 참조하면, 검사 대상(1)의 표면을 기준으로 카메라(10)가 배치된 측과 반대되는 측에 광원(15)들이 배치된다. 광원(15)들은 동축 뿐만 아니라 양 측부에도 배치되어, 광선은 카메라(10)의 반대편 동축 및 측부에서 검사 대상(1)의 반대면에 조사된다. 이러한 투과 조명하에서는, 조명이 검사 대상의 한 지점에 집중되므로 광량이 높아진다. 검사 대상(1)의 반대면에 조사된 후 검사 대상(1)을 투과되어 나온 피사체 광은 카메라(10)에 입사된다. FIG. 4A shows an illumination device (hereinafter referred to as transmission illumination) configured to irradiate light from the back side of the PCB pattern, and FIG. 4B shows a surface image of the PCB pattern of FIG. 1 seen under transmission illumination. Referring to FIG. 4A, the light sources 15 are disposed on the side opposite to the side where the camera 10 is disposed on the surface of the inspection object 1. The light sources 15 are arranged on both sides as well as coaxial, so that light rays are irradiated on opposite sides of the inspection object 1 at opposite coaxial and sides of the camera 10. Under such transmission illumination, since the illumination is concentrated at one point of the inspection object, the amount of light is increased. Subject light emitted through the object 1 after being irradiated to the opposite surface of the object 1 is incident on the camera 10.

이와 같이 투과 조명을 사용하면 도 1의 검사 대상의 표면이 도 4b와 같이 보여진다. 투과 조명하에서, 회로 패턴 영역(P)과 이물질 영역(D)은 어둡게 보이고 스페이스 영역(S)은 상대적으로 밝게 보인다. 회로 패턴 영역(P)의 끊긴 부분(O)은 스페이스 영역(S)과 비슷한 밝기로 보이기 때문에 회로 패턴(3)의 끊김 현상을 검출하는 것이 용이하지만, 이물질 영역(D)이 회로 패턴 영역(P)과 비슷한 밝기로 보이기 때문에 이물질(5)을 검출하기가 어렵다. 즉, 패턴상의 이물질(5)에 대해서는 미검이 발생할 수 있다. 또한, 이물질(5)이 회로 패턴(3)을 벗어나 걸쳐진 경우에는 회로 패턴(3)의 일부가 돌출된 것처럼 보이는 과검이 발생할 수 있다.In this way, when the illumination is used, the surface of the inspection object of FIG. 1 is seen as shown in FIG. 4B. Under the transmission illumination, the circuit pattern region P and the foreign substance region D appear dark and the space region S looks relatively bright. Since the broken portion O of the circuit pattern region P is shown to have a brightness similar to that of the space region S, it is easy to detect the breakage of the circuit pattern 3, but the foreign matter region D is the circuit pattern region P. It is difficult to detect the foreign matter (5) because it looks similar to the brightness. That is, the unchecked can occur with respect to the foreign matter 5 in the pattern. In addition, when the foreign matter 5 extends beyond the circuit pattern 3, overexamination may occur where a part of the circuit pattern 3 appears to protrude.

도 5a는 일 예에 따른 전방 조명(이하에서는 밝은 필드 전방 조명이라고 함)하에서의 광선의 흐름을 보여주며, 도 5b는 도 5a의 밝은 필드 전방 조명하에서 보이는 도 1의 PCB 패턴의 표면 이미지를 보여준다. 카메라(10)가 배치되는 측과 동일한 전방에서 광선이 조사되며, 도 2a에서의 동축 조명과 동일 또는 비슷한 각도로 광선이 조사되므로 도 5b에서와 같이 밝은 필드(bright field)의 이미지가 얻어진다. 따라서, 카메라(10)쪽으로 돌출된 부분인 회로 패턴 영역(P)과 이물질 영역(D)의 밝기가 밝음을 알 수 있다. 밝은 필드 전방 조명하에서는 이물질 영역(D)과 회로 패턴 영역(P)이 비슷한 밝기를 가지기 때문에 이물질(5)을 검출하기는 어려운 반면, 회로 패턴(3)의 끊김(O) 현상을 쉽게 검출할 수 있다.FIG. 5A shows the flow of light under front illumination (hereinafter referred to as bright field front illumination) according to an example, and FIG. 5B shows the surface image of the PCB pattern of FIG. 1 seen under bright field front illumination of FIG. 5A. The light is irradiated from the same front as the side where the camera 10 is disposed, and the light is irradiated at the same or similar angle as the coaxial illumination in FIG. 2A, so that a bright field image is obtained as in FIG. 5B. Accordingly, it can be seen that the brightness of the circuit pattern region P and the foreign substance region D, which are portions protruding toward the camera 10, is bright. Under the bright field front illumination, since the foreign matter area D and the circuit pattern area P have similar brightness, it is difficult to detect the foreign matter 5, but the breakage of the circuit pattern 3 can be easily detected. have.

