KR20080078299A

KR20080078299A - 기판 처리 장치

Info

Publication number: KR20080078299A
Application number: KR1020070018216A
Authority: KR
Inventors: 최경호
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2007-02-23
Filing date: 2007-02-23
Publication date: 2008-08-27

Abstract

처리액 저장 탱크 세정 장치를 갖는 기판 처리 장치는, 기판을 처리하기 위한 처리액이 저장되는 처리액 저장 탱크, 상기 저장 탱크를 세정하기 위한 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부, 상기 세정액 공급부에 연결되어 상기 저장 탱크 내부로 세정액을 제공하는 공급라인, 상기 저장 탱크 내부에 제공되고, 상기 공급라인과 연결되어 상기 세정액을 회전 분사하는 노즐 어셈블리 및 상기 노즐 어셈블리를 회전 가능하게 지지하는 회전연결부재를 포함한다. 따라서, 기판 처리 장치에서 처리액을 원활하게 공급할 수 있으며, 상기 기판 처리 장치의 사용주기를 연장시킬 수 있는 저장 탱크 세정 장치를 제조할 수 있다.

Description

기판 처리 장치{apparatus for processing substrate}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 저장 탱크 세정 장치를 설명하기 위한 블록도이다.

도 2는 도 1의 세정 장치에서 노즐 어셈블리를 설명하기 위한 요부 단면도이다.

도 3은 도 2의 노즐 어셈블리의 일 실시예를 설명하기 위한 평면도이다.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 저장 탱크 세정 방법을 설명하기 위한 순서도이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

1 : 저장 탱크 10 : 제1 공급부

11 : 제1 공급라인 12 : 처리액 저장부

13 : 제1 처리액 공급밸브 20 : 제2 공급부

21 : 제2 공급라인 23 : 제2 처리액 공급밸브

50 : 세정부 51 : 세정액 공급라인

52 : 세정액 공급부 53 : 세정액 공급밸브

54 : 펌프 55 : 노즐 어셈블리

60 : 배수부 61 : 배수라인

63 : 배수밸브 151 : 분지관

152 : 분사노즐 155 : 회전연결부재

본 발명은 평판형 디스플레이 장치의 제조 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 액정 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 장치, OLED(Organic Light Emitting Diode) 디스플레이 장치 등과 같은 평판 디스플레이 장치를 제조하기 위한 제조 장치의 처리액 공급 장치에 관한 것이다.

최근, 정보 처리 기기는 다양한 형태와 기능 및 더욱 빨라진 정보 처리 속도 등에 대한 요구에 따라 급속하게 발전하고 있으며, 이들 정보 처리 기기는 가공된 정보를 표시하기 위한 디스플레이 장치를 요구한다. 상기와 같은 정보 디스플레이 장치들은 주로 CRT 모니터를 사용하였으나, 최근 휴대형 정보 기기의 발달에 따라 휴대의 편의성, 소형 경량화에 대한 요구를 실현하기 위하여 액정 디스플레이 장치 또는 OLED 디스플레이 장치 등에 대한 요구가 증가되고 있다. 또한, 가정용 또는 사무용 디스플레이 장치의 경우에도 보다 선명한 화질, 응답 속도, 작업자의 피로도 감소, 공간 확보 등을 위하여 상기 평판 디스플레이 장치에 대한 요구가 증가되고 있다.

예를 들면, 상기 액정 디스플레이 장치의 경우, 상부 기판과 하부 기판 사이에 있는 액정 분자들의 배열 구조에 따른 광의 투과율 차이를 이용하는 디스플레이 장치로서, 최근에는 표시 정보량의 증가와 이에 따른 표시 면적의 증가 요구에 부응하기 위하여 화면을 구성하는 모든 화소에 대하여 개별적으로 구동 신호를 인가하는 액티브 매트릭스(Active Matrix) 방식의 액정 디스플레이 장치에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있다.

