KR20090064428A - Method for analyzing fluidity of resin material including particles and fluidity analysis system - Google Patents

Method for analyzing fluidity of resin material including particles and fluidity analysis system Download PDF

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KR20090064428A
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쯔또무 고노
고우지 고바야시
가즈요시 고지마
마사유끼 미노
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히다치 가세고교 가부시끼가이샤
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Abstract

A technique of analyzing fluid behavior of a resin material including deformation of particles. A fluidity analysis method is characterized by establishing a calculating method in which the results of experiments on the deformation of and load on the particles are received as inputted values, the flow process of a resin material is predicted by a fluid analysis technique, and the flow and particle deformation of the resin material are predicted. Specifically, at a time step, the deformation of particles is determined from the interval between electrodes determined by fluid analysis, the load determined by subtracting the load corresponding to the deformation of the particles from the load to move the electrodes is used as the load to move the electrode at the next time step. With this, the process of flowing of a resin material while particles are deforming is predicted by fluid analysis.

Description

입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법 및 유동 해석 시스템{METHOD FOR ANALYZING FLUIDITY OF RESIN MATERIAL INCLUDING PARTICLES AND FLUIDITY ANALYSIS SYSTEM}Flow analysis method and flow analysis system of resin material incorporating particles {METHOD FOR ANALYZING FLUIDITY OF RESIN MATERIAL INCLUDING PARTICLES AND FLUIDITY ANALYSIS SYSTEM}

본 발명은 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법 및 유동 해석 시스템에 관한 것으로서, 특히, 디바이스, 액정 등에 이용되고 있는 반도체 집적 회로(IC)를 기판에 접속하기 위해서, 전극 사이에 도전성 입자를 포함하는 수지 재료를 유동시켜, 전극 사이의 입자수, 입자의 변형량으로부터 도전성을 평가할 때의 3차원 유동 해석 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flow analysis method and a flow analysis system of a resin material incorporating particles, and particularly includes conductive particles between electrodes in order to connect a semiconductor integrated circuit (IC) used in a device, a liquid crystal, or the like to a substrate. It relates to a three-dimensional flow analysis method when the resin material to be flowed to evaluate conductivity from the number of particles between the electrodes and the amount of deformation of the particles.

열경화성 재료의 유동 해석 방법으로서, 폴리우레탄 발포 재료의 밀도가 시간이 지남에 따라 감소하는 발포 거동을 해석 가능한 해석 프로그램이 하기의 특허 문헌 1, 특허 문헌 2에 기재되어 있다. As a flow analysis method of a thermosetting material, the analysis programs which can analyze the foaming behavior whose density of a polyurethane foam material decreases with time are described in following patent document 1 and patent document 2.

특허 문헌 1에서는, 발포 재료 전체를 균일한 밀도로 간주하고, 또한 그 밀도로서, 발포 원료를 교반한 발포 재료를 뿜어내는 노즐로부터 최초로 나온 발포 재료의 노즐을 나오고 나서의 경과 시간으로 산출한 밀도를 이용하고 있다. 또한, 특허 문헌 2에서는, 특허 문헌 1의 기술에 추가로, 두께의 변동에 의해서 발포 재료의 밀도가 변화하는 것을 고려한 함수를 이용하여 발포 재료의 발포 유동 해석을 행하는 것이 기재되어 있다. In Patent Literature 1, the entire foamed material is regarded as a uniform density, and as the density, the density calculated as the elapsed time after exiting the nozzle of the first foamed material from the nozzle which blows out the foamed material in which the foamed raw material is stirred is determined. I use it. Moreover, in patent document 2, in addition to the technique of patent document 1, it is described to perform foam flow analysis of foam material using the function which considered that the density of foam material changes with the change of thickness.

또한, 입자를 내재시킨 수지 재료를 전극 사이에서 압축하여, 입자 변형을 계산하는 수법으로서, 하기의 비특허 문헌 1의 R.Dudek 등의 보고예가 있다. 이것은, 구조 해석(소프트: ABAQUS)를 이용하여, 전극, 입자 및 수지 재료의 형상, 입자와 수지의 물성치(영률, 푸아송비, 선팽창 계수)를 입력하고, 가열한 전극 사이에서 입자 및 수지를 압축하는 계산 방법이다. In addition, there is a report example of R. Dudek et al. In Non-Patent Document 1 described below as a method for calculating particle deformation by compressing a resin material having particles embedded therebetween the electrodes. This uses a structural analysis (soft: ABAQUS), inputs the shape of the electrode, the particle and the resin material, the physical properties of the particle and the resin (Young's modulus, Poisson's ratio, linear expansion coefficient), and compresses the particle and resin between the heated electrodes. It is a calculation method.

특허 문헌 1: 일본 특허 공개 제2001-318909호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-318909

특허 문헌 2: 일본 특허 공개 제2003-91561호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Laid-Open No. 2003-91561

비특허 문헌 1: F10W Characterization and Thermo-Mechanical Response of Anisotropic Conductive Films 1998 IEEE, (R.Dudek, A.Schubert, S.Meinel, B.Michel(Fraunhofer Institute for Reliability and Microintegration(IZM) Berlin)) Non-Patent Document 1: F10W Characterization and Thermo-Mechanical Response of Anisotropic Conductive Films 1998 IEEE, (R.Dudek, A.Schubert, S.Meinel, B.Michel (Fraunhofer Institute for Reliability and Microintegration (IZM) Berlin))

<발명의 개시><Start of invention>

<발명이 해결하고자 하는 과제>Problems to be Solved by the Invention

수지 재료가 유동하면서 입자가 전극 사이에서 변형하는 해석을 행하는 경우에는, 유체 해석을 이용하여 수지 재료의 유동을 예측함과 동시에, 구조 해석을 이용하여 입자의 변형도 예측할 필요가 있다. 상기한 종래 기술은 구조 해석을 이용한 입자 변형의 예측 방법인데, 수지 재료 및 입자의 유동 상황, 전극 사이에 끼워지는 입자수, 수지 재료의 점도 변화, 발열 반응 등을 고려할 수 없는 문제점이 있다. In the case of performing an analysis in which the particles deform between the electrodes while the resin material flows, it is necessary to predict the flow of the resin material using the fluid analysis and also predict the deformation of the particles using the structural analysis. The above-described prior art is a method of predicting particle deformation using structural analysis, but there is a problem in that the flow of resin material and particles, the number of particles sandwiched between electrodes, viscosity change of resin material, exothermic reaction, etc. cannot be taken into consideration.

이와 같이, 구조 해석으로는 발열 반응을 수반하면서 점도 변화하는 수지 재료의 유동 과정을 정확하게 예측하는 것은 할 수 없다. 한편, 현상의 유체 해석으로는, 수지 재료가 유동하면서 입자의 전극 사이의 소성 변형을 정확하게 계산하는 것은 할 수 없다. As described above, the structural analysis cannot accurately predict the flow process of the resin material which changes in viscosity with an exothermic reaction. On the other hand, in the fluid analysis of the phenomenon, it is not possible to accurately calculate the plastic deformation between the electrodes of the particles while the resin material is flowing.

따라서, 본 발명의 목적은 전극 사이의 압축에 의해, 수지 재료 및 입자의 유동 거동을 계산하여, 전극 사이에 끼워지는 입자수를 구하는 데에 있다. 또한, 수지 점도의 상승 및 입자의 하중과 변위의 특성, 전극 사이에 끼워지는 입자수를 고려하여, 전극을 이동시키기 위해서 전극에 가한 하중 또는 속도 조건에 의해서 입자의 변형량을 예측하는 것을 목적으로 한다. Therefore, an object of the present invention is to calculate the number of particles to be sandwiched between electrodes by calculating the flow behavior of the resin material and the particles by compression between the electrodes. In addition, the object of the present invention is to predict the amount of deformation of the particles based on the load or velocity conditions applied to the electrodes in order to move the electrodes in consideration of the increase in the resin viscosity, the characteristics of the load and displacement of the particles, and the number of particles sandwiched between the electrodes. .

본 발명의 다른 목적은 입자의 변형량 및 전극 사이에 끼워지는 입자수로부터 전극 간의 도전성을 예측하는 것이다. Another object of the present invention is to predict the conductivity between electrodes from the amount of deformation of the particles and the number of particles sandwiched between the electrodes.

<과제를 해결하기 위한 수단>Means for solving the problem

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 적어도 수지 재료의 점도 조건, 입자의 변형량과 하중의 실험 결과를 입력치로 하여, 유체 해석 기술에 의해 수지 재료의 유동 과정을 예측함과 동시에, 수지 재료의 유동과 입자 변형을 예측하는 계산 방법을 실현하는 것을 특징으로 한다. 구체적으로는, 점도 변화를 고려한 수지 재료와 입자의 유동 과정의 예측에 의해, 전극 사이에 끼워지는 입자수의 예측을 가능하게 한다. In order to achieve the above object, the present invention at least predicts the flow process of the resin material by fluid analysis technology and at the same time inputs at least the viscosity conditions of the resin material, the deformation amount of the particles and the experimental results of the load, and the flow of the resin material. And a calculation method for predicting particle deformation. Specifically, the prediction of the number of particles to be sandwiched between the electrodes is made possible by the prediction of the flow process of the resin material and the particles in consideration of the viscosity change.

또한, 유체 해석이 있는 시간 스텝에 있어서, 유체 해석으로 구한 전극 사이의 간격으로부터 입자의 변형량을 구하고, 전극을 이동시키기 위해서 외부로부터 가해지는 하중으로부터, 입자의 변형량에 대응한 하중을 빼서 구한 하중을, 다음의 시간 스텝의 전극을 이동시키기 위한 하중으로서 이용함으로써, 구조 해석으로 구해야할 입자의 변형량을 유체 해석으로 산출하여, 구조 해석을 이용하지 않고, 유체 해석만으로 입자가 변형하면서 수지 재료가 유동하는 과정을 예측하는 것을 가능하게 한다. In the time step with the fluid analysis, the deformation amount of the particle is obtained from the interval between the electrodes obtained by the fluid analysis, and the load obtained by subtracting the load corresponding to the deformation amount of the particle from the load applied from the outside to move the electrode is obtained. By using it as a load for moving the electrode in the next time step, the deformation amount of the particles to be obtained by the structural analysis is calculated by the fluid analysis, and the resin material flows while the particles are deformed only by the fluid analysis without using the structural analysis. Makes it possible to predict the process.

또한, 입자의 변형량과 도전성의 관계를 입력함으로써, 입자의 변형량 최대치, 기판 사이에 끼워지는 입자수로부터 전극 간의 도전성을 예측하는 것을 가능하게 한다.In addition, by inputting the relationship between the amount of deformation of the particle and the conductivity, it is possible to predict the conductivity between the electrodes from the maximum amount of deformation of the particle and the number of particles sandwiched between the substrates.

<발명의 효과>Effect of the Invention

본 발명의 해석 기술은 이상 설명한 바와 같이, 칩 및 기판의 전극 사이에 끼워지는 입자수 및 입자의 변형량을 예측할 수가 있기 때문에, 수지 재료의 점도 변화 등의 재료 처방, 수지 재료의 두께 등의 초기 형상, 입자 및 전극의 형상, 입자의 탄성률 등의 물성치, 전극에 가하는 하중 등의 성형 공정 조건 등이 복잡하게 서로 영향을 주는 인자에 대해서 해석 상에서 최적화를 도모할 수 있다. As described above, the analysis technique of the present invention can predict the number of particles and the amount of deformation of the particles sandwiched between the electrodes of the chip and the substrate. In addition, the analysis can be optimized for the factors in which the shape of the particles and the electrode, the physical properties such as the elastic modulus of the particles, the molding process conditions such as the load applied to the electrode, and the like are complicated.

또한, 이들 인자를 최적화하기 위해서 실험 검토를 행하는 것은 비용이 높아지고, 개발 기간도 길어지기 때문에, 현실적이지 않다. In addition, it is not realistic to carry out experimental examination in order to optimize these factors because of the high cost and the long development period.

도 1은 해석 대상이 되는 도전성을 갖는 입자를 포함하는 수지 재료를 이용한 반도체 집적 회로(IC)와 기판의 성형 공정을 도시하는 모식도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic diagram which shows the shaping | molding process of a semiconductor integrated circuit (IC) and a board | substrate using the resin material containing the electroconductive particle used as the analysis object.

도 2는 유동 해석을 행하는 하드웨어 구성도이다. 2 is a hardware configuration diagram for performing flow analysis.

도 3은 본 발명의 실시예 1의 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극의 이동이 압력 제어가 되는 계산의 플로우차트이다. Fig. 3 is a flowchart of calculation in which the movement of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode of Embodiment 1 of the present invention is pressure controlled.

도 4는 본 발명의 실시예 2의 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극의 이동이 속도로부터 압력 제어가 되는 계산의 플로우차트이다. 4 is a flowchart of a calculation in which the movement of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode of Embodiment 2 of the present invention is pressure-controlled from speed.

도 5는 본 발명의 실시예 1 또는 2의 전극의 압력 제어의 해석 사례(1층 수지)이다. It is an example of analysis (one layer resin) of the pressure control of the electrode of Example 1 or 2 of this invention.

도 6은 본 발명의 실시예 1 또는 2의 전극의 압력 제어의 해석 사례(2층 수지)이다. 6 is an analysis example (two-layer resin) of pressure control of the electrode of Example 1 or 2 of the present invention.

도 7은 본 발명의 실시예 3의 도전성을 예측하는 해석의 플로우차트(반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극의 이동이 압력 제어가 되는 계산)이다. Fig. 7 is a flowchart of the analysis for predicting the conductivity of the third embodiment of the present invention (calculation in which the movement of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrodes is under pressure control).

도 8은 본 발명의 실시예 4의 도전성을 예측하는 해석의 플로우차트(반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극의 이동이 속도로부터 압력 제어가 되는 계산)이다. Fig. 8 is a flowchart of the analysis for predicting the conductivity of the fourth embodiment of the present invention (calculation in which the movement of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrodes is pressure controlled from the speed).

도 9는 입력한 「입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량」의 관계를 도시한 도면이다. FIG. 9: is a figure which shows the relationship of the "deformation amount when a load is applied per one of particle | grains 1" input.

도 10은 입력한 「입자의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC)의 전극과 기판의 전극 간의 도전성」의 관계를 도시한 도면이다. It is a figure which shows the relationship of the "inversion amount of arbitrary allowance of particle | grains, and electroconductivity between the electrode of a semiconductor integrated circuit (IC) and the electrode of a board | substrate" inputted.

도 11은 해석 대상이 되는 도전성을 갖는 입자를 포함하는 수지 재료를 이용한 반도체 집적 회로(IC)와 기판의 성형 공정을 도시하는 모식도이다. FIG. 11: is a schematic diagram which shows the shaping | molding process of a semiconductor integrated circuit (IC) and a board | substrate using the resin material containing the electroconductive particle used as the analysis object.

도 12는 유동 해석을 행하는 하드웨어 구성도이다. It is a hardware block diagram which performs a flow analysis.

도 13은 본 발명의 실시예 5의 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극의 이동이 압력 제어가 되는 계산의 플로우차트이다. Fig. 13 is a flowchart of calculation in which the movement of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode of the fifth embodiment of the present invention is pressure controlled.

도 14는 본 발명의 실시예 6의 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극의 이동이 속도로부터 압력 제어가 되는 계산의 플로우차트이다. Fig. 14 is a flowchart of calculation in which the movement of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode of the sixth embodiment of the present invention is pressure controlled from the speed.

도 15는 본 발명의 실시예 5 또는 6의 전극의 압력 제어의 해석 사례(1층 수지)이다. It is an example of analysis (one layer resin) of the pressure control of the electrode of Example 5 or 6 of this invention.

도 16은 본 발명의 실시예 5 또는 6의 전극의 압력 제어의 해석 사례(2층 수지)이다. It is an example of analysis (two-layer resin) of the pressure control of the electrode of Example 5 or 6 of this invention.

도 17은 본 발명의 실시예 7의 도전성을 예측하는 해석의 플로우차트(반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극의 이동이 압력 제어가 되는 계산)이다. Fig. 17 is a flowchart of the analysis for predicting the conductivity of the seventh embodiment of the present invention (calculation in which the movement of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrodes are under pressure control).

도 18은 입력한 「온도를 고려한 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량」의 관계를 도시한 도면이다. It is a figure which shows the relationship of the "deformation amount when a load is applied per one of particle | grains 1 which considered temperature" input.

도 19는 입력한 「입자의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC)의 전극과 기판의 전극 간의 도전성」의 관계를 도시한 도면이다. FIG. 19 is a diagram showing a relationship between the input "deformation amount of arbitrary allowance of particles and conductivity between an electrode of a semiconductor integrated circuit (IC) and an electrode of a substrate".

도 20은 전극 (4) 사이에 끼워지는 접속부의 입자 (1)의 좌표, 전극 (4)의 이동 속도를 입력 조건으로 한 구조 해석의 결과이다. FIG. 20 is a result of structural analysis using the coordinates of the particles 1 of the connecting portion sandwiched between the electrodes 4 and the moving speed of the electrodes 4 as input conditions.

도 21은 「입자의 접촉 면적과 반도체 집적 회로(IC)의 전극과 기판의 전극 간의 도전성」의 관계를 도시한 도면이다. FIG. 21 is a diagram showing a relationship between "contact area of particles and conductivity between electrodes of a semiconductor integrated circuit (IC) and electrodes of a substrate".

<부호의 설명><Description of the code>

1 : 입자1: Particle

2 : 수지 재료2: resin material

3 : 반도체 집적 회로(IC)3: semiconductor integrated circuit (IC)

4 : 전극4: electrode

5 : 기판5: substrate

6 : 계산 장치6: calculating device

7 : 계산 장치7: calculating device

8 : LAN8: LAN

9 : 표시 장치9: display device

10 : 기록 장치10: recording device

11 : 2층째의 수지 재료 11: Resin material of the second layer

<발명을 실시하기 위한 최선의 형태> Best Mode for Carrying Out the Invention

이하, 첨부의 도면을 참조하면서, 본 발명에 따른 실시 형태에 대해서 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment which concerns on this invention is described, referring an accompanying drawing.

실시예 1Example 1

[이동 전극의 압력 제어][Pressure Control of Moving Electrode]

우선, 해석 대상이 되는 성형 공정을 도 1을 이용하여 설명한다. 초기 상태 (1-a)에서는, 도전성을 갖는 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)가 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 사이에 설치되어 있다. 성형 공정에서는, 열을 가한 반도체 집적 회로(IC) (3)을 기판 (5)의 방향으로 이동시켜, 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)를 압축함으로써, 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)가 유동한다. First, the shaping | molding process used as an analysis object is demonstrated using FIG. In the initial state (1-a), the resin material 2 including the conductive particles 1 is disposed between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5. Installed in In the molding step, the semiconductor integrated circuit (IC) 3 to which the heat is applied is moved in the direction of the substrate 5 to compress the resin material 2 including the particles 1 to contain the particles 1. The resin material 2 flows.

이 때, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 수지 재료 (2)의 접촉에 의해, 수지 재료 (2)의 온도가 변화하여, 온도 변화에 수반하는 점도 변화를 발생시키면서, 수지 재료 (2)가 입자 (1)과 함께 압축되면서 유동한다. 또한, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4)의 간격이 입자 (1)의 직경보다도 작아진 때에는, 전극 (4) 사이에 끼워지는 입자 (1)은 변형하면서 압축된다. At this time, the contact of the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the resin material 2 causes the temperature of the resin material 2 to change, while generating a viscosity change accompanying the temperature change, The resin material 2 flows while being compressed with the particles 1. In addition, when the space | interval of the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5 becomes smaller than the diameter of the particle | grains 1, the particle | grains interposed between the electrodes 4 ( 1) is compressed while deforming.

반도체 집적 회로(IC) (3)의 이동이 종료했을 때(1-b)에는, 전극 (4) 사이에 끼워지는 입자 (1)의 도전성에 의해, 반도체 집적 회로(IC) (3)과 기판 (5) 사이의 전기 신호를 전하는 것이 가능해진다. 여기서, 입자 (1)의 변형량에 의해, 입자 (1)과 전극 (4)의 접촉 면적이 결정되고, 이 접촉 면적에 의해 반도체 집적 회로(IC) (3)과 기판 (5) 사이의 도전성이 결정된다. 또한, 도전성은 전극 (4) 간에 일정 전압을 인가한 경우에 흐르는 전류에 의해서 평가된다. 여기서, 입자 (1)의 변형량은 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부로부터 하중을 가하는 장치의 능력, 하중을 가했을 때의 입자 (1)의 변형량, 전극 사이에 끼워지는 입자 (1)의 수, 수지 재료 (2)의 점도 변화에 의해서 결정된다. When the movement of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is completed (1-b), the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the substrate are moved by the conductivity of the particles 1 sandwiched between the electrodes 4. It is possible to transmit the electrical signal between (5). Here, the contact area of the particle 1 and the electrode 4 is determined by the deformation amount of the particle 1, and the conductivity between the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the substrate 5 is determined by this contact area. Is determined. In addition, conductivity is evaluated by the current flowing when a constant voltage is applied between the electrodes 4. Here, the amount of deformation of the particles 1 is the ability of the device to apply a load from the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3, the amount of deformation of the particles 1 when the load is applied, the amount of the particles 1 sandwiched between the electrodes It is determined by the number and the viscosity change of the resin material (2).

[해석 시스템의 구성][Configuration of Analysis System]

다음으로, 입자 (1) 변형에 수반하는 수지 재료 (2)의 유동 과정을 예측하기 위해서 이용하는 해석 시스템에 대해서 설명한다. 해석 시스템은 도 2에 도시하는 하드웨어 구성이고 후술하는 도 3, 4, 7, 8의 플로우를 구비한 소프트웨어가 실행됨으로써 기능한다. Next, the analysis system used in order to predict the flow process of the resin material 2 accompanying particle | grain 1 deformation | transformation is demonstrated. The analysis system is a hardware configuration shown in Fig. 2 and functions by executing software having the flows of Figs. 3, 4, 7, and 8 described later.

구체적으로는, 계산 장치 (6), 기록 장치 (10)(하드디스크, MO 등)을 구비한 계산 장치 (7), 이 2개의 계산 장치를 연결하는 LAN (8), 계산 장치 (7)이 구비하는 표시 장치 (9)를 구비하고 있다. 또한, 계산 장치 (6)으로 작성한 CAD 데이터를, LAN (8)을 통해 계산 장치 (7)에 전송하도록 구성할 수도 있다. 계산 장치 (7)에 전송된 CAD 데이터를, 계산 장치 (7)의 기록 장치 (10)(하드디스크, MO 등)에 기록하여 이용할 수도 있다. 계산 장치 (7)은 도 3, 4, 7, 8로 나타내는 플로우차트에 따라서 계산을 실행하고, 결과를 기록 장치 (10)에 기록한 후, 표시 장치 (9)에 결과를 표시한다. 도시하고는 있지 않지만, 계산 장치 (6) 및 (7)에는, 당연히 키보드나 마우스 등의 입력 디바이스를 구비하고 있다. Specifically, a calculation device 7 including a calculation device 6, a recording device 10 (hard disk, MO, etc.), a LAN 8 connecting these two calculation devices, and a calculation device 7 are provided. The display apparatus 9 provided is provided. Moreover, it can also be comprised so that the CAD data created with the calculation device 6 may be transmitted to the calculation device 7 via LAN8. The CAD data transferred to the calculation device 7 may be recorded and used on the recording device 10 (hard disk, MO, etc.) of the calculation device 7. The calculation device 7 executes calculation in accordance with the flowcharts shown in Figs. 3, 4, 7, 8, records the result in the recording device 10, and then displays the result in the display device 9. Although not shown, the calculation devices 6 and 7 are naturally provided with input devices such as a keyboard and a mouse.

[플로우차트][Flowchart]

다음으로, 도 3의 플로우차트에 따라서 해석 프로그램의 처리를 설명한다. 우선, 모델 형상 작성 스텝 1001에서는, 오퍼레이터에 의해서 입력 장치를 통해 특정된 해석 대상 모델, 즉, 해석 대상의 전극, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치 (10)으로부터 판독한다. Next, the process of an analysis program is demonstrated according to the flowchart of FIG. First, in the model shape creation step 1001, the analysis target model specified by the operator through the input device, that is, the electrode of the analysis target, the shape of the resin material including the initial particles, and the resin material including the particles can flow. The data of the space is read from the storage device 10.

