KR20090108941A - 임프린트 리소그래피용 스탬프의 제조 방법 - Google Patents

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KR20090108941A
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    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Abstract

본 발명에 따른 임프린트 리소그래피용 스탬프의 제조 방법은 원통 형상의 몸체에 알루미늄층을 도포하는 단계와, 상기 알루미늄층을 양극 산화 시켜서 상기 알루미늄층에 미세 패턴을 갖는 패턴 형성 단계와, 에칭에 의하여 상기 미세 패턴을 상기 몸체로 전사하는 전사 단계, 및 상기 알루미늄층을 상기 몸체에서 분리하는 단계를 포함할 수 있다.
임프린트 리소그래피, 스탬프, 양극산화, 알루미늄

Description

임프린트 리소그래피용 스탬프의 제조 방법{FABRICATING METHOD OF STAMP FOR IMPRINT LITHOGRAPHY}
본 발명은 미세패턴 형성을 위한 스탬프의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 알루미늄 양극 산화(Anonic Aluminuim Oxide)를 이용하여 미세 패턴을 형성하는 원통형 롤 스탬프의 제조 방법에 관한 것이다.
나노기술(NT; Nano Technology)은 정보기술(IT; Information Technology) 및 생명공학기술(BT; Bio Technology)와 더불어 21세기 산업 발전을 주도할 새로운 패러다임의 기술로서 주목 받고 있다.
또한, 나노기술은 물리학, 화학, 생물학, 전자공학, 및 재료공학 등 여러 과학기술 분야가 융합되어, 기존 기술의 한계를 극복하고, 다양한 산업 분야에 기술혁신을 줌으로써, 인류의 삶의 질을 획기적으로 향상시킬 것으로 기대되고 있다.
주로 수 나노에서 수백 나노의 크기를 가지는 패턴은 나노 메모리, 바이오 센서, 세포 성장 등을 비롯한 바이오 응용, 광결정(Photonic crystal)을 이용한 고효율 디스플레이, 태양전지를 비롯한 다양한 광전소자 등 많은 곳에 응용이 시도되고 있다.
구체적인 예를 들어 수 나노에서 수백 나노의 점 혹은 원기둥(Pillar) 구조는 나노 메모리에 응용이 가능하며, 수백 나노의 광결정 구조는 OLED(LED)에서 외부 광효율을 높이기 위한 구조로 응용이 가능하다.
또한, 최근에는 자연의 생물을 모사하는 연구로 도마뱀 발바닥(Gecko feet), 연꽃잎(Lotus)의 구조 응용에 관한 연구도 활발하다.
이들 구조 모두 수십에서 수백나노의 나노구조를 가지고 있고 각각 소자적용이 가능한 특이한 거동을 보인다. 예를 들어 도마뱀 발바닥은 긴 원기둥(Pillar) 구조를 가지고 있어 미끄러운 벽면에도 잘 붙는다. 또한 연꽃잎은 물방울 및 먼지를 효과적으로 제거하는 초발수성 기능을 한다. 이들 자연의 구조를 모방해서 인공적으로 만들어주면 실제 생활에 유용한 제품을 만들 수 있다.
예를 들어, 인공 도마뱀 발바닥 구조는 탈부착이 용이한 신개념 접착제로 사용이 가능하며 인공 연꽃잎 구조는 자동차 유리 및 선택적 폐수분리와 같은 분리막으로도 사용이 가능하다.
한편 이러한 나노패턴 제작 기술로는 전자빔 리소그패피, 극자외선 패터닝(EUV; Extreme ultraviolet lithography), 간섭리소그래피(interference lithography), 나노 임프린트(Nanoimprint) 및 연성식각(soft lithography), 사출성형(injection molding) 방법이 적용이 가능하다. 전자빔 리소그래피와 극자외선 패터닝EUV는 공정시간 및 고가의 장비사용으로 인해 대면적이 힘들고 가격이 비싼 단점이 있어 상용화에는 어려움이 있다. 간섭리소그래피는 기술의 한계상 아직은 200nm급 이상의 패턴에 적합한 공정이다. 또한, 패턴 복제 기술들 (나노임프린트, 연성식각, 사출성형)은 공정비용이 비교적 저렴하지만 최초의 나노급 몰드를 기존 기술로 제작 하여야 한다는 제약이 있다.
