KR20090039170A - Method of pretreating mold for intaglio printing and intaglio printing method using the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 음각 인쇄 몰드에 대한 전처리 방법 및 이를 이용한 음각 인쇄 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 음각 인쇄 몰드 상면에 표면개질화제를 처리함으로써, 도포된 잉크가 양각부에 잔류하지 않게 되어 미터링 공정없이 인쇄 공정이 진행될 수 있는 음각 인쇄 몰드를 제공하기 위한 음각 인쇄 몰드 전처리 방법 및 이를 이용한 음각 인쇄 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a pretreatment method for an intaglio printing mold and an intaglio printing method using the same, and more particularly, by treating a surface modifier on an upper surface of the intaglio printing mold, so that the applied ink does not remain in the embossed portion without a metering process. The present invention relates to an intaglio printing mold pretreatment method and an intaglio printing method using the same to provide an intaglio printing mold in which a printing process may be performed.
종래의 인쇄 배선이나, 유리, 세라믹판 상의 회로 패턴의 형성 또는 금속판의 식각용 레지스트 패턴의 형성 등에 있어서, 스크린 인쇄법이나 오프셋 인쇄법과 같은 다양한 인쇄방법이 이용되고 있다. 그러나, 이러한 종래의 인쇄 방법은 비교적 회선 폭이 큰 패턴의 형성에는 적합하였지만, 회선 폭이 200㎛ 이하의 미세 패턴을 형성하는 데에는 미세한 선폭 구현이 어렵고, 잉크의 유동성, 판의 압력 등의 영향이나 잉크의 일부가 인쇄판으로부터 완전하게 전이되지 않는 등의 문제로 인하여 인쇄 패턴의 재현성 구현에 많은 문제가 제기되고 있다.Background Art Various conventional printing methods such as screen printing and offset printing are used for forming printed circuits, forming circuit patterns on glass and ceramic plates, or forming resist patterns for etching metal plates. However, such a conventional printing method is suitable for the formation of a pattern having a relatively large line width, but it is difficult to realize a fine line width in forming a fine pattern having a line width of 200 μm or less, and is influenced by the fluidity of the ink and the pressure of the plate. Due to the problem that some of the ink is not completely transferred from the printing plate, many problems have been raised for the reproducibility of the printing pattern.
종래에는 미세 패턴의 형성을 위해, 음각 인쇄법이 이용되고 있지만, 음각으로 인쇄된 몰드의 상면에 인쇄용 잉크를 도포하는 경우 음각부에만 인쇄용 잉크가 채워지고, 양각부에는 잉크가 존재하지 않아야 음각부에 채워진 잉크가 피인쇄부로 전사되면서 미세한 인쇄패턴이 형성될 수 있다. 따라서, 종래에는 음각 인쇄용 몰드 상면에 잉크를 도포한 이후, 인쇄 몰드의 양각부에 잔류하는 잉크를 제거하는 미터링 공정을 반드시 진행하여야 한다.Conventionally, intaglio printing is used to form a fine pattern. However, when printing ink is applied to an upper surface of an intaglio printed mold, printing ink is filled only in the intaglio portion, and the intaglio portion should not have ink. As the ink filled in is transferred to the printed portion, a fine print pattern may be formed. Therefore, in the related art, after the ink is applied to the upper surface of the intaglio printing mold, a metering process of removing ink remaining in the embossed portion of the printing mold must be performed.
구체적으로는, 이러한 미터링 공정은 대한민국 공개특허 제2006-0065009호에 따르면, 인쇄 몰드의 돌출된 양각부에 도포된 인쇄 재료를 일차적으로 리무버를 사용하여 제거하고, 이차적으로 접착성이 있는 테이프나 필름을 이용하여 제거하는 방법이 개시되어 있다. 한편, 대한민국 공고특허 제0153260호에 따르면, 인쇄용판의 요판면에 불필요한 잉크를 얇은 금속블레이드 등으로 긁어내어 제거하는 방법이 개시되어 있다. 한편, 대한민국 공개특허 제 2004-0042393호에 따르면, 인쇄 공정 후, 인쇄판(몰드)를 세정제를 이용하여 세정함으로 인해 발생되는 폐수 문제, 장시간의 공정 소요 등의 단점이 보완되는 점착성 필름이 개시되어 있다.Specifically, such a metering process, according to the Republic of Korea Patent Publication No. 2006-0065009, to remove the printing material applied to the protruding embossed portion of the printing mold primarily using a remover, secondary adhesive tape or film Disclosed is a method of removing using. On the other hand, according to Korean Patent Publication No. 0153260, there is disclosed a method of scraping and removing unnecessary ink on the intaglio surface of the printing plate with a thin metal blade or the like. On the other hand, according to the Republic of Korea Patent Publication No. 2004-0042393, after the printing process, a pressure-sensitive adhesive film that compensates for the disadvantages such as waste water problems caused by cleaning the printing plate (mold) using a cleaning agent, a long time process required, etc. are disclosed. .