다음으로, 3차원 솔리드 요소 작성의 스텝 1002에서는, 모델 형상 작성 스텝 1001에서 판독한 데이터의 형상을 복수의 특정 공간(3차원 솔리드의 유한 요소)으로 분해하고, 각 유한 요소의 형상 데이터를 작성한다. Next, in step 1002 of the three-dimensional solid element creation, the shape of the data read in the model shape creation step 1001 is decomposed into a plurality of specific spaces (finite elements of the three-dimensional solid), and shape data of each finite element is created. .

다음으로, 물성치 입력 스텝 1003에서는, 해석을 행하는 재료의 물성치인 밀도, 열전도율, 비열, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15), 입자 (1)의 배치, 밀도, 직경, 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량을 입력하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 이들의 데이터를 접수한다. 또한, A: 반응률, t: 시간, T: 온도, dA/dt: 반응 속도, X1, X2: 온도의 함수가 되는 계수, N, M, Xa, Ea, Xb, Eb: 재료 고유의 계수, Q: 임의 시각까지의 발열량, Qo: 반응 종료시까지의 총발열량, dQ/dt: 발열 속도, η: 점도, η0: 초기 점도, t:시간, t0 : 겔화 시간, T: 온도, a, b, d, e, f, g: 재료 고유의 상수를 나타낸다.Next, in the physical property value input step 1003, the density, the thermal conductivity, the specific heat, the exothermic equation (Equation 7) to (Equation 11), the viscosity equations (Equation 12) to (Equation 15), which are physical properties of the material to be analyzed The display prompting the operator to input the arrangement, the density, the diameter of the particle 1, and the deformation amount when a load is applied to each of the particle 1 is performed, and these data are received from the input device. In addition, A: reaction rate, t: time, T: temperature, dA / dt: reaction rate, X1, X2: coefficients as a function of temperature, N, M, Xa, Ea, Xb, Eb: material-specific coefficients, Q : Calorific value until arbitrary time, Qo: total calorific value until the end of reaction, dQ / dt: exothermic rate, η: viscosity, η 0 : initial viscosity, t: hour, t 0 : gelation time, T: temperature, a, b , d, e, f, g: material constants.

Figure 112009020272051-PCT00001
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Figure 112009020272051-PCT00003
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Figure 112009020272051-PCT00009

다음으로, 경계 조건, 성형 조건 입력 스텝 1004에 있어서, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력의 입력을 하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 데이터를 접수한다. 여기서, 접수한 반도체 집적 회로 (IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부의 면적으로부터 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 하중 F를 산출한다. Next, in boundary condition and molding condition input step 1004, a display prompting the operator to input the pressure applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the upper portion of the electrode 4 is performed, and the data is input from the input device. Receive. Here, the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode from the pressure applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 received and the area of the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3. The load F applied to the upper part of (4) is computed.

다음으로, 오퍼레이터로부터의 해석 개시의 지시와 초기 시간 증가분을 접수한다. 또한, 해석은 미소한 시간을 증가시켜, 각각의 시간 스텝 마다의 변화를 계산하는 것이고, 시간 증가분이란, 시간 스텝의 간격을 나타낸다. Next, the instruction of analysis start from an operator and the initial time increment are received. In addition, the analysis increases the minute time and calculates the change for each time step, and the time increase represents the interval of the time step.

스텝 1005로서, 이 지시에 기초하여 기록 장치에 저장된 연속의 수학식 (1) 및 나비에 스톡스의 수학식 (2) 내지 (4), 에너지 보존식 (5)를 호출하고, 지금까지 입력을 접수한, 초기 시간 증가분, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력, 수지 재료의 밀도, 비열, 열전도율, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)를 대입하여, 전극의 압축에 의한 수지 재료 (2)와 입자 (1)의 유동에 수반하는 속도, 압력, 온도 및 점도를 계산한다. 이 계산 결과를 유한 요소의 위치와 대응시켜 기억 장치에 보존한다. In step 1005, based on this instruction, continuous equations (1) and Nabi Stokes' equations (2) to (4) and energy conservation equations (5) stored in the recording apparatus are called, and the input is received so far. In addition, the initial time increase, the pressure applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the upper portion of the electrode 4, the density of the resin material, the specific heat, the thermal conductivity, the exothermic (Equation 7) to (11), Substituting the viscosity equations (Equations 12) to (15) calculates the speed, pressure, temperature and viscosity associated with the flow of the resin material 2 and the particles 1 by compression of the electrode. The result of the calculation is stored in the storage device in correspondence with the position of the finite element.

여기서, P; 밀도, u; X 방향 속도, υ; Y 방향 속도, ω; Z 방향 속도, T; 온도, P; 압력, t;시간, η ; 점도, Cp; 정압 비열, β; 부피 팽창 계수, λ ; 열전도율을 나타내고 있다.Where P; Density, u; Velocity in the X direction, υ; Velocity in the Y direction, ω; Z direction speed, T; Temperature, P; Pressure, t; time, η; Viscosity, Cp; Constant pressure specific heat, β; Coefficient of volume expansion, λ; The thermal conductivity is shown.

Figure 112009020272051-PCT00010
Figure 112009020272051-PCT00010

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Figure 112009020272051-PCT00011

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Figure 112009020272051-PCT00012

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Figure 112009020272051-PCT00013

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Figure 112009020272051-PCT00014

다음으로, 스텝 1006에서, 전극 (4) 사이의 간격이 입자의 직경보다도 큰지 여부의 판정을 행한다. 여기서, 전극 (4) 사이의 간격이 입자 (1)의 직경(φD)과 동일해진 경우에는, 스텝 1007에 있어서, 전극 (4) 사이에 끼워지는 접속부의 입자 (1)의 수 N을 출력한다. Next, in step 1006, it is determined whether the interval between the electrodes 4 is larger than the diameter of the particles. Here, when the space | interval between the electrodes 4 becomes equal to the diameter (phi) D of the particle | grains 1, in step 1007, the number N of the particle | grains 1 of the connection part inserted between the electrodes 4 is output. .

다음의 스텝 1008부터는, 입자 (1)의 변형을 수반하는 수지 재료 (2)의 유동 과정의 계산을 행한다. 이 입자 (1)의 변형을 수반하는 수지 재료 (2)의 유동 과정의 계산을 행하는 제1 스텝 (1008)에서는, 입자 (1)의 변형은 무시하고, 전극 (4)의 이동 방향에서의 수지 재료 (2)의 이동량(=입자 (1)의 변형량) △H1을 산출 한 후에, 입력한 「입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량」으로부터 입자 (1)의 변형량 △H1에 의해서, 입자 (1)의 1개당에 가해지는 하중 △F1을 산출한다. 여기서, 입력한 「입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량」의 관계의 일례를 도 9에 도시하였다. From the next step 1008, the flow process of the resin material 2 with the deformation | transformation of the particle | grains 1 is calculated. In the first step 1008 that calculates the flow process of the resin material 2 with the deformation of the particles 1, the deformation of the particles 1 is ignored and the resin in the moving direction of the electrode 4 is ignored. After calculating the movement amount (= deformation amount of particle 1) ΔH1 of the material 2, it is determined from the input `` deformation amount when a load is applied to one particle 1 '' to the deformation amount ΔH1 of the particle 1. By this, the load ΔF1 applied to each particle 1 is calculated. Here, an example of the relationship of the "deformation amount when a load is applied per one of particle | grains 1" which was input is shown in FIG.

다음의 제2 스텝(1009)에 있어서는, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 하중 FJ2는, 설정치의 F로부터 스텝 1008에서 구한 입자 (1)의 1개당에 가해지는 하중 △F1과 스텝 1007에서 구한 전극 사이에 끼워지는 입자수 N의 곱으로 구해지는 값의 차(FJ2=F-N×△F1)을 이용한 계산을 행한다(스텝 1010). 이 하중 FJ2를 가한 경우의 전극 (4)의 이동에 의한 수지 재료 (2)의 이동량 △H2(=입자 (1)의 변형량)을 산출한 후에, 입자 (1)의 변형량 △H2에 의해서 입자 1개당에 가해지는 하중 △F2를 산출하고, FJ3=F-N×△F2를 다음의 시간 스텝의 계산에 있어서의 반도체 집적 회로(IC) (3)에 가해지는 하중 조건으로 한다. In the next second step 1009, the load FJ2 applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 is determined per one of the particles 1 obtained in step 1008 from the set value F. The calculation using the difference (FJ2 = FN × ΔF1) obtained by the product of the number of particles N sandwiched between the applied load ΔF1 and the electrode determined in step 1007 is performed (step 1010). After calculating the movement amount DELTA H2 (= strain amount of particle | grains 1) of the resin material 2 by the movement of the electrode 4 when this load FJ2 is applied, the particle | grain 1 is changed by the strain amount DELTA H2 of the particle | grains 1; The load ΔF2 applied to the unit is calculated, and FJ3 = FN × ΔF2 is used as the load condition applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 in the calculation of the next time step.

스텝 1011에 있어서, 스텝 1008 내지 1010의 계산을 반복하고, M회째의 스텝에 있어서, 입자 (1)의 변형량 △H(M), 입자 1개당에 가해지는 하중 △F(M)을 산출하고, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 하중 설정치 F로부터 입자 (1)의 1개당에 가해지는 하중 △F(M)과 스텝 1007에서 구한 전극 사이에 끼워지는 입자수 N의 곱으로 구해지는 값이 0 이하가 될 때까지 (F-NX△F(M)≤0), 또는 전극에 가해지는 하중 F가 수지 재료의 점도의 상승(겔화 점도)에 의해 전극이 이동할 수 없게 될 때까지, 또는 전극 (4) 사이의 간격이 0이 될 때까지, 입자 (1)의 변형량 및 수지 재료 (2)의 유동 거동을 계산한다(스텝 1012). In step 1011, the calculations of steps 1008 to 1010 are repeated, and in the M-th step, the deformation amount ΔH (M) of the particles 1 and the load ΔF (M) applied to each particle are calculated, Particles sandwiched between the load ΔF (M) applied to one particle 1 from the load set value F applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the upper portion of the electrode 4 and the electrode obtained in step 1007 (F-NXΔF (M) ≤ 0), or the load F applied to the electrode until the value obtained by the product of the number N becomes 0 or less due to the increase in the viscosity of the resin material (gelling viscosity) The amount of deformation of the particles 1 and the flow behavior of the resin material 2 are calculated until they cannot be moved or the interval between the electrodes 4 becomes zero (step 1012).

스텝 1013에서 계산의 수속 판정을 행하는 0 수속의 판정 수법은 압력과 미리 정하여 놓은 압력 범위를 대비하여, 범위 내에 있는 경우를 수속으로서 판정한다. 수속하지 않은 경우에는 스텝 1001 내지 1004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정한다.In step 1013, the determination procedure of zero convergence that performs the convergence determination of the calculation is made as a procedure to determine the case within the range against the pressure and the predetermined pressure range. If no procedure is taken, the process returns to any one of steps 1001 to 1004. At this time, the operator is prompted for input to determine which step to return to.

스텝 1014에 있어서 입자 변형의 적정 판정을 행한다. 여기서는, 입자의 변형량이 규정된 값의 범위 내인지를 판정하여, 규정된 범위 밖인 경우에는 스텝 1001 내지 1004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정하는 스텝 1013에서 계산이 수속한 것을 판정하고, 스텝 1014에서 입자 변형이 적정한 것을 판정한 후, 스텝 1015에서 계산을 종료한다. In step 1014, proper determination of particle deformation is performed. Here, it is determined whether the amount of deformation of the particles is within the range of the prescribed value, and when outside the prescribed range, the process returns to any one of steps 1001 to 1004. At this time, it is determined in step 1013 that the operator is prompted for input to determine which step to return, and after determining that the particle deformation is appropriate in step 1014, the calculation ends in step 1015.

또한, 스텝 1003에서의 입력 조건으로서, 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량의 관계의 예를 설명했지만, 입자 (1)의 복수개당의 하중이 가해진 경우의 변형량(또는 변형률)의 관계를 입력할 수가 있고, 입자 (1)에 가해지는 응력과 변형량(또는 변형률)의 관계를 입력할 수가 있는 것으로 한다. 또한, 발열식은 (수학식 7) 내지 (수학식 11)에 한정되는 것은 아니고, 수지 재료 (2)의 반응률을 포함하는 임의의 함수를 사용할 수 있다. In addition, although the example of the relationship of the deformation amount when the load per one of particle | grains 1 was applied as an input condition in step 1003 was demonstrated, the deformation amount (or strain rate) when the load per several pieces of particle | grains 1 is applied. It is assumed that the relationship between and the relationship between the stress applied to the particle 1 and the amount of deformation (or strain) can be input. In addition, the exothermic expression is not limited to the formulas (7) to (11), and any function including the reaction rate of the resin material (2) can be used.

또한, 점도식은 (수학식 12) 내지 (수학식 15)에 한정되는 것은 아니고, 수지 재료 (2)의 온도 또는 반응률을 포함하는 임의의 함수를 사용할 수 있다. 또한, 수속 판정은 임의의 판정 방법을 사용할 수 있다. 또한, 3차원의 해석뿐만이 아니라, 2차원의 해석도 할 수 있는 것으로 한다. 또한, 이상의 계산은 유한 요소 법 또는 유한 체적법 또는 유한 차분법을 이용하여 계산을 행할 수 있는 것으로 한다.In addition, a viscosity formula is not limited to (12)-(15), The arbitrary functions containing the temperature or reaction rate of the resin material (2) can be used. In addition, the procedure determination can use arbitrary determination methods. In addition, not only three-dimensional analysis but also two-dimensional analysis may be performed. In addition, it is assumed that the above calculation can be performed using the finite element method, the finite volume method, or the finite difference method.

실시예 2Example 2

[전극의 속도 ∼ 압력 제어로의 전환][Switching from Electrode Speed to Pressure Control]

다음으로, 도 4의 플로우차트에 따라서 해석 프로그램의 처리를 설명한다. 우선, 모델 형상 작성 스텝 2001에서는, 오퍼레이터에 의해서 입력 장치를 통해 특정된 해석 대상 모델, 즉, 해석 대상의 전극, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치 (10)으로부터 판독한다. Next, the process of an analysis program is demonstrated according to the flowchart of FIG. First, in the model shape preparation step 2001, the analysis target model specified by the operator through the input device, that is, the electrode of the analysis target, the shape of the resin material including the initial particles, and the resin material including the particles can flow. The data of the space is read from the storage device 10.

다음으로, 3차원 솔리드 요소 작성의 스텝 2002에서는, 모델 형상 작성 스텝 2001에서 판독한 데이터의 형상을 복수의 특정 공간(3차원 솔리드의 유한 요소)으로 분해하고, 각 유한 요소의 형상 데이터를 작성한다. Next, in step 2002 of creating the three-dimensional solid element, the shape of the data read in the model shape creation step 2001 is decomposed into a plurality of specific spaces (finite elements of the three-dimensional solid), and shape data of each finite element is created. .

다음으로, 물성치 입력 스텝 2003에서는, 해석을 행하는 재료의 물성치인 밀도, 열전도율, 비열, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15), 입자 (1)의 배치, 밀도, 직경, 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량을 입력하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 이들의 데이터를 접수한다. Next, in the physical property value input step 2003, the density, the thermal conductivity, the specific heat, the exothermic equations (Equation 7) to (Equation 7) to (Equation 7), the viscosity equations (Equation 12) to (Equation 15), which are physical properties of the material to be analyzed, The display prompting the operator to input the arrangement, the density, the diameter of the particle 1, and the deformation amount when a load is applied to each of the particle 1 is performed, and these data are received from the input device.

다음으로, 경계 조건, 성형 조건 입력 스텝 2004에 있어서, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 이동 속도 Vd 및 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 최대 압력의 입력을 하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 데이터를 접수한다. Next, in the boundary condition and molding condition input step 2004, the moving speed Vd of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 and the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 are placed on top. The display prompts the operator to input the maximum pressure to be applied, and receives data from the input device.

여기서, 접수한 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 최대 압력과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부의 면적으로부터, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 최대 하중 Fmax를 산출한다. Here, the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is formed from the maximum pressure applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 received and the area of the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3. And the maximum load Fmax applied to the upper portion of the electrode 4.

다음으로, 오퍼레이터로부터의 해석 개시의 지시와 초기 시간 증가분을 접수한다. 스텝 2005로서, 이 지시에 기초하여 기록 장치에 저장된 연속의 수학식 (1) 및 나비에 스톡스의 수학식 (2) 내지 (4), 에너지 보존식 (5)를 호출하고, 지금까지 입력을 접수한, 초기 시간 증가분, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력, 수지 재료의 밀도, 비열, 열전도율, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)를 대입하여, 전극의 압축에 의한 수지 재료 (2)와 입자 (1)의 유동에 수반하는 속도, 압력, 온도 및 점도를 계산한다. 이 계산 결과를 유한 요소의 위치와 대응시켜 기억 장치에 보존한다. Next, the instruction of analysis start from an operator and the initial time increment are received. In step 2005, based on this instruction, continuous equations (1) stored in the recording device, Nabi Stokes's equations (2) to (4), and an energy conservation equation (5) are called, and the input is received so far. In addition, the initial time increase, the pressure applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the upper portion of the electrode 4, the density of the resin material, the specific heat, the thermal conductivity, the exothermic (Equation 7) to (11), Substituting the viscosity equations (Equations 12) to (15) calculates the speed, pressure, temperature and viscosity associated with the flow of the resin material 2 and the particles 1 by compression of the electrode. The result of the calculation is stored in the storage device in correspondence with the position of the finite element.

다음으로 스텝 2006에서, 전극 (4) 사이의 간격이 입자의 직경보다도 큰지 여부의 판정을 행한다. 여기서, 전극 (4) 사이의 간격이 입자 (1)의 직경(φD)과 동일해진 경우에는, 스텝 2007에 있어서, 전극 (4) 사이에 끼워지는 접속부의 입자 (1)의 수 N을 출력한다. Next, in step 2006, it is judged whether the space | interval between the electrodes 4 is larger than the diameter of a particle | grain. Here, when the space | interval between the electrodes 4 becomes equal to the diameter (phi) D of the particle | grains 1, in step 2007, the number N of the particle | grains 1 of the connection part inserted between the electrodes 4 is output. .

다음의 스텝 2008부터는, 입자 (1)의 변형을 수반하는 수지 재료 (2)의 유동 과정의 계산을 행한다. 스텝 2008에서는, 전극 (4)의 이동 방향에서의 수지 재료 (2)의 이동량(=입자 (1)의 변형량) △H를 산출한 후에, 입력한 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량으로부터 입자 (1)의 변형량 △H에 의해서, 입자 (1) 의 1개당에 가해지는 하중 △F를 산출하여, 입자 (1)에 가해지는 하중 FR=N×△F를 산출한다. 또한, 수지에 가해지는 하중 FJ를, 「이동하는 전극 (4)와 수지 재료 (2)의 접촉 면적」과 「접촉 부분의 수지 재료 (2)의 압력」의 곱으로서 산출한다.From next step 2008, the flow process of the resin material 2 with deformation of the particle | grains 1 is calculated. In step 2008, when the amount of movement of the resin material 2 in the movement direction of the electrode 4 (= deformation amount of the particle 1) ΔH is calculated, a load is applied to one of the particles 1 input. The load ΔF applied to one particle 1 is calculated from the deformation amount ΔH of the particle 1 from the deformation amount of, and the load FR = N × ΔF applied to the particle 1 is calculated. In addition, the load FJ applied to resin is computed as a product of "the contact area of the electrode 4 to move and the resin material 2", and the "pressure of the resin material 2 of a contact part."

여기서, 입력한 「입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량」의 관계의 일례를 도 9에 도시하였다. 여기서, 스텝 2009에서 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 최대 하중 Fmax가, 수지 재료 (2)에 가해지는 하중 FJ와 입자에 가해지는 하중 FR의 합보다 큰지의 판정(Fmax≥FJ1+FR1)을 행한다.Here, an example of the relationship of the "deformation amount when a load is applied per one of particle | grains 1" which was input is shown in FIG. Here, whether the maximum load Fmax applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 in step 2009 is greater than the sum of the load FJ applied to the resin material 2 and the load FR applied to the particles. Is determined (Fmax≥FJ1 + FR1).

여기서, Fmax<FJ1+FR1이 되는 경우에는, 최대 하중 Fmax를 가하더라도 설정한 전극 (4)의 이동 속도 Vd를 실현할 수 없다. 따라서, 전극 (4)의 이동의 제어 방법으로서, 속도 Vd의 제어가 아니고, 최대 하중 Fmax를 가한 경우의 제어로 전환한다. Here, when Fmax <FJ1 + FR1, even if the maximum load Fmax is applied, the set moving speed Vd of the electrode 4 cannot be realized. Therefore, as a control method of the movement of the electrode 4, it switches to control when the maximum load Fmax is applied instead of control of the speed Vd.

즉, 도 3에서 도시된 스텝 1008 내지 1011의 계산을 행하여, 입자 (1)의 변형과 수지 재료 (2)의 유동 과정을 계산한다. That is, calculations of steps 1008 to 1011 shown in FIG. 3 are performed to calculate the deformation of the particles 1 and the flow process of the resin material 2.

여기서, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 하중 설정치 F로부터 입자 (1)의 1개당에 가해지는 하중 △F(M)과 스텝 1007에서 구한 전극 사이에 끼워지는 입자수 N의 곱으로 구해지는 값이 0 이하가 된 경우(F-N×△F(M)≤0), 또는 전극에 가해지는 하중 F가 수지 재료의 점도의 상승(겔화 점도)에 의해 전극이 이동할 수 없게 될 때까지, 또는 전극 (4) 사이의 간격이 0이 될 때까지, 입자 (1)의 변형량 및 수지 재료 (2)의 유동 거동을 계산한다. Here, the load ΔF (M) applied to one particle 1 from the load set value F applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 is sandwiched between the electrode and the electrode obtained in step 1007. When the value determined by the product of the number of particles N losing becomes 0 or less (FN x ΔF (M) ≤ 0), or the load F applied to the electrode is increased by the increase in the viscosity of the resin material (gelling viscosity). The amount of deformation of the particles 1 and the flow behavior of the resin material 2 are calculated until they cannot be moved or until the interval between the electrodes 4 becomes zero.

또한, 스텝 2009에 있어서, Fmax≥FJ1+FR1인 경우에는, 전극에 가해지는 하중 F가 수지 재료의 점도의 상승(겔화 점도)에 의해 전극이 이동할 수 없게 될 때까지, 또는 전극 (4) 사이의 간격이 0이 될 때까지, 스텝 2008의 계산 및 스텝 2009의 판정을 반복한다. In addition, in step 2009, when Fmax≥FJ1 + FR1, until the load F applied to an electrode becomes impossible to move an electrode by the rise of the viscosity of a resin material (gelling viscosity), or between electrodes 4 The calculation of step 2008 and the determination of step 2009 are repeated until the interval of 0 becomes zero.

여기서, 스텝 2012에서 계산의 수속 판정을 행한다. 수속의 판정 수법은 압력과 미리 정하여 놓은 압력 범위를 대비하여, 범위 내에 있는 경우를 수속으로서 판정한다. 수속하지 않은 경우에는 스텝 2001 내지 2004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정한다. Here, in step 2012, the procedure for the calculation is determined. The procedure for judging the procedure determines the case where the procedure is within the range against the pressure and the predetermined pressure range. If no procedure is taken, the process returns to any one of steps 2001 to 2004. At this time, the operator is prompted for input to determine which step to return to.

스텝 2013에 있어서 입자 변형의 적정 판정을 행한다. 여기서는, 입자의 변형량이 규정된 값의 범위 내인지를 판정하여, 규정된 범위 밖인 경우에는 스텝 2001 내지 2004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정한다. In step 2013, appropriate determination of particle deformation is performed. Here, it is determined whether the amount of deformation of the particles is within the range of the prescribed value, and if outside the prescribed range, the process returns to any one of steps 2001 to 2004. At this time, the operator is prompted for input to determine which step to return to.