상기 액정 디스플레이 장치는 화상 데이터를 액정의 광학적 성질을 이용하여 디스플레이하는 액정 패널과 이를 구동하기 위한 구동 회로를 포함하는 액정 패널 어셈블리와, 화면 표시를 위한 광을 제공하는 백라이트 어셈블리와, 상기 구성요소들을 고정 및 수용하는 몰드 프레임 등을 포함할 수 있다.

상기 액정 디스플레이 장치의 패널로는 대면적의 유리 기판이 사용되며, 상기 유리 기판 상에 전극 패턴들을 형성하기 위하여 다양한 단위 공정들이 수행될 수 있다. 예를 들면, 상기 유리 기판 상에 막을 형성하는 성막 공정, 상기 막을 목적하는 패턴들로 형성하기 위한 식각 공정, 상기 유리 기판 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정, 상기 유리 기판을 건조시키기 위한 건조 공정 등이 필요에 따라 반복적으로 수행될 수 있다.

상기 공정들을 수행하기 위한 기판 처리 장치는 기판의 로딩을 위한 기판 로더와, 상기 로더에 의해 반입된 기판에 대한 식각 또는 세정 공정을 수행하기 위한 제1 처리부와, 상기 식각 또는 세정 처리된 기판을 린스액을 이용하여 린스 처리하기 위한 제2 처리부와, 린스 처리된 기판을 건조시키기 위한 제3 처리부와, 상기 기판을 반출하기 위한 언로더 등을 포함할 수 있다. 또한, 상기 기판 처리 장치는 필요에 따라 기판 상의 정전기를 제거하기 위한 제전 장치, 기판의 일시 대기를 위 한 버퍼 저장 탱크 등을 더 포함할 수도 있다.

한편, 상기 기판 처리 장치는 식각 또는 세정 공정에 사용되는 처리액을 저장하기 위한 저장 탱크가 구비될 수 있다. 상기 처리액 저장 탱크는 상기 기판 처리 장치에서 사용될 처리액을 저장할 수 있는 기밀성 있는 밀폐 용기이다. 여기서, 상기 처리액 저장 탱크는 상기 처리액 저장 탱크로 상기 처리액을 공급하는 제1 라인과, 상기 처리액 저장 탱크로부터 상기 기판 처리 장치로 처리액을 유출시키는 제2 라인이 연결되어, 상기 처리액 저장 탱크는 소정 시간 상기 처리액을 저장할 뿐만 아니라, 상기 기판 처리 장치로 처리액을 공급하는 처리액의 공급원이 된다.

그런데, 상기 처리액 저장 탱크 내에 상기 처리액의 화학 반응에 의한 침전물이 형성될 수 있으며, 상기와 같은 침전물은 상기 처리액의 원활한 공급을 방해하는 요인으로 작용할 수 있다. 또한, 상기 처리액의 일부가 상기 저장 탱크 내부에 잔류하게 되는데, 상기 잔류 처리액이 후속 공정에 사용되는 경우 온도 등과 같은 환경 조건에 의해 상기 잔류 처리액이 변질될 수 있으며, 이러한 경우 상기 처리 공정상의 오염원 또는 불량 발생 원인이 된다.

본 발명은 상술한 바와 같은 문제점들을 해소하고자 안출된 것으로서, 본 발명의 일 목적은 처리액의 원활한 공급을 위한 기판 처리 장치의 처리액 저장 탱크 세정 장치를 제공하는 것이다.

상기 본 발명의 일 목적을 달성하기 위해 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 기판을 처리하기 위한 처리액이 저장되는 처리액 저장 탱크, 상기 저장 탱크를 세정하기 위한 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부, 상기 세정액 공급부에 연결되어 상기 저장 탱크 내부로 세정액을 제공하는 공급라인, 상기 저장 탱크 내부에 제공되고, 상기 공급라인과 연결되어 상기 세정액을 회전 분사하는 노즐 어셈블리 및 상기 노즐 어셈블리를 회전 가능하게 지지하는 회전연결부재를 포함한다.

