KR20090064644A - Apparatus for removing particles on reticle - Google Patents

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Abstract

An apparatus for removing particles on a reticle is provided to prevent damage to a reticle due to an operation for removing particles by preventing a process error due to polluted particles. A supporting pin(12) loads a reticle(200), and is formed on a holder(11). A bottom spray nozzle(30) sprays an inert gas on a pellicle surface(220) of the reticle loaded in the holder. The reticle polluted by the particles is transferred into a separate space by a reticle transfer device. The supporting pin stably supports an edge part of the reticle. The bottom spray nozzle is installed on a top surface of the holder, and sprays the inert gas on a side of the pellicle. The bottom spray nozzle faces both sides of the pellicle in order to easily remove the particles from both sides of the pellicle.

Description

레티클의 파티클 제거장치{Apparatus for removing particles on reticle}Apparatus for removing particles on reticle}

본 발명은 레티클의 파티클 제거장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 레티클 이송장치를 이용하여 레티클(Reticle)을 이송하는 과정에서 펠리클(Pellicle) 측면의 파티클(Particle)을 원활하게 제거할 수 있도록 한 레티클의 파티클 제거장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for removing particles of a reticle, and more particularly, a reticle for smoothly removing particles on the side of a pellicle in the process of transferring a reticle using a reticle feeder. It relates to a particle removal device of.

일반적으로 반도체 제조공정 중 포토마스크(photo mask) 공정은 웨이퍼 상에 실제로 필요로 하는 회로를 구현하기 위하여 설계하고자 하는 회로 패턴이 그려진 레티클 또는 마스크(mask)에 빛을 조사하여 웨이퍼 상에 도포 된 감광제(photoresist)를 감광시킴으로써 원하는 패턴을 웨이퍼 상에 형성할 수 있게 된다.In general, the photo mask process of semiconductor manufacturing process is a photoresist applied on a wafer by irradiating light to a reticle or mask on which a circuit pattern is drawn to realize a circuit actually needed on the wafer. By photosensitive, the desired pattern can be formed on the wafer.

즉, 포토마스크공정은 사진 기술과 화학적 부식법을 병용한 것으로, 웨이퍼 상에 감광제를 도포한 후, 상기 웨이퍼를 원하는 방향의 빛만 통과시키도록 패턴 정보가 담겨져 있는 레티클을 투과한 빛에 노출하면, 상기 감광제는 레티클에 담겨진 패턴에 따라 원하는 영역에서만 감광되므로, 감광된 영역의 감광제를 제거함으로써, 웨이퍼 표면에 원하는 패턴이 형성될 수 있는 것이다.In other words, the photomask process is a combination of a photographic technique and a chemical corrosion method, and after applying a photosensitive agent on the wafer, if the wafer is exposed to the light transmitted through the reticle containing the pattern information so that only the light in the desired direction passes, Since the photoresist is only exposed to a desired area according to the pattern contained in the reticle, the desired pattern may be formed on the surface of the wafer by removing the photoresist of the photosensitive area.

상기 레티클은 주변의 공기 속에 떠다니는 파티클의 부착이나 사람이 직접 접촉하는 것에 의해 발생하는 오염 또는 손상 등을 방지하기 위해 전용 레티클 케이스에 수용하여 취급하게 되는 것이 일반적이다.The reticle is generally housed and handled in a dedicated reticle case to prevent contamination or damage caused by adhesion of particles floating in the surrounding air or direct contact with people.

도 1은 일반적인 레티클 이송장치를 보여주는 개략적인 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram showing a general reticle transfer device.

도 1을 참조하면, 포토공정에서 패턴의 노광을 위해 사용되는 레티클(200)은 장치별로 마련되어 있는 여러 종류의 레티클케이스(도면에 미도시)에 수납된다. Referring to FIG. 1, a reticle 200 used for exposing a pattern in a photo process is accommodated in various types of reticle cases (not shown) provided for each device.

이 경우 상기 레티클(200)을 각 레티클케이스에 이송할 때는 레티클 이송장치(100)를 사용하게 된다. 상기 레티클 이송장치(100)는 상부그립퍼(110)와 하부그립퍼(120)로 구성되고, 상기 상부그립퍼(110)가 가이드레일(150)을 따라 상하로 왕복이동되면서 레티클(200)이 이탈되지 않도록 고정해주게 된다.In this case, when the reticle 200 is transferred to each reticle case, the reticle transfer device 100 is used. The reticle conveying apparatus 100 is composed of an upper gripper 110 and a lower gripper 120, so that the upper gripper 110 is reciprocated up and down along the guide rail 150 so that the reticle 200 is not separated. It will be fixed.