이런 단점을 극복하고자 자기조립을 이용한 블록공중합체(block copolymer)패터닝, 나노입자 리소그래피 (Nanosphere lithography), 양극산화 알루미늄 (Anodic Aluminum Oxide) 등의 바텀 업 패터닝 기술이 최근 관심을 받고 있다. 이들 방법은 고가의 장비가 필요 없고 한 번에 기판 위에 병렬 패터닝이 가능하여 공정속도가 빨라 생산성이 높은 장점이 있다.
한편 자기조립 패터닝을 스탬프를 이용한 나노임프린트 기술을 적용하면 더욱 효과적으로 같은 패턴을 반복생산이 가능하다. 또한, 궁극적으로 생산량을 높이고 저비용 생산을 위해서는 롤(roll)형태의 스탬프를 이용한 롤 투 롤(Roll to Roll), 릴 투 릴(Reel to Reel), 롤 투 플레이트(Roll to plate) 등의 연속공정이 가장 바람직하지만, 기존의 모든 패터닝 방법들은 제작상의 편리성과 한계로 인해 평면 스탬프를 이용하여 패턴을 제작하였기 때문에 생산성에 한계를 가질 수 밖에 없었다.
또한, 유연한 평면 스탬프를 롤에 감아서 사용이 가능하지만 이럴 경우 패턴이 겹치는 부분에 높이차이가 발생하며 마감처리가 완벽하지 않아 최종 패턴이 완벽하지 않고 패턴 손실률이 높아지는 문제가 있다. 또한 기존 롤 스탬프를 이용한 상용화 가능한 패터닝은 모두 나노 롤 스탬프의 가격 및 제작의 한계로 인해 마이크로(micro) 스케일에 국한되어 사용되었다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 나노패턴을 갖는 스탬프를 용이하게 제작할 수 있는 스탬프 제조 방법을 제공함에 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린트용 리소그래피용 스탬프의 제조방법은 원통 형상의 몸체에 알루미늄층을 도포하는 단계와, 상기 알루미늄층을 양극 산화 시켜서 상기 알루미늄층에 미세 패턴을 갖는 패턴 형성 단계와, 상기 몸체를 에칭하여 상기 미세 패턴을 상기 몸체로 전사하는 전사 단계, 및 상기 알루미늄층을 상기 몸체에서 분리하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 패턴 형성 단계에 있어서 상기 미세 패턴은 홈으로 이루어질 수 있으며, 상기 전사하는 단계에서 있어서 상기 몸체를 에칭액이 담긴 수조에 넣어서 상기 몸체에 미세 패턴을 전사할 수 있다.
상기 분리하는 단계에 있어서 상기 알루미늄층은 알카리 용액에 의하여 용해되어 상기 몸체에서 분리될 수 있다. 또한, 상기 몸체는 합성수지 또는 금속으로 이루어질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 스탬프의 제조 방법은 표면이 알루미늄으로 이루어진 몸체를 준비하는 단계와, 상기 몸체에 양극산화로 미세 패턴을 형성하는 패턴 형성 단계와, 상기 미세 패턴이 형성된 상기 몸체의 표면에 밀착된 제1지지층을 형성하는 제1지지층 형성 단계, 및 상기 제1지지층을 상기 몸체에서 분리하는 제1 지지층 분리 단계를 포함 할 수 있다.
상기 몸체는 관 형상으로 이루어지고, 상기 패턴은 상기 몸체의 내면에 형성될 수 있다. 또한, 상기 제1지지층은 상기 패턴 형성단계에서 상기 알루미늄의 산화로 형성된 미세패턴보다 강도가 큰 합성수지 또는 금속으로 이루어질 수 있다.
