KR20090039784A - System and method for processing high purity materials - Google Patents

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KR20090039784A
KR20090039784A KR1020097003109A KR20097003109A KR20090039784A KR 20090039784 A KR20090039784 A KR 20090039784A KR 1020097003109 A KR1020097003109 A KR 1020097003109A KR 20097003109 A KR20097003109 A KR 20097003109A KR 20090039784 A KR20090039784 A KR 20090039784A
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KR1020097003109A
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데이비드 칸디옐리
토드 그레이브스
레이 양
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셀레리티 인크.
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    • B24B57/00Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents
    • B24B57/02Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents for feeding of fluid, sprayed, pulverised, or liquefied grinding, polishing or lapping agents
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    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting

Abstract

Systems and methods for processing high purity materials are disclosed. A unit operation processes a material stream, an operational parameter of the unit operation is monitored, and a standby unit is charged with pressurized gas to achieve system pressure. The material stream is diverted to the standby unit in response to the operational parameter of the unit operation registering a threshold value. Flow exiting the standby unit is first vented via an outlet, and then directed toward a point of use after the pressurized gas has been purged. The unit operation may then be serviced and subsequently brought back online. A second unit operation may process a second material stream simultaneously, and the second material stream may be periodically diverted to the standby unit in like manner, thus reducing line pressure variation. The disclosed method may be performed manually or implemented automatically through use of a controller.

Description

고순도 물질을 처리하기 위한 시스템 및 방법 {SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING HIGH PURITY MATERIALS}SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING HIGH PURITY MATERIALS {SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING HIGH PURITY MATERIALS}

본 발명의 하나 이상의 실시예는 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이며, 보다 상세하게는 연마현탁액(abrasive slurries)과 같은 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다. One or more embodiments of the present invention relate to systems and methods for treating high purity materials, and more particularly to systems and methods for treating high purity materials, such as abrasive slurries.

고순도 물질은, 예를 들어, 제약, 화장품, 반도체 산업에서 요구된다. 반도체 산업에서 혼합 공정 재료는 전형적으로 원료가 혼합 하부시스템으로 도입되는 생산 시스템을 이용하여 준비된다. 의도된 용도에 허용될 수 있는 배치(batch)의 혼합 공정 재료를 생산하고 배치와 배치 사이의 일관성(batch-to-batch consistency)을 확보하기 위해 정밀함이 요구된다. 상기 배치는 그 후 툴(tool)에 전달되기에 앞서서, 전형적으로 여과 작업 또는 추가 혼합 등을 거쳐 하류부로 프로세스된다. High purity materials are required, for example, in the pharmaceutical, cosmetic and semiconductor industries. In the semiconductor industry, mixed process materials are typically prepared using a production system in which raw materials are introduced into the mixing subsystem. Precision is required to produce batch process materials of batches that are acceptable for the intended use and to ensure batch-to-batch consistency. The batch is then processed downstream, typically via filtration or further mixing, etc., prior to delivery to the tool.

많은 용도에 있어서, 혼합 공정 재료를 계속적으로 사용 지점에 공급하는 것이 필요하다. 대기 단위부(standby units)는 전형적으로 정비(servicing)를 위해 주기적으로 하나 이상의 공정 요소를 오프라인 상태가 되도록 하는 것을 용이하게 하기 위해 쓰인다. 그러나 그러한 이행(transtioning)과 관련된 공정 파라미 터(process parameter)의 작은 변동조차 연속적인 전달 및/또는 고순도 물질의 질에 상당한 혼란을 가져올 수 있다. 예를 들어, 시스템 내에서 유해한 압력 강하는 특히 중요할 수 있다. For many applications, it is necessary to continuously feed the mixing process material to the point of use. Standby units are typically used to facilitate bringing one or more process elements offline periodically for servicing. However, even small fluctuations in process parameters associated with such transitioning can cause significant disruption to the continuous delivery and / or quality of high purity materials. For example, harmful pressure drops within the system can be particularly important.

하나 이상의 실시예에 따라, 본 발명은 대체로 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템 및 장치에 관한 것이다.In accordance with one or more embodiments, the present invention relates generally to systems and apparatus for treating high purity materials.

하나 이상의 실시예에 따라, 본 발명은 고순도 물질을 처리하기 위한 방법에 관한 것으로, 제1 물질의 유동을 제1 단위 조작부(unit operation)에 도입하는 단계와, 제1 단위 조작부의 작동 파라미터(operational parameter)를 감시하는 단계와, 제2 단위 조작부에 가압 기체를 채우는 단계와, 제2 단위 조작부로부터 가압 기체를 퍼지(purge)하는 단계와, 제1 단위 조작부의 작동 파라미터가 한계값을 기록하는 것에 대한 응답으로 제1 물질의 유동을 제2 단위 조작부로 방향 전환시키는 단계를 포함한다.According to one or more embodiments, the present invention relates to a method for treating high purity materials, comprising introducing a flow of a first material into a first unit operation, and operating parameters of the first unit operation. parameter), filling the pressurized gas with the second unit operation unit, purging the pressurized gas from the second unit operation unit, and operating parameters of the first unit operation unit recording the limit values. In response to diverting the flow of the first material to the second unit operator.

하나 이상의 실시예에 따라, 본 발명은 또한 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템과 관련되며, 제1 물질 공급 라인과, 상기 제1 물질 공급 라인의 하류부와 유체 연결된 제1 단위 조작부와, 상기 제1 물질 공급 라인의 하류부와 유체 연결된 제2 단위 조작부와, 상기 제2 단위 조작부의 작동 파리미터를 감지하기 위해 배치된 제1 센서와, 상기 제1 단위 조작부와 제2 단위 조작부에 유체 연결된 가압 기체 공급 라인과, 상기 제1 단위 조작부와 제2 단위 조작부에 유체 연결된 출구와, 상기 제1 센서, 제2 센서 및 출구와 통신하는 제어기를 포함한다. 상기 제어기는 가압 기체 공급 라인으로부터 제2 단위 조작부를 가압 기체로 채우는 제1 제어 신호와, 제1 센서가 한계값을 기록하는 것에 대한 응답으로 제1 단위 조작부에서 제2 단위 조작부를 거쳐서 출구까지 제1 물질의 유동을 방향 전환시키는 제2 제어 신호와, 제2 단위 조작부로부터 가압 기체가 퍼지된 후 제2 단위 조작부를 거쳐 제1 물질의 유동을 툴(tool) 쪽으로 도입하는 제3 신호를 생성하게 된다.According to one or more embodiments, the invention also relates to a system for processing high purity materials, comprising: a first material supply line, a first unit operation portion in fluid communication with a downstream portion of the first material supply line, and the first material A second unit operation unit fluidly connected to a downstream portion of the supply line, a first sensor arranged to sense an operating parameter of the second unit operation unit, a pressurized gas supply line fluidly connected to the first unit operation unit and the second unit operation unit, And an outlet fluidly connected to the first unit operation unit and the second unit operation unit, and a controller in communication with the first sensor, the second sensor, and the outlet. The controller is configured to provide a first control signal from the pressurized gas supply line to the pressurized gas for filling the second unit operation unit and the first sensor from the first unit operation unit to the outlet in response to recording the threshold value. Generate a second control signal for redirecting the flow of one material and a third signal for introducing the flow of first material toward the tool via the second unit control after purging the pressurized gas from the second unit control; do.

다른 장점, 새로운 특징과 발명의 목적은 첨부 도면과 관련하여 다음의 발명의 상세한 기술을 고려해볼 때 명백해질 것이다.Other advantages, new features and objects of the invention will become apparent upon consideration of the following detailed description of the invention in conjunction with the accompanying drawings.

첨부 도면은 일정한 비율에 따라 그려지도록 의도된 것은 아니다. 도면에서 여러 형태로 도시된 동일하거나 거의 동일한 구성요소 각각은 동일한 도면 부호로 표기되었다. 명료성을 위해서 모든 도면의 모든 구성 요소들에 도면 부호가 붙여지지는 않았다. 바람직하고 권리 범위를 제한하지 않는 실시예가 본원에 첨부된 도면을 참조하여 기술될 것이다.The accompanying drawings are not intended to be drawn to scale. Each identical or nearly identical component that is illustrated in various forms in the figures is designated by a like numeral. For the sake of clarity, not all components of the drawings are labeled. Preferred and non-limiting embodiments will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 5는 본 발명의 하나 이상의 실시예에 따라 하나의 시스템과 그 내부의 다양한 유동 흐름 패턴을 도시한 개략도를 나타내며; 1-5 show schematic diagrams illustrating one system and various flow flow patterns therein in accordance with one or more embodiments of the present invention;

도 6 및 도 7은 본 발명의 하나 이상의 실시예에 따라서 대체 시스템과 내부의 다양한 유동 흐름 패턴을 도시한 개략도를 나타낸다.6 and 7 show schematic diagrams illustrating various flow flow patterns therein and alternative systems in accordance with one or more embodiments of the present invention.