또한, 상기 레티클 이송장치(100)의 일측에는 레티클(200) 상면의 글래스(Glass)(210)면에 불활성 가스를 분사하여 파티클을 제거할 수 있도록 상부분사노즐(300)이 구비된다.In addition, one side of the reticle transfer device 100 is provided with an upper injection nozzle 300 to inject an inert gas to the glass (210) surface of the upper surface of the reticle 200 to remove the particles.

그러나 상기 레티클(200)을 장시간 동안 사용하다 보면 상기 레티클(200) 하면에 구성된 펠리클(Pellicle)(220)면이 파티클에 의해 오염된다. 이 경우 상기 오염된 레티클(200)은 노광장치 내에서 공정에러를 일으킬 수 있는 문제점이 있다.However, when the reticle 200 is used for a long time, the surface of the pellicle 220 formed on the bottom surface of the reticle 200 is contaminated by particles. In this case, the contaminated reticle 200 may cause a process error in the exposure apparatus.

또한, 상기 펠리클(220)면의 파티클을 제거하기 위해 작업자가 와이퍼(Wiper) 등을 이용하여 직접 닦는 경우에는 추가적인 오염이 발생할 수 있고, 작업자의 부주의로 인해 레티클(200)이 파손될 수 있는 문제점이 있다.In addition, when the worker directly wipes using a wiper or the like to remove particles on the surface of the pellicle 220, additional contamination may occur, and the reticle 200 may be damaged due to carelessness of the worker. have.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 레티클 이송장치에 의해 이송되는 레티클의 펠리클면에 오염된 파티클을 원활하게 제거할 수 있도록 한 레티클의 파티클 제거장치를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a particle removing device of a reticle to smoothly remove particles contaminated on the pellicle surface of the reticle conveyed by the reticle conveying device.

상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 레티클의 파티클 제거장치는, 레티클 이송장치를 포함하는 레티클의 파티클 제거장치에 있어서, 상기 레티클 이송장치에 의해 이송되는 레티클이 로딩될 수 있도록 상면에 복수의 지지핀이 형성되는 거치대; 상기 로딩된 레티클의 하부 펠리클면에 불활성 가스를 분사하는 하부분사노즐; 을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.Particle removal apparatus of the reticle of the present invention for realizing the object as described above, in the particle removal apparatus of the reticle including a reticle conveying device, a plurality of reticles conveyed by the reticle conveying device can be loaded on the upper surface Cradle in which the support pin is formed; A lower partial nozzle for injecting an inert gas to a lower pellicle surface of the loaded reticle; Characterized in that configured to include.

이 경우 상기 하부분사노즐은, 상기 거치대의 상면에 설치되되, 상기 펠리클의 측면에 불활성 가스를 분사할 수 있도록 상측으로 비스듬히 복수 개 설치되는 것을 특징으로 한다.In this case, the lower part nozzle is installed on the upper surface of the holder, it is characterized in that a plurality of obliquely installed upwards to inject an inert gas to the side of the pellicle.

또한, 상기 불활성 가스는 질소(N2)인 것을 특징으로 한다.In addition, the inert gas is characterized in that the nitrogen (N2).

본 발명에 따른 레티클의 파티클 제거장치는, 레티클의 하부 펠리클면에 오염된 파티클을 원활하게 제거해줌으로써 공정에러를 방지할 수 있고, 상기 레티클의 파티클 제거작업을 수작업으로 직접 하는 경우에 비해 파손을 방지할 수 있는 장점이 있다.The particle removal device of the reticle according to the present invention can prevent process errors by smoothly removing particles contaminated on the lower pellicle surface of the reticle, and prevent breakage as compared to the case of manually removing the particles of the reticle by hand. There is an advantage to this.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the configuration and operation of the preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

여기서, 종래 구성과 동일기능을 수행하는 구성요소에 대하여는 동일한 부호 및 명칭을 부여하여 설명한다.Here, the components that perform the same functions as the conventional configurations will be described with the same reference numerals and names.