상기 몸체는 외면이 원통형상으로 이루어지고, 상기 패턴은 상기 몸체의 외면에 형성되며, 상기 제1지지층의 내측에 제2지지층을 형성하는 제2지지층 형성 단계와, 상기 제2지지층을 상기 제1지지층에서 분리하는 제2지지층 분리 단계를 포함할 수 있다.
상기 제2지지층은 상기 제1지지층은 상기 패턴 형성단계에서 상기 알루미늄의 산화로 형성된 미세패턴보다 강도가 큰 합성수지 또는 금속으로 이루어질 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면 알루미늄으로 이루어진 원통 몸체의 표면을 양극산화하여 패턴을 형성하여 롤 형태의 스탬프를 용이하게 제작할 수 있다.
또한, 양극 산화된 베이스에 제1지지층을 코팅하고 제1지지층에 강도가 우수한 제2지지층을 코팅함으로써 베이스에 형성된 패턴을 제2지지층으로 전사하여 강도가 우수한 스탬프를 용이하게 제작할 수 있다.
또한, 관형상의 알루미늄 내면을 양극산화하여 패턴을 형성하고 이의 내측에 강도가 우수한 제1지지층을 코팅하여 롤 스탬프를 제작하여 보다 용이하게 강도가 우수한 스탬프를 용이하게 제작할 수 있다.
본 발명에 있어서 미세 패턴이라 함은 나노(nano) 또는 마이크로(micro) 크기를 갖는 패턴을 말한다. 패턴은 규칙적인 패턴은 물론이고 불규칙적인 패턴을 포함한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 이하에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.
도 1a 내지 도 1f는 본 발명의 일 실시예에 따른 스탬프를 제작하는 공정을 설명하기 위한 도면이다.
상기한 도면을 참조하여 설명하면, 먼저 도 1a에 도시된 바와 같이 원통형으로 이루어진 몸체(110)를 준비한다.
몸체(110)는 PMMA(polymethly methacrylate), PS(polystyrene), PAN(polyacrylonitrile), PUA(polyurethane acrylate), PTFE(Teflon, PolyTetra Floro Ethylene), Epoxy, Acrylate, PE, PP, PU, PDMS 및 그 혼합물 및 탄성고무류, 이들 모두의 상호 혼합물질, 열경화성수지, 열가소성수지, 광경화성 고분자 물질 등의 합성수지 또는 알루미늄, 구리, 철, 니켈과 같은 금속으로 이루질 수 있다.
몸체(110)는 연속 공정이 가능하도록 롤 형상으로 이루어진다.
도 1b에 도시된 바와 같이 몸체(110) 위에 알루미늄층(112)을 코팅한다. 알루미늄층(112)은 다양한 방법으로 코팅될 수 있으며, 알루미늄층(112)의 두께는 알루니늄의 산화가 일어나서 패턴이 형성될 수 있을 정도로 이루어질 수 있다. 이때 알루미늄이 원통일경우 따로 코팅이 필요하지 않다.
도 1c에 도시된 바와 같이 알루미늄층(112)이 표면에 도포된 몸체(110)를 전해액(125)이 담긴 수조(121)에 넣은 후, 전원(127)을 알루미늄층(112)과 수조(121)에 담긴 음극단자(123)에 연결한다. 이때 알루미늄층(112)에는 양극을 연결하고, 음극단자(123)에는 음극을 연결하여 알루미늄층(112)을 산화시킨다.
여기서 전해액(125)으로는 황산, 크롬산, 옥살산 등이 이용될 수 있다. 전해액(125) 속에 함침된 알루미늄층(112)을 양극과 연결한 상태에서 통전하면 양극과 연결된 알루미늄층(112)에서는 산소기체가 발생하고 음극과 연결된 음극단자(123)에서는 수소기체가 발생하는데, 알루미늄층에서 발생한 산소에 의하여 알루미늄의 표면에 알루미늄산화층(Al2O3)의 얇은 층이 생긴다. 이 때, 전압이 충분히 크면 전해액의 침식 작용과 더불어 얇은 피막이 파괴되면서 상당한 양의 열이 발생하고 열은 더욱 전해액에 의한 침식을 조장하여 다공성의 피막이 형성된다.