상기와 같이, 종래에 알려진 미터링 공정은, 인쇄몰드의 양각부에 불필요하게 도포된 잉크를 제거하기 위해 부드러운 천이나 고분자, 점착 테이프 또는 브러쉬 등으로 문지르는 방법이 이용되고 있으나, 이러한 공정을 진행함으로 인하여 발생되는 공정 진행의 비효율성, 인쇄 몰드 면이 대면적인 경우에 반복적으로 동일한 수준으로 잉크의 제거가 이루어지도록 하는 균일한 정도의 기술 재현성에 문제가 발생되고 있다. 또한, 최종적으로는 미세 패턴 형성에 직접적으로 이용되지 않는 불필요한 잉크의 사용이 전제됨으로 인하여, 공정의 비효율성은 물론 비경제성의 문제도 지적되고 있다.As described above, in the conventionally known metering process, a method of rubbing with a soft cloth, a polymer, an adhesive tape, a brush, or the like is used in order to remove an ink applied unnecessarily on an embossed portion of a printing mold. Problems arise in the inefficiency of the process proceeding and uniform reproducibility of the ink to be repeatedly removed to the same level when the printing mold surface is large. In addition, due to the premise of the use of unnecessary inks that are not directly used for fine pattern formation, a problem of inefficiency as well as economical efficiency has been pointed out.
또한, 인쇄 몰드의 면적이 대면적화되는 경우에는 종래와 같이 미터링 공정에 의해서도 잔류 잉크를 완전하게 제거할 수다 있다 하더라도, 미터링 공정이 대면적에 대해 일시적으로 동시에 이루어지기 힘들기 때문에, 도포된 잉크의 물성이 시간차에 따라 국지적으로 차이가 발생될 수 있는 문제점이 예상되어, 대면적 인쇄면을 갖는 인쇄 몰드의 경우에는 다른 대체 기술이 요구되고 있다.In addition, when the area of the printing mold becomes large, even if the residual ink can be completely removed even by the metering process as in the prior art, since the metering process is difficult to be made at the same time with respect to the large area, It is anticipated that a problem may arise in which the physical properties are localized with time differences, and in the case of a printing mold having a large-area printing surface, another alternative technique is required.
한편, 인쇄 몰드로부터 기재로 잉크가 전사(인쇄)된 이후에, 인쇄 몰드의 음각부에 잔류하는 잉크가 존재하게 되면, 후속 인쇄 공정 진행을 위해서는 인쇄 몰드에 대한 세척 공정을 진행하여야 하는 문제점이 존재하고 있다.On the other hand, after the ink is transferred (printed) from the printing mold to the substrate, if there is ink remaining in the intaglio portion of the printing mold, there is a problem that the cleaning process for the printing mold must be performed to proceed with the subsequent printing process. Doing.
전술한 바와 같이, 관련업계에서는, 음각 인쇄법을 이용한 미세 패턴 형성시 미터링 공정이 요구됨으로 인해 발생되는 여러 문제를 해결하기 위한 노력을 진행하여 왔으며, 이러한 기술적 배경하에서 본 발명이 안출된 것이다.As described above, in the related art, efforts have been made to solve various problems caused by the need for a metering process when forming a fine pattern using an intaglio printing method, and the present invention has been made under such a technical background.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 종래의 음각 인쇄용 몰드의 양각부에 도포된 잉크를 제거하는 미터링 공정을 필수적으로 진행하여야 하는 공정상의 비효율성 및 비경제성의 문제를 해결하는 것이다.The problem to be solved by the present invention is to solve the problem of process inefficiency and inefficiency that must proceed essentially the metering process for removing the ink applied to the embossed portion of the conventional intaglio printing mold.
본 발명은, 전술한 해결 과제를 달성하기 위해 음각 인쇄용 몰드에 잉크를 도포하기 전에 소정의 표면개질화제를 처리함으로써, 잉크 도포시 음각 인쇄 몰드 의 양각부에 잉크가 잔류하지 않은 상태를 유지하므로, 별도의 미터링 공정을 진행하지 않으면서 인쇄공정이 진행될 수 있으며, 인쇄몰드로부터 기재로의 패턴 전사 효율을 향상시킬 수 있는 음각 인쇄 몰드를 준비하기 위해 전처리하는 방법 및 이를 이용한 음각 인쇄 방법을 제공함에 그 목적이 있다.The present invention, by applying a predetermined surface modifier before applying the ink to the intaglio printing mold in order to achieve the above-described problem, thereby maintaining the state that no ink remains in the embossed portion of the intaglio printing mold during ink application, The printing process may be performed without a separate metering process, and a pretreatment method and an intaglio printing method using the same are provided to prepare an intaglio printing mold capable of improving the pattern transfer efficiency from the printing mold to the substrate. There is a purpose.