도 2는 본 발명에 따른 레티클의 파티클 제거장치를 보여주는 사시도이다.Figure 2 is a perspective view showing the particle removal apparatus of the reticle according to the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 레티클의 파티클 제거장치(10)는, 레티클 이송장치(100)(도 1 참조)에 의해 이송되는 레티클(200)이 로딩될 수 있도록 지지핀(12)이 형성되는 거치대(11)와, 상기 거치대(11)에 로딩된 레티클(200) 의 펠리클(220)면에 불활성 가스를 분사시키는 하부분사노즐(30)을 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 2, the particle removal apparatus 10 of the reticle according to the present invention includes a support pin 12 so that the reticle 200 transported by the reticle transfer apparatus 100 (see FIG. 1) may be loaded. The cradle 11 is formed, and the lower portion of the nozzle (30) for injecting an inert gas to the surface of the pellicle 220 of the reticle 200 loaded on the cradle (11).

상기 거치대(11)는 포토마스크공정을 반복수행하는 과정에서 파티클에 오염된 레티클(200)을 레티클 이송장치(100)를 이용하여 별도의 공간으로 이송시켜 지지해줄 수 있도록 마련된 것으로, 상기 거치대(11)의 상면에는 이송되는 레티클(200)의 저면을 지지해줄 수 있도록 복수의 지지핀(12)이 형성된다.The cradle 11 is provided to support and transport the reticle 200 contaminated with particles to a separate space by using the reticle transfer device 100 in the process of repeatedly performing the photomask process. A plurality of support pins 12 are formed on the upper surface of the) so as to support the bottom surface of the reticle 200 being transferred.

이 경우 상기 지지핀(12)은 사각형상으로 형성된 레티클(200)의 모서리부분을 안정되게 지지해줄 수 있도록 네 개의 지지핀(12)이 형성되는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable that the support pins 12 have four support pins 12 formed so as to stably support the corner portions of the reticle 200 formed in a quadrangular shape.

상기 하부분사노즐(30)은 거치대(11)에 로딩된 레티클(200)의 펠리클(220)면에 불활성 가스를 분사시켜 파티클을 제거해주는 역할을 한다. The lower part nozzle 30 serves to remove particles by injecting an inert gas to the surface of the pellicle 220 of the reticle 200 loaded on the holder (11).

이 경우 상기 하부분사노즐(30)은 거치대(11)의 상면에 설치되되, 상기 펠리 클(220)의 측면에 불활성 가스를 분사할 수 있도록 상측으로 비스듬히 복수 개 설치된다.In this case, the lower part nozzle 30 is installed on the upper surface of the holder 11, a plurality of obliquely upwardly installed to inject an inert gas to the side of the pellicle 220.

이 경우 상기 하부분사노즐(30)은 펠리클(220)의 양 측면에 존재하는 파티클을 원활하게 제거할 수 있도록 두 개의 하부분사노즐(30)이 상기 펠리클(220) 양 측면을 향하도록 설치구성될 수 있다.In this case, the lower part four nozzles 30 may be installed so that two lower part four nozzles 30 face both sides of the pellicle 220 so as to smoothly remove particles existing on both sides of the pellicle 220. Can be.

이 경우 상기 불활성 가스는 질소(N2)를 사용하는 것이 바람직하다.In this case, the inert gas is preferably nitrogen (N2).

도 3은 본 발명에 따른 레티클의 파티클 제거장치의 작동상태를 보여주는 측면도이다.Figure 3 is a side view showing the operating state of the particle removal device of the reticle according to the present invention.

도 3을 참조하면, 레티클 이송장치(100)에 의해 거치대(11)로 이송된 레티클(200)은 저면 모서리부분이 복수의 지지핀(12)에 놓이게 된다. 이 경우 상기 거치대(11)에 구비된 복수의 하부분사노즐(30)은 펠리클(220)의 양 측면을 향하도록 위치되고, 상기 하부분사노즐(30)을 통하여 질소가 분사되면서 펠리클(220) 측면의 파티클 제거작업이 실시된다.Referring to FIG. 3, a bottom edge portion of the reticle 200 transferred to the holder 11 by the reticle transfer device 100 is placed on the plurality of support pins 12. In this case, the plurality of lower part nozzles 30 provided in the holder 11 are positioned to face both sides of the pellicle 220, and the nitrogen is injected through the lower part nozzles 30 to the side of the pellicle 220. Particle removal is performed.

