KR20090074180A - 유기 기재의 빛에 의한 열화로부터의 보호능을 개선하기 위한 안정화제 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 벤질리덴-비스-말로네이트계 광 안정화제와 다른 특정 첨가제와의 조합에 관한 것으로 이는 유기 기재의 장기간 광 노출 동안 시너지 효과를 나타낸다.

Description

유기 기재의 빛에 의한 열화로부터의 보호능을 개선하기 위한 안정화제 조성물{STABILIZER COMPOSITIONS FOR IMPROVED PROTECTION AGAINST DEGRADATION OF ORGANIC SUBSTRATES BY LIGHT}
본 발명은 벤질리덴-비스-말로네이트계 광 안정화제와 다른 특정 첨가제와의 조합에 관한 것으로 이는 유기 기재의 장기간 광 노출 동안 시너지 효과를 나타낸다.
당 분야에 공지된 바와 같이, 많은 유기 기재, 특히 중합체 기재들 또는 중합체 재료들은 통상 입체 장애 아민(HAS)으로 구성되고 종종 UV 흡수제와 조합되는 안정화 패키지가 그들의 수명 동안 장기간 광 노출에도 그 중합체 특성들을 유지시키기 위해 필요하다.
주로 "유기" 성질을 갖는 것들인 중합체 기재들 또는 중합체 재료들은 고 에너지 방사선으로 인해 열화되기 쉽다. 햇빛으로부터의 자외선(UV)이 중합체 광-산화의 가장 통상적인 개시제이다.
UV 광이 유기 중합체 시스템에 의해 흡수될 때 "자유-라디칼"을 생성한다. 이러한 "자유-라디칼"(퍼옥사이드 및 홀 전자를 갖는 분자 단편)은 상기 노출된 재료를 각종의 산화 반응을 통해 열화시킴으로써 색 변화, 및 물리 및 화학 특성을 손상시킨다.
기본적으로 두 가지 주된 부류의 첨가제, 즉 UV 흡수제, 및 입체 장애 아민 안정화제(HAS) 유형의 광-산화방지제가 유기 중합체 예컨대 플라스틱, 엘라스토머-개질된 플라스틱, 섬유 및 코팅의 효과적인 광 안정화를 위해 통상적으로 사용된다. 상기 첨가제는 태양 및 인공 방사선에 의해 유발되는 화학 및 물리적 공정에 개입된다. 광 안정화제의 구조는 특정 중합체 및 그 적용 환경 조건에 맞게 조정되어야 한다.
때때로 UV 광 안정화제로도 지칭되는 상기 UV 흡수제는 여전히 성장중에 있는 부류의 화합물이다. 이들 화합물은 자외선 광 흡수에 대한 요격기(interceptor)로 작용하는데, 이는 세포를 손상시킬 수 있고 플라스틱을 파괴할 수 있는 불안정화 반응을 공격하여 그 개시를 막기 때문이다. 이러한 생성물에 UV 흡수제를 첨가함으로써 사용 수명을 상당히 연장시킬 수 있다.
민감성 중합체 시스템에서의 광-산화적 열화를 방지하거나 적어도 지연시키기 위한 실제적 접근법은 하기와 같다:
a) 유기 기재의 매트릭스에 의한 UV 광 흡수의 감소,
b) 중합체에 특정 분자 기를 첨가함으로써 흡수된 광 유도 에너지의 감소("소광(quenching)"),
c) 산화방지 작용.
중합체 매트릭스에 의한 UV 광 흡수를 감소시키는 것은 각종 UV 비투과 안료를 사용하거나, 또는 해로운 방사선을 선택적으로 흡수하여 이를 덜 해로운 파장, 주로 열로 재-방출하는 UV 흡수제를 사용함으로써 UV 흡수를 "차단"시키는 것에 의해 달성될 수 있다.
상업적으로 공지된 UV-흡수제로는 o-하이드록시-벤조페논 또는 o-하이드록시페닐-벤조트라이아졸 또는 벤조에이트, 신나메이트, 옥사닐리드 또는 살리실레이트가 있다. 대부분의 장애 아민 안정화제는 아미노-테트라-알킬-피페리딘의 널리 공지된 유도체이다.
이들 모든 화합물은 예컨대 문헌["Plastics Additives Handbook," 5th edition, editor H.Zweifel, Hanser Publishers Munic, Germany (2001)] 및 [Hanser Gardener Publications, Cincinnati, USA (2000), chapter 1.5.1.2, pp.11-13]에 개시되어 있다.
최대 보호를 위해 UV-비투과 안료와 UV 흡수제 둘 다를 종종 함께 사용한다. 그러나 심미적인 이유와 다른 고려사항 때문에 많은 경우 UV-비투과 안료를 사용할 수 없다.
상업적으로, UV 흡수제의 주된 용도는 "벤조페논"(알파 하이드록시 벤조페논), "벤조트라이아졸"(알파 하이드록시 벤조트라이아졸) 및 하이드록시페닐트라이아진으로 나누어진다. 벤조에이트, 신나메이트, 옥사닐리드 및 살리실레이트와 같은 화합물이 더 적은 정도로 사용된다.
290 내지 400 nm 파장 대역에서 잠재적인 광 안정성을 갖는 UV 흡수제가 중합체들의 광 열화로부터 그들을 보호하기 위한 용도로 사용된다. 하이드록시페닐 기를 갖는 UV-흡수제는 통상적으로 여기 상태에서 일어나는 분자내 양성자 이동 메커니즘에 의해 작용한다.
상용 및 엔지니어링 중합체는 원래 광안정성 재료들로 간주되지 않는다. 촉매적 불순물 예컨대 중합 촉매의 잔사 및 미량의 불가피한 금속성 오염물 및 감광제, 및 몇몇 안료들이 또한 대기하의 에이징(aging)에 의해 광 열화를 야기하는 후보들이다. 또한, 페놀의 몇몇 변형 생성물이 광 산화를 야기할 수 있다. 따라서 활성 태양 방사선에 노출되는 중합체의 안정화가 필수적이다.