본 발명은 그것의 적용에 있어서 다음의 기재 및 도면에 도시된 구조의 세부 사항과 구성 요소의 배치로 제한되지 않는다. 본 발명은 실시예에 따라 실시될 수 있고 본원에 예시된 범위를 넘어서 여러 방법으로 실행되거나 수행될 수 있다.The invention is not limited in its application to the details of construction and arrangement of components shown in the following description and drawings. The invention may be practiced according to embodiments and may be practiced or carried out in various ways beyond the scope illustrated herein.

하나 이상의 실시예와 같이, 본 발명은 대체로 하나 이상의 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템 및 방법에 관련된다. 본원에 기재된 시스템 및 방법은, 예를 들어, 화장품, 제약, 반도체 산업 뿐만아니라 고순도 물질의 연속적이고/이거나 정밀한 공급이 요구될 수 있는 다른 산업을 포함하여 광범위한 여러 산업에 사용되는 물질을 준비하는데 사용될 수 있다.As with one or more embodiments, the present invention generally relates to systems and methods for treating one or more high purity materials. The systems and methods described herein can be used to prepare materials for use in a wide variety of industries, including, for example, the cosmetic, pharmaceutical, semiconductor industries, as well as other industries where continuous and / or precise supply of high purity materials may be required. Can be.

본 발명의 실시예는 대체로 한 물질의 유동을 단위 조작부로 도입하는 것과 관련된다. 단위 조작부는 채워질 부피를 가진 모든 공정 요소를 포함할 수 있다. 예를 들어, 단위 조작부는 결합, 반응 또는 분리 공정에 의하여 물질에 작용할 수 있다. 몇몇의 실시예에서, 상기 단위 조작부는 필터 뱅크 또는 시스템과 같이 차별적인(differential) 공극 필터가 물질을 단계적으로 여과할 수 있는 필터를 포함할 수 있다. 필터와 공극의 선택은 처리될 물질과 의도된 용도에 기초해서 결정될 수 있다. 다른 단위 조작부는, 예를 들어, 이온 교환대(ion exchange bed), 연마기(grinder), 가열 장치, 또는 냉각 장치를 포함할 수 있다.Embodiments of the present invention generally involve the introduction of a flow of a substance into a unit operator. The unit operation unit may include all process elements having a volume to be filled. For example, the unit operator can act on the material by a bonding, reaction or separation process. In some embodiments, the unit operator may include a filter, such that a differential pore filter, such as a filter bank or system, can filter the material in stages. The choice of filter and void can be determined based on the material to be treated and the intended use. Other unit controls may include, for example, ion exchange beds, grinders, heating devices, or cooling devices.

상기 단위 조작부는 그 후 추가 가공, 저장 또는 최종물의 이송(end user delivery)을 위해 물질을 하류부로 유도할 수 있다. 단위 조작부로 유도된 상기 물질은 단위 조작부에 의해 처리될 것이 필요한 어떤 합성물이나 혼합물, 예를 들어, 화학 기계적 연마(CMP) 슬러리도 포함할 수 있다. 상기 물질은 단위 조작부의 상류부에서 혼합 또는 분리와 같이 처리된 합성물을 포함하거나, 단위 조작부에 의해 최초로 처리되는 미가공 공급 재료를 포함할 수 있다. 본 발명의 몇몇 실시예 는 이하에서 검토될 복수의 1차 단위 조작부로 도입되는 복수의 물질 흐름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 물질 공급 라인은 제2 물질 공급 라인이 제2 단위 조작부와 유체 연결되는 동안에 제1 단위 조작부와 유체 연결될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 제1 및 제2 단위 조작부는 동시에 기능할 수 있다.The unit operator can then direct the material downstream for further processing, storage or end user delivery. The material directed to the unit operator may include any compound or mixture, such as a chemical mechanical polishing (CMP) slurry, that needs to be processed by the unit operator. The material may comprise a composite that has been treated such as mixing or separation upstream of the unit operator, or may comprise a raw feed material initially treated by the unit operator. Some embodiments of the present invention may include a plurality of mass flows introduced into a plurality of primary unit controls to be discussed below. For example, the first material supply line may be in fluid connection with the first unit operation part while the second material supply line is in fluid connection with the second unit operation part. In some embodiments, the first and second unit controls can function simultaneously.

본 발명의 시스템은 단위 조작부의 특성 또는 작동 파라미터를 감지, 측정 및/또는 감시하는 하나 이상의 센서를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 센서는 단위 조작부를 가로지른 차압을 감시하도록 구성된 하나 이상의 압력 센서(예를 들어, 압력 변환기)를 포함할 수 있다. 차압은 직접적으로 측정될 수 있고, 또는 단위 조작부의 상류부와 하류부 양쪽에서 얻은 기록에 기초해서 측정될 수 있다. 다른 작동 파라미터는, 예를 들어, 온도, 전도도, 유동 속도, 또는 전력 소비량을 포함할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 상기 센서는 수집된 데이터에 기초한 신호를 발생시킬 수 있고 또한 시스템의 조작자(operator) 또는 제어기에 신호를 전달할 수 있다. 이들 센서에 의해 모아진 정보는, 예컨대, 단위 조작부의 성능을 평가하고 단위 조작부의 유지 요건을 평가하는데 도움을 준다. The system of the present invention may further comprise one or more sensors for sensing, measuring and / or monitoring the characteristics or operating parameters of the unit operation unit. For example, the sensor may include one or more pressure sensors (eg, pressure transducers) configured to monitor the differential pressure across the unit operator. The differential pressure can be measured directly, or can be measured based on the records obtained both upstream and downstream of the unit operation unit. Other operating parameters may include, for example, temperature, conductivity, flow rate, or power consumption. In some embodiments, the sensor can generate a signal based on the collected data and can also deliver the signal to an operator or controller of the system. The information gathered by these sensors helps, for example, to evaluate the performance of the unit operation unit and the maintenance requirements of the unit operation unit.

시스템의 작동 동안에, 정비 또는 유지를 위해 단위 조작부를 오프라인하는 것이 바람직하거나 필요할 수 있다. 하나의 단위 조작부는 규칙적인 간격으로, 또는 작동 파라미터에 기록된 한계값에 응답하여 정비될 수 있다. 예를 들어, 필터 뱅크와 통신하는 압력 센서는 미리 정해진 한계값 보다 높은, 필터 뱅크를 가로지른 차압을 기록할 수 있다. 한계값은 조작자 사이에서 또는 의도된 용도에 기초하여 다양할 수 있다. 예를 들어, 새로운 또는 사용된 단위 조작부를 가로지른 차압 이 6psi를 기록한다면, 그 후에 9psi의 차압이 한계값으로서 미리 정해질 수 있다. 정비는 일반적으로 단위 조작부의 세척 및/또는 구성 요소의 교체뿐만 아니라 단위 조작부의 격리를 필요로 한다. 단위 조작부가 필터를 포함할 경우, 정비는 예컨대, 당업자에게 일반적으로 알려진 플러싱(flushing), 역류 세척(backwashing) 및 다른 세척 체제와 특별히 더 관련될 수 있다. During operation of the system, it may be desirable or necessary to take the unit control off-line for maintenance or maintenance. One unit operation unit can be maintained at regular intervals or in response to limit values recorded in operating parameters. For example, a pressure sensor in communication with the filter bank may record a differential pressure across the filter bank that is above a predetermined threshold. Limit values may vary between operators or based on the intended use. For example, if the differential pressure across a new or used unit control unit records 6 psi, then a differential pressure of 9 psi can be predetermined as a threshold. Maintenance generally requires cleaning of the unit controls and / or replacement of components as well as isolation of the unit controls. If the unit operation comprises a filter, the maintenance may be further particularly concerned with, for example, flushing, backwashing and other cleaning regimes generally known to those skilled in the art.