도 6a는 다른 예에 따른 전방 조명(이하에서는 어두운 필드 전방 조명이라고 함)하에서의 광선의 흐름을 보여주며, 도 6b는 도 6a의 어두운 필드 전방 조명하에 서 보이는 도 1의 PCB의 표면 이미지를 보여준다. 카메라 광축에 대하여 도 3a에서의 반사 조명보다 비슷한 더 큰 각도(카메라 광축을 기준으로 45°보다 큰 각도)로 광선이 조사되므로 밝은 필드의 이미지가 아닌 어두운 필드(dark field)의 이미지가 얻어진다. 즉, 회로 패턴 영역(P)과 스페이스 영역(S)은 전체적으로 어두우며, 이물질 영역(D)만이 밝기가 밝다. 따라서 어두운 필드 전방 조명은 이물질(5) 자체만을 검사하는 경우에는 유용하지만, 회로 패턴(3)과 같은 중요한 다른 부분을 검사하기에는 부적합하다.FIG. 6A shows the flow of light under front illumination (hereinafter referred to as dark field front illumination) according to another example, and FIG. 6B shows the surface image of the PCB of FIG. 1 seen under dark field front illumination of FIG. 6A. The light is irradiated at a larger angle (an angle greater than 45 ° relative to the camera's optical axis) with respect to the camera optical axis, similar to the reflected illumination in FIG. 3A, resulting in a dark field image rather than a bright field image. That is, the circuit pattern region P and the space region S are dark overall, and only the foreign matter region D is bright. Thus, dark field front illumination is useful for inspecting only the foreign material 5 itself, but not for inspecting other important parts such as the circuit pattern 3.

상기한 각 조명 장치의 장단점을 분석하여 본 발명은 검사 대상(1)에 나타난 회로 패턴 영역(P), 이물질 영역(D), 및 스페이스 영역(S)들이 구별 가능하게 고유한 밝기 영역을 갖도록 하는 밝은 필드 전방 조명과 어두운 필드 전방 조명의 최적의 조합인 조명 장치를 제공한다. 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 조명 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.By analyzing the advantages and disadvantages of the above-described lighting devices, the present invention provides a circuit pattern region P, a foreign substance region D, and a space region S shown in the inspection object 1 to have a distinctive brightness region. It provides a lighting device that is an optimal combination of bright field front lighting and dark field front lighting. 7 is a view schematically showing a lighting device according to an embodiment of the present invention.