알루미늄의 양극산화를 위해서 다양한 전해액에 따른 다양한 방법이 적용될 수 있으며, 이러한 방법은 널리 알려져 있으므로 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.
도 1d에 도시된 바와 같이 알루미늄이 산화되어 형성된 알루미늄산화층(117)에는 양극 산화로 인하여 복수 개의 홈(114)이 형성되고 이러한 홈들(114)은 규칙 또는 불규칙적으로 형성되어 미세 패턴을 이룬다.
상기한 홈(114)은 직경이 5nm 내지 600nm로 이루어지고, 홈들(114) 사이의 피치는 10nm 내지 1200nm로 이루어질 수 있다. 다만, 본 발명이 상기한 홈의 크기에 제한되는 것은 아니다.
알루미늄산화층(117)에 홈(114)을 형성한 상태에서 몸체(110)를 에칭액(135)이 담긴 수조(131)에 넣어서 미세 패턴이 몸체(110)로 전사되도록 한다. 에칭액(135)은 홈(114)을 통해서 몸체(110)까지 스며들어서 몸체(110)를 에칭하게 된다. 몸체(110)가 고분자로 이루어진 경우, 에칭액(135)은 유기 솔벤트로 이루어질 수 있으며, 몸체가 금속으로 이루어진 경우, 에칭액(135)은 산을 포함한 금속 에칭용액으로 패턴이 가능하다.
또한, 본 발명이 반드시 에칭액으로 에칭하는 방법에만 제한되는 것은 아니며, 산소 플라즈마를 이용한 에칭 등 다양한 방법의 에칭이 적용될 수 있다.
에칭할 때, 에칭시간 에칭액 등을 조절하여 몸체에 원하는 깊이를 갖는 홈으로 이루어진 미세 패턴을 형성할 수 있다.
도 1e에 도시된 바와 같이 에칭이 완료되면 알루미늄산화층(117)에 형성된 홈(114)이 몸체(110)로 전사되어 몸체(110)에도 홈(116)으로 이루어진 미세 패턴이 형성된다.
몸체(110)에 형성된 알루미늄산화층(117)을 제거하기 위해서 몸체(110)를 수 산화나트륨과 같은 알카리 수용액(134)이 담긴 수조(132)에 넣어 알루미늄산화층(117)을 몸체에서 제거한다.
몸체(110) 위의 알루미늄산화층(117)이 제거되면 도 1f와 같이 표면에 홈(116)으로 이루어진 미세 패턴이 형성된 롤 스탬프(100)를 얻을 수 있다.
본 실시예와 알루미늄 양극산화를 이용하여 미세 패턴을 형성하고 이 미세 패턴을 단단한 재질로 이루어진 몸체(110)에 전사하면 미세 패턴을 갖는 스탬프(100)를 용이하게 형성할 수 있다. 또한 광 리소그라피 공정과 달리 곡면을 갖는 롤 구조의 몸체에도 용이하게 패턴을 형성할 수 있어서, 롤 형상의 스탬프를 이용하여 연속 공정으로 나노 패턴을 형성할 수 있다.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 제2실시예에 따른 롤 스탬프의 제조 방법을 도시한 를 도시한 사시도이다.
도 2a에 도시된 바와 같이, 표면이 알루미늄으로 이루어진 원통형 베이스(211)를 준비하고, 이 베이스(211)의 표면을 전술한 양극산화 방법으로 산화시켜 홈(212)으로 이루어진 미세 패턴을 형성한다.
도 2b에 도시된 바와 같이, 홈(212)이 형성된 베이스(211)의 외면에 제1지지층(221)을 형성한다. 제1지지층(221)은 폴리머 또는 금속으로 이루어질 수 있으며, 베이스(211)의 외면에 밀착되도록 코팅 방식으로 형성될 수 있다.