실제로, 사용되는 다양한 유형의 첨가제가 UV 보호용으로 조합된다. 첨가제들의 조합물은 중합체 매트릭스 내에서 혼화될 수 있어야 하며 중합체 매트릭스에서 최소의 이동을 보여야 한다. 또한 유기 기재의 일반적인 물리적 특성을 유지하기 위해서는 핵형성과 같은 다른 부작용이 최소화되어야 한다. 또한 상기 첨가제들이 가능한 한 적은 농도로 사용되기 위해서는 가능한 한 효과적이어야 한다.
DE 1 801 221은 벤질리덴-비스-말로네이트, 그 제조 방법 및 그의 중합체 기재 내의 UV 흡수제로서의 용도를 개시하고 있다.
WO 03/095543 A는 수명기간 동안의 해로운 영향으로부터 각종의 중합체 기재를 보호하기 위해 벤질리덴-비스-말로네이트를 옥사닐리드 및 특정 장애 아민 안정화제와 더불어 인계(phosphorous) 가공 안정화제와 함께 조합하여 사용하는 것을 개시하고 있다.
불행하게도 시중에서 입수가능한 공지의 안정화제 조합물은 여전히 해로운 환경의 영향 예컨대 빛과 열로부터 유기 기재를 보호하는 것에 결점을 보인다.
통상의 허용 농도 또는 심지어 그 미만의 첨가량으로도 허용가능한 더 효과적인 첨가제 배합물이 여전히 필요하다.
놀랍게도 벤질리덴-비스-말로네이트에 기초한 UV 흡수제와 특정의 UV 흡수제의 혼합물이 유기 기재의 수명 동안의 해로운 영향으로부터 유기 기재를 보호하는 데 시너지 효과를 나타냄이 밝혀졌다.
본원에서 "헤테로아릴"은 달리 언급되지 않으면 O, N 및 S로 이루어진 군 중에서 선택되는 1, 2 또는 3개의 헤테로원자, 바람직하게는 1 또는 2개, 더욱 바람직하게는 1개의 헤테로원자를 갖는 헤테로아릴을 의미한다.
본 발명의 주제는 두 UV 흡수제를 성분 (A) 및 성분 (B)로서 포함하는 조성물 (C)에 관한 것으로,
성분 (A)가 하기 화학식 I의 하나 이상의 화합물이고,
성분 (B)가 하기 화학식 II, V 및 VI으로 이루어진 군 중에서 선택되는 하나 이상의 화합물이다:
Figure 112009019634400-PCT00001
Figure 112009019634400-PCT00002
Figure 112009019634400-PCT00003
Figure 112009019634400-PCT00004
상기 식에서,
R은 C1-18 알킬 또는 C1-18 사이클로알킬;
R'은 H, C1-18 알킬 또는 C3-12 사이클로알킬, C6-10 아릴, F, Cl, Br, CN, OH, O-C1-18 알킬, O-C3-12 사이클로알킬, O-C6-10 아릴, 및 O, N 및 S로 이루어진 군 중에서 선택되는 1, 2 또는 3개의 헤테로원자, 바람직하게는 1 또는 2개, 더욱 바람직하게는 1개의 헤테로원자를 갖는 C3-10 헤테로아릴로 이루어진 군 중에서 선택되고;
R1 내지 R8 및 R18 내지 R24는 서로 독립적으로 H, OH, F, Cl, Br, S-C1-12 알킬 및 S-C3 -12 사이클로알킬; C1 -18 알킬; C3 -12 사이클로알킬; C6 -10 아릴; O, N 및 S로 이루어진 군 중에서 선택되는 1, 2 또는 3개, 바람직하게는 1 또는 2개, 더욱 바람직하게는 1개의 헤테로원자를 갖는 C3-10 헤테로아릴;
C(0)0-C6-10 아릴; O, N 및 S로 이루어진 군 중에서 선택되는 1, 2 또는 3개, 바람직하게는 1 또는 2개, 더욱 바람직하게는 1개의 헤테로원자를 갖는 C(0)0-C3-10 헤테로아릴;
O-C1 -18 알킬; O-C3 -12 사이클로알킬; O-C6 -10 아릴; O, N 및 S로 이루어진 군 중에서 선택되는 1, 2 또는 3개, 바람직하게는 1 또는 2개, 더욱 바람직하게는 1개의 헤테로원자를 갖는 O-C3 -10 헤테로아릴
로 이루어진 군 중에서 선택된다.
바람직하게는,
R은 C1 -6 알킬이고;
R'은 H, C1 -6 알킬 및 C6 -12 사이클로알킬로 이루어진 군 중에서 선택되고;
R1 내지 R8 및 R18 내지 R24는 서로 독립적으로 H, C1 -12 알킬, C6 -12 사이클로알킬, C6 아릴, C3 -5 헤테로아릴, C(O)O-C6 아릴, C(O)O-C3 -5 헤테로아릴, O-C1 -12 알킬, O-C3 -10 사이클로알킬, O-C6 아릴, O-C3 -5 헤테로아릴 및 OH로 이루어진 군 중에서 선택되는, 조성물 (C)이다.
더욱 바람직하게는, 화학식 I에서
R은 C1 -2 알킬이고,
R'은 H이며;
바람직하게는
R은 에틸이고,
R'은 H인, 조성물 (C)이다.
더욱더 바람직하게는 두 UV 흡수제를 성분 (A) 및 성분 (B)로서 포함하는 조성물 (C)로서, 이때
성분 (A)는 화학식 I의 하나 이상의 화합물이고,
성분 (B)는 화학식 II의 하나 이상의 화합물이고, 여기서
바람직하게는 화학식 I에서 R은 에틸이고 R'은 H이고;
더욱 바람직하게는 화학식 I에서 R은 에틸이고 R'은 H이며, 화학식 II에서 R1 및 R3은 3급-부틸이고 R2, R4, R5, R7 및 R8은 H이고 R6은 Cl이다.