도 7을 참고하면, 본 발명의 실시예에 따른 조명 장치(20)는 제1 조명 수단(30)과 제2 조명 수단(40)을 구비한다. 제1 조명 수단(30)은 카메라와 같은 촬영 수단(10)의 광축(L)을 기준으로 서로 대칭되게 배치되며, 촬영 수단(10)이 있는 측, 즉 전방에 배치된다. 각 측의 제1 조명 수단(30)은 제1 광원(31)과 제1 반사 미러(32)를 구비한다. 제1 조명 수단(30)의 제1 반사 미러(32)는 제1 광원(31)으로 부터 나온 광선이 촬영 수단의 광축(L)에 대하여 45°보다 작은 제1 각도(θ1)로 검사 대상(1)의 표면에 조사되도록 위치되고 방향지어진다. Referring to FIG. 7, the lighting device 20 according to the embodiment of the present invention includes a first lighting means 30 and a second lighting means 40. The first lighting means 30 is disposed symmetrically with respect to the optical axis L of the photographing means 10 such as a camera, and is disposed on the side, that is, in front of the photographing means 10. The first lighting means 30 on each side includes a first light source 31 and a first reflection mirror 32. The first reflecting mirror 32 of the first lighting means 30 has the inspection object (a light beam emitted from the first light source 31 at a first angle θ1 smaller than 45 ° with respect to the optical axis L of the imaging means). It is positioned and oriented to irradiate the surface of 1).

여기서, 촬영 수단의 렌즈의 광축의 중심과 조사각 이루는 각도인 제1 각도 (θ1)가 45° 보다 작기 때문에 밝은 필드의 이미지를 제공한다. 제1 각도(θ1)는 검사 대상의 특성 등에 따라 달라질 수 있다. 검사 대상이 COF인 경우, 제1 각도(θ1)가 1~10° , 바람직하게는 1~5° 사이의 각도일 수 있다. 그럼으로써 제1 조명 수단(30)에 의한 조명은 상술한 동축 조명과 같이 밝은 필드 전방 조명을 구성한다. 하지만, 하프 미러를 사용하는 동축 조명과 달리, 제1 조명 수단(30)은 반사 미러(32)를 이용하기 때문에 광선의 광량이 감소되지 않고, 조명의 광량이 렌즈의 초점과 일치하는 곳에 집중되도록 할 수 있으므로 동축 조명보다 밝은 이미지를 제공할 수 있다. 따라서, 끊김과 같은 패턴의 불량을 쉽게 검출할 수 있다.Here, since the first angle θ1, which is an angle formed between the center of the optical axis of the lens of the photographing means and the irradiation angle, is smaller than 45 °, a bright field image is provided. The first angle θ1 may vary depending on the characteristics of the inspection target. When the inspection object is COF, the first angle θ1 may be an angle between 1 and 10 degrees, preferably between 1 and 5 degrees. The illumination by the first illumination means 30 thus constitutes bright field front illumination, such as the coaxial illumination described above. However, unlike the coaxial illumination using the half mirror, since the first lighting means 30 uses the reflection mirror 32, the light quantity of the light beam is not reduced, so that the light quantity of the illumination is concentrated where the focal point of the lens coincides with the focal point of the lens. This allows for brighter images than coaxial lighting. Therefore, defects in patterns such as breaks can be easily detected.

한편, 제1 반사미러(32)가 촬영 수단(10)에 입사되는 피사체의 광을 방해하지 않는 범위내에서, 제1 광원(31)에서 나와 제1 반사 미러(32)를 통해 반사된 광선이 촬영 수단의 광축(L)과 거의 비슷해지도록, 제1 반사미러(32)는 위치되고 방향지어진다. On the other hand, within the range in which the first reflection mirror 32 does not interfere with the light of the subject incident on the photographing means 10, the light rays exiting from the first light source 31 and reflected through the first reflection mirror 32 are The first reflecting mirror 32 is positioned and oriented so as to be almost similar to the optical axis L of the imaging means.

제2 조명 수단(40)은 촬영 수단의 광축(L)을 기준으로 서로 대칭되게 배치되며, 촬영 수단(10)이 있는 측, 즉 전방에 배치된다. 각 측의 제2 조명 수단(40)은 제2 광원(41)과 제2 반사 미러(42)를 구비한다. 제2 조명 수단(40)의 제2 반사 미러(42)는 제2 광원(41)으로 부터 나온 광선이 촬영 수단의 광축(L)에 대하여 45°보다 큰 제2 각도(θ2)로 검사 대상(1)의 표면에 조사되도록 위치되고 방향지어진다. The second lighting means 40 is disposed symmetrically with respect to the optical axis L of the photographing means, and is disposed on the side, that is, in front of the photographing means 10. The second lighting means 40 on each side includes a second light source 41 and a second reflection mirror 42. The second reflecting mirror 42 of the second illuminating means 40 is inspected at a second angle θ 2 in which the light rays emitted from the second light source 41 are larger than 45 ° with respect to the optical axis L of the photographing means. It is positioned and oriented to irradiate the surface of (1).