본 발명의 하나 이상의 실시예에 따른 시스템은 또한 하류로의 물질의 연속적인 처리 및/또는 전달을 용이하게 하기 위해 1차 단위 조작부를 지원 및/또는 지지하는 하나 이상의 2차 단위 조작부를 포함할 수 있다. 이 2차 단위 조작부는 본 명세서에서 대기 단위부(standby units) 또는 백업 단위부(backup units)로 언급될 수 있다. 1차 단위 조작부가 정비 또는 유지를 위해 오프라인 상태가 될 때, 처리될 물질의 유동은 1차 단위 조작부로의 유동이 재기될 때까지 일시적으로 대기 단위부로 방향 전환됨으로써 물질의 하류부 전달이 방해되는 것을 막을 수 있다. 일반적으로, 상기 대기 단위부는 그것이 지지하는 1차 단위 조작부와 기능적으로 동일할 수 있고, 또는 상기 1차 단위 조작부를 대신할 수 있다. 몇몇의 실시예에 따라, 한 개의 대기 단위부는 하나 이상의 1차 단위 조작부를 지지할 것이다. The system according to one or more embodiments of the present invention may also include one or more secondary unit controls to support and / or support the primary unit controls to facilitate continuous processing and / or delivery of material downstream. have. This secondary unit operation unit may be referred to herein as a standby unit or backup unit. When the primary unit control unit is taken offline for maintenance or maintenance, the flow of material to be treated is temporarily diverted to the atmospheric unit until flow to the primary unit control unit is recovered, thereby preventing the downstream delivery of the material. You can stop it. In general, the standby unit may be functionally identical to the primary unit operating portion it supports or may replace the primary unit operating portion. According to some embodiments, one standby unit will support one or more primary unit controls.

본 발명의 하나 이상의 실시예는 시스템 내부의 라인 압력 변화를 줄이기 위한 특징을 더 포함할 수 있다. 상기 언급된 정비를 하기 위한 때처럼 1차 단위 조작부와 대기 단위 조작부 사이에서 이행할 때, 작동하고 있는 단위부에서의 라인 압력 강하를 막는 것이 바람직할 것이다. 어떤 특별한 이론을 떠나, 라인 압력의 변화는 정밀함이 중요한 고순도 물질의 처리 및 전달에 있어서 정확성 및/또는 연 속성에 유해한 영향을 끼칠 것이다. One or more embodiments of the present invention may further include features for reducing line pressure variations within the system. When transitioning between the primary unit operation unit and the standby unit operation unit, such as when performing the above-mentioned maintenance, it would be desirable to prevent the line pressure drop in the operating unit. Regardless of any particular theory, changes in line pressure will have a detrimental effect on accuracy and / or soft properties in the processing and delivery of high purity materials where precision is critical.

그러므로, 본 발명의 하나 이상의 실시예에 따라, 1차 또는 2차 단위 조작부는 단위 조작부들 사이에서 이행하기 전에 주입되도록 하는 가압 기체와 같은 가압 유체의 소스에 유체 연결될 수 있을 것이다. 보다 구체적으로, 온라인 상태가 된 단위 조작부는 시스템 압력을 달성하기 위해 먼저 가압 기체로 채워질 수 있다. 이용될 가압 기체는 시스템의 구성 요소와 양립할 수 있는 어떤 기체(예를 들어, 가압 질소 기체)도 포함할 수 있다. 다양한 도면을 참조해서 이하에서 더 상세히 언급되는 바와 같이, 처리된 물질의 유동은 그 후에 상당한 라인 압력 강하를 경험하지 않고 일시적으로 준비된 대기 단위 조작부로 방향 전환될 수 있다.Therefore, in accordance with one or more embodiments of the present invention, the primary or secondary unit controls may be fluidly connected to a source of pressurized fluid, such as pressurized gas, to be injected prior to transition between unit controls. More specifically, the unit operation unit brought online may be first filled with pressurized gas to achieve system pressure. The pressurized gas to be used may include any gas that is compatible with the components of the system (eg pressurized nitrogen gas). As will be discussed in more detail below with reference to the various figures, the flow of treated material can then be redirected to a temporarily prepared atmospheric unit operation unit without experiencing a significant line pressure drop.

시스템은 또한 필요에 따라 시스템으로부터 가압 기체를 퍼지하는 것을 용이하게 하기 위해 각 단위 조작부에 유체 연결된 출구를 포함할 수 있다. 시스템 내부에 유동 라인과 관련된 다양한 밸브(예를 들어, 니들 밸브)와 같은 시스템의 하나 이상의 구성은 가압 기체가 단위 조작부로부터 배출되는 속도를 제한 및/또는 제어하기 위해 조정 및/또는 조절될 수 있을 것이다. 처리될 물질이 단위 조작부에서 가압 기체를 교체하는 속도는 처리될 물질이 단위 조작부들 사이를 이행하는 동안 라인 압력이 변화되지 않도록 보조적으로 제어될 수 있다. 가압 기체가 단위 조작부로부터 배출되는 속도를 조정하여 처리를 위한 물질의 유입이 직접적으로 제어될 수 있다.The system may also include an outlet fluidly connected to each unit operation unit to facilitate purging pressurized gas from the system as needed. One or more configurations of the system, such as various valves (eg, needle valves) associated with the flow line within the system, may be adjusted and / or adjusted to limit and / or control the rate at which pressurized gas is discharged from the unit operator. will be. The rate at which the material to be treated replaces the pressurized gas at the unit operating unit can be assisted in such a way that the line pressure does not change while the material to be treated moves between the unit operating units. By adjusting the rate at which the pressurized gas is discharged from the unit operation unit, the inflow of the material for treatment can be directly controlled.

본 발명의 하나 이상의 실시예의 실행은 첨부 도면을 참조하여 지금 더 상세히 기술될 것이며, 도면의 굵은 선은 시스템 내의 유체 흐름을 나타낸다.Implementation of one or more embodiments of the present invention will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings, in which the thick line represents the fluid flow in the system.

도 1 내지 도 5는 본 발명의 하나 이상의 실시예에 따라 시스템을 도시한 것이다. 처리될 물질의 흐름은 물질 공급부(110)로부터 제1 단위 조작부(120)로 도입된다. 제1 단위 조작부(120)에서 빠져 나와 처리된 물질은 툴(130)을 향해 또는 추가 공정을 위해 하류부로 유도된다. 대안적으로, 제1 단위 조작부(120)를 빠져나와 처리된 물질은 예를 들어, 반도체 제작 라인에 공급할 수 있다. 제1 단위 조작부(120)의 작동 파라미터는 차압 센서와 같은 센서(140)로 감시된다. 부가적인 센서는 제1 단위 조작부(120)의 전과 후(예를 들어, 공급과 출구 라인)에 제공될 것이다. 도 1에서 도시된 바와 같이, 제2 단위 조작부(150)는 시스템 압력을 달성하기 위해 가압 기체 소스(180)로부터 가압 기체가 채워진다. 이 준비 작업은 제1 단위 조작부(120)가 활발하게 물질을 처리하는 동안에 일어날 수 있다. 또한 가압 기체는 도 1과 같이, 제2 단위 조작부(150) 내에서도 유지될 수 있고, 도 2에서 도시된 것처럼 출구(170)를 거쳐 시스템(100)으로부터 계속적으로 방출될 수 있다.1-5 illustrate a system in accordance with one or more embodiments of the present invention. The flow of material to be treated is introduced from the material supply unit 110 to the first unit operation unit 120. The processed material exiting the first unit operator 120 is directed towards the tool 130 or downstream for further processing. Alternatively, the processed material exiting from the first unit operation unit 120 may be supplied to, for example, a semiconductor manufacturing line. The operating parameters of the first unit operation unit 120 are monitored by a sensor 140 such as a differential pressure sensor. Additional sensors may be provided before and after the first unit operator 120 (eg, supply and outlet lines). As shown in FIG. 1, the second unit operation unit 150 is filled with pressurized gas from the pressurized gas source 180 to achieve system pressure. This preparatory work may occur while the first unit operation unit 120 actively processes the material. In addition, the pressurized gas may be maintained in the second unit operation unit 150, as shown in FIG. 1, and continuously discharged from the system 100 via the outlet 170 as shown in FIG. 2.

