KR20090014027A - Members for dental implant and method of fabricating the same, and dental implant comprising the members - Google Patents

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KR20090014027A
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정철웅
이경구
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쿱케앤볼프주식회사 코리아
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Abstract

A member for a dental implant, a manufacturing method thereof, and an implant including the same member are provided to prevent an inflammation of tooth and unscrewing of a screw. A silver alloy layer(131) includes at least one of silver, tantalum, niobium, vanadium, zirconium, platinum, palladium, yttrium, magnesium and titanium. Silver or a silver alloy layer of nano-thickness or micro-thickness is located on the surface of a main screw(130). In the main screw, silver or silver alloy layer is positioned on the entire surface of the main screw.

Description

치과용 임플란트 부재 및 그 제조 방법, 그리고 치과용 임플란트 부재를 포함하는 치과용 임플란트{Members for Dental Implant and Method of Fabricating The Same, and Dental Implant Comprising The Members} Dental implant members and methods for manufacturing the same, and dental implants comprising the dental implant member {Members for Dental Implant and Method of Fabricating The Same, and Dental Implant Comprising The Members}

치과용 임플란트 부재 및 그 제조 방법, 그리고 치과용 임플란트 부재를 포함하는 치과용 임플란트에 관한 것으로, 보다 상세하게는 치과용 임플란트 부재인 지대주 나사 및 지대주, 치과용 임플란트 부재인 지대주 나사 및 지대주의 제조 방법, 그 치과용 임플란트 부재인 지대주 나사 및 지대주를 포함하는 치과용 임플란트에 관한 것이다.A dental implant member and a method for manufacturing the same, and a dental implant comprising a dental implant member, and more particularly, a method for manufacturing abutment screws and abutments, which are dental implant members, and abutment screws and abutments, which are dental implant members. The present invention relates to a dental implant comprising abutment screws and abutments, which are dental implant members.

임플란트는 인체 조직이 상실되었을 경우 회복시켜 주는 대체물을 의미하지만, 치과에서는 인공으로 만든 치아를 이식하는 것을 말한다. 즉, 인간의 턱뼈에 인공 치아를 반영구적으로 매식하기 위해 사용하는 것을 말한다. 일반 보철물이나 틀니의 경우, 시간이 지나면 주위 치아와 뼈가 상하지만 임플란트는 주변 치아 조직을 상하지 않게 하며 자연 치아와 기능이나 모양이 같으면서도 충치가 생기지 않으므로 반영구적으로 사용할 수 있다.Implants are substitutes that recover when human tissue is lost, but in dentistry, implants of artificial teeth are implanted. That is, it is used to semi-permanently implant artificial teeth in the human jawbone. In the case of a general prosthesis or denture, the surrounding teeth and bones may be damaged over time, but the implants may not damage the surrounding dental tissues, and they may be used semi-permanently because they do not have tooth decay with the same function or shape as natural teeth.

이러한 치과용 임플란트를 턱뼈에 식립하는 과정에서 유해 미생물의 감염에 의한 치주 질환이 발생될 수 있으며, 이것은 임플란트 주위염과 같은 2차 감염을 일으킬 수 있다.In the process of placing the dental implant in the jawbone periodontal disease caused by the infection of harmful microorganisms may occur, which may cause a secondary infection such as peri-implantitis.

또한, 치과용 임플란트를 반영구적으로 사용하기 위해서는 턱뼈에 단단히 고정되어야 하는데, 임플란트를 구성하는 픽스쳐와 지대주를 상호 견고하게 고정시키는 지대주 나사의 체결 상태가 이완되어 느슨해지는 경우가 빈번히 발생할 뿐만 아니라, 심한 경우에는 지대주 나사 자체가 손상되어 외부로 이탈되는 경우도 발생할 수 있다. In addition, semi-permanent use of dental implants must be firmly secured to the jawbone, and the fixtures constituting the implant and the abutment screws that firmly secure the abutments are frequently loosened and loosened. In some cases, the abutment screw itself may be damaged and released to the outside.

이에 본 발명에서는 풀림 방지 기능이 개선되고 또한 세균 감염을 방지할 수 있는 향균 효과를 발휘할 수 있는 치과용 임플란트 부재 및 그 제조 방법, 그리고 치과용 임플란트 부재를 포함하는 치과용 임플란트를 제공하고자 하는 것이다.Accordingly, the present invention is to provide a dental implant comprising a dental implant member and a method for manufacturing the same, and a dental implant member that can improve the anti-loosening function and exhibit an antibacterial effect that can prevent bacterial infection.

또한, 본 발명에서는 세균 감염을 방지할 수 있는 항균 효과를 발휘할 수 있고 또한 주위염을 방지할 수 있는 치과용 임플란트 부재 및 그 제조 방법, 그리고 치과용 임플란트 부재를 포함하는 치과용 임플란트를 제공하고자 하는 것이다.In addition, the present invention is to provide a dental implant member and a method for manufacturing the same, and a dental implant that can exhibit an antimicrobial effect that can prevent bacterial infection, and can prevent peripheral inflammation. .