여기서, 촬영 수단의 렌즈의 광축의 중심과 조사각이 이루는 각도인 제2 각 도(θ2)가 45° 보다 크기 때문에 어두운 필드의 이미지를 제공한다. 제2 각도(θ2)는 검사 대상의 특성 등에 따라 달라질 수 있다. 검사 대상이 COF인 경우, 제2 각도(θ2)가 46~85°, 바람직하게는 50~80°사이의 각도일 수 있다. 그럼으로써 제2 조명 수단(40)에 의한 조명은 어두운 필드(dark field) 전방 조명을 구성한다. 이때, 제2 조명 수단(40)의 조명의 광축이 렌즈의 초점과 일치될 수 있도록 하여, 보다 밝은 이물질(불량)의 이미지를 얻을 수 있다. Here, since the second angle θ 2 , which is an angle formed between the center of the optical axis of the lens of the photographing means and the irradiation angle, is larger than 45 °, a dark field image is provided. The second angle θ 2 may vary depending on the characteristics of the inspection object. When the test object is COF, the second angle θ 2 may be an angle between 46 and 85 °, preferably between 50 and 80 °. The illumination by the second illumination means 40 thus constitutes dark field front illumination. At this time, the optical axis of the illumination of the second illumination means 40 can be matched with the focal point of the lens, thereby obtaining a brighter foreign matter (bad) image.

한편, 도 6b에서와 같은 어두운 필드 이미지를 얻도록 제2 광원(42)과 제2 반사 미러(41)가 위치되고 방향지어진다. 그럼으로써 제2 조명 수단(40)에 의한 조명은 상술한 어두운 필드 전방 조명을 구성한다. 따라서 회로 패턴 영역에 비하여 이물질 영역의 밝기를 증가시키고 그럼으로써 회로 패턴상의 이물질을 쉽게 검출할 수 있다.On the other hand, the second light source 42 and the second reflection mirror 41 are positioned and oriented to obtain a dark field image as in FIG. 6B. The illumination by the second illumination means 40 thus constitutes the dark field front illumination described above. Therefore, the brightness of the foreign matter region is increased as compared with the circuit pattern region, and thus foreign matter on the circuit pattern can be easily detected.

도 8은 도 7에 도시된 조명 장치하에서 방사된 광선의 경로를 개략적으로 보여주는 도면이다. 실선으로 표시된 광선은 밝은 필드의 전방 조명으로부터 나온 광선을 의미하며, 점선으로 표시된 광선은 어두운 필드의 전방 조명으로부터 나온 광선을 의미한다. FIG. 8 is a view schematically showing a path of light rays emitted under the lighting apparatus shown in FIG. 7. Light rays indicated by solid lines mean light rays from the front light of the bright field, and light rays indicated by dashed lines mean light rays from the front light of the dark field.

도 9는 도 7에 도시된 본 발명의 조명 장치하에서 보이는 도 1의 PCB의 표면 이미지이다. 도면을 참조하면, 밝은 필드의 전방 조명에서 나온 광선으로 인해 회로 패턴 영역(P)과 이물질 영역(D)이 밝게 표시되고 스페이스 영역(S)은 어둡게 표시되며, 어두운 필드의 전방 조명에서 나온 광선으로 인해 이물질 영역(D)이 더욱 밝게 표시되고 회로 패턴 영역(P)과 스페이스 영역(S)은 어둡게 표시된다. 따라서 종합적으로 보았을 때 스페이스 영역(S)은 어둡게 표시되고, 회로 패턴 영역(P)과 이물질 영역(D)은 밝게 표시되되, 이물질 영역(D)의 밝기가 가장 크다.FIG. 9 is a surface image of the PCB of FIG. 1 seen under the lighting device of the present invention shown in FIG. 7. Referring to the drawing, the circuit pattern area P and the foreign matter area D are brightly displayed and the space area S is dark due to the light rays from the front light of the bright field, and the light rays from the front light of the dark field are shown. As a result, the foreign material area D is displayed brighter, and the circuit pattern area P and the space area S are darker. Therefore, when viewed comprehensively, the space area S is dark, the circuit pattern area P and the foreign material area D are brightly displayed, and the brightness of the foreign material area D is greatest.