스텝 2012에서 계산이 수속한 것을 판정하고, 스텝 2013에서 입자 변형이 적정한 것을 판정한 후, 스텝 2014에서 계산을 종료한다. It is determined in step 2012 that the calculation has been performed, and in step 2013 it is determined that the particle deformation is appropriate, and then the calculation is terminated in step 2014.

또한, 스텝 2003에 있어서의 입력 조건으로서, 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량의 관계의 예를 설명했지만, 입자 (1)의 복수개당의 하중이 가해진 경우의 변형량(또는 변형률)의 관계를 입력할 수가 있어, 입자 (1)에 가해지는 응력과 변형량(또는 변형률)의 관계를 입력할 수가 있는 것으로 한다. In addition, although the example of the relationship of the deformation amount when the load per one of the particles 1 was applied as an input condition in Step 2003 was demonstrated, the deformation amount (or strain rate) when the load per several pieces of the particle 1 is applied. ), And the relationship between the stress applied to the particles 1 and the amount of deformation (or strain) can be input.

또한, 발열식은 (수학식 7) 내지 (수학식 11)에 한정되는 것은 아니고, 수지 재료 (2)의 반응률을 포함하는 임의의 함수를 사용할 수 있다. 또한, 점도식은 (수학식 12) 내지 (수학식 15)에 한정되는 것은 아니고, 수지 재료 (2)의 온도 또는 반응률을 포함하는 임의의 함수를 사용할 수 있다. In addition, the exothermic expression is not limited to the formulas (7) to (11), and any function including the reaction rate of the resin material (2) can be used. In addition, a viscosity formula is not limited to (12)-(15), The arbitrary functions containing the temperature or reaction rate of the resin material (2) can be used.

또한, 수속 판정은 임의의 판정 방법을 사용할 수 있다. 또한, 3차원의 해석뿐만이 아니라, 2차원의 해석도 할 수 있는 것으로 한다. 또한, 이상의 계산은 유한 요소법 또는 유한 체적법 또는 유한 차분법을 이용하여 계산을 행할 수 있는 것으로 한다. In addition, the procedure determination can use arbitrary determination methods. In addition, not only three-dimensional analysis but also two-dimensional analysis may be performed. In addition, it is assumed that the above calculation can be performed using the finite element method, the finite volume method, or the finite difference method.

[전극의 압력 제어의 해석 사례(1층 수지)][Analysis example of pressure control of electrode (one layer resin)]

여기서, 도 5에 해석 사례의 일례(2차원 해석)를 도시한다. 초기 상태에 있어서, 도전성을 갖는 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)가 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 사이에 설치되어 있다. 여기서, 수지 재료 (2)는 초기 온도 30℃로 하고, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)를 이용하는 것으로 한다. 또한, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)의 상수의 값, 밀도, 열전도율, 비열의 값, 입자의 직경(φD), 밀도를 표 1에 나타내었다. Here, an example (two-dimensional analysis) of an analysis example is shown in FIG. In the initial state, a resin material 2 comprising conductive particles 1 is provided between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5. . Here, it is assumed that the resin material (2) has an initial temperature of 30 ° C. and uses exothermic formulas (7) to (11) and viscosity formulas (12) to (15). In addition, the values of the constants, densities, thermal conductivity, specific heat values, diameters of the particles (φD), and densities of the exothermic formulas (7) to (11) and the viscosity formulas (12) to (15) Is shown in Table 1.

Figure 112009020272051-PCT00015
Figure 112009020272051-PCT00015

또한, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 온도는 일정(185℃)하게 설정하고, 기판 (5)의 방향으로 압력 5 MPa를 가하여 이동시키고, 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)를 압축함으로써, 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)를 유동시킨다. 이 때, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 수지 재료 (2)의 접촉에 의해, 수지 재료 (2)의 온도가 변화하여, 온도 변화에 수반하는 점도 변화를 발생시키면서, 수지 재료 (2)가 입자 (1)과 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산할 수 있다. In addition, the temperature of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is set to be constant (185 ° C.), and the resin material 2 including the particles 1 is moved by applying a pressure of 5 MPa in the direction of the substrate 5. By compressing, the resin material 2 including the particle 1 is made to flow. At this time, the contact of the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the resin material 2 causes the temperature of the resin material 2 to change, while generating a viscosity change accompanying the temperature change, The process by which the resin material 2 flows while being compressed with the particles 1 can be calculated.

또한, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4)의 간격이 입자 (1)의 직경보다도 작아진 때에는, 해석 상에서는, 입자 (1)과 전극 (4)의 접촉의 계산은 행하지 않는다. 즉, 해석 상에서는, 입자 (1)끼리, 입자 (1)과 전극 (4)가 접촉하는 경우에는, 입자 (1)이 전극 (4)를 빠져나가는 등의 설정을 행함으로써, 수지 재료 (2)만의 유동성의 계산을 행한다. 이 때, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부로부터 가하는 압력은 설정치인 5 MPa가 아니고, 도 3의 플로우차트로 도시한 바와 같이, 설정 압력과 면적의 곱으로 구한 하중으로부터 입자 (1)의 변형량에 대응한 하중을 뺀 값을 이용한다. In addition, when the space | interval of the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5 becomes smaller than the diameter of the particle | grains 1, particle | grains 1 and an electrode ( The contact of 4) is not calculated. That is, in the analysis, when the particles 1 are in contact with the particles 1 and the electrode 4, the resin material 2 is set by setting the particles 1 to exit the electrode 4 or the like. Only the liquidity is calculated. At this time, the pressure applied from the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is not 5 MPa, which is the set value, but the particles 1 are obtained from the load obtained by multiplying the set pressure and the area, as shown in the flowchart of FIG. Use the value obtained by subtracting the load corresponding to the deformation of.

이 계산의 결과, 수지 점도가 커져, 하중을 가하더라도 반도체 집적 회로(IC) (3)과 전극 (4)의 이동을 할 수 없게 되어 해석이 종료한다. 이 때, 전극 사이의 간격으로부터 입자 (1)의 변형량을 구할 수 있다. 또한, 입자의 변형량 △D는 (수학식 6)으로 구할 수 있다. As a result of this calculation, the resin viscosity becomes large and the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 cannot be moved even when a load is applied, and the analysis ends. At this time, the deformation amount of the particle 1 can be calculated | required from the space | interval between electrodes. In addition, strain amount D of particle | grains can be calculated | required by (Equation 6).

Figure 112009020272051-PCT00016
Figure 112009020272051-PCT00016

여기서, D: 입자 (1)의 직경, D1: 해석 종료 후의 기판 (4)의 간격을 나타낸다. 또한, 이상에서는 전극 (4)의 이동이 압력에 의해 제어되는 사례를 나타내었지만, 본 발명은 이것에만 한정되는 것은 아니고, 도 4의 플로우차트로 도시한 바와 같이, 전극의 이동을 속도로부터 압력으로 제어하는 것도 가능해진다. 또한, 여기서는 입자 내의 열전도 계산은 행하고 있지 않지만, 입자의 비열, 열전도율, 수지 재료와 입자의 열전달율 등의 입력에 의해, 입자 내의 열전도 계산도 행할 수 있다. Here, D: diameter of particle | grains 1, D1: space | interval of the board | substrate 4 after completion | finish of analysis is shown. In addition, although the case where the movement of the electrode 4 is controlled by the pressure was shown above, this invention is not limited only to this, As shown by the flowchart of FIG. 4, the movement of an electrode from a speed to a pressure is shown. It is also possible to control. In addition, although the heat conduction calculation in particle | grains is not performed here, the heat conduction calculation in particle | grains can also be performed by input of the specific heat of a particle | grain, thermal conductivity, the heat transfer rate of a resin material, and particle | grains.

[전극의 압력 제어의 해석 사례(2층 수지)][Analysis example of pressure control of electrode (two-layer resin)]

여기서, 도 6에 수지 재료가 2층으로 나뉘어져 있는 해석 사례(2차원 해석)의 일례를 도시한다.6 shows an example of an analysis example (two-dimensional analysis) in which a resin material is divided into two layers.

초기 상태에 있어서, 도전성을 갖는 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)의 상부에 입자 (1)을 포함하는 물성치가 서로 다른 수지 재료 (11)을 포함하는 2층 구조의 수지 재료가, 반도체 집적 회로 (IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 사이에 설치되어 있다. 여기서, 수지 재료 (2)는 초기 온도 30℃로 하여, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)를 이용하는 것으로 한다. 또한, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)의 상수의 값, 밀도, 열전도율, 비열의 값, 입자의 직경(φD), 밀도에 대해서, 1층째의 수지 재료 (2) 및 입자 (1)은 표 1의 값을 이용하고, 2층째의 수지 재료 (11) 및 입자 (1)의 값을 표 2에 나타내었다. In an initial state, the resin material of the two-layered structure containing the resin material 11 from which the physical property containing the particle | grains 1 differs in the upper part of the resin material 2 containing the particle | grains 1 which have electroconductivity, It is provided between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5. Here, it is assumed that the resin material (2) has an initial temperature of 30 ° C. and uses exothermic formulas (7) to (11) and viscosity formulas (12) to (15). In addition, the values of the constants, densities, thermal conductivity, specific heat values, diameters of the particles (φD), and densities of the exothermic formulas (7) to (11) and the viscosity formulas (12) to (15) For the resin material 2 and the particle 1 of the first layer, the values of Table 1 were used, and the values of the resin material 11 and the particle 1 of the second layer were shown in Table 2.

[표 1]TABLE 1

Figure 112009020272051-PCT00017
Figure 112009020272051-PCT00017

Figure 112009020272051-PCT00018
Figure 112009020272051-PCT00018

여기서, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 온도는 일정(185℃)하게 설정하고, 기판 (5)의 방향으로 압력 5 MPa를 가하여 이동시켜, 수지 재료 (2), (11)을 압축함으로써, 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2), (11)을 유동시킨다. 이 때, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 수지 재료 (2), (11)의 접촉에 의해, 수지 재료 (2), (11)의 온도가 변화하여, 온도 변화에 수반하는 점도 변화를 발생시키면서, 수지 재료 (2), (11)이 입자 (1)과 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산할 수 있다.Here, the temperature of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is set constant (185 ° C.), and is moved by applying a pressure of 5 MPa in the direction of the substrate 5 to compress the resin materials 2 and 11. , The resin materials (2) and (11) containing the particles (1) are made to flow. At this time, the contact between the electrodes 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the resin materials 2 and 11 changes the temperature of the resin materials 2 and 11, resulting in a change in temperature. It is possible to calculate the process by which the resin materials (2), (11) flow while being compressed with the particles (1) while generating the accompanying viscosity change.

또한, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4)의 간격이 입자 (1)의 직경보다도 작아진 때에는, 해석 상에서는, 입자 (1)과 전극 (4)의 접촉의 계산은 행하지 않는다. 즉, 해석 상에서는, 입자 (1)끼리, 입자 (1)과 전극 (4)가 접촉하는 경우에는, 입자 (1)이 전극 (4)를 빠져나가는 등의 설정을 행함으로써, 수지 재료 (2), (11)만의 유동성의 계산을 행한다. 이 때, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부로부터 가하는 압력은 설정치인 5 MPa가 아니고, 도 3의 플로우차트로 도시한 바와 같이, 설정 압력과 면적의 곱으로 구한 하중으로부터 입자 (1)의 변형량에 대응한 하중을 뺀 값을 이용한다. In addition, when the space | interval of the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5 becomes smaller than the diameter of the particle | grains 1, particle | grains 1 and an electrode ( The contact of 4) is not calculated. That is, in the analysis, when the particles 1 are in contact with the particles 1 and the electrode 4, the resin material 2 is set by setting the particles 1 to exit the electrode 4 or the like. And (11) calculate the fluidity. At this time, the pressure applied from the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is not 5 MPa, which is the set value, but the particles 1 are obtained from the load obtained by multiplying the set pressure and the area, as shown in the flowchart of FIG. Use the value obtained by subtracting the load corresponding to the deformation of.

이 계산의 결과, 수지 점도가 커져, 하중을 가하더라도 반도체 집적 회로(IC) (3)과 전극 (4)의 이동을 할 수 없게 되어, 해석이 종료한다. 이 때, 전극 사이의 간격으로부터 입자 (1)의 변형량을 구할 수 있다. 또한, 입자 (1)의 변형량 △D는, (수학식 6)으로 구할 수 있다. As a result of this calculation, the resin viscosity becomes large, and even if a load is applied, the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 cannot be moved, and the analysis ends. At this time, the deformation amount of the particle 1 can be calculated | required from the space | interval between electrodes. In addition, strain amount D of particle | grains 1 can be calculated | required by (Equation 6).

[수학식 6][Equation 6]

Figure 112009020272051-PCT00019
Figure 112009020272051-PCT00019

여기서, D: 입자 (1)의 직경, D1: 해석 종료 후의 기판 (4)의 간격을 나타낸다. 또한, 이상에서는 전극 (4)의 이동이 압력에 의해 제어되는 사례를 나타내었지만, 본 발명은 이것에만 한정되는 것은 아니고, 도 4의 플로우차트로 도시한 바와 같이, 전극의 이동을 속도로부터 압력으로 제어하는 것도 가능해진다. 또한, 여기서는 입자 내의 열전도 계산은 행하고 있지 않지만, 입자의 비열, 열전도율, 수지 재료와 입자의 열전달율 등의 입력에 의해, 입자 내의 열전도 계산도 행할 수 있다. 또한, 이상에서는 이상일의 수지 재료 (11)에 입자 (1)이 포함되는 해석의 사례를 나타내었지만, 본 발명은 이것에만 한정되는 것은 아니고, 이상일의 수지 재료 (11)에는 입자 (1)이 포함되지 않는 상태에서의 해석도 행할 수 있는 것으로 한다. Here, D: diameter of particle | grains 1, D1: space | interval of the board | substrate 4 after completion | finish of analysis is shown. In addition, although the case where the movement of the electrode 4 is controlled by the pressure was shown above, this invention is not limited only to this, As shown by the flowchart of FIG. 4, the movement of an electrode from a speed to a pressure is shown. It is also possible to control. In addition, although the heat conduction calculation in particle | grains is not performed here, the heat conduction calculation in particle | grains can also be performed by input of the specific heat of a particle | grain, thermal conductivity, the heat transfer rate of a resin material, and particle | grains. In addition, although the example of the analysis in which the particle | grains 1 are contained in the resin material 11 of the abnormal day was shown above, this invention is not limited only to this, The particle | grain 1 is contained in the resin material 11 of the abnormal day. It is also assumed that the analysis can be performed in a state where it is not possible.

실시예 3Example 3

[도전성의 예측(전극 이동의 압력 제어)]Prediction of Conductivity (Pressure Control of Electrode Movement)

도 7은 본 발명의 실시예 3의 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 예측하는 플로우차트이다. 여기서는, 도 3의 플로우차트로 구한 입자 변형량과 도전성의 관계의 입력에 의해, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 예측한다. 우선, 모델 형상 작성 스텝 3001에서는, 오퍼레이터에 의해서 입력 장치를 통해 특정된 해석 대상 모델, 즉, 해석 대상의 전극, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치 (10)으로부터 판독한다. 7 is a flowchart for predicting the conductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5 of Embodiment 3 of the present invention. Here, the conductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5 is predicted by the input of the relationship between the particle deformation amount and the conductivity obtained in the flowchart of FIG. 3. First, in the model shape creation step 3001, the analysis target model specified by the operator through the input device, that is, the electrode of the analysis target, the shape of the resin material including the initial particles, and the resin material including the particles can flow. The data of the space is read from the storage device 10.

다음으로, 3차원 솔리드 요소 작성의 스텝 3002에서는, 모델 형상 작성 스텝 1001에서 판독한 데이터의 형상을 복수의 특정 공간(3차원 솔리드의 유한 요소)으로 분해하고, 각 유한 요소의 형상 데이터를 작성한다. Next, in step 3002 of three-dimensional solid element creation, the shape of the data read in model shape creation step 1001 is decomposed into a plurality of specific spaces (finite elements of three-dimensional solids), and shape data of each finite element is created. .

다음으로, 물성치 입력 스텝 3003에서는, 해석을 행하는 재료의 물성치인 밀도, 열전도율, 비열, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15), 입자 (1)의 배치, 밀도, 직경, 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량을 입력하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 이들의 데이터를 접수한다. Next, in the physical property value input step 3003, the density, the thermal conductivity, the specific heat, the exothermic type (Equation 7) to (Equation 7) to (Equation 7), the viscosity equations (Equation 12) to (Equation 15), which are the physical property values of the material to be analyzed, The display prompting the operator to input the arrangement, the density, the diameter of the particle 1, and the deformation amount when a load is applied to each of the particle 1 is performed, and these data are received from the input device.

다음으로, 경계 조건, 성형 조건 입력 스텝 3004에서, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력의 입력을 하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 데이터를 접수한다. 여기서, 접수한 반도체 집적 회로 (IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부의 면적으로부터 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 하중 F를 산출한다. Next, in the boundary condition and molding condition input step 3004, a display prompting the operator to input the pressure applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the upper portion of the electrode 4 is performed, and data is input from the input device. Accept. Here, the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode from the pressure applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 received and the area of the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3. The load F applied to the upper part of (4) is computed.

다음으로, 오퍼레이터로부터의 해석 개시의 지시와 초기 시간 증가분을 접수한다. 스텝 3005로서, 이 지시에 기초하여 기록 장치에 저장된 연속의 수학식 (1) 및 나비에 스톡스의 수학식 (2) 내지 (4), 에너지 보존식 (5)를 호출하고, 지금까지 입력을 접수한, 초기 시간 증가분, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력, 수지 재료의 밀도, 비열, 열전도율, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)를 대입하여, 전극의 압축에 의한 수지 재료 (2)와 입자 (1)의 유동에 수반하는 속도, 압력, 온도 및 점도를 계산한다. 이 계산 결과를 유한 요소의 위치와 대응시켜 기억 장치에 보존한다. Next, the instruction of analysis start from an operator and the initial time increment are received. In step 3005, the continuous equations (1) stored in the recording device, the butterfly Stokes equations (2) to (4), and the energy conservation equation (5) are called up based on this instruction, and the input is accepted so far. In addition, the initial time increase, the pressure applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the upper portion of the electrode 4, the density of the resin material, the specific heat, the thermal conductivity, the exothermic (Equation 7) to (11), Substituting the viscosity equations (Equations 12) to (15) calculates the speed, pressure, temperature and viscosity associated with the flow of the resin material 2 and the particles 1 by compression of the electrode. The result of the calculation is stored in the storage device in correspondence with the position of the finite element.

다음으로 스텝 3006에서, 전극 (4) 사이의 간격이 입자의 직경보다도 큰지 여부의 판정을 행한다. 여기서, 전극 (4) 사이의 간격이 입자 (1)의 직경(φD)과 동일해진 경우에는, 스텝 3007에 있어서, 전극 (4) 사이에 끼워지는 접속부의 입자 (1)의 수 N을 출력한다. Next, in step 3006, a determination is made as to whether or not the interval between the electrodes 4 is larger than the diameter of the particles. Here, when the space | interval between the electrodes 4 becomes equal to the diameter (phi) D of the particle | grains 1, in step 3007, the number N of the particle | grains 1 of the connection part inserted between the electrodes 4 is output. .

다음의 스텝 1008 내지 1015는 도 3의 플로우차트로 나타낸 계산 방법이고, 스텝 3008에서 입자의 변형량을 출력한다. 스텝 3009에서, 입자 (1)의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 입력한다. 또한, 도전성은 전극 간에 임의의 전압을 인가한 경우의 전류치 I로 한다. 여기서, 입자 (1)의 전극 (4) 사이에 끼워지는 수 N은, 스텝 3007에서 산출하고, 입자 (1)의 변형량은 스텝 3008에서 구하는 것으로 한다.The following steps 1008 to 1015 are calculation methods shown in the flowchart of FIG. 3, and the deformation amount of the particles is output in step 3008. In step 3009, the deformation amount of the arbitrary allowance of the particles 1 and the conductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5 are input. In addition, electroconductivity is made into the electric current value I when the arbitrary voltage is applied between electrodes. Here, the number N sandwiched between the electrodes 4 of the particles 1 is calculated in step 3007, and the deformation amount of the particles 1 is determined in step 3008.

여기서, 입력한 「입자 (1)의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성」의 관계의 일례를 도 10에 나타내었다. 또한, 여기서는 입자 (1)의 임의수의 대표치로서, N1, N2, N3의 경우를 나타내고 있고, 스텝 3007에 있어서, 전극 (4) 사이에 끼워지는 접속부의 입자 (1)의 수 N이 N1, N2, N3 이외인 경우에는, 내삽, 외삽으로 값을 구할 수 있다. Here, an example of the relationship between the input "deformation amount of arbitrary allowance of the particle 1 and the electroconductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5" is shown in FIG. Indicated. In addition, as the representative value of arbitrary numbers of the particle | grains 1 here, the case of N1, N2, N3 is shown, In step 3007, the number N of the particle | grains 1 of the connection part inserted between the electrodes 4 is N1. In the case of other than N2 and N3, the value can be obtained by interpolation or extrapolation.

여기서, 스텝 3010에서, 스텝 3008에서 구한 입자 (1)의 변형량으로부터 입자 1개당의 도전성을 산출하고, 이 입자 1개당의 도전성과 스텝 3007에서 구한 전극 (4) 사이의 입자수로부터, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 산출한다. Here, in step 3010, the electroconductivity per particle is calculated from the deformation amount of the particle 1 obtained in step 3008, and the semiconductor integrated circuit is calculated from the electroconductivity per particle and the number of particles between the electrode 4 obtained in step 3007. (IC) The conductivity between the electrode 4 of the substrate 3 and the electrode 4 of the substrate 5 is calculated.

다음으로 스텝 3011에서 계산의 수속 판정을 행한다. 수속의 판정 수법은 압력과 미리 정하여 놓은 압력 범위를 대비하여, 범위 내에 있는 경우를 수속으로서 판정한다. 수속하지 않은 경우에는 스텝 3001 내지 3004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정한다. Next, a calculation procedure is determined in step 3011. The procedure for judging the procedure determines the case where the procedure is within the range against the pressure and the predetermined pressure range. In the case of no procedure, the process returns to any one of steps 3001 to 3004. At this time, the operator is prompted for input to determine which step to return to.

스텝 3012에 있어서 도전성의 적정 판정을 행한다. 여기서는, 도전성이 규정된 값의 범위 내인지를 판정하여, 규정된 범위 밖인 경우에는 스텝 3001 내지 3004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정한다. In step 3012, proper determination of conductivity is performed. Here, it is determined whether the conductivity is within the range of the prescribed value, and when it is outside the prescribed range, the process returns to any one of steps 3001 to 3004. At this time, the operator is prompted for input to determine which step to return to.

스텝 3011에서 계산이 수속한 것을 판정하고, 스텝 3012에서 입자 변형이 적정한 것을 판정한 후, 스텝 3013에서 계산을 종료한다. 또한, 스텝 3009에서 입력한 「입자 (1)의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성」은, 「입자 (1)의 임의수당의 변형량과, 입자 (1)과 전극 (4)의 접촉 면적」의 관계로부터 구한 「입자 (1)과 전극 (4)의 접촉 면적과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성」을 입력할 수도 있다. 또한, 도전성은 전극 사이에 임의 전압을 인가한 경우의 전류치로 했지만, 본 발명은 이것에만 한정되는 것은 아니고, 전극 사이의 저항치 등을 사용할 수 있다. It is determined in step 3011 that the calculation has been performed, and after determining that the particle deformation is appropriate in step 3012, the calculation ends in step 3013. In addition, "the amount of deformation of the arbitrary allowance of the particle | grains 1 and the electroconductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5" input in step 3009 is "particle ( The contact area between the particle 1 and the electrode 4 and the semiconductor integrated circuit (IC) 3 obtained from the relationship between the deformation amount of the arbitrary allowance of 1) and the contact area between the particle 1 and the electrode 4. Conductivity between the electrode 4 and the electrode 4 of the substrate 5 can be input. In addition, although electroconductivity was made into the electric current value at the time of applying arbitrary voltage between electrodes, this invention is not limited only to this, The resistance value between electrodes, etc. can be used.