더욱더 바람직하게는 두 UV 흡수제를 성분 (A) 및 성분 (B)로서 포함하는 조성물 (C)로서, 이때
성분 (A)는 화학식 I의 하나 이상의 화합물이고,
성분 (B)는 화학식 V의 하나 이상의 화합물이며, 여기서
더욱 바람직하게는 화학식 I에서 R은 에틸이고, R'은 H이고;
더욱더 바람직하게는 화학식 I에서 R은 에틸이고, R'은 H이고; 화학식 V에서 R18 내지 R21은 H이고, X는 O이고, R22는 C8H17이거나; 또는
더욱더 바람직하게는 화학식 I에서 R은 에틸이고, R'은 H이고; 화학식 V에서 R18 및 R20은 H이고, R19 및 R21은 Cl이고, X는 O이고, R22는 C8H17이다.
더욱더 바람직하게는 두 UV 흡수제를 성분 (A) 및 성분 (B)로서 포함하는 조성물 (C)로서, 이때
성분 (A)는 화학식 I의 하나 이상의 화합물이고,
성분 (B)는 화학식 VI의 하나 이상의 화합물이며, 여기서
더욱 바람직하게는 화학식 I에서 R은 에틸이고 R'은 H이고;
더욱더 바람직하게는 화학식 I에서 R은 에틸이고 R'은 H이고; 화학식 VI에서 R18 내지 R21, R23 및 R24는 H이다.
본원에서 성분 (A) 및/또는 성분 (B)가 언급되는 경우, 성분 (A) 및 성분 (B)는 모두 항상 상이하며, 또한 그 바람직한 실시양태들을 의미한다.
조성물 (C)에서, 성분 (A)의 총량 대 성분 (B)의 총량의 중량비는 1:19 내지 19:1이고, 바람직하게는 1:5 내지 5:1이며, 더욱 바람직하게는 1:3 내지 3:1이다.
조성물 (C)가 단지 성분 (A) 및 성분 (B)만을 함유할 수도 있지만, 상기 조성물 (C)에는 하나 이상의 추가 물질이 추가로 존재할 수 있으며, 바람직하게는 상기 추가 물질은 용융물에서 유기 중합체의 가공 도중 및 고체 상태에서 유기 재료 또는 유기 기재의 수명 동안 산소의 해로운 영향으로부터 보호하는 것으로 알려진 항산화제이다.
조성물 (C)에 존재할 수 있는 또 하나의 바람직한 추가 물질로는 오가노포스파이트, 오가노포스포나이트, 입체 장애 페놀, 지방산의 입체 장애 아민(HAS) 염 예컨대 칼슘스테아레이트, 또한 소위 "공-안정화제" 예컨대 금속 산화물, 카보네이트 및 락테이트, 및 산 잔류물을 중화시키는 데 사용되는 다이하이드로탤사이트(DHT)와 같은 화합물("산 제거제", "산 수용체", "내산제")이 있다.
이 경우, 조성물 (C)는 단지 상기 추가 물질들만을 추가로 포함하면서 중합체는 포함하지 않는데, 이를 본원에서는 "첨가제 조성물"이라 지칭한다.
또한, 조성물 (C)는 성분 (A), 성분 (B) 및 캐리어 기재를 포함하는 마스터배치(masterbatch)일 수 있으며, 이 경우 본원에서는 이를 "마스터배치 조성물"이라 지칭하고; 따라서 본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태는 성분 (A) 및 성분 (B)를 포함하는 마스터배치이다. 상기 캐리어 기재는 마스터배치에 통상적으로 사용되는 임의의 기재일 수 있다.
상기 첨가제 조성물 및 마스터배치 조성물은 유기 기재의 안정화, 바람직하게는 유기 중합체의 안정화를 위해 사용된다.
따라서 본 발명의 또 다른 주제는 조성물 (C)의 유기 기재 또는 유기 재료의 안정화, 바람직하게는 광의 해로운 영향으로부터 유기 기재 또는 유기 재료의 안정화를 위한 용도이고; 본 발명의 또 하나의 주제는 성분 (A) 및 성분 (B), 또는 성분 (A) 및 성분 (B)를 포함하는 조성물 (C)를 상기 유기 기재에 첨가하는 단계를 포함하는 유기 기재의 안정화 방법이다.
따라서 본 발명의 또 다른 주제는 성분 (A), 성분 (B), 및 추가 물질로서 본원에서 "유기 기재 조성물" 또는 "안정화된 유기 기재"로 지칭되는 유기 기재, 바람직하게는 유기 중합체를 포함하는 조성물 (C)이며, 이는 성분 (A) 및 성분 (B), 또는 성분 (A) 및 성분 (B)를 포함하는 조성물 (C)를 유기 기재에 첨가함으로써 제조된다.
바람직한 유기 기재는 유기 중합체, 더욱 바람직하게는 "엔지니어링 플라스틱"이라는 표현으로 문헌에 공지된 극성 공업용 중합체, 더욱더 바람직하게는 선형 또는 그래프트된 공중합체로 구성된 중합체이다.
유기 중합체의 예로는 다음과 같다:
- 모노올레핀의 중합체 및 다이올레핀 예컨대 폴리프로필렌, 폴리아이소부틸렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴리아이소프렌 또는 폴리부타다이엔, 및 사이클로올레핀 예컨대 사이클로펜텐 또는 노보넨의 중합체; 또한 (선택적으로 가교결합될 수 있는) 폴리에틸렌 예컨대 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 고밀도 및 고몰질량의 폴리에틸렌(HDPE-HMW), 고밀도 및 초고몰질량의 폴리에틸렌(HDPE-UHMW), 중밀도 폴리에틸렌(HMDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 분지형 저밀도 폴리에틸렌(BLDPE).