전술한 기술적 과제를 해결하기 위해 제공되는 본 발명에 따르는 음각 인쇄 몰드에 대한 전처리 방법은, (S1) 음각 인쇄 패턴이 형성된 인쇄 몰드를 준비하는 단계; 및 (S2) 상기 인쇄 몰드의 상면에 표면개질화제를 도포하는 단계;를 포함하여 진행하는 것을 특징으로 한다.The pretreatment method for the intaglio printing mold according to the present invention provided to solve the above technical problem comprises the steps of: (S1) preparing a printing mold in which the intaglio printing pattern is formed; And (S2) applying a surface modifier to the upper surface of the printing mold.
상기 인쇄 몰드는, 실리콘계고무 및 우레탄계 고무 중 선택된 하나의 물질 바람직하다.The printing mold is preferably a material selected from silicone rubber and urethane rubber.
상기 표면개질화제는, 실란계 관능기가 포함된 퍼플루오로폴리에테르(perfluoropolyether) 또는 실란계 관능기가 포함된 퍼플루오로알칸(perfluoroalkane) 계열 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘의 혼합물로 이루어진 용질과, 퍼플루오로알칸(perfluoroalkane), 알콕시(alkoxy)기가 포함된 퍼플루오로알칸 및 탄소수가 5 내지7인 하이드로카본 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물인 용매로 이루어진 불소계 화합물 함유 용액이 이용되면 바람직하다. 이때, 상기 표면개질화제는, 그 농도가 0.005 내지 5.0 중량%이면 더욱 바람직하다.The surface modifier is a solute consisting of a single substance or a mixture of two selected from a perfluoropolyether containing a silane functional group or a perfluoroalkane series containing a silane functional group, and purple It is preferable to use a fluorine compound-containing solution consisting of a solvent or a mixture of two or more of one selected from perfluoroalkane, perfluoroalkane containing an alkoxy group, and hydrocarbon having 5 to 7 carbon atoms. At this time, the surface modifier is more preferable if the concentration is 0.005 to 5.0% by weight.
상기 표면개질화제의 도포단계(S2)는, 브러쉬코팅법, 스프레이코팅법, 스핀코팅법, 바코팅법 및 롤코팅법 중 선택된 하나의 방법을 이용하여 진행하면 바람직 하다.Application of the surface modifier (S2), it is preferable to proceed using one method selected from a brush coating method, a spray coating method, a spin coating method, a bar coating method and a roll coating method.
상기 (S1) 단계에서 준비된 인쇄 몰드 상면에 대해 플라즈마 처리하는 단계를 더 진행한 이후, 상기 (S2) 단계를 진행하면 바람직하다. 전술한 기술적 과제를 해결하기 위해 제공되는 본 발명에 따르는 음각 인쇄 방법은, 전술한 바에 따라 전처리된 음각 인쇄 몰드를 이용하여 인쇄 공정을 진행하는 것을 특징으로 한다.After further performing a plasma treatment on the upper surface of the printing mold prepared in the step (S1), it is preferable to proceed to the step (S2). The intaglio printing method according to the present invention, which is provided to solve the above technical problem, is characterized in that a printing process is performed by using the intaglio printing mold pretreated according to the above.