하나 이상의 실시예에 따라, 단위 조작부들 사이에서의 이행은 센서(140)에 의해 감지된 것처럼 미리 정해진 한계값을 기록하는 제1 단위 조작부(120)의 작동 파라미터에 따라 개시될 수 있다. 대안적으로, 이행은 주기적으로, 간헐적으로 또는 시스템(100)의 조작자에 의해 미리 정해진 시간 간격을 두고 일어날 수 있다. 이행 동안에, 물질 공급부(110)에서 나온 물질은 처리를 위해 먼저 제1 및 제2 단위 조작부(120, 150) 양쪽으로 도입될 수 있다. 도 3은 제2 단위 조작부(150)에서 빠져나온 유동이 출구(170)를 통해 배출되는 동안에 시스템(100)으로부터 가압 기체가 퍼지되는 두 가지 작동 과정을 도시한다. 일단 가압 기체가 충분히 배출되 면, 그 후에 제2 단위 조작부(150)를 빠져나온 유동은 도 4에서 나타난 바와 같이 툴(130)을 향해 유도된다. 그리고 나서 물질 유동은 도 5에서 도시된 바와 같이 제1 단위 조작부(120)에서 제2 단위 조작부(150)로 완전히 방향 전환될 수 있다. 제1 단위 조작부(120)와 제2 단위 조작부(150) 사이에서의 기술된 전환은 처리된 물질의 연속적인 하류부 전달에 방해됨없이 달성될 수 있고, 라인 압력에서의 상당한 강하 없이, 예를 들어, 1psig 보다 적게, 달성될 수 있다. 제2 단위 조작부(150)는 제1 단위 조작부(120)에서 압력 과도 현상을 피하는 동안에 온라인 상태가 될 수 있다. According to one or more embodiments, the transition between the unit manipulation units may be initiated in accordance with the operating parameters of the first unit manipulation unit 120 which records a predetermined limit value as sensed by the sensor 140. Alternatively, the transition may occur periodically, intermittently or at predetermined time intervals by the operator of system 100. During the transition, the material from the material supply 110 may first be introduced into both the first and second unit controls 120, 150 for processing. FIG. 3 illustrates two operation processes in which pressurized gas is purged from the system 100 while the flow exiting the second unit operation unit 150 is discharged through the outlet 170. Once the pressurized gas is sufficiently discharged, then the flow exiting the second unit operator 150 is directed towards the tool 130 as shown in FIG. 4. Then, the mass flow may be completely redirected from the first unit operating unit 120 to the second unit operating unit 150 as shown in FIG. 5. The described switching between the first unit operation unit 120 and the second unit operation unit 150 can be achieved without disturbing the continuous downstream delivery of the treated material, for example without a significant drop in line pressure, for example Less than 1psig, can be achieved. The second unit manipulation unit 150 may be online while the first unit manipulation unit 120 avoids a pressure transient.

제2 단위 조작부(150)의 작동 파라미터는 제2 센서(160)로 감시된다. 제2 단위 조작부(150)가 백업 지원 단위부로서 물질을 온라인 처리하고 있는 동안에, 제1 단위 조작부(120)가 정비될 수 있다. 예를 들어, 제1 단위 조작부(120)는 시스템(100)의 나머지로부터 격리될 수 있고, 그것으로부터 구성 요소는 세척 및/또는 교체될 수 있다. 이러한 방법으로, 제1 단위 조작부(120)의 작동 파라미터는 한계값 이하로 회복될 수 있다.The operating parameter of the second unit operation unit 150 is monitored by the second sensor 160. While the second unit operation unit 150 is online processing the material as the backup support unit, the first unit operation unit 120 may be maintained. For example, the first unit operator 120 can be isolated from the rest of the system 100 from which components can be cleaned and / or replaced. In this way, the operating parameters of the first unit operation unit 120 can be restored to below the limit value.

유지 후에, 제1 단위 조작부(120)는 제2 단위 조작부(150)가 여전히 작동하고 있는 동안에 온라인 상태로 되돌리도록 준비된다. 제1 단위 조작부(120)는 가압 기체 소스(180)로부터 가압 기체가 채워질 것이다. 또다시, 가압 기체는 도 5에서 도시된 바와 같이 제1 단위 조작부(120) 내에 보유되거나 출구(170)를 거쳐 연속적으로 배출될 것이다. After holding, the first unit operation unit 120 is prepared to return to the online state while the second unit operation unit 150 is still operating. The first unit operation unit 120 may be filled with pressurized gas from the pressurized gas source 180. Again, the pressurized gas will be retained in the first unit operator 120 or continuously discharged via the outlet 170 as shown in FIG. 5.

물질 공급부(110)로부터 처리된 물질의 유동은 그 후에 제1 단위 조작 부(120)로 회복될 수 있다. 제1 단위 조작부(120)로의 역이행(transition back)는 제1 단위 조작부(120)의 가압화 및 정비를 수행하는 동안 일어날 수 있다. 대안적으로, 이행은 제2의 미리 정해진 한계값[예를 들어, 제2 단위 조작부(150)가 정보를 필요로 한다는 것을 알려주는 값]을 기록하는 제2 단위 조작부(150)의 감시된 작동 파라미터에 따라 진행할 수 있다. 방향 전환 또는 제2 단위 조작부(150)로부터 제1 단위 조작부(120)로의 역이행은 제1 이행와 같은 방법으로 일어날 수 있다. 예를 들어, 물질은 제1 및 제2 단위 조작부(120, 150) 양쪽으로 도입되고, 제1 단위 조작부(120)로부터 퇴출된 유동이 출구(170)를 거쳐 배출된 뒤 가압 기체가 퍼지될 때 툴(130)을 향해 유도되고, 그 후 상기 물질의 유동은 제2 단위 조작부(150)로부터 제1 단위 조작부(120)로 완전히 방향 전환될 수 있다. 제1 단위 조작부(120)의 작동 파라미터는 감시될 수 있으며, 제2 단위 조작부(150)는 정비될 수 있고 필요에 따라 나중에 온라인 상태로 정비되고 되돌려지도록 준비될 수 있다. 본 명세서에 기술된 공정 사이클 동안에, 작동하지 않은 단위 조작부는 일반적으로 정비되고/되거나 시스템 작동 파라미터를 도입할 수 있다.The flow of the processed material from the material supply unit 110 may then be returned to the first unit operation unit 120. The transition back to the first unit operation unit 120 may occur while performing pressurization and maintenance of the first unit operation unit 120. Alternatively, the transition may be a monitored operation of the second unit operation unit 150 which records a second predetermined limit value (eg, a value indicating that the second unit operation unit 150 needs information). You can proceed according to the parameters. The change of direction or reverse travel from the second unit operation unit 150 to the first unit operation unit 120 may occur in the same manner as the first transition. For example, when the substance is introduced into both the first and second unit operation units 120 and 150, and the pressurized gas is purged after the flow discharged from the first unit operation unit 120 is discharged through the outlet 170. Guided toward the tool 130, the flow of material may then be completely redirected from the second unit operation unit 150 to the first unit operation unit 120. The operating parameters of the first unit operation unit 120 can be monitored, and the second unit operation unit 150 can be serviced and prepared for later maintenance and return to the online state as needed. During the process cycle described herein, non-operating unit controls can generally be serviced and / or introduce system operating parameters.

도 6과 도 7에 도시된 바와 같이 대안적인 시스템(200)은 제2 물질 공급부(210)의 하류부와 가압 기체 소스(180)에 유체 연결된 제3 단위 조작부(220)를 더 포함할 수 있다. 제1 물질 공급부(110) 및 제2 물질 공급부(210)는 같은 물질을 포함할 수 있고, 또는 같은 공급부에서부터 비롯된 것일 수 있다. 제3 센서(240)는 제3 단위 조작부(220)의 작동 파라미터를 감시한다.As shown in FIGS. 6 and 7, the alternative system 200 may further include a third unit operator 220 fluidly connected downstream of the second material supply 210 and to the pressurized gas source 180. The first material supply unit 110 and the second material supply unit 210 may include the same material or may be derived from the same supply unit. The third sensor 240 monitors operating parameters of the third unit manipulation unit 220.

