KR20090120342A - 촉각센서와 그 제조방법 - Google Patents
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- 소정의 두께를 갖는 제1고분자 층(101)과; 상기 제1고분자 층(101)에 적층된 소정의 신호선이 형성되어 있는 제1전도층(104)과; 상기 제1전도층(104) 위에 형성되고, 작용힘(Fin)의 변화에 따라 저항값이 변화되는 저항체(105);로 구성된 제1구조체(100); 및소정의 두께를 갖는 제2고분자 층(201)과; 상기 제2고분자 층(201)에 적층된 소정의 신호선이 형성되어 있는 제2전도층(204);으로 구성된 제2구조체(200);을 포함하고,상기 제1구조체(100)와 상기 제2구조체는 상기 저항체(105)를 중심으로 결합된 것을 특징으로 하는 촉각센서.
- 제 1항에 있어서,상기 제1고분자 층(101) 또는 상기 제2고분자 층(201)은 폴리이미드 필름인 것을 특징으로 하는 촉각센서.
- 제 1항에 있어서,상기 제2전도층(204) 상에는 작용힘(Fin)의 변화에 따라 저항값이 변화하는 저항체(205)가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 촉각센서.
- 제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 저항체(105,205)의 폭은 상기 제1전도층(104) 또는 상기 제2전도층(204)의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 촉각센서.
- 제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 저항체(105,205)의 둘레에는 스페이서(300)가 더 구비된 것을 특징으로 하는 촉각센서.
- 제 5항에 있어서,상기 스페이서(300)의 두께값에서 상기 저항체(105,205)의 두께값을 뺀 결과값은 0~50㎛인 것을 특징으로 하는 촉각센서.
- 제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 저항체(105,205)는 압력가변 저항재료로 구성된 것을 특징으로 하는 촉각센서.
- 제 1항에 있어서,상기 제1고분자 층(101)과 상기 제1전도층(104) 사이에,상기 제1고분자 층에 적층된 제1접지층(102); 및상기 제1접지층(102)과 상기 제1전도층(104) 사이에 고분자 층(103);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 촉각센서.
- 제 1항에 있어서,상기 제2고분자 층(201)과 상기 제2전도층(204) 사이에,상기 제2고분자 층(201)에 적층된 제2접지층(202); 및상기 제2접지층(202)과 상기 제2전도층(204) 사이에 고분자 층(203);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 촉각센서.
- 제 8항 또는 제 9항에 있어서,상기 고분자 층(103,203)은 폴리이미드 필름인 것을 특징으로 하는 촉각센서.
- 제 13항에 있어서,상기의 회로층이 반전증폭기와 등가를 이루는 경우, -Vcc 는 0 [V] 이고, 상기의 +Vcc는 Vi<Vg<+Vcc 의 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 촉각센서.(단, Vg: 전압원의 전압, -Vcc, +Vcc: 반전증폭기에 공급되는 외부전압)
- 소정의 두께를 갖는 고분자 층(401) 상에 금속을 증착하여 소정의 신호선을 갖는 전도층(404)을 형성하는 전도층형성단계(S13); 및 상기 전도층(404)의 부식을 방지하기 위하여 도금하는 도금단계(S14);를 포함하는 구조체형성단계로부터 복수개의 구조체를 형성하는 단계(S10);상기 복수 개의 구조체(400) 중 하나인 제1구조체(100)의 전도층(104) 상에 저항체(405)를 형성하는 저항체형성단계(S20): 및상기 제1구조체(100) 및 상기 복수개의 구조체(400)중 다른 하나인 제2구조체(200)가 상기 저항체(405)를 중심으로 결합되도록 접착층(500)을 형성하여 본딩 하는 결합단계(S30);를 포함하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.
- 제 15항에 있어서,상기 전도층형성단계(S13)에 앞서,상기 소정의 두께를 갖는 고분자 층(401) 상에 접지층(402)을 형성하는 접지층형성단계(S11); 및상기 접지층(402) 위에 고분자 층(403)을 형성하는 고분자 층형성단계(S12);가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.
- 제 15항에 있어서,상기 도금단계(S14)는구리, 금 및 은 중 적어도 어느 하나로 도금하는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.
- 제 15항에 있어서,상기 저항체형성단계(S20) 및 상기 결합단계(S30) 사이에는,상기 제2구조체(200)의 전도층(204)에 저항체(405')를 형성하는 저항체부가형성단계(S25);가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.
- 제 15항 또는 제 18항에 있어서,상기 저항체(405,405')는 전자빔 리소그래피, 포토리소그래피 또는 스퍼터 방식으로 증착한 후 에칭하여 형성되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.
- 제 15항 또는 제 18항에 있어서,상기 저항체(405,405')는 압력가변 저항재료를 스크린 인쇄법을 이용하여 도포하는 방식으로 형성되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.
- 제 15항에 있어서,상기 저항체 형성단계(S20)이전에,상기 저항체(405,405')의 주위에 스페이서(300)를 형성하는 스페이서 형성단계(S19);가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.
- 제 15항에 있어서,상기 전도층(404)은 이-빔, 스퍼터 장비 또는 도금장비를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.
- 제 15항에 있어서,상기 결합단계(S30)에서 접착층(500)은 경화제가 포함된 접착제, 양면 테이프 또는 필름 접착용 열접착 테이프인 것을 특징으로 하는 촉각센서의 제조방법.
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