본 발명에 따르면, 인쇄 몰드 양각부 상면에 잔류하는 잉크를 제거하기 위한 미터링 공정을 진행하지 않고도 곧바로 후속 인쇄공정을 진행할 수 있으며, 인쇄 몰드의 면적이 대면적화되더라도, 미터링 공정이 시간 지연의 문제, 인쇄면에 따라 국지적으로 인쇄 잉크의 물성에 변화를 초래하게 하는 문제점이 해소될 수 있어, 인쇄 몰드의 인쇄면이 대면적화에 부응할 수 있는 장점이 있다. 또한, 기재에 패턴 전사가 완료된 이후, 인쇄 몰드에 잔존하는 인쇄 잉크가 최소화되므로, 추가적인 클리닝 공정을 진행하지 않을 수 있어 공정 효율이 개선되며, 패턴 형성된 기재상의 패턴이 인쇄 몰드의 패턴의 원형에 근접된 상보적인 패턴이 형성되어 인쇄 효과가 향상되는 장점을 갖는다. 한편, 인쇄 몰드의 표면에너지가 작아져 도포된 잉크가 음각부로 빠르고 쉽게 빨려 들어가 선택적인 잉크 도포가 보다 용이하게 이루어지게 되어 인쇄 공정의 효율성을 개선할 수 있는 장점도 있다.According to the present invention, the subsequent printing process can proceed immediately without proceeding the metering process for removing the ink remaining on the upper surface of the embossed printing mold, even if the area of the printing mold is large area, the metering process is a problem of time delay, The problem of causing a change in the properties of the printing ink locally can be solved according to the printing surface, so that the printing surface of the printing mold can meet the large area. In addition, since the printing ink remaining in the printing mold is minimized after the pattern transfer to the substrate is completed, an additional cleaning process may not be performed, thereby improving process efficiency, and the pattern on the patterned substrate is close to the circle of the pattern of the printing mold. Complementary patterns are formed to have the advantage that the printing effect is improved. On the other hand, the surface energy of the printing mold is small, so that the applied ink is quickly and easily sucked into the intaglio, so that selective ink application is more easily performed, thereby improving the efficiency of the printing process.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 설명하고, 발명에 대한 이해를 돕기 위해 첨부도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않아야 한다. 본 발명의 실시예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, and detailed description will be made with reference to the accompanying drawings in order to help understanding of the present invention. However, embodiments according to the present invention can be modified in many different forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described below. Embodiments of the present invention are provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art.
도 1은, 본 발명에 따른 음각 인쇄 몰드에 대한 전처리 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.1 is a flowchart for explaining a pretreatment method for an intaglio printing mold according to the present invention.
도 1에 도시된 바를 참조하면, 음각 인쇄 패턴이 형성된 인쇄 몰드를 준비하는 단계(S1) 이후 상기 인쇄 몰드의 상면에 표면개질화제를 도포하는 단계(S2)를 진행하여 음각 인쇄 몰드에 대한 전처리가 이루어질 수 있음을 알 수 있다. 한편, 상기 인쇄 몰드 준비 단계(S1) 이후에 준비된 인쇄 몰드 상면에 대해 플라즈마 처리를 선택적으로 추가 진행하고(S1a), 이어서 상기와 같이 표면개질화제를 도포하는 단계(S2)를 진행할 수도 있음을 알 수 있다. 또한, 필요한 경우, 상기 (S2) 단계 이후에, 표면개질화제가 도포된 인쇄 몰드를 90℃ 이상의 온도에서 30분 이상 방치하는 열처리단계(S2a)를 진행할 수도 있음을 알 수 있다.Referring to FIG. 1, after the preparing of the printing mold having the intaglio printing pattern (S1), the step of applying the surface modifier to the upper surface of the printing mold (S2) is performed to pretreat the intaglio printing mold. It can be seen that it can be made. On the other hand, it is understood that the plasma treatment may be selectively performed on the upper surface of the printed mold prepared after the printing mold preparing step (S1) (S1a), and then the surface modifying agent may be applied (S2) as described above. Can be. In addition, if necessary, it can be seen that after the step (S2), the heat treatment step (S2a) of leaving the printing mold coated with the surface modifier for at least 30 minutes at a temperature of 90 ° C. or more may be performed.
상기 인쇄 몰드는, 실리콘계 고무 또는 우레탄계 고무, 아크릴계 고무, 부타디엔계 고무, 불소계 고무, 에틸렌-프로필렌계 고무, 부틸계 고무, 클로로프렌계 고무, 스티렌-부타디엔계 고무, 니트릴계 고무, 및 천연고무 등 종래에 알려져 있는 다양한 탄성 물질 중에서 선택되어 제조될 수 있다.The printing mold is conventionally made of silicone rubber or urethane rubber, acrylic rubber, butadiene rubber, fluorine rubber, ethylene-propylene rubber, butyl rubber, chloroprene rubber, styrene-butadiene rubber, nitrile rubber, and natural rubber. It can be selected and produced from a variety of elastic materials known to.