본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 부재인 지대주 나사는 표면의 적어도 일부에 마이크로 두께의 은 또는 은합금층이 위치한다.The abutment screw, which is a dental implant member according to an embodiment of the present invention, has a micro-thick silver or silver alloy layer located on at least a portion of the surface.

상기 은합금층은 은과, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 백금, 팔라듐, 이트륨, 마그네슘 및 타이타늄 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The silver alloy layer may include at least one of silver, tantalum, niobium, vanadium, zirconium, platinum, palladium, yttrium, magnesium, and titanium.

이러한 상기 은 또는 은합금층은 예를 들어 상기 지대주 나사의 표면 전체에 위치할 수 있다.This silver or silver alloy layer may for example be located throughout the surface of the abutment screw.

본 발명의 다른 실시예에 따른 치과용 임플란트 부재인 지대주는 표면의 적어도 일부에 나노 또는 마이크로 두께의 은 또는 은합금층이 위치한다.The abutment, which is a dental implant member according to another embodiment of the present invention, has a nano or micro thick silver or silver alloy layer on at least a portion of the surface.

상기 은합금층은 은과, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 백금, 팔라듐, 이트륨, 마그네슘 및 타이타늄 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The silver alloy layer may include at least one of silver, tantalum, niobium, vanadium, zirconium, platinum, palladium, yttrium, magnesium, and titanium.

이러한 상기 은 또는 은합금층은 예를 들어 상기 지대주가 치조골과 접촉하는 표면에 위치할 수 있다.This silver or silver alloy layer may be located, for example, on the surface where the abutment contacts the alveolar bone.

본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트는 인공 치관을 지지하는 픽스쳐, 상기 픽스쳐와 상기 인공 치관을 연결하는 지대주, 및 상기 지대주를 상기 픽스쳐에 결합하는 지대주 나사를 포함하고, 상기 지대주 및 상기 지대주 나사 중 적어도 하나는 그 표면의 적어도 일부에 나노 또는 마이크로 두께의 은 또는 은합금층이 위치한다.Dental implant according to an embodiment of the present invention includes a fixture for supporting the artificial crown, abutment for connecting the fixture and the artificial crown, and abutment screw for coupling the abutment to the fixture, the abutment and the abutment At least one of the screws has a nano or micro thick layer of silver or silver alloy on at least a portion of its surface.

상기 은합금층은 은과, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 백금, 팔라듐, 이트륨, 마그네슘 및 타이타늄 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The silver alloy layer may include at least one of silver, tantalum, niobium, vanadium, zirconium, platinum, palladium, yttrium, magnesium, and titanium.

상기 은 또는 은합금층은 예를 들어 상기 지대주 나사의 표면 전체에 위치할 수 있다. The silver or silver alloy layer may for example be located throughout the surface of the abutment screw.

상기 은 또는 은합금층은 예를 들어 상기 지대주가 치조골과 접촉하는 상기 지대주의 표면에 위치할 수 있다.The silver or silver alloy layer may for example be located on the surface of the abutment where the abutment is in contact with the alveolar bone.

본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 부재의 제조방법은, 은 또는 은과, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 백금, 팔라듐, 이트륨, 마그네슘 및 타이타늄 중 적어도 하나를 포함하는 은합금층을 형성하고자 하는 임플란트 부재를 세척하는 단계; 및 상기 세척된 부재를 스퍼터링과 아크이온플레이트 공정을 동시 또는 개별적으로 행하여 상기 부재 표면의 적어도 일부에 나노 또는 마이크로 단위의 상기 은합금층을 형성하는 단계를 포함한다. Method for manufacturing a dental implant member according to an embodiment of the present invention, to form a silver alloy layer containing at least one of silver or silver, tantalum, niobium, vanadium, zirconium, platinum, palladium, yttrium, magnesium and titanium Washing the implant member; And performing the sputtering and arc ion plate processes on the washed member simultaneously or separately to form the silver alloy layer in nano or micro units on at least a portion of the surface of the member.

이때, 상기 임플란트 부재는 지대주 및 지대주 나사 중 어느 하나일 수 있다. In this case, the implant member may be any one of the abutment and the abutment screw.

또한, 상기 스퍼터링 공정은 3 내지 20mTorr의 압력 하에서, 0 내지 100sccm의 유량의 불활성 가스 분위기 하에서, 100 내지 400W의 스퍼터파워로, 0 내지 900V의 바이어스 전압으로, 25 내지 350℃의 온도에서 1 내지 500분 동안 실시될 수 있고, 상기 아크이온플레이팅 공정은 3 내지 20mTorr의 압력 하에서, 0 내지 100sccm의 유량의 불활성 가스 분위기 하에서, 40 내지 80A의 아크파워로, 0 내지 900V의 바이어스 전압으로, 25 내지 350℃의 온도에서 1 내지 120분 동안 실시될 수 있다.In addition, the sputtering process is a sputter power of 100 to 400 W, a bias voltage of 0 to 900 V, and a temperature of 25 to 350 ° C under a pressure of 3 to 20 mTorr, under an inert gas atmosphere of a flow rate of 0 to 100 sccm. It can be carried out for a minute, the arc ion plating process is carried out under a pressure of 3 to 20mTorr, under an inert gas atmosphere of a flow rate of 0 to 100sccm, with an arc power of 40 to 80A, with a bias voltage of 0 to 900V, 25 to It may be carried out for 1 to 120 minutes at a temperature of 350 ℃.