제3 단위 조작부(220)로부터 퇴출되는 유동은 하류의 제2 툴(230)로 전달할 수 있다. 하나 이상의 실시예에 따라, 제2 단위 조작부(150)는 제1 툴(130) 및 제3 툴(230)뿐만 아니라 제1 물질 공급부(110) 및 제2 물질 공급부(210)에 유체 연결됨으로써, 제1 단위 조작부(120) 및 제3 단위 조작부(220)를 위한 대기 단위부 또는 백업 단위부로서 기능할 수 있다. 제1 툴(130) 및 제2 툴(230)은 같거나 다른 툴일 수 있다. 일 실시예에서, 제1 단위 조작부(120) 및 제3 단위 조작부(220) 모두는 단일의 반도체 제작 라인에 공급하도록 되어 있다.The flow exiting from the third unit manipulation unit 220 may be transferred to the second tool 230 downstream. According to one or more embodiments, the second unit manipulation unit 150 is fluidly connected to the first material supply unit 110 and the second material supply unit 210 as well as the first tool 130 and the third tool 230. It may function as a standby unit unit or a backup unit unit for the first unit operation unit 120 and the third unit operation unit 220. The first tool 130 and the second tool 230 may be the same or different tools. In one embodiment, both the first unit operation unit 120 and the third unit operation unit 220 are configured to supply a single semiconductor manufacturing line.

시스템(200)의 작동 동안에, 제1 단위 조작부(120)는 우선 제3 단위 조작부(220)와 동시에 기능할 수 있다. 제1 물질 공급부(110) 또는 제2 물질 공급부(210) 중 어느 하나는 각각의 제1 단위 조작부(120) 및 제3 단위 조작부(220) 중 어느 하나를 정비하기 위하여 제2 단위 조작부(150)로 일시적으로 방향 전환될 수 있다. 따라서 제2 단위 조작부(150)는 1차 단위 조작부들 중 어느 하나의 정비를 위한 이행 동안에 제1 단위 조작부(120) 또는 제3 단위 조작부(220) 중 어느 하나와 동시에 기능할 수 있다. 단위 조작부들 사이에서 방향 전환 또는 이행은 유해한 라인 압력 변화를 최소화하기 위해 도 1 내지 도 5에 따라 시스템(100)에 대하여 상기 검토된 것처럼 진행할 수 있다. 예를 들어, 작동하지 않는 단위 조작부는 온라인 상태로 되기 전에 시스템 압력을 달성하기 위해 가압 기체로 채워질 수 있을 것이고, 작동하는 단위 조작부에서 빠져나온 유동은 툴 을 향해 유도되기 전에 출구를 거친 가압 기체로 퍼지될 수 있을 것이다. 두 개 이상의 1차 단위부를 갖는 실시예에서, 물질의 초기 방향을 완전히 전환시키는 방법 등을 통하여 연속적인 하류부 전달을 계속 유지하는 동안 이행 중인 단위부의 작동이 서로 중첩됨 없이 스위치전환(switchover)이 진행될 수 있다. During operation of the system 200, the first unit manipulation unit 120 may first function simultaneously with the third unit manipulation unit 220. Either of the first material supply unit 110 or the second material supply unit 210, the second unit operation unit 150 to maintain any one of each of the first unit operation unit 120 and the third unit operation unit 220 Can be redirected temporarily. Accordingly, the second unit operation unit 150 may function simultaneously with either the first unit operation unit 120 or the third unit operation unit 220 during the maintenance for any one of the primary unit operation units. Redirection or transition between unit controls may proceed as discussed above with respect to system 100 according to FIGS. 1-5 to minimize harmful line pressure changes. For example, an inoperable unit control unit may be filled with pressurized gas to achieve system pressure before it comes online, and the flow exiting the operating unit control unit may be filled with pressurized gas through the outlet before being directed towards the tool. Could be purged. In an embodiment having two or more primary units, a switchover may proceed without overlapping the operation of the units in progress while continuing to maintain continuous downstream delivery, such as through a method of completely reversing the initial direction of the material. Can be.

도 6에서 예시적으로 도시된 바와 같이, 제1 단위 조작부(120) 및 제3 단위 조작부(220)는 제1 물질 공급부(110) 및 제2 물질 공급부(210) 각각으로부터 물질을 처리하기 위하여 동시에 기능할 수 있다. 제2 단위 조작부(150)는 일시적으로 오프라인 상태이고, 대기 단위부로서 기능한다. 설명한 바와 같이, 제2 단위 조작부(150)는 시스템 압력을 달성하기 위하여 가압 기체 소스(180)로부터의 가압 기체로 채워진다. 마찬가지로, 가압 기체는 도시된 바와 같이 제2 단위 조작부(150) 내에 보유될 수 있고, 또는 대안적으로, 출구(170)를 거쳐 연속적으로 방출될 수 있다. 제1 단위 조작부(120) 및 제3 단위 조작부(220)의 작동 파라미터들은, 예를 들어, 메인터넌스를 위해 하나가 오프라인 상태가 되어야 할지 아니면 둘 다 오프라인 상태가 되어야 할지의 결정을 돕도록 각각 센서(140, 240)를 통해 감시될 수 있다.As exemplarily shown in FIG. 6, the first unit operation unit 120 and the third unit operation unit 220 simultaneously process the material from each of the first material supply unit 110 and the second material supply unit 210. Can function. The second unit operation unit 150 is temporarily offline and functions as a standby unit unit. As described, the second unit operator 150 is filled with pressurized gas from the pressurized gas source 180 to achieve system pressure. Likewise, the pressurized gas may be retained in the second unit operation unit 150 as shown, or alternatively, may be continuously released via the outlet 170. The operating parameters of the first unit operation unit 120 and the third unit operation unit 220 are each sensors (eg, to assist in determining whether one should go offline or both go offline for maintenance). 140, 240 may be monitored.

도 7은 같은 시스템을 도시하나, 제2 물질 공급부는 제3 센서(240)가 한계값을 기록하는 것에 대한 응답으로 제3 단위 조작부(220)에서 제2 단위 조작부(150)로 일시적으로 방향 전환된다. 제3 단위 조작부(220)는 정비를 위해 격리되어 있고, 마찬가지로 시스템 압력을 달성하기 위해 가압 기체로 채워질 것이다. 제3 단위 조작부(220)는 한계값을 기록하는 제2 단위 조작부의 작동 파라미터에 응답하거나 대안적으로 제3 단위 조작부(220)의 정비와 준비가 완성된 뒤에 온라인 상태가 될 수 있다.FIG. 7 shows the same system, but the second material supply temporarily turns from the third unit operation unit 220 to the second unit operation unit 150 in response to the third sensor 240 recording the limit value. do. The third unit control unit 220 is isolated for maintenance and will likewise be filled with pressurized gas to achieve system pressure. The third unit operation unit 220 may be in an on-line state in response to an operating parameter of the second unit operation unit for recording a limit value or alternatively after maintenance and preparation of the third unit operation unit 220 is completed.

몇몇 용도에서, 처리된 물질의 하류부로의 요청은 때때로 감소하거나 중단될 수 있다. 어떤 특별한 이론을 떠나, 연마 현탁액이 필터를 통과하여 재순환하는 것처럼, 단위 조작부를 통과하는 물질의 재순환은 현탁액 및/또는 단위 조작부의 수행에 해롭다. 이러한 상황에서, 물질의 흐름은 하류부의 요청이 재개될 때까지 관련된 단위 조작부가 없는 우회 루프로 방향 전환될 것이라고 계획될 수 있다. 라인의 압력 변화를 막기 위해, 우회 루프는 대기 단위 조작부에 대하여 상기 검토된 방법에 따라 온라인 상태가 되기 전에 가압 기체로 채워질 수 있다.In some applications, the request to the downstream of the treated material can sometimes be reduced or stopped. Regardless of any particular theory, recycling of material through the unit operation unit is detrimental to the performance of the suspension and / or unit operation unit, as the polishing suspension recycles through the filter. In this situation, the flow of material can be planned to be diverted to a bypass loop without associated unit controls until the downstream request is resumed. To prevent pressure changes in the line, the bypass loop can be filled with pressurized gas before it comes online according to the method discussed above for the standby unit operation.