실시예 4Example 4

[도전성의 예측(전극 이동의 속도 ∼ 압력 제어)]Prediction of Conductivity (Speed of Electrode Movement to Pressure Control)

도 8은 본 발명의 실시예 4의 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 예측하는 플로우차트를 나타낸다. 여기서, 도 4의 플로우차트로 구한 입자 변형량과 도전성의 관계의 입력에 의해, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 예측한다. Fig. 8 shows a flowchart for predicting the conductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5 of Embodiment 4 of the present invention. Here, the conductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5 is predicted by the input of the relationship between the particle deformation amount and the conductivity obtained in the flowchart of FIG. 4.

우선, 모델 형상 작성 스텝 4001에서는, 오퍼레이터에 의해서 입력 장치를 통해 특정된 해석 대상 모델, 즉, 해석 대상의 전극, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치 (10)으로부터 판독한다. First, in the model shape creation step 4001, the analysis target model specified by the operator via the input device, that is, the electrode of the analysis target, the shape of the resin material including the initial particles, and the resin material including the particles can flow. The data of the space is read from the storage device 10.

다음으로, 3차원 솔리드 요소 작성의 스텝 4002에서는, 모델 형상 작성 스텝 4001에서 판독한 데이터의 형상을 복수의 특정 공간(3차원 솔리드의 유한 요소)으로 분해하고, 각 유한 요소의 형상 데이터를 작성한다. Next, in step 4002 of the three-dimensional solid element creation, the shape of the data read in the model shape creation step 4001 is decomposed into a plurality of specific spaces (finite elements of the three-dimensional solid), and shape data of each finite element is created. .

다음으로, 물성치 입력 스텝 4003에서는, 해석을 행하는 재료의 물성치인 밀도, 열전도율, 비열, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15), 입자의 밀도, 직경, 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량을 입력하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 이들의 데이터를 접수한다. Next, in the physical property value input step 4003, the density, the thermal conductivity, the specific heat, the exothermic type (Equation 7) to (Equation 7) to (Equation 7), the viscosity equations (Equation 12) to (Equation 15), which are the physical property values of the material to be analyzed The display prompts the operator to input the density of the particle, the diameter, and the amount of deformation when a load is applied to one of the particles 1, and receives these data from the input device.

다음으로, 경계 조건, 성형 조건 입력 스텝 4004에 있어서, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 이동 속도 Vd 및 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 최대 압력의 입력을 하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 데이터를 접수한다. 여기서, 접수한 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 최대 압력과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부의 면적으로부터, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 최대 하중 Fmax를 산출한다. Next, in the boundary condition and molding condition input step 4004, the moving speed Vd of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 and the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 are shown. The display prompts the operator to input the maximum pressure to be applied, and receives data from the input device. Here, the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is formed from the maximum pressure applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 received and the area of the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3. And the maximum load Fmax applied to the upper portion of the electrode 4.

다음으로, 오퍼레이터로부터의 해석 개시의 지시와 초기 시간 증가분을 접수한다. 스텝 4005로서, 이 지시에 기초하여 기록 장치에 저장된 연속의 수학식 (1) 및 나비에 스톡스의 수학식 (2) 내지 (4), 에너지 보존식 (5)를 호출하고, 지금까지 입력을 접수한, 초기 시간 증가분, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력, 수지 재료의 밀도, 비열, 열전도율, 발열식 (1), 점도식 (2)를 대입하여, 전극의 압축에 의한 수지 재료 (2)와 입자 (1)의 유동에 수반하는 속도, 압력, 온도 및 점도를 계산한다. 이 계산 결과를 유한 요소의 위치와 대응시켜 기억 장치에 보존한다. Next, the instruction of analysis start from an operator and the initial time increment are received. In step 4005, based on this instruction, continuous equations (1) stored in the recording device, Nabi Stokes' equations (2) to (4), and an energy conservation equation (5) are called, and the input is received until now. In addition, the initial time increase, the pressure applied to the semiconductor integrated circuit (IC) (3) and the upper portion of the electrode (4), the density of the resin material, the specific heat, the thermal conductivity, the heating type (1), the viscosity formula (2) by substituting The velocity, pressure, temperature and viscosity accompanying the flow of the resin material 2 and the particles 1 by the compression of the electrode are calculated. The result of the calculation is stored in the storage device in correspondence with the position of the finite element.

다음으로 스텝 4006에서, 전극 (4) 사이의 간격이 입자의 직경보다도 큰지 여부의 판정을 행한다. 여기서, 전극 (4) 사이의 간격이 입자 (1)의 직경(φD)과 동일해진 경우에는, 스텝 4007에 있어서, 전극 (4) 사이에 끼워지는 접속부의 입자 (1)의 수 N을 출력한다. Next, in step 4006, it is judged whether the space | interval between the electrodes 4 is larger than the diameter of a particle | grain. Here, when the space | interval between the electrodes 4 becomes equal to the diameter (phi) D of the particle | grains 1, in step 4007, the number N of the particle | grains 1 of the connection part inserted between the electrodes 4 is output. .

다음의 스텝 2008 내지 2014는 도 4의 플로우차트로 나타낸 계산 방법이고, 스텝 4008에서 입자의 변형량을 출력한다. 스텝 4009에서, 입자 (1)의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 입력한다. 또한, 도전성은 전극 간에 임의의 전압을 인가한 경우의 전류치 I로 한다. 여기서, 입자 (1)의 전극 (4) 사이에 끼워지는 수 N은 스텝 4007에서 산출하고, 입자 (1)의 변형량은 스텝 4008에서 구하는 것으로 한다. 여기서, 입력한 「입자 (1)의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성」의 관계의 일례를 도 10에 나타내었다. 또한, 여기서는 입자 (1)의 임의수의 대표치로서, N1, N2, N3의 경우를 나타내고 있고, 스텝 4007에 있어서, 전극 (4) 사이에 끼워지는 접속부의 입자 (1)의 수 N이 N1, N2, N3 이외인 경우에는, 내삽, 외삽으로 값을 구할 수 있다. Steps 2008 to 2014 are calculation methods shown in the flowchart of FIG. 4, and the deformation amount of the particles is output in step 4008. In step 4009, the deformation amount of the arbitrary allowance of the particles 1 and the conductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5 are input. In addition, electroconductivity is made into the electric current value I when the arbitrary voltage is applied between electrodes. Here, the number N sandwiched between the electrodes 4 of the particles 1 is calculated in step 4007, and the deformation amount of the particles 1 is determined in step 4008. Here, an example of the relationship between the input "deformation amount of arbitrary allowance of the particle 1 and the electroconductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5" is shown in FIG. Indicated. In addition, as the representative value of arbitrary numbers of the particle | grains 1 here, the case of N1, N2, N3 is shown, In step 4007, the number N of the particle | grains 1 of the connection part inserted between the electrodes 4 is N1. In the case of other than N2 and N3, the value can be obtained by interpolation or extrapolation.

여기서, 스텝 4010에서 스텝 4008에서 구한 입자 (1)의 변형량으로부터 입자 1개당의 도전성을 산출하고, 이 입자 1개당의 도전성과 스텝 4007에서 구한 전극 (4) 사이의 입자수로부터, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 산출한다. Here, in step 4010, the conductivity per particle is calculated from the deformation amount of the particle 1 obtained in step 4008, and from the conductivity between the particle and the number of particles between the electrode 4 obtained in step 4007, the semiconductor integrated circuit ( IC) The conductivity between the electrode 4 of the 3 and the electrode 4 of the substrate 5 is calculated.

다음으로 스텝 4011에서 계산의 수속 판정을 행한다. 수속의 판정 수법은 압력과 미리 정하여 놓은 압력 범위를 대비하여, 범위 내에 있는 경우를 수속으로서 판정한다. 수속하지 않은 경우에는 스텝 4001 내지 4004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정한다. Next, a calculation procedure is determined in step 4011. The procedure for judging the procedure determines the case where the procedure is within the range against the pressure and the predetermined pressure range. In the case of no procedure, the process returns to any one of steps 4001 to 4004. At this time, the operator is prompted for input to determine which step to return to.

스텝 4012에 있어서 도전성의 적정 판정을 행한다. 여기서는, 도전성이 규정된 값의 범위 내인지를 판정하여, 규정된 범위 밖인 경우에는 스텝 4001 내지 4004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정한다. In step 4012, the conductivity is appropriately determined. Here, it is determined whether the conductivity is within the range of the prescribed value, and when outside the prescribed range, the process returns to any one of steps 4001 to 4004. At this time, the operator is prompted for input to determine which step to return to.

스텝 4011에서 계산이 수속한 것을 판정하고, 스텝 4012에서 입자 변형이 적정한 것을 판정한 후, 스텝 4013에서 계산을 종료한다. It is determined in step 4011 that the calculation has been performed, and after determining that the particle deformation is appropriate in step 4012, the calculation ends in step 4013.

또한, 스텝 4009에서 입력한 「입자 (1)의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성」은, 「입자 (1)의 임의수당의 변형량과, 입자 (1)과 전극 (4)의 접촉 면적」의 관계로부터 구한 「입자 (1)과 전극 (4)의 접촉 면적과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성」을 입력할 수도 있다. 또한, 도전성은 전극 사이에 임의 전압을 인가한 경우의 전류치로 했지만, 본 발명은 이것에만 한정되는 것은 아니고, 전극 사이의 저항치 등을 사용할 수 있다. In addition, "the amount of deformation of the arbitrary allowance of the particle | grains 1 and the electroconductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5" input in step 4009 is "particle ( The contact area between the particle 1 and the electrode 4 and the semiconductor integrated circuit (IC) 3 obtained from the relationship between the deformation amount of the arbitrary allowance of 1) and the contact area between the particle 1 and the electrode 4. Conductivity between the electrode 4 and the electrode 4 of the substrate 5 can be input. In addition, although electroconductivity was made into the electric current value at the time of applying arbitrary voltage between electrodes, this invention is not limited only to this, The resistance value between electrodes, etc. can be used.

실시예 5Example 5

[이동 전극의 압력 제어][Pressure Control of Moving Electrode]

우선, 해석 대상이 되는 성형 공정을 도 11을 이용하여 설명한다. 초기 상태 (1-a)에서는, 도전성을 갖는 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)가 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 사이에 설치되어 있다. 성형 공정에서는, 열을 가한 반도체 집적 회로(IC) (3)을 기판 (5)의 방향으로 이동시켜, 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)를 압축함으로써, 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)가 유동한다. First, the shaping | molding process used as an analysis object is demonstrated using FIG. In the initial state (1-a), the resin material 2 including the conductive particles 1 is disposed between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5. Installed in In the molding step, the semiconductor integrated circuit (IC) 3 to which the heat is applied is moved in the direction of the substrate 5 to compress the resin material 2 including the particles 1 to contain the particles 1. The resin material 2 flows.

이 때, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 수지 재료 (2)의 접촉에 의해, 수지 재료 (2)의 온도가 변화하여, 온도 변화에 수반하는 점도 변화를 발생시키면서, 수지 재료 (2)가 입자 (1)과 함께 압축되면서 유동한다. 또한, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4)의 간격이 입자 (1)의 직경보다도 작아진 때에는, 전극 (4) 사이에 끼워지는 입자 (1)은 변형하면서 압축된다. At this time, the contact of the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the resin material 2 causes the temperature of the resin material 2 to change, while generating a viscosity change accompanying the temperature change, The resin material 2 flows while being compressed with the particles 1. In addition, when the space | interval of the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5 becomes smaller than the diameter of the particle | grains 1, the particle | grains interposed between the electrodes 4 ( 1) is compressed while deforming.

반도체 집적 회로(IC) (3)의 이동이 종료했을 때(1-b)에는, 전극 (4) 사이에 끼워지는 입자 (1)의 도전성에 의해, 반도체 집적 회로(IC) (3)과 기판 (5) 사이의 전기 신호를 전하는 것이 가능해진다. 여기서, 입자 (1)의 변형량에 의해, 입자 (1)과 전극 (4)의 접촉 면적이 결정되어, 이 접촉 면적에 의해 반도체 집적 회로(IC) (3)과 기판 (5) 간의 도전성이 결정된다. When the movement of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is completed (1-b), the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the substrate are moved by the conductivity of the particles 1 sandwiched between the electrodes 4. It is possible to transmit the electrical signal between (5). Here, the contact area of the particle 1 and the electrode 4 is determined by the deformation amount of the particle 1, and the conductivity between the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the substrate 5 is determined by this contact area. do.

또한, 도전성은 전극 (4) 간에 일정 전압을 인가한 경우에 흐르는 전류에 의해서 평가된다. 여기서, 입자 (1)의 변형량은 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부로부터 하중을 가하는 장치의 능력, 하중을 가했을 때의 입자 (1)의 변형량, 전극 사이에 끼워지는 입자 (1)의 수, 수지 재료 (2)의 점도 변화에 의해서 결정된다. In addition, conductivity is evaluated by the current flowing when a constant voltage is applied between the electrodes 4. Here, the amount of deformation of the particles 1 is the ability of the device to apply a load from the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3, the amount of deformation of the particles 1 when the load is applied, the amount of the particles 1 sandwiched between the electrodes It is determined by the number and the viscosity change of the resin material (2).

[해석 시스템의 구성][Configuration of Analysis System]

다음으로, 입자 (1) 변형에 수반하는 수지 재료 (2)의 유동 과정을 예측하기 위해서 이용하는 해석 시스템에 대해서 설명한다. 해석 시스템은 도 12에 도시하는 하드웨어 구성이고 후술하는 도 13, 14, 17의 플로우를 구비한 소프트웨어가 실행됨으로써 기능한다. Next, the analysis system used in order to predict the flow process of the resin material 2 accompanying particle | grain 1 deformation | transformation is demonstrated. The analysis system is a hardware configuration shown in FIG. 12 and functions by executing software having the flows of FIGS. 13, 14 and 17 described later.

구체적으로는, 계산 장치 (6), 기록 장치 (10)(하드디스크, MO 등)을 구비한 계산 장치 (7), 이 2개의 계산 장치를 연결하는 LAN (8), 계산 장치 (7)이 구비하는 표시 장치 (9)를 구비하고 있다. 또한, 계산 장치 (6)으로 작성한 CAD 데이터를, LAN (8)을 통해 계산 장치 (7)에 전송하도록 구성할 수도 있다. 계산 장치 (7)에 전송된 CAD 데이터를, 계산 장치 (7)의 기록 장치 (10)(하드디스크, MO 등)에 기록하여 이용할 수도 있다. Specifically, a calculation device 7 including a calculation device 6, a recording device 10 (hard disk, MO, etc.), a LAN 8 connecting these two calculation devices, and a calculation device 7 are provided. The display apparatus 9 provided is provided. Moreover, it can also be comprised so that the CAD data created with the calculation device 6 may be transmitted to the calculation device 7 via LAN8. The CAD data transferred to the calculation device 7 may be recorded and used on the recording device 10 (hard disk, MO, etc.) of the calculation device 7.

계산 장치 (7)은 도 13, 4, 7, 8로 도시하는 플로우차트에 따라서 계산을 실행하고, 결과를 기록 장치 (10)에 기록한 후, 표시 장치 (9)에 결과를 표시한다. 도시하고는 있지 않지만, 계산 장치 (6) 및 (7)에는, 당연히 키보드나 마우스 등의 입력 디바이스를 구비하고 있다. The calculation device 7 executes calculation in accordance with the flowcharts shown in Figs. 13, 4, 7, 8, records the result in the recording device 10, and then displays the result in the display device 9. Although not shown, the calculation devices 6 and 7 are naturally provided with input devices such as a keyboard and a mouse.

[플로우차트][Flowchart]

다음으로, 도 13의 플로우차트에 따라서 해석 프로그램의 처리를 설명한다. 우선, 모델 형상 작성 스텝 1001에서는, 오퍼레이터에 의해서 입력 장치를 통해 특정된 해석 대상 모델, 즉, 해석 대상의 전극, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치 (10)으로부터 판독한다. Next, the processing of the analysis program will be described according to the flowchart of FIG. 13. First, in the model shape creation step 1001, the analysis target model specified by the operator through the input device, that is, the electrode of the analysis target, the shape of the resin material including the initial particles, and the resin material including the particles can flow. The data of the space is read from the storage device 10.

다음으로, 3차원 솔리드 요소 작성의 스텝 1002에서는, 모델 형상 작성 스텝 1001에서 판독한 데이터의 형상을 복수의 특정 공간(3차원 솔리드의 유한 요소)으로 분해하고, 각 유한 요소의 형상 데이터를 작성한다. Next, in step 1002 of the three-dimensional solid element creation, the shape of the data read in the model shape creation step 1001 is decomposed into a plurality of specific spaces (finite elements of the three-dimensional solid), and shape data of each finite element is created. .

다음으로, 물성치 입력 스텝 1003에서는, 해석을 행하는 재료의 물성치인 밀도, 열전도율, 비열, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15), 입자 (1)의 배치, 밀도, 직경, 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량을 입력하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 이들의 데이터를 접수한다. 또한, A: 반응률, t:시간, T: 온도, dA/dt: 반응 속도, X1, X2: 온도의 함수가 되는 계수, N, M, Xa, Ea, Xb, Eb: 재료 고유의 계수, Q: 임의 시각까지의 발열량, Qo: 반응 종료시까지의 총발열량, dQ/dt: 발열 속도, η: 점도, η0: 초기 점도, t:시간, tO: 겔화 시간, T: 온도, a, b, d, e, f, g: 재료 고유의 상수를 나타낸다. Next, in the physical property value input step 1003, the density, the thermal conductivity, the specific heat, the exothermic equation (Equation 7) to (Equation 11), the viscosity equations (Equation 12) to (Equation 15), which are physical properties of the material to be analyzed The display prompting the operator to input the arrangement, the density, the diameter of the particle 1, and the deformation amount when a load is applied to each of the particle 1 is performed, and these data are received from the input device. In addition, A: reaction rate, t: time, T: temperature, dA / dt: reaction rate, X1, X2: coefficients as a function of temperature, N, M, Xa, Ea, Xb, Eb: material-specific coefficients, Q : Calorific value until arbitrary time, Qo: total calorific value until the end of reaction, dQ / dt: exothermic rate, η: viscosity, η 0 : initial viscosity, t: hour, t O : gelation time, T: temperature, a, b , d, e, f, g: material constants.

[수학식 1][Equation 1]

Figure 112009020272051-PCT00020
Figure 112009020272051-PCT00020

[수학식 2][Equation 2]

Figure 112009020272051-PCT00021
Figure 112009020272051-PCT00021

[수학식 3][Equation 3]

Figure 112009020272051-PCT00022
Figure 112009020272051-PCT00022

[수학식 4][Equation 4]

Figure 112009020272051-PCT00023
Figure 112009020272051-PCT00023

[수학식 5][Equation 5]

Figure 112009020272051-PCT00024
Figure 112009020272051-PCT00024

[수학식 6][Equation 6]

Figure 112009020272051-PCT00025
Figure 112009020272051-PCT00025

[수학식 7][Equation 7]

Figure 112009020272051-PCT00026
Figure 112009020272051-PCT00026

[수학식 8][Equation 8]

Figure 112009020272051-PCT00027
Figure 112009020272051-PCT00027

[수학식 9][Equation 9]

Figure 112009020272051-PCT00028
Figure 112009020272051-PCT00028

다음으로, 경계 조건, 성형 조건 입력 스텝 1004에 있어서, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력의 입력을 하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 데이터를 접수한다. 여기서, 접수한 반도체 집적 회로 (IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부의 면적으로부터 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 하중 F를 산출한다. Next, in boundary condition and molding condition input step 1004, a display prompting the operator to input the pressure applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the upper portion of the electrode 4 is performed, and the data is input from the input device. Receive. Here, the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode from the pressure applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 received and the area of the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3. The load F applied to the upper part of (4) is computed.

다음으로, 오퍼레이터로부터의 해석 개시의 지시와 초기 시간 증가분 및 해석 종료 시간 tend를 접수한다. 또한, 해석은 미소한 시간을 증가시켜, 각각의 시간 스텝 마다의 변화를 계산하는 것으로서, 시간 증가분이란 시간 스텝의 간격을 나타낸다. Next, the instruction of an analysis start from an operator, the initial time increment, and the analysis end time tend are received. In addition, the analysis calculates the change for each time step by increasing the minute time, and the time increase represents the interval of the time step.

스텝 1005로서, 이 지시에 기초하여 기록 장치에 저장된 연속의 수학식 (1) 및 나비에 스톡스의 수학식 (2) 내지 (4), 에너지 보존식 (5)를 호출하고, 지금까지 입력을 접수한, 초기 시간 증가분, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력, 수지 재료의 밀도, 비열, 열전도율, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)를 대입하여, 전극의 압축에 의한 수지 재료 (2)와 입자 (1)의 유동에 수반하는 속도, 압력, 온도 및 점도를 계산한다. 이 계산 결과를 유한 요소의 위치와 대응시켜 기억 장치에 보존한다. In step 1005, based on this instruction, continuous equations (1) and Nabi Stokes' equations (2) to (4) and energy conservation equations (5) stored in the recording apparatus are called, and the input is received so far. In addition, the initial time increase, the pressure applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the upper portion of the electrode 4, the density of the resin material, the specific heat, the thermal conductivity, the exothermic (Equation 7) to (11), Substituting the viscosity equations (Equations 12) to (15) calculates the speed, pressure, temperature and viscosity associated with the flow of the resin material 2 and the particles 1 by compression of the electrode. The result of the calculation is stored in the storage device in correspondence with the position of the finite element.

여기서, P; 밀도, u; X 방향 속도, υ; y 방향 속도, ω; Z 방향 속도, T; 온도, P; 압력, t;시간, η; 점도, Cp; 정압 비열, β; 부피 팽창 계수, λ; 열전도율을 나타내고 있다.Where P; Density, u; Velocity in the X direction, υ; velocity in y direction, ω; Z direction speed, T; Temperature, P; Pressure, t; time, η; Viscosity, Cp; Constant pressure specific heat, β; Coefficient of volume expansion, λ; The thermal conductivity is shown.

[수학식 10][Equation 10]

Figure 112009020272051-PCT00029
Figure 112009020272051-PCT00029

[수학식 11][Equation 11]

Figure 112009020272051-PCT00030
Figure 112009020272051-PCT00030

[수학식 12][Equation 12]

Figure 112009020272051-PCT00031
Figure 112009020272051-PCT00031

[수학식 13][Equation 13]

Figure 112009020272051-PCT00032
Figure 112009020272051-PCT00032

[수학식 14][Equation 14]

Figure 112009020272051-PCT00033
Figure 112009020272051-PCT00033

다음으로, 스텝 1006에서 해석에 있어서의 시간이, 설정한 해석 종료 시간 tend보다도 짧은지의 판정을 행하여, 판정이 아니오인 경우에는 계산의 수속 판정 등을 거쳐서 해석을 종료시키고, 판정이 예인 경우에는, 스텝 1007의 판정으로 진행한다.Next, in step 1006, a determination is made as to whether the time in the analysis is shorter than the set analysis end time tend, and when the determination is no, the analysis is terminated through a procedure for determining the calculation and the like, and when the determination is yes, The determination proceeds to step 1007.

스텝 1007에서, 전극 (4) 사이의 간격이 입자의 직경보다도 큰지 여부의 판정을 행한다. 여기서, 전극 (4) 사이의 간격이 입자 (1)의 직경(φD)과 동일해진 경우에는, 스텝 1008에 있어서, 전극 (4) 사이에 끼워지는 접속부의 입자 (1)의 수 N을 출력한다. In step 1007, it is determined whether the interval between the electrodes 4 is larger than the diameter of the particles. Here, when the space | interval between the electrodes 4 becomes equal to the diameter (phi) D of the particle | grains 1, in step 1008, the number N of the particle | grains 1 of the connection part inserted between the electrodes 4 is output. .