실시예에 의하면, 상기 노즐 어셈블리는, 상기 공급라인으로부터 상기 세정액의 유동이 다수로 분지되는 분지관 및 상기 각 분지관마다 형성되어 상기 저장 탱크 내부로 세정액을 제공하는 다수의 분사노즐을 포함할 수 있다. 여기서, 상기 분사노즐로부터 토출되는 세정액의 압력에 의해 상기 노즐 어셈블리가 회전 가능하도록 상기 분지관은 절곡부가 형성될 수 있다. 또한, 상기 각 분지관 상에서 적어도 하나 이상의 분사노즐이 상기 분지관에 대해 경사지게 배치될 수 있다.

실시예에 의하면, 상기 공급라인 상에 제공되어 상기 공급라인을 선택적으로 개폐하기 위한 제1 개폐밸브를 더 포함할 수 있다.

실시예에 의하면, 상기 공급라인 상에 제공되어 상기 세정액을 일정한 압력으로 공급하기 위한 펌프를 더 포함할 수 있다.

실시예에 의하면, 상기 저장 탱크 하부에 제공되어 상기 세정액을 상기 저장 탱크 외부 배출시키기 위한 배수부를 더 포함할 수 있다. 여기서, 상기 배수부는, 상기 저장 탱크와 연통되는 배수라인 및 상기 배수라인 상에 제공되어 상기 배수라인을 선택적으로 개폐하기 위한 제2 개폐밸브를 포함할 수 있다.

실시예에 의하면, 상기 저장 탱크로 처리액을 유입시키기 위한 제1 처리액 공급부와, 상기 저장 탱크에 저장된 처리액을 유출시키기 위한 제2 처리액 공급부를 더 포함할 수 있다.

상기한 본 발명에 따르면, 기판 처리액을 저장하는 탱크를 세정함으로써, 처리액이 원활하게 공급되도록 하여 불량 발생을 방지하고, 상기 기판 처리 장치의 사용주기를 충분히 연장시킴으로써 기판 처리 장치의 유지보수 비용을 절감할 수 있다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다.

본문에 개시되어 있는 본 발명의 실시예에 대해서, 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본문에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니 된다.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안된다. 상기 용어들은 하나 의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 저장 탱크 세정 장치를 설명하기 위한 블록도이다. 도 2는 도 1의 세정 장치에서 노즐 어셈블리를 설명하기 위한 요부 단면도이다. 도 3은 도 2의 노즐 어셈블리의 일 실시예를 설명하기 위한 평면도이다.

이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치의 저장 탱크 세정 장치에 대해 상세히 설명한다.

도 1을 참조하면, 저장 탱크 세정 장치는, 소정의 처리액이 수용되는 저장 탱크(1) 내부로 세정액을 제공하여 상기 저장 탱크(1)를 세정하기 위한 세정부(50)를 포함할 수 있다.

여기서, 상기 기판(미도시)은 평판 디스플레이 장치용 유리 기판일 수 있다. 또한, 상기 기판은 실리콘 웨이퍼를 포함하는 반도체 기판일 수 있다.

한편, 도시하지는 않았으나, 상기 기판에 대한 소정의 처리 공정을 수행하기 위한 기판 처리 장치는, 상기 기판이 수용되어 소정의 공정이 수행되는 공간을 제공하는 챔버(미도시)와, 상기 챔버 내부에서 상기 기판을 지지하는 척(미도시) 및 상기 척에 지지된 기판 상으로 처리액을 공급하기 위한 처리액 공급부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 기판 처리 장치는 상기 기판 상에 소정의 패턴을 형성하는 현상 공정을 수행하기 위한 포토리소그래피 장치일 수 있다.

예를 들어, 상기 처리액은 식각액, 현상액, 순수 등의 용액을 포함할 수 있다.