또한, 상기 은 또는 은합금층 형성 단계 후, 상기 은 또는 은합금층이 형성된 상기 임플란트 부재에 열처리를 행하는 단계를 더 포함할 수 있으며, 상기 열처리는 불활성 분위기 또는 진공 분위기 하에서 200 내지 600℃의 온도에서 1 내지 8시간 동안 실시될 수 있다. In addition, after the silver or silver alloy layer forming step, and further comprising the step of performing a heat treatment on the implant member on which the silver or silver alloy layer is formed, the heat treatment is carried out at a temperature of 200 to 600 ℃ in an inert atmosphere or a vacuum atmosphere 1 To 8 hours.

본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 부재인 지대주 나사의 표면에 은합금층이 위치함으로써 풀림 방지 기능이 개선되고 또한 세균 감염을 방지할 수 있는 향균 효과를 발휘할 수 있고, 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 부재인 지대주의 표면에 은합금층이 위치함으로써 임플란트와 생체 접촉면에서의 치은 및 치조골 조직의 염증을 감소시켜 임플란트 주위염을 줄일 수 있을 뿐만 세균 감염을 방지할 수 있는 항균 효과를 발휘할 수 있어, 보다 안정적인 임플란트 시술을 기대할 수 있다.By placing the silver alloy layer on the surface of the abutment screw which is a dental implant member according to an embodiment of the present invention, the anti-loosening function can be improved and the antibacterial effect can be prevented, which can prevent bacterial infection. By placing the silver alloy layer on the surface of the abutment which is a dental implant member according to the present invention, it is possible to reduce inflammation of the gingival and alveolar bone tissue at the contact surface of the implant and to reduce peri-implantitis, and to exert an antibacterial effect to prevent bacterial infection. As a result, more stable implant procedures can be expected.

또한 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 부재의 제조 방법은, 은 또는 은합금층의 접착성이 우수하고, 변색이 거의 발생하지 않는 치과용 임플란트 부재를 제공할 수 있다.In addition, the method for manufacturing a dental implant member according to an embodiment of the present invention, it is possible to provide a dental implant member that is excellent in the adhesion of the silver or silver alloy layer, hardly discoloration occurs.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트에 대해 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트의 개략적인 구성도이고, 도 2 내지 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 부재 중 지대주와 지대주 나사의 단면을 도시한 단면도들이다.Hereinafter, a dental implant according to an embodiment of the present invention will be described. 1 is a schematic configuration diagram of a dental implant according to an embodiment of the present invention, Figures 2 to 3 is a cross-sectional view showing a cross-section of the abutment and abutment screw of the dental implant member according to an embodiment of the present invention admit.

도 1에 도시되어 있는 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트는 자연치아의 치근과 같이 결손된 치아부위의 치조골(107) 속에 매식되어 인공 치관(Crown, 140)을 지지하는 픽스쳐(Fixture, 110)와, 픽스쳐(110)와 인공 치관(140)을 연결하는 지대주(abutment, 120)와, 지대주(120)를 픽스쳐(110)에 결합시키기 위한 지대주 나사(130)와, 지대주(120)에 의해 구강 내에 고정되어 자연치아와 동일한 형태와 기능을 재현하도록 되어 있는 인공 치관(140)을 포함한다.As shown in FIG. 1, a dental implant according to an embodiment of the present invention is implanted in an alveolar bone 107 of a missing tooth part, such as a root of a natural tooth, to support an artificial crown (Crown, 140). (Fixture 110), abutment 120 connecting the fixture 110 and the artificial crown 140, abutment screw 130 for coupling the abutment 120 to the fixture 110, and abutment ( 120 is artificial dental crown 140 is fixed in the oral cavity to reproduce the same shape and function as natural teeth.

이러한 구성으로 픽스쳐(110)를 자연치아의 뿌리처럼 치조골(107)에 완전히 고정되도록 골유착시킨 후, 임플란트의 픽스쳐(110)에 지대주(120)를 지대주 나사(130)로 연결시키고, 그 위에 인공 치관(140)을 장착하면 임플란트가 완성된다. 이때, 픽스쳐(110)는 골 밀도가 높은 치밀골(107a)을 통과하여 골밀도가 낮은 해면골(107b)로 매식된다.In this configuration, the fixture 110 is bone-bonded to be completely fixed to the alveolar bone 107 like the root of a natural tooth, and then the abutment 120 is connected to the fixture 110 of the implant with the abutment screw 130, and the artificial on it. When the crown 140 is mounted, the implant is completed. At this time, the fixture 110 passes through the dense bone 107a having a high bone density and is embedded in the spongy bone 107b having a low bone density.