폴리올레핀, 즉 앞선 단락에서 예시된 모노올레핀의 중합체, 특히 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌이 여러 가지 특히 하기의 방법에 의해 제조될 수 있다:
a) 자유-라디칼 중합(통상의 고압 및 승온하에서)
b) 주기율표 IVb, Vb, VIb 또는 VIII족 금속을 통상 하나 이상 함유하는 촉매를 사용한 촉매 중합. 이들 금속은 통상적으로 하나 이상의 리간드 예컨대 옥사이드, 할라이드, 알코올레이트, 에스터, 에터, 아민, 알킬, 알케닐 및/또는 π- 또는 σ-좌표 중 하나일 수 있는 아릴을 가질 수 있다. 이들 금속 착체는 유리(free) 형태이거나 기재 예컨대 활성 염화 마그네슘, 염화 티탄(III), 알루미나 또는 이산화규소 상에 고정될 수 있다. 이들 촉매는 중합 매질에 용해성이거나 비용해성일 수 있다. 상기 촉매들은 중합에서 위와 같이 활성일 수 있거나, 또는 추가의 활성화제 예컨대 금속 알킬, 금속 하이드라이드, 금속 알킬 할라이드, 금속 알킬 옥사이드 또는 금속 알킬옥세인이 사용될 수 있으며, 이때 이러한 금속은 주기율표의 Ia, IIa, 및/또는 IIIa족 원소들일 수 있다. 상기 활성화제는 예컨대 추가의 에스터, 에터, 아민 또는 실릴 에터 기에 의해 개질될 수 있다. 이들 촉매 시스템을 지칭하여 통상 필립스(Phillips), 스탠다드 오일 인디아나(Standard Oil Indiana), 지글로(-나타)(Ziegler(-Natta)), TNZ(듀퐁(DuPont)), 메탈로센 또는 단일 활성점 촉매(SSC)라 한다.
- 상기에서 언급된 중합체들의 혼합물 예컨대 폴리프로필렌의 폴리아이소부틸렌과의 혼합물, 폴리에틸렌의 폴리아이소부틸렌과의 혼합물, 폴리프로필렌의 폴리에틸렌과의 혼합물(예컨대 PP/HDPE/LDPE) 및 서로 상이한 유형의 폴리에틸렌(예컨대 LDPE/HDPE)과의 혼합물.
- 서로 모노올레핀과 다이올레핀 또는 다른 비닐 단량체들과의 공중합체 예컨대 에틸렌-프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 및 이의 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)과의 혼합물, 프로필렌-부트-1-엔 공중합체, 프로필렌-아이소부틸렌 공중합체, 에틸렌-부트-1-엔 공중합체, 에틸렌-헥센 공중합체, 에틸렌-메틸펜텐 공중합체, 에틸렌-헵텐 공중합체, 에틸렌-옥텐 공중합체, 프로필렌-부타다이엔 공중합체, 아이소부틸렌-아이소프렌 공중합체, 에틸렌알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체 및 이들의 일산화탄소 또는 에틸렌-아크릴산 공중합체와의 공중합체 및 이들의 염(이오노머), 및 에틸렌의 프로필렌 및 다이엔과의 삼원공중합체 예컨대 헥사다이엔, 다이사이클로펜타다이엔 또는 에틸리덴-노보넨; 및 상기 공중합체들 간의 혼합물 및 1)로 언급된 중합체들과의 혼합물 예컨대 폴리프로필렌-에틸렌-프로필렌 공중합체, LDPE-에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, LDPE-에틸렌-아크릴산 공중합체, LLDPE-에틸렌-비닐-아세테이트 공중합체, LLDPE-에틸렌-아크릴산 공중합체 및 교대형 또는 랜덤형 폴리알킬렌-일산화탄소 공중합체 및 이들의 다른 중합체들과의 혼합물 예컨대 폴리아마이드.
- 불포화 알코올 및 아민으로부터 유도되는 중합체 또는 그 아실 유도체 또는 그 아세탈 예컨대 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴 멜라민; 및 이들의 섹션 1에 언급된 올레핀과의 공중합체.
- 폴리아세탈 예컨대 폴리옥시메틸렌, 및 공단량체를 함유하는 폴리옥시메틸렌 예컨대 에틸렌 옥사이드; 열가소성 폴리우레테인, 아크릴레이트 또는 MBS에 의해 개질된 폴리아세탈.
- 폴리페닐렌 옥사이드 및 설파이드, 및 이들의 스타이렌 중합체 또는 폴리아마이드와의 혼합물.
- 다이아민 및 다이카복실산으로부터 유도되고/되거나 아미노카복실산으로부터 유도되는 폴리아마이드 및 코폴리아마이드 또는 그 대응 락탐 예컨대 폴리아마이드 4, 6, 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 11 및 12, m-자일렌, 다이아민 및 아디프산으로 개시되는 방향족 폴리아마이드; 개질제로서의 엘라스토머의 존재 또는 부재하에 헥사메틸렌다이아민 및 아이소프탈산 및/또는 테레프탈산으로 제조되는 폴리아마이드 예컨대 폴리-2,4,4-트라이메틸헥사메틸렌 테레프탈아마이드 또는 폴리-m-페닐렌 아이소프탈아마이드. 상기 폴리아마이드의 폴리올레핀과의 블록 공중합체, 올레핀 공중합체, 이오노머 또는 화학적으로 결합되거나 그래프트된 엘라스토머; 또는 폴리에터 예컨대 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜과의 공중합체. 또한 EPDM 또는 ABS에 의해 개질되는 폴리아마이드 또는 코폴리아마이드; 및 가공 도중 응축되는 폴리아마이드(RIM 폴리아마이드 시스템).
- 폴리우레아, 폴리이미드, 폴리아마이드-이미드, 폴리에터 이미드, 폴리에스터 아마이드, 폴리하이단토인 및 폴리벤즈이미다졸.
- 다이카복실산 및 다이알코올로부터 유도되고/되거나 하이드록시카복실산으로부터 유도되는 폴리에스터 또는 그 대응 락톤 예컨대 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-다이메틸올사이클로헥세인 테레프탈레이트, 폴리하이드록시벤조에이트, 하이드록실-종결된 폴리에터로부터 유도되는 블록 폴리에터 에스터, 및 폴리카보네이트 또는 MBS에 의해 개질되는 폴리에스터.
- 폴리카보네이트 및 폴리에스터 카보네이트.
- 폴리설폰, 폴리에터 설폰 및 폴리에터 케톤.