상기 저장 탱크(1)는 기판(미도시)에 대한 소정의 처리 공정을 수행하기 위한 약액이 저장되는 용기로서, 액체 상태의 약액이 저장할 수 있도록 기밀성이 우수하며, 상기 약액과 화학반응이 발생하지 않는 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 저장 탱크(1)는 직육면체 형태의 밀폐된 용기일 수 있으며, 상기 저장 탱크(1)의 일측에는 상기 저장 탱크(1) 내부의 처리액을 기판 처리 장치로 제공하기 위한 공급부(10,20)이 제공될 수 있다.

구체적으로, 상기 저장 탱크(1)의 일측에는 상기 저장 탱크(1)로 처리액을 유입시키기 위한 제1 공급부(10)와, 상기 저장 탱크(1)에 저장된 처리액을 유출시키기 위한 제2 공급부(20)가 제공될 수 있다.

상기 제1 공급부(10)는 상기 처리액의 공급원이 되는 처리액 저장부(12)와, 상기 처리액 저장부(12)로부터 상기 저장 탱크(1)를 연결하여 상기 처리액을 상기 저장 탱크(1)로 제공하는 제1 공급라인(11)을 포함할 수 있다. 상기 제1 공급라인(11) 상에는 상기 제1 공급라인(11)을 선택적으로 개폐하는 제1 처리액 공급밸브(13)가 제공될 수 있다.

상기 제2 공급부(20)는 상기 저장 탱크(1)에 연결되어 상기 저장 탱크(1) 내부의 처리액을 유출시키기 위한 제2 공급라인(21)을 포함하고, 상기 제2 공급라인(21)은 기판 처리 장치에 연결될 수 있다. 또한, 상기 제2 공급라인(21) 상에는 상기 제2 공급라인(21)을 선택적으로 개폐하는 제2 처리액 공급밸브(23)가 제공될 수 있다.

그러나, 상기 공급부들(10,20)은 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 저장 탱크(1)는 독립된 하나의 개체로서 형성될 수 있고, 상기 제1 공급부(10)와 상기 제2 공급부(20)는 상기 저장 탱크(1)에 형성된 하나 또는 두개의 유입/유출구일 수 있다.

한편, 상기 저장 탱크(1)에는 상기 저장 탱크(1)를 세정하기 위한 세정부(50)가 제공된다.

구체적으로, 상기 세정부(50)는 상기 저장 탱크(1) 내부로 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부(52)와, 상기 저장 탱크(1) 내부로 상기 세정액을 회전분사하기 위한 노즐 어셈블리(55)와, 상기 노즐 어셈블리(55)를 회전 지지하는 회전연결부재(5)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 세정액 공급부(52)와 상기 노즐 어셈블리(55)를 연결하여 상기 세정액을 제공하는 세정액 공급라인(51)이 구비된다.

여기서, 상기 세정액 공급라인(51) 상에는 상기 세정액을 일정한 압력 및 유량으로 공급하기 위한 펌프(54)와, 상기 세정액 공급라인(51)을 선택적으로 개폐할 수 있는 세정액 공급밸브(53)가 제공될 수 있다.

상기 회전연결부재(153)는 상기 저장 탱크(1) 내부에 제공되어 상기 노즐 어셈블리(55)가 회전 가능하도록 지지한다. 예를 들어, 상기 회전연결부재(153)는 상기 노즐 어셈블리(55)와 상기 저장 탱크(1) 사이에 개재되는 베어링을 포함할 수 있다. 또한, 상기 회전연결부재(153)는 그 내측을 상기 세정액 공급라인(51)이 관 통하도록 형성됨으로써, 상기 세정액 공급라인(51)과 상기 노즐 어셈블리(55)가 상기 회전연결부재(153)를 매개로 연결될 수 있다.

상기 노즐 어셈블리(55)는 상기 저장 탱크(1) 내부로 세정액을 분사하는 다수의 분사노즐(152)을 갖고, 상기 분사노즐(152)에서 세정액이 토출되는 압력에 의해 회전하도록 형성될 수 있다.

이하, 도 2와 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 어셈블리(55)에 대해 설명한다.