도 2c에 도시된 바와 같이 제1지지층(221)이 형성되면, 수산화 나트륨 등을 이용하여 제1지지층(221)을 베이스(211)에서 분리한다. 제1지지층(221)을 베이스(211)에서 분리하면, 관형상의 제1지지층(221)이 형성되며, 베이스(211)와 접하 였던 제1지지층(221)의 내면에는 베이스(211)의 홈(212)에 대응되는 돌기들(223)로 이루어진 패턴이 형성된다. 제1지지층(221)을 형성하는 과정에서 제1지지층(221)을 이루는 물질의 점도와 시간, 젖음성(wettability) 등을 조절하여 제1지지층(221)을 이루는 물질이 홈(212)을 다 채우지 않도록 할 수 있다. 이러한 방법으로 제1지지층(221)에 형성된 돌기(223)의 높이를 원하는 크기로 조절할 수 있다.
도 2d에 도시된 바와 같이 제1지지층(221)의 내측에 제1지지층(221)의 내면과 밀착된 제2지지층(231)을 형성한다. 제2지지층(231)은 제1지지층(221) 내부를 알루미늄의 산화로 형성된 미세 패턴보다 더 강도가 큰 합성수지 또는 니켈 등의 금속으로 채워서 형성한다.
도 2e에 도시된 바와 같이 제2지지층(231)을 제1지지층(221)에서 분리하면, 제1지지층(221)의 돌기(223)에 대응되는 홈(235)으로 이루어진 미세 패턴이 형성된 스탬프(200)를 얻을 수 있다.
이와 같이 본 실시예에 따르면, 알루미늄 양극 산화로 미세 패턴을 형성하고, 이 미세 패턴을 강도가 우수한 제2지지층에 전사함으로써 강도가 우수한 스탬프를 용이하게 제작할 수 있다. 또한, 롤형 스탬프에 미세 패턴을 전사함으로써 연속 공정이 용이한 스탬프를 제작할 수 있다.
도 3a 내지 도 3 c는 본 발명의 제3 실시예에 따른 스탬프의 제작 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a에 도시된 바와 같이, 내면이 알루미늄으로 이루어진 관 형상의 베이스(311)를 준비하고, 베이스(311)의 내면을 전술한 양극산화 방법으로 산화시켜서 내면에 홈(312)으로 이루어진 미세 패턴을 형성한다.
도 3b에 도시된 바와 같이, 베이스(311)의 내부에 내면과 밀착된 제1지지층(321)을 형성한다. 제1지지층(321)은 알루미늄의 산화로 형성된 미세 패턴 보다 더 강도가 큰 합성수지 또는 니켈 등의 금속으로 이루어질 수 있다. 이 과정에서 제1지지층(321)을 이루는 물질이 홈(312)에 채워져 제1지지층(321)의 표면에는 베이스(311)의 홈과 대응되는 돌기(325)로 이루어진 미세 패턴이 형성된다.
제1지지층(321)을 형성함에 있어서, 베이스(321)의 내부에 액체로 이루어진 물질을 채워 넣어서 형성할 수 있으며, 베이스(321)에 베이스(321)의 내경보다 작은 원통 등의 보조물(미도시)을 삽입한 상태에서 액체로 이루어진 물질을 채워 넣어서 제1지지층(321)을 형성할 수도 있다.
도 3c에 도시한 바와 같이 제1지지층(321)을 베이스(311)에서 분리하면, 표면에 돌기(325)로 이루어진 미세 패턴을 갖는 롤 스탬프(300)를 얻을 수 있다.
이와 같이 본 제3 실시예에 따르면, 관 형상의 베이스의 내면을 산화시켜 패턴을 형성함으로써 보다 용이하게 롤 형상의 스탬프를 제작할 수 있다.
도 4는 돌기로 이루어진 패턴을 갖는 롤 스탬프를 이용하여 임프린트 리소그래피 방법으로 미세 패턴을 형성하는 과정을 도시한 도면이다.
도 4를 참조하여 설명하면, 기판(421)의 상면에 레지스트층(423)을 형성하고, 레지스트층(423) 위에 돌기(414)로 이루어진 미세 패턴을 갖는 롤 스탬프(412)를 설치한다. 롤 스탬프(412)로 레지스트층(423)을 가압한 상태에서 롤 스탬프(412)를 회전시키면서 이송하면 롤 스탬프(412)에 형성된 돌기(414)에 대응되는 홈(425)으로 이루어진 미세 패턴이 레지스트층(423)으로 전사된다.