- 한쪽이 알데하이드로부터 유도되고 다른 한쪽이 페놀, 우레아 또는 멜라민으로부터 유도되는 가교결합된 중합체 예컨대 페놀/포름알데하이드 수지, 우레아/포름알데하이드 수지 및 멜라민/포름알데하이드 수지.
- 건조 및 비-건조형 알키드 수지.
- 포화 및 불포화 다이카복실산의 다가 알코올 및 가교결합제로서의 비닐 화합물과의 코폴리에스터로부터 유도되는 불포화 폴리에스터 수지, 및 이의 낮은 가연성의 할로겐-함유 개질물.
- 전술된 중합체들의 혼합물(폴리블렌드) 예컨대 PP/EPDM, 폴리아마이드/EPDM 또는 ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PUR, PC/열가소성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPO/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO, PBT/ABS 또는 PBT/PET/PC.
- 순수 단량체성 화합물 또는 이들의 혼합물로 구성되는 천연 및 합성 유기 기재 예컨대 광유, 동물성 또는 식물성 지방, 오일 및 왁스, 또는 합성 에스터계 오일, 왁스 및 지방(예: 프탈레이트, 아디페이트, 포스페이트 또는 투라이멜리테이트), 및 예컨대 스핀 마감제로 이용되는 임의의 바람직한 중량비의 합성 에스터와 광유의 블렌드 및 이의 수성 에멀젼.
유기 중합체의 바람직한 예로는 다음과 같다:
- 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체 및 이의 일산화탄소와의 공중합체 또는 에틸렌-아크릴산 공중합체 및 이들의 염(이오노머), 및 에틸렌의 프로필렌 및 다이엔과의 삼원공중합체 예컨대 헥사다이엔, LDPE-에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, LDPE-에틸렌-아크릴산 공중합체, LLDPE-에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, LLDPE-에틸렌-아크릴산 공중합체 및 교대형 또는 랜덤형 폴리알킬렌-일산화탄소 공중합체 및 이들의 다른 중합체들과의 혼합물 예컨대 폴리아마이드.
- 불포화 알코올 및 아민으로부터 유도되는 중합체, 또는 그 아실 유도체 또는 그 아세탈 예컨대 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴 멜라민, 및 이들의 올레핀과의 공중합체.
- 폴리아세탈 예컨대 폴리옥시메틸렌, 및 공단량체를 함유하는 폴리옥시메틸렌 예컨대 에틸렌 옥사이드; 열가소성 폴리우레테인에 의해 개질되는 폴리아세탈.
- 폴리페닐렌 옥사이드 및 설파이드, 및 이들의 스타이렌 중합체 또는 폴리아마이드와의 혼합물.
- 다이아민 및 다이카복실산으로부터 유도되고/되거나 아미노카복실산으로부터 유도되는 폴리아마이드 및 코폴리아마이드 또는 그 대응 락탐 예컨대 폴리아마이드 4, 6, 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 11 및 12; m-자일렌, 다이아민 및 아디프산으로 개시되는 방향족 폴리아마이드; 개질제로서의 엘라스토머의 존재 또는 부재하에 헥사메틸렌다이아민 및 아이소프탈산 및/또는 테레프탈산으로 제조되는 폴리아마이드 예컨대 폴리-2,4,4-트라이메틸헥사메틸렌 테레프탈아마이드 또는 폴리-m-페닐렌 아이소프탈아마이드. 상기 폴리아마이드의 폴리올레핀과의 블록 공중합체, 올레핀 공중합체, 이오노머 또는 화학적으로 결합되거나 그래프트된 엘라스토머; 또는 폴리에터 예컨대 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜과의 공중합체. 또한 폴리아마이드 또는 코폴리아마이드.
- 폴리우레아, 폴리이미드, 폴리아마이드-이미드, 폴리에터 이미드, 폴리에스터 아마이드, 폴리하이단토인 및 폴리벤즈이미다졸.
- 다이카복실산 및 다이알코올로부터 유도되고/되거나 하이드록시카복실산으로부터 유도되는 폴리에스터 또는 그 대응 락톤 예컨대 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-다이메틸올사이클로헥세인 테레프탈레이트, 폴리하이드록시벤조에이트, 하이드록실-종결된 폴리에터로부터 유도되는 블록 폴리에터 에스터, 및 폴리카보네이트에 의해 개질되는 폴리에스터.
- 폴리카보네이트 및 폴리에스터 카보네이트.
- 폴리설폰, 폴리에터 설폰 및 폴리에터 케톤.
- 한쪽이 알데하이드로부터 유도되고 다른 한쪽이 페놀, 우레아 또는 멜라민으로부터 유도되는 가교결합된 중합체 예컨대 페놀/포름알데하이드 수지, 우레아/포름알데하이드 수지 및 멜라민/포름알데하이드 수지.
- 건조 및 비-건조형 알키드 수지.
- 포화 및 불포화 다이카복실산의 다가 알코올 및 가교결합제로서의 비닐 화합물과의 코폴리에스터로부터 유도되는 불포화 폴리에스터 수지, 및 이의 낮은 가연성의 할로겐-함유 개질물.
- 전술된 중합체들의 혼합물(폴리블렌드) 예컨대 PP/EPDM, 폴리아마이드/EPDM, PVC/EVA, PC/PBT, PVC/CPE, PC/열가소성 PUR, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO, PBT/PET/PC.
- 순수 단량체성 화합물 또는 이들의 혼합물로 구성되는 천연 및 합성 유기 기재 예컨대 광유, 동물성 또는 식물성 지방, 오일 및 왁스, 또는 합성 에스터계 오일, 왁스 및 지방(예: 프탈레이트, 아디페이트, 포스페이트 또는 트라이멜리테이트), 및 예컨대 스핀 마감제로 이용되는 임의의 바람직한 중량비의 합성 에스터와 광유의 블렌드 및 이의 수성 에멀젼.
특히 바람직한 유기 중합체는 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체(EVA), 폴리카보네이트 및 폴리에스터; 특히 EVA; 더욱 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET); 및 더욱 특히 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT)이다.