상기 표면개질화제는, 실란계 관능기가 포함된 퍼플루오로폴리에테르(perfluoropolyether) 또는 실란계 관능기가 포함된 퍼플루오로알 칸(perfluoroalkane) 계열 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물로 이루어진 용질과 퍼플루오로알칸(perfluoroalkane), 알콕시(alkoxy)기가 포함된 퍼플루오로알칸 및 탄소수가 5 내지7개인 하이드로카본 중 선택된 하나의 단일물 또는 둘 이상의 혼합물인 용매로 이루어진 불소계 화합물 함유 용액이 이용되면 바람직하다. 상기 용질에 이용될 수 있는 물질의 구체적인 예로는 트리클로로퍼플루오로옥틸실란(trichloro(1H,1H,2H,2H)-perfluorooctyl)silane), 트리클로로퍼플루오로데실실란(trichloro(1H,1H,2H,2H)-perfluorodecylsilane), 다이킨(Daikin)사의 옵툴(Optool) DSX, 듀퐁(Dupont)사의 테프론(Teflon) AF, AGC사의 CYTPO, 3M사의 ECC-1000 등을 들 수 있다. 상기 표면개질화제는, 0.005 내지 5.0 중량% 의 농도를 갖도록 상기 용질이 상기 용매에 희석된 코팅액으로서 불소계 화합물을 함유하는 용액이 이용되면 바람직하다.The surface modifier may be a perfluoropolyether containing a silane-based functional group or a perfluoropolykane-containing perfluoroalkane series containing a silane-based functional group. It is preferable to use a fluorine compound-containing solution consisting of a solvent or a mixture of two or more selected from perfluoroalkane, a perfluoroalkane containing an alkoxy group and a hydrocarbon having 5 to 7 carbon atoms. Specific examples of materials that may be used for the solute include trichloroperfluorooctylsilane (trichloro (1H, 1H, 2H, 2H) -perfluorooctyl) silane), trichloroperfluorodecylsilane (trichloro (1H, 1H, 2H, 2H) -perfluorodecylsilane, Daikin's Optool DSX, Dupont's Teflon AF, AGC's CYTPO, 3M's ECC-1000, and the like. The surface modifier is preferably a solution containing a fluorine-based compound as a coating liquid in which the solute is diluted in the solvent so as to have a concentration of 0.005 to 5.0% by weight.
상기 표면개질화제인, 불소계 고분자 함유 용액의 농도에 대한 수치범위와 관련하여, 상기 수치범위를 만족하게 되면 불소계 화합물이 용매에 잘 용해되며, 인쇄 몰드의 표면에 대한 균일한 도포가 가능해지고, 인쇄 몰드의 패턴 크기 및 단차가 목적하는 바에 부합되도록 형성되어 바람직하다.Regarding the numerical range for the concentration of the fluorine-based polymer-containing solution, which is the surface modifier, when the numerical range is satisfied, the fluorine-based compound is well dissolved in a solvent, and uniform coating is possible on the surface of the printing mold. It is preferred that the pattern size and the step of the mold be formed to meet the desired purpose.
상기 표면개질화제를 도포하는 단계(S2)는, 브러쉬 코팅법, 스프레이코팅법, 스핀코팅법, 바코팅법 및 롤코팅법 등의 종래에 알려져 있는 다양한 방법 중에서 선택되어 진행될 수 있다.The step of applying the surface modifier (S2) may be selected from various methods known in the art such as a brush coating method, a spray coating method, a spin coating method, a bar coating method and a roll coating method.
상기 (S1) 단계와 (S2) 단계의 중간에 준비된 인쇄 몰드 상면에 대해 플라즈마 처리 또는 코로나 방전처리를 행하면, 인쇄 몰드 표면의 수산화기(-OH)를 활성 화시켜, 상기 (S2)단계에서 처리되는 표면개질화제가 인쇄 몰드 상면에 더욱 안정적으로 부착될 수 있도록 하여 바람직하다.Plasma treatment or corona discharge treatment on the upper surface of the printing mold prepared in the middle of the steps (S1) and (S2) activates the hydroxyl group (-OH) on the surface of the printing mold, and is processed in the step (S2). It is preferable to allow the surface modifier to be more stably attached to the printing mold upper surface.
본 발명에서와 같이, 인쇄 몰드 상면에 인쇄 잉크를 도포하기 전에 불소계 화합물 함유 용액인 표면개질화제로 처리하면 인쇄 몰드의 표면에너지가 낮아지며, 이로 인하여 그 상면에 도포된 인쇄 잉크가 인쇄 몰드 양각과 음각에 균일하게 코팅되지 못하는 문제가 발생한다. 즉, 양각부에 일시적으로 도포된 인쇄 잉크가 음각부로 빨려들어감으로써, 인쇄 몰드의 양각부에 인쇄 잉크가 미량으로 잔류하거나 대부분이 제거되어, 종래와 같은 인쇄 몰드 양각부 상면에 잔류하는 잉크를 제거하기 위한 미터링 공정을 진행하지 않고 곧바로 후속 인쇄공정을 진행할 수 있는 장점이 있다.As in the present invention, the surface energy of the printing mold is lowered by treating with a surface modifier which is a solution containing a fluorine-based compound before applying the printing ink to the upper surface of the printing mold, whereby the printing ink applied to the upper surface of the printing mold is embossed and engraved. There is a problem that can not be uniformly coated on. That is, the printing ink temporarily applied to the embossed portion is sucked into the engraved portion so that a small amount or a large portion of the printing ink remains on the embossed portion of the printing mold, thereby removing the ink remaining on the upper surface of the conventional embossed printing mold. There is an advantage that the subsequent printing process can proceed immediately without proceeding the metering process.