고순도 물질을 처리하기 위한 기술된 방법은 수동으로 수행될 수도 있고 또는 시스템에 통합된 제어기의 사용을 통해 자동으로 실행될 수 있다. 예를 들어, 시스템은 센서와 통신하기 위해 제어기를 포함할 수 있고, 단위 조작부, 툴, 그리고 출구에서 유동과 관련된 다양한 밸브를 포함할 수 있다. 제어기는 상기 제2 단위 조작부를 상기 가압 기체 공급 라인으로부터의 가압 기체로 채우기 위한 제1 제어 신호와 제1 센서가 한계값을 기록하는 것에 대한 응답으로 제1 물질의 유동을 상기 제1 단위 조작에서 상기 제2 단위 조작부를 거쳐 출구로 방향 전환시키기 위한 제2 제어 신호와 상기 가압 기체가 상기 제2 단위 조작부로 퍼지된 후에 상기 제1 물질의 유동을 상기 제2 단위 조작부를 거쳐 툴을 향해 유도하기 위한 제3 신호를 발생시키도록 구성될 수 있다. 제어기는 또한 제3 센서가 제2 한계값을 기록하는 것에 대한 응답으로 제3 단위 조작부로부터 제2 단위 조작부까지 제2 물질의 유동을 방향 전환시키는 제4 신호를 발생시키도록 구성될 수 있다. 제어기는 또한 정비를 위하여 제1 단위 조작부를 격리시키도록 구성될 수 있고, 제2 센서가 제3 한계값을 기록하는 것에 대한 응답으로 또는 제1 센서가 한계값보다 작은 값을 기 록하는 것에 대한 응답으로 제1 단위 조작부에 제1 물질의 유동을 재개하도록 구성될 수 있다. The described method for treating high purity materials may be performed manually or may be performed automatically through the use of a controller integrated into the system. For example, the system may include a controller to communicate with the sensor and may include unit controls, tools, and various valves associated with flow at the outlet. The controller controls the flow of the first material in the first unit operation in response to the first control signal for filling the second unit operation portion with the pressurized gas from the pressurized gas supply line and the first sensor recording the threshold value. Directing a flow of the first material toward the tool via the second unit operation unit after the second control signal and the pressurized gas are purged to the second unit operation unit for diverting to the exit via the second unit operation unit; May be configured to generate a third signal. The controller may also be configured to generate a fourth signal that redirects the flow of the second material from the third unit operation unit to the second unit operation unit in response to the third sensor recording the second limit value. The controller may also be configured to isolate the first unit control unit for maintenance, and in response to the second sensor recording a third limit value or for recording a value less than the limit value of the first sensor. In response, may be configured to resume the flow of the first material to the first unit operation unit.

제어기는 하나 이상의 컴퓨터 시스템, 예를 들어, 인텔 펜티엄®-타입 프로세서(Intel PENTIUM®-type processor), 모토로라 파워피씨® 프로세서(Motorola PowerPC® processor), 썬 울트라스팍® 프로세서(SUN UltraSPARC® processor), 휴렛팩커드 PA-RISC® 프로세서(HewlettPackard PA-RISC® processor) 또는 임의의 다른 타입의 프로세서나 그들의 조합과 같이 일반적인 목적의 컴퓨터를 사용하여 실행될 수 있다. 대안적으로, 컴퓨터 시스템은 전문적으로 프로그래밍된, 특별한 목적의 하드웨어, 예를 들어, 주문형반도체(ASIC) 또는 물질 처리 시스템을 위해 의도된 제어기를 포함할 수 있다. The controller may be one or more computer systems, such as an Intel PENTIUM®-type processor, a Motorola PowerPC® processor, a Sun UltraSPARC® processor, It may be implemented using a general purpose computer such as a HewlettPackard PA-RISC® processor or any other type of processor or combination thereof. Alternatively, the computer system may include a controller that is intended for specially programmed, special-purpose hardware, such as an application specific semiconductor (ASIC) or material handling system.

컴퓨터 시스템은 전형적으로 하나 이상의 기억 장치, 예를 들어, 하나 이상의 디스크 드라이브 메모리, 플레시(FLASH) 메모리 장치, 램(RAM) 메모리 장치, 또는 데이터를 저장하기 위한 다른 장치를 구성할 수 있는 기억 장치에 연결된 하나 이상의 프로세서를 포함할 수 있다. 메모리는 전형적으로 물질 처리 시스템 및/또는 컴퓨터 시스템이 작동하는 동안에 프로그램과 데이터를 저장하기 위해 사용된다. 예를 들어, 메모리는 작동 데이터 뿐만 아니라 소정 기간에 걸친 파라미터와 관련된 과거의 데이터를 저장하기 위해 사용될 것이다. 본 발명의 실시예를 수행하는 프로그래밍 코드를 포함하는 소프트웨어는 불휘발성 기록 매체를 읽을 수 있고/있거나 쓸 수 있는 컴퓨터에 저장될 수 있고, 그리고 나서 전형적으로 메모리에 복사될 수 있으며, 그것은 그 후에 프로세서에 의해 실행될 수 있다. 그러한 프로 그래밍 코드는 다수의 프로그래밍 언어, 예를 들어, 자바(Java), 비쥬얼 베이직(Visual Basic), 씨(C), 씨#(C#), 또는 씨++(C++), 포트란(Fortran), 파스칼(Pascal), 에펠 (Eiffel), 베이직(Basic), 코볼(COBAL), 또는 그것들의 다양한 조합 중 어떤 것으로도 읽혀질 수 있다. Computer systems typically comprise one or more storage devices, for example, one or more disk drive memories, flash memory devices, RAM memory devices, or other devices for storing data. It may include one or more processors connected. Memory is typically used to store programs and data while the material processing system and / or computer system is operating. For example, the memory may be used to store operational data as well as historical data related to parameters over a period of time. Software comprising programming code for carrying out embodiments of the present invention may be stored on a computer capable of reading and / or writing to a nonvolatile recording medium, and then typically copied to memory, which is then processor Can be executed by Such programming code includes a number of programming languages, such as Java, Visual Basic, C, C #, or C ++, Fortran, It can be read as Pascal, Eiffel, Basic, COBAL, or various combinations thereof.

컴퓨터 시스템의 구성 요소는 하나 이상의 상호 연결 기구(interconnection mechanism)에 의해 결합될 수 있고, 그것은 하나 이상의 버스(bus)(예를 들어, 같은 장치 내부에 통합된 구성 요소들 사이) 및/또는 네트워크(예를 들어, 분리된 별개의 장치에 있는 구성 요소들 사이)를 포함한다. 상호 연결 기구는 전형적으로 컴퓨터 시스템의 구성 요소들 사이에서 교환될 수 있는 통신(예를 들어, 데이터, 지침)을 가능하게 한다. The components of a computer system may be coupled by one or more interconnection mechanisms, which may comprise one or more buses (eg, between components integrated within the same device) and / or a network ( For example, between components in separate, separate devices). Interconnecting mechanisms typically enable communication (eg, data, instructions) that can be exchanged between components of a computer system.

컴퓨터 시스템은 또한 하나 이상의 출력 장치, 예를 들어, 프린팅 장치, 디스플레이 스크린, 또는 스피커뿐만 아니라 하나 이상의 입력 장치, 예를 들어, 키보드, 마우스, 트랙볼, 마이크로폰, 터치 스크린, 그리고 다른 사용자-기계(man-machine) 인터페이스 장치를 포함할 수 있다. 게다가, 컴퓨터 시스템은 하나 이상의 컴퓨터 시스템을 (컴퓨터 시스템의 하나 이상의 구성 요소에 의해 형성될 수 있는 네트워크에 추가하거나 대신하여) 통신 네트워크에 연결시킬 수 있는 (도시되지 않은) 인터페이스를 포함할 수 있다.The computer system may also include one or more output devices, such as printing devices, display screens, or speakers, as well as one or more input devices, such as keyboards, mice, trackballs, microphones, touch screens, and other user-machines (man). -machine) interface device may be included. In addition, the computer system may include an interface (not shown) that may connect one or more computer systems to a communication network (in addition to or instead of a network that may be formed by one or more components of the computer system).

본 발명의 하나 이상의 실시예에 따라, 하나 이상의 입력 장치는 물질 처리 시스템 및/또는 그 구성 요소의 파라미터를 측정하기 위한 센서를 포함할 수 있다. 대안적으로 센서, 계량 장치 및/또는 다른 구성 요소는 컴퓨터 시스템에 작동 가능 하게 결합된 통신 네트워크에 연결될 수 있다. 상기 것들 중 하나 이상은 어느 것이나 하나 이상의 통신 네트워크에 걸친 컴퓨터 시스템과 통신하기 위하여 또다른 컴퓨터 시스템 또는 구성 요소에 결합될 수 있다. 그러한 구성은 임의의 센서 또는 신호-발생 장치가 컴퓨터 시스템으로부터 상당한 거리에 위치하도록 하는 것을 가능하게 할 수 있고/있거나, 임의의 센서가 임의의 하부 시스템 및/또는 제어기로부터 상당한 거리에 위치하도록 하는 것을 가능하게 할 수 있으며, 여전히 그들 사이에서 데이터를 제공할 수 있다. 그러한 통신 기구는 무선의 프로토콜을 이용하는 기구를 포함하는 임의의 적절한 기술을 이용함으로써 달성될 수 있다.In accordance with one or more embodiments of the present invention, one or more input devices may include sensors for measuring parameters of the material processing system and / or its components. Alternatively, the sensor, metering device and / or other components may be connected to a communication network operatively coupled to the computer system. Any one or more of the above may be coupled to another computer system or component for communicating with a computer system across one or more communication networks. Such a configuration may enable any sensor or signal-generating device to be located at a significant distance from the computer system, and / or allow any sensor to be located at a significant distance from any subsystem and / or controller. You can do that, and still provide data between them. Such a communication mechanism may be accomplished by using any suitable technique, including an apparatus using a wireless protocol.