지대주(120)와 픽스쳐(110)의 결합 관계를 좀더 상세히 살펴보면, 지대주(120)의 중심에는 삽입공(104)이 형성되어 있으며 이 삽입공(104)을 통해 지대주 나사(130)를 삽입하여 픽스쳐(110)의 중심부에서 지대주(120)의 삽입공(104)과 동심적으로 형성되어 있는 체결공(112)과 나사 결합시킴으로써 지대주(120)를 픽스쳐(110) 상단에 고정하게 된다. 그리고, 인공 치관(110)은 지대주(120)의 상단부에서 지대주(120)를 외측에서 감싸면서 접촉되고 그 접촉 부위가 접착제 등으로 결합되어 픽스쳐(110)에 의해 지지된다.Looking at the coupling relationship between the abutment 120 and the fixture 110 in detail, an insertion hole 104 is formed at the center of the abutment 120, and the abutment screw 130 is inserted through the insertion hole 104 to fix the fixture. The abutment 120 is fixed to the upper portion of the fixture 110 by screwing the fastening hole 112 formed concentrically with the insertion hole 104 of the abutment 120 at the center of the 110. In addition, the artificial crown 110 is contacted while wrapping the abutment 120 at the upper end of the abutment 120 and the contact portion is bonded by an adhesive or the like and supported by the fixture 110.

도 1에 도시한 바와 같이 임플란트를 구성하는 부재 중 하나인 픽스쳐(110) 는 치조골(107)에 매식되는 부분으로, 임플란트에 있어서 픽스쳐(110)는 그 자체로 임플란트라고도 불리워지는 가장 중요한 부재에 해당한다. 이러한 픽스쳐(110)는 치조골(107)에 직접 결합되는 부분으로, 치조골(107)과의 융합성 향상을 위해 타이타늄 또는 타이타늄 합금을 포함하여 이루어질 수 있다. 픽스쳐(110)에 포함되는 타이타늄 합금의 구체적인 예는 아래에서 설명한다.As shown in FIG. 1, the fixture 110, which is one of the members constituting the implant, is a portion embedded in the alveolar bone 107. In the implant, the fixture 110 corresponds to the most important member, which is also called an implant. do. The fixture 110 is a portion directly coupled to the alveolar bone 107, and may include titanium or a titanium alloy to improve the compatibility with the alveolar bone 107. Specific examples of the titanium alloy included in the fixture 110 will be described below.

도 2에 도시한 바와 같이 픽스쳐(110) 상단에 위치하는 지대주(120)는 인공 치관(140)을 픽스쳐(110)에 고정시키는 역할을 한다. 이러한 지대주(120)는 지대주 기재(121)와 은 또는 은합금층(122)을 포함한다. As shown in FIG. 2, the abutment 120 positioned at the top of the fixture 110 serves to fix the artificial crown 140 to the fixture 110. This abutment 120 includes a abutment base 121 and a silver or silver alloy layer 122.

지대주 기재(121)는 타이타늄 또는 타이타늄 합금을 포함하여 이루어질 수 있다. 지대주 기재(121)에 포함되는 타이타늄 합금은 타이타늄에 다른 금속, 예를 들어 알루미늄(Al), 탄탈륨(Ta), 니오븀(Nb), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 이트륨(Yt), 마그네슘(Mg), 주석(Sn), 몰리브덴(Mo) 중 적어도 하나의 금속을 첨가한 타이타늄 합금을 포함하여 이루어질 수도 있다. 보다 구체적으로는 기재는 순수한 타이타늄 또는 예를 들어 Ti-6Al-4V, Ti-6Al-7Nb, Ti-30Nb, Ti-13Nb-13zr, Ti-15Mo, Ti-35.3Nb-5.1Ta-7.1Zr, Ti-29Nb-13Ta-4.6Zr, Ti-29Nb-13Ta-2Sn, Ti-29Nb-13Ta-4.6Sn, Ti-29Nb-13Ta-6Sn, Ti-16Nb-13Ta-4Mo중에서 선택될 수 있다.The abutment base 121 may include titanium or a titanium alloy. The titanium alloy included in the abutment base 121 is a metal other than titanium, such as aluminum (Al), tantalum (Ta), niobium (Nb), vanadium (V), zirconium (Zr), platinum (Pt), and palladium. It may comprise a titanium alloy to which at least one metal of (Pd), yttrium (Yt), magnesium (Mg), tin (Sn), and molybdenum (Mo) is added. More specifically, the substrate may be pure titanium or, for example, Ti-6Al-4V, Ti-6Al-7Nb, Ti-30Nb, Ti-13Nb-13zr, Ti-15Mo, Ti-35.3Nb-5.1Ta-7.1Zr, Ti -29Nb-13Ta-4.6Zr, Ti-29Nb-13Ta-2Sn, Ti-29Nb-13Ta-4.6Sn, Ti-29Nb-13Ta-6Sn, Ti-16Nb-13Ta-4Mo.