조성물 (C)는 개별 성분들, 즉 성분 (A), 성분 (B) 및 선택적으로 상기 조성물 (C)가 유기 물질을 포함하는 경우 하나 이상의 유기 물질을 물리적으로 합함으로써 제조된다. 상기 유기 물질은 바람직하게는 상기 기술된 바와 같은 추가의 물질 또는 유기 중합체이다. 조성물 (C)의 성분들은 고체 및/또는 용융 상태에서 임의의 통상의 블렌딩 또는 혼합 방법에 의해 물리적으로 조합될 수 있다. 조성물 (C)는 바람직하게는 분말, 과립, 펠렛, 알약, 유체 등의 형태이다.
바람직하게는 성분 (A) 및 성분 (B)를 포함하는 상기 첨가제 조성물은 상기 개별 성분들을 조합함으로써 제조된다. 이는 고체 및/또는 용융 상태에서 임의의 통상의 블렌딩 또는 혼합 방법에 의해 수행될 수 있다.
바람직하게는 성분 (A) 및 성분 (B)를 포함하는 마스터배치 조성물은 통상의 마스터배치 제조 방법에 의해, 바람직하게는 상기 마스터배치의 캐리어 기재를 포함하는 개별 성분들을 블렌드로 혼합하고 필요한 경우 상기 블렌드를 압출함으로써 제조된다. 상기 혼합은 고체 및/또는 용융 상태에서 임의의 통상의 블렌딩 또는 혼합 방법에 의해 수행될 수 있다.
성분 (A) 및 성분 (B)를 사용함에 의한 유기 기재의 안정화, 즉 성분 (A), 성분 (B) 및 유기 기재, 바람직하게는 유기 중합체를 포함하는 유기 기재 중합체의 제조는 성분 (A) 및 성분 (B), 또는 조성물 (C)를 상기 유기 기재 내로 혼입시킴으로써 행해진다. 상기 혼입은 임의의 통상의 방법, 바람직하게는 혼합, 블렌딩, 압출, 분산 또는 용해에 의해 행해질 수 있다. 상기 유기 기재가 유기 중합체인 경우, 성분 (A)와 성분 (B)의 혼입은 바람직하게는 압출에 의해 행해지며; 상기 유기 기재가 저분자량 유기 재료 또는 용해성 중합체인 경우, 상기 혼합 또는 혼입은 블렌딩, 용해 또는 분산에 의해 행해진다.
조성물 (C)는 바람직하게는 조성물 (C)의 총 중량을 기준으로 0.001 내지 100중량%의 성분 (A)와 성분 (B)의 합량을 포함한다.
조성물 (C)가 마스터배치 조성물인 경우, 조성물 (C)는 바람직하게는 상기 조성물의 총 중량을 기준으로 5 내지 80중량%, 더욱 바람직하게는 7.5 내지 50중량%, 더욱더 바람직하게는 7.5 내지 30중량%의 성분 (A)와 성분 (B)의 합량을 포함한다.
조성물 (C)가 첨가제 조성물인 경우, 조성물 (C)는 바람직하게는 상기 조성물의 총 중량을 기준으로 5 내지 90중량%, 더욱 바람직하게는 10 내지 80중량%, 더욱더 바람직하게는 20 내지 70중량%의 성분 (A)와 성분 (B)의 합량을 포함한다.
또한 조성물 (C)는 단지 성분 (A) 및 성분 (B)로만 구성될 수 있다.
조성물 (C)가 안정화된 유기 기재인 경우, 조성물 (C)는 바람직하게는 상기 조성물의 총 중량을 기준으로 0.001 내지 5중량%, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 4중량%, 더욱더 바람직하게는 0.01 내지 1중량%의 성분 (A)와 성분 (B)의 합량을 포함한다.
조성물 (C)는 또한 중합체의 특성들을 유지, 향상 또는 변화시키기에 필요한 공지의 첨가제와 같은 다른 생성물들을 함유할 수 있다.
조성물 (C)는 환경 조건에 의한 열화로부터 유기 기재를 보호하는 개선점을 제공한다. 조성물 (C)는 추가의 조치나 상용성의 손실 없이 상기 유기 기재 내로 균질하게 혼입된다. 조성물 (C)는 빛과 열에 의해 영향을 받는, 유기 기재 특히 유기 중합체의 황화를 감소시키고, 투명도 손실을 감소시키며, 유기 기재 특히 유기 중합체의 광택도 손실을 감소시킨다.
하나가 벤질리덴-비스-말로네이트에 기초한 UV 흡수제이고 다른 하나는 화학식 II의 벤조트라이아졸형 화합물 및 화학식 V 또는 VI의 벤즈옥사지논형 화합물에 기초한 특정의 UV 흡수제 중에서 선택되는 UV 흡수제로서, 특별히 선택된 두 UV 흡수제의 조합이 비-선형 효과 및 유기 기재 특히 유기 중합체의 개선된 안정성을 나타냄은 예상치 못했다.
Xe 램프, 및 보로실리케이트에 기초한 내부 및 외부 필터가 장착된 웨더-오-미터(Weather-O-Meter)(아틀라스(Atlas) 제조) 내에서 DIN 53387에 따른 인공 내후성 시험을 수행하였다. 상기 장치에서 340 nm 파장에서의 광 강도는 0.47 W/㎡에 달하였다. 노출 사이클 기간은 50% 상대 습도 및 63℃의 흑판 온도에서의 건조 기간 102분 및 95% 상대 습도 및 58℃의 흑판 온도에서의 물 분무 기간 18분을 포함하여 120분으로 한다.
각종의 UV 흡수제 및 UV 흡수제-조합물의 영향을 연구하기 위해 인공 UV-조사하에서의 에이징 처리를 수행하였다. ASTM D 5208에 따른 UV-CON A 처리를 위해 광 방출 파장 λ≤340 nm인 형광 램프를 포함하는 사이클 A를 사용하였다. 상기 사이클은 물 응축 없이 50℃에서 20시간 노출시킨 다음, 물 응축을 이용하여 40℃에서 4시간 노출시키는 것을 특징으로 한다.