검사 대상면에 존재하는 회로 패턴 영역(P), 이물질 영역(D) 및 스페이스 영역(S) 각각에서의 밝기를 알아보기 위해 본 발명의 일 실시예에 따른 조명 장치하에서 이물질이 있는 COF의 표면을 실제 촬영한 사진이 도 10에 도시되어 있다. 또한 도 10에는 촬영된 검사 대상 표면 이미지에서 C 라인을 따라 보았을 때의 회로 패턴 영역(P), 이물질 영역(D) 및 스페이스 영역(S)에서의 밝기 그래프가 도시되어 있다. 각 영역에서의 절대적인 밝기값을 비교하여 보면, 이물질 영역(D)의 밝기값이 회로 패턴 영역(P)의 밝기값보다 2배 정도 크고, 회로 패턴 영역(P)의 밝기값은 스페이스 영역(S)의 밝기값보다 수 배 이상 크다. 본 발명의 실시예에 따른 조명 장치(20)를 이용하여 검사 대상(1)의 표면을 촬영한 1장의 이미지를 분석하기만 하면 회로 패턴의 불량 및 이물질의 존재 여부를 한 번에 검출할 수 있다. 그럼으로써 생산 속도가 빨라지고 조명 장치 및 검사 장치의 제작 비용을 감소시킬 수 있다. 또한, 회로 패턴 영역(P)의 밝기, 불량 영역의 밝기, 이물질 영역(D)의 밝기, 및 스페이스 영역(S)의 밝기 등이 각각 고유한 밝기로 구분되므로 검사 장치에 사용되는 검사 알고리즘의 난이도를 낮출 수 있는 장점도 있다.In order to determine the brightness in each of the circuit pattern region P, the foreign substance region D, and the space region S existing on the surface to be inspected, the surface of the COF having the foreign substance under the lighting apparatus according to the embodiment of the present invention is used. The actual picture taken is shown in FIG. In addition, FIG. 10 illustrates brightness graphs in the circuit pattern region P, the foreign substance region D, and the space region S when viewed along the line C in the photographed test target surface image. Comparing the absolute brightness value in each area, the brightness value of the foreign matter area D is about twice as large as the brightness value of the circuit pattern area P, and the brightness value of the circuit pattern area P is the space area S. ) Is several times greater than the brightness value. By simply analyzing one image of the surface of the inspection object 1 using the lighting device 20 according to the embodiment of the present invention, defects in a circuit pattern and presence of foreign substances can be detected at a time. . This speeds up production and reduces the manufacturing costs of lighting and inspection devices. In addition, since the brightness of the circuit pattern area P, the brightness of the defective area, the brightness of the foreign material area D, and the brightness of the space area S are each divided into unique brightness, the difficulty of the inspection algorithm used in the inspection device. There is also an advantage to lower.

지금까지 설명한 본 발명의 실시예에 따른 조명 장치는 검사 대상이 COF인 경우에 적용될 수 있다. 뿐만 아니라 당업자라면 통상의 창작범위내에서 상기한 제1 조명 수단과 제2 조명 수단에서의 각 광원과 반사 미러의 배치를 변경함으로써 COF를 포함한 연성 인쇄회로기판 뿐만 아니라 강성 인쇄회로기판에도 적용될 수 있다는 것을 이해할 것이다. The lighting apparatus according to the embodiment of the present invention described so far may be applied when the inspection target is COF. In addition, those skilled in the art can be applied not only to flexible printed circuit boards including COF but also to rigid printed circuit boards by changing the arrangement of the respective light sources and the reflecting mirrors in the above-described first and second lighting means within the ordinary creative scope. I will understand that.