제어기는 하나 이상의 프로세서에 의해 실시되는 프로그램을 정의하는 신호가 저장된, 읽을 수 있거나 쓸 수 있는 비휘발성의 기록 매체와 같은 하나 이상의 컴퓨터 저장 매체를 포함할 수 있다. 예를 들어, 매체는 디스크나 플레시 메모리일 수 있다. 전형적인 작업에서 프로세서는 본 발명의 하나 이상의 실시예를 실행하는 코드와 같은, 저장매체로부터 하나 이상의 프로세서에 의해 정보에 매체보다 더 빠른 접근을 허용하는 메모리로 해석되는 데이터를 가져올 수 있다. 메모리는 전형적으로 임의접근기억장치(DRAM) 또는 정적 기억장치(SRAM) 또는 정보가 프로세서로 전송되거나 전송받는 것을 용이하게 하는 다른 적절한 장치와 같은 휘발성 임의 접근 메모리이다. The controller may include one or more computer storage media, such as a non-volatile recording medium that can read, write, or store a signal that defines a program executed by one or more processors. For example, the medium may be a disk or flash memory. In a typical task, a processor may retrieve data from a storage medium, such as code that executes one or more embodiments of the invention, into data that is interpreted by the one or more processors into memory allowing faster access than the medium to the information. Memory is typically volatile random access memory, such as random access memory (DRAM) or static memory (SRAM) or other suitable device that facilitates information to or from the processor.

본 발명이 소프트웨어에서, 또는 여기에서 예시적으로 검토된 것처럼 컴퓨터 시스템 상에서 실행되는 것에 제한받지 않는다는 것을 이해해야 한다. 물론, 예를 들어, 일반적인 목적의 컴퓨터 시스템, 제어기 또는 그들의 구성 요소나 하위섹션 상에서 실행되기보다는 대안적으로 전용 시스템으로서 또는 전용 프로그램 가능 로직 제어기(PLC)로서 또는 분배제어시스템(distributed control system)에서 실행될 것이다. 또한, 본 발명의 하나 이상의 구성 및 태양은 소프트웨어, 하드웨어나 펌웨어, 또는 그것들의 임의의 조합에서 실행될 수 있다는 것을 이해해야 한다. 예를 들어, 제어기에 의해 실행가능한 하나 이상의 알고리즘의 부분은 분리된 컴퓨터에서 수행될 수 있으며, 이로써 하나 이상의 네트워크를 통해 통신될 수 있다. It should be understood that the present invention is not limited to running on software or on a computer system as exemplarily discussed herein. Of course, for example, instead of being run on a general purpose computer system, controller or components or subsections thereof, alternatively as a dedicated system or as a dedicated programmable logic controller (PLC) or in a distributed control system. Will be executed. In addition, it should be understood that one or more configurations and aspects of the invention may be implemented in software, hardware or firmware, or any combination thereof. For example, portions of one or more algorithms executable by a controller may be performed on a separate computer, thereby communicating over one or more networks.

본 발명의 시스템과 방법에 대한 다른 실시예는 여기에 예시적으로 기술된 범위를 넘어서 생각될 수 있다. Other embodiments of the systems and methods of the present invention may be considered beyond the scope described herein by way of example.

본 명세서에 사용된 "복수개(plurality)"라는 용어는 두 개 이상의 품목 또는 구성을 말한다. "포함하는(comprising)", "포함하는(including)", "수반하는(carrying)", "갖는(having)", "포함하는(containing)", "관련된(involving)" 이라는 용어는 서면의 상세한 설명 또는 청구의 범위 기타 등등 에서 제한이 없는 용어, 즉, "포함하나 이로 제한되지 않는"의 의미이다. 그러므로, 이러한 용어의 사용은 열거된 품목 및 그 균등물과 추가된 품목을 포함하는 것을 의미한다. 연결 어구 "~로 구성된(consisting of)" 과 "필수적으로 ~로 구성된(consisting essentially of)"만이 청구항에 따라 개별적으로 제한적이거나 어느 정도 제한적인 연결 어구이다. The term "plurality" as used herein refers to two or more items or configurations. The terms "comprising", "including", "carrying", "having", "containing", and "involving" shall be in writing Unlimited terminology in the description or the claims, and the like, ie, "including but not limited to". Therefore, use of this term is meant to include the listed items and their equivalents and added items. Only the phrases "consisting of" and "consisting essentially of" are connection terms individually or somewhat restrictive in accordance with the claims.

청구의 범위에서 청구항의 요소를 수식하기 위한 "제1", "제2", "제3" 및 기타 등등과 같은 순서를 나타내는 용어의 사용은 그것만으로 한 청구항의 요소와 또다른 것 사이의 어떤 우위, 선행, 또는 순서나 수행되는 방법의 작용에 있어서의 시간적인 순서를 의미하는 것은 아니며, 단지 어떤 이름을 갖는 한 청구항의 요소를 (순서를 나타내는 용어의 사용을 제외하면) 같은 이름을 갖는 또다른 청구항의 요소와 구별하기 위해 붙여진 것일 뿐이다. The use of terms indicating the order such as "first," "second," "third," and so forth, to modify the elements of a claim in a claim is solely defined as the difference between an element of a claim and another. It does not mean a preponderance, precedence, or temporal order in the operation of the order or method performed, but merely means that an element of a claim has the same name (except for the use of an ordered term) as long as it has a name. It is only put in order to distinguish it from the elements of other claims.

당업자는 여기에 기술된 파라미터와 형상이 예시적인 것이고 실제적인 파라미터 및/또는 형상은 본 발명의 시스템과 기술이 사용되는 특정한 용도에 따를 것이라고 이해해야 한다. 또한 당업자는 단지 관용적인 실험을 실시한 것에 불과한 것은 본 발명의 특정한 실시예와 동등한 것으로 인식해야 하고, 또한 결정할 수 있어야 한다. 그러므로 여기에서 기술된 실시예는 단지 예시로서 기재된 것이고, 첨부된 청구의 범위의 범주 내에 있으며 그것과 동등한 것으로 이해될 수 있고, 본 발명은 구체적으로 기술된 것과 달리 실시될 수 있다.Those skilled in the art should understand that the parameters and shapes described herein are exemplary and that the actual parameters and / or shapes will depend upon the particular use in which the systems and techniques of the present invention are used. In addition, those skilled in the art should recognize that only those which have undergone conventional experimentation are equivalent to specific embodiments of the present invention and should be able to determine. Therefore, the embodiments described herein are merely described by way of example and may be understood to be within the scope of the appended claims and equivalent thereto, and the invention may be practiced otherwise than as specifically described.