도 2와 도 3을 참조하면, 상기 노즐 어셈블리(55)는 상기 세정액 공급라인(51)에서 공급되는 세정액을 다수로 분지시키는 분지과(151)과, 상기 분지과(151)에 배치되어 상기 세정액이 토출되는 다수의 분사노즐(152)을 포함할 수 있다. 즉, 상기 회전연결부재(153)에 의해 상기 노즐 어셈블리(55)는 상기 세정액 공급라인(51)을 회전축으로 회전하게 된다.

예를 들어, 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 노즐 어셈블리(55)는 3개의 분지과(151)으로 나누어질 수 있다. 여기서, 상기 분지과(151)은 상기 분사노즐(152)에서 세정액이 토출되는 압력에 의해 일방향으로 회전하도록 상기 분지과(151)의 단부가 일 방향으로 절곡된 형상을 가질 수 있다.

또한, 상기 분지과(151) 상에는 적어도 하나 이상의 분사노즐(152)이 각각 배치되되, 상기 저장 탱크(1) 내부로 고르게 세정액을 분사할 수 있도록 다수의 분사노즐(152)이 등간격으로 배치될 수 있을 것이다. 한편, 상기 분사노즐(152)은 상기 노즐 어셈블리(55)가 원활하게 회전할 수 있도록, 상기 분지과(151) 상에서 상 기 분사노즐(152)의 토출방향이 소정 각도 경사지게 배치될 수 있을 것이다.

또한, 상기 분지과(151)의 단부에 배치된 분사노즐(152)이 경사각을 갖도록 배치하는 것이 바람직하며, 더불어, 다수의 분사노즐(152)을 경사지게 배치하되, 상기 노즐 어셈블리(55)의 중심으로부터 상기 분지과(151)의 단부로 갈수록 상기 분사노즐(152)의 경사각이 점차 커지도록 배치하는 것도 가능할 것이다.

즉, 상기 세정액이 상기 분사노즐(152)을 통해 동시에 토출됨에 따라 상기 세정액의 토출 압력에 대한 반작용으로 상기 분지과(151)은 상기 세정액의 토출 방향과 반대 방향으로 회전하게 된다.

여기서, 상기 노즐 어셈블리(55)의 회전 속도는 상기 분사노즐(152)을 통해 토출되는 세정액의 압력에 비례하고, 이는 상기 분지과(151)으로 공급되는 세정액의 유량에 비례하게 된다. 따라서, 상기 세정액 공급밸브(53)를 통해 상기 세정액 공급라인(51)으로 제공되는 세정액의 유량을 조절하여 상기 노즐 어셈블리(55)의 회전 속도를 제어할 수 있을 것이다. 또한, 상기 노즐 어셈블리(55)의 회전 속도를 이용하여, 상기 세정액의 분사량 및 분사입자의 크기를 조절할 수 있다. 예를 들어, 상기 노즐 어셈블리(55)를 고속으로 회전시키는 경우, 상기 세정액은 미세한 입자로 분사되고, 또한 상기 세정액의 낙하 범위가 넓어져 넓은 영역에 고르게 세정액을 제공하는 것이 가능할 것이다.

또한, 상기 노즐 어셈블리(55)는 상기 저장 탱크(1) 내부에 고르게 세정액을 공급할 수 있도록 상기 저장 탱크(1)의 상측 중앙에 배치될 수 있다. 또는 상기 저장 탱크(1) 및 상기 노즐 어셈블리(55)의 세정액 토출 유량에 따라, 상기 저장 탱 크(1) 내부의 다수개소에 상기 노즐 어셈블리(55)를 배치하는 것도 가능할 것이다.