본 발명은 회로기판 등의 불량 검사가 필요한 산업에 이용될 수 있다.Industrial Applicability The present invention can be used in industries in which defect inspection of a circuit board or the like is required.

도 1은 검사 대상의 일부를 보여주는 사시도이다.1 is a perspective view showing a part of an inspection object.

도 2a는 카메라 광축과 동축의 전방면에서 광이 조사되도록 구성된 조명 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.FIG. 2A is a schematic view of a lighting device configured to irradiate light from a front surface coaxial with a camera optical axis. FIG.

도 2b는 도 2a에 도시된 조명 장치하에서 보이는 도 1의 PCB의 표면 이미지를 보여주는 도면이다.FIG. 2B shows a surface image of the PCB of FIG. 1 seen under the lighting device shown in FIG. 2A.

도 3a는 카메라 광축과 소정의 각도를 이루는 측부 전방면에서 광이 조사되도록 구성된 조명 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.FIG. 3A is a schematic view of a lighting device configured to irradiate light from a side front surface at an angle with a camera optical axis.

도 3b는 도 3a에 도시된 조명 장치하에서 보이는 도 1의 PCB의 표면 이미지를 보여주는 도면이다.FIG. 3B shows a surface image of the PCB of FIG. 1 seen under the lighting device shown in FIG. 3A.

도 4a는 PCB 패턴의 후방면에서 광이 조사되도록 구성된 조명 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.4A is a view schematically showing a lighting device configured to irradiate light from a rear surface of a PCB pattern.

도 4b는 도 4a에 도시된 조명 장치하에서 보이는 도 1의 PCB의 표면 이미지를 보여주는 도면이다.FIG. 4B shows a surface image of the PCB of FIG. 1 seen under the illumination device shown in FIG. 4A.

도 5a는 일 예에 따른 밝은 필드 전방 조명하에서의 광선의 흐름을 보여주는 도면이다.5A is a view showing a flow of light rays under bright field front illumination according to an example.

도 5b는 도 5a에 도시된 밝은 필드 전방 조명하에서 보이는 도 1의 PCB의 표면 이미지를 보여주는 도면이다.FIG. 5B shows a surface image of the PCB of FIG. 1 seen under bright field front illumination shown in FIG. 5A.

도 6a는 다른 예에 따른 어두운 필드 전방 조명하에서의 광선의 흐름을 보여주는 도면이다.6A is a diagram showing the flow of light under dark field front illumination according to another example.

도 6b는 도 6a에 도시된 어두운 필드 전방 조명하에서 보이는 도 1의 PCB의 표면 이미지를 보여주는 도면이다.FIG. 6B shows a surface image of the PCB of FIG. 1 as seen under the dark field front illumination shown in FIG. 6A.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 조명 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.7 is a view schematically showing a lighting device according to an embodiment of the present invention.

도 8은 도 7에 도시된 조명 장치하에서 방사된 광선의 경로를 개략적으로 보여주는 도면이다.FIG. 8 is a view schematically showing a path of light rays emitted under the lighting apparatus shown in FIG. 7.

도 9는 도 7에 도시된 조명 장치하에서 보여질 수 있는 도 1의 PCB의 표면 이미지를 도시하는 도면이다.FIG. 9 shows a surface image of the PCB of FIG. 1 as seen under the lighting apparatus shown in FIG. 7.

도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 조명 장치하에서 실제 촬영된 COF 및 이물질의 이미지 및 각 영역에서의 밝기값을 보여주는 사진이다.FIG. 10 is a photograph showing images of COF and foreign matter actually photographed under a lighting apparatus according to an embodiment of the present invention, and brightness values in respective regions.