또한, 지대주 기재(121) 상에 위치하는 나노 또는 마이크로 두께의 은 또는 은합금층(122)은 유해 미생물의 번식을 억제하는 역할을 한다. 이때, 은합금층은 예를 들어 은과, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 백금, 팔라듐, 이트륨, 마그 네슘 및 타이타늄 중에서 선택된 적어도 하나를 포함하여 이루어질 수 있다. In addition, the nano or micro-thick silver or silver alloy layer 122 located on the abutment substrate 121 serves to suppress the growth of harmful microorganisms. In this case, the silver alloy layer may include at least one selected from silver, tantalum, niobium, vanadium, zirconium, platinum, palladium, yttrium, magnesium, and titanium.

이러한 은 또는 은합금층(122)는 지대주(120) 표면의 적어도 일부, 바람직하게는 치조골(도 1의 107)과 접촉하는 표면에 위치할 수도 있다.This silver or silver alloy layer 122 may be located on at least a portion of the abutment 120 surface, preferably on the surface in contact with the alveolar bone 107 of FIG. 1.

도 3에 도시한 바와 같이 픽스쳐(110)와 지대주(120) 내에 위치하는 지대주 나사(130)는 픽스쳐(110)에 지대주(120)를 고정시키는 역할을 한다. 이러한 지대주 나사(130)는 타이타늄 또는 타이타늄 합금을 포함하여 이루어질 수도 있고, 스테인리스강을 포함하여 이루어질 수도 있으며, 금 또는 금합금을 포함하여 이루어질 수 있고, 선택적으로 그 표면의 적어도 일부, 바람직하게는 표면 전체에 은 또는 은합금층(131)이 더 위치할 수도 있다. 이때, 지대주 나사(130)에 포함되는 타이타늄 합금은 상술한 바와 같은 지대주(120)에 포함되는 타이타늄 합금과 실질적으로 동일한 것이고, 지대주 나사(130) 표면의 은 또는 은합금층(131)도 그 기능, 구성 성분과 두께 등이 상기 지대주(120) 표면의 은 또는 은합금층(122)과 실질적으로 동일하다.As shown in FIG. 3, the abutment screw 130 located in the fixture 110 and the abutment 120 serves to fix the abutment 120 to the fixture 110. The abutment screw 130 may comprise titanium or a titanium alloy, may comprise stainless steel, may comprise gold or gold alloy, and optionally at least a portion of the surface, preferably the entire surface. The silver or silver alloy layer 131 may be further located. At this time, the titanium alloy included in the abutment screw 130 is substantially the same as the titanium alloy included in the abutment 120 as described above, and the silver or silver alloy layer 131 on the surface of the abutment screw 130 may also function. Components, thickness, and the like are substantially the same as the silver or silver alloy layer 122 on the abutment 120 surface.

지대주 나사(130)의 은 또는 은합금층(131)의 경우 유해 미생물의 번식을 억제하는 기능 외에도, 지대주 나사(130)의 풀림 현상을 방지하는 기능을 한다. 지대주 나사(130)는 상기한 바와 같이 픽스쳐(도 1의 110)와 지대주(도 1의 120)를 고정시키는 역할을 하는 것으로, 부드럽게 조여져야 하며, 장시간 사용되더라도 쉽게 풀리지 않아야 하는 특성이 있어야 한다. 지대주 나사(130) 표면에 은 또는 은합금층이 형성되는 경우, 표면 두께가 일정하게 증가하고, 픽스쳐(110)와 지대주 나사(130) 체결시 픽스쳐(110) 내부의 나사선과 은 또는 은합금층(131)의 마찰로 풀 림 현상을 방지할 수 있게 된다. In the case of silver or silver alloy layer 131 of the abutment screw 130, in addition to the function of suppressing the growth of harmful microorganisms, the abutment screw 130 serves to prevent the loosening phenomenon. The abutment screw 130 serves to fix the fixture (110 in FIG. 1) and the abutment (120 in FIG. 1) as described above. The abutment screw 130 should be smoothly tightened and should not be easily loosened even if used for a long time. When the silver or silver alloy layer is formed on the surface of the abutment screw 130, the surface thickness increases uniformly, and when the fixture 110 and the abutment screw 130 are fastened, the thread and the silver or silver alloy layer 131 inside the fixture 110 are fixed. ), The loosening phenomenon can be prevented.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트에 포함되는 지대주 및 지대주 나사 중 적어도 하나는 그 표면의 적어도 일부에 선택적으로 은 또는 은합금층을 포함할 수 있다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트는 예를 들어 지대주의 표면에만 은합금층이 위치할 수도 있으며, 지대주 나사의 표면에만 은합금층이 위치할 수도 있다. 또한, 본 발명의 일실시예에 따른 치과용 임플란트는 예를 들어 지대주와 지대주 나사의 표면에 은합금층이 위치할 수도 있고, 픽스쳐, 지대주, 지대주 나사의 표면 모두에도 은합금층이 위치할 수도 있다.As described above, at least one of the abutment and the abutment screw included in the dental implant according to an embodiment of the present invention may optionally include a silver or silver alloy layer on at least a portion of the surface thereof. That is, in the dental implant according to the embodiment of the present invention, for example, the silver alloy layer may be located only on the surface of the abutment, and the silver alloy layer may be located only on the surface of the abutment screw. In addition, the dental implant according to an embodiment of the present invention, for example, the silver alloy layer may be located on the surface of the abutment and the abutment screw, the silver alloy layer may also be located on all of the surface of the fixture, abutment, abutment screw.