기술적으로 중요한 것은 빛에 장기간 노출 시 황화되는 플라스틱의 경향 측정으로 정의되는 황화 지수(YI)의 제어이다. 이는 규격집 DIN 6167("거의 백색 또는 거의 무색 재료들의 황화")에 포괄적으로 기술되어 있다. 측정용으로 분광측색기 미놀타(Minolta)형 CM 3500d를 사용하였다. 비노출 플라크(plaque)와 노출 플라크 간의 차이를 측정하였다. 낮은 값은 저 황화에 해당한다.
중요한 물리적 및 기술적 파라미터는 장기간 사용 도중 가능한 한 높은 수준으로 유지되어야 하는 투명도이다. 인공 UV-A-조사 전후 상기 샘플을 관찰하였다. 투명도는 ASTM 항목 D 1746-96(1996.8.10.자로 검인을 받아 1997년 2월 출판된 최신판; 원래는 D 1746-60으로 출판), "플라스틱 쉬팅(sheeting)의 투명도에 대한 표준 시험법"에 따라 측정하였다. 측정용으로 분광광도계 미놀타형 CM 3500을 700 nm 파장에서 사용하였다. 비노출 플라크와 노출 플라크 간의 차이를 측정하였다. 높은 값은 고 투명도에 해당한다.
다른 시험 중에서도 인공적으로 에이징된 샘플의 물리적 평가는 ASTM 항목 D 2457-97, "플라스틱 필름 및 고체 플라스틱의 경면 광택도에 대한 표준 시험법"의 기준에 따른 광택도에 의해 수행되었다. 이 방법은 플라스틱에 대한 ASTM 위원회 D-20 항목하에 광학 특성 분과위원회 D20.40의 직접적인 관할하에 있다. 최신판은 1997.1.10.자로 검인되고 1997년 5월에 출판되었다. 이 방법은 개개의 광택 각도를 포함하는 투명 및 불투명 플라스틱 필름 및 고체 플라스틱의 광택도 측정에 대한 절차를 기술하고 있다. 사용된 기기는 제조사가 비와이케이-가드너(Byk-Gardener)인 광택도-계측기(gloss-meter)형 마이크로-TRI-광택계였다. 비노출 플라크와 노출 플라크 간의 차이를 측정하였다. 높은 값은 고 광택도에 해당한다.
광 충격 외에, 성분 (A) 및 성분 (B)를 포함하는 중합체 샘플을 빛에 노출시켰다. 이런 이유로, 플라크들을 개별적으로 주어진 온도로 가열되는 강제 통풍식 오븐(메머트(Memmert)형)에 놓았다. 자주 꺼낸 후, 오븐에서의 열처리 전 초기값에 대한 황화 지수의 차이를 분광광도계 미놀타형 CM 3500 D로 측정하였다.
본 실시예에서 첨가제의 양은 달리 언급되지 않으면 조성물(중합체 함유 첨가제)의 총 중량을 기준으로 하며 항상 중량%로 주어진다.
사용되는 첨가제는:
성분 (A):
호스타빈(Hostavin®) B-CAP: 화학식 I의 화합물(이때 R은 에틸이고 R'은 H이다).
성분 (B):
티누빈(Tinuvin®) 327: 화학식 II의 화합물(이때 R1 및 R3은 3급-부틸이고, R2, R4, R5, R7 및 R8은 H이고, R6은 Cl이다).
YT 35/03: 화학식 V의 화합물(이때 R18 내지 R21은 H이고, X는 O이고, R22는 C8H17이다).
YT 48/03: 화학식 V의 화합물(이때 R18 내지 R20은 H이고, R19 내지 R21은 Cl이고, X는 O이고, R22는 C8H17이다).
시아소브(Cyasorb®) UV-3638: 화학식 VI의 화합물(이때 R18 내지 R21, R23 및 R24는 H이다).
실시예 1: 사출 성형된 폴리카보네이트에 미치는 영향
100부의 폴리카보네이트, 렉산(Lexan)형 141(제너럴 일렉트릭 제조)을 표 1A, 1B, 1C 및 2에 나타낸 첨가제와 함께 건식 블렌딩시켰다. 그후 개별 혼합물을 4 mm의 다이 폭 및 80 rpm의 회전 속도로 260℃ 내지 280℃로 가열되는 4개의 온도 대역(램핑 모드)을 갖는 단축 압출기(축 조성 1:3)에서 예비-압출시켰다. 이들 예비-압출된 배합물을 280℃ 및 50바의 압력으로 사출 성형(IM 기계, 아르부르크(Arburg)사)하여 플라크(치수 100×100×1 mm)를 제조하는 데 최종 사용하였다.
표 1A, 1B 및 1C는 인공 내후성 시험 후의 결과를 나타낸다. 이들 조합은 예상 외로 노출 시간에 따른 광택도, 투명도 및 색상에 대해 선형의 더 우수한 결과를 제공한다.
Figure 112009019634400-PCT00005
Figure 112009019634400-PCT00006
Figure 112009019634400-PCT00007
유사하게, ASTM 5208에 따른 인공 UV-A 조사에 의해 본 발명에 따른 두 UV 흡수제의 혼합물을 사용한 이점을 예컨대 고 광택도 값에 의해 입증할 수 있으며, 결과를 표 2에 나타내었다.
Figure 112009019634400-PCT00008
실시예 2: 사출 성형된 폴리에틸렌테레프탈레이트에 미치는 영향
100부의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 아르나이트(Arnite)형 D 04 300(DSM 제조)을 표 3에 나타낸 바와 같은 첨가제와 함께 건식 블렌딩시켰다. 그후 개별 혼합물을 2 mm의 다이 폭 및 80 rpm의 회전 속도로 275℃ 내지 285℃로 가열되는 5개의 온도 대역(램핑 모드)을 갖는 단축 압출기(축 조성 1:3)에서 예비-압출시켰다. 이들 예비-압출된 배합물을 270℃ 및 30바의 압력으로 사출 성형(IM 기계, 아르부르크사)하여 플라크(치수 100×100×1 mm)를 제조하는 데 최종 사용하였다.