한편, 상기 저장 탱크(1) 내부에는 상기 저장 탱크(1)의 세정을 완료한 세정액을 배수시키기 위한 배수부(60)가 구비될 수 있다. 예를 들어, 상기 배수부(60)는 상기 저장 탱크(1) 내부의 세정액 및 기타 오염물 등이 중력에 의해 집수될 수 있도록 상기 저장 탱크(1) 하부에 배치되고, 상기 저장 탱크(1) 외측으로 상기 세정액을 배출시키기 위한 배수라인(61)이 연결될 수 있다. 또한, 상기 배수라인(61) 상에는 상기 배수라인(61)을 선택적으로 개폐하는 배수밸브(63)가 제공된다. 즉, 상기 배수밸브(63)는 상기 저장 탱크(1) 내부에 처리액이 저장될 때는 상기 배수라인(61)을 폐쇄하고, 상기 저장 탱크(1)의 세정시 또는 상기 세정이 완료되어 상기 세정액을 배수할 때는 상기 배수라인(61)을 개방시킬 수 있다.

이하, 도 4를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 저장 탱크 세정 방법에 대해 상세히 설명한다.

먼저, 저장 탱크(1) 내부에 저장되어 있는 처리액을 배출시킨다(S1).

여기서, 상기 처리액은 상기 저장 탱크(1) 하부에 제공된 배수부(60)를 통해 배출시킬 수 있다. 또는, 상기 처리액을 다시 사용하고자 하는 경우에는, 상기 배수부(60)를 통해 배수시키기 않고 제2 공급라인(21) 등을 통해 상기 저장 탱크(1) 외부의 소정 장소에 상기 처리액을 유출시켜 보관하고, 상기 저장 탱크(1)의 세정 작업이 완료된 후 상기 보관중인 처리액을 상기 저장 탱크(1)에 채워서 사용할 수도 있을 것이다.

상기 저장 탱크(1)가 비워지면, 세정부(50)를 통해 상기 저장 탱크(1) 내부 로 세정액을 제공하여 상기 저장 탱크(1)를 세정한다(S2).

구체적으로, 세정액 공급밸브(53)가 개방되면, 상기 세정액이 상기 저장 탱크(1) 내부에 제공된 노즐 어셈블리(55)로 유입되고, 상기 분사노즐(152)을 통해 분사됨에 따라 상기 노즐 어셈블리(55)가 회전하면서 상기 저장 탱크(1) 내부를 세정하게 된다.

여기서, 상기 세정액 공급라인(51) 상에는 상기 세정액이 일정한 압력과 유량으로 공급하기 위한 펌프(54)가 구비되고, 상기 펌프(54)에 의해 소정 압력으로 토출되는 세정액에 의해 상기 노즐 어셈블리(55)는 일정한 속도로 회전할 수 있다.

한편, 상기 세정액 공급밸브(53) 또는 상기 펌프(54)를 이용하여 상기 노즐 어셈블리(55)로 유입되는 세정액의 유량을 조절함으로써 상기 노즐 어셈블리(55)의 회전 속도를 제어하는 것도 가능할 것이다.

상기 분사노즐(152)을 통해 분사되는 세정액은 상기 저장 탱크(1) 내벽에 고르게 제공되어 상기 저장 탱크(1) 내부의 잔류 처리액 및 침전물을 효과적으로 제거할 수 있다.

즉, 상기 세정액이 상기 저장 탱크(1) 내측 벽면에 닿으면, 상기 벽면 상에 침적된 불순물들을 분쇄시킬 수 있다. 즉, 상기 세정액의 분사 압력에 의한 물리력과, 상기 불순물과 상기 세정액 사이에 작용하는 화학적 반응에 의해 상기 불순물을 상기 저장 탱크(1)의 벽면으로부터 이탈시키고, 중력의 영향을 받아 상기 저장 탱크(1)의 바닥면에 포집된다. 그리고, 상기 바닥면에 포집된 불순물을 포함하는 세정액은 상기 배수부(60)를 통해 상기 저장 탱크(1) 외부로 배출될 수 있다.

상기 세정액이 배수됨에 따라 침전물이 상기 저장 탱크(1) 내부에서 배출될 수 있다(S3). 또한, 상기 저장 탱크(1) 내부에 잔류 처리액 역시 상기 세정액의 배수와 같이 제거될 수 있다.

상기 저장 탱크(1)의 세정 작업이 완료되면 상기 저장 탱크(1) 내부로 처리액을 공급한다(S4).