다음의 스텝 1009부터는, 입자 (1)의 변형을 수반하는 수지 재료 (2)의 유동 과정의 계산을 행한다. 이 입자 (1)의 변형을 수반하는 수지 재료 (2)의 유동 과정의 계산을 행하는 제1 스텝 (1009)에서는, 입자 (1)의 변형은 무시하고, 전극 (4)의 이동 방향에서의 수지 재료 (2)의 이동량(=입자 (1)의 변형량) △H1을 산출한 후에, 입력한 「입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량」으로부터 입자 (1)의 변형량 △H1에 의해서, 입자 (1)의 1개당에 가해지는 하중 △F1을 산출한다. 여기서, 입력한 「온도 변화를 고려한 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량」의 관계의 일례를 도 18에 도시하였다. 여기서, T1, T2, T3은 온도 조건을 나타내고, T1>T2>T3으로 한다. From the next step 1009, the flow process of the resin material 2 with the deformation of the particles 1 is calculated. In the first step 1009 of calculating the flow process of the resin material 2 with the deformation of the particles 1, the deformation of the particles 1 is ignored and the resin in the moving direction of the electrode 4 is ignored. After calculating the movement amount (= deformation amount of particle 1) ΔH1 of the material 2, it is determined from the input `` deformation amount when a load is applied to one particle 1 '' to the deformation amount ΔH1 of the particle 1. By this, the load ΔF1 applied to each particle 1 is calculated. Here, an example of the relationship of the "deformation amount when a load is applied per one of particle | grains 1 which considered temperature change" was shown in FIG. Here, T1, T2, and T3 represent temperature conditions, and let T1> T2> T3.

다음 제2 스텝(1010)에 있어서는, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 하중 FJ2는, 설정치의 F로부터 스텝 1009에서 구한 입자 (1)의 1개당에 가해지는 하중 △F1과 스텝 1008에서 구한 전극 사이에 끼워지는 입자수 N의 곱으로 구해지는 값의 차(FJ2=F-N×△F1)를 이용한 계산을 행한다(스텝 1011). In the next second step 1010, the load FJ2 applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 is applied to one of the particles 1 obtained in step 1009 from the set value F. Calculation using the difference (FJ2 = FN × ΔF1) obtained by the product of the load ΔF1 losing and the number of particles N sandwiched between the electrodes obtained in step 1008 is performed (step 1011).

이 하중 FJ2를 가한 경우의 전극 (4)의 이동에 의한 수지 재료 (2)의 이동량 △H2(=입자 (1)의 변형량)을 산출한 후에, 입자 (1)의 변형량 △H2에 의해서 입자 1개당에 가해지는 하중 △F2를 산출하고, FJ3=F-N×△F2를 다음의 시간 스텝의 계산에 있어서의 반도체 집적 회로(IC) (3)에 가해지는 하중 조건으로 한다. After calculating the movement amount DELTA H2 (= strain amount of particle | grains 1) of the resin material 2 by the movement of the electrode 4 when this load FJ2 is applied, the particle | grain 1 is changed by the strain amount DELTA H2 of the particle | grains 1; The load ΔF2 applied to the unit is calculated, and FJ3 = FN × ΔF2 is used as the load condition applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 in the calculation of the next time step.

스텝 1012에 있어서, 스텝 1009 내지 1011의 계산을 반복하여, M회째의 스텝에 있어서, 입자 (1)의 변형량 △H(M), 입자 1개당에 가해지는 하중 △F(M)을 산출하여, 입자 (1)의 변형량 및 수지 재료 (2)의 유동 거동을 계산한다(스텝 1012). In step 1012, the calculations in steps 1009 to 1011 are repeated, and in the M-th step, the deformation amount ΔH (M) of the particles 1 and the load ΔF (M) applied to each particle are calculated, The amount of deformation of the particles 1 and the flow behavior of the resin material 2 are calculated (step 1012).

스텝 1013에서 전극 (4) 사이의 간격이 0보다도 큰지, 또는 해석에 있어서의 시간이, 설정한 해석 종료 시간 tend보다도 짧은지의 판정을 행하여, 판정이 아니오인 경우에는 계산의 수속 판정 등을 거쳐서 해석을 종료시키고, 판정이 예인 경우에는, 스텝 1014의 판정으로 진행한다. In step 1013, it is determined whether the interval between the electrodes 4 is larger than zero or the time in the analysis is shorter than the set analysis end time tend, and when the determination is no, the analysis is performed through the procedure of determining the calculation or the like. If the determination is YES, the flow proceeds to the determination of step 1014.

스텝 1014에 있어서는, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 하중 설정치 F로부터 입자 (1)의 1개당에 가해지는 하중 △F(M)과 스텝 1008에서 구한 전극 사이에 끼워지는 입자수 N의 곱으로 구해지는 값을 뺀 값이 0 이하인지의 판정을 행한다(F-N×△F(M)≤0). 판정이 아니오인 경우에는, 스텝 1012의 반복 계산을 행하여, 판정이 예이면, 스텝 1015에 있어서, 전극의 이동 속도가 0인 상태에서의 에너지 방정식 5를 이용한 수지 온도의 계산을 행한다. In step 1014, the load ΔF (M) applied per one particle 1 from the load set value F applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 and the electrode obtained in step 1008. It is determined whether the value obtained by subtracting the value obtained by the product of the particle number N sandwiched between is 0 or less (FN × ΔF (M) ≦ 0). If the determination is no, the calculation is repeated in step 1012. If the determination is yes, then in step 1015, the resin temperature is calculated using the energy equation 5 in the state where the movement speed of the electrode is zero.

다음으로, 스텝 1016에 있어서 해석에 있어서의 시간이, 설정한 해석 종료 시간 tend보다도 짧은지의 판정을 행하여, 판정이 예인 경우에는, 스텝 1012의 반복 계산을 행한다.Next, a determination is made as to whether the time in the analysis in step 1016 is shorter than the set analysis end time tend, and when the determination is YES, the repetition calculation in step 1012 is performed.

여기서, 스텝 1004에서 입력한 압축 하중과 입자 변형량의 관계가 도 18에 나타낸 바와 같이, 온도 의존성을 고려한 물성치를 이용하는 경우에는, 스텝 1015d에서 계산한 수지 온도의 상승에 의해, 동일한 입자 변형량 △H이어도 압축 하중 △F(M)은 작아지기 때문에, 스텝 1014에 있어서, F-NX△F(M)≤0의 판정이 아니오가 된 경우에는, 스텝 1012에 있어서의 전극의 이동 속도가 0이 아닌 계산을 행한다.Here, as shown in FIG. 18, when the relationship between the compressive load and the particle deformation amount input in step 1004 uses the physical properties in consideration of temperature dependence, even if the same particle deformation amount ΔH is caused by the increase in the resin temperature calculated in step 1015d. Since the compressive load ΔF (M) becomes small, in step 1014, when the determination of F-NXΔF (M) ≦ 0 becomes no, the movement speed of the electrode in step 1012 is calculated to be nonzero. Is done.

또한, 도 18에 도시되는 온도는 해석으로 구한 임의 장소의 수지 온도를 이용할 수 있다. 예를 들면, 1012의 유동 과정의 계산으로 산출한 전극 (4) 사이의 수지 온도의 평균치, 입자 (1) 근방의 수지 온도 등의 온도를 사용할 수 있다. In addition, the temperature shown in FIG. 18 can use the resin temperature of the arbitrary place calculated | required by analysis. For example, temperatures, such as the average value of the resin temperature between the electrodes 4 computed by the calculation of the flow process of 1012, the resin temperature of the particle 1 vicinity, etc. can be used.

여기서, 스텝 1016에 있어서의 판정이 아니오인 경우에는, Here, when the determination in step 1016 is no,

스텝 1017에서 계산의 수속 판정을 행한다. 수속의 판정 수법은 압력과 미리 정하여 놓은 압력 범위를 대비하여, 범위 내에 있는 경우를 수속으로서 판정한다. 수속하지 않은 경우에는 스텝 1001 내지 1004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정한다. In step 1017, the procedure for the calculation is determined. The procedure for judging the procedure determines the case where the procedure is within the range against the pressure and the predetermined pressure range. If no procedure is taken, the process returns to any one of steps 1001 to 1004. At this time, the operator is prompted for input to determine which step to return to.

스텝 1018에 있어서 입자 변형의 적정 판정을 행한다. 여기서는, 입자의 변형량이 규정된 값의 범위 내인지를 판정하여, 규정된 범위 밖인 경우에는 스텝 1001 내지 1004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정하는 스텝 1017에서 계산이 수속한 것을 판정하고, 스텝 1018에서 입자 변형이 적정한 것을 판정한 후, 스텝 1019에서 계산을 종료한다. In step 1018, appropriate determination of particle deformation is performed. Here, it is determined whether the amount of deformation of the particles is within the range of the prescribed value, and when outside the prescribed range, the process returns to any one of steps 1001 to 1004. At this time, it is determined in step 1017 that the operator is prompted for input to determine which step to return, and after determining that the particle deformation is appropriate in step 1018, the calculation ends in step 1019.

또한, 스텝 1003에 있어서의 입력 조건으로서, 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량의 관계의 예를 설명했지만, 입자 (1)의 복수개당의 하중이 가해진 경우의 변형량(또는 변형률)의 관계를 입력할 수가 있어, 입자 (1)에 가해지는 응력과 변형량(또는 변형률)의 관계를 입력할 수가 있는 것으로 한다. 또한, 발열식은 (수학식 7) 내지 (수학식 11)에 한정되는 것은 아니고, 수지 재료 (2)의 반응률을 포함하는 임의의 함수를 사용할 수 있다. In addition, although the example of the relationship of the deformation amount when the load per one of the particles 1 was applied as an input condition in step 1003 was demonstrated, the deformation amount (or strain rate) when the load per several pieces of the particle 1 is applied. ), And the relationship between the stress applied to the particles 1 and the amount of deformation (or strain) can be input. In addition, the exothermic expression is not limited to the formulas (7) to (11), and any function including the reaction rate of the resin material (2) can be used.

또한, 점도식은 (수학식 12) 내지 (수학식 15)에 한정되는 것은 아니고, 수지 재료 (2)의 온도 또는 반응률을 포함하는 임의의 함수를 사용할 수 있다. 또한, 수속 판정은 임의의 판정 방법을 사용할 수 있다. 또한, 3차원의 해석뿐만이 아니라, 2차원의 해석도 할 수 있는 것으로 한다. 또한, 이상의 계산은 유한 요소법 또는 유한 체적법 또는 유한 차분법을 이용하여 계산을 행할 수 있는 것으로 한다.In addition, a viscosity formula is not limited to (12)-(15), The arbitrary functions containing the temperature or reaction rate of the resin material (2) can be used. In addition, the procedure determination can use arbitrary determination methods. In addition, not only three-dimensional analysis but also two-dimensional analysis may be performed. In addition, it is assumed that the above calculation can be performed using the finite element method, the finite volume method, or the finite difference method.

실시예 6Example 6

[전극의 속도 ∼ 압력 제어로의 전환][Switching from Electrode Speed to Pressure Control]

다음으로, 도 14의 플로우차트에 따라서 해석 프로그램의 처리를 설명한다. 우선, 모델 형상 작성 스텝 2001에서는, 오퍼레이터에 의해서 입력 장치를 통해 특정된 해석 대상 모델, 즉, 해석 대상의 전극, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치 (10)으로부터 판독한다. Next, the processing of the analysis program will be described according to the flowchart of FIG. First, in the model shape preparation step 2001, the analysis target model specified by the operator through the input device, that is, the electrode of the analysis target, the shape of the resin material including the initial particles, and the resin material including the particles can flow. The data of the space is read from the storage device 10.

다음으로, 3차원 솔리드 요소 작성의 스텝 2002에서는, 모델 형상 작성 스텝 2001에서 판독한 데이터의 형상을 복수의 특정 공간(3차원 솔리드의 유한 요소)으로 분해하고, 각 유한 요소의 형상 데이터를 작성한다. Next, in step 2002 of creating the three-dimensional solid element, the shape of the data read in the model shape creation step 2001 is decomposed into a plurality of specific spaces (finite elements of the three-dimensional solid), and shape data of each finite element is created. .

다음으로, 물성치 입력 스텝 2003에서는, 해석을 행하는 재료의 물성치인 밀도, 열전도율, 비열, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15), 입자 (1)의 배치, 밀도, 직경, 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량을 입력하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 이들의 데이터를 접수한다. Next, in the physical property value input step 2003, the density, the thermal conductivity, the specific heat, the exothermic equations (Equation 7) to (Equation 7) to (Equation 7), the viscosity equations (Equation 12) to (Equation 15), which are physical properties of the material to be analyzed, The display prompting the operator to input the arrangement, the density, the diameter of the particle 1, and the deformation amount when a load is applied to each of the particle 1 is performed, and these data are received from the input device.

다음으로, 경계 조건, 성형 조건 입력 스텝 2004에 있어서, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 초기 이동 속도 Vd 및 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 최대 압력의 입력을 하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 데이터를 접수한다. Next, in the boundary condition and molding condition input step 2004, the initial moving speed Vd of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 and the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 are shown. A display is urged to prompt the operator to input the maximum pressure applied to the data, and the data is received from the input device.

여기서, 접수한 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 최대 압력과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부의 면적으로부터, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 최대 하중 Fmax를 산출한다. Here, the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is formed from the maximum pressure applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 received and the area of the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3. And the maximum load Fmax applied to the upper portion of the electrode 4.

다음으로, 오퍼레이터로부터의 해석 개시의 지시와 초기 시간 증가분 및 해석 종료 시간 tend를 접수한다. 스텝 2005로서, 이 지시에 기초하여 기록 장치에 저장된 연속의 수학식 (1) 및 나비에 스톡스의 수학식 (2) 내지 (4), 에너지 보존식 (5)를 호출하고, 지금까지 입력을 접수한, 초기 시간 증가분, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력, 수지 재료의 밀도, 비열, 열전도율, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)를 대입하여, 전극의 압축에 의한 수지 재료 (2)와 입자 (1)의 유동에 수반하는 속도, 압력, 온도 및 점도를 계산한다. 이 계산 결과를 유한 요소의 위치와 대응시켜 기억 장치에 보존한다. Next, the instruction of an analysis start from an operator, the initial time increment, and the analysis end time tend are received. In step 2005, based on this instruction, continuous equations (1) stored in the recording device, Nabi Stokes's equations (2) to (4), and an energy conservation equation (5) are called, and the input is received so far. In addition, the initial time increase, the pressure applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the upper portion of the electrode 4, the density of the resin material, the specific heat, the thermal conductivity, the exothermic (Equation 7) to (11), Substituting the viscosity equations (Equations 12) to (15) calculates the speed, pressure, temperature and viscosity associated with the flow of the resin material 2 and the particles 1 by compression of the electrode. The result of the calculation is stored in the storage device in correspondence with the position of the finite element.

다음으로, 스텝 2006에서 해석에 있어서의 시간이, 설정한 해석 종료 시간 tend보다도 짧은지의 판정을 행하여, 판정이 아니오인 경우에는 계산의 수속 판정 등을 거쳐서 해석을 종료시키고, 판정이 예인 경우에는, 스텝 2007로 진행한다. Next, in step 2006, a determination is made as to whether the time in the analysis is shorter than the set analysis end time tend, and when the determination is no, the analysis is terminated through a procedure for determining the calculation, and when the determination is YES, Proceed to step 2007.

스텝 2007에서, 스텝 2004에서 입력한 초기 이동 속도 Vd에서 전극을 이동시킨 경우에 수지에 가해지는 하중 FJ를, 「이동하는 전극 (4)와 수지 재료 (2)의 접촉 면적」과 「접촉 부분의 수지 재료 (2)의 압력」의 곱으로서 산출한다. In step 2007, the load FJ applied to the resin when the electrode is moved at the initial moving speed Vd input in step 2004 is defined as "the contact area between the moving electrode 4 and the resin material 2" and the "contact part." It calculates as a product of the "pressure of the resin material (2)".

스텝 2008에 있어서 전극 (4)의 상부에 가해지는 최대 하중 Fmax와 스텝 2007에서 구한 FJ를 비교하여, Fmax>FJ이면, 스텝 2009에 있어서 스텝 2004에서 입력한 초기 이동 속도 Vd로 전극이 이동하는 계산을 하고, Fmax>FJ가 아니면, 압력 제어로 전환하여, 최대 하중 Fmax가 전극 (4)의 상부에 가해진 경우의 전극의 이동을 계산한다. In step 2008, the maximum load Fmax applied to the upper portion of the electrode 4 is compared with the FJ determined in step 2007, and if Fmax> FJ, the calculation is made in which the electrode moves at the initial moving speed Vd input in step 2004 in step 2009. If it is not Fmax> FJ, it switches to pressure control and calculates the movement of the electrode when the maximum load Fmax is applied to the upper part of the electrode 4.

스텝 2010에서 전극 (4) 사이의 간격이 입자의 직경보다도 큰지 여부의 판정을 행한다. 전극 (4) 사이의 간격이 입자의 직경보다도 큰 경우에는, 스텝 2005로 되돌아가 계산을 반복하고, 전극 (4) 사이의 간격이 입자 (1)의 직경(φD)과 동일해진 경우에는, 도 13에서 도시된 스텝 1008 내지 1016의 계산을 행한다. In step 2010, it is determined whether the interval between the electrodes 4 is larger than the diameter of the particles. When the distance between the electrodes 4 is larger than the diameter of the particles, the process returns to step 2005 and the calculation is repeated. When the distance between the electrodes 4 is equal to the diameter φD of the particles 1, FIG. The calculation of steps 1008 to 1016 shown in 13 is performed.

스텝 2012에서 계산의 수속 판정을 행한다. 수속의 판정 수법은 압력과 미리 정하여 놓은 압력 범위를 대비하여, 범위 내에 있는 경우를 수속으로서 판정한다. 수속하지 않은 경우에는 스텝 2001 내지 2004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정한다. In step 2012, the procedure for the calculation is determined. The procedure for judging the procedure determines the case where the procedure is within the range against the pressure and the predetermined pressure range. If no procedure is taken, the process returns to any one of steps 2001 to 2004. At this time, the operator is prompted for input to determine which step to return to.

스텝 2013에 있어서 입자 변형의 적정 판정을 행한다. 여기서는, 입자의 변형량이 규정된 값의 범위 내인지를 판정하여, 규정된 범위 밖인 경우에는 스텝 2001 내지 2004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정하는 스텝 2012에서 계산이 수속한 것을 판정하고, 스텝 2013에서 입자 변형이 적정한 것을 판정한 후, 스텝 2014에서 계산을 종료한다. In step 2013, appropriate determination of particle deformation is performed. Here, it is determined whether the amount of deformation of the particles is within the range of the prescribed value, and if outside the prescribed range, the process returns to any one of steps 2001 to 2004. At this time, it is determined in step 2012 that the operator is prompted to input and decides which step to return to, and after determining that the particle deformation is appropriate in step 2013, the calculation ends in step 2014.

또한, 스텝 2003에 있어서의 입력 조건으로서, 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량의 관계의 예를 설명했지만, 입자 (1)의 복수개당의 하중이 가해진 경우의 변형량(또는 변형률)의 관계를 입력할 수가 있고, 입자 (1)에 가해지는 응력과 변형량(또는 변형률)의 관계를 입력할 수가 있는 것으로 한다. In addition, although the example of the relationship of the deformation amount when the load per one of the particles 1 was applied as an input condition in Step 2003 was demonstrated, the deformation amount (or strain rate) when the load per several pieces of the particle 1 is applied. ), And the relationship between the stress applied to the particles 1 and the amount of deformation (or strain) can be input.

또한, 발열식은 (수학식 7) 내지 (수학식 11)에 한정되는 것은 아니고, 수지 재료 (2)의 반응률을 포함하는 임의의 함수를 사용할 수 있다. 또한, 점도식은 (수학식 12) 내지 (수학식 15)에 한정되는 것은 아니고, 수지 재료 (2)의 온도 또는 반응률을 포함하는 임의의 함수를 사용할 수 있다. In addition, the exothermic expression is not limited to the formulas (7) to (11), and any function including the reaction rate of the resin material (2) can be used. In addition, a viscosity formula is not limited to (12)-(15), The arbitrary functions containing the temperature or reaction rate of the resin material (2) can be used.

또한, 수속 판정은 임의의 판정 방법을 사용할 수 있다. 또한, 3차원의 해석뿐만이 아니라, 2차원의 해석도 할 수 있는 것으로 한다. 또한, 이상의 계산은 유한 요소법 또는 유한 체적법 또는 유한 차분법을 이용하여 계산을 행할 수 있는 것으로 한다. In addition, the procedure determination can use arbitrary determination methods. In addition, not only three-dimensional analysis but also two-dimensional analysis may be performed. In addition, it is assumed that the above calculation can be performed using the finite element method, the finite volume method, or the finite difference method.

[전극의 압력 제어의 해석 사례(1층 수지)][Analysis example of pressure control of electrode (one layer resin)]

여기서, 도 15에 해석 사례의 일례(2차원 해석)을 나타낸다. 초기 상태에 있어서, 도전성을 갖는 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)가 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 사이에 설치되어 있다. 여기서, 수지 재료 (2)는 초기 온도 30℃로 하여, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)를 이용하는 것으로 한다. 또한, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)의 상수의 값, 밀도, 열전도율, 비열의 값, 입자의 직경(φD), 밀도를 표 1에 나타내었다. Here, an example (two-dimensional analysis) of an analysis example is shown in FIG. In the initial state, a resin material 2 comprising conductive particles 1 is provided between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5. . Here, it is assumed that the resin material (2) has an initial temperature of 30 ° C. and uses exothermic formulas (7) to (11) and viscosity formulas (12) to (15). In addition, the values of the constants, densities, thermal conductivity, specific heat values, diameters of the particles (φD), and densities of the exothermic formulas (7) to (11) and the viscosity formulas (12) to (15) Is shown in Table 1.

[표 1]TABLE 1

Figure 112009020272051-PCT00034
Figure 112009020272051-PCT00034

또한, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 온도는 일정(185℃)하게 설정하고, 기판 (5)의 방향으로 압력 5 MPa를 가하여 이동시키고, 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)를 압축함으로써, 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)를 유동시킨다. 이 때, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 수지 재료 (2)의 접촉에 의해, 수지 재료 (2)의 온도가 변화하여, 온도 변화에 수반하는 점도 변화를 발생시키면서, 수지 재료 (2)가 입자 (1)과 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산할 수 있다. In addition, the temperature of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is set to be constant (185 ° C.), and the resin material 2 including the particles 1 is moved by applying a pressure of 5 MPa in the direction of the substrate 5. By compressing, the resin material 2 including the particle 1 is made to flow. At this time, the contact of the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the resin material 2 causes the temperature of the resin material 2 to change, while generating a viscosity change accompanying the temperature change, The process by which the resin material 2 flows while being compressed with the particles 1 can be calculated.

또한, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4)의 간격이 입자 (1)의 직경보다도 작아진 때에는, 해석 상에서는, 입자 (1)과 전극 (4)의 접촉의 계산은 행하지 않는다. 즉, 해석 상에서는, 입자 (1)끼리, 입자 (1)과 전극 (4)가 접촉하는 경우에는, 입자 (1)이 전극 (4)를 빠져나가는 등의 설정을 행함으로써, 수지 재료 (2)만의 유동성의 계산을 행한다. In addition, when the space | interval of the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5 becomes smaller than the diameter of the particle | grains 1, particle | grains 1 and an electrode ( The contact of 4) is not calculated. That is, in the analysis, when the particles 1 are in contact with the particles 1 and the electrode 4, the resin material 2 is set by setting the particles 1 to exit the electrode 4 or the like. Only the liquidity is calculated.

이 때, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부로부터 가하는 압력은 설정치인 5 MPa가 아니고, 도 13의 플로우차트로 도시한 바와 같이, 도 18에 도시되는 입자의 변형량과 압축 하중의 관계 및 전극 사이에 끼워지는 입자수로부터 구한 하중을 설정 압력과 면적의 곱으로 구한 하중으로부터 뺀 값을 이용한다. At this time, the pressure applied from the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is not 5 MPa, which is a set value, but as shown in the flowchart of FIG. 13, the relationship between the deformation amount of the particles and the compressive load shown in FIG. The value obtained by subtracting the load obtained from the number of particles inserted between the electrodes from the load obtained by the product of the set pressure and the area is used.

이 계산의 결과, 전극의 상부로부터 가해지는 하중과, 입자를 변형시키기 위해서 필요한 압축 하중이 동일하게 되면, 전극의 이동 속도가 0이 되고, 전극 이동을 수반하지 않는 수지의 온도 계산을 행한다. 여기서, 수지 온도가 높아지면, 도 18에 도시된 바와 같이 입자를 변형시키기 위해서 필요한 압축 하중이 적어지기 때문에, 재차, 전극 이동을 수반한 계산을 행한다. As a result of this calculation, when the load applied from the upper part of the electrode and the compressive load required to deform the particles become equal, the movement speed of the electrode becomes zero, and the temperature calculation of the resin not involving electrode movement is performed. Here, when the resin temperature is high, since the compressive load required to deform the particles is reduced as shown in Fig. 18, calculation with the electrode movement is performed again.