이하, 상기 구성에 의한 본 발명에 따른 레티클의 파티클 제거과정을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the particle removal process of the reticle according to the present invention by the above configuration will be described.

도 4는 본 발명에 따른 레티클의 파티클 제거과정을 보여주는 것으로, 먼저, 상기 레티클(200) 하면에 구성된 펠리클(220)면의 파티클을 검출하기 위한 정밀검사를 실시하여 오염 여부를 판단하게 된다(S20).4 is a view illustrating a particle removing process of the reticle according to the present invention. First, a fine inspection for detecting particles on the surface of the pellicle 220 formed on the bottom surface of the reticle 200 is performed to determine whether or not contamination is performed (S20). ).

이 경우 상기 펠리클(220)의 오염이 판단되면 레티클 이송장치(100)에 의해 레티클(200)이 거치대(11)로 이송된다(S21).In this case, when the contamination of the pellicle 220 is determined, the reticle 200 is transferred to the holder 11 by the reticle transfer device 100 (S21).

상기 이송된 레티클(200)이 지지핀(12)에 로딩되면 하부분사노즐(30)에서는 펠리클(220)의 양 측면에 질소(N2)를 분사시켜 파티클을 원활하게 제거하게 된다(S23).When the transferred reticle 200 is loaded on the support pin 12, the lower part nozzle 30 sprays nitrogen (N2) on both sides of the pellicle 220 to smoothly remove particles (S23).

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않으며 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능함은 물론이다.Although the present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and the general knowledge in the technical field to which the present invention pertains falls within the scope of the technical spirit of the present invention. Of course, various changes and modifications are possible.

도 1은 일반적인 레티클 이송장치를 보여주는 개략적인 구성도,1 is a schematic configuration diagram showing a typical reticle transfer device,

도 2는 본 발명에 따른 레티클의 파티클 제거장치를 보여주는 사시도,Figure 2 is a perspective view showing a particle removing device of the reticle according to the present invention,

도 3은 본 발명에 따른 레티클의 파티클 제거장치의 작동상태를 보여주는 측면도,Figure 3 is a side view showing the operating state of the particle removal device of the reticle according to the present invention,

도 4는 본 발명에 따른 레티클의 파티클 제거과정을 보여주는 순서도이다.Figure 4 is a flow chart showing a particle removal process of the reticle according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10 : 파티클 제거장치 11 : 거치대10: particle removal device 11: cradle

12 : 지지핀 30 : 하부분사노즐12: support pin 30: lower part four nozzle

100 : 레티클 이송장치 110 : 상부그립퍼100: reticle feeder 110: upper gripper

120 : 하부그립퍼 200 : 레티클120: lower gripper 200: reticle

210 : 글래스 220 : 펠리클210: glass 220: pellicle

300 : 상부분사노즐300: upper injection nozzle

Claims (3)

레티클 이송장치를 포함하는 레티클의 파티클 제거장치에 있어서,In the particle removal device of the reticle comprising a reticle feeder, 상기 레티클 이송장치에 의해 이송되는 레티클이 로딩될 수 있도록 상면에 복수의 지지핀이 형성되는 거치대;A cradle in which a plurality of support pins are formed on an upper surface of the reticle to be loaded by the reticle transfer device; 상기 로딩된 레티클의 하부 펠리클면에 불활성 가스를 분사하는 하부분사노즐; A lower partial nozzle for injecting an inert gas to a lower pellicle surface of the loaded reticle; 를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 레티클의 파티클 제거장치.Particle removal apparatus of the reticle, characterized in that configured to include. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 하부분사노즐은,The lower part four nozzle, 상기 거치대의 상면에 설치되되, 상기 펠리클의 측면에 불활성 가스를 분사할 수 있도록 상측으로 비스듬히 복수 개 설치되는 것을 특징으로 하는 레티클의 파티클 제거장치.Is installed on the upper surface of the cradle, the particle removal device of the reticle, characterized in that a plurality of obliquely installed upwards to inject an inert gas to the side of the pellicle. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 불활성 가스는 질소(N2)인 것을 특징으로 하는 레티클의 파티클 제거장치.The particle removal device of the reticle, characterized in that the inert gas is nitrogen (N2).
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