한편, 상기 처리액을 공급하기 전에, 상기 세정이 완료된 저장 탱크(1) 내부에서 상기 세정액을 제거하고 건조시키는 공정을 더 수행할 수 있을 것이다.

여기서, 상기 처리액은 새로운 처리액일 수도 있고, 상술한 바와 같이, 세정 작업 전에 따로 보관해둔 처리액을 포함할 수도 있고, 한편, 상기 저장 탱크(1) 내부에 처리액을 소정 수위만큼 채울 필요는 없을 것이다. 즉, 상기 저장 탱크(1)는 기판 처리 장치로 처리액을 공급하는 처리액 공급라인 상에 제공되어 상기 처리액의 버퍼 역할을 하는 버퍼 챔버일 수도 있다. 이와 같이 버퍼 챔버로 사용되는 저장 탱크 내부에도 처리액의 유동에 침전물이 발생할 수 있으므로, 상술한 실시예들의 세정 장치 및 세정 방법을 채용할 수 있을 것이다.

또한, 상술한 실시예들에서는 유리 기판과 같은 평판 디스플레이 장치에 사용되는 기판의 처리와 관련하여 본 발명의 실시예가 기술되고 있으나, 실리콘 웨이퍼와 같이 반도체 장치용 기판 등에 대하여도 본 발명의 실시예가 다양하게 적용될 수 있으며, 현상액뿐만 아니라 침전물이 발생하거나 또는 침전물이 발생하지 않는 경우라도 처리액의 공급장치에서 주기적인 세정이 요구되는 어떠한 경우라도 본 발명의 실시예들이 바람직하게 적용될 수 있을 것이다.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따르면 처리액이 저장되는 저장 탱크 내부의 이물질을 제거함으로써 처리액이 균일하게 공급될 수 있도록 한다. 또한, 상기 세정액을 최대한 넓은 영역에 대해 강한 압력으로 분사함으로써, 상기 저장 탱크 세정 효율을 향상시키고, 단시간 내에 세정이 가능하도록 한다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims

기판을 처리하기 위한 처리액이 저장되는 처리액 저장 탱크;

상기 저장 탱크를 세정하기 위한 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부;

상기 세정액 공급부에 연결되어 상기 저장 탱크 내부로 세정액을 제공하는 공급라인;

상기 저장 탱크 내부에 제공되고, 상기 공급라인과 연결되어 상기 세정액을 회전 분사하는 노즐 어셈블리; 및

상기 노즐 어셈블리를 회전 가능하게 지지하는 회전연결부재를 포함하는 기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 노즐 어셈블리는,

상기 공급라인으로부터 상기 세정액의 유동이 다수로 분지되는 분지관; 및

상기 각 분지관마다 형성되어 상기 저장 탱크 내부로 세정액을 제공하는 다수의 분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
제 2 항에 있어서, 상기 분사노즐로부터 토출되는 세정액의 압력에 의해 상기 노즐 어셈블리가 회전 가능하도록 상기 분지관은 절곡부가 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
제 2 항에 있어서, 상기 각 분지관 상에서 적어도 하나 이상의 분사노즐이 상기 분지관에 대해 경사지게 배치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 공급라인 상에 제공되어 상기 공급라인을 선택적으로 개폐하기 위한 제1 개폐밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 공급라인 상에 제공되어 상기 세정액을 일정한 압력으로 공급하기 위한 펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 저장 탱크 하부에 제공되어 상기 세정액을 상기 저장 탱크 외부 배출시키기 위한 배수부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
제 7 항에 있어서, 상기 배수부는,

상기 저장 탱크와 연통되는 배수라인; 및

상기 배수라인 상에 제공되어 상기 배수라인을 선택적으로 개폐하기 위한 제2 개폐밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 저장 탱크로 처리액을 유입시키기 위한 제1 처리액 공급부와, 상기 저장 탱크에 저장된 처리액을 유출시키기 위한 제2 처리액 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.