여기서, 도 18에 도시되는 온도는 해석으로 구한 임의 장소의 온도를 사용할 수 있다. 예를 들면, 도 13으로 나타낸 1012의 유동 과정의 계산으로 산출한 전극 (4) 사이의 수지 온도의 평균치, 입자 (1) 근방의 수지 온도 등의 온도를 사용할 수 있다. 또한, 여기서는 입자 내의 열전도 계산은 행하고 있지 않지만, 입자의 비열, 열전도율, 수지 재료와 입자의 열전달율 등의 입력에 의해, 입자 내의 열전도 계산도 행할 수 있고, 이 전열 계산으로 구한 입자의 임의 위치의 온도를 도 18에 도시되는 온도로서 이용할 수도 있다. Here, the temperature shown in FIG. 18 can use the temperature of arbitrary place calculated | required by analysis. For example, temperature, such as the average value of the resin temperature between the electrodes 4 calculated by the calculation of the flow process of 1012 shown in FIG. 13, the resin temperature of the particle 1 vicinity, etc. can be used. In addition, although the thermal conductivity calculation in particle | grains is not performed here, thermal conductivity calculation in particle | grains can also be calculated by input of the specific heat of a particle | grain, thermal conductivity, the heat transfer rate of resin material and particle | grains, and the temperature of the arbitrary position of the particle | grains calculated | required by this heat transfer calculation. May be used as the temperature shown in FIG. 18.

그 후, 설정한 해석 종료 시간에 해석이 종료한다. 이 때, 전극 사이의 간격으로부터 입자 (1)의 변형량을 구할 수 있다. 또한, 입자의 변형량 △D는 (수학식 6)으로 구할 수 있다. Thereafter, the analysis ends at the set analysis end time. At this time, the deformation amount of the particle 1 can be calculated | required from the space | interval between electrodes. In addition, strain amount D of particle | grains can be calculated | required by (Equation 6).

[수학식 15][Equation 15]

Figure 112009020272051-PCT00035
Figure 112009020272051-PCT00035

여기서, D: 입자 (1)의 직경, D1: 해석 종료 후의 기판 (4)의 간격을 나타낸다. 또한, 이상에서는 전극 (4)의 이동이 압력에 의해 제어되는 사례를 나타내었지만, 본 발명은 이것에만 한정되는 것은 아니고, 도 14의 플로우차트로 도시한 바와 같이, 전극의 이동을 속도로부터 압력으로 제어하는 것도 가능해진다. Here, D: diameter of particle | grains 1, D1: space | interval of the board | substrate 4 after completion | finish of analysis is shown. In addition, although the case where the movement of the electrode 4 is controlled by the pressure was shown above, this invention is not limited only to this, As shown by the flowchart of FIG. 14, the movement of an electrode from a speed to a pressure is shown. It is also possible to control.

[전극의 압력 제어의 해석 사례(2층 수지)][Analysis example of pressure control of electrode (two-layer resin)]

여기서, 도 16에 수지 재료가 2층으로 나뉘어져 있는 해석 사례(2차원 해석)의 일례를 나타낸다. Here, an example of the analysis example (two-dimensional analysis) by which resin material is divided into two layers is shown in FIG.

초기 상태에 있어서, 도전성을 갖는 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2)의 상부에, 입자 (1)을 포함하는 물성치가 서로 다른 수지 재료 (11)을 포함하는 2층 구조의 수지 재료가, 반도체 집적 회로 (IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 사이에 설치되어 있다. 여기서, 수지 재료 (2)는 초기 온도 30℃로 하여, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)를 이용하는 것으로 한다. 또한, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)의 상수의 값, 밀도, 열전도율, 비열의 값, 입자의 직경(φD), 밀도에 대해서, 1층째의 수지 재료 (2) 및 입자 (1)은 표 1의 값을 이용하고, 2층째의 수지 재료 (11) 및 입자 (1)의 값을 표 2에 나타내었다. In the initial state, the resin material of the two-layer structure including the resin material 11 having different physical properties including the particles 1 on the upper portion of the resin material 2 containing the conductive particles 1 And an electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and an electrode 4 of the substrate 5. Here, it is assumed that the resin material (2) has an initial temperature of 30 ° C. and uses exothermic formulas (7) to (11) and viscosity formulas (12) to (15). In addition, the values of the constants, densities, thermal conductivity, specific heat values, diameters of the particles (φD), and densities of the exothermic formulas (7) to (11) and the viscosity formulas (12) to (15) For the resin material 2 and the particle 1 of the first layer, the values of Table 1 were used, and the values of the resin material 11 and the particle 1 of the second layer were shown in Table 2.

[표 1]TABLE 1

Figure 112009020272051-PCT00036
Figure 112009020272051-PCT00036

[표 2]TABLE 2

Figure 112009020272051-PCT00037
Figure 112009020272051-PCT00037

여기서, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 온도는 일정(185℃)하게 설정하고, 기판 (5)의 방향으로 압력 5 MPa를 가하여 이동시켜, 수지 재료 (2), (11)을 압축함으로써, 입자 (1)을 포함하는 수지 재료 (2), (11)을 유동시킨다. 이 때, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 수지 재료 (2), (11)의 접촉에 의해, 수지 재료 (2), (11)의 온도가 변화하여, 온도 변화에 수반하는 점도 변화를 발생시키면서, 수지 재료 (2), (11)이 입자 (1)과 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산할 수 있다.Here, the temperature of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is set constant (185 ° C.), and is moved by applying a pressure of 5 MPa in the direction of the substrate 5 to compress the resin materials 2 and 11. , The resin materials (2) and (11) containing the particles (1) are made to flow. At this time, the contact between the electrodes 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the resin materials 2 and 11 changes the temperature of the resin materials 2 and 11, resulting in a change in temperature. It is possible to calculate the process by which the resin materials (2), (11) flow while being compressed with the particles (1) while generating the accompanying viscosity change.

또한, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4)의 간격이 입자 (1)의 직경보다도 작아진 때에는, 해석 상에서는, 입자 (1)과 전극 (4)의 접촉의 계산은 행하지 않는다. 즉, 해석 상에서는, 입자 (1)끼리, 입자 (1)과 전극 (4)가 접촉하는 경우에는, 입자 (1)이 전극 (4)를 빠져나가는 등의 설정을 행함으로써, 수지 재료 (2), (11)만의 유동성의 계산을 행한다.In addition, when the space | interval of the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5 becomes smaller than the diameter of the particle | grains 1, particle | grains 1 and an electrode ( The contact of 4) is not calculated. That is, in the analysis, when the particles 1 are in contact with the particles 1 and the electrode 4, the resin material 2 is set by setting the particles 1 to exit the electrode 4 or the like. And (11) calculate the fluidity.

이 때, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부로부터 가하는 압력은 설정치인 5 MPa가 아니고, 도 13의 플로우차트로 도시한 바와 같이, 도 18에 도시되는 입자의 변형량과 압축 하중의 관계 및 전극 사이에 끼워지는 입자수로부터 구한 하중을 설정 압력과 면적의 곱으로 구한 하중으로부터 뺀 값을 이용한다. At this time, the pressure applied from the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is not 5 MPa, which is a set value, but as shown in the flowchart of FIG. 13, the relationship between the deformation amount of the particles and the compressive load shown in FIG. The value obtained by subtracting the load obtained from the number of particles inserted between the electrodes from the load obtained by the product of the set pressure and the area is used.

이 계산의 결과, 전극의 상부로부터 가해지는 하중과, 입자를 변형시키기 위해서 필요한 압축 하중이 동일하게 되면, 전극의 이동 속도가 0이 되고, 전극 이동을 수반하지 않는 수지의 온도 계산을 행한다. 여기서, 수지 온도가 높아지면, 도 18에 도시된 바와 같이 입자를 변형시키기 위해서 필요한 압축 하중이 적어지기 때문에, 재차, 전극 이동을 수반한 계산을 행한다. As a result of this calculation, when the load applied from the upper part of the electrode and the compressive load required to deform the particles become equal, the movement speed of the electrode becomes zero, and the temperature calculation of the resin not involving electrode movement is performed. Here, when the resin temperature is high, since the compressive load required to deform the particles is reduced as shown in Fig. 18, calculation with the electrode movement is performed again.

여기서, 도 18에 도시되는 온도는 해석으로 구한 임의 장소의 온도를 사용할 수 있다. 예를 들면, 1012의 유동 과정의 계산으로 산출한 전극 (4) 사이의 수지 온도의 평균치, 입자 (1) 근방의 수지 온도 등의 온도를 사용할 수 있다. 또한, 여기서는 입자 내의 열전도 계산은 행하고 있지 않지만, 입자의 비열, 열전도율, 수지 재료와 입자의 열전달율 등의 입력에 의해, 입자 내의 열전도 계산도 행할 수 있고, 이 전열 계산으로 구한 입자의 임의 위치의 온도를 도 18에 도시되는 온도로서 이용할 수도 있다. Here, the temperature shown in FIG. 18 can use the temperature of arbitrary place calculated | required by analysis. For example, temperatures, such as the average value of the resin temperature between the electrodes 4 computed by the calculation of the flow process of 1012, the resin temperature of the particle 1 vicinity, etc. can be used. In addition, although the thermal conductivity calculation in particle | grains is not performed here, thermal conductivity calculation in particle | grains can also be calculated by input of the specific heat of a particle | grain, thermal conductivity, the heat transfer rate of resin material and particle | grains, and the temperature of the arbitrary position of the particle | grains calculated | required by this heat transfer calculation. May be used as the temperature shown in FIG. 18.

그 후, 설정한 해석 종료 시간에 해석이 종료한다. 이 때, 전극 사이의 간격으로부터 입자 (1)의 변형량을 구할 수 있다. 또한, 입자의 변형량 △D는 (수학식 6)으로 구할 수 있다. Thereafter, the analysis ends at the set analysis end time. At this time, the deformation amount of the particle 1 can be calculated | required from the space | interval between electrodes. In addition, strain amount D of particle | grains can be calculated | required by (Equation 6).

[수학식 6][Equation 6]

Figure 112009020272051-PCT00038
Figure 112009020272051-PCT00038

여기서, D: 입자 (1)의 직경, D1: 해석 종료 후의 기판 (4)의 간격을 나타낸다. 또한, 이상에서는 전극 (4)의 이동이 압력에 의해 제어되는 사례를 나타내었지만, 본 발명은 이것에만 한정되는 것은 아니고, 도 14의 플로우차트로 도시한 바와 같이, 전극의 이동을 속도로부터 압력으로 제어하는 것도 가능해진다. 또한, 여기서는 입자 내의 열전도 계산은 행하고 있지 않지만, 입자의 비열, 열전도율, 수지 재료와 입자의 열전달율 등의 입력에 의해, 입자 내의 열전도 계산도 행할 수 있다. Here, D: diameter of particle | grains 1, D1: space | interval of the board | substrate 4 after completion | finish of analysis is shown. In addition, although the case where the movement of the electrode 4 is controlled by the pressure was shown above, this invention is not limited only to this, As shown by the flowchart of FIG. 14, the movement of an electrode from a speed to a pressure is shown. It is also possible to control. In addition, although the heat conduction calculation in particle | grains is not performed here, the heat conduction calculation in particle | grains can also be performed by input of the specific heat of a particle | grain, thermal conductivity, the heat transfer rate of a resin material, and particle | grains.

또한, 이상에서는 이상일의 수지 재료 (11)에 입자 (1)이 포함되는 해석의 사례를 나타내었지만, 본 발명은 이것에만 한정되는 것은 아니고, 이상일의 수지 재료 (11)에는 입자 (1)이 포함되지 않는 상태에서의 해석도 행할 수 있는 것으로 한다. In addition, although the example of the analysis in which the particle | grains 1 are contained in the resin material 11 of the abnormal day was shown above, this invention is not limited only to this, The particle | grain 1 is contained in the resin material 11 of the abnormal day. It is also assumed that the analysis can be performed in a state where it is not possible.

실시예 7Example 7

[도전성의 예측, 입자의 좌표의 주력(전극 이동의 압력 제어)][Predicting Conductivity, Main Force of Particle Coordinates (Control of Pressure of Electrode Movement)]

도 17은 본 발명의 실시예 7의 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 예측하는 플로우차트이다. FIG. 17 is a flowchart for predicting the conductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5 of the seventh embodiment of the present invention.

여기서는, 도 13의 플로우차트로 구한 입자 변형량과 도전성의 관계의 입력에 의해, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 예측한다. 우선, 모델 형상 작성 스텝 3001에서는, 오퍼레이터에 의해서 입력 장치를 통해 특정된 해석 대상 모델, 즉, 해석 대상의 전극, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치 (10)으로부터 판독한다. Here, the conductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the substrate 5 is predicted by the input of the relationship between the particle deformation amount and the conductivity obtained by the flowchart of FIG. 13. First, in the model shape creation step 3001, the analysis target model specified by the operator through the input device, that is, the electrode of the analysis target, the shape of the resin material including the initial particles, and the resin material including the particles can flow. The data of the space is read from the storage device 10.

다음으로, 3차원 솔리드 요소 작성의 스텝 3002에서는, 모델 형상 작성 스텝 1001에서 판독한 데이터의 형상을 복수의 특정 공간(3차원 솔리드의 유한 요소)으로 분해하고, 각 유한 요소의 형상 데이터를 작성한다. Next, in step 3002 of three-dimensional solid element creation, the shape of the data read in model shape creation step 1001 is decomposed into a plurality of specific spaces (finite elements of three-dimensional solids), and shape data of each finite element is created. .

다음으로, 물성치 입력 스텝 3003에서는, 해석을 행하는 재료의 물성치인 밀도, 열전도율, 비열, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15), 입자 (1)의 배치, 밀도, 직경, 입자 (1)의 1개당에 하중이 가해진 경우의 변형량, 입자 (1)의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 입력하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 이들의 데이터를 접수한다. Next, in the physical property value input step 3003, the density, the thermal conductivity, the specific heat, the exothermic type (Equation 7) to (Equation 7) to (Equation 7), the viscosity equations (Equation 12) to (Equation 15), which are the physical property values of the material to be analyzed, Arrangement, density, diameter of the particle 1, the amount of deformation when a load is applied to one of the particles 1, the amount of deformation of any allowance of the particles 1 and the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 The display prompts the operator to input the conductivity between the electrode 4 and the electrode 4 of the substrate 5, and receives these data from the input device.

다음으로, 경계 조건, 성형 조건 입력 스텝 3004에 있어서, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력의 입력을 하도록 오퍼레이터에게 재촉하는 표시를 행하고, 입력 장치로부터 데이터를 접수한다. 여기서, 접수한 반도체 집적 회로 (IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 상부의 면적으로부터 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 하중 F를 산출한다. Next, in boundary condition and molding condition input step 3004, a display prompting the operator to input the pressure applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the upper portion of the electrode 4 is performed, and the data is input from the input device. Receive. Here, the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode from the pressure applied to the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 received and the area of the upper portion of the semiconductor integrated circuit (IC) 3. The load F applied to the upper part of (4) is computed.

다음으로, 오퍼레이터로부터의 해석 개시의 지시와 초기 시간 증가분 및 해석 종료 시간 tend를 접수한다. 스텝 3005로서, 이 지시에 기초하여 기록 장치에 저장된 연속의 수학식 (1) 및 나비에 스톡스의 수학식 (2) 내지 (4), 에너지 보존식 (5)를 호출하고, 지금까지 입력을 접수한, 초기 시간 증가분, 반도체 집적 회로(IC) (3) 및 전극 (4)의 상부에 가해지는 압력, 수지 재료의 밀도, 비열, 열전도율, 발열식 (수학식 7) 내지 (수학식 11), 점도식 (수학식 12) 내지 (수학식 15)를 대입하여, 전극의 압축에 의한 수지 재료 (2)와 입자 (1)의 유동에 수반하는 속도, 압력, 온도 및 점도를 계산한다. 이 계산 결과를 유한 요소의 위치와 대응시켜 기억 장치에 보존한다. Next, the instruction of an analysis start from an operator, the initial time increment, and the analysis end time tend are received. In step 3005, the continuous equations (1) stored in the recording device, the butterfly Stokes equations (2) to (4), and the energy conservation equation (5) are called up based on this instruction, and the input is accepted so far. In addition, the initial time increase, the pressure applied to the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the upper portion of the electrode 4, the density of the resin material, the specific heat, the thermal conductivity, the exothermic (Equation 7) to (11), Substituting the viscosity equations (Equations 12) to (15) calculates the speed, pressure, temperature and viscosity associated with the flow of the resin material 2 and the particles 1 by compression of the electrode. The result of the calculation is stored in the storage device in correspondence with the position of the finite element.

다음으로, 스텝 3006에서 해석에 있어서의 시간이, 설정한 해석 종료 시간 tend보다도 짧은지의 판정을 행하여, 판정이 아니오인 경우에는 계산의 수속 판정 등을 거쳐서 해석을 종료시키고, 판정이 예인 경우에는, 3007의 판정으로 진행한다. Next, in step 3006, a determination is made as to whether the time in the analysis is shorter than the set analysis end time tend, and when the determination is no, the analysis is terminated through the procedure of determining the calculation, and when the determination is yes, Proceed to the determination of 3007.

스텝 3007에서 전극 (4) 사이의 간격이 입자의 직경보다도 큰지 여부의 판정을 행한다. 전극 (4) 사이의 간격이 입자의 직경보다도 큰 경우에는, 스텝 3005로 되돌아가 계산을 반복하고, 전극 (4) 사이의 간격이 입자 (1)의 직경(φD)과 동일해진 경우에는, 스텝 3008에 있어서, 전극 (4) 사이에 끼워지는 접속부의 입자 (1)의 수 N 또는 전극 (4) 사이에 끼워지는 접속부의 입자 (1)의 좌표를 출력한다. 다음으로, 도 13에서 도시된 스텝 1008 내지 1016의 계산을 행한다. In step 3007, it is determined whether the interval between the electrodes 4 is larger than the diameter of the particles. When the distance between the electrodes 4 is larger than the diameter of the particles, the process returns to step 3005 and the calculation is repeated. When the distance between the electrodes 4 is equal to the diameter φD of the particles 1, the step is performed. In 3008, the number N of the particles 1 of the connecting portion sandwiched between the electrodes 4 or the coordinates of the particles 1 of the connecting portion sandwiched between the electrodes 4 are output. Next, calculations of steps 1008 to 1016 shown in FIG. 13 are performed.

다음으로, 스텝 3010에서 입자의 변형량 및 유체 해석으로 구한 전극 (4)의 이동 속도를 출력한다. 스텝 3011에서, 스텝 3010에서 출력한 입자 (1)의 변형량과, 스텝 3003에서 입력한 입자 (1)의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성으로부터 입자 1개당의 도전성을 산출하고, 이 입자 1개당의 도전성과 스텝 3008에서 구한 전극 (4) 사이의 입자수로부터, 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성을 산출한다. Next, the deformation | transformation amount of particle | grains and the moving speed of the electrode 4 calculated | required by the fluid analysis are output in step 3010. In step 3011, the deformation amount of the particles 1 output in step 3010, the deformation amount of the arbitrary allowance of the particles 1 input in step 3003, the electrode 4 and the substrate 5 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 The conductivity per one particle is calculated from the conductivity between the electrodes 4 of the electrodes), and the electrode of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 is obtained from the conductivity per one particle and the number of particles between the electrodes 4 obtained in step 3008. The conductivity between (4) and the electrode 4 of the board | substrate 5 is computed.

또한, 도전성은 전극 간에 임의의 전압을 인가한 경우의 전류치 I로 한다. 여기서, 입력한 「입자 (1)의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성」의 관계의 일례를 도 9에 도시하였다. 또한, 여기서는 입자 (1)의 임의수의 대표치로서, N1, N2, N3의 경우를 나타내고 있고, 스텝 3008에서, 전극 (4) 사이에 끼워지는 접속부의 입자 (1)의 수 N이 N1, N2, N3 이외인 경우에는, 내삽, 외삽으로 값을 구할 수 있다. In addition, electroconductivity is made into the electric current value I when the arbitrary voltage is applied between electrodes. Here, an example of the relationship between the input "deformation amount of arbitrary allowance of the particle 1 and the electroconductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5" is shown in FIG. Shown. In addition, as the representative number of arbitrary numbers of the particle | grains 1 here, the case of N1, N2, N3 is shown, In step 3008, the number N of the particle | grains 1 of the connection part inserted between the electrodes 4 is N1, When it is other than N2 and N3, a value can be calculated | required by interpolation and extrapolation.

여기서, 스텝 3012에서 계산의 수속 판정을 행한다. 수속의 판정 수법은 압력과 미리 정하여 놓은 압력 범위를 대비하여, 범위 내에 있는 경우를 수속으로서 판정한다. 수속하지 않은 경우에는 스텝 3001 내지 3004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정한다. Here, in step 3012, the procedure for determining the calculation is performed. The procedure for judging the procedure determines the case where the procedure is within the range against the pressure and the predetermined pressure range. In the case of no procedure, the process returns to any one of steps 3001 to 3004. At this time, the operator is prompted for input to determine which step to return to.

스텝 3013에서 입자 변형의 적정 판정을 행한다. 여기서는, 입자의 변형량이 규정된 값의 범위 내인지를 판정하여, 규정된 범위 밖인 경우에는 스텝 3001 내지 3004 중 어느 하나로 되돌아간다. 이 때, 오퍼레이터에게 입력을 재촉하여 어느 스텝으로 되돌아갈지를 결정한다. In step 3013, appropriate determination of particle deformation is performed. Here, it is determined whether the amount of deformation of the particles is within the range of the prescribed value, and if outside the prescribed range, the process returns to any one of steps 3001 to 3004. At this time, the operator is prompted for input to determine which step to return to.

스텝 3012에서 계산이 수속한 것을 판정하고, 스텝 3013에서 입자 변형이 적정한 것을 판정한 후, 스텝 3014에서 계산을 종료한다. 또한, 스텝 3003에서 입력한 「입자 (1)의 임의수당의 변형량과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성」은, 「입자 (1)의 임의수당의 변형량과, 입자 (1)과 전극 (4)의 접촉 면적」의 관계로부터 구한 「입자 (1)과 전극 (4)의 접촉 면적과 반도체 집적 회로(IC) (3)의 전극 (4)와 기판 (5)의 전극 (4) 간의 도전성」을 입력할 수도 있다. 또한, 도전성은 전극 사이에 임의 전압을 인가한 경우의 전류치로 했지만, 본 발명은 이것에만 한정되는 것은 아니고, 전극 사이의 저항치 등을 사용할 수 있다. After it is determined in step 3012 that the calculation has been performed, and in step 3013 it is determined that the particle deformation is appropriate, the calculation is terminated in step 3014. In addition, "the amount of deformation of the arbitrary allowance of the particle | grains 1 and the electroconductivity between the electrode 4 of the semiconductor integrated circuit (IC) 3 and the electrode 4 of the board | substrate 5" input in step 3003 is "particle ( The contact area between the particle 1 and the electrode 4 and the semiconductor integrated circuit (IC) 3 obtained from the relationship between the deformation amount of the arbitrary allowance of 1) and the contact area between the particle 1 and the electrode 4. Conductivity between the electrode 4 and the electrode 4 of the substrate 5 can be input. In addition, although electroconductivity was made into the electric current value at the time of applying arbitrary voltage between electrodes, this invention is not limited only to this, The resistance value between electrodes, etc. can be used.

여기서, 스텝 3008에서 출력한 전극 (4) 사이에 끼워진 입자 (1)의 좌표와 스텝 3010에서 출력한 전극 (4)의 이동 속도를 이용하여 구조 해석의 입력 조건으로서 사용할 수 있다. 또한, 출력한 입자 (1)의 좌표는 입자 (1)의 임의 위치를 출력할 수 있는 것으로 하고, 여기서는, 입자 (1)의 중심의 좌표를 출력하는 것으로 한다. Here, the coordinates of the particles 1 sandwiched between the electrodes 4 output in step 3008 and the moving speed of the electrode 4 output in step 3010 can be used as input conditions for structural analysis. In addition, the coordinate of the output particle 1 shall output the arbitrary position of the particle 1, and here it shall output the coordinate of the center of the particle 1.