또한, 본 발명에서 제공되는 방법에 따라 전처리된 인쇄 몰드는 그 인쇄 몰드의 면적이 대면적화되더라도, 미터링 공정이 시간 지연의 문제, 인쇄면에 따라 국지적으로 인쇄 잉크의 물성에 변화를 초래하게 하는 문제점이 해소될 수 있어, 인쇄 몰드의 인쇄면이 대면적화되는 경우에는 더욱 바람직한 효과를 발현할 수 있는 장점이 있다.In addition, the printing mold pretreated according to the method provided by the present invention has a problem that the metering process causes a problem of time delay and a change in the properties of the printing ink locally depending on the printing surface, even if the area of the printing mold becomes large. This can be eliminated, and when the printing surface of the printing mold is large in area, there is an advantage that more desirable effects can be expressed.
실시예 1Example 1
주성분이 PDMS인 인쇄 몰드에 플라즈마 처리를 하여, 그 표면에 수산화기(-OH)를 생성시킨 이후, 인쇄 몰드에 대한 표면개질화제로서, 불소계 고분자 함유 용액인 3M사의 상품명 EGC1720 물질을 바코팅법에 의해 인쇄 몰드 상면에 도포하였다. 이상과 같은 전처리를 마친 이후, 인쇄 몰드의 상면에 대한 광학 사진을 촬영 하여 도 2에 나타내었다. 한편, 상기의 플라즈마 처리는 필요에 따라 생략할 수도 있다.Plasma treatment was performed on a printing mold whose main component was PDMS to generate hydroxyl (-OH) on its surface, and then, as a surface modifier for the printing mold, a 3M brand name EGC1720 material, a fluorine-based polymer-containing solution, was subjected to a bar coating method. It was applied to the upper surface of the printing mold. After the pretreatment as described above, an optical photograph of the upper surface of the printing mold was taken and shown in FIG. 2. In addition, said plasma process can also be omitted as needed.
도 2는 본 발명에 따라 전처리된 인쇄 몰드의 일 실시예의 상면에 대한 광학 사진이다.2 is an optical photograph of the top surface of one embodiment of a printing mold pretreated according to the present invention.
이후, 인쇄 몰드에 잉크를 도포한 후, 잉크가 인쇄 몰드 상면의 양각부 및 음각부에 어떠한 형태로 도포가 이루어져 있는 지를 확인하기 위해 다시 광학 사진을 촬영하여 도 3에 나타내었다.Then, after the ink is applied to the printing mold, the optical photograph was again taken to check how the ink is applied to the embossed and intaglio portions of the upper surface of the printing mold, and is shown in FIG. 3.
도 3은 본 발명에 따라 전처리된 인쇄 몰드의 일 실시예에 인쇄 잉크를 도포한 후의 그 상면에 대한 광학 사진이다.3 is an optical photograph of an upper surface of a printing mold after application of printing ink to an embodiment of a printing mold pretreated according to the present invention.
도 3에 따르면, 도포된 모든 잉크가 인쇄 몰드의 음각부에만 선택적으로 채워져 있고, 인쇄 몰드의 양각부에 잉크가 잔류하지 않아 그 상면이 깨끗하게 유지되고 있음을 확인할 수 있다. 한편, 상기 도 3에서와 같이 선택적으로 잉크가 도포된 인쇄 몰드를 이용하여 PET 필름과 같은 기재 상면에 잉크를 전사(인쇄)시킨 후에는, 인쇄 몰드의 양각부는 물론 음각부에 잔류하는 잉크가 없게 되어 후속 인쇄 공정 진행을 위해 인쇄 몰드를 세척하는 공정을 경유할 필요가 없음도 확인하였다.According to FIG. 3, it can be seen that all the applied ink is selectively filled only in the intaglio portion of the printing mold, and no ink remains in the embossed portion of the printing mold, so that the upper surface thereof is kept clean. On the other hand, after the ink is transferred (printed) to the upper surface of the substrate such as a PET film by using a printing mold coated with ink selectively as shown in FIG. 3, there is no ink remaining in the relief portion as well as the indentation portion of the printing mold. It was also confirmed that there is no need to go through the process of cleaning the printing mold for subsequent printing process progress.