상술한 바와 같이 임플란트에 포함되는 지대주 및 지대주 나사 중 적어도 하나의 부재의 표면에 은합금층이 더 위치함으로써, 임플란트와 생체 접촉면에서의 치은 및 치조골 조직의 염증을 감소시켜 임플란트 주위염을 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 지대주 나사의 풀림 현상을 방지할 수 있어, 보다 안정적인 임플란트 시술을 기대할 수 있다.As described above, the silver alloy layer is further located on the surface of at least one member of the abutment and the abutment screw included in the implant, thereby reducing peri-implantitis by reducing inflammation of the gingiva and alveolar tissue at the contact surface with the implant. In addition, the loosening of the abutment screw can be prevented, and more stable implant treatment can be expected.

계속해서, 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 부재의 제조 방법을 도 4를 참조하여 설명한다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 부재의 제조 방법을 공정 순서대로 도시한 순서도이다.Subsequently, a method of manufacturing an implant member according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 4. 4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an implant member according to an embodiment of the present invention in the order of process.

도 4에 도시한 바와 같이, 우선 은 또는 은합금층을 형성하고자 하는 치과용 임플란트 부재, 예를 들어 지대주 및 지대주 나사 등을 준비하여, 그 표면을 세정한다(S1).As shown in FIG. 4, first, a dental implant member, for example, abutments, abutment screws, and the like, on which silver or silver alloy layers are to be formed, is prepared, and the surface thereof is cleaned (S1).

상술한 부재는 통상적으로 치과용 임플란트에 사용되는 것으로, 지대주 등은 타이타늄 또는 타이타늄 합금을 포함하여 이루어질 수 있고, 지대주 나사는 타이타늄, 타이타늄 합금, 스테인리스강, 금 또는 금 합금을 포함하여 이루어질 수도 있다.The above-described member is generally used in dental implants, the abutment may be made of titanium or titanium alloy, the abutment screw may be made of titanium, titanium alloy, stainless steel, gold or gold alloy.

이러한 각 부재는 예를 들어 이온 세정을 실시할 수 있다. 이온 세정은 아르곤 가스를 이용할 수 있다.Each of these members can be ion-washed, for example. Ion cleaning may use argon gas.

다음, 도 4에 도시한 바와 같이 세정된 각 부재를 스퍼터링(sputtering)과 아크이온플레이팅(arc ion plating) 공정을 동시 또는 개별적으로 행하여 부재 표면에 은 또는 은합금층을 형성한다(S2).Next, as shown in FIG. 4, a silver or silver alloy layer is formed on the surface of each member by performing sputtering and arc ion plating processes simultaneously or separately.

이를 보다 상세하게 설명하면, 표면에 불순물이 제거된 부재에 은을 포함하는 타켓 또는 은과 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 백금, 팔라듐, 이트륨, 마그네슘 및 타이타늄 중 하나를 포함하는 타켓을 사용하여 스퍼터링과 아크이온프레이팅 공정을 통해 은 또는 은합금층을 형성한다. 이때, 은합금층을 형성하기 위한 타켓에 포함되는 은을 제외한 금속의 중량%는 예를 들어 50중량% 이하, 바람직하게는 20중량%일 수 있다.In more detail, sputtering is performed using a target containing silver or a target containing silver and tantalum, niobium, vanadium, zirconium, platinum, palladium, yttrium, magnesium, and titanium in a member from which impurities are removed from the surface. And an arc ion plating process to form a silver or silver alloy layer. In this case, the weight% of the metal excluding silver included in the target for forming the silver alloy layer may be, for example, 50% by weight or less, preferably 20% by weight.

스퍼터링 공정은 3 내지 20mTorr의 압력 하에서, 0 내지 100sccm의 유량의 불활성 가스 분위기 하에서, 100 내지 400W의 스퍼터파워로, 0 내지 900V의 바이어스 전압으로, 25 내지 350℃의 온도에서 1 내지 500분 동안 실시될 수 있다.The sputtering process is carried out for 1 to 500 minutes at a temperature of 25 to 350 ° C., with a bias voltage of 0 to 900 V, with a sputter power of 100 to 400 W, under an inert gas atmosphere of a flow rate of 0 to 100 sccm under a pressure of 3 to 20 mTorr Can be.