이 유체의 계산으로 출력한 입력 조건(전극 (4) 사이에 끼워진 입자 (1)의 좌표와, 전극 (4) 이동 속도) 및 입자의 물성치(탄성률, 밀도, 푸아송비 등)를 이용한 구조 해석에 의해, 도 20에 도시된 바와 같이, 전극 (4)의 속도를 입력치로 한 기판 (5)에, 좌표가 입력된 입자 (1)이 압축되는 경우의 변형 형태, 입자 (1)과 전극의 접촉 면적을 해석으로 구할 수 있다. For structural analysis using input conditions (coordinates of particles 1 sandwiched between electrodes 4 and electrode 4 moving speeds) and physical properties of particles (elastic modulus, density, Poisson's ratio, etc.) output by the calculation of this fluid As a result, as shown in FIG. 20, the deformation | transformation form when the particle | grain 1 in which the coordinate was input is compressed to the board | substrate 5 which made the velocity of the electrode 4 into an input value, and the contact of particle | grains 1 and an electrode is carried out. The area can be found by analysis.

또한, 도 21에 도시하는 입자 (1)과 전극 (4)의 접촉 면적과 도전성의 관계를 이용하여, 도 20에서 산출한 입자 (1)과 전극의 접촉 면적으로부터 도전성을 산출할 수도 있다. Moreover, electroconductivity can also be computed from the contact area of the particle 1 and electrode computed in FIG. 20 using the relationship of the contact area and electroconductivity of the particle 1 and electrode 4 shown in FIG.

Claims (24)