Claims (7)

검사 대상의 이미지를 촬영하는 촬영 수단측에 배치되며, 상기 촬영수단에 입사되는 피사체 광의 축인 제1 축을 기준으로 0°보다 크고 45°보다 작은 제1 각도로 상기 검사 대상의 표면에 조사되는 광을 방사하도록 구성된 제1 조명 수단; 및Disposed on the photographing means side for photographing the image of the examination subject, and irradiating the light irradiated onto the surface of the examination subject at a first angle greater than 0 ° and less than 45 ° with respect to the first axis, which is the axis of the subject light incident on the photographing means; First lighting means configured to emit; And 상기 검사 대상을 기준으로 상기 촬영 수단측에 배치되며, 상기 제1 축을 기준으로 45°보다 크고 90°보다 작은 제2 각도로 상기 검사 대상의 표면에 조사되는 광을 방사하도록 구성된 제2 조명 수단;을 포함하는 회로기판 검사용 조명 장치.Second illumination means disposed on the photographing means side with respect to the inspection object and configured to emit light irradiated onto the surface of the inspection object at a second angle greater than 45 ° and less than 90 ° with respect to the first axis; Circuit board inspection lighting device comprising a. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제1 조명 수단은 제1 광원 및 상기 제1 광원에서 나온 광이 상기 제1 축을 기준으로 상기 제1 각도로 검사 대상의 표면에 조사되도록 상기 광을 반사하는 제1 반사 미러를 포함하며,The first lighting means includes a first reflecting mirror reflecting the light such that the light emitted from the first light source and the first light source is irradiated onto the surface of the inspection object at the first angle with respect to the first axis, 상기 제2 조명 수단은 제2 광원 및 상기 제2 광원에서 나온 광이 상기 제1 축을 기준으로 상기 제2 각도로 검사 대상의 표면에 조사되도록 상기 광을 반사하는 제2 반사 미러를 포함하는 회로기판 검사용 조명 장치. The second illuminating means includes a circuit board including a second light source and a second reflecting mirror reflecting the light such that the light from the second light source is irradiated onto the surface of the inspection object at the second angle with respect to the first axis. Inspection lighting device. 제2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제1 조명 수단은 두 개의 상기 제1 광원과 두 개의 상기 제1 반사 미러를 구비하고, 제1 광원과 제1 반사 미러의 어느 한 쌍과 다른 쌍은 상기 제1 축을 기준으로 서로 대칭적으로 배치되며,The first lighting means comprises two said first light sources and two said first reflecting mirrors, wherein one pair and the other pair of the first light source and the first reflecting mirror are symmetrically with respect to said first axis. Will be placed, 상기 제2 조명 수단은 두 개의 상기 제2 광원과 두 개의 상기 제2 반사 미러를 구비하고, 제2 광원과 제2 반사 미러의 어느 한 쌍과 다른 쌍은 상기 제1 축을 기준으로 서로 대칭적으로 배치되는 회로기판 검사용 조명 장치.The second lighting means comprises two said second light sources and two said second reflecting mirrors, wherein one pair and the other of said second light source and said second reflecting mirror are symmetrically with respect to said first axis. A lighting device for inspecting a circuit board disposed. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제1 각도는 1°내지 5°사이의 각도인 회로기판 검사용 조명 장치.And the first angle is between 1 ° and 5 °. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제2 각도는 50°내지 80°사이의 각도인 회로기판 검사용 조명 장치.And the second angle is between 50 ° and 80 °. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 검사 대상은 COF(chip on film)인 회로기판 검사용 조명 장치.The inspection object is a circuit board inspection lighting device COF (chip on film). 제1 항 내지 제6 항 중 어느 한 항의 조명 장치; 및A lighting device according to any one of claims 1 to 6; And 상기 조명 장치를 기준으로 검사 대상의 반대측에 배치되며, 상기 조명 장치에서 나와 검사 대상의 표면에 조사된 피사체의 이미지를 나타내는 광이 입사되는 촬영 수단;을 포함하는 회로기판 검사 장치.And photographing means disposed on an opposite side of the object to be inspected based on the lighting device, and the light emitting means representing the image of the subject irradiated from the lighting device to the surface of the object to be inspected.
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