또한, 아크이온플레이팅 공정은 3 내지 20mTorr의 압력 하에서, 0 내지 100sccm의 유량의 불활성 가스 분위기 하에서, 40 내지 80A의 아크파워로, 0 내지 900V의 바이어스 전압으로, 25 내지 350℃의 온도에서, 1 내지 120분 동안 실시될 수 있다.In addition, the arc ion plating process is carried out under an inert gas atmosphere of a flow rate of 0 to 100 sccm under a pressure of 3 to 20 mTorr, with an arc power of 40 to 80 A, a bias voltage of 0 to 900 V, and a temperature of 25 to 350 ° C. It may be carried out for 1 to 120 minutes.

이어, 도 5에 도시한 바와 같이 은 또는 은합금층이 형성된 부재에 열처리를 행할 수 있다(S3).Subsequently, as shown in FIG. 5, a heat treatment may be performed on the member on which the silver or silver alloy layer is formed (S3).

이러한 열처리는 은 또는 은합금층의 부재 표면에서의 결합력을 증가시키기 위한 것으로, 은 또는 은합금층과 부재 사이의 결합력이 충분할 경우 생략될 수도 있다. This heat treatment is to increase the bonding force on the member surface of the silver or silver alloy layer, and may be omitted if the bonding force between the silver or silver alloy layer and the member is sufficient.

은 또는 은합금층이 형성된 부재를 불활성 분위기 또는 진공 분위기 하에서 예를 들어 약 200 내지 600℃의 온도에서 약 1 내지 8시간 정도 열처리를 행한다. 이러한 열처리를 통해 은 또는 은합금층 형성 시 발생할 수 있는 잔류 응력을 해소하고, 접착력을 보완할 수 있다.The member on which the silver or silver alloy layer is formed is heat-treated for about 1 to 8 hours at an inert atmosphere or a vacuum atmosphere, for example, at a temperature of about 200 to 600 ° C. Through such heat treatment, residual stresses that may occur during the formation of the silver or silver alloy layer may be solved, and the adhesion may be compensated for.

상술한 바와 같이 형성된 부재 표면의 은 또는 은 합금층 상에 표면 특성상 필요시에는 선택적으로 전기 도금을 실시하고, 2차로 열처리를 실시할 수도 있다. 이러한 선택적인 전기 도금을 실시할 경우 은 또는 은합금판을 이용하거나 은이 함유된 전해액을 사용할 실시할 수 있다.If necessary on the surface of the silver or silver alloy layer of the member surface formed as described above, electroplating may be optionally performed, and heat treatment may be performed secondarily. In the case of performing such selective electroplating, silver or a silver alloy plate may be used, or an electrolytic solution containing silver may be used.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 부재의 제조 방법은 은 또는 은합금층의 접착성이 우수하고, 변색이 거의 발생하지 않는 부재를 포함하는 치과용 임플란트를 제공할 수 있다.As described above, the manufacturing method of the dental implant member according to an embodiment of the present invention can provide a dental implant comprising a member having excellent adhesion of silver or silver alloy layer, hardly discoloration occurs. .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트의 개략적인 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of a dental implant according to an embodiment of the present invention.

도 2 내지 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트 부재 중 지대주와 지대주 나사의 단면을 도시한 단면도들이다.2 to 3 are cross-sectional views showing a cross section of the abutment and the abutment screw of the dental implant member according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 부재의 제조 방법을 공정 순서대로 도시한 순서도이다.4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing an implant member according to an embodiment of the present invention in the order of process.

Claims (16)