(1) 해석 대상인 볼록 형상이 있는 기판, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치로부터 계산 장치에 취득하고, (1) data of a convex substrate as an analysis target, a shape of a resin material including initial particles, and a space in which a resin material containing particles can flow are acquired from a storage device into a calculation device; (2) 상기 데이터에 기초하여 3차원 솔리드 요소로 분해 처리를 하고, (2) decomposing into three-dimensional solid elements based on the data; (3) 적어도 수지 재료의 밀도, 열전도율, 비열, 점도, 입자의 외형 치수, 밀도, 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 하중 F를 입력하고, (3) Input at least the density of the resin material, the thermal conductivity, the specific heat, the viscosity, the external dimensions of the particles, the density, the load-displacement relationship per particle, and the external load F applied to the convex substrate. , (4) 연속의 식, 나비에 스톡스의 식, 에너지 보존식을, 상기 3차원 솔리드 요소에 기초하여 연산 처리함으로써, 볼록 형상이 있는 기판과 수지 재료의 접촉에 의해 수지 온도의 변화를 계산하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동에 의해 수지 재료가 입자와 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산하고, (4) The change of the resin temperature is calculated by the contact of the convex substrate and the resin material by arithmetic processing of a continuous equation, a butterfly Stokes equation, and an energy conservation equation based on the three-dimensional solid element. Calculate the flow of resin material is compressed with the particles by the movement of the convex substrate, (5) 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일하게 되는 시간에, 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N을 출력 연산하고, (5) At the time when the space | interval between the convex-shaped board | substrate after compression becomes equal to the diameter of particle | grains, the output calculation of the number N of particle | grains interposed between the convex-shaped board | substrates, (6) 상기 (5)의 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 전극과 입자의 접촉을 무시하고, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 하중을, 상기 (3)에서 입력한 하중 F로부터, 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극으로부터 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위 의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중을 뺀 값을 이용하고, 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축함으로써, 수지 재료 및 입자를 유동시키는 공정을 계산하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. (6) After the time when the gap between the convex substrates after the compression of the above (5) becomes equal to the diameter of the particles, the load applied to the convex substrate is ignored. From the load F input in (3), between the convex-shaped substrate and the load-displacement relationship per particle input in (3) above, and the convex substrate obtained in (5) above. Calculating a process of flowing the resin material and the particles by compressing the resin material containing the particles into the substrate having the convex shape from two directions, using a value obtained by subtracting the load obtained by multiplying by the number N of particles to be inserted into the substrate. The flow analysis method of the resin material which embedded the particle | grains characterized by the above-mentioned. (1) 해석 대상인 볼록 형상이 있는 기판, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치로부터 계산 장치에 취득하고, (1) data of a convex substrate as an analysis target, a shape of a resin material including initial particles, and a space in which a resin material containing particles can flow are acquired from a storage device into a calculation device; (2) 상기 데이터에 기초하여 3차원 솔리드 요소로 분해 처리를 하고, (2) decomposing into three-dimensional solid elements based on the data; (3) 적어도 수지 재료의 밀도, 열전도율, 비열, 점도, 입자의 밀도, 외형 치수, 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계를 입력하고, (3) input at least the density of the resin material, the thermal conductivity, the specific heat, the viscosity, the density of the particles, the external dimensions, and the load-displacement relationship per one particle, (4) 볼록 형상이 있는 기판의 이동 속도 Vd, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 최대 하중 Fmax를 입력하고, (4) Input the moving speed Vd of the convex substrate and the maximum load Fmax from the outside applied to the convex substrate, (5) 연속의 식, 나비에 스톡스의 식, 에너지 보존식을, 상기 3차원 솔리드 요소에 기초하여 연산 처리함으로써, 볼록 형상이 있는 기판과 수지 재료의 접촉에 의해 수지 온도의 변화를 계산하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동 속도 Vd에 의해 수지 재료가 입자와 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산하고, (5) The change of the resin temperature is calculated by the contact of the convex substrate and the resin material by arithmetic processing of the continuous equation, the butterfly Stokes equation and the energy conservation equation based on the three-dimensional solid element, Calculate the flow of the resin material as it is compressed with the particles by the moving speed Vd of the convex substrate, (6) 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N을 출력 연 산하고, (6) After the time when the gap between the convex substrates after compression becomes equal to the diameter of the particles, the number of particles N sandwiched between the convex substrates is output-calculated, (7) 상기 (6)의 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 볼록 형상이 있는 기판과 입자의 접촉을 무시하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동량으로부터 입자의 변형량 △H를 산출한 후에, 상기 (4)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계식으로부터 입자의 변형량 △H에 의해서 입자 1개당에 가해지는 하중 △F를 산출하고, 입자에 가해지는 하중(FR=NX△F)를 산출하고, 또한 이동하는 볼록 형상이 있는 기판에 의해 수지에 가해지는 하중 FJ를, 이동하는 볼록 형상이 있는 기판과 수지의 접촉 면적과 부분의 수지 압력의 곱으로서 산출하고, (7) After the time when the gap between the convex substrates after compression of the above (6) becomes equal to the diameter of the particles, the contact between the convex substrate and the particles is ignored, and from the movement amount of the convex substrate After calculating the deformation amount ΔH of the particles, the load ΔF applied to each particle is calculated based on the deformation amount ΔH of the particles from the load-displacement relationship applied to each particle input in the above (4), and the particles Calculate the load (FR = NXΔF) applied to the resin, and the load FJ applied to the resin by the substrate having the moving convex shape, and the resin pressure of the contact area and the portion of the moving convex substrate and the resin. Calculated as the product of (8) 입력한 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 최대 하중 Fmax가 수지에 가해지는 하중 FJ와 입자에 가해지는 하중 FR의 합 이상(Fmax≥FJ+FR)이면, 볼록 형상이 있는 기판을 이동 속도 Vd로 제어하고, 입력한 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 최대 하중 Fmax가 수지에 가해지는 하중 FJ와 입자에 가해지는 하중 FR보다도 작으면(Fmax<FJ+FR), 볼록 형상이 있는 기판 이동의 경계 조건이 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 하중(최대 하중 Fmax)으로 전환되고, 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축함으로써, 수지 재료 및 입자를 유동시키는 공정을 계산하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. (8) If the maximum load Fmax from the outside applied to the input convex substrate is equal to or greater than the sum of the load FJ applied to the resin and the load FR applied to the particles (Fmax ≧ FJ + FR), the substrate having the convex shape If the maximum load Fmax from the outside applied to the substrate with the input convex shape is smaller than the load FJ applied to the resin and the load FR applied to the particles (Fmax <FJ + FR), The boundary condition of the substrate movement with the shape is converted into a load from the outside (maximum load Fmax) applied to the substrate with the convex shape, and the resin material containing particles is compressed into the substrate with the convex shape from two directions. A flow analysis method for a resin material having particles embedded therein, wherein the step of flowing the material and particles is calculated. 제1항 또는 제2항에 있어서, 입자에 가해지는 하중과 변위의 관계의 입력 방 법으로서, 임의수의 입자당에 가해지는 하중과 변위의 관계, 또는 임의수의 입자당에 가해지는 응력과 변형률의 관계를 입력하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The method according to claim 1 or 2, wherein the input method of the relationship between the load and the displacement applied to the particles includes the relationship between the load and the displacement applied to any number of particles or the stress applied to any number of particles. The flow analysis method of the resin material which embedded the particle | grains which inputs the relationship of a strain rate. 제1항 또는 제2항에 있어서, 입자가 도전성을 갖고 있고, 접속 부분의 입자수와 변형률과 도전성의 관계를 입력함으로써, 볼록 형상이 있는 기판 간의 도전성을 출력 연산하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The particle | grains of Claim 1 or 2 which electroconductivity between the convex-shaped board | substrate is output-calculated by inputting the relationship of the particle | grain number of a connection part, strain, and electroconductivity, and particle | grains are electroconductive. Flow analysis method of the embedded resin material. 제1항 또는 제2항에 있어서, 입자가 도전성을 갖고 있고, 접속 부분의 입자수와 입자와 볼록 형상이 있는 기판의 접촉 면적과 도전성의 관계를 입력함으로써, 볼록 형상이 있는 기판 간의 도전성을 출력 연산하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The conductivity between the convex substrates according to claim 1 or 2, wherein the particles are conductive and input the relationship between the number of particles in the connection portion and the contact area of the substrate with the convex shape and the conductivity. The flow analysis method of the resin material which embedded the particle | grains characterized by calculating. 제1항 또는 제2항에 있어서, 수지 재료의 발열 반응식, 수지 온도를 포함하는 함수인 점도식을 입력하고, 수지 재료 및 입자의 유동 과정을 출력하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The resin material containing particle | grains of Claim 1 or 2 characterized by inputting the exothermic reaction formula of a resin material, the viscosity formula which is a function containing a resin temperature, and outputting the flow process of a resin material and particle | grains. Flow analysis method. 제1항 또는 제2항에 있어서, 수지 재료가 물성치가 서로 다른 2층 이상으로 형성되고, 입자가 1층 이상의 수지 중에 배치되어 있고, 2층 이상의 수지의 발열 반응식, 수지 온도를 포함하는 함수인 점도식을 입력하고, 2층 이상의 수지 및 입자의 유동 과정을 출력하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The resin material according to claim 1 or 2, wherein the resin material is formed of two or more layers having different physical properties, particles are disposed in one or more layers of resin, and are functions including an exothermic reaction formula of two or more layers of resin and a resin temperature. A flow analysis method for a resin material having particles embedded therein, wherein a viscosity formula is input and a flow process of two or more layers of resins and particles is output. 제1항 또는 제2항에 있어서, 볼록 형상이 있는 기판이, 전극을 구비한 반도체 집적 회로와 전극을 구비한 기판인 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The flow analysis method of the resin material containing particle | grains of Claim 1 or 2 whose convex-shaped board | substrate is a semiconductor integrated circuit provided with an electrode, and a board | substrate provided with an electrode. (1) 해석 대상인 볼록 형상이 있는 기판, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치로부터 계산 장치에 취득시키는 입력부,(1) an input unit for acquiring data of a convex substrate to be analyzed, a shape of a resin material including initial particles, and a space in which a resin material including particles can flow from a storage device to a calculation device; (2) 상기 데이터에 기초하여 3차원 솔리드 요소로 분해 처리를 행하는 처리부, (2) a processing unit which performs decomposition processing into three-dimensional solid elements based on the data, (3) 적어도 수지 재료의 밀도, 열전도율, 비열, 점도, 입자의 외형 치수, 밀도, 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 하중 F를 입력하는 입력부, (3) input at least the density of the resin material, the thermal conductivity, the specific heat, the viscosity, the external dimensions of the particles, the density, the load-displacement relationship per particle, and the external load F applied to the convex substrate; Input, (4) 연속의 식, 나비에 스톡스의 식, 에너지 보존식을, 상기 3차원 솔리드 요소에 기초하여 연산 처리함으로써, 볼록 형상이 있는 기판과 수지 재료의 접촉에 의해 수지 온도의 변화를 계산하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동에 의해 수지 재료가 입자와 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산하는 연산부, (4) The change of the resin temperature is calculated by the contact of the convex substrate and the resin material by arithmetic processing of a continuous equation, a butterfly Stokes equation, and an energy conservation equation based on the three-dimensional solid element. Computation unit for calculating the flow of the resin material is compressed with the particles by the movement of the substrate having a convex shape, (5) 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일하게 되는 시간에, 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N을 출력 연산하는 출력부, (5) an output unit for output-calculating the number N of particles sandwiched between the convex substrates at a time when the gap between the convex substrates after compression becomes equal to the diameter of the particles; (6) 상기 (5)의 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 볼록 형상이 있는 기판과 입자의 접촉을 무시하고, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 하중을, 상기 (3)에서 입력한 하중 F로부터, 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극으로부터 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중을 뺀 값을 이용하고, 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축함으로써, 수지 재료 및 입자를 유동시키는 공정을 계산하는 연산부(6) After the time when the gap between the convex substrates after the compression of (5) becomes equal to the diameter of the particles, the contact between the convex substrate and the particles is ignored and applied to the convex substrate. From the load F input in said (3), the load-displacement relationship exerted per particle | grains input in said (3) from the clearance gap between board | substrates with a convex shape, and the convex shape calculated | required in said (5) The resin material and the particles are made to flow by compressing the resin material containing the particles from the two directions into the convex substrate from the two directions by using a value obtained by subtracting the load obtained by the product of the number N of particles sandwiched between the substrates. Computation unit calculating the process 를 구비한 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 시스템. The flow analysis system of the resin material which embedded the particle | grains characterized by the above-mentioned. (1) 해석 대상인 볼록 형상이 있는 기판, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치로부터 계산 장치에 취득시키는 입력부,(1) an input unit for acquiring data of a convex substrate to be analyzed, a shape of a resin material including initial particles, and a space in which a resin material including particles can flow from a storage device to a calculation device; (2) 상기 데이터에 기초하여 3차원 솔리드 요소로 분해 처리를 행하는 처리부, (2) a processing unit which performs decomposition processing into three-dimensional solid elements based on the data, (3) 적어도 수지 재료의 밀도, 열전도율, 비열, 점도, 입자의 밀도, 외형 치 수, 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계를 입력하는 입력부, (3) an input unit for inputting at least the density of the resin material, the thermal conductivity, the specific heat, the viscosity, the density of the particles, the external dimensions, and the load-displacement relationship per one particle, (4) 볼록 형상이 있는 기판의 이동 속도 Vd, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 최대 하중 Fmax를 입력하는 입력부, (4) an input unit for inputting a moving speed Vd of a substrate having a convex shape and a maximum load Fmax from the outside applied to the substrate having a convex shape, (5) 연속의 식, 나비에 스톡스의 식, 에너지 보존식을, 상기 3차원 솔리드 요소에 기초하여 연산 처리함으로써, 볼록 형상이 있는 기판과 수지 재료의 접촉에 의해 수지 온도의 변화를 계산하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동 속도 Vd에 의해 수지 재료가 입자와 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산하는 연산부, (5) The change of the resin temperature is calculated by the contact of the convex substrate and the resin material by arithmetic processing of the continuous equation, the butterfly Stokes equation and the energy conservation equation based on the three-dimensional solid element, An operation unit for calculating a process of flowing the resin material together with the particles by the moving speed Vd of the substrate having the convex shape, (6) 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N을 출력 연산하는 출력 연산부, (6) an output calculation unit that outputs and calculates the number N of particles sandwiched between the convex substrates after a time when the gap between the convex substrates after compression is equal to the diameter of the particles; (7) 상기 (6)의 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 볼록 형상이 있는 기판과 입자의 접촉을 무시하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동 방향에서의 수지 재료의 이동량으로부터 입자의 변형량 △H를 산출한 후에, 상기 (4)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계식으로부터 입자의 변형량 △H에 의해서 입자 1개당에 가해지는 하중 △F를 산출하고, 입자에 가해지는 하중(FR=NX△F)를 산출하고, 또한 이동하는 볼록 형상이 있는 기판에 의해 수지에 가해지는 하중 FJ를, 이동하는 볼록 형상이 있는 기판과 수지의 접촉 면적과 부분의 수지 압력의 곱으로서 산출하는 연산부, (7) After the time when the gap between the convex substrates after the compression of (6) becomes equal to the diameter of the particles, the contact direction of the convex substrate and the particles is ignored, ignoring the contact between the convex substrate and the particles. The load applied to each particle by the deformation amount ΔH of the particles from the load-displacement relational expression applied to each particle input in the above (4) after calculating the deformation amount ΔH of the particles from the movement amount of the resin material in ΔF is calculated, the load (FR = NXΔF) applied to the particles is calculated, and the load FJ applied to the resin by the substrate having the moving convex shape is determined between the moving convex substrate and the resin. A calculation unit that calculates the product of the contact area and the resin pressure of the part; (8) 입력한 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 최대 하중 Fmax가 수지에 가해지는 하중 FJ와 입자에 가해지는 하중 FR의 합 이상(Fmax≥FJ+FR)이 면, 볼록 형상이 있는 기판을 이동 속도 Vd로 제어하고, 입력한 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 최대 하중 Fmax가 수지에 가해지는 하중 FJ와 입자에 가해지는 하중 FR보다도 작으면(Fmax<FJ+FR), 볼록 형상이 있는 기판 이동의 경계 조건이 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 하중(최대 하중 Fmax)으로 전환되고, 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축함으로써, 수지 재료 및 입자를 유동시키는 공정을 계산하는 연산부(8) If the maximum load Fmax from the outside applied to the input convex substrate is equal to or greater than the sum of the load FJ applied to the resin and the load FR applied to the particles (Fmax≥FJ + FR), the convex shape is present. If the substrate is controlled at the moving speed Vd and the maximum load Fmax from the outside applied to the input convex substrate is smaller than the load FJ applied to the resin and the load FR applied to the particles (Fmax <FJ + FR), By changing the boundary condition of the convex substrate movement to the load from the outside (maximum load Fmax) applied to the convex substrate, compressing the resin material containing the particles from the two directions to the convex substrate, Computation unit for calculating the process of flowing the resin material and particles 를 구비한 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 시스템. The flow analysis system of the resin material which embedded the particle | grains characterized by the above-mentioned. (1) 해석 대상인 볼록 형상이 있는 기판, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치로부터 계산 장치에 취득하고, (1) data of a convex substrate as an analysis target, a shape of a resin material including initial particles, and a space in which a resin material containing particles can flow are acquired from a storage device into a calculation device; (2) 상기 데이터에 기초하여 3차원 솔리드 요소로 분해 처리를 하고, (2) decomposing into three-dimensional solid elements based on the data; (3) 적어도 수지 재료의 밀도, 열전도율, 비열, 점도, 입자의 외형 치수, 밀도, 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 하중 F를 입력하고, (3) Input at least the density of the resin material, the thermal conductivity, the specific heat, the viscosity, the external dimensions of the particles, the density, the load-displacement relationship per particle, and the external load F applied to the convex substrate. , (4) 연속의 식, 나비에 스톡스의 식, 에너지 보존식을, 상기 3차원 솔리드 요소에 기초하여 연산 처리함으로써, 볼록 형상이 있는 기판과 수지 재료의 접촉에 의해 수지 온도의 변화를 계산하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동에 의해 수지 재료가 입자와 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산하고, (4) The change of the resin temperature is calculated by the contact of the convex substrate and the resin material by arithmetic processing of a continuous equation, a butterfly Stokes equation, and an energy conservation equation based on the three-dimensional solid element. Calculate the flow of resin material is compressed with the particles by the movement of the convex substrate, (5) 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일하게 되는 시간에, 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N을 출력 연산하고, (5) At the time when the space | interval between the convex-shaped board | substrate after compression becomes equal to the diameter of particle | grains, the output calculation of the number N of particle | grains interposed between the convex-shaped board | substrates, (6) 상기 (5)의 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 전극과 입자의 접촉을 무시하고, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 하중을, 상기 (3)에서 입력한 하중 F로부터, 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극으로부터 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중을 뺀 값을 이용하고, 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 계산하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. (6) After the time when the gap between the convex substrates after the compression of the above (5) becomes equal to the diameter of the particles, the load applied to the convex substrate is ignored. From the load F input in (3), between the convex-shaped substrate and the load-displacement relationship per particle input in (3) above, and the convex substrate obtained in (5) above. Using the value obtained by subtracting the load obtained by multiplying by the number N of particles to be inserted into, the process of compressing the resin material containing the particles into a substrate having a convex shape from two directions is included. Flow analysis method of the made resin material. (1) 해석 대상인 볼록 형상이 있는 기판, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치로부터 계산 장치에 취득하고, (1) data of a convex substrate as an analysis target, a shape of a resin material including initial particles, and a space in which a resin material containing particles can flow are acquired from a storage device into a calculation device; (2) 상기 데이터에 기초하여 3차원 솔리드 요소로 분해 처리를 하고, (2) decomposing into three-dimensional solid elements based on the data; (3) 적어도 수지 재료의 밀도, 열전도율, 비열, 점도, 입자의 외형 치수, 밀도, 입자 1개당에 가해지는 온도 변화를 고려한 하중-변위의 관계, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 하중 F를 입력하고, (3) Load-displacement relation considering at least density of resin material, thermal conductivity, specific heat, viscosity, external dimension of particle, density, temperature change per particle, load from outside applied to convex substrate Type F, (4) 연속의 식, 나비에 스톡스의 식, 에너지 보존식을, 상기 3차원 솔리드 요소에 기초하여 연산 처리함으로써, 볼록 형상이 있는 기판과 수지 재료의 접촉에 의해 수지 온도의 변화를 계산하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동에 의해 수지 재료가 입자와 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산하고, (4) The change of the resin temperature is calculated by the contact of the convex substrate and the resin material by arithmetic processing of a continuous equation, a butterfly Stokes equation, and an energy conservation equation based on the three-dimensional solid element. Calculate the flow of resin material is compressed with the particles by the movement of the convex substrate, (5) 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일하게 되는 시간에, 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N을 출력 연산하고, (5) At the time when the space | interval between the convex-shaped board | substrate after compression becomes equal to the diameter of particle | grains, the output calculation of the number N of particle | grains interposed between the convex-shaped board | substrates, (6) 상기 (5)의 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 전극과 입자의 접촉을 무시하고, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 하중을, 상기 (3)에서 입력한 하중 F로부터, 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극으로부터 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 온도 변화를 고려한 하중-변위의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중을 뺀 값을 이용하고, 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 계산하고, (6) After the time when the gap between the convex substrates after the compression of the above (5) becomes equal to the diameter of the particles, the load applied to the convex substrate is ignored. From the load F input in (3), the load-displacement relationship in consideration of the temperature change applied to each particle input in the above (3) from the gap between the convex substrates and the convex shape obtained in the above (5). Using the value obtained by subtracting the load obtained by the product of the number of particles N sandwiched between the substrates with the substrate, and calculating the process of compressing the resin material containing the particles into the substrate having the convex shape from two directions, (7) 상기 (3)에서 입력한 하중 F가, (7) The load F input in the above (3) is 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중보다도 크면, If the load is greater than the load determined by the product of the load-displacement relationship per particle input in the above (3) and the number of particles N sandwiched between the convex substrates obtained in the above (5), 상기 (6)의 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 반복하여 계산하고, Repeating the process of compressing the resin material containing the particles of the above (6) into the convex substrate from two directions, 상기 (3)에서 입력한 하중 F가, The load F input in the above (3), 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중과 동일하게 되면, If it becomes equal to the load determined by the product of the load-displacement relationship per one particle input in the above (3) and the number N of particles sandwiched between the convex substrates obtained in the above (5), 전극의 이동 속도는 0으로 하고, 에너지 방정식을 이용한 수지 재료의 온도 계산을 행하고, 온도 상승에 의해, 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계가 변화함으로써, The movement speed of the electrode is set to 0, the temperature calculation of the resin material using the energy equation is performed, and the load-displacement relationship applied to each particle input in the above (3) is changed by the temperature rise, 상기 (3)에서 입력한 하중 F가, 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중보다도 커지면, The load F input in the above (3) is a relationship between the load-displacement relationship applied to each particle input in the above (3) and the number N of particles sandwiched between the convex substrates obtained in the above (5). If it is greater than the load determined by the product, 상기 (6)의 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 반복하여 계산함으로써, 수지 재료 및 입자를 유동시키는 공정을 계산하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. By repeatedly calculating the process of compressing the resin material containing the particles of the above (6) into the convex substrate from two directions, the step of flowing the resin material and the particles is calculated. Method of flow analysis of resin materials. (1) 해석 대상인 볼록 형상이 있는 기판, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치로부터 계산 장치에 취득하고, (1) data of a convex substrate as an analysis target, a shape of a resin material including initial particles, and a space in which a resin material containing particles can flow are acquired from a storage device into a calculation device; (2) 상기 데이터에 기초하여 3차원 솔리드 요소로 분해 처리를 하고, (2) decomposing into three-dimensional solid elements based on the data; (3) 적어도 수지 재료의 밀도, 열전도율, 비열, 점도, 입자의 밀도, 외형 치 수, 입자 1개당에 가해지는 온도 변화를 고려한 하중-변위의 관계를 입력하고, (3) input the load-displacement relationship considering at least the density of the resin material, the thermal conductivity, the specific heat, the viscosity, the density of the particles, the external dimensions, and the temperature change applied to each particle, (4) 볼록 형상이 있는 기판의 이동 속도 Vd, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 하중 F를 입력하고, (4) Input the moving speed Vd of the convex substrate and the load F from the outside applied to the convex substrate, (5) 연속의 식, 나비에 스톡스의 식, 에너지 보존식을, 상기 3차원 솔리드 요소에 기초하여 연산 처리함으로써, 볼록 형상이 있는 기판과 수지 재료의 접촉에 의해 수지 온도의 변화를 계산하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동 속도 Vd에 의해 수지 재료가 입자와 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산하고, (5) The change of the resin temperature is calculated by the contact of the convex substrate and the resin material by arithmetic processing of the continuous equation, the butterfly Stokes equation and the energy conservation equation based on the three-dimensional solid element, Calculate the flow of the resin material as it is compressed with the particles by the moving speed Vd of the convex substrate, (6) 이동하는 볼록 형상이 있는 기판에 의해 수지에 가해지는 하중 FJ를, 이동하는 볼록 형상이 있는 기판과 수지의 접촉 면적과 수지 압력의 곱으로서 산출하고, 상기 (4)에서 입력한 하중 F와 FJ의 관계가, (6) The load F applied to the resin by the moving convex substrate is calculated as the product of the contact area of the moving convex substrate and the resin and the resin pressure, and the load F input in the above (4). Has a relationship with FJ, F≥FJ이면 전극은 상기 (4)에서 입력한 볼록 형상이 있는 기판의 이동 속도 Vd로 이동하는 과정을 계산하고, If F≥FJ, the electrode calculates a process of moving at the moving speed Vd of the substrate having the convex shape input in the above (4), F<FJ이면 전극은 상기 (4)에서 입력한 하중 F에 의해서 압축되어, 이동하는 과정을 계산하여, If F <FJ, the electrode is compressed by the load F input in the above (4) to calculate the moving process, (7) 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N을 출력 연산하고, (7) After the time when the gap between the convex substrates after compression becomes equal to the diameter of the particles, the number of particles N sandwiched between the convex substrates is output calculated. (8) 상기 (7)의 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 전극과 입자의 접촉을 무시하고, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 하중을, 상기 (4)에서 입력한 하중 F로부터, 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극으로부터 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 온도 변화를 고려한 하중-변위의 관계와 상기 (7)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중을 뺀 값을 이용하고, 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 계산하고,(8) After the time when the gap between the convex substrates after compression of the above (7) becomes equal to the diameter of the particles, the load applied to the convex substrate is ignored, ignoring the contact between the electrode and the particles. From the load F input in (4), the load-displacement relationship in consideration of the temperature change applied to each particle input in the above (3) from the gap between the convex substrates and the convex shape obtained in the above (7). Using the value obtained by subtracting the load obtained by the product of the number of particles N sandwiched between the substrates with the substrate, and calculating the process of compressing the resin material containing the particles into the substrate having the convex shape from two directions, (9) 상기 (4)에서 입력한 하중 F가, (9) The load F input in the above (4) is 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (7)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중보다도 크면, If the load is greater than the load determined by the product of the load-displacement relationship per particle input in the above (3) and the number of particles N sandwiched between the convex substrates obtained in the above (7), 상기 (8)의 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 반복하여 계산하고, Repeating the process of compressing the resin material containing the particles of the above (8) into the convex substrate from two directions, 상기 (4)에서 입력한 하중 F가, The load F input in the above (4), 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (7)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중과 동일하게 되면, If it becomes equal to the load determined by the product of the load-displacement relationship per particle input in the above (3) and the number of particles N sandwiched between the convex substrates obtained in the above (7), 전극의 이동 속도는 0으로 하고, 에너지 방정식을 이용한 수지 재료의 온도 계산을 행하고, 온도 상승에 의해, 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계가 변화함으로써, The movement speed of the electrode is set to 0, the temperature calculation of the resin material using the energy equation is performed, and the load-displacement relationship applied to each particle input in the above (3) is changed by the temperature rise, 상기 (4)에서 입력한 하중 F가, 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (7)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입 자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중보다도 커지면, The load F input in the above (4) is between the load-displacement relationship applied to each particle input in the above (3) and the mouth embroidery N sandwiched between the convex substrates obtained in the above (7). If it is greater than the load determined by the product, 상기 (8)의 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 반복하여 계산함으로써, 수지 재료 및 입자를 유동시키는 공정을 계산하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. By repeatedly calculating the process of compressing the resin material containing the particles of the above (8) into the substrate having the convex shape from two directions, the step of flowing the resin material and particles is calculated. Method of flow analysis of resin materials. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 입자에 가해지는 하중과 변위의 관계의 입력 방법으로서, 임의수의 입자당에 가해지는 하중과 변위의 온도 변화를 고려한 관계, 또는 임의수의 입자당에 가해지는 응력과 변형률의 온도 변화를 고려한 관계를 입력하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The method according to any one of claims 11 to 13, wherein as a method for inputting the relationship between the load and the displacement applied to the particles, the relationship considering the temperature change of the load and the displacement applied to any number of particles or any number A flow analysis method for a resin material having particles embedded therein, wherein a relationship in which the stress applied to the particles and the temperature change of the strain are considered is input. 제14항에 있어서, 상기 입자에 가해지는 하중과 변위의 온도 변화를 고려한 관계에서,The method according to claim 14, wherein in consideration of the temperature change of the load and the displacement applied to the particles, 온도는 해석으로 구한 기판 사이의 수지 온도의 평균치, 또는 기판 사이의 임의 장소의 수지 온도를 이용하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The temperature uses the average value of the resin temperature between board | substrates calculated | required by analysis, or the resin temperature of arbitrary places between board | substrates, The flow analysis method of the resin material which embedded the particle | grains. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 11 to 13, 제14항에 기재된 온도 변화를 고려한 변형량의 관계를 입력한 입자가 도전성 을 갖고 있고, 접속 부분의 입자수와 변형률과 도전성의 관계를 입력함으로써, 볼록 형상이 있는 기판 간의 도전성을 출력 연산하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The particle | grains which input the relationship of the deformation amount in consideration of the temperature change of Claim 14 have electroconductivity, and input the relationship between the number of particle | grains of a connection part, a strain, and electroconductivity, and output-calculates the electroconductivity between convex-shaped board | substrates, It is characterized by the above-mentioned. The flow analysis method of the resin material which embedded the particle | grains. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 11 to 13, 제14항에 기재된 온도 변화를 고려한 변형량의 관계를 입력한 입자가 도전성을 갖고 있고, 접속 부분의 입자수와 입자와 볼록 형상이 있는 기판의 접촉 면적과 도전성의 관계를 입력함으로써, 볼록 형상이 있는 기판 간의 도전성을 출력 연산하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The particle | grains which input the relationship of the deformation amount in consideration of the temperature change of Claim 14 have electroconductivity, and input the relationship of the contact area of the board | substrate with a particle number of a connection part, and a particle | convex shape, and electroconductivity, Output calculation of the electroconductivity between board | substrates, The flow analysis method of the resin material which embedded the particle | grains. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 11 to 13, 수지 재료가 물성치가 서로 다른 2층 이상으로 형성되고, 제4항에 기재된 온도 변화를 고려한 변형량의 관계를 입력한 입자가 1층 이상의 수지 중에 배치되어 있고, 2층 이상의 수지의 발열 반응식, 수지 온도를 포함하는 함수인 점도식을 입력하고, 2층 이상의 수지 및 입자의 유동 과정을 출력하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The resin material is formed of two or more layers having different physical properties, and particles in which the relationship of the deformation amount in consideration of the temperature change according to claim 4 is input are arranged in one or more layers of resin, and the exothermic reaction formula and the resin temperature of the two or more layers of resins. A flow analysis method for a resin material having particles embedded therein, wherein a viscosity formula that is a function including a is input to output a flow process of two or more layers of resins and particles. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 11 to 13, 산출된 전극 사이에 끼워지는 입자의 위치를 출력하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. The flow analysis method of the resin material which embedded the particle | grains characterized by outputting the position of the particle | grains interposed between the computed electrodes. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법으로 산출한 전극의 이동 속도, 제18항에 기재된 계산 방법으로 출력한 기판 사이에 끼워지는 입자의 위치를 입력 조건으로 하여 구조 해석을 행하여, 입자의 변형량, 또는 입자의 변형 형태, 또는 입자와 전극의 접촉 면적을 산출하는 것을 특징으로 하는 계산 방법. The position of the particle | grains interposed between the board | substrate output by the moving speed of the electrode computed by the flow analysis method of the resin material which embedded the particle in any one of Claims 11-13, and the calculation method of Claim 18. The structural method is performed as an input condition, and the amount of deformation of the particles, the shape of deformation of the particles, or the contact area between the particles and the electrode is calculated. 제20항에 기재된 계산 방법으로 산출한 입자의 변형량, 또는 입자와 전극의 접촉 면적과, The amount of deformation of the particles calculated by the calculation method according to claim 20 or the contact area between the particles and the electrode, 접속 부분의 입자수와 변형률과 도전성의 관계, 또는 접속 부분의 입자수와 입자와 볼록 형상이 있는 기판의 접촉 면적과 도전성의 관계를 이용하여, 볼록 형상이 있는 기판 간의 도전성을 출력 연산하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 계산 방법. Conductivity calculation of the conductivity between the convex substrates is performed by using the relationship between the particle number of the connection part and the strain and the conductivity, or the relationship between the particle number of the connection part and the contact area and conductivity of the particle and the convex substrate. The calculation method of the resin material which made the particle | grains embedding. (1) 해석 대상인 볼록 형상이 있는 기판, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치로부터 계산 장치에 취득시키는 입력부, (1) an input unit for acquiring data of a convex substrate to be analyzed, a shape of a resin material including initial particles, and a space in which a resin material including particles can flow from a storage device to a calculation device; (2) 상기 데이터에 기초하여 3차원 솔리드 요소로 분해 처리를 행하는 처리부, (2) a processing unit which performs decomposition processing into three-dimensional solid elements based on the data, (3) 적어도 수지 재료의 밀도, 열전도율, 비열, 점도, 입자의 외형 치수, 밀 도, 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 하중 F를 입력하는 입력부, (3) Input at least the density of the resin material, the thermal conductivity, the specific heat, the viscosity, the external dimensions of the particles, the density, the load-displacement relationship per particle, and the external load F applied to the convex substrate. Input unit, (4) 연속의 식, 나비에 스톡스의 식, 에너지 보존식을, 상기 3차원 솔리드 요소에 기초하여 연산 처리함으로써, 볼록 형상이 있는 기판과 수지 재료의 접촉에 의해 수지 온도의 변화를 계산하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동에 의해 수지 재료가 입자와 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산하는 연산부, (4) The change of the resin temperature is calculated by the contact of the convex substrate and the resin material by arithmetic processing of a continuous equation, a butterfly Stokes equation, and an energy conservation equation based on the three-dimensional solid element. Computation unit for calculating the flow of the resin material is compressed with the particles by the movement of the substrate having a convex shape, (5) 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일하게 되는 시간에, 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N을 출력 연산하는 출력부, (5) an output unit for output-calculating the number N of particles sandwiched between the convex substrates at a time when the gap between the convex substrates after compression becomes equal to the diameter of the particles; (6) 상기 (5)의 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 전극과 입자의 접촉을 무시하고, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 하중을, 상기 (3)에서 입력한 하중 F로부터, 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극으로부터 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중을 뺀 값을 이용하고, 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 계산하는 연산부(6) After the time when the gap between the convex substrates after the compression of the above (5) becomes equal to the diameter of the particles, the load applied to the convex substrate is ignored. From the load F input in (3), between the convex-shaped substrate and the load-displacement relationship per particle input in (3) above, and the convex substrate obtained in (5) above. A calculation unit that calculates a process of compressing the resin material containing the particles into a convex-shaped substrate from two directions using a value obtained by subtracting the load obtained by multiplying by the number N of particles to be inserted into the substrate. 를 구비하는 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 시스템. It is provided, The flow analysis system of the resin material which embedded the particle | grains. (1) 해석 대상인 볼록 형상이 있는 기판, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료 의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치로부터 계산 장치에 취득시키는 입력부, (1) an input unit for acquiring data of a convex substrate to be analyzed, a shape of a resin material including initial particles, and a space in which a resin material including particles can flow from a storage device to a calculation device; (2) 상기 데이터에 기초하여 3차원 솔리드 요소로 분해 처리를 행하는 처리부, (2) a processing unit which performs decomposition processing into three-dimensional solid elements based on the data, (3) 적어도 수지 재료의 밀도, 열전도율, 비열, 점도, 입자의 외형 치수, 밀도, 입자 1개당에 가해지는 온도 변화를 고려한 하중-변위의 관계, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 하중 F를 입력하는 입력부, (3) Load-displacement relation considering at least density of resin material, thermal conductivity, specific heat, viscosity, external dimension of particle, density, temperature change per particle, load from outside applied to convex substrate An input for inputting F, (4) 연속의 식, 나비에 스톡스의 식, 에너지 보존식을, 상기 3차원 솔리드 요소에 기초하여 연산 처리함으로써, 볼록 형상이 있는 기판과 수지 재료의 접촉에 의해 수지 온도의 변화를 계산하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동에 의해 수지 재료가 입자와 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산하는 연산부, (4) The change of the resin temperature is calculated by the contact of the convex substrate and the resin material by arithmetic processing of a continuous equation, a butterfly Stokes equation, and an energy conservation equation based on the three-dimensional solid element. Computation unit for calculating the flow of the resin material is compressed with the particles by the movement of the substrate having a convex shape, (5) 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일하게 되는 시간에, 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N을 출력 연산하는 출력부, (5) an output unit for output-calculating the number N of particles sandwiched between the convex substrates at a time when the gap between the convex substrates after compression becomes equal to the diameter of the particles; (6) 상기 (5)의 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 전극과 입자의 접촉을 무시하고, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 하중을, 상기 (3)에서 입력한 하중 F로부터, 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극으로부터 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 온도 변화를 고려한 하중-변위의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중을 뺀 값을 이용하고, 입자를 포함하 는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 계산하는 연산부, (6) After the time when the gap between the convex substrates after the compression of the above (5) becomes equal to the diameter of the particles, the load applied to the convex substrate is ignored. From the load F input in (3), the load-displacement relationship in consideration of the temperature change applied to each particle input in the above (3) from the gap between the convex substrates and the convex shape obtained in the above (5). An arithmetic unit that calculates a process of compressing a resin material containing particles into a substrate having a convex shape from two directions, using a value obtained by subtracting the load obtained by multiplying by the number N of particles sandwiched between the substrates; (7) 상기 (3)에서 입력한 하중 F가, (7) The load F input in the above (3) is 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중보다도 크면, If the load is greater than the load determined by the product of the load-displacement relationship per particle input in the above (3) and the number of particles N sandwiched between the convex substrates obtained in the above (5), 상기 (6)의 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 반복하여 계산하고, Repeating the process of compressing the resin material containing the particles of the above (6) into the convex substrate from two directions, 상기 (3)에서 입력한 하중 F가, The load F input in the above (3), 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중과 동일하게 되면, If it becomes equal to the load determined by the product of the load-displacement relationship per one particle input in the above (3) and the number N of particles sandwiched between the convex substrates obtained in the above (5), 전극의 이동 속도는 0으로 하고, 에너지 방정식을 이용한 수지 재료의 온도 계산을 행하고, 온도 상승에 의해, 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계가 변화함으로써, The movement speed of the electrode is set to 0, the temperature calculation of the resin material using the energy equation is performed, and the load-displacement relationship applied to each particle input in the above (3) is changed by the temperature rise, 상기 (3)에서 입력한 하중 F가, 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (5)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중보다도 커지면, The load F input in the above (3) is a relationship between the load-displacement relationship applied to each particle input in the above (3) and the number N of particles sandwiched between the convex substrates obtained in the above (5). If it is greater than the load determined by the product, 상기 (6)의 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 반복하여 계산함으로써, 수지 재료 및 입자를 유동시키 는 공정을 계산하는 연산부를 구비한 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 방법. And a calculation unit for calculating a step of flowing the resin material and particles by repeatedly calculating the resin material containing the particles of the above (6) into a convex substrate from two directions. Flow analysis method of resin material incorporating particles. (1) 해석 대상인 볼록 형상이 있는 기판, 초기의 입자를 포함하는 수지 재료의 형상, 입자를 포함하는 수지 재료가 유동할 수 있는 공간의 데이터를 기억 장치로부터 계산 장치에 취득시키는 입력부, (1) an input unit for acquiring data of a convex substrate to be analyzed, a shape of a resin material including initial particles, and a space in which a resin material including particles can flow from a storage device to a calculation device; (2) 상기 데이터에 기초하여 3차원 솔리드 요소로 분해 처리를 하고, (2) decomposing into three-dimensional solid elements based on the data; (3) 적어도 수지 재료의 밀도, 열전도율, 비열, 점도, 입자의 밀도, 외형 치수, 입자 1개당에 가해지는 온도 변화를 고려한 하중-변위의 관계를 입력하는 입력부, (3) an input unit for inputting a load-displacement relationship in consideration of at least the density of the resin material, the thermal conductivity, the specific heat, the viscosity, the density of the particles, the external dimensions, and the temperature change applied to each particle, (4) 볼록 형상이 있는 기판의 이동 속도 Vd, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 외부로부터의 최대 하중 Fmax를 입력하는 입력부, (4) an input unit for inputting a moving speed Vd of a substrate having a convex shape and a maximum load Fmax from the outside applied to the substrate having a convex shape, (5) 연속의 식, 나비에 스톡스의 식, 에너지 보존식을, 상기 3차원 솔리드 요소에 기초하여 연산 처리함으로써, 볼록 형상이 있는 기판과 수지 재료의 접촉에 의해 수지 온도의 변화를 계산하고, 볼록 형상이 있는 기판의 이동 속도 Vd에 의해 수지 재료가 입자와 함께 압축되면서 유동하는 과정을 계산하는 연산부, (5) The change of the resin temperature is calculated by the contact of the convex substrate and the resin material by arithmetic processing of the continuous equation, the butterfly Stokes equation and the energy conservation equation based on the three-dimensional solid element, An operation unit for calculating a process of flowing the resin material together with the particles by the moving speed Vd of the substrate having the convex shape, (6) 이동하는 볼록 형상이 있는 기판에 의해 수지에 가해지는 하중 FJ를, 이동하는 볼록 형상이 있는 기판과 수지의 접촉 면적과 수지 압력의 곱으로서 산출하고, 상기 (4)에서 입력한 최대 하중 Fmax와 FJ의 관계가, (6) The maximum load input in (4) above by calculating the load FJ applied to the resin by the moving convex substrate as the product of the contact area of the moving convex substrate and the resin and the resin pressure. The relationship between Fmax and FJ, Fmax≥FJ이면, 전극은 상기 (4)에서 입력한 볼록 형상이 있는 기판의 이동 속도 Vd로 이동하는 과정을 계산하고, If Fmax≥FJ, the electrode calculates the process of moving at the moving speed Vd of the convex substrate input in (4) above, Fmax<FJ이면, 전극은 상기 (4)에서 입력한 하중 Fmax에 의해서 압축되어, 이동하는 과정을 계산하는 연산부, If Fmax <FJ, the electrode is compressed by the load Fmax input in the above (4) to calculate the moving process, (7) 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N을 출력 연산하는 출력부, (7) an output unit for output-calculating the number N of particles sandwiched between the convex substrates after a time when the gap between the convex substrates after compression is equal to the diameter of the particles; (8) 상기 (7)의 압축 후의 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극이 입자의 직경과 동일해지는 시간 이후에는, 전극과 입자의 접촉을 무시하고, 볼록 형상이 있는 기판에 가해지는 하중을, 상기 (4)에서 입력한 하중 Fmax로부터, 볼록 형상이 있는 기판 사이의 간극으로부터 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 온도 변화를 고려한 하중-변위의 관계와 상기 (7)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중을 뺀 값을 이용하고, 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 계산하는 연산부, (8) After the time when the gap between the convex substrates after compression of the above (7) becomes equal to the diameter of the particles, the load applied to the convex substrate is ignored, ignoring the contact between the electrode and the particles. From the load Fmax input in (4), the load-displacement relationship in consideration of the temperature change applied to each particle input in the above (3) from the gap between the convex substrates and the convex shape obtained in the above (7). An arithmetic unit for calculating a process of compressing the resin material containing the particles into the substrate having the convex shape from two directions, using a value obtained by subtracting the load obtained by the product of the number N of particles sandwiched between the substrates; (9) 상기 (4)에서 입력한 하중 Fmax가, (9) The load Fmax input in the above (4) is 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (7)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중보다도 크면,If the load is greater than the load determined by the product of the load-displacement relationship per particle input in the above (3) and the number of particles N sandwiched between the convex substrates obtained in the above (7), 상기 (8)의 입자를 포함하는 수지 재료를 2방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 반복 계산하고, Repeatedly calculating the process of compressing the resin material containing the particles of the above (8) into the substrate having the convex shape from two directions, 상기 (4)에서 입력한 하중 Fmax가, The load Fmax input in said (4) is 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (7)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중과 동일하게 되면, If it becomes equal to the load determined by the product of the load-displacement relationship per particle input in the above (3) and the number of particles N sandwiched between the convex substrates obtained in the above (7), 전극의 이동 속도는 0으로 하고, 에너지 방정식을 이용한 수지 재료의 온도 계산을 행하고, 온도 상승에 의해, 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계가 변화함으로써, The movement speed of the electrode is set to 0, the temperature calculation of the resin material using the energy equation is performed, and the load-displacement relationship applied to each particle input in the above (3) is changed by the temperature rise, 상기 (4)에서 입력한 하중 Fmax가, 상기 (3)에서 입력한 입자 1개당에 가해지는 하중-변위의 관계와 상기 (7)에서 구한 볼록 형상이 있는 기판 사이에 끼워지는 입자수 N과의 곱에 의해서 구한 하중보다도 커지면, The load Fmax input in the above (4) is equal to the load-displacement relationship applied to each particle input in the above (3) and the number N of particles sandwiched between the convex substrates obtained in the above (7). If it is greater than the load determined by the product, 상기 (8)의 입자를 포함하는 수지 재료를 2 방향으로부터 볼록 형상이 있는 기판으로 압축하는 과정을 반복하여 계산함으로써, 수지 재료 및 입자를 유동시키는 공정을 계산하는 연산부를 구비한 것을 특징으로 하는, 입자를 내재시킨 수지 재료의 유동 해석 시스템. It is provided with a calculating part which calculates the process of flowing a resin material and particle | grains by repeating calculating the process of compressing the resin material containing the particle | grains of said (8) to a board | substrate with a convex shape from two directions, Flow analysis system of resin material containing particles.
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