실시예 2Example 2
인쇄면적이 200×300 ㎟ 크기를 갖는 인쇄 몰드에 대해 상기 실시예 1과 동일한 조건으로 진행하였으며, 그 결과는 실시예 1에서와 대차 없음을 확인하였다. 이로써, 본 발명에 따르면, 인쇄면적이 작은 경우는 물론, 대면적 패터닝이 요구되는 경우에도 바람직하게 이용될 수 있다.A printing mold having a printing area having a size of 200 × 300 mm 2 was run under the same conditions as in Example 1, and the results were confirmed that there was no balance as in Example 1. Thus, according to the present invention, it can be preferably used not only when the printing area is small but also when large area patterning is required.
실시예 3Example 3
실시예 3에서는, 3M사의 상품명 ECC-1000 100㎎의 고형분을 10㎖ 에탄올, 0.3㎖ 물(H2O), 0.15 내지 0.6㎖의 아세트산에 희석한 후, 상온에서 30분 가량 교반하여 준비된 표면개질화제를 사용하였다. 이렇게 준비된 표면개질화제를 상기 실시예 1과 마찬가지로 인쇄 몰드의 상면에 도포한 후, 상온에서 2시간 방치한 후, 90도시의 오븐에서 30분간 유지시킨 후 인쇄 몰드를 준비하였다. 상기 준비된 인쇄 몰드에 인쇄 잉크를 도포한 후, 그 상면에 분포하는 인쇄 잉크의 상태를 확인하기 위해 광학 사진을 촬영하였다(도 3 참조).In Example 3, the surface modification prepared by diluting a solid content of 100 mg of 3M brand ECC-1000 in 10 ml ethanol, 0.3 ml water (H 2 O), 0.15 to 0.6 ml of acetic acid, and stirred for about 30 minutes at room temperature. Topical was used. The surface modifier thus prepared was applied to the upper surface of the printing mold in the same manner as in Example 1, left at room temperature for 2 hours, and then maintained in an oven at 90 ° C for 30 minutes to prepare a printing mold. After printing ink was applied to the prepared printing mold, optical photographs were taken to check the state of printing ink distributed on the upper surface thereof (see FIG. 3).
도 4는 도 3의 인쇄몰드의 잉크가 전사된 PET필름에 대한 광학 사진이다. 따라서, 화소 패턴이 도 3과는 좌우 역전된 상태로 나타나고 있음을 알 수 있다.4 is an optical photograph of a PET film to which the ink of the printing mold of FIG. 3 is transferred. Accordingly, it can be seen that the pixel pattern is shown to be inverted left and right with FIG. 3.
도 5는 전처리 되지 않은 인쇄 몰드에 인쇄 잉크를 도포한 이후, 그 상면에 대한 광학사진이다.5 is an optical photograph of the upper surface of the printing ink after the printing ink is applied to the printing mold that has not been pretreated.
도 4와 달리, 도 5에서는 인쇄 몰드의 양각부에 잉크가 잔류하고 있음을 확인할 수 있다. 이로부터 확인할 수 있는 바와 같이, 인쇄 몰드에 대해 표면처리를 행한 경우에는 인쇄 몰드로부터 기재로 잉크가 전달되어 패턴을 형성하고 난 후, 인쇄 몰드 음각부에 인쇄 잉크가 잔존하지 않고, 전부 기재로 전사되어 인쇄 몰드에 대한 추가적인 클리닝 공정을 진행하지 않고 연속적인 후속 인쇄 공정을 진행할 수 있어 공정 효율이 개선되는 장점이 있다.Unlike FIG. 4, it can be seen in FIG. 5 that ink remains in the embossed portion of the printing mold. As can be seen from this, when surface treatment is performed on the printing mold, ink is transferred from the printing mold to the substrate to form a pattern, and then, the printing ink does not remain on the printing mold intaglio, and is transferred to the substrate. As a result, the subsequent subsequent printing process may be performed without further cleaning the printing mold, thereby improving process efficiency.
또한, 일반적으로 인쇄가 완료되면, 기개에 패턴 전사된 단차는 인쇄 몰드에 형성된 패턴의 단차에 비해 낮은 값을 갖게 된다. 그런데, 본 발명에 따른 인쇄 몰 드에 대한 표면처리를 행한 경우에는 기재로 전사된 패턴의 단차가 그렇지 않은 경우에 비하여 상대적으로 높은 단차를 유지하므로, 패턴 전사의 효율성이 증진되는 장점이 있다.Also, in general, when printing is completed, the step transferred by pattern transfer to the machine has a lower value than the step of the pattern formed on the printing mold. By the way, when the surface treatment for the printing mold according to the present invention is carried out because the step of the pattern transferred to the substrate is maintained relatively high step compared to the other, there is an advantage that the efficiency of the pattern transfer is improved.