표면의 적어도 일부에 나노 또는 마이크로 두께의 은 또는 은합금층이 위치하는 지대주 나사.Abutment screws with nano or micro thick silver or silver alloy layers located on at least a portion of the surface. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 은합금층은 은과, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 백금, 팔라듐, 이트륨, 마그네슘 및 타이타늄 중 적어도 하나를 포함하는 지대주 나사.And the silver alloy layer comprises silver, at least one of tantalum, niobium, vanadium, zirconium, platinum, palladium, yttrium, magnesium and titanium. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 은 또는 은합금층은 상기 지대주 나사의 표면 전체에 위치하는 지대주 나사.And a layer of silver or silver alloy located throughout the surface of the abutment screw. 표면의 적어도 일부에 나노 또는 마이크로 두께의 은 또는 은합금층이 위치하는 지대주.Abutment in which a nano or micro thick layer of silver or silver alloy is located on at least part of the surface. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 은합금층은 은과, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 백금, 팔라듐, 이트륨, 마그네슘 및 타이타늄 중에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 지대주.The silver alloy layer comprises silver, at least one selected from tantalum, niobium, vanadium, zirconium, platinum, palladium, yttrium, magnesium and titanium. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 은 또는 은합금층은 상기 지대주가 치조골과 접촉하는 표면에 위치하는 지대주.The silver column or silver alloy layer is located on the surface where the abutment is in contact with the alveolar bone. 인공 치관을 지지하는 픽스쳐;Fixtures for supporting artificial crowns; 상기 픽스쳐와 상기 인공 치관을 연결하는 지대주; 및Abutment connecting the fixture and the artificial crown; And 상기 지대주를 상기 픽스쳐에 결합하는 지대주 나사를 포함하고,Abutment screws coupling said abutments to said fixture, 상기 지대주 및 상기 지대주 나사 중 적어도 하나는 그 표면의 적어도 일부에 나노 또는 마이크로 두께의 은 또는 은합금층이 위치하는 치과용 임플란트.At least one of the abutment and the abutment screw is at least a portion of the surface thereof having a nano or micro thick layer of silver or silver alloy. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 은합금층은 은과, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 백금, 팔라듐, 이트륨, 마그네슘 및 타이타늄 중 적어도 하나를 포함하는 치과용 임플란트.The silver alloy layer is a dental implant comprising at least one of silver, tantalum, niobium, vanadium, zirconium, platinum, palladium, yttrium, magnesium and titanium. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 은 또는 은합금층은 상기 지대주 나사의 표면 전체에 위치하는 치과용 임플란트.The silver or silver alloy layer is located throughout the surface of the abutment screw dental implant. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 은 또는 은합금층은 상기 지대주가 치조골과 접촉하는 상기 지대주의 표면에 위치하는 치과용 임플란트.And the silver or silver alloy layer is located on the surface of the abutment where the abutment is in contact with the alveolar bone. 은 또는 은과, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 백금, 팔라듐, 이트륨, 마그네슘 및 타이타늄 중 적어도 하나를 포함하는 은합금층을 형성하고자 하는 임플란트 부재를 세척하는 단계; 및 Cleaning the implant member to form a silver alloy layer comprising silver or silver and at least one of tantalum, niobium, vanadium, zirconium, platinum, palladium, yttrium, magnesium and titanium; And 상기 세척된 부재를 스퍼터링과 아크이온플레이트 공정을 동시 또는 개별적으로 행하여 상기 부재 표면의 적어도 일부에 나노 또는 마이크로 단위의 상기 은합금층을 형성하는 단계를 포함하는 치과용 임플란트 부재의 제조 방법. Forming the silver alloy layer in nano or micro units on at least a portion of the surface of the member by simultaneously or separately performing the sputtering and arc ion plate processes on the cleaned member. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 임플란트 부재는 지대주 및 지대주 나사 중 어느 하나인 치과용 임플란트 부재의 제조 방법.The implant member is a method of manufacturing a dental implant member is any one of abutment and abutment screw. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 스퍼터링 공정은 3 내지 20mTorr의 압력 하에서, 0 내지 100sccm의 유량의 불활성 가스 분위기 하에서, 100 내지 400W의 스퍼터파워로, 0 내지 900V의 바이어스 전압으로, 25 내지 350℃의 온도에서 1 내지 500분 동안 실시되는 치과용 임플란트 부재의 제조 방법.The sputtering process is carried out for 1 to 500 minutes at a temperature of 25 to 350 ° C., with a bias voltage of 0 to 900 V, with a sputter power of 100 to 400 W, under an inert gas atmosphere of a flow rate of 0 to 100 sccm under a pressure of 3 to 20 mTorr, The manufacturing method of the dental implant member performed. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 아크이온플레이팅 공정은 3 내지 20mTorr의 압력 하에서, 0 내지 100sccm의 유량의 불활성 가스 분위기 하에서, 40 내지 80A의 아크파워로, 0 내지 900V의 바이어스 전압으로, 25 내지 350℃의 온도에서 1 내지 120분 동안 실시되는 치과용 임플란트 부재의 제조 방법.The arc ion plating process is carried out under a pressure of 3 to 20 mTorr, under an inert gas atmosphere at a flow rate of 0 to 100 sccm, with an arc power of 40 to 80 A, with a bias voltage of 0 to 900 V, and at a temperature of 25 to 350 ° C. A method of making a dental implant member for 120 minutes. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 은 또는 은합금층 형성 단계 후, 상기 은 또는 은합금층이 형성된 상기 임플란트 부재에 열처리를 행하는 단계를 더 포함하는 치과용 임플란트 부재의 제조 방법.After the silver or silver alloy layer forming step, the method of manufacturing a dental implant member further comprising the step of performing a heat treatment on the implant member on which the silver or silver alloy layer is formed. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 열처리는 불활성 분위기 또는 진공 분위기 하에서 200 내지 600℃의 온도에서 1 내지 8시간 동안 실시되는 치과용 임플란트 부재의 제조 방법. The heat treatment is a method for producing a dental implant member is carried out for 1 to 8 hours at a temperature of 200 to 600 ℃ under an inert atmosphere or a vacuum atmosphere.
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