도 5는 홈(434)으로 이루어진 미세 패턴을 갖는 롤 스탬프(432)를 이용하여 임프린트 리소그래피를 행하는 과정을 도시한 사시도이다.
도 5를 참조하여 설명하면, 기판(421)의 상면에 레지스트층(423)을 형성하고, 레지스트층(423) 위에 홈(434)으로 이루어진 미세 패턴을 갖는 롤 스탬프(432)를 설치한다. 롤 스탬프(432)로 레지스트층(423)을 가압한 상태에서 롤 스탬프(432)를 회전시키면서 이송하면 롤 스탬프(432)에 형성된 홈(434)에 대응되는 돌기(427)로 이루어진 미세 패턴이 레지스트층(423)으로 전사된다.
상기한 바와 같이 롤 스탬프를 이용하면, 라인 형태의 기판에 연속적으로 미세 패턴을 전사하는 것이 가능하여 생산성이 향상된다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
도 1a 내지 도 1f는 본 발명의 제1실시예에 따른 임프린트 리소그래피용 스탬프를 제조하는 과정을 도시한 도면이다.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 제2실시예에 따른 임프린트 리소그래피용 스탬프를 제조하는 과정을 도시한 도면이다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린트 리스그래피용 스탬프를 제조하는 과정을 도시한 도면이다.
도 4는 돌기로 이루어진 패턴을 갖는 롤 스탬프를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 과정을 도시한 도면이다.
도 5는 홈으로 이루어진 패턴을 갖는 롤 스탬프를 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 과정을 도시한 도면이다.

Claims (10)

  1. 원통 형상의 몸체에 알루미늄층을 도포하는 단계;
    상기 알루미늄층을 양극 산화 시켜서 상기 알루미늄층에 미세 패턴을 형성하는 패턴 형성 단계;
    상기 몸체를 에칭하여 상기 미세 패턴을 상기 몸체로 전사하는 전사 단계; 및
    상기 알루미늄층을 상기 몸체에서 분리하는 단계;
    를 포함하는 스탬프의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 미세 패턴은 홈으로 이루어진 스탬프의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 전사하는 단계에서 있어서 상기 몸체를 에칭액이 담긴 수조에 넣어서 상기 몸체에 미세 패턴을 전사하는 스탬프의 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 분리하는 단계에 있어서 상기 알루미늄층은 알카리 용액에 의하여 용해되는 스탬프의 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 몸체는 합성수지 또는 금속으로 이루어진 스탬프의 제조 방법.
  6. 표면이 알루미늄으로 이루어진 몸체를 준비하는 단계;
    상기 몸체에 양극산화로 미세 패턴을 형성하는 패턴 형성 단계;
    상기 미세 패턴이 형성된 상기 몸체의 표면에 밀착된 제1지지층을 형성하는 제1지지층 형성 단계; 및
    상기 제1지지층을 상기 몸체에서 분리하는 제1지지층 분리 단계;
    를 포함하는 스탬프의 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 몸체는 관 형상으로 이루어지고,
    상기 미세 패턴은 상기 몸체의 내면에 형성되는 스탬프의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1지지층은 상기 패턴 형성단계에서 상기 알루미늄의 산화로 형성된 미세패턴보다 강도가 큰 합성수지 또는 금속으로 이루어진 스탬프의 제조 방법.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 몸체는 외면이 원통형상으로 이루어지고,
    상기 패턴은 상기 몸체의 외면에 형성되며,
    상기 제1지지층의 내측에 미찰된 제2지지층을 형성하는 제2지지층 형성 단계와,
    상기 제2지지층을 상기 제1지지층에서 분리하는 제2지지층 분리 단계를 포함하는 스탬프의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제2지지층은 상기 제1지지층은 상기 패턴 형성단계에서 상기 알루미늄의 산화로 형성된 미세 패턴보다 강도가 큰 합성수지 또는 금속으로 이루어진 스탬프의 제조 방법.
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