Claims (26)

고순도 물질을 처리하기 위한 방법이며, For the treatment of high purity materials, 제1 물질의 유동을 제1 단위 조작부로 도입하는 단계와;Introducing a flow of first material into the first unit operator; 상기 제1 단위 조작부의 작동 파라미터를 감시하는 단계와;Monitoring operating parameters of the first unit operation unit; 제2 단위 조작부에 가압 기체를 채우는 단계와;Filling the pressurized gas into the second unit operation unit; 상기 제2 단위 조작부로부터 상기 가압 기체를 퍼지하는 단계와;Purging the pressurized gas from the second unit operation unit; 상기 제1 단위 조작부의 작동 파라미터가 한계값을 기록하는 것에 대한 응답으로 상기 제1 물질의 유동을 제2 단위 조작부로 방향 전환시키는 단계를 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.Redirecting a flow of the first material to a second unit operation in response to the operating parameter of the first unit operation recording a limit value. 제1항에 있어서, 상기 제1 단위 조작부를 격리시키는 단계를 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.The method of claim 1, further comprising isolating the first unit operation portion. 제2항에 있어서, 상기 제1 단위 조작부를 플러싱하는 단계를 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.The method of claim 2, further comprising flushing the first unit operator. 제2항에 있어서, 상기 제1 단위 조작부의 작동 파라미터를 상기 한계값보다 작은 값으로 회복시키는 단계를 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.The method of claim 2, further comprising restoring an operating parameter of the first unit operation unit to a value less than the limit value. 제4항에 있어서, 상기 작동 파라미터를 회복시키는 단계는 상기 제1 단위 조작부의 구성 요소의 교체를 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.The method of claim 4, wherein recovering the operating parameter comprises replacing a component of the first unit operator. 제4항에 있어서, 상기 제1 단위 조작부에 가압 기체를 채우는 단계를 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.5. The method of claim 4, further comprising filling pressurized gas into the first unit operation unit. 제6항에 있어서, 상기 제1 물질의 제1 단위 조작부로의 유동을 재개하는 단계를 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.7. The method of claim 6, further comprising resuming flow of the first material to the first unit operator. 제7항에 있어서, 상기 제1 물질의 제1 단위 조작부로의 유동을 재개하는 단계는 상기 제1 단위 조작부로부터 가압 기체를 퍼지하는 것을 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.8. The method of claim 7, wherein resuming flow of the first material to the first unit operation unit comprises purging pressurized gas from the first unit operation unit. 제1항에 있어서, 제2 물질의 유동을 제3 단위 조작부로 도입하고 상기 제3 단위 조작부의 작동 파라미터를 감시하는 단계를 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.The method of claim 1, further comprising introducing a flow of second material into the third unit operation unit and monitoring operating parameters of the third unit operation unit. 제9항에 있어서, 상기 제3 단위 조작부의 작동 파라미터가 제2 한계값을 기록하는 것에 대한 응답으로 상기 제2 물질의 유동을 상기 제2 단위 조작부로 방향 전환시키는 단계를 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.10. The high purity material of claim 9, further comprising redirecting the flow of the second material to the second unit operation portion in response to the operating parameter of the third unit operation portion recording a second limit value. Method for processing 제10항에 있어서, 상기 제3 단위 조작부의 작동 파라미터를 상기 제2 한계값보다 작은 값으로 회복시키는 단계를 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.The method of claim 10, further comprising restoring an operating parameter of the third unit operation unit to a value less than the second limit value. 제11항에 있어서, 상기 제2 물질의 제3 단위 조작부로의 유동을 재개하는 단계를 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.The method of claim 11, further comprising resuming flow of the second material to a third unit operator. 제1항에 있어서, 상기 제1 단위 조작부 및 제2 단위 조작부는 필터를 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.The method of claim 1, wherein the first unit operation portion and the second unit operation portion comprise a filter. 제1항에 있어서, 상기 제1 단위 조작부의 작동 파라미터는 상기 제1 단위 조작부를 가로지른 차압인, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.The method of claim 1, wherein the operating parameter of the first unit operation unit is a differential pressure across the first unit operation unit. 제9항에 있어서, 상기 제1 단위 조작부와 상기 제3 단위 조작부는 동시에 기능하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 방법.10. The method of claim 9, wherein the first unit operation portion and the third unit operation portion function simultaneously. 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템이며, System for processing high purity materials, 제1 물질 공급 라인과;A first material supply line; 상기 제1 물질 공급 라인의 하류부와 유체 연결된 제1 단위 조작부와;A first unit operation portion in fluid communication with a downstream portion of the first material supply line; 상기 제1 물질 공급 라인의 하류부와 유체 연결된 제2 단위 조작부와;A second unit operation portion in fluid communication with a downstream portion of the first material supply line; 상기 제1 단위 조작부의 작동 파라미터를 감지하도록 배치된 제1 센서와;A first sensor arranged to sense operating parameters of the first unit manipulation unit; 상기 제2 단위 조작부의 작동 파라미터를 감지하도록 배치된 제2 센서와;A second sensor arranged to sense operating parameters of the second unit manipulation unit; 상기 제1 단위 조작부와 상기 제2 단위 조작부에 유체 연결된 가압 기체 공급 라인과;A pressurized gas supply line fluidly connected to the first unit operation unit and the second unit operation unit; 상기 제1 단위 조작부와 제2 단위 조작부에 유체 연결된 출구와;An outlet fluidly connected to the first unit operation unit and the second unit operation unit; 상기 제1 센서, 제2 센서 및 출구와 유체 연결되고, 상기 제2 단위 조작부를 상기 가압 기체 공급 라인으로부터의 가압 기체로 채우기 위한 제1 제어 신호와, 제1 센서가 한계값을 기록하는 것에 대한 응답으로 제1 물질의 유동을 상기 제1 단위 조작부에서 상기 제2 단위 조작부를 거쳐 출구로 방향 전환시키기 위한 제2 제어 신호와, 상기 가압 기체가 상기 제2 단위 조작부로 퍼지된 후에 상기 제1 물질의 유동을 상기 제2 단위 조작부를 거쳐 툴을 향해 유도하기 위한 제3 신호를 발생시키는 것으로 구성된 제어기를 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템.A first control signal in fluid communication with the first sensor, the second sensor and the outlet, for filling the second unit operation portion with pressurized gas from the pressurized gas supply line, and for recording the threshold value by the first sensor. In response, a second control signal for diverting the flow of the first substance from the first unit operating portion to the outlet via the second unit operating portion, and after the pressurized gas is purged to the second unit operating portion, the first substance And a controller configured to generate a third signal for directing a flow of the light toward the tool via the second unit operating portion. 제16항에 있어서, 상기 제1 센서는 차압 센서를 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템.The system of claim 16, wherein the first sensor comprises a differential pressure sensor. 제16항에 있어서, 상기 제1 단위 조작부 및 제2 단위 조작부는 필터를 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템.The system of claim 16, wherein the first unit operation portion and the second unit operation portion comprise a filter. 제16항에 있어서, 상기 제2 단위 조작부의 상류부와 유체 연결된 제2 물질 공급 라인을 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템.18. The system of claim 16, further comprising a second material supply line in fluid communication with an upstream portion of the second unit operation portion. 제19항에 있어서, 상기 제2 물질 공급 라인의 상류부와 유체 연결된 제3 단위 조작부를 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템.20. The system of claim 19, further comprising a third unit operation fluidly connected with an upstream portion of the second material supply line. 제20항에 있어서, 상기 제3 단위 조작부의 작동 파라미터를 감지하도록 배치된 제3 센서를 더 포함하는, 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템.21. The system of claim 20, further comprising a third sensor arranged to sense operating parameters of the third unit operation portion. 제20항에 있어서, 상기 제어기는 상기 제3 센서가 제2 한계값을 기록하는 것에 대한 응답으로 상기 제2 물질의 상기 제3 단위 조작부로부터의 유동을 상기 제2 단위 조작부로 방향 전환시키는 제4 제어 신호를 발생시키도록 추가적으로 구성된, 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템.21. The method of claim 20, wherein the controller redirects the flow of the second material from the third unit operation unit to the second unit operation unit in response to the third sensor recording a second limit value. A system for processing high purity materials further configured to generate a control signal. 제16항에 있어서, 상기 제어기는 상기 제2 센서가 제3 한계값을 기록하는 것에 대한 응답으로 상기 제1 물질의 상기 제1 단위 조작부로의 유동을 재개하도록 추가적으로 구성된, 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템.The method of claim 16, wherein the controller is further configured to resume flow of the first material to the first unit operator in response to the second sensor recording a third limit value. system. 제16항에 있어서, 상기 제어기는 정비를 위하여 상기 제1 단위 조작부를 격리시키도록 추가적으로 구성된, 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템.The system of claim 16, wherein the controller is further configured to isolate the first unit operation portion for maintenance. 제24항에 있어서, 상기 제어기는 상기 제1 센서가 상기 한계값보다 작은 값을 기록하는 것에 대한 응답으로 상기 제1 물질의 상기 제1 단위 조작부로의 유동을 재개하도록 구성된, 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템.25. The method of claim 24, wherein the controller is configured to resume flow of the first material to the first unit operator in response to the first sensor recording a value less than the threshold. System. 제20항에 있어서, 상기 제1 단위 조작부 및 제3 단위 조작부는 동시에 기능하도록 구성된, 고순도 물질을 처리하기 위한 시스템.The system of claim 20, wherein the first unit operation portion and the third unit operation portion are configured to function simultaneously.
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