표 3에 나타낸 결과는 본 발명에 따른 UV 흡수제의 조합을 사용함으로써 장기간 UV-A 조사 후의 광택도에 대해 예상 외의 선형 이점을 나타낸다.
Figure 112009019634400-PCT00009
실시예 3: 장기간 노출 중의 에틸렌-메타크릴산 염 공중합체의 성능
에틸렌-메타크릴산 염 공중합체(IOM)형 Surlyn® 9810(듀퐁사 제조)을 표 4에 기재된 첨가제들과 함께 건식 블렌딩시켰다. 그후 개별 혼합물을 4 mm의 다이 폭 및 50 rpm의 회전 속도로 210℃의 온도에서 단축 압출기(축 조성 1:3)에서 예비-압출시켰다. 이들 예비-압출된 배합물을 240℃ 및 30바의 압력으로 사출 성형(IM 기계, 아르부르크사)하여 플라크(치수 100×100×2 mm)를 제조하는 데 최종 사용하였다.
표 4는 그 결과를 정리한 것이다. 단지 하나의 광 안정화제만이 존재하는 배합물과 비교하였을 때, 본 발명의 성분 (A)와 성분 (B)의 조합을 갖는 배합물이 단일 성분 배합물에 비해 변색이 덜 명백하다는 점에서 예상 외로 개선된 비-선형성을 나타낸다.
Figure 112009019634400-PCT00010

Claims (14)

  1. 두 UV 흡수제를 성분 (A) 및 성분 (B)로서 포함하는 조성물 (C)로서,
    상기 성분 (A)가 하기 화학식 I의 하나 이상의 화합물이고,
    상기 성분 (B)가 하기 화학식 II, V 및 VI으로 이루어진 군 중에서 선택되는 하나 이상의 화합물인, 조성물 (C):
    Figure 112009019634400-PCT00011
    Figure 112009019634400-PCT00012
    Figure 112009019634400-PCT00013
    Figure 112009019634400-PCT00014
    상기 식에서,
    R은 C1-18 알킬 또는 C1-18 사이클로알킬;
    R'은 H, C1-18 알킬 또는 C3-12 사이클로알킬, C6-10 아릴, F, Cl, Br, CN, OH, O-C1-18 알킬, O-C3-12 사이클로알킬, O-C6-10 아릴, 및 O, N 및 S로 이루어진 군 중에서 선택되는 1, 2 또는 3개의 헤테로원자, 바람직하게는 1 또는 2개, 더욱 바람직하게는 1개의 헤테로원자를 갖는 C3-10 헤테로아릴로 이루어진 군 중에서 선택되고;
    R1 내지 R8 및 R18 내지 R24는 서로 독립적으로 H, OH, F, Cl, Br, S-C1-12 알킬 및 S-C3-12 사이클로알킬; C1-18 알킬; C3-12 사이클로알킬; C6-10 아릴; O, N 및 S로 이루어진 군 중에서 선택되는 1, 2 또는 3개, 바람직하게는 1 또는 2개, 더욱 바람직하게는 1개의 헤테로원자를 갖는 C3-10 헤테로아릴;
    C(0)0-C6-10 아릴; O, N 및 S로 이루어진 군 중에서 선택되는 1, 2 또는 3개, 바람직하게는 1 또는 2개, 더욱 바람직하게는 1개의 헤테로원자를 갖는 C(0)0-C3-10 헤테로아릴;
    O-C1-18 알킬; O-C3-12 사이클로알킬; O-C6-10 아릴; O, N 및 S로 이루어진 군 중에서 선택되는 1, 2 또는 3개, 바람직하게는 1 또는 2개, 더욱 바람직하게는 1개의 헤테로원자를 갖는 O-C3-10 헤테로아릴
    로 이루어진 군 중에서 선택된다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    R이 에틸이고, R'이 H인, 조성물 (C).
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    두 UV 흡수제를 성분 (A) 및 성분 (B)로서 포함하며, 이때
    상기 성분 (A)가 하기 화학식 I의 하나 이상의 화합물이고,
    상기 성분 (B)가 하기 화학식 II의 하나 이상의 화합물인, 조성물 (C).
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    두 UV 흡수제를 성분 (A) 및 성분 (B)로서 포함하며, 이때
    상기 성분 (A)가 하기 화학식 I의 하나 이상의 화합물이고,
    상기 성분 (B)가 하기 화학식 V의 하나 이상의 화합물인, 조성물 (C).
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    두 UV 흡수제를 성분 (A) 및 성분 (B)로서 포함하는 조성물 (C)로서,
    상기 성분 (A)가 하기 화학식 I의 하나 이상의 화합물이고,
    상기 성분 (B)가 하기 화학식 VI의 하나 이상의 화합물인, 조성물 (C).
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    성분 (A)의 총량 대 성분 (B)의 총량의 중량비가 1: 19 내지 19:1인, 조성물 (C).
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    조성물 (C)의 총 중량을 기준으로 0.001 내지 100중량%의 성분 (A)와 성분 (B)의 합량을 포함함을 특징으로 하는, 조성물 (C).
  8. 제 7 항에 있어서,
    조성물 (C)의 총 중량을 기준으로 5 내지 90중량%의 성분 (A)와 성분 (B)의 합량을 포함함을 특징으로 하는, 조성물 (C).
  9. 제 7 항에 있어서,
    성분 (A) 및 성분 (B)만으로 구성됨을 특징으로 하는, 조성물 (C).
  10. 제 7 항에 있어서,
    조성물 (C)의 총 중량을 기준으로 0.001 내지 5중량%의 성분 (A)와 성분 (B)의 합 량을 포함함을 특징으로 하는, 조성물 (C).
  11. 성분 (A), 성분 (B) 및 임의적인 추가의 물질을 물리적으로 합함을 특징으로 하는, 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따른 조성물 (C)의 제조 방법.
  12. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따른 조성물 (C)의 유기 기재 안정화를 위한 용도.
  13. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 성분 (A) 및 성분 (B)를 포함하는 안정화된 유기 기재.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 유기 기재가 엔지니어링 플라스틱인, 안정화된 유기 기재.
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