KR20090103751A - 전극 구조체 및 기판 처리 장치 - Google Patents
전극 구조체 및 기판 처리 장치Info
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- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
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Abstract
Description
Claims (4)
- 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치가 구비하는 처리실 내에 배치되고, 상기 처리실 내에서 탑재대에 탑재된 상기 기판과 대향하는 전극 구조체에 있어서,상기 기판의 중심부에 대향하는 내측 전극과, 상기 기판의 주연부에 대향하는 외측 전극을 구비하고,상기 내측 전극에는 제 1 직류 전원이 접속되고, 또한 상기 외측 전극에는 제 2 직류 전원이 접속되며,상기 외측 전극은 상기 기판에 평행한 제 1 면과, 상기 제 1 면에 대하여 경사지는 제 2 면을 갖는 것을 특징으로 하는전극 구조체.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 면 및 상기 제 2 면은 상기 기판의 주연부를 지향하는 것을 특징으로 하는전극 구조체.
- 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 기판 처리 장치에 있어서,상기 기판을 수용하는 처리실과,상기 처리실 내에 배치되어서 상기 기판을 탑재하는 탑재대와,상기 처리실 내에 배치되고, 또한 상기 탑재대에 탑재된 상기 기판과 대향하는 전극 구조체를 구비하며,상기 전극 구조체는 상기 기판의 중심부에 대향하는 내측 전극과, 상기 기판의 주연부에 대향하는 외측 전극을 구비하고,상기 내측 전극에는 제 1 직류 전원이 접속되고, 또한 상기 외측 전극에는 제 2 직류 전원이 접속되며,상기 외측 전극은 상기 기판에 평행한 제 1 면과, 상기 제 1 면에 대하여 경사지는 제 2 면을 갖는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 제 1 면 및 상기 제 2 면은 상기 기판의 주연부를 지향하는 것을 특징으로 하는기판 처리 장치.
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