이와 관련한 기술적 효과를 구체적으로 확인할 수 있는 자료로서, 도 6및 도 7을 참조하여 설명하기로 한다.As a material for confirming the technical effects in this regard, it will be described with reference to FIGS. 6 and 7.
도 6은 인쇄 몰드에 대해 전처리를 진행하지 않고 인쇄가 완료된 기재 상의 패턴에 관한 CLSM 사진이다.6 is a CLSM photograph of a pattern on a substrate on which printing is completed without performing pretreatment on the printing mold.
도 7은 본 발명에 따른 전처리를 행한 인쇄 몰드를 이용하여 인쇄가 완료된 기재 상의 패턴에 관한 CLSM 사진이다.7 is a CLSM photograph of a pattern on a substrate on which printing is completed by using a printing mold subjected to pretreatment according to the present invention.
도 7의 경우는 본 발명에 따른 전처리를 행한 인쇄 몰드를 사용한 점을 제외하고는 도 6에서 사용된 것과 동일한 패턴 폭과 단차를 갖는 인쇄 몰드를 사용한 것이다. 도 6 따르면, 기재 상에 전사 완료되어 형성된 패턴 단차가 반정도 감소되고 있음을 알 수 있다. 그러나, 도 7 따르면, 기재 상에 전사 완료되어 형성된 패턴 단차의 감소율이 아주 낮으며, 본 발명에 따르는 경우 패턴 전사 효율이 상대적으로 매우 높다는 것을 알 수 있다.In the case of Fig. 7, a printing mold having the same pattern width and step as that used in Fig. 6 is used except that the printing mold subjected to pretreatment according to the present invention is used. According to FIG. 6, it can be seen that the pattern step formed by transfer completion on the substrate is reduced by half. However, according to FIG. 7, it can be seen that the reduction rate of the pattern step formed by transfer completion on the substrate is very low, and according to the present invention, the pattern transfer efficiency is relatively very high.
이상에서 설명된 본 발명의 최적 실시예들이 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 당업자에게 본 발명을 상세히 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위해 사용된 것이 아니다. Optimal embodiments of the present invention described above have been disclosed. Although specific terms have been used herein, they are used only for the purpose of describing the present invention in detail to those skilled in the art and are not intended to limit the scope of the present invention as defined in the claims or the claims.
본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께, 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.The following drawings, which are attached to this specification, illustrate exemplary embodiments of the present invention, and together with the detailed description of the invention that follows, serve to further understand the technical spirit of the present invention. It should not be construed as limited to matters.
도 1은 본 발명에 따른 음각 인쇄 몰드에 대한 전처리 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.1 is a flowchart illustrating a pretreatment method for an intaglio printing mold according to the present invention.
도 2는 본 발명에 따라 전처리된 인쇄 몰드의 일 실시예에 의 상면에 대한 광학 사진이다.2 is an optical photograph of a top surface of an embodiment of a printing mold pretreated according to the present invention.
도 3은 본 발명에 따라 전처리된 인쇄 몰드의 일 실시예에 인쇄 잉크를 도포한 후의 그 상면에 대한 광학 사진이다.3 is an optical photograph of an upper surface of a printing mold after application of printing ink to an embodiment of a printing mold pretreated according to the present invention.
도 4는 도 3의 인쇄몰드의 잉크가 전사된 PET필름에 대한 광학 사진이다.4 is an optical photograph of a PET film to which the ink of the printing mold of FIG. 3 is transferred.
도 5는 전처리 되지 않은 인쇄 몰드에 인쇄 잉크를 도포한 후의 그 상면에 대한 광학사진이다.Fig. 5 is an optical photograph of the upper surface of the printing mold after the printing ink is applied to the unpretreated printing mold.
도 6은 인쇄 몰드에 대해 전처리를 진행하지 않고 인쇄가 완료된 기재 상의 패턴에 관한 CLSM 사진이다.6 is a CLSM photograph of a pattern on a substrate on which printing is completed without performing pretreatment on the printing mold.
도 7은 본 발명에 따른 전처리를 행한 인쇄 몰드를 이용하여 인쇄가 완료된 기재 상의 패턴에 관한 CLSM 사진이다.7 is a CLSM photograph of a pattern on a substrate on which printing is completed by using a printing mold subjected to pretreatment